JP5451927B1 - 異常発生原因の特定システム、異常発生原因の特定方法、及び異常発生原因の特定プログラム - Google Patents
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Abstract
【課題】 プラントでの結果物の不良原因を容易に特定する。
【解決手段】 定期的に取得された結果物測定値、及び製造条件測定値を格納する測定値格納装置10と、結果物が正常であるかを判定する結果物閾値を設定する物閾値設定手段11と、結果物測定値が結果物閾値を越えた結果物異常累積度数を取得する異常累積手段13と、結果物異常累積度数が合計の測定回数に対して一定の割合となるように結果物閾値を変更する結果物閾値変更手段14と、製造条件測定値と比較する条件閾値を設定する条件閾値設定手段21と、製造条件測定値が条件閾値を越えた条件累積度数を取得する条件異常累積手段23と、条件累積度数が測定回数に対して一定の割合になるように条件閾値を変更する条件閾値変更手段24と、結果物異常累積度数及び条件累積度数の分布状態から異常の原因を特定する原因特定手段30とを備える。
【選択図】 図1
【解決手段】 定期的に取得された結果物測定値、及び製造条件測定値を格納する測定値格納装置10と、結果物が正常であるかを判定する結果物閾値を設定する物閾値設定手段11と、結果物測定値が結果物閾値を越えた結果物異常累積度数を取得する異常累積手段13と、結果物異常累積度数が合計の測定回数に対して一定の割合となるように結果物閾値を変更する結果物閾値変更手段14と、製造条件測定値と比較する条件閾値を設定する条件閾値設定手段21と、製造条件測定値が条件閾値を越えた条件累積度数を取得する条件異常累積手段23と、条件累積度数が測定回数に対して一定の割合になるように条件閾値を変更する条件閾値変更手段24と、結果物異常累積度数及び条件累積度数の分布状態から異常の原因を特定する原因特定手段30とを備える。
【選択図】 図1
Description
本発明は、原材料に処理を施して製造した結果物に発現した異常の原因を特定する異常発生原因の特定システム、異常発生原因の特定方法、及び異常発生原因の特定プログラムに関する。
プラント等、原材料から製品等の結果物を製造する設備、装置等では、結果物に異常が発生したとき、その発生原因を特定する必要がある。この結果物の異常は、原材料の異常や製造工程における条件等製造条件の異常に起因する。プラントでは、原材料の状態や製造条件を常時センサー等で検知し、この検知結果に基づいて不良の原因を特定する。
このような原因の特定には、統計的な手法が用いられる。即ち、各製造条件のセンサーによる検出値の変化と、結果物の状態との相関関係を求めたり、各製造条件と結果物の不良発生の移動平均と結果物の不良状態とを比較したりする。
特許文献1には、所定の局期ごとにプラントの状態データを収集してプラントデータベースに記憶するデータ入力処理手段と、少なくとも異常判定知識及び閾値補正知識が格納されている知識ベースと、前記異常判定知識に基づいて前記所定の周期ごとのプラント状態データと既にプラントデータベースに記憶されている閾値とを比較して異常と判定したとき、前記閾値補正知識に基づいて前記プラントデータベースに記憶されている過去の時系列データから閾値の越え方を判定すると共に前記プラント状態データと前記閾値に余裕を持たせた値とを比較した結果から、上記異常の判定が前記プラント状態データの閾値近傍での変動に起因したものなのか、又は前記プラント状態の本質的な異常に起因したものなのかを推論する推論実行手段とを具備したものが記載されている。
しかし、上述したプラントにおいて、結果物の製造結果に影響を与える要因としては、前述した製造条件の他、原材料として使用されるリサイクル原料への不純物の混入、使用する河川水等のプラント環境等、さまざまな外乱がある。
本発明は上述した課題に鑑みてなされたものであり、結果物の不良原因を容易に特定することができる異常発生原因の特定システム、異常発生原因の特定方法、及び異常発生原因の特定プログラムを提供することを目的とする。
前記課題を解決する請求項1に記載の発明は、原材料に処理を施して製造した結果物及び製造工程条件の少なくとも一方に発現した異常の原因を特定する異常発生原因の特定システムにおいて、前記結果物及び製造工程条件の少なくとも一方について予め定めた設定期間にわたって取得された結果物測定値、及び前記原材料及び処理の条件を含む製造条件について前記設定期間にわたって取得された製造条件測定値を格納する測定値格納装置と、前記結果物測定値の判定基準範囲を定める1又は複数の結果物閾値を設定する手段と、
前記結果物測定値と前記結果物閾値とを比較する手段と、前記結果物測定値が前記判定基準範囲に属する回数を前記設定期間にわたり累積して結果物異常累積度数を取得する手段と、前記製造条件測定値と比較される条件閾値を設定する手段と、前記製造条件測定値と前記条件閾値とを比較する手段と、前記製造条件測定値が前記条件閾値を越えた回数を前記設定期間にわたり累積して条件累積度数を取得する手段と、前記結果物異常累積度数の分布状態と前記条件累積度数の分布状態とを比較して前記結果物に発現した異常の原因を特定する手段と、を備えることを特徴とする。
