JP5434433B2 - Optical substrate and manufacturing method thereof - Google Patents

Optical substrate and manufacturing method thereof Download PDF

Info

Publication number
JP5434433B2
JP5434433B2 JP2009221880A JP2009221880A JP5434433B2 JP 5434433 B2 JP5434433 B2 JP 5434433B2 JP 2009221880 A JP2009221880 A JP 2009221880A JP 2009221880 A JP2009221880 A JP 2009221880A JP 5434433 B2 JP5434433 B2 JP 5434433B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
light emitting
optical
receiving element
optical waveguide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2009221880A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2011070045A (en
Inventor
晴紀 奥田
晃一 熊井
隆之 深田
優子 永戸
健人 塚本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Inc filed Critical Toppan Inc
Priority to JP2009221880A priority Critical patent/JP5434433B2/en
Publication of JP2011070045A publication Critical patent/JP2011070045A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5434433B2 publication Critical patent/JP5434433B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、電気配線および光配線を有する光基板およびその製造方法に関する。 The present invention relates to an optical substrate having electrical wiring and optical wiring, and a method for manufacturing the same.

近年の高度情報化の進展に伴い、情報通信に用いられるルータやサーバ等の情報処理装置の高性能化はめざましく進んでおり、これら機器においては、通信信号の更なる高速化が求められている。この高速化においては、電子回路や電気回路における電気配線の通信品質が性能向上の障害となるために、通信速度を高速化する上でこの障害が無視できなくなってきている。
そのため、処理信号の高速化や電気ノイズの低減を始めとして、高速通信の障害となる課題解決に向けた有望な技術として、光信号を利用することで高速の伝送速度で情報を送受信できる光配線を用いた技術が注目を集めている。特に、光配線を用いた大容量光インターコネクションを実現するために、光配線の高密度化や低損失接続が重要であり、高性能化とコスト低減に向けて様々な技術検討が行われている。
With the advancement of advanced information technology in recent years, the performance improvement of information processing devices such as routers and servers used for information communication has progressed remarkably, and further speeding up of communication signals is required in these devices. . In this speeding up, the communication quality of the electrical wiring in the electronic circuit or the electric circuit becomes an obstacle to improving the performance, so that this obstacle cannot be ignored in increasing the communication speed.
Therefore, optical wiring that can transmit and receive information at high transmission speeds using optical signals is a promising technology for solving problems that hinder high-speed communication, including faster processing signals and reduced electrical noise. The technology using is attracting attention. In particular, in order to realize high-capacity optical interconnection using optical wiring, high-density optical wiring and low-loss connection are important, and various technical studies have been conducted for higher performance and cost reduction. Yes.

光信号は、発光素子や光配線から出力されると拡散される。このため、光信号の接続部品はできるだけ近い間隔で接続する必要がある。また、光接続はその接続位置がずれると光信号が漏洩損失するため、正確に位置をあわせて接続する必要がある。また、光信号を伝播する光導波路は基板平面内に水平方向に設けられるため、受発光素子の受発光面に光信号を入出力するためには、光信号路を概略90°変換する必要がある。   The optical signal is diffused when output from the light emitting element or the optical wiring. For this reason, it is necessary to connect the optical signal connection components at intervals as close as possible. Further, since the optical signal leaks and loses when the connection position of the optical connection is shifted, it is necessary to accurately connect the positions. In addition, since the optical waveguide for propagating the optical signal is provided in the horizontal direction in the substrate plane, it is necessary to convert the optical signal path by approximately 90 ° in order to input / output the optical signal to / from the light emitting / receiving surface of the light emitting / receiving element. is there.

光配線を電子基板上へ組み込む方法としては、光配線、光を電気に変換する素子、素子のコントロールユニット等をひとまとめにした光電気モジュールを、基板上へ搭載する方法がある。こうした光基板の製造方法について、現在様々な方法が提案されている。
光電気モジュールとして、例えば特許文献1に記載された光回路部品では、端面に光を略90°偏向するミラーを設けた光配線を有する電子基板に、受発光素子を実装したサブマウント基板をセルフアライメント実装する方法が開示されている。しかし、特許文献1の方法では、受発光素子をサブマウント基板に実装する工程、受発光素子と光配線を光学的に接続するための樹脂層を配設する開口部を形成する工程等を、全て高精度で行うことは困難であり、製造歩留まりが低下し、低コスト化も困難である。
As a method of incorporating optical wiring onto an electronic substrate, there is a method of mounting on a substrate a photoelectric module in which optical wiring, an element that converts light into electricity, a control unit of the element, and the like are collected together. Various methods for manufacturing such an optical substrate have been proposed.
As an optoelectric module, for example, in an optical circuit component described in Patent Document 1, a submount substrate on which a light emitting / receiving element is mounted is mounted on an electronic substrate having an optical wiring provided with a mirror that deflects light at an end face by approximately 90 °. A method for alignment mounting is disclosed. However, in the method of Patent Document 1, a step of mounting the light emitting / receiving element on the submount substrate, a step of forming an opening for disposing a resin layer for optically connecting the light emitting / receiving element and the optical wiring, etc. All of them are difficult to carry out with high accuracy, the manufacturing yield is lowered, and the cost reduction is also difficult.

また、例えば特許文献2に記載された光モジュールでは、基板上にVCSEL実装用パッド、LSI実装用パッド及び光導波路が形成され、VCSELと光導波路との間にスペーサが配置され、光導波路上面を基準面としてVCSELの発光面を下にして実装する構成が開示されているが、この場合において、受発光素子及びLSIを含む基板全面を、汎用性があり且つ高い信頼性を有するトランスファーモールド法によって一括封止することはできない。これはモールド面に光導波路があるためであり、一般的な光導波路用材料はトランスファーモールド処理時に生じる熱に耐えられない場合が多いことが挙げられる。   For example, in the optical module described in Patent Document 2, a VCSEL mounting pad, an LSI mounting pad, and an optical waveguide are formed on a substrate, a spacer is disposed between the VCSEL and the optical waveguide, and the upper surface of the optical waveguide is Although a configuration in which a VCSEL light emitting surface is mounted as a reference surface is disclosed, in this case, the entire surface of the substrate including the light emitting and receiving elements and the LSI is transferred by a versatile and highly reliable transfer mold method. Batch sealing is not possible. This is because there is an optical waveguide on the mold surface, and it can be mentioned that general optical waveguide materials often cannot withstand the heat generated during the transfer molding process.

