JP5438660B2 - 光線路試験装置、及び、光線路試験システム - Google Patents

Description

本発明は光線路を試験するための光線路試験装置、及び、そのような光線路試験装置を含む光線路試験システムに関する。

光ネットワークへの加入者が増加したことに伴い、アクセスネットワークを構成する光線路（光ファイバ）の保守を効率的に行うことが重要になってきている。非特許文献１には、収容局内に光線路試験装置（ＯＴＭ：Optical Test Module）を設けることによって、光線路の保守を効率的に行うことが可能なアクセスネットワークが記載されている。

非特許文献１に記載のアクセスネットワークの構成を図５に示す。同図に示すアクセスネットワーク５０は、概略的に言えば、各家庭に配置されたＯＮＵ（Optical Network Unit）５１と、収容局に配置されたＯＬＴ（Optical Line Terminal）５２とを、光ファイバ５３で接続することによって実現された光ネットワークである。１台のＯＬＴ５２には、光スプリッタ５９を介して複数のＯＮＵ５１（１台を除いて図示省略）が接続される。

図５（ａ）に示すように、収容局（１拠点）には、ＩＤＭ（Integrated Distribution Module）架５４およびＩＤＭ架５４’を含む複数のＩＤＭ架が配備されており、光ファイバ５３は、これらのＩＤＭ架５４およびＩＤＭ架５４’の何れかに引き込まれる。光ファイバ５３には分波カプラ５５が挿入され、上り（ＯＮＵ５１からＯＬＴ５２に向かう）および下り（ＯＬＴ５２からＯＮＵ５１に向かう）の信号光が、分波カプラ５５の２つの出力ポートから取り出される。

ＩＤＭ架には、光線路試験装置１０’を収納したもの（ＩＤＭ架５４）と、光線路試験装置１０’を収納していないもの（ＩＤＭ架５４’）とがある。光線路試験装置１０’を収納したＩＤＭ架５４に引き込まれた光ファイバ５３から取り出された信号光は、そのＩＤＭ架５４に収納されたファイバセレクタ群２０’を介して、光線路試験装置１０’に入力される。一方、光線路試験装置１０’を収納していないＩＤＭ架５４’に引き込まれた光ファイバ５３から引き出された信号光は、そのＩＤＭ架５４’に収納されたファイバセレクタ群２０’を介して、上述したＩＤＭ架５４に収納された光線路試験装置１０’に入力される。

ＩＤＭ架５４およびＩＤＭ架５４’に収納されるファイバセレクタ群２０’の構成例を、図５（ｂ）に示す。図５（ｂ）に示すように、ＩＤＭ架５４（ＩＤＭ架５４’）には、例えば、１台の親ファイバセレクタ２０’ａと３台の子ファイバセレクタ２０’ｂとが収納される。親ファイバセレクタ２０’ａおよび子ファイバセレクタ２０’ｂは、２０００個程度の光線路側ポートを有しており、これらの光線路側ポートに１０００本程度の光ファイバ５３から引き出された１０００対（２０００本）程度の伝送用光ファイバを接続することができる。加えて、親ファイバセレクタ２０’ａは、３個の増設ポートを有しており、これらの増設ポートに３台の子ファイバセレクタ２０’ｂを接続することができる。すなわち、ファイバセレクタ群２０’を図５（ｂ）に示すように構成した場合、１台のＩＤＭ架５４（ＩＤＭ架５４’）に最大４０００本程度の光ファイバ５３を引き込むことができる。

光線路試験装置１０’は、光パルス試験（ＯＴＤＲ：Optical Time Domain Reflectometer）機能と光パワー測定（ＯＰＭ：Optical Power Meter）機能とを有している。ここで、光パルス試験機能とは、光ファイバ５３にパルス光を入力すると共に、光ファイバ５３から取り出した、そのパルス光の後方散乱光の波形を検出する機能のことを指す。また、光パワー測定機能とは、光ファイバ５３から取り出した光信号のパワーを検出する機能のことを指す。光線路試験装置１０’は、検出した後方散乱光の波形、および、信号光のパワーに基づいて、光ファイバ５３における物理的障害を検知する。なお、光線路試験装置１０’から出射された試験光（波長１６５０ｎｍ）がＯＮＵ５１およびＯＬＴ５２に入射しないよう、光ファイバ５３の両端には、通常、試験光を選択的に遮断するフィルタ５７〜５８が挿入される。

光パルス試験機能と光パワー測定機能とを有する光線路試験装置の構成を開示した文献としては、例えば、特許文献１が挙げられる。

特開２００８−１２４５７３号公報（２００８年５月２９日公開）

"経済化ＡＵＲＯＲＡで線路の保守を効率化！ 光試験モジュール（ＯＴＭ）の開発"、［Online］、[２０１０年９月３０日検索]、インターネット＜URL:http://times.ansl.ntt.co.jp/gijyutu/2003_06/Topic_02/index.html＞

しかしながら、非特許文献１に記載の光線路試験装置においては、試験項目が増えると、光測定器と接続するファイバセレクタを選択する測定器成端架選択装置の構造が複雑化し、光線路試験装置の製造コストが増大するという問題があった。また、試験項目の切り替え速度が遅く、光線路試験が長時間に及ぶという問題があった。

この問題について、図６を参照してもう少し具体的に説明する。図６は、非特許文献１に記載の光線路試験装置１０’の構成を示したブロック図である。光線路試験装置１０’は、同図に示すように、光測定器（ＯＴＵ：Optical Test Unit）１００’と測定器成端架選択装置（ＦＴＥＳ：Frame and Test Equipment Selector）２００’とを含み、ファイバセレクタ群２０’と共にＩＤＭ架５４に収納される。そして、光線路試験装置１０’が収納されたＩＤＭ架５４は、光線路試験装置１０’が収納されていない他のＩＤＭ架５４’と共に、光線路試験システム１’を構成する。図６に示した光線路試験システム１’は、５本のＩＤＭ架を含んでいるため、合計２００００本程度の光ファイバを試験対象とすることができる。

