JP5455143B2 - マスクブランク用基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、及び反射型マスクブランクの製造方法、並びに反射型マスクの製造方法 - Google Patents
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007341519A JP5455143B2 (ja) | 2007-12-29 | 2007-12-29 | マスクブランク用基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、及び反射型マスクブランクの製造方法、並びに反射型マスクの製造方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2007341519A JP5455143B2 (ja) | 2007-12-29 | 2007-12-29 | マスクブランク用基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、及び反射型マスクブランクの製造方法、並びに反射型マスクの製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2009160681A JP2009160681A (ja) | 2009-07-23 |
| JP2009160681A5 JP2009160681A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) | 2011-01-27 |
| JP5455143B2 true JP5455143B2 (ja) | 2014-03-26 |
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ID=40963874
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007341519A Active JP5455143B2 (ja) | 2007-12-29 | 2007-12-29 | マスクブランク用基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、及び反射型マスクブランクの製造方法、並びに反射型マスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5455143B2 (cg-RX-API-DMAC7.html) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI594069B (zh) * | 2011-09-21 | 2017-08-01 | Hoya Corp | Method of manufacturing a transfer mask |
| JP5942773B2 (ja) * | 2012-10-19 | 2016-06-29 | 旭硝子株式会社 | ガラス基板の研磨方法 |
| JP2013214095A (ja) * | 2013-07-03 | 2013-10-17 | Hoya Corp | マスクブランク用基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、及び反射型マスクブランクの製造方法、並びに反射型マスクの製造方法 |
| JP2015147713A (ja) * | 2014-02-07 | 2015-08-20 | 旭硝子株式会社 | フォトマスク用ガラス基板の洗浄方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4414292B2 (ja) * | 2004-06-29 | 2010-02-10 | 花王株式会社 | 研磨速度向上方法 |
| JP5090633B2 (ja) * | 2004-06-22 | 2012-12-05 | 旭硝子株式会社 | ガラス基板の研磨方法 |
| US20070037892A1 (en) * | 2004-09-08 | 2007-02-15 | Irina Belov | Aqueous slurry containing metallate-modified silica particles |
| JP2007054944A (ja) * | 2005-07-25 | 2007-03-08 | Hoya Corp | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及びマスクの製造方法 |
| JP2007299942A (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-15 | Fujifilm Corp | 金属研磨用組成物及びそれを用いた化学的機械的研磨方法 |
| JP2007301721A (ja) * | 2007-08-29 | 2007-11-22 | Kao Corp | 研磨液組成物 |
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2007
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2009160681A (ja) | 2009-07-23 |
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