光導波路をトランスファーモールド処理できないことの他の理由として、一般的にトランスファーモールド用樹脂は金属フィラーが含まれる黒色のエポキシ系熱硬化性樹脂であるため、これにより光信号が散乱してしまうこと、光導波路を基板に接続する場合、モールド時に基板とモールド用の金型との間に凹凸があると間隙から樹脂が漏れてしまうなどの問題が挙げられる。   As another reason that the optical waveguide cannot be transfer-molded, the transfer molding resin is generally a black epoxy-based thermosetting resin containing a metal filler, so that the optical signal is scattered. When connecting an optical waveguide to a substrate, there are problems such as resin leaking from the gap if there are irregularities between the substrate and the mold for molding.

特開昭63−266407号公報JP-A 63-266407 特開2003−215371号公報JP 2003-215371 A

本発明は、このような従来の問題点に鑑みてなされたもので、光導波路と受発光素子、そして受発光素子制御素子を高精度且つ低コストで接続できる光基板とその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such conventional problems, and provides an optical substrate capable of connecting an optical waveguide, a light emitting / receiving element, and a light emitting / receiving element control element with high accuracy and low cost, and a method for manufacturing the same. For the purpose.

本発明による光基板は、表裏に電気配線がパターニングされた絶縁樹脂層からなる基板と、基板の表裏の電気配線を接続するビアホールと、基板に設けられた受発光素子と、電気配線に実装された受発光素子制御素子と、基板に設置されていて端面に光路変換ミラーを備えた光導波路とを有する光基板であって、受発光素子と光導波路とは段差を以て基板に配設されていて光路変換ミラーを介して光学的に接続されるように接合され、受発光素子の電気配線との接続部と光導波路の光路変換ミラーとが第一の封止樹脂によって封止されていると共に、受発光素子制御素子の電気配線との接続部が第二の封止樹脂によって封止されており、第一の封止樹脂は第二の封止樹脂より溶融温度が低く、前記光路変換ミラーの光入出力部の裏面に金属膜が設けられていることを特徴とする。
本発明によれば、受発光素子と光導波路は基板に段差を以て配設されているから、受発光素子に対して光導波路を光学的に接続する際、光導波路を基板の相対的な段差を有する部分の一方の面に設置することで段差の他方の面に設置された受発光素子の受発光面に光入出力部を光学的に対向させて精度良く接続を行え、設置が簡単でハンドリング性が高い。しかも、受発光素子と受発光素子制御素子とはそれぞれ第一の封止樹脂と第二の封止樹脂とで別個に封止されているから、受発光素子制御素子とその電気配線との接続部を例えば比較的高温で溶融するトランスファーモールド樹脂等の第二の封止樹脂で封止し、受発光素子と光導波路の光路変換ミラーとを例えば比較的低温で溶融する光透過性の透明樹脂等の第一の封止樹脂で封止することで、光導波路を装着した光基板においても樹脂封止が可能である。
An optical substrate according to the present invention is mounted on a substrate made of an insulating resin layer having electrical wiring patterned on the front and back, via holes connecting the electrical wiring on the front and back of the substrate, light emitting and receiving elements provided on the substrate, and electrical wiring. An optical substrate having a light emitting / receiving element control element and an optical waveguide provided on the substrate and provided with an optical path conversion mirror on the end surface, wherein the light emitting / receiving element and the optical waveguide are arranged on the substrate with a step. It is joined so as to be optically connected via the optical path conversion mirror, and the connection portion with the electrical wiring of the light emitting / receiving element and the optical path conversion mirror of the optical waveguide are sealed with the first sealing resin, connection of an electrical wiring of the optical element control element is sealed by a second sealing resin, the first sealing resin rather than a melting temperature lower second sealing resin, the optical path conversion mirror Metal film on the back of the light input / output unit And it is provided.
According to the present invention, since the light emitting / receiving element and the optical waveguide are provided with a step on the substrate, when the optical waveguide is optically connected to the light receiving / emitting element, the relative step of the optical waveguide is set on the substrate. By installing it on one side of the part that has it, the light input / output part can be optically opposed to the light emitting / receiving surface of the light emitting / receiving element installed on the other side of the step, making it easy to install and handling High nature. In addition, since the light emitting / receiving element and the light emitting / receiving element control element are separately sealed by the first sealing resin and the second sealing resin, respectively, the connection between the light emitting / receiving element control element and the electrical wiring thereof is performed. For example, a light-transmitting transparent resin that melts the light emitting / receiving element and the optical path conversion mirror of the optical waveguide at a relatively low temperature, for example, is sealed with a second sealing resin such as a transfer mold resin that melts at a relatively high temperature. By sealing with a first sealing resin such as the above, resin sealing is possible even in an optical substrate on which an optical waveguide is mounted.

しかも、光路変換ミラーの光入出力部の裏面に金属膜が設けられているため、光路変換ミラーに入射する光を確実に所要方向に反射できると共に、第一の封止樹脂は直接光導波路に接触することなく光路変換ミラーによって間接的に光導波路を受発光素子と一体に封止保護できる。そして、光路変換ミラーに金属膜を形成することで光路変換ミラー部分の環境変化に対する信頼性を向上できる。 Moreover , since a metal film is provided on the back surface of the light input / output part of the optical path conversion mirror, the light incident on the optical path conversion mirror can be reliably reflected in the required direction, and the first sealing resin can be directly applied to the optical waveguide. by the optical path conversion mirror without contacting Ru can indirectly seal protects the optical waveguide together with the optical element. And the reliability with respect to the environmental change of an optical path conversion mirror part can be improved by forming a metal film in an optical path conversion mirror.

また、基板に凸部を設けると共に凸部に光導波路が設置され、基板に設けられた受発光素子と光導波路とが接合されていてもよい。
基板に設けた受発光素子の高さと同等な高さを有する凸部を段差として形成することで、凸部に光導波路を設置すると、光導波路の光入出力部を基板に設置した受発光素子の受発光面に簡単且つ容易に結合できる。
In addition, a convex portion may be provided on the substrate and an optical waveguide may be provided on the convex portion, and the light emitting / receiving element provided on the substrate and the optical waveguide may be joined.
By forming a convex portion having a height equivalent to the height of the light emitting / receiving element provided on the substrate as a step, when the optical waveguide is installed on the convex portion, the light emitting / receiving element having the light input / output portion of the optical waveguide installed on the substrate It can be easily and easily coupled to the light emitting / receiving surface.

