JP5437967B2 - リソグラフィ装置、デバイス製造方法、およびコンピュータプログラム - Google Patents
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Description
前記パターニングデバイスを受け取り、かつ前記パターンをパターニング位置に保持された基板に投影するためのパターニングサブシステムと、
前記パターンが与えられている間に基板を保持するための基板支持体と、
前記パターンが基板上の正確に分かっている位置に与えられるように、前記基板支持体、前記パターニングサブシステム、および前記パターニングデバイスを互いに移動させるための少なくとも1つの位置決めサブシステムと、
パターニング位置に対する前記基板の位置を測定し、かつ測定結果を前記位置決めサブシステムに供給するための測定サブシステムと
を備え、
前記測定サブシステムが、アライメントマークから投影された放射を受け取るための少なくとも1つのセンサであって、センサおよびアライメントマークが、一方はパターニングデバイスと関連付けられ、他方は基板支持体と関連付けられる少なくとも1つのセンサと、センサ(複数可)から信号を受け取って、投影されたアライメントマーク内の空間情報を分解するように処理し、それにより、前記基板支持体と前記パターニング位置の位置関係を測定するための基準を確立するためのプロセッサとを含み、センサおよびプロセッサが、基準位置を確立する際の少なくとも最終工程を、基板支持体とパターニングデバイスを互いに静止状態に保ちながら実施するように動作可能である
装置が提供される。
前記パターニングデバイスを受け取り、かつ前記パターンをパターニング位置に保持された前記基板の一部分に与えるためのパターニングサブシステムを用意する工程と、
基板を基板支持体上に保持する工程と、
パターニング位置に対する前記基板の位置を測定する工程と、
前記測定する工程の結果を用いて、前記パターンが基板の複数の所望の部分に与えられるような移動シーケンス内で前記基板支持体、前記パターニングサブシステム、および前記パターニングデバイスを互いに位置決めしながら、前記パターニングサブシステムを動作させる工程と、
与えられたパターンに従って製品フィーチャを形成するように、前記基板を処理する工程と
を含み、
前記測定する工程が、(i)アライメントマークから投影された放射を、センサを用いて受け取り、(ii)センサからの信号を、投影されたアライメントマーク内の空間情報を分解するように処理して、前記基板支持体と前記パターニング位置の位置関係を測定するための基準を少なくとも1次元で確立する予備工程を含み、センサおよび測定サブシステムが、前記基準位置を確立する際の少なくとも最終工程を、基板支持体とパターニングデバイスが互いに静止状態に保たれる間に実施するように構成される
方法が提供される。
− 放射ビームB(例えばUV放射またはEUV放射)を調整するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
− パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構築され、いくつかのパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続されたサポート構造(例えばマスクテーブル)MTと、
− 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構築され、いくつかのパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
− パターニングデバイスMAにより放射ビームBに付与されたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つまたは複数のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSと
を含む。
1. ステップモードでは、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTが、実質的に静止状態に保たれ、放射ビームに与えられた全パターンが、一度でターゲット部分C上に投影される(すなわち単一静的露光)。次いで、基板テーブルWTは、別のターゲット部分Cを露光することが可能となるようにX方向および/またはY方向にシフトされる。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズが、単一静的露光においてイメージングされるターゲット部分Cのサイズを限定する。