光測定器１００’は、光パルス試験器１２０’と光パワー測定器１３０’とを含んでいる。光パルス検出器１２０’は、（１）波長１６５０ｎｍのパルス光を用いた光パルス試験、および、（２）波長１３１０ｎｍのパルス光を用いた光パルス試験を行うためのものであり、分岐カプラ１２２’、光源１２３’、ＷＤＭカプラ１２４’、アバランシェ・フォトダイオード（ＡＰＤ：Avalanche Photodiode）１２５’、分岐カプラ１２６’、および光源１２７’により構成される。一方、光パワー測定器１３０’は、（３）波長１３１０ｎｍの上り信号光の光パワー測定、および、（４）波長１５５０ｎｍの下り信号光の光パワー測定を行うためのものであり、フォトダイオード（ＰＤ：Photodiode）１３３’により構成される。

測定器成端架選択装置２００’は、複数の光線路側ポートを備えている。図６においては、２０個の光線路側ポートＰＡ１〜ＰＡ２０を備えた構成を例示している。同じＩＤＭ架５４に収納された親ファイバセレクタ２０’ａ、および、他のＩＤＭ架５４’に収納された親ファイバセレクタ２０’ａは、それぞれ、測定器成端架選択装置２００’の光線路側ポートＰＡ１〜２０の何れかに接続される。図６に示した例では、ＩＤＭ架５４およびＩＤＭ架５４’に収納された５台の親ファイバセレクタ２０’ａが測定器成端架選択装置２００’の光線路側ポートＰＡ１〜ＰＡ５に接続されている。

また、測定器成端架選択装置２００’は、少なくとも３個の測定器側ポートＰＢ１〜ＰＢ３を備えている（図６には、省略可能な３個の測定器側ポートＰＢ４〜ＰＢ６を含め、合計６個の測定器側ポートＰＢ１〜ＰＢ６を備えた構成を例示している）。測定器側ポートＰＢ１は、光パルス試験に用いる波長１６５０ｎｍのパルス波、および、その後方散乱光を入出力するためのポートである。また、測定器側ポートＰＢ２は、光パルス試験に用いる波長１３１０ｎｍのパルス波、および、その後方散乱光を入出力するためのポートである。また、測定器側ポートＰＢ３は、光パワー測定に用いる波長１３１０ｎｍ（上り）および１５５０ｎｍ（下り）の信号光を出力するためのポートである。

なお、測定器側ポートＰＢ１に接続された光ファイバＦＢ１には、波長１６５０ｎｍの光（パルス光およびその後方散乱光）を選択的に透過するバンドパスフィルタ２０１’が挿入されている。また、測定器側ポートＰＢ３に接続された光ファイバＦＢ３は、ＷＤＭカプラ２０４’によって２本の光ファイバＦＢ３ａ〜ＦＢ３ｂに分岐されている。そして、光ファイバＦＢ３ａには、波長１３１０ｎｍの光（信号光）を選択的に透過するフィルタ２０２’が、また、光ファイバＦＢ３ｂには、波長１５５０ｎｍの光（信号光）を選択的に透過するフィルタ２０３’が、それぞれ挿入されている。

測定器成端架選択装置２００’は、試験項目に応じた測定器側光ファイバ（測定器側ポートＰＢ１〜ＰＢ３に接続された４本の光ファイバＦＢ１，ＦＢ２，ＦＢ３ａ，ＦＢ３ｂの何れか）を物理的に移動し、その末端を、試験対象とする光ファイバに応じた光線路側光ファイバ（光線路側ポートＰＡ１〜ＰＡ２０に接続された２０本の光ファイバＦＡ１〜ＦＡ２０の何れか）の末端に接続する。例えば、ファイバセレクタ２０’を介して光線路側ポートＰＡ３に接続された（通信用）光ファイバ５３に関して、波長１３１０ｎｍのパルス光を用いた光パルス試験を行う場合、測定器成端架選択装置２００’は、測定器側ポートＰＢ２に接続された光ファイバＦＢ２を移動し、その末端を光線路側ポートＰＡ３に接続された光ファイバＦＡ３の末端と接続する。

このように、試験項目が４項目ある場合、測定器成端架選択装置２００’は、４本の光ファイバ（図６における光ファイバＦＢ１，ＦＢ２，ＦＢ３ａ，ＦＢ３ｂ）を移動するためのファイバ移動機能を備えている必要がある。比較的使用頻度の少ない、波長１３１０ｎｍのパルス光を用いた光パルス試験を省略するとしても、測定器成端架選択装置２００’は、３本の光ファイバ（図６における光ファイバＦＢ１，ＦＢ３ａ，ＦＢ３ｂ）を移動するためのファイバ移動機構を備えている必要がある。一般に、試験項目がｎ項目ある場合、測定器成端架選択装置２００’は、ｎ本の光ファイバを移動するためのファイバ移動機能を備えている必要がある。上述した「測定器成端架選択装置の構造の複雑化」とは、主に、このファイバ移動機能の複雑化のことを指す。

また、上述したように試験項目の切り替え速度が遅いのは、試験項目の切り替えを行うたびに、測定器成端架選択装置２００’において、切り替え前後の試験項目に対応する測定器側光ファイバを物理的に移動するプロセスが発生するためである。特に、実運用時には、光パルス試験から光パワー測定への切り替え、および、光パワー測定から光パルス試験への切り替え、を頻繁に行う必要がある。更に、光パワー測定においては、信号光の波長に応じて、光線路側光ファイバに接続する測定器側光ファイバ（図６における光ファイバＦＢ３ａ、ＦＢ３ｂ）を切り替える必要がある。従って、これらの切り替えを速やかに行うことができないと、光線路試験の長時間化の問題が生じ易い。

本発明は、上記の問題に鑑みてなされたものであり、その目的は、試験項目を減らすことなく測定器成端架選択装置の構造を単純化可能な、あるいは、試験項目を減らすことなく測定器成端架選択装置を省略可能な光線路試験装置を実現し、もって、光線路試験装置の製造コストを低下させると共に、光線路試験に要する時間の短縮を図ることにある。

上記の課題を解決するために、本発明に係る光線路試験装置は、共通ポートが光線路群から選択された対象光線路に接続される光カプラと、上記光カプラの第１分岐ポートに接続された光パルス試験器であって、上記対象光線路に入力するパルス光を生成すると共に、上記対象光線路から取り出した、上記パルス光の後方散乱光の波形を検出する光パルス試験器と、上記光カプラの第２分岐ポートに接続された光パワー測定器であって、上記対象光線路から取り出した信号光のパワーを測定するための光パワー測定器と、を備えている。