また、凸部が基板の表裏に設けられた電気配線と同じ材質であってもよい。
この場合、基板の表裏に設けた金属製の基材層に対して電気配線をパターニングする際、凸部が電気配線と同じ材質であることから、公知のフォトリソグラフィを中心としたパターニングとエッチングにより容易に形成することができ、光導波路の設置部分を平坦化することができて光導波路の実装精度及び実装の信頼性が向上する。
或いは、凸部がスペーサであってもよく、例えば所定の厚みを有する樹脂製や金属製等のスペーサを予め製作して基板に設置することで、凸部に設置する光導波路と受発光素子との間に必要な段差を形成できる。
Moreover, the same material as the electrical wiring provided in the front and back of the board | substrate may be sufficient as a convex part.
In this case, when patterning the electrical wiring on the metal base layer provided on the front and back of the substrate, the convex portion is made of the same material as the electrical wiring. The optical waveguide can be easily formed, the installation portion of the optical waveguide can be flattened, and the mounting accuracy and mounting reliability of the optical waveguide are improved.
Alternatively, the convex portion may be a spacer, for example, a resin-made or metal-made spacer having a predetermined thickness is prepared in advance and placed on the substrate, so that the optical waveguide and the light emitting / receiving element installed on the convex portion A necessary step can be formed between the two.

また、基板に溝部が形成され、該溝部に受発光素子が設置され、基板に設置された光導波路の光入出力部と受発光素子とが接合されていてもよい。
溝部の深さを受発光素子の高さに対応する長さに設定することで、基板に設置した光導波路の光入出力部と受発光素子の受発光面とを光学的に接続できる。
Further, a groove portion may be formed in the substrate, a light emitting / receiving element may be installed in the groove portion, and the light input / output portion of the optical waveguide installed in the substrate may be bonded to the light emitting / receiving element.
By setting the depth of the groove to a length corresponding to the height of the light receiving / emitting element, the light input / output part of the optical waveguide installed on the substrate and the light receiving / emitting surface of the light receiving / emitting element can be optically connected.

本発明による光基板の製造方法では、絶縁樹脂の表裏にパターニングされてなる基板の電気配線をビアホールによって接続し、電気配線に接続させた受発光素子と電気配線に実装された受発光素子制御素子とを基板に設け、受発光素子制御素子と電気配線との接続部を第二の封止樹脂によって封止してなる光基板の製造方法において、端面に光路変換ミラーを備えた光導波路を、その光入出力部が受発光素子の受発光面と接続するように受発光面に対して段差を設けて基板に設置する工程と、受発光素子と電気配線との接続部を光導波路の端面に設けた、光入出力部の裏面に金属膜を形成した光路変換ミラーと共に第二の封止樹脂より溶融温度の低い第一の封止樹脂により封止する工程とを備えたことを特徴とする。
本発明によれば、受発光素子に対して光導波路を光学的に接続する際、光導波路を受発光素子と段差を以て基板に配設することで、光導波路を基板の相対的な段差部分の一方の面に設置すると段差の他方の面に設置された受発光素子の受発光面に光入出力部を光学的に対向させて接合を行える。そして、受発光素子と受発光素子制御素子とはそれぞれ第一の封止樹脂と第二の封止樹脂とで別個に封止され、その際、受発光素子制御素子と電気配線との接続部を例えば比較的高温で溶融するトランスファーモールド樹脂等の第二の封止樹脂で封止すると共に、受発光素子と電気配線との接続部と光導波路の光路変換ミラーとを例えば比較的低温で溶融する光透過性の透明樹脂等の第一の封止樹脂で封止することで、光導波路を装着した光基板においても樹脂封止が可能である。しかも、光導波路は光路変換ミラーによって第一の封止樹脂によって直接封止されないか、或いは封止されても端面が樹脂封止されないから液状に溶融した状態の樹脂の熱で損傷することはない。
そして、光路変換ミラーに入射する光を確実に所要方向に反射できると共に、第一の封止樹脂は直接光導波路に接触することなく光路変換ミラーによって間接的に光導波路を受発光素子と一体に封止保護できる。しかも、光路変換ミラーの裏面に金属膜を形成することで光路変換ミラー部分の環境変化に対する信頼性を向上できる。
なお、本発明では、受発光素子制御素子と電気配線との接続部を第二の封止樹脂により封止する工程を、光導波路の光入出力部が受発光素子の受発光面と光学的に接続される工程よりも先に処理してもよいし、後に処理してもよい。しかも、受発光素子と光導波路の光路変換ミラーとを比較的低温で溶融する第一の封止樹脂で封止することで、光導波路が熱で損傷することを防止して樹脂封止が可能である。
In the method of manufacturing an optical substrate according to the present invention, electrical wiring of a substrate patterned on the front and back sides of an insulating resin is connected by a via hole, and a light emitting / receiving element control element mounted on the electrical wiring is connected to the electrical wiring. In the method of manufacturing an optical substrate in which the connection portion between the light emitting / receiving element control element and the electrical wiring is sealed with a second sealing resin, an optical waveguide having an optical path conversion mirror on the end surface, A step of providing a step with respect to the light receiving / emitting surface so that the light input / output unit is connected to the light receiving / emitting surface of the light emitting / receiving element, and a connection portion between the light receiving / emitting element and the electric wiring at the end face of the optical waveguide And a step of sealing with a first sealing resin having a melting temperature lower than that of the second sealing resin together with an optical path conversion mirror having a metal film formed on the back surface of the light input / output unit. To do.
According to the present invention, when the optical waveguide is optically connected to the light emitting / receiving element, the optical waveguide is disposed on the substrate with a step difference from the light emitting / receiving element, so that the optical waveguide is disposed at a relative step portion of the substrate. When installed on one surface, the light input / output unit can be optically opposed to the light emitting / receiving surface of the light emitting / receiving element installed on the other surface of the step to perform bonding. The light emitting / receiving element and the light emitting / receiving element control element are separately sealed with the first sealing resin and the second sealing resin, respectively, and at that time, a connection portion between the light emitting / receiving element control element and the electric wiring Is sealed with a second sealing resin such as transfer mold resin that melts at a relatively high temperature, and the connection portion between the light emitting / receiving element and the electrical wiring and the optical path conversion mirror of the optical waveguide are melted at a relatively low temperature, for example. By sealing with a first sealing resin such as a light-transmitting transparent resin, the resin can be sealed even in an optical substrate on which an optical waveguide is mounted. In addition, the optical waveguide is not directly sealed by the first sealing resin by the optical path conversion mirror, or even if sealed, the end face is not sealed by the resin, so that it is not damaged by the heat of the resin in a molten state. .
The light incident on the optical path conversion mirror can be reliably reflected in the required direction, and the first sealing resin can be indirectly integrated with the light emitting / receiving element by the optical path conversion mirror without directly contacting the optical waveguide. Sealing protection is possible. In addition, by forming a metal film on the back surface of the optical path conversion mirror, the reliability of the optical path conversion mirror portion with respect to environmental changes can be improved.
In the present invention, the step of sealing the connection portion between the light emitting / receiving element control element and the electric wiring with the second sealing resin is performed in such a manner that the light input / output portion of the optical waveguide is optically coupled to the light emitting / receiving surface of the light emitting / receiving element. You may process before the process connected to this, and may process after. In addition, by sealing the light emitting / receiving element and the optical path conversion mirror of the optical waveguide with a first sealing resin that melts at a relatively low temperature, it is possible to prevent the optical waveguide from being damaged by heat and perform resin sealing. It is.