2. スキャンモードでは、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTが、同期してスキャンされ、放射ビームに与えられたパターンが、ターゲット部分C上に投影される(すなわち単一動的露光)。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPSの拡大率(縮小率)および像反転特性により決定することができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズが、単一動的露光におけるターゲット部分の(非スキャン方向の)幅を限定し、スキャン移動の長さが、ターゲット部分の(スキャン方向の)高さを決定する。
3. 別のモードでは、マスクテーブルMTが、プログラマブルパターニングデバイスを保持しつつ実質的に静止状態に保たれ、基板テーブルWTが、移動されまたはスキャンされると共に、放射ビームに与えられたパターンが、ターゲット部分C上に投影される。このモードでは、一般的にはパルス放射源が使用され、プログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWTの各移動の後で、またはスキャン中の連続放射パルスの間に、必要に応じて更新される。この作動モードは、上述のタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に応用することが可能である。
[0064] 図5は、パターニングデバイス(レチクル)MAを示し、パターニングデバイス(レチクル)MAは、例を目的として、デバイスパターン領域502の外側の、その4つのコーナ内に配置されたマスクアライメントマークM1〜M4を有する。マークM2の拡大図(それでもまだ非常に概略的である)が、500と符号付けされている。このマークは、一部がX方向に延び、一部がY方向に延びる、いくつかの輝線フィーチャを含む。これらは、Y軸と位置合わせされた線MIXがX位置情報をもたらすことを反映させるように、それぞれMIYおよびMIXと符号付けされている。ただ1本の線しか示されていないが、以下にさらに説明するように、線および/または格子を含めて、マークの様々な形態を企図することができる。
[0066] 図7は、第1の実施形態でのこの新規な装置の動作原理を示す。X/Y方向について、センサ700が設けられており、センサ700は、単一のフォトディテクタではなく、フォトディテクタ素子702のアレイを有する。フォトディテクタ素子702は、ラインアレイタイプまたは正方形アレイタイプの既知のカメラセンサと同じように、基板704上に集積することができる。色感度などの問題は、典型的な実施形態では優先事項である必要はないが、熱の発生(電力消費)などの問題は、民生用カメラデバイスでよりもこちらの用途での方が重大となる可能性がある。このフォトダイオードは、照明および投影システムで使用される放射の波長を感知することができる。ディテクタ素子702のアレイからの個々の強度読取値を信号プロセッサ708に送出するために、基板704上に読出し回路706も集積することができる。プロセッサ708は、必要に応じて、テーブル上の処理回路506とコンピュータ600をどちらも図式上組み込む。この第1の実施形態では、プロセッサ708が、X/Y誤差であるEX/EYの読取値を現在のZ位置の関数として出力する。Z分解能をどのように静止センサに組み込むことができるか、またそうした技法をどのように本実施形態に適用することができるかについては、後の実施形態に関連して説明する。あるいは、センサがX/Y方向にだけ静止したままである間に、Z方向のスキャン移動を従来技術と同じように実施することもできる。
[0071] 図8は、空間像AIMを周期的な格子ではなく離散輝線802の形で形成するマークに基づく、新規なセンサの第2の実施形態の形態および機能原理を示す。輝線は、この例では、X位置情報を得るためにY方向に平行に延びて示されている。図7と同様に、新規なセンサ800が静止ブロック(典型的には半導体基板)を備え、その上に個々のフォトディテクタ素子804のラインアレイが配置または形成されている。現在のZ値についてのEX/EY測定を達成するために、読出し回路806および処理回路808が設けられている。ディテクタ素子804のアレイが、X方向に直角に配列されているのではなく、輝線(Y)軸に対して浅い角度αで一直線に並べられていることが分かる。したがって、素子804のラインは、X方向にある一定の範囲にわたって非常に密な間隔で効果的に分配されていると同時に、輝線802の場合には位置情報を含まないY方向に沿って、比較的より広い範囲内で分配されている。このようにして、X方向の非常に微細なサンプリングのピッチを、より大型の、より実際的な、かつそれほど雑音を伴わないディテクタ素子804を用いて得ることができる。