前記結果物測定値と前記結果物閾値とを比較する手段と、前記結果物測定値が前記判定基準範囲に属する回数を前記設定期間にわたり累積して結果物異常累積度数を取得する手段と、前記製造条件測定値と比較される条件閾値を設定する手段と、前記製造条件測定値と前記条件閾値とを比較する手段と、前記製造条件測定値が前記条件閾値を越えた回数を前記設定期間にわたり累積して条件累積度数を取得する手段と、前記結果物異常累積度数の分布状態と前記条件累積度数の分布状態とを比較して前記結果物に発現した異常の原因を特定する手段と、を備えることを特徴とする。
同じく請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の異常発生原因の特定システムにおいて、前記結果物異常累積度数が合計の測定回数に対して予め定めた一定の割合となるように前記結果物閾値を変更する手段と、前記条件累積度数が測定回数に対して一定の割合になるように前記条件閾値を変更する手段と、を備えることを特徴とする。
同じく請求項3に記載の発明は、請求項1又は請求項2に記載の異常発生原因の特定システムにおいて、前記結果物異常累積度数に基づいて作成したグラフと、前記条件累積度数に基づいて作成したグラフとを作成する手段を備え、前記異常の原因を特定する手段は、各グラフの変化の発生時期に基づいて原因を特定することを特徴とする。
同じく、請求項4に記載の発明は、請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の異常発生原因の特定システムにおいて、前記結果物測定値を取得する結果物測定手段と、前記製造条件測定値を取得する条件測定手段とを備えることを特徴とする。
同じく、請求項5に記載の発明は、請求項4に記載の異常発生原因の特定システムにおいて、前記条件測定手段は、前記原材料及び前記製造条件に対応して複数個備えることを特徴とする。
同じく、請求項6に記載の発明は、請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の異常発生原因の特定システムにおいて、前記測定値格納装置が取得する結果物測定値及び製造条件測定値は、現在の測定値を含む過去の測定値であり、現在の異常の原因を特定することを特徴とする。
同じく請求項7に記載の発明は、原材料に処理を施して製造した結果物及び製造工程条件の少なくとも一方に発現した異常の原因を特定する異常発生原因を特定するに際して、前記結果物及び製造工程条件の少なくとも一方について予め定めた設定期間にわたって取得された結果物測定値、及び前記原材料及び処理の条件を含む製造条件について前記設定期間にわたって取得された製造条件測定値を格納する測定値格納装置を備え、この測定値格納装置に格納された前記結果物測定値及び前記製造条件測定値を解析して前記結果物に発現した異常の原因となる製造条件を特定する異常発生原因の特定方法において、前記結果物測定値の判定基準範囲を定める1又は複数の結果物閾値を設定するステップと、前記結果物測定値と前記結果物閾値とを比較するステップと、前記結果物測定値が前記判定基準範囲に属する回数を前記設定期間にわたり累積して結果物異常累積度数を取得するステップと、前記製造条件測定値が比較される条件閾値を設定するステップと、前記製造条件測定値と前記条件閾値とを比較するステップと、前記製造条件測定値が前記条件閾値を越えた回数を前記設定期間にわたり累積して条件累積度数を取得するステップと、前記結果物異常累積度数の分布状態と、前記条件累積度数の分布状態とを比較して前記結果物に発現した異常の原因を特定するステップと、を備えることを特徴とする。
同じく請求項8に記載の発明は、請求項7に記載の異常発生原因の特定方法において、前記結果物異常累積度数が合計の測定回数に対して予め定めた一定の割合となるように前記結果物閾値を変更するステップと、前記条件累積度数が測定回数に対して一定の割合になるように前記条件閾値を変更するステップと、を備えることを特徴とする。
同じく請求項9に記載の発明は、請求項7又は請求項8に記載の異常発生原因の特定方法において、前記結果物異常累積度数に基づいて作成したグラフと、前記条件累積度数に基づいて作成したグラフとを作成するステップを備え、前記異常の原因を特定するステップでは、各グラフの変化の発生時期に基づいて原因を特定することを特徴とする。
同じく請求項10に記載の発明は、請求項7から請求項9のいずれか一項に記載の異常発生原因の特定方法において、結果物測定手段で前記結果物測定値を取得するステップと、条件側転手段で前記製造条件測定値を取得するステップとを備えることを特徴とする。
同じく請求項11に記載の発明は、請求項10に記載の、異常発生原因の特定方法において、1又は複数の原材料、及び1又は複数の製造条件に対応する前記製造条件測定値を取得することを特徴とする。
同じく請求項12に記載の発明は、請求項7から請求項9のいずれか一項に記載の異常発生原因の特定方法において、前記測定値格納装置が取得する結果物測定値及び製造条件測定値は、現在の測定値を含む過去の測定値であり、現在の異常の原因を特定することを特徴とする。