上記の構成によれば、対象光線路を上記光カプラの共通ポートと接続するだけで、対象光線路に関する光パルス試験および光パワー測定を行うことができる。したがって、光パルス試験を単一の波長に関して行う場合、測定器成端架選択装置を要さない。また、光パルス試験を複数の波長に関して行う場合であっても、非特許文献１に記載の光線路試験装置と比較して、測定器成端架選択装置におけるファイバ移動機構を単純化することができる。したがって、光線路試験装置の製造コストを低下させることができる。

また、上記の構成によれば、試験項目を光パルス試験から光パワー測定に切り替える際、および、試験項目を光パワー試験から光パルス試験に切り替える際に、測定器成端架選択装置におけるファイバ移動機構を作動させる必要がないので、光線路試験に要する時間を短縮することができる。また、光パルス試験と光パワー測定とを同時に行えば、光線路試験に要する時間を更に短縮することができる。

なお、測定器成端架選択装置の省略、あるいは、測定器成端架選択装置におけるファイバ移動機能の単純化による製造コストの低下分は、上記光線路試験装置において光カプラを設けることによる製造コストの増加分よりも大きいため、全体として製造コストを低下させることができる。

本発明に係る光線路試験装置において、上記光パワー測定器は、共通ポートが上記光カプラの上記第２分岐ポートに接続された分波カプラと、該分波カプラの第１分岐ポートに接続された第１光検出器であって、第１の波長を有する信号光を電気信号に変換する第１光検出器と、該分波カプラの第２分岐ポートに接続された第２光検出器であって、上記第１の波長とは異なる第２の波長を有する信号光を電気信号に変換する第２光検出器と、を含んでいる、ことが好ましい。

上記の構成によれば、第１の波長を有する信号光に対する光パワー測定と第２の波長を有する光信号に対する光パワー測定とを行うことができる。しかも、これらの信号光は、何れも上記光カプラの共通ポートから入力されるので、測定器成端架選択装置におけるファイバ移動機構を複雑化する必要がない。また、上記２つの波長に関する光パワー測定は、測定器成端架選択装置を用いない構成であっても実行可能である。このように、上記の構成によれば、製造コストを上昇させることなく、２つの波長に関する光パワー測定を実行可能な光線路試験装置を実現することができる。

本発明に係る光線路試験装置において、上記光パルス試験器は、共通ポートが上記光カプラの上記第１分岐ポートに接続された分岐カプラと、該分岐カプラの第１分岐ポートに接続された光源であって、上記パルス光を生成する光源と、該分岐カプラの第２分岐ポートに接続された光検出器であって、上記パルス光の後方散乱光を電気信号に変換する光検出器と、を含んでいる、ことが好ましい。

上記の構成によれば、光パルス試験を実行可能な光線路試験装置を、簡単な構成で実現することができる。

本発明に係る光線路試験装置において、上記光パルス試験器は、共通ポートが上記光カプラの上記第１分岐ポートに接続された第１分岐カプラと、該第１分岐カプラの第１分岐ポートに接続された第１光源であって、第１の波長を有するパルス光を生成する第１光源と、共通ポートが光線路群から選択された対象光線路に接続される第２分岐カプラと、該第２分岐カプラの第１分岐ポートに接続された第２光源であって、上記第１の波長とは異なる第２の波長を有するパルス光を生成する第２光源と、第１分岐ポートが上記第１分岐カプラの第２分岐ポートに接続され、第２分岐ポートが上記第２分岐カプラの第２分岐ポートに接続された合波カプラと、上記合波カプラの共通ポートに接続された光検出器であって、上記第１波長を有するパルス光の後方散乱光、及び、上記第２の波長を有するパルス光の後方散乱光を電気信号に変換する光検出器と、を含んでいる、ことが好ましい。

上記の構成によれば、２つの波長に関する光パルス試験を実行可能な光線路試験装置を、簡単な構成で実現することができる。

なお、本発明に係る光線路試験装置は、測定器成端架選択装置を備えていてもよい。すなわち、上記光線路群に接続される複数の光線路側ポートと該複数の光線路側ポートの何れかに接続される試験装置側ポートとを有する測定器成端架選択装置を更に備え、上記光カプラの上記共通ポートと上記測定器成端架選択装置の上記試験装置側ポートとが接続されている光線路試験装置も本発明の範疇に含まれる。

また、光線路試験装置とファイバセレクタとを含む光線路試験システムにおいて、測定器成端架選択装置を省略したもの、すなわち、上記光線路試験装置と、上記光線路群に接続される複数の光線路側ポートと該複数の光線路側ポートの何れかに接続される試験装置側ポートとを有するファイバセレクタとを備えた光線路試験システムであって、上記ファイバセレクタの上記試験装置側ポートと上記光カプラの上記共通ポートとが測定器成端架選択装置を介さずに接続されている光線路試験システムも本発明の範疇に含まれる。

本発明に係る光線路試験装置は、共通ポートが光線路群から選択された対象光線路に接続される光カプラと、上記光カプラの第１分岐ポートに接続された光パルス試験器であって、上記対象光線路に入力するパルス光を生成すると共に、上記対象光線路から取り出した、上記パルス光の後方散乱光の波形を検出する光パルス試験器と、上記光カプラの第２分岐ポートに接続された光パワー測定器であって、上記対象光線路から取り出した信号光のパワーを測定するための光パワー測定器と、を備えている。

従って、測定器成端架選択装置を省略、あるいは、測定器成端架選択装置におけるファイバ移動機構を単純化することが可能であり、これにより、光線路試験装置の製造コストを低下させることができる。

本発明の実施形態に係る光線路試験装置および光線路試験システムの構成を示すブロック図である。 本発明の実施形態に係る光線路試験装置による光パルス試験を説明するための図である。（ａ）は、光線路試験装置の備える光源が生成するパルス光の波形例と、対象光ファイバにキズなどの物理的障害が存在しない場合に当該パルス光によって生じる後方散乱光の波形例と、当該後方散乱光を受光したアバランシェ・フォトダイオードから出力される電気信号の波形例とを示しており、（ｂ）は、光線路試験装置の備える光源が生成するパルス光の波形例と、対象光ファイバにキズなどの物理的障害が存在する場合に当該パルス光によって生じる後方散乱光の波形例と、当該後方散乱光を受光したアバランシェ・フォトダイオードから出力される電気信号の波形例とを示している。 本発明の実施形態の第１の変形例に係る光線路試験装置および光線路試験システムの構成を示すブロック図である。 本発明の実施形態の第２の変形例に係る光線路試験装置および光線路試験システムの構成を示すブロック図である。 （ａ）は、従来の光線路試験装置を含むアクセスネットワークの構成を示すブロック図である。（ｂ）は、従来の光線路試験装置と併用されるファイバセレクタ群の構成例を示すブロック図である。 従来の光線路試験装置および光線路試験システムの構成を示すブロック図である。