また、基板にスペーサまたは電気配線と同じ材質の基材からなる凸部を設けて、凸部に光導波路を設置することで、受発光素子の受発光面と光導波路の光入出力部を一致させて光学的に接続するようにしてもよい。
基板にスペーサまたは電気配線と同一材質の基材を凸部として設けることで、凸部に設けた光導波路と基板に設けた受発光素子との間に段差を形成できるから、光入出力部と受発光面とを容易に接続できる。
Also, by providing a convex part made of the same material as the spacer or electrical wiring on the substrate and installing an optical waveguide on the convex part, the light receiving / emitting surface of the light emitting / receiving element and the optical input / output part of the optical waveguide are matched You may make it connect optically.
By providing a base material of the same material as the spacer or electrical wiring on the substrate as a convex portion, a step can be formed between the optical waveguide provided on the convex portion and the light emitting and receiving element provided on the substrate. The light emitting / receiving surface can be easily connected.

また、基板に溝部を形成して受発光素子を設置し、基板に光導波路を設置して、受発光素子の受発光面と光導波路の光入出力部を一致させて光学的に接続するようにしてもよい。
受発光素子を基板の溝部に設けることで、基板に設けた光導波路の光入出力部を受発光素子の受発光面と一致させて光学的に接続できる。
Also, a groove portion is formed in the substrate, the light emitting / receiving element is installed, an optical waveguide is installed in the substrate, and the light receiving / emitting surface of the light receiving / emitting element and the light input / output portion of the optical waveguide are aligned to be optically connected. It may be.
By providing the light emitting / receiving element in the groove portion of the substrate, the light input / output portion of the optical waveguide provided on the substrate can be optically connected with the light receiving / emitting surface of the light receiving / emitting element.

本発明による光基板及びその製造方法によれば、基板に設置する受発光素子と光導波路とに段差を設けることで、光導波路を受発光素子に光学的に接続できるため、簡単且つ精密に光導波路を光学的に設置できてハンドリング性が向上する。しかも、受発光素子及び光導波路と受発光素子制御素子とをそれぞれ第一封止樹脂と第二封止樹脂とで別個に封止することができると共に、光導波路は光路変換ミラーを介して第二封止樹脂より低温溶融する第一封止樹脂によって受発光素子の電気配線と共に封止できて、光導波路が熱で損傷することを防止できる。
しかも、光路変換ミラーに入射する光を確実に所要方向に反射できると共に、第一の封止樹脂は直接光導波路に接触することなく光路変換ミラーによって間接的に光導波路を受発光素子と一体に封止保護できる。そして、光路変換ミラーに金属膜を形成することで光路変換ミラー部分の環境変化に対する信頼性を向上できる。
According to the optical substrate and the method for manufacturing the same according to the present invention, the optical waveguide can be optically connected to the light emitting / receiving element by providing a step between the light emitting / receiving element and the optical waveguide installed on the substrate. Waveguides can be optically installed to improve handling. In addition, the light emitting / receiving element, the optical waveguide, and the light receiving / emitting element control element can be separately sealed with the first sealing resin and the second sealing resin, respectively, and the optical waveguide is passed through the optical path conversion mirror. The first sealing resin that melts at a lower temperature than the two sealing resins can be sealed together with the electrical wiring of the light emitting / receiving element, and the optical waveguide can be prevented from being damaged by heat.
In addition, the light incident on the optical path conversion mirror can be reliably reflected in the required direction, and the first sealing resin can be indirectly integrated with the light receiving and emitting element by the optical path conversion mirror without directly contacting the optical waveguide. Sealing protection is possible. And the reliability with respect to the environmental change of an optical path conversion mirror part can be improved by forming a metal film in an optical path conversion mirror.

本発明の第一実施形態による光基板の断面構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the cross-sectional structure of the optical board | substrate by 1st embodiment of this invention. 図1に示す光基板における光導波路と受発光素子との接合部分の拡大図である。It is an enlarged view of the junction part of the optical waveguide and light emitting / receiving element in the optical substrate shown in FIG. (a)〜(e)は第一実施形態による光基板の製造方法を示す説明図である。(A)-(e) is explanatory drawing which shows the manufacturing method of the optical board | substrate by 1st embodiment. (f)〜(h)は図3に続く光基板の製造方法を示す説明図である。(F)-(h) is explanatory drawing which shows the manufacturing method of the optical board following FIG. (i)〜(k)は図4に続く光基板の製造方法を示す説明図である。(I)-(k) is explanatory drawing which shows the manufacturing method of the optical board following FIG. 本発明の第二実施形態による光基板の断面構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the cross-sectional structure of the optical board | substrate by 2nd embodiment of this invention. (m)〜(p)は第二実施形態による光基板の製造方法を示す説明図である。(M)-(p) is explanatory drawing which shows the manufacturing method of the optical board | substrate by 2nd embodiment. (q)〜(t)は図7に続く光基板の製造方法を示す説明図である。(Q)-(t) is explanatory drawing which shows the manufacturing method of the optical board following FIG.