[0079] これまでに説明した例は、Xおよび/またはY方向に関する位置の測定に対処していたが、ここで、単一の静止センサを、機械的スキャンを用いずに、投影された空間像AIMの垂直(Z)位置合せの測定に使用することを可能にする、いくつかの改変版について説明する。これらの改変版は、第2の実施形態の文脈で説明するが、第1の実施形態および(以下に説明する)第3の実施形態にも同様に適合させ、適用することができる。
[0091] 図16は、センサ1000が、比較的まばらに配置されたディテクタ素子1004を含む、第3のタイプの実施形態を示す。これまでの実施形態と同様に、読出し回路1006およびプロセッサ1008が設けられている。各ディテクタ素子は、十分な量の光を収集するためのラインを備えることができる。各素子は、開口の背後にあってよく、またはディテクタ自体の性質が、適切なサイズおよび形状の事実上の開口を画定してもよい。X/Y方向にしか見ていないが、素子1004が比較的まばらに配置されていることが分かる。(ページ内に)直交する方向では、素子1004は、連続したラインでも、離散したディテクタ素子1004のラインでもよい。図示の単純な例では、Z情報が直接得られるのではなく、異なるディテクタに対して異なるZ経路長を与える原理を、それが図11〜15の実施形態において適用されるのと同様に、本実施形態においても適用することができる。この目的のために、素子1004を直交方向で細分することができる。
[0093] 既に述べたように、上述した実施形態の様々な特徴は、独立にまたは組み合わせた形でXおよびY方向に適用することができる。図17は、X方向情報用のセンサ1102およびY方向位置情報用のセンサ1104を形成する光検出素子の2つの精密アレイを含んだ、センサブロック1100を示す。これらのセンサはそれぞれ、図13の例に似た形態で示されているが、図8〜図16からの実施形態のいずれかに示す形態のセンサでもよい。読出し回路1106、1108が、信号をプロセッサ1110および1112に供給する。各センサ1102、1104は、Z方向分解能力も有しており、プロセッサ1110と1112が一緒に、Z位置情報(EZ)をもたらす。読出し回路1106、1108および/またはプロセッサ1110および1112は、XおよびY方向に別々に設ける必要はなく、必要に応じて組み合わせることもできる。
Claims (11)
- パターニングデバイスから基板上にパターンを転写するリソグラフィ装置であって、
前記パターニングデバイスを受け取り、かつ前記パターンをパターニング位置に保持された基板に与えるパターニングサブシステムと、
前記パターンが与えられている間に前記基板を保持するための基板支持体と、
前記パターンが前記基板上の正確に分かっている位置に与えられるように、前記基板支持体、前記パターニングサブシステム、および前記パターニングデバイスを互いに移動させる少なくとも1つの位置決めサブシステムと、
前記パターニング位置に対する前記基板の位置を測定し、かつ測定結果を前記位置決め
サブシステムに供給する測定サブシステムと、を備え、
前記測定サブシステムは、
アライメントマークから投影された放射を受け取る少なくとも1つのセンサであって、該アライメントマークが前記パターニングデバイスと関連付けられ、該センサが前記基板支持体と関連付けられる、少なくとも1つのセンサと、
前記センサからの信号を受け取り且つ処理して、前記投影されたアライメントマーク内の空間情報を分解し、前記基板支持体と前記パターニング位置の位置関係を測定するための基準を確立するプロセッサと、を含み、
前記センサは、前記センサおよび前記プロセッサが前記基準位置を確立する際の少なくとも最終工程を前記基板支持体とパターニングデバイスを互いに静止状態に保ちながら実施するように動作可能であるように、少なくとも1次元で分離されたフォトディテクタ素子のアレイを備え、
前記センサが、ラインの形で配列されたフォトディテクタ素子の少なくとも1つのアレイを備え、
前記ラインが、前記投影されたアライメントマーク内の線の方向に対してある角度で方向付けられ、