本発明に係る光線路試験装置（ＯＴＭ：Optical Testing Module）の実施形態について、図面に基づいて説明すれば以下の通りである。なお、本実施形態に係る光線路試験装置は、アクセスネットワークを構成する光ファイバ（光線路）について、断線や損失増加等の物理的障害の有無、および、それらの物理的障害が生じた場所などを検知するための装置である。

図１は、本実施形態に係る光線路試験装置１０の構成を示すブロック図である。図１に示すように、光線路試験装置１０は、ファイバセレクタ群２０と共にＩＤＭ架に収納される。そして、光線路試験装置１０とファイバセレクタ群２０とが収納されたＩＤＭ架は、ファイバセレクタ群２０のみが収納された他のＩＤＭ架と共に、光線路試験システム１を構成する。図１に示した例では、光線路試験装置１０とファイバセレクタ群２０とが収納された１台のＩＤＭ架と、ファイバセレクタ群２０のみが収納された４台のＩＤＭ架とより、光線路試験システム１を構成している。

各ファイバセレクタ群２０は、図５（ｂ）に示すファイバセレクタ群２０’と同様に構成され、例えば、最大４０００本程度の通信用光ファイバよりなる光ファイバ群から、光線路試験装置１０に接続する光ファイバを選択するために用いられる。この場合、光線路試験システム１は、合計２００００本程度の光ファイバを試験対象とすることができる。

光線路試験装置１０は、ファイバセレクタ群２０の何れかを介して自身に接続された通信用光ファイバの中から試験対象とする対象光ファイバを選択すると共に、選択した対象光ファイバにおける断線や損失増加等の物理的障害の有無、および、それらの物理的障害が生じた場所などを検知するための装置である。図１に示すように、光線路試験装置１０は、光測定器（ＯＴＵ：Optical Test Unit）１００、および、測定器成端架選択装置（ＦＴＥＳ：Frame and Test Equipment Selector）２００を備えている。なお、光線路試験装置１０は、図示しない制御部を備えており、光線路試験装置１０の備える各部は当該制御部によって制御される。

測定器成端架選択装置２００は、各ファイバセレクタ群２０から引き出された伝送用光ファイバの中から１本の伝送用光ファイバを選択し、選択した伝送用ファイバを光測定器１００の備えるＷＤＭカプラ（光カプラ）１１０または分岐カプラ１２６に接続するために用いられる。図１に示した例では、５組のファイバセレクタ群２０の各々から引き出された５本の伝送用光ファイバの何れかを、光測定器１００の備えるＷＤＭカプラ１１０または分岐カプラ１２６に接続することになる。このため、図１に示した例では、測定器成端架選択装置２００は、上記５本の伝送用光ファイバの何れかをＷＤＭカプラ１１０または分岐カプラ１２６に接続するための２つの測定器側ポートを備えている。

光測定器１００は、測定器成端架選択装置２００およびファイバセレクタ群２０を介して接続された対象光ファイバについて、物理的障害の有無、および、物理的障害が生じた場所などを検知するための構成である。図１に示すように、光測定器１００は、ＷＤＭカプラ１１０、光パルス試験器（ＯＴＤＲ：Optical Time Domain Reflectometer）１２０、および、光パワー測定器（ＯＰＭ：Optical Power Meter）１３０を備えている。

ＷＤＭカプラ１１０は、波長分割多重（Wavelength Division Multiplexing）方式を用いた光カプラであり、（１）自身の備える共通ポート１１０ｃより入力される光を、低損失にて複数の波長領域の分波光へと分波し、各分波光を自身の備える第１の分岐ポート１１０ａおよび第２の分岐ポート１１０ｂから出力する分波器としての機能と、（２）自身の備える第１の分岐ポート１１０ａおよび第２の分岐ポート１１０ｂの各々から入力される各波長領域の光を低損失にて合波することによって合波光を生成し、生成した合波光を自身の備える共通ポート１１０ｃより出力する合波器としての機能と、を併せ持っている。

本実施形態におけるＷＤＭカプラ１１０は、共通ポート１１０ｃより入力される光を分波し、１６５０ｎｍを含む波長領域において高い透過性を有する第１の分波光を第１の分岐ポート１１０ａより出力し、１５５０ｎｍおよび１３１０ｎｍの双方を含む波長領域において高い透過性を有する第２の分波光を第２の分岐ポート１１０ｂより出力する。また、ＷＤＭカプラ１１０は、後述する分岐カプラ１２２およびバンドパスフィルタ１２１を介して光源１２３から供給される波長１６５０ｎｍのパルス光を共通ポート１１０ｃより出力する。

また、図１に示すように、本実施形態において、共通ポート１１０ｃは、伝送用光ファイバおよび光コネクタ（図１において白抜きの長方形として図示）を介して対象光ファイバに接続されており、第１の分岐ポート１１０ａは、伝送用光ファイバを介して光パルス試験器１２０の備えるバンドパスフィルタ（ＢＰＦ：Band Pass Filter）１２１に接続されており、第２の分岐ポート１１０ｂは、伝送用光ファイバおよび光コネクタを介して光パワー測定器１３０の備えるＷＤＭカプラ１３１の共通ポート１３１ｃに接続されている。

光パルス試験器１２０は、対象光ファイバについて、波長１６５０ｎｍ（第１の波長）のパルス光を用いた光パルス試験と、波長１３１０ｎｍ（第２の波長）のパルス光を用いた光パルス試験とを行うための構成であり、例えば、図１に示すように、バンドパスフィルタ１２１、分岐カプラ１２２、光源１２３、ＷＤＭカプラ１２４、アバランシェ・フォトダイオード（ＡＰＤ：Avalanche Photodiode）１２５、分岐カプラ１２６、および、光源１２７により構成することができる。バンドパスフィルタ１２１、分岐カプラ１２２、および、光源１２３は、前者の光パルス試験のための構成であり、分岐カプラ１２６、および、光源１２７は、後者の光パルス試験のための構成である。また、ＷＤＭカプラ１２４、および、アバランシェ・フォトダイオード１２５は、何れの光パルス試験においても用いられる構成である。