同じく請求項13に記載の発明は、原材料に処理を施して製造した結果物及び製造工程条件の少なくとも一方に発現した異常の原因を特定する異常発生原因を特定するに際して、前記結果物及び製造工程条件の少なくとも一方について予め定めた設定期間にわたって取得された結果物測定値、及び前記原材料及び処理の条件を含む製造条件について前記設定期間にわたって取得された製造条件測定値を格納する測定値格納装置を備え、この測定値格納装置に格納された前記結果物測定値及び前記製造条件測定値を解析して前記結果物に発現した異常の原因となる製造条件を特定する異常発生原因の特定プログラムにおいて、前記結果物測定値の判定基準範囲を定める1又は複数の結果物閾値を設定するステップと、前記結果物測定値と前記結果物閾値とを比較するステップと、前記結果物測定値が前記判定基準範囲に属する回数を前記設定期間にわたり累積して結果物異常累積度数を取得するステップと、前記製造条件測定値が比較される条件閾値を設定するステップと、前記製造条件測定値と前記条件閾値とを比較するステップと、前記製造条件測定値が前記条件閾値を越えた回数を前記設定期間にわたり累積して条件累積度数を取得するステップと、前記結果物異常累積度数の分布状態と、前記条件累積度数の分布状態とを比較して前記結果物に発現した異常の原因を特定するステップと、をプロセッサに実行させる、ことを特徴とする異常発生原因の特定プログラムである。
同じく請求項14に記載の発明は、請求項13に記載の異常発生原因の特定プログラムにおいて、前記結果物異常累積度数が合計の測定回数に対して予め定めた一定の割合となるように前記結果物閾値を変更するステップと、前記条件累積度数が測定回数に対して一定の割合になるように前記条件閾値を変更するステップと、を備えることを特徴とする。
同じく請求項15に記載の発明は、請求項13又は請求項14に記載の異常発生原因の特定プログラムにおいて、前記結果物異常累積度数に基づいて作成したグラフと、前記条件累積度数に基づいて作成したグラフとを作成するステップを備え、前記異常の原因を特定するステップでは、各グラフの変化の発生時期に基づいて原因を特定することを特徴とする。
同じく請求項16に記載の発明は、請求項13から請求項15のいずれか一項に記載の異常発生原因の特定プログラムにおいて、結果物測定手段で前記結果物測定値を取得するステップと、条件側転手段で前記製造条件測定値を取得するステップとを備えることを特徴とする。
同じく請求項17に記載の発明は、請求項16に記載の異常発生原因の特定プログラムにおいて、1又は複数の原材料、及び1又は複数の製造条件に対応する前記製造条件測定値を取得することを特徴とする。
同じく請求項18に記載の発明は、請求項13から請求項17のいずれか一項に記載の異常発生原因の特定プログラムにおいて、前記測定値格納装置が取得する結果物測定値及び製造条件測定値は、現在の測定値を含む過去の測定値であり、現在の異常の原因を特定することを特徴とする。
本発明によれば、不良原因となりうる多数の条件から、結果物の不良原因となった条件を容易に特定することができる。
本発明を実施するための形態(以下では単に実施形態と記載する)に係る異常発生原因の特定システム、異常発生原因の特定方法、及び異常発生原因の特定プログラムについて説明する。
まず、実施形態に係る異常発生原因の特定システムについて説明する。図1は本発明の実施形態に係る異常発生原因の特定システムの構成を示すブロック図である。実施形態に係る異常発生原因の特定システム40(以下特定システム40という)は、プラント50が製造した製品に発現した異常が、原材料、処理工程における各種条件のどれが原因であるかを特定する。
プラント50は、原材料を処理して結果物である製品を製造する。製品である結果物の品質は例えば色により管理される。この製品の色は例えば色センサーで構成される結果物測定手段60で測定され、数値化される。なお、色以外にも、大きさ、形状、質量、比重、その他の測定値に基づいて品質が管理される場合があり、この場合には測定に必要なセンサーが使用される。また、結果物測定手段は、1台に限らず複数台設置することができる。
製造過程では、各種条件、例えば温度、圧力、処理時間等が、温度センサー、圧力センサー、タイマー等の条件測定手段で測定される。この条件測定手段は、原因となりうる条件を測定するため、複数個備えられる。図1には、製造条件1測定手段71、製造条件2測定手段72、…、製造条件n測定手段7nを示している。ここで、各測定手段は、予め定めた時刻あるいは期間で定期的に測定を行う。なお、この測定は、必ずしも定期的でなくても良く、時系列に沿って行われればバッチごと、その他の機会ごとに行うものでも良い。
特定システム40は、結果物測定手段60、製造条件1測定手段71〜製造条件n測定手段7nに接続され、各測定手段からの測定データを格納する測定値格納装置10を備える。この測定値格納装置10は、長期間にわたって各測定データを格納するものであり、ハードディスクドライブ装置、半導体メモリ等で構成され、任意の期間の任意の測定値を出力できる。
また、特定システム40は、結果物閾値設定手段11と、結果物比較手段12と、結果物異常累積手段13と、結果物閾値変更手段14と、結果物異常累積グラフ作成手段15と、条件閾値設定手段21と、条件比較手段22と、条件異常累積手段23と、条件閾値変更手段24と、条件異常累積グラフ作成手段25と、原因特定手段30とを備える。
結果物閾値設定手段11は、測定値格納装置10から取得した結果物測定値が正常であるかの判定基準である結果物閾値を設定する。結果物測定値は例えば、結果物の測定値が色であれば、色調を比較するための値である。この測定値が結果物閾値を超える場合は製品が不良と判断される。なお、閾値を複数例えば3つ設定して、正常、要注意、異常と判定するようにしても良い。
結果物比較手段12は、結果物測定値と結果物閾値とを比較する。結果物異常累積手段13は、結果物比較手段12での比較結果に基づいて設定期間にわたる結果物測定値が結果物閾値を越えた回数を前記設定期間にわたり累積して結果物異常累積度数を取得する。