次に、本発明の実施形態による光基板とその製造方法について詳細に説明する。
図1に示す第一実施形態による光基板1において、シート状の絶縁樹脂層からなる基板2の対向する表面2aと裏面2bには銅等の金属箔からなる電気配線としての導電層3、4が例えばパターニングによって形成されている。基板2にはその厚み方向に延びて表裏面2a、2bに貫通するビアホール用穴5が複数形成され、この穴5には例えば銅等のめっき処理によってビアホール6が設けられている。ビアホール6によって表裏面2a、2bの電気配線3,4が導通状態にある。
そして、ビアホール6の一方の端部、例えば表面2aに露出する導電層3からなる電極には受発光素子制御素子8が例えばフリップチップ実装等によって実装されている。受発光素子制御素子8は図示しない端子が例えばワイヤーボンディング9によって別のビアホール6に電気的に接続されている。受発光素子制御素子8からワイヤーボンディングを介してビアホール6の導電層3の電極(電気配線)に接続した構成を接続部という。
Next, the optical substrate and the manufacturing method thereof according to the embodiment of the present invention will be described in detail.
In the optical substrate 1 according to the first embodiment shown in FIG. 1, conductive layers 3 and 4 as electric wirings made of a metal foil such as copper are provided on the front surface 2a and the back surface 2b of the substrate 2 made of a sheet-like insulating resin layer. Is formed by patterning, for example. A plurality of via hole holes 5 extending in the thickness direction and penetrating the front and back surfaces 2a and 2b are formed in the substrate 2, and via holes 6 are provided in the holes 5 by, for example, copper plating. The electrical wirings 3 and 4 on the front and back surfaces 2a and 2b are in a conductive state by the via hole 6.
A light emitting / receiving element control element 8 is mounted on one end of the via hole 6, for example, an electrode made of the conductive layer 3 exposed on the surface 2a by, for example, flip chip mounting. A terminal (not shown) of the light emitting / receiving element control element 8 is electrically connected to another via hole 6 by, for example, wire bonding 9. A configuration in which the light emitting / receiving element control element 8 is connected to the electrode (electrical wiring) of the conductive layer 3 in the via hole 6 through wire bonding is referred to as a connection portion.

また、基板2において、例えば表面2aにおける受発光素子制御素子8から離間した位置に溝部11が形成されている。この溝部11内には受発光素子12が装着されており、溝部11内に塗布した接着剤13によって固定されている。溝部11の深さは内部に固定された受発光素子12の高さとほぼ同一であり、基板2の表面2aに受発光面12aがほぼ面一に露出している。
受発光素子12の受発光面12aに設けた図示しない端子と基板2の表面2aに設けたパターニングされた導電層3で形成された電気配線との接続には、ワイヤーボンディングや半田接続などを用いることができ、本実施形態ではワイヤーボンディング9が設けられている。これら受発光素子12からワイヤーボンディング9を介して接続される導電層3(電気配線)までの構成を接続部という。なお、受発光素子12は受発光素子制御素子8によって制御される。
基板2の表面2aには光信号を高速伝送して受発光素子12との間で光信号の入出力を行う光導波路15が設置されている。図2に示すように、光導波路15の端面15aは例えば略45°の傾斜面に形成され、その端面15aには光路変換ミラー16が接合されている。光路変換ミラー16の端面15aと反対側の面には金属膜17が蒸着等によって被着されている。光導波路15において、端面15aに45°の角度で対向する光入出力部として光入出力面15bが設けられ、光入出力面15bは受発光素子12の受発光面12aに一致して光学的にアライメントされて接続されるようになっている。受発光素子12と光導波路15との界面に光学接着剤を充填している。
In the substrate 2, for example, a groove 11 is formed at a position separated from the light emitting / receiving element control element 8 on the surface 2 a. A light emitting / receiving element 12 is mounted in the groove 11 and is fixed by an adhesive 13 applied in the groove 11. The depth of the groove 11 is substantially the same as the height of the light emitting / receiving element 12 fixed inside, and the light receiving / emitting surface 12a is exposed on the surface 2a of the substrate 2 substantially flush.
Wire bonding, solder connection, or the like is used for connection between a terminal (not shown) provided on the light emitting / receiving surface 12a of the light emitting / receiving element 12 and an electric wiring formed by the patterned conductive layer 3 provided on the surface 2a of the substrate 2. In this embodiment, wire bonding 9 is provided. A configuration from the light emitting / receiving element 12 to the conductive layer 3 (electrical wiring) connected through the wire bonding 9 is referred to as a connection portion. The light emitting / receiving element 12 is controlled by the light emitting / receiving element control element 8.
An optical waveguide 15 is provided on the surface 2 a of the substrate 2 for transmitting and receiving optical signals at high speed and inputting and outputting optical signals to and from the light receiving and emitting elements 12. As shown in FIG. 2, the end face 15a of the optical waveguide 15 is formed in an inclined surface of, for example, approximately 45 °, and the optical path conversion mirror 16 is joined to the end face 15a. A metal film 17 is deposited on the surface opposite to the end surface 15a of the optical path conversion mirror 16 by vapor deposition or the like. In the optical waveguide 15, a light input / output surface 15 b is provided as a light input / output unit facing the end surface 15 a at an angle of 45 °, and the light input / output surface 15 b is optically aligned with the light receiving / emitting surface 12 a of the light receiving / emitting element 12. Are aligned and connected. The interface between the light emitting / receiving element 12 and the optical waveguide 15 is filled with an optical adhesive.