光パルス試験器１２０は、対象光ファイバに対して、上述したパルス光を供給し、当該パルス光が対象光ファイバ中を伝播する際に生じる後方散乱光の波形を検出する。

バンドパスフィルタ１２１は、ＷＤＭカプラ１１０の第１の分岐ポート１１０ａより伝送用光ファイバを介して入力される光のうち、中心波長が１６５０ｎｍの光を選択的に透過させ、ＯＮＵ５１とＯＬＴ５２との間の光通信の通信帯域である１３１０ｎｍおよび１５５０ｎｍの光を遮断する。バンドパスフィルタ１２１は、透過後の光を、光ファイバを介して分岐カプラ１２２の共通ポート１２２ｃへと供給する。また、バンドパスフィルタ１２１は、分岐カプラ１２２を介して光源１２３から供給される波長１６５０ｎｍのパルス光を透過させ、伝送用光ファイバを介してＷＤＭカプラ１１０の第１の分岐ポート１１０ａへと供給する。

分岐カプラ１２２は、（１）自身の備える共通ポート１２２ｃより入力される光を２つの分波光へと分波し、それらの分波光を自身の備える第１の分岐ポート１２２ａおよび第２の分岐ポート１２２ｂからそれぞれ出力する分波器としての機能と、（２）自身の備える第１の分岐ポート１２２aおよび第２の分岐ポート１２２ｂから入力される光を合波することによって、合波光を生成し、生成した合波光を自身の備える共通ポート１２２ｃより出力する合波器としての機能と、を併せ持っている。

本実施形態において、分岐カプラ１２２は、第１の分岐ポート１２２ａに対して伝送用光ファイバを介して光源１２３より供給される波長１６５０ｎｍの光を共通ポート１２２ｃから出力する。また、分岐カプラ１２２は、共通ポート１２２ｃに対して伝送用光ファイバを介してバンドパスフィルタ１２１より供給される波長１６５０ｎｍの光を第２の分岐ポート１２２ｂから出力する。なお、分岐カプラ１２２の分岐比は、例えば、波長領域１６５０ｎｍ付近において３ｄＢとなるように設定されており、共通ポート１２２ｃより入力される波長１６５０ｎｍの光は、１：１の比で分波された後に、各分岐ポートから出力される。ただし、既知の分岐比を有する分岐カプラであれば、どのような分岐比を有する分岐カプラであっても分岐カプラ１２２として用いることができる。

光源１２３は、光パルス試験に用いる波長１６５０ｎｍのパルス光を生成し、生成したパルス光を、伝送用光ファイバを介して分岐カプラ１２２の第１の分岐ポート１２２ａに供給する。光源１２３により生成されるパルス光のパルス幅は、例えば、２０ｎｓ（nano-seconds、ナノ秒）から４μｓ（micro-seconds、マイクロ秒）までの値をとることが可能である。

また、光源１２３は、対象光ファイバについての光源試験に用いる変調周波数２７０Ｈｚの変調光信号を、波長１６５０ｎｍの光を用いて生成し、生成した変調光信号を分岐カプラ１２２の第１の分岐ポート１２２ａに供給することもできる。なお、光源試験とは、対象光ファイバに対して変調光信号を入力し、当該対象光ファイバの終端において当該変調光信号を検出することにより行われる試験である。

分岐カプラ１２６は、分岐カプラ１２２と同様に、分波器としての機能と合波器としての機能とを併せ持っている。

本実施形態において、分岐カプラ１２６は、第１の分岐ポート１２６ａに対して光源１２７より供給される波長１３１０ｎｍの光を共通ポート１２６ｃから出力する。また、分岐カプラ１２６は、共通ポート１２６ｃに対して伝送用光ファイバおよび光コネクタを介して対象光ファイバより供給される波長１３１０ｎｍの光を第２の分岐ポート１２６ｂから出力する。なお、分岐カプラ１２６の分岐比は、例えば、波長領域１３１０ｎｍ付近において３ｄＢとなるように設定されている。ただし、既知の分岐比を有する分岐カプラであれば、どのような分岐比を有する分岐カプラであっても分岐カプラ１２６として用いることができる。

光源１２７は、光パルス試験に用いる波長１３１０ｎｍのパルス光を生成し、生成したパルス光を、伝送用光ファイバを介して分岐カプラ１２６の第１の分岐ポート１２６ａに供給する。光源１２７により生成されるパルス光のパルス幅は、光源１２３と同様に、例えば、２０ｎｓから４μｓまでの値をとることが可能であり、ユーザは制御部を介して、光パルス試験において最適なパルス幅を選択することができる。

また、光源１２７は、対象光ファイバについての光源試験に用いる変調周波数２７０Ｈｚの変調光信号を、波長１３１０ｎｍの光を用いて生成し、生成した変調光信号を分岐カプラ１２６の第１の分岐ポート１２６ａに供給することもできる。

ＷＤＭカプラ１２４は、波長分割多重方式を用いた光カプラであり、ＷＤＭカプラ１１０と同様に、分波器としての機能と合波器としての機能とを併せ持っている。

本実施形態におけるＷＤＭカプラ１２４は、自身の備える第１の分岐ポート１２４ａに対して分岐カプラ１２２より供給される波長１６５０ｎｍの光と、自身の備える第２の分岐ポート１２４ｂに対して分岐カプラ１２６より供給される波長１３１０ｎｍの光とを、低損失にてアバランシェ・フォトダイオード１２５に供給するために用いられる。

アバランシェ・フォトダイオード１２５は、光電効果とアバランシェ増倍現象とを利用した高受光感度のフォトダイオードである。

本実施形態においては、アバランシェ・フォトダイオード１２５は、ＷＤＭカプラ１２４を介して分岐カプラ１２２より供給される波長１６５０ｎｍの光の各時刻における強度と、ＷＤＭカプラ１２４を介して分岐カプラ１２６より供給される波長１３１０ｎｍの光の各時刻における強度とをそれぞれ検出するために用いられる。