結果物閾値変更手段14は、結果物異常累積手段13が取得した結果物異常累積度数が合計の測定回数に対して予め定めた一定の割合となるように前記結果物閾値を変更する。この割合は例えば、測定回数の10%程度とすることができる。物閾値変更手段14は、この割合が所定の値になるよう結果物閾値の値を増減する。
結果物異常累積グラフ作成手段15は、結果物閾値変更手段14が設定した結果物閾値に基づいて取得された結果物累積度数に基づいてグラフを作成する。グラフは横軸を時間とし、縦軸を度数とする。なお、横軸はバッチ番号、その他経過を表す変数とすることができる。
条件閾値設定手段21は、測定値格納装置10からの取得した製造条件測定値と比較する条件閾値を設定する。この条件閾値は、各条件測定値に対応して複数が設定される。
条件比較手段22は、製造条件測定値と条件閾値とを比較する。条件異常累積手段23は、前記製造条件測定値が前記条件閾値を越えた回数を前記設定期間にわたり累積して条件累積度数を取得する。この累積度数は合計の条件測定値に対して作成される。
条件閾値変更手段24は、条件累積度数が測定回数に対して一定の割合になるように前記条件閾値を変更する。この割合は例えば、結果物閾値変更手段14と同様の値、例えば測定回数の10%程度とすることができる。条件閾値変更手段24は、この割合が所定の値になるよう結果物閾値の値を増減する。
条件異常累積グラフ作成手段25は、条件閾値変更手段24が設定した結果物閾値に基づいて取得された条件異常度数に基づいてグラフを作成する。グラフは横軸を時間とし、縦軸を度数とする。このグラフは合計の測定された条件について作成される。なお、横軸はバッチ番号、その他経過を表す変数とすることができる。
原因特定手段30は、結果物異常累積グラフ作成手段15が作成した結果物異常累積度数のグラフと、条件異常累積グラフ作成手段25が作成した複数の条件累積度数のグラフを比較して、累積頻度の分布状態から結果物が異常となった条件を特定する。この特定は、結果物についてのグラフと、条件についての各グラフとを比較して、結果物のグラフに変曲点、変化点発生した時期と同一の時期に、変曲点、変化点がある条件についてのグラフを特定することにより行う。
特定システム40は、CPU(Central processing Unit:プロセッサ)、RAM(Random Access Memory)、ROM(Read Only Memory)、HDD(Hard Disc Drive)等を備えたコンピュータにおいて、実施形態に係る異常発生原因の特定プログラムを実行することにより実現できる。このプログラムはDVD等の記録媒体にコンピュータで読取り可能に記録しておく。なお、特定システム40は、プラント50と異なる場所に配置して、特定システム40の各物測定手段60、製造条件1測定手段71〜製造条件n測定手段7nの測定値を、インターネット等の回線で接続して、原因の特定を行うことができる。また、測定値格納装置10をプラント50に取り外し可能に配置し、結果物に異常が発生したとき、プラント50から取り外した測定値格納装置10から測定値を特定システム40に入力することにより原因の特定を行うことができる。
次に特定システム40の処理について説明する。図2は本発明の実施形態に係る異常発生原因の特定システムの処理の流れを示すフローチャート、図3は図2に示した処理における閾値決定の処理を示すフローチャートである。また、図4は実施形態に係る異常発生原因の特定システムの処理対象となる結果物の色と環境温度との変化を示すグラフ、図5は図4に示したデータを統計処理した結果を示すものであり、(a)は相関関係、(b)は移動平均を示すグラフ、図6は図4に示した色データの異常数の累積値を示すものであり、(a)は閾値5、(b)は閾値10、(c)は閾値12、(d)は閾値11の場合を示すグラフである。
まず、プラント50において、物測定手段60及び製造条件1測定手段71〜製造条件n測定手段7nは、定期的に測定を行っている(ステップS11、S21、S31、Sn1)。これらの測定値は、特定システム40の測定値格納装置10に格納される(ステップS12、S22、S32、Sn2)。
結果物に異常が発生した段階で、過去の一定期間分の結果物の測定値及び条件1〜条件nの測定値が特定システム40に順次取り込まれる(ステップS13、S23、S33、Sn3)。
図4には、結果物である製品の色と、製造条件として、ある工程における温度についての過去半年分の測定値が示されている。この測定値について温度と色とは、図5(a)に示すように、の相関関係がない。またそれぞれの移動平均を取っても、図5(b)に示すようにそれぞれの関係が表れない。
実施形態に係る特定システム40では、まず結果物閾値設定手段11において、結果物閾値Sを定める(ステップS14)。そして、取り込まれた結果物測定値と、結果物閾値Sとを結果物比較手段12比較して(ステップS15)、結果物異常累積手段13で累積し(ステップS16)その分布を求め、この累積数が測定回数の10%となるように結果物閾値変更手段14で結果物閾値Sの値を設定する(ステップS17)。
これを図6に示した例で説明する。この例では測定回数は半年分、即ち約180である。結果物閾値S=5とすると、結果物異常回数累度数は、180を越え多すぎる(図6(a))。さらに、結果物閾値S=10とすると、結果物異常累積度数は約80でありまだ多い(図6(b))。そこで、結果物閾値S=12とすると、結果物異常累積度数は「0」となり、これでは比較ができない(図6(c))。さらに、結果物閾値S=12として、結果物異常累積度数は約20となり、これにより適切な分布を得ることができる(図6(d))。