光導波路15において光配線を走行する光信号は端面15aで光路変換ミラー16によって90°光路を変換され入出力面15bから出射して受発光素子12へ受発光面12aから入射し、或いは逆に受発光素子12の受発光面12aから光導波路15内へ光信号が走査するようになっている。
ここで、光導波路15として、例えば光導波路フィルムに一般的な光配線を形成した光導波路を用いることができる。光配線の伝送モードとして、シングルモード、マルチモード、シングルマルチ混合配線などの構成をとることができる。
また、受発光素子12には、単チャンネルもしくは複数チャンネルの光素子を用いることができる。具体的には、端面発光型LD、面発光型LD、面受光型PDなどを使用することができる。
An optical signal traveling through the optical wiring in the optical waveguide 15 is converted by the optical path conversion mirror 16 at the end face 15a to a 90 ° optical path, emitted from the input / output face 15b, and incident on the light receiving / emitting element 12 from the light receiving / emitting face 12a. An optical signal is scanned from the light emitting / receiving surface 12 a of the light emitting / receiving element 12 into the optical waveguide 15.
Here, as the optical waveguide 15, for example, an optical waveguide in which general optical wiring is formed on an optical waveguide film can be used. As a transmission mode of the optical wiring, it is possible to adopt a configuration such as a single mode, a multimode, and a single multi mixed wiring.
The light emitting / receiving element 12 may be a single channel or a plurality of channels of optical elements. Specifically, an edge-emitting LD, a surface-emitting LD, a surface-receiving PD, or the like can be used.

そして、図1において、受発光素子12の受発光面12a及び基板2の表面2aにおける光路変換ミラー16からワイヤーボンディング9で電気的に接続された導電層3の領域までを第一の封止樹脂18によって封止している。
第一の封止樹脂18として、例えば液状の透明樹脂をポッティングによって充填することができる。透明樹脂には一般に用いられている高分子材料を用いることができる。具体的には、カーボネート材料、エポキシ材料、アクリル材料、イミド材料、ウレタン材料、シリコーン材料、無機フィラー混入有機材料などが使用できるが、これに限定されるものではない。また、界面の屈折率差を無くすため、光導波路と同等の屈折率を持った光学樹脂を用いることが望ましい。
受発光素子12を例えばディスペンサーによって光透過性の透明樹脂を用いてポッティング封止することで、光導波路15の端面12aも光路変換ミラー16を介して樹脂封止が可能となる。
また、受発光素子制御素子8とワイヤーボンディング9によって電気的に接続されたビアホール6の電極までを第二の封止樹脂19によって封止している。第二の封止樹脂19としてトランスファーモールド樹脂を用いることができる。
ここで、第一の封止樹脂18は、第二の封止樹脂19よりも溶融温度が低い材質であることが好ましい。これによって、第一の封止樹脂18の充填時に光導波路15を溶融樹脂の熱で損傷することなく保護できる。この場合、第一の封止樹脂18は端面15aを除く光導波路15を被覆してもよい。
In FIG. 1, the first sealing resin extends from the optical path conversion mirror 16 to the region of the conductive layer 3 electrically connected by the wire bonding 9 on the light emitting / receiving surface 12 a of the light emitting / receiving element 12 and the surface 2 a of the substrate 2. 18 is sealed.
As the first sealing resin 18, for example, a liquid transparent resin can be filled by potting. As the transparent resin, generally used polymer materials can be used. Specifically, a carbonate material, an epoxy material, an acrylic material, an imide material, a urethane material, a silicone material, an organic material mixed with an inorganic filler, and the like can be used. However, the material is not limited thereto. Further, in order to eliminate the difference in refractive index at the interface, it is desirable to use an optical resin having a refractive index equivalent to that of the optical waveguide.
By potting and sealing the light emitting / receiving element 12 using, for example, a light transmissive transparent resin with a dispenser, the end surface 12a of the optical waveguide 15 can also be sealed with the resin via the optical path conversion mirror 16.
In addition, the second sealing resin 19 seals up to the electrode of the via hole 6 electrically connected to the light emitting / receiving element control element 8 and the wire bonding 9. A transfer mold resin can be used as the second sealing resin 19.
Here, the first sealing resin 18 is preferably made of a material having a melting temperature lower than that of the second sealing resin 19. Thereby, the optical waveguide 15 can be protected without being damaged by the heat of the molten resin when the first sealing resin 18 is filled. In this case, the first sealing resin 18 may cover the optical waveguide 15 except the end face 15a.

本実施形態による光基板1は上述の構成を備えており、その製造方法について図3乃至図5により説明する。
まず図3(a)に示すように、表裏面2a,2bに導電性の金属箔3a、3aを付着させた絶縁樹脂層からなる基板2を用いる。基板2の絶縁樹脂層には任意の有機材料および無機材料を使用することができる。具体的には、アクリル材料、シリコーン材料、シリコンウェハ、金属材料、硝子材料、プリプレグ、積層板材料などが使用できるが、これに限定されるものではない。また、金属箔3aには金属から成るものであれば何でも構わないが、コストおよび導電性から一般的に銅が好ましく、電解銅箔、圧延銅箔等の平滑性の良い銅箔がより好ましい。
The optical substrate 1 according to the present embodiment has the above-described configuration, and a manufacturing method thereof will be described with reference to FIGS.
First, as shown in FIG. 3A, a substrate 2 made of an insulating resin layer having conductive metal foils 3a and 3a attached to the front and back surfaces 2a and 2b is used. Arbitrary organic materials and inorganic materials can be used for the insulating resin layer of the substrate 2. Specifically, an acrylic material, a silicone material, a silicon wafer, a metal material, a glass material, a prepreg, a laminated plate material, or the like can be used, but is not limited thereto. The metal foil 3a may be anything as long as it is made of metal, but copper is generally preferable from the viewpoint of cost and conductivity, and copper foil having good smoothness such as electrolytic copper foil and rolled copper foil is more preferable.