より具体的には、アバランシェ・フォトダイオード１２５は、波長１６５０ｎｍのパルス光を用いた光パルス試験において、光源１２３より出射され、分岐カプラ１２２、バンドパスフィルタ１２１、および、ＷＤＭカプラ１１０を介して対象光ファイバに供給されたパルス光の後方散乱光であって、ＷＤＭカプラ１１０、バンドパスフィルタ１２１、分岐カプラ１２２、および、ＷＤＭカプラ１２４を介して供給される後方散乱光を受光し、各時刻において、当該後方散乱光の強度に応じた電気信号（電流）を出力する。

同様に、アバランシェ・フォトダイオード１２５は、波長１３１０ｎｍのパルス光を用いた光パルス試験において、光源１２７より出射され、分岐カプラ１２６を介して対象光ファイバに供給されたパルス光の後方散乱光であって、分岐カプラ１２６、および、ＷＤＭカプラ１２４を介して供給される後方散乱光を受光し、各時刻において、当該後方散乱光の強度に応じた電気信号（電流）を出力する。

なお、上記後方散乱光とは、対象光ファイバに供給されたパルス光が当該対象光ファイバの各位置において散乱することによって生じる散乱光のうち、当該パルス光の伝播方向と逆方向に伝播する散乱光のことを指す。

また、アバランシェ・フォトダイオード１２５から出力される各時刻での電気信号は、図示しないデータ取得（Data Acquisition）部によってデジタル化され、制御部に伝達される。制御部は、各時刻での電気信号の大きさを解析することによって、対象光ファイバにおける断線や損失増加等の物理的障害の有無、および、それらの物理的障害が生じた場所などを検知することができる。

図２の（ａ）は、光パルス試験において、光源１２３（または光源１２７）より出力されるパルス光の波形例と、対象光ファイバにキズなどの物理的障害が存在しない場合に当該パルス光によって生じる後方散乱光の波形例と、当該後方散乱光を受光したアバランシェ・フォトダイオード１２５から出力される電気信号の波形例とを示すタイミングチャートである。

図２の（ａ）に示すように、対象光ファイバにキズなどの物理的障害が存在しない場合には、後方散乱光は、パルス光の出射時刻からの経過時間の増加に伴って減少し、パルス光が対象光ファイバの終端において反射した反射光に対応するピークを有する。

図２の（ｂ）は、光パルス試験において、光源１２３（または光源１２７）より出力されるパルス光の波形例と、対象光ファイバにキズなどの物理的障害が存在する場合に当該パルス光によって生じる後方散乱光の波形例と、当該後方散乱光を受光したアバランシェ・フォトダイオード１２５から出力される電気信号の波形例とを示すタイミングチャートである。

図２の（ｂ）に示すように、対象光ファイバにキズなどの物理的障害が存在する場合には、後方散乱光は、当該物理的障害によって反射された反射光に対応するピークと、パルス光が対象光ファイバの終端において反射した反射光に対応するピークとを有する。

制御部は、光源１２３によりパルス光が出射されてから上記物理的障害に起因するピークが観測されるまでの時間間隔を検出し、検出した時間間隔に基づいて、対象光ファイバにおける上記物理的障害までの距離を算出することができる。

光パワー測定器１３０は、対象光ファイバから取り出した信号光のパワーを検出するための構成である。より具体的に言うと、光パワー測定器１３０は、光パワー測定試験において、ＯＮＵ５１からＯＬＴ５２に向かう上り用の信号光（波長１３１０ｎｍ）、および、ＯＬＴ５２からＯＮＵ５１に向かう下り用の信号光（波長１５５０ｎｍ）のパワーを検出するための構成であり、例えば、図１に示すように、ＷＤＭカプラ１３１、フィルタ１３２、フォトダイオード（ＰＤ：Photodiode）１３３、フィルタ１３４、および、フォトダイオード１３５により構成することができる。フィルタ１３２、および、フォトダイオード１３３は、波長１３１０ｎｍの信号光のパワーを検出するための構成であり、フィルタ１３４、および、フォトダイオード１３５は、波長１５５０ｎｍの信号光のパワーを検出するための構成である。また、ＷＤＭカプラ１３１は、何れの信号光のパワーを検出する際にも用いられる構成である。

ＷＤＭカプラ１３１は、波長分割多重方式を用いた光カプラであり、ＷＤＭカプラ１１０と同様に、分波器としての機能と合波器としての機能とを併せ持っている。ただし、ＷＤＭカプラ１３１は、ＷＤＭカプラ１１０と異なり、自身の備える共通ポート１３１ｃより入力される信号光を分波し、１３１０ｎｍを含む波長領域において高い透過性を有する第１の分波光を、自身の備える第１の分岐ポート１３１ａより出力し、１５５０ｎｍを含む波長領域において高い透過性を有する第２の分波光を、自身の備える第２の分岐ポート１３１ｂより出力する。

また、図１に示すように、本実施形態において、共通ポート１３１ｃは、ＷＤＭカプラ１１０の第２の分岐ポート１１０ｂに接続されており、第１の分岐ポート１３１ａは、フィルタ１３２に接続されており、第２の分岐ポート１３１ｂは、フィルタ１３４に接続されている。

フィルタ１３２は、伝送用光ファイバを介してＷＤＭカプラ１３１の第１の分岐ポート１３１ａより供給される信号光のうち、中心波長が１３１０ｎｍの信号光を選択的に透過させ、透過後の信号光をフォトダイオード１３３に供給する。

フォトダイオード１３３は、フィルタ１３２より供給される信号光を受光し、受光した信号光のパワーに応じた電気信号（電流）を出力する。出力された電気信号は、図示しないデータ取得部によってデジタル化され、制御部に伝達される。制御部は、ＷＤＭカプラ１１０、ＷＤＭカプラ１３１、および、フィルタ１３２を介して対象光ファイバより供給される波長１３１０ｎｍの信号光のパワーを、当該電気信号の大きさに基づいて算出することができる。

フィルタ１３４は、伝送用光ファイバを介してＷＤＭカプラ１３１の第２の分岐ポート１３１ｂより供給される信号光のうち、中心波長が１５５０ｎｍの信号光を選択的に透過させ、透過後の信号光をフォトダイオード１３５に供給する。

フォトダイオード１３５は、フィルタ１３４より供給される信号光を受光し、受光した信号光のパワーに応じた電気信号（電流）を出力する。出力された電気信号は、図示しないデータ取得部によってデジタル化され、制御部に伝達される。制御部は、ＷＤＭカプラ１１０、ＷＤＭカプラ１３１、および、フィルタ１３４を介して対象光ファイバより供給される波長１５５０ｎｍの信号光のパワーを、当該電気信号の大きさに基づいて算出することができる。