実施形態に係る特定システム40では、図3に示すように、結果物閾値Sの初期値S0と、2つの定数C1、C2を設定する(ステップS31)。ここで、C1<0.1(10(%))<C2とする。そして、これに基づいて結果物異常累積度数を求め、測定数に対する割合Kを求め(ステップS32)、この割合KがC1と、C2の間になるようにSの値を増減する。即ち、割合KがC1より小さいとき(ステップS33のyes)、結果物閾値Siから予め定めたΔSを減じる(Si+1=Si−ΔS(i=0、1、…):ステップS34)。一方割合KがC2より大きいとき(ステップS35のyes)、結果物閾値Siに予め定めたΔSを加える(Si+1=Si+ΔS:ステップS36)。これにより、C1<K<C2となるように結果物閾値Sの値を定める。そして、結果物異常累積グラフ作成手段15で累積度数分布に基づくグラフ(図6(c)参照)を作成する。なお、条件閾値の増加方向と異常発生度数の増加方向がこの例とは反対になる場合があり、この場合には、閾値の増減を反対にする。
一方、条件閾値設定手段21において、取り込まれた条件1〜条件nについての条件閾値B1〜Bnを定める(ステップS24、S34、Sn4)。そして、条件比較手段22で取り込まれた各条件測定値と、条件閾値T1〜Tnとを比較する(ステップS25、S35、Sn5)。さらに、条件異常累積手段23で累積し(ステップS26、S36、Sn6)その分布を求め、この累積数が測定回数の10%となるように条件閾値変更手段24で条件閾値B1〜Bn値を設定する(ステップS27、S37、Sn7)。この条件閾値B1〜Bnの決定手順は図3に示したものと同じである。さらに、条件異常累積グラフ作成手段25で累積度数分布に基づくグラフを作成する(ステップS28、S38、Sn8)。
特定システム40は、作成した結果物累積グラフと、条件累積グラフとを比較して、グラフの変化の発生時期に基づいて原因を特定する(ステップS19)。図7は図4に示した色データと温度データとの累積値を示すグラフである。この例では、温度の異常の発生時期と、色の異常発生じきが同時期(3月)であり、製品の色異常の原因が温度の異常に起因することが推定できる。なお、色の異常が5月から減少したが温度の異常が続いていることから、色の異常は、温度だけが原因ではなく、他にも原因があることが示唆される。
以上のように本実施形態に係る異常発生原因の特定システムによれば、単純な相関関係や移動平均では特定できない結果物の異常の原因を容易に特定できる。
なお、結果物閾値は、2つ以上設定することができる。例えば結果物閾値を3つ、例えばS1、S2、S3を設定し、S1を正常レベル、S2を要注意レベル、S3を異常レベルとして、それぞれの結果物閾値に対して原因を特定することができる。このときには、図2中のステップS14での結果物閾値を各閾値にし、ステップS15からステップS19までの各ステップを並列的、あるいは前後して実行する。これにより、異なる結果物閾値の変化に対応する原因を特定できる。
次に第2の原因特定の例について説明する。原料を第1精製過程と、第2精製過程の2段階で反応を行っているプラントについて、ある時点から未反応原料の残存が問題となった。精製工程に問題がないかを検討するためにデータを解析する。なお、精製工程に関係する不純物は3種、不純物A、不純物B、不純物Cであり、未反応率は2種類の原料、即ち、第1未反応率、第2未反応率に対して分析する。
図8は本発明の実施形態に係る異常発生原因の特定システムの処理対象となる第2の例の第1精製過程及び第2精製過程における不純物A、B、Cの値、及び第1未反応率と第2未反応率を示す表である。各精製工程では1日に3回、反応工程では1日に1回の測定を行いこの測定値を測定値格納装置10に自動的に格納している。また、測定期間は、2006年1月1日から2009年1月25日までである。図8の表にはその一部を示している。これらの値について、相関関係図を描いたところ、図9に示すように強い相関関係は見いだせなかった。
そこで、測定値格納装置10に格納された各測定値について実施形態に係る異常発生原因の特定システムを適用して原因を特定した。図10は本発明の実施形態に係る異常発生原因の特定システムの処理対象となる第2の例の累積値を示すものであり、(a)は第1未反応率と第2未反応率との累積値を示すグラフであり、(b)は第1精製過程及び第2精製過程における不純物A、B、Cの累積値を示すブラフであり、(c)(a)(b)に示したグラフを重ねて示したグラフである。また図11は本発明の実施形態に係る異常発生原因の特定システムの処理対象となる第2の例の累積値を示すものであり、(a)は、第1未反応率、第2未反応率、第1精製過程における不純物A、第2精製過程における不純物Aの累積値を重ねて示したグラフ、(b)は第2の例における第1精製過程における不純物Aの累積値と第2未反応率の累積値とを重ねて示したグラフである。さらに、図12は第2の例における第1精製過程における不純物B、C、第2精製過程における不純物B、Cの累積値を重ねて示したグラフである。
図2及び図3に示した処理に従って累積値を求め、第1未反応率、第2未反応率がデータ数756の10%になるように、それぞれの閾値を設定した。第1未反応率の閾値は0.036、第2未反応率の閾値は0.039となった。積算値のグラフを図10(a)