次に、この基板2にビアホール用穴5を開口し(図3(b)参照)、めっき処理によってビアホール6を形成する(図3(c)参照)。ビアホール用穴5を形成する方法はレーザ加工が好ましい。レーザとしては炭酸ガスレーザ、YAGレーザ(基本波、第2高調波、第3高調波または第4高調波)或いはエキシマーレーザ等があるが、金属箔3a、絶縁樹脂層と共に加工を行う為、両者を同時に加工することができる400nm以下の短波長レーザであるYAGレーザ(第3高調波または第4高調波)或いはエキシマーレーザがより好ましい。
そして、過マンガン酸カリウムと水酸化ナトリウム混合液等の液中に基板2を浸漬させ、ビアホール用穴5内の有機絶縁材料の残渣をデスミア処理により除去する。
ビアホール用穴5内にビアホール6を形成するためのめっき工程は、基板2の樹脂面に電解めっきのシード層を形成する無電解銅めっきまたはダイレクトプレーティングを行う工程と、シード層を給電パターンとしてめっきを行う電解めっき工程とがある。
Next, via holes 5 are opened in the substrate 2 (see FIG. 3B), and via holes 6 are formed by plating (see FIG. 3C). Laser processing is preferable as a method of forming the via hole 5. Lasers include carbon dioxide laser, YAG laser (fundamental wave, second harmonic, third harmonic, or fourth harmonic) or excimer laser. However, both of them are used for processing together with the metal foil 3a and the insulating resin layer. A YAG laser (third harmonic or fourth harmonic) or excimer laser that is a short wavelength laser of 400 nm or less that can be processed simultaneously is more preferable.
And the board | substrate 2 is immersed in liquids, such as potassium permanganate and sodium hydroxide liquid mixture, and the residue of the organic insulating material in the hole 5 for via holes is removed by a desmear process.
The plating process for forming the via hole 6 in the via hole 5 includes an electroless copper plating or direct plating process for forming an electroplating seed layer on the resin surface of the substrate 2, and a seed layer as a power supply pattern. There is an electrolytic plating process for performing plating.

続いて、金属箔3aをパターニングしてエッチングすることで電気配線や実装用パットにパターニングされた導電層3を形成する(図3(d),(e)参照)。その後、必要に応じて、Ni/Auめっきやソルダーレジスト印刷も行う。
そして、金属箔3aのパターンで形成された導電層3からなる実装用パット上に、受発光素子制御素子8を実装する。受発光素子制御素子8の実装はダイボンディング、ワイヤーボンディング、フリップチップ実装などを用いることができる。
また、受発光素子制御素子8を実装した後、ワイヤーボンディング9によって別のビアホール6の電極をなす導電層3と接続する(図4(f)参照)。ワイヤーボンディング9による接続部周辺を含めて受発光素子制御素子8をトランスファーモールド樹脂により封止することで第二の封止樹脂19を形成する(図4(g)参照)。
Subsequently, by patterning and etching the metal foil 3a, the conductive layer 3 patterned on the electric wiring and the mounting pad is formed (see FIGS. 3D and 3E). Thereafter, Ni / Au plating and solder resist printing are also performed as necessary.
Then, the light emitting / receiving element control element 8 is mounted on the mounting pad made of the conductive layer 3 formed by the pattern of the metal foil 3a. The light emitting / receiving element control element 8 can be mounted by die bonding, wire bonding, flip chip mounting, or the like.
Further, after mounting the light emitting / receiving element control element 8, it is connected to the conductive layer 3 forming an electrode of another via hole 6 by wire bonding 9 (see FIG. 4F). A second sealing resin 19 is formed by sealing the light emitting / receiving element control element 8 including the periphery of the connection portion by the wire bonding 9 with a transfer mold resin (see FIG. 4G).

また、基板2の他の領域では、ルーター等により基板2に溝部11を形成する(図4(h)参照)。そして、受発光素子8を埋め込み、接着剤13で絶縁樹脂層からなる基板2内に固定して設置する(図5(i)参照)。受発光素子12はその受発光面12aの端子をワイヤーボンディング9やはんだ接続等により導電層3と電気接続を行う(図5(j)参照)。
次に、光導波路15を基板2の表面2aに設置し、端面15aに光路変換ミラー16を固定した光入出部の光入出面15bを受発光素子12の受発光面12aにアライメントして光路を一致させて接合する(図5(k)参照)。受発光素子12と光導波路15との界面には透明な光学接着剤を充填する。
光導波路15としては、光導波路フィルムに一般的な光配線を形成した光導波路を用いた。光導波路フィルムのフィルム材質として、カーボネート系、エポキシ系、アクリル系、イミド系、ウレタン系、ノルボルネン系などの高分子材料および石英などの無機材料を用いることができる。光配線の伝送モードとして、シングルモード、マルチモード、シングルマルチ混合配線などの構成をとることができる。
また、受発光素子12には、単チャンネルもしくは複数チャンネルの光素子を用いる。具体的には、端面発光型LD、面発光型LD、面受光型PDなどを使用する。
In another area of the substrate 2, the groove 11 is formed in the substrate 2 by a router or the like (see FIG. 4H). Then, the light emitting / receiving element 8 is embedded and fixed in the substrate 2 made of an insulating resin layer with an adhesive 13 (see FIG. 5I). The light emitting / receiving element 12 electrically connects the terminal of the light receiving / emitting surface 12a to the conductive layer 3 by wire bonding 9 or solder connection (see FIG. 5J).
Next, the optical waveguide 15 is placed on the front surface 2a of the substrate 2, and the light input / output surface 15b of the light input / output portion in which the optical path conversion mirror 16 is fixed to the end surface 15a is aligned with the light receiving / emitting surface 12a of the light receiving / emitting element 12 to Match and join (see FIG. 5 (k)). The interface between the light emitting / receiving element 12 and the optical waveguide 15 is filled with a transparent optical adhesive.
As the optical waveguide 15, an optical waveguide in which a general optical wiring is formed on an optical waveguide film is used. As a film material of the optical waveguide film, a polymer material such as carbonate, epoxy, acrylic, imide, urethane, norbornene, and an inorganic material such as quartz can be used. As a transmission mode of the optical wiring, it is possible to adopt a configuration such as a single mode, a multimode, and a single multi mixed wiring.
The light emitting / receiving element 12 is a single-channel or multi-channel optical element. Specifically, an edge-emitting LD, a surface-emitting LD, a surface-receiving PD, or the like is used.