なお、本実施形態において、光パワー測定器１３０が光コネクタ（図１において白抜きの長方形として図示）を介してＷＤＭカプラ１１０に接続されているため、光パワー測定器１３０を光線路試験装置１０から簡単に取り外すことができる。したがって、光パワー測定を利用しないユーザに対しては、光パワー測定器１３０を取り外したシンプルな構成で出荷するなどのカスタムメイドを容易に実現することができる。

また、本実施形態において、測定器成端架選択装置２００は、従来の測定器成端架選択装置よりも少ない２つの測定器側ポートを備えていれば足りるので、従来の測定器成端架選択装置に比べて単純な構成により実現することができる。したがって、測定器成端架選択装置２００内における故障の発生率が従来の測定器成端架選択装置よりも低減するので、光線路試験装置１０および光線路試験システム１の信頼性が向上する。

以上のように、本発明に係る光線路試験装置１０は、共通ポート１１０ｃが光ファイバ群から選択された対象光ファイバに接続されるＷＤＭカプラ１１０と、上記ＷＤＭカプラ１１０の第１分岐ポート１１０ａに接続された光パルス試験器１２０であって、上記対象光ファイバに入力するパルス光を生成すると共に、上記対象光ファイバから取り出した、上記パルス光の後方散乱光の波形を検出する光パルス試験器１２０と、上記ＷＤＭカプラ１１０の第２分岐ポート１１０ｂに接続された光パワー測定器１３０であって、上記対象光ファイバから取り出した信号光のパワーを測定するための光パワー測定器１３０と、を備えている。

従って、測定器成端架選択装置２００を省略、あるいは、測定器成端架選択装置２００におけるファイバ移動機構を単純化することが可能であり、これにより、光線路試験装置１０の製造コストを低下させることができる。

＜変形例１＞
本実施形態に係る光線路試験装置１０および光線路試験システム１の構成は、上述した例に限定されるものではない。ここでは、本実施形態の第１の変形例に係る光線路試験装置１０および光線路試験システム１について、図３を参照して説明する。

本変形例に係る光線路試験システム１における光パルス試験器１２０は、波長１６５０ｎｍの光および波長１３１０ｎｍの光を用いた光パルス試験に加えて、波長１５５０ｎｍの光を用いた光パルス試験をも行うことができる構成である。本変形例における光パルス試験器１２０は、例えば、図３に示すように、既に説明したバンドパスフィルタ１２１、分岐カプラ１２２、光源１２３、ＷＤＭカプラ１２４、アバランシェ・フォトダイオード１２５、および、分岐カプラ１２６に加えて、光源１２８、ＷＤＭカプラ１２９、フィルタ１４０、および、アバランシェ・フォトダイオード１４１を備えることによって構成することができる。

本変形例において、フィルタ１４０およびアバランシェ・フォトダイオード１４１は、波長１５５０ｎｍの光を用いた光パルス試験を行うための構成であり、光源１２８、分岐カプラ１２６、ＷＤＭカプラ１２９は、波長１５５０ｎｍの光を用いた光パルス試験、および、波長１３１０ｎｍの光を用いた光パルス試験の双方において用いられる構成である。また、本変形例において、ＷＤＭカプラ１２４およびアバランシェ・フォトダイオード１２５は、波長１３１０ｎｍの光を用いた光パルス試験にも用いられる。

光源１２８は、光パルス試験に用いる波長１３１０ｎｍのパルス光および波長１５５０ｎｍのパルス光を生成し、生成したパルス光を、伝送用光ファイバを介して分岐カプラ１２６の第１の分岐ポート１２６ａに供給する。光源１２８により生成されるパルス光のパルス幅は、光源１２３と同様に、例えば、２０ｎｓから４μｓまでの値をとることが可能であり、ユーザは制御部を介して、光パルス試験において最適なパルス幅を選択することができる。

また、光源１２８は、対象光ファイバについての光源試験に用いる変調周波数２７０Ｈｚの変調光信号を、波長１３１０ｎｍの光または波長１５５０ｎｍの光を用いて生成し、生成した変調光信号を分岐カプラ１２６の第１の分岐ポート１２６ａに供給することもできる。

ＷＤＭカプラ１２９は、波長分割多重方式を用いた光カプラであり、ＷＤＭカプラ１１０と同様に、分波器としての機能と合波器としての機能とを併せ持っている。また、ＷＤＭカプラ１２９は、自身の備える共通ポート１２９ｃより入力される光を分波し、１５５０ｎｍを含む波長領域において高い透過性を有する第１の分波光を自身の備える第１の分岐ポート１２９ａより出力し、１３１０ｎｍを含む波長領域において高い透過性を有する第２の分波光を自身の備える第２の分岐ポート１２９ｂより出力する。

また、図３に示すように、本変形例において、共通ポート１２９ｃは、分岐カプラ１２６の第２の分岐ポート１２６ｂに接続されており、第１の分岐ポート１２９ａは、フィルタ１４０に接続されており、第２の分岐ポート１２９ｂは、伝送用光ファイバおよび光コネクタを介してＷＤＭカプラ１２４の第２の分岐ポート１２４ｂに接続されている。

本変形例において、波長１３１０ｎｍのパルス光を用いた光パルス試験を行う場合、光源１２８より出射され、分岐カプラ１２６を介して対象光ファイバに供給された波長１３１０ｎｍのパルス光の後方散乱光は、分岐カプラ１２６、ＷＤＭカプラ１２９、および、ＷＤＭカプラ１２４を介して、アバランシェ・フォトダイオード１２５に供給される。

フィルタ１４０は、伝送用光ファイバを介してＷＤＭカプラ１２９の第１の分岐ポート１２９ａより供給される光のうち、中心波長が１５５０ｎｍである光を選択的に透過させ、透過後の光をアバランシェ・フォトダイオード１４１に供給する。

アバランシェ・フォトダイオード１４１は、アバランシェ・フォトダイオード１２５と同様に、光電効果とアバランシェ増倍現象とを利用した高受光感度のフォトダイオードである。本変形例においては、アバランシェ・フォトダイオード１４１は、ＷＤＭカプラ１２９を介して分岐カプラ１２６より供給される波長１５５０ｎｍの光の強度を検出するために用いられる。