また、第1精製過程及び第2精製過程における不純物A、不純物B、不純物Cについても、同様の処理により、データ数3136の10%となるように閾値を設定した。第1精製過程では不純物Aについての閾値は4、同じく不純物Bについての閾値は0.075、同じく不純物Cについての閾値は0.017となった。また第2精製過程では不純物Aについての閾値は1.3、同じく不純物Bについての閾値は0.06、同じく不純物Cについての閾値は0.013となった。積算値のグラフを図10(b)に示した。また、合計のグラフを重ねた状態を図10(c)に示した。
これらのグラフに基づいて、図11(a)に示すように、完全に一致するわけではないが、不純物Aと未反応率とに関係があると判断できた。また、第2未反応率についての閾値を0.039から0.04に変更して積算値を取ると、図11(b)に示すように、グラフがよく一致した。これにより、第1精製過程における不純物Aが原因となっている可能性が高いことが判明した。
またこのような、解析をすると上述した原因の解析の他、さまざまな情報を得ることができる。例えば、図12に示すように、不純物B、不純物Cについてのグラフはよく似ていることから、精製機構が同じであろうと推察できる。
なお、この例では測定値格納装置10に物測定手段60、製造条件1測定手段71〜製造条件n測定手段7nの検出値を自動的に入力するようにしたが、各測定手段で読み取った測定値を手入力で測定値格納装置10に入力するようにしても良い。このように手入力で測定値格納装置10にデータを入力するときには入力誤りの訂正等、データのクリーン化することが必要となる。
10:測定値格納装置
11:結果物閾値設定手段
12:結果物比較手段
13:結果物異常累積手段
14:結果物閾値変更手段
15:結果物異常累積グラフ作成手段
21:条件閾値設定手段
22:条件比較手段
23:条件異常累積手段
24:条件閾値変更手段
25:条件異常累積グラフ作成手段
30:原因特定手段
40:特定システム
50:プラント
60:結果物測定手段
71:製造条件1測定手段
72:製造条件2測定手段
7n:製造条件n測定手段
11:結果物閾値設定手段
12:結果物比較手段
13:結果物異常累積手段
14:結果物閾値変更手段
15:結果物異常累積グラフ作成手段
21:条件閾値設定手段
22:条件比較手段
23:条件異常累積手段
24:条件閾値変更手段
25:条件異常累積グラフ作成手段
30:原因特定手段
40:特定システム
50:プラント
60:結果物測定手段
71:製造条件1測定手段
72:製造条件2測定手段
7n:製造条件n測定手段
Claims (18)
- 原材料に処理を施して製造した結果物及び製造工程条件の少なくとも一方に発現した異常の原因を特定する異常発生原因の特定システムにおいて、
前記結果物及び製造工程条件の少なくとも一方について予め定めた設定期間にわたって取得された結果物測定値、及び前記原材料及び処理の条件を含む製造条件について前記設定期間にわたって取得された製造条件測定値を格納する測定値格納装置と、
前記結果物測定値の判定基準範囲を定める1又は複数の結果物閾値を設定する手段と、
前記結果物測定値と前記結果物閾値とを比較する手段と、
前記結果物測定値が前記判定基準範囲に属する回数を前記設定期間にわたり累積して結果物異常累積度数を取得する手段と、
前記製造条件測定値と比較される条件閾値を設定する手段と、
前記製造条件測定値と前記条件閾値とを比較する手段と、
前記製造条件測定値が前記条件閾値を越えた回数を前記設定期間にわたり累積して条件累積度数を取得する手段と、
前記結果物異常累積度数の分布状態と前記条件累積度数の分布状態とを比較して前記結果物に発現した異常の原因を特定する手段と、
を備えることを特徴とする異常発生原因の特定システム。 - 前記結果物異常累積度数が合計の測定回数に対して予め定めた一定の割合となるように前記結果物閾値を変更する手段と、
前記条件累積度数が測定回数に対して一定の割合になるように前記条件閾値を変更する手段と、
を備えることを特徴とする請求項1に記載の異常発生原因の特定システム。 - 前記結果物異常累積度数に基づいて作成したグラフと、前記条件累積度数に基づいて作成したグラフとを作成する手段を備え、
前記異常の原因を特定する手段は、各グラフの変化の発生時期に基づいて原因を特定することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の異常発生原因の特定システム。 - 前記結果物測定値を取得する結果物測定手段と、前記製造条件測定値を取得する条件測定手段とを備えることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の異常発生原因の特定システム。
- 前記条件測定手段は、前記原材料及び前記製造条件に対応して複数個備えることを特徴とする請求項4に記載の異常発生原因の特定システム。
- 前記測定値格納装置が取得する結果物測定値及び製造条件測定値は、現在の測定値を含む過去の測定値であり、現在の異常の原因を特定することを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の異常発生原因の特定システム。
- 原材料に処理を施して製造した結果物及び製造工程条件の少なくとも一方に発現した異常の原因を特定する異常発生原因を特定するに際して、前記結果物及び製造工程条件の少なくとも一方について予め定めた設定期間にわたって取得された結果物測定値、及び前記原材料及び処理の条件を含む製造条件について前記設定期間にわたって取得された製造条件測定値を格納する測定値格納装置を備え、この測定値格納装置に格納された前記結果物測定値及び前記製造条件測定値を解析して前記結果物に発現した異常の原因となる製造条件を特定する異常発生原因の特定方法において、