前記プロセッサが、前記アレイの信号から、前記投影されたアライメントマーク内の前記線に垂直な次元での基準位置を計算する、装置。 - 異なる次元それぞれの基準位置を測定するために、複数のセンサが設けられる、請求項1に記載の装置。
- 前記センサが、複数のフォトディテクタ素子を備え、
前記プロセッサが、異なる素子を、前記アライメントマークからそれぞれに異なる光路長に従って区別し、それにより、投影システムの光軸に平行な次元(Z)での基準位置を計算する、請求項1または2に記載の装置。 - 前記センサが、フォトディテクタ素子間に光路長差を与えるように、構築および/または取り付けられる、請求項3に記載の装置。
- フォトディテクタ素子間の光路長差が、前記素子の前に配置される材料の厚さおよび屈折率の一方または両方を変更することによって与えられる、請求項4に記載の装置。
- 基板平面に平行な直交する2方向それぞれの基準位置を測定するために、少なくとも2つのグループのフォトディテクタ素子が設けられ、
前記グループの一方または両方がさらに、投影システムの光軸に平行な第3の次元で測定を行う、請求項3乃至5のいずれか一項に記載の装置。 - 前記センサが、前記基板支持体が静止状態に保たれる間に3つの次元での基準位置を同時に測定するように動作可能である、請求項1乃至6のいずれか一項に記載の装置。
- パターニングデバイスから基板上にパターンを転写することを含むデバイス製造方法であって、
前記パターニングデバイスを受け取り、かつ前記パターンをパターニング位置に保持された前記基板の一部分に与えるパターニングサブシステムを用意する工程と、
前記基板を基板支持体上に保持する工程と、
前記パターニング位置に対する前記基板の位置を測定する工程と、
前記測定する工程の結果を用いて、前記パターンが前記基板の所望の部分に与えられるように、前記基板支持体、前記パターニングサブシステムおよび前記パターニングデバイスを移動シーケンスにおいて互いに位置決めしながら、前記パターニングサブシステムを動作させる工程と、
前記与えられたパターンに従って製品フィーチャを形成するように、前記基板を処理する工程とを含み、
前記測定する工程が、(i)前記パターニングデバイスと関連付けられたアライメントマークから投影された放射を、少なくとも1次元で分離された光検出素子のアレイを備える、前記基板支持体と関連付けられたセンサを用いて受け取り、(ii)前記センサからの信号を、前記投影されたアライメントマーク内の空間情報を分解するように処理して、前記基板支持体と前記パターニング位置の位置関係を測定するための基準を少なくとも前記1次元で確立する予備工程を含み、それにより、前記センサおよびプロセッサが、前記基準位置を確立する際の少なくとも最終工程を、前記基板支持体とパターニングデバイスが互いに静止状態に保たれる間に実施し、
前記センサが、ラインの形で配列されたフォトディテクタ素子の少なくとも1つのアレイを備え、
前記ラインが、前記投影されたアライメントマーク内の線の方向に対してある角度で方向付けられ、
前記プロセッサが、前記アレイの信号から、前記投影されたアライメントマーク内の前記線に垂直な次元での基準位置を計算する、方法。 - 基板平面に平行な直交する2方向それぞれの基準位置を測定するために、少なくとも2つのセンサが設けられ、
前記センサの一方または両方がさらに、投影システムの光軸に平行な第3の次元で測定を行う、請求項8に記載の方法。 - 前記パターニングデバイス上のアライメントマークが対応していれば、前記センサが、前記予備工程内で、基板テーブルと前記パターニングデバイスが互いに静止状態に保たれる間に3つの次元での基準位置を同時に測定するように動作可能である、請求項9に記載の方法。
- リソグラフィ装置を制御するための機械読取可能命令の1つまたは複数のシーケンスを含む、コンピュータプログラムであって、前記命令が、前記装置の1つまたは複数のプログラマブルプロセッサに、前記センサからの信号を、前記投影されたアライメントマーク内の空間情報を分解するように処理させて、前記基板支持体と前記パターニング位置の位置関係を測定するための基準を少なくとも1次元で確立させるように、請求項8から10のいずれか一項に記載の方法の前記測定工程および位置決め工程を制御するように適合され、前記基準位置を確立する際の少なくとも最終工程が、前記基板支持体が静止状態に保たれる間に実施される、コンピュータプログラム。
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