より具体的には、アバランシェ・フォトダイオード１４１は、波長１５５０ｎｍのパルス光を用いた光パルス試験において、光源１２８より出射され、分岐カプラ１２６を介して対象光ファイバに供給された波長１５５０ｎｍのパルス光の後方散乱光であって、分岐カプラ１２６、ＷＤＭカプラ１２９、および、フィルタ１４０を介して供給される後方散乱光を受光し、各時刻において、当該後方散乱光の強度に応じた電気信号（電流）を出力する。アバランシェ・フォトダイオード１４１から出力される各時刻での電気信号は、図示しないデータ取得部によってデジタル化され、制御部に伝達される。制御部は、各時刻での電気信号の大きさを解析することによって、対象光ファイバにおける断線や損失増加等の物理的障害の有無、および、それらの物理的障害が生じた場所などを検知することができる。

＜変形例２＞
以下では、本実施形態の第２の変形例に係る光線路試験装置１０および光線路試験システム１について、図４を参照して説明する。

本変形例に係る光線路試験システム１における光パルス試験器１２０は、波長１６５０ｎｍの光を用いた光パルス試験を行うための構成であり、例えば、図４に示すように、バンドパスフィルタ１２１、分岐カプラ１２２、光源１２３、ＷＤＭカプラ１２４、および、アバランシェ・フォトダイオード１２５を備える一方で、既に説明した分岐カプラ１２６、光源１２７、光源１２８、ＷＤＭカプラ１２９、フィルタ１４０、および、アバランシェ・フォトダイオード１４１の何れをも備えていない構成とすることができる。なお、本変形例における光パワー測定器１３０の構成はすでに説明した構成と同じである。

本変形例においては、光測定器１００に接続される対象光ファイバの本数が１本であるため、本変形例に係る光線路試験システム１は、測定器成端架選択装置を備えない構成とすることができ、図４に示すように、ファイバセレクタ２０によって選択された対象光ファイバが、測定器成端架選択装置を介さずに、ＷＤＭカプラ１１０の共通ポート１１０ｃに接続される構成とすることができる。

このように、本変形例に係る光線路試験装置１０および光線路試験システム１においては、測定器成端架選択装置が省略されている。このため、従来のように測定器成端架選択装置に生じる故障の影響を受けることがない。したがって、従来の構成に比べて、光線路試験装置１０および光線路試験システム１の信頼性が向上する。

本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態および変形例にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。

本発明は、アクセスネットワークを構成する光ファイバ等の光線路を試験するための光線路試験装置および光線路試験システムに好適に用いることができる。

１ 光線路試験システム
１０ 光線路試験装置
２０ ファイバセレクタ
１００ 光測定器
１１０ ＷＤＭカプラ（光カプラ）
１２０ 光パルス試験器
１２２ 分岐カプラ
１２３ 光源
１２５ アバランシェ・フォトダイオード（光検出器）
１３０ 光パワー測定器
１３１ ＷＤＭカプラ（分波カプラ）
１３３ フォトダイオード（第１光検出器）
１３５ フォトダイオード（第２光検出器）
２００ 測定器成端架選択装置

Claims (5)

1. 共通ポートが光線路群から選択された対象光線路に接続される光カプラと、
   上記光カプラの第１分岐ポートに接続された光パルス試験器であって、上記対象光線路に入力するパルス光を生成すると共に、上記対象光線路から取り出した、上記パルス光の後方散乱光の波形を検出する光パルス試験器と、
   上記光カプラの第２分岐ポートに接続された光パワー測定器であって、上記対象光線路から取り出した、上記パルス光とは異なる波長を有する上り信号光及び下り信号光のパワーを測定するための光パワー測定器と、を備えており、
   上記光パワー測定器は、共通ポートが上記光カプラの上記第２分岐ポートに接続された分波カプラと、該分波カプラの第１分岐ポートに接続された第１光検出器であって、上記上り信号光を電気信号に変換する第１光検出器と、該分波カプラの第２分岐ポートに接続された第２光検出器であって、上記上り信号光とは異なる波長を有する上記下り信号光を電気信号に変換する第２光検出器と、を含んでいる、
   ことを特徴とする光線路試験装置。
2. 上記光パルス試験器は、共通ポートが上記光カプラの上記第１分岐ポートに接続された分岐カプラと、該分岐カプラの第１分岐ポートに接続された光源であって、上記パルス光を生成する光源と、該分岐カプラの第２分岐ポートに接続された光検出器であって、上記パルス光の後方散乱光を電気信号に変換する光検出器と、を含んでいる、
   ことを特徴とする請求項１に記載の光線路試験装置。
3. 上記光パルス試験器は、共通ポートが上記光カプラの上記第１分岐ポートに接続された第１分岐カプラと、該第１分岐カプラの第１分岐ポートに接続された第１光源であって、第１の波長を有するパルス光を生成する第１光源と、共通ポートが光線路群から選択された対象光線路に接続される第２分岐カプラと、該第２分岐カプラの第１分岐ポートに接続された第２光源であって、上記第１の波長とは異なる第２の波長を有するパルス光を生成する第２光源と、第１分岐ポートが上記第１分岐カプラの第２分岐ポートに接続され、第２分岐ポートが上記第２分岐カプラの第２分岐ポートに接続された合波カプラと、上記合波カプラの共通ポートに接続された光検出器であって、上記第１の波長を有するパルス光の後方散乱光、及び、上記第２の波長を有するパルス光の後方散乱光を電気信号に変換する光検出器と、を含んでいる、
   ことを特徴とする請求項１に記載の光線路試験装置。
4. 上記光線路群に接続される複数の光線路側ポートと該複数の光線路側ポートの何れかに接続される試験装置側ポートとを有する測定器成端架選択装置を更に備え、
   上記光カプラの上記共通ポートと上記測定器成端架選択装置の上記試験装置側ポートとが接続されている、
   ことを特徴とする請求項１から３までの何れか１項に記載の光線路試験装置。
5. 請求項１から３までの何れか１項に記載の光線路試験装置と、上記光線路群に接続される複数の光線路側ポートと該複数の光線路側ポートの何れかに接続される試験装置側ポートとを有するファイバセレクタとを備えた光線路試験システムであって、
   上記ファイバセレクタの上記試験装置側ポートと上記光カプラの上記共通ポートとが測定器成端架選択装置を介さずに接続されている、
   ことを特徴とする光線路試験システム。

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