前記結果物測定値の判定基準範囲を定める1又は複数の結果物閾値を設定するステップと、
前記結果物測定値と前記結果物閾値とを比較するステップと、
前記結果物測定値が前記判定基準範囲に属する回数を前記設定期間にわたり累積して結果物異常累積度数を取得するステップと、
前記製造条件測定値が比較される条件閾値を設定するステップと、
前記製造条件測定値と前記条件閾値とを比較するステップと、
前記製造条件測定値が前記条件閾値を越えた回数を前記設定期間にわたり累積して条件累積度数を取得するステップと、
前記結果物異常累積度数の分布状態と、前記条件累積度数の分布状態とを比較して前記結果物に発現した異常の原因を特定するステップと、
を備えることを特徴とする異常発生原因の特定方法。 - 前記結果物異常累積度数が合計の測定回数に対して予め定めた一定の割合となるように前記結果物閾値を変更するステップと、
前記条件累積度数が測定回数に対して一定の割合になるように前記条件閾値を変更するステップと、
を備えることを特徴とする請求項7に記載の異常発生原因の特定方法。 - 前記結果物異常累積度数に基づいて作成したグラフと、前記条件累積度数に基づいて作成したグラフとを作成するステップを備え、
前記異常の原因を特定するステップでは、各グラフの変化の発生時期に基づいて原因を特定することを特徴とする請求項7又は請求項8に記載の異常発生原因の特定方法。 - 結果物測定手段で前記結果物測定値を取得するステップと、条件側転手段で前記製造条件測定値を取得するステップとを備えることを特徴とする請求項7から請求項9のいずれか一項に記載の異常発生原因の特定方法。
- 1又は複数の原材料、及び1又は複数の製造条件に対応する前記製造条件測定値を取得することを特徴とする請求項10に記載の異常発生原因の特定方法。
- 前記測定値格納装置が取得する結果物測定値及び製造条件測定値は、現在の測定値を含む過去の測定値であり、現在の異常の原因を特定することを特徴とする請求項7から請求項9のいずれか一項に記載の異常発生原因の特定方法。
- 原材料に処理を施して製造した結果物及び製造工程条件の少なくとも一方に発現した異常の原因を特定する異常発生原因を特定するに際して、前記結果物及び製造工程条件の少なくとも一方について予め定めた設定期間にわたって取得された結果物測定値、及び前記原材料及び処理の条件を含む製造条件について前記設定期間にわたって取得された製造条件測定値を格納する測定値格納装置を備え、この測定値格納装置に格納された前記結果物測定値及び前記製造条件測定値を解析して前記結果物に発現した異常の原因となる製造条件を特定する異常発生原因の特定プログラムにおいて、
前記結果物測定値の判定基準範囲を定める1又は複数の結果物閾値を設定するステップと、
前記結果物測定値と前記結果物閾値とを比較するステップと、
前記結果物測定値が前記判定基準範囲に属する回数を前記設定期間にわたり累積して結果物異常累積度数を取得するステップと、
前記製造条件測定値が比較される条件閾値を設定するステップと、
前記製造条件測定値と前記条件閾値とを比較するステップと、
前記製造条件測定値が前記条件閾値を越えた回数を前記設定期間にわたり累積して条件累積度数を取得するステップと、
前記結果物異常累積度数の分布状態と、前記条件累積度数の分布状態とを比較して前記結果物に発現した異常の原因を特定するステップと、
をプロセッサに実行させることを特徴とする異常発生原因の特定プログラム。 - 前記結果物異常累積度数が合計の測定回数に対して予め定めた一定の割合となるように前記結果物閾値を変更するステップと、
前記条件累積度数が測定回数に対して一定の割合になるように前記条件閾値を変更するステップと、
を備えることを特徴とする請求項13に記載の異常発生原因の特定プログラム。 - 前記結果物異常累積度数に基づいて作成したグラフと、前記条件累積度数に基づいて作成したグラフとを作成するステップを備え、
前記異常の原因を特定するステップでは、各グラフの変化の発生時期に基づいて原因を特定することを特徴とする請求項13又は請求項14に記載の異常発生原因の特定プログラム。 - 結果物測定手段で前記結果物測定値を取得するステップと、条件側転手段で前記製造条件測定値を取得するステップとを備えることを特徴とする請求項13から請求項15のいずれか一項に記載の異常発生原因の特定プログラム。
- 1又は複数の原材料、及び1又は複数の製造条件に対応する前記製造条件測定値を取得することを特徴とする請求項16に記載の異常発生原因の特定プログラム。
- 前記測定値格納装置が取得する結果物測定値及び製造条件測定値は、現在の測定値を含む過去の測定値であり、現在の異常の原因を特定することを特徴とする請求項13から請求項17のいずれか一項に記載の異常発生原因の特定プログラム。
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---|---|---|---|---|
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Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3339801B1 (en) * | 2016-12-20 | 2021-11-24 | Hexagon Technology Center GmbH | Self-monitoring manufacturing system, production monitoring unit and use of production monitoring unit |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1049585A (ja) * | 1996-08-06 | 1998-02-20 | Sony Corp | 製品の品質管理方法 |
JPH10217048A (ja) * | 1997-02-04 | 1998-08-18 | Nec Corp | 品質改善システム |
JP2000198051A (ja) * | 1998-12-29 | 2000-07-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 設備フロ―の異常抽出装置、設備フロ―の異常抽出方法、及び設備フロ―の異常抽出プログラムを記録した記憶媒体 |
JP2005327024A (ja) * | 2004-05-13 | 2005-11-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | データマイニングシステム |
JP2008181341A (ja) * | 2007-01-24 | 2008-08-07 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 製造不良要因分析支援装置 |
JP2009009299A (ja) * | 2007-06-27 | 2009-01-15 | Sharp Corp | 異常要因特定方法およびシステム、上記異常要因特定方法をコンピュータに実行させるためのプログラム、並びに上記プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
JP2010182015A (ja) * | 2009-02-04 | 2010-08-19 | Fuji Xerox Co Ltd | 品質管理システムおよび品質管理装置および品質管理プログラム |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0353123A (ja) | 1989-07-21 | 1991-03-07 | Toshiba Corp | プラント診断装置 |
CA2603916A1 (en) * | 2005-04-04 | 2006-10-12 | Fisher-Rosemount Systems, Inc. | Statistical processing methods used in abnormal situation detection |
US7171337B2 (en) * | 2005-06-21 | 2007-01-30 | Microsoft Corpoartion | Event-based automated diagnosis of known problems |
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1049585A (ja) * | 1996-08-06 | 1998-02-20 | Sony Corp | 製品の品質管理方法 |
JPH10217048A (ja) * | 1997-02-04 | 1998-08-18 | Nec Corp | 品質改善システム |
JP2000198051A (ja) * | 1998-12-29 | 2000-07-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 設備フロ―の異常抽出装置、設備フロ―の異常抽出方法、及び設備フロ―の異常抽出プログラムを記録した記憶媒体 |
JP2005327024A (ja) * | 2004-05-13 | 2005-11-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | データマイニングシステム |
JP2008181341A (ja) * | 2007-01-24 | 2008-08-07 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 製造不良要因分析支援装置 |
JP2009009299A (ja) * | 2007-06-27 | 2009-01-15 | Sharp Corp | 異常要因特定方法およびシステム、上記異常要因特定方法をコンピュータに実行させるためのプログラム、並びに上記プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
JP2010182015A (ja) * | 2009-02-04 | 2010-08-19 | Fuji Xerox Co Ltd | 品質管理システムおよび品質管理装置および品質管理プログラム |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112180886A (zh) * | 2020-10-29 | 2021-01-05 | 中原工学院 | 针对过程工业具体生产装置的工艺参数临界值的确定方法 |
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