そして、受発光素子12及び導電層3の接続部や光導波路15の光路変換ミラー16の領域を、第一の封止樹脂18で金型を用いずに封止する。封止処理に際して、ディスペンサーによって第一の封止樹脂18として光透過性の液状の透明樹脂を用いてポッティング封止する。
透明樹脂は一般に用いられている高分子材料を用いるものとし、具体的には、カーボネート材料、エポキシ材料、アクリル材料、イミド材料、ウレタン材料、シリコーン材料、無機フィラー混入有機材料などが使用できるが、これに限定されない。また、界面の屈折率差を無くすため、透明樹脂は光導波路15と同等の屈折率を持った液状の光学樹脂を用いる。
また、基板2上の任意の部分をモールド樹脂によりモールドすることで、基板2および実装部品の環境信頼性を高めることができる。
Then, the connection portion between the light emitting / receiving element 12 and the conductive layer 3 and the region of the optical path conversion mirror 16 of the optical waveguide 15 are sealed with the first sealing resin 18 without using a mold. In the sealing process, potting sealing is performed using a light-transmitting liquid transparent resin as the first sealing resin 18 by a dispenser.
As the transparent resin, a generally used polymer material is used, and specifically, carbonate materials, epoxy materials, acrylic materials, imide materials, urethane materials, silicone materials, organic materials mixed with inorganic fillers, etc. can be used. It is not limited to this. Further, in order to eliminate the difference in refractive index at the interface, a liquid optical resin having a refractive index equivalent to that of the optical waveguide 15 is used as the transparent resin.
Moreover, the environmental reliability of the board | substrate 2 and mounted components can be improved by molding the arbitrary parts on the board | substrate 2 with mold resin.

上述した本実施形態による光基板1によれば、絶縁樹脂層の基板2に受発光素子12の高さと同等の深さを有する溝部11を形成することにより、光導波路15を基板2の表面2aに積層した時に高さ調整をすることなく光入出力面15bと受発光面12aとの光接続を精密且つ容易に行うことができ、ハンドリング性が向上する。そして、光基板1を生産性良く製造することが可能となる。
また、受発光素子12の受発光面12a及び光導波路15の端面15aの接合部と受発光面12a及び導電部3のワイヤーボンディング9による接続部とを第一の封止樹脂18によってモールド封止し、また受発光素子制御素子8とビアホール6における電極の導電層3とのワイヤーボンディング9による接続部を第二の封止樹脂19によって別個にモールド封止したから、光導波路15の部分の第一の封止樹脂18を第二の封止樹脂19より溶融温度低い樹脂、例えば透明樹脂を用いることができて、光導波路15が熱で損傷することを防止できると共に受発光素子12と光導波路15の接続部を確実に封止保護できる。
特に、光導波路15の端面15aに形成した光路変換ミラー16周辺を、受発光素子12の受発光面12aと共に第一の封止樹脂によって封止することで、耐熱性の低い光導波路15を含めて樹脂封止ができる。この場合、光路変換ミラー16に金属膜17などを形成することで確実に光導波路15とその端面15aを保護して樹脂封止すると共に環境変化に対応できる。
According to the above-described optical substrate 1 according to the present embodiment, the groove 11 having a depth equivalent to the height of the light emitting / receiving element 12 is formed in the substrate 2 of the insulating resin layer, so that the optical waveguide 15 is formed on the surface 2a of the substrate 2. The optical connection between the light input / output surface 15b and the light emitting / receiving surface 12a can be made precisely and easily without adjusting the height when the layers are stacked, and handling is improved. And it becomes possible to manufacture the optical board | substrate 1 with sufficient productivity.
In addition, the first sealing resin 18 is used to mold and seal the joint portion between the light emitting / receiving surface 12a of the light emitting / receiving element 12 and the end surface 15a of the optical waveguide 15 and the connection portion of the light emitting / receiving surface 12a and the conductive portion 3 by the wire bonding 9. In addition, since the connection portion by wire bonding 9 between the light emitting / receiving element control element 8 and the conductive layer 3 of the electrode in the via hole 6 is separately molded and sealed by the second sealing resin 19, one of the sealing resin 18 second low resin melting temperature than the sealing resin 19, it can be used, for example a transparent resin, the light emitting and receiving element 12 and the optical with the optical waveguide 15 can be prevented from being damaged by heat The connection portion of the waveguide 15 can be reliably sealed and protected.
In particular, the periphery of the optical path conversion mirror 16 formed on the end surface 15a of the optical waveguide 15 is sealed with the first sealing resin together with the light emitting / receiving surface 12a of the light emitting / receiving element 12, thereby including the optical waveguide 15 having low heat resistance. Can be sealed with resin. In this case, by forming the metal film 17 or the like on the optical path conversion mirror 16, the optical waveguide 15 and its end surface 15a can be reliably protected and sealed with resin, and the environment can be changed.

次に本発明の他の実施形態について説明するが、上述の実施形態と同一の構成については同一の符号を用いて説明を省略する。
図6により第二実施形態による光基板21について説明する。
本第二実施形態による光基板21は上述した第一実施形態による光基板1と光導波路15の接続部において相違し、他の構成において一致する。本第二実施形態による光基板21においては、基板2に溝部11は設けられておらず、表面2aに金属箔2aを用いるか、或いは電解めっきで銅箔2aと同じ材質からなる所定厚みの金属層(基材)を形成する。そして、凸部22の部分にマスクをして他の領域をエッチングすることで光導波路15を設置するための凸部22を所定の厚さで形成する。凸部22の高さは受発光素子12の高さと同程度に設定しておく。
凸部22に隣接して、基板2の表面2aには受発光素子12が設置され、受発光素子12の下面と基板2の表面2aとの間に接着剤13を塗布することで受発光素子12は基板2上に固定されている。受発光素子12の受発光面12aの端子と導電層3とは例えばワイヤーボンディング9により電気的に接続されている。
Next, another embodiment of the present invention will be described. However, the same components as those of the above-described embodiment will be denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
The optical substrate 21 according to the second embodiment will be described with reference to FIG.
The optical substrate 21 according to the second embodiment is different in the connection portion between the optical substrate 1 and the optical waveguide 15 according to the first embodiment described above, and is identical in other configurations. In the optical substrate 21 according to the second embodiment, the groove portion 11 is not provided in the substrate 2, and a metal foil 2a is used for the surface 2a, or a metal having a predetermined thickness made of the same material as the copper foil 2a by electrolytic plating. A layer (base material) is formed. And the convex part 22 for installing the optical waveguide 15 is formed by predetermined thickness by masking the part of the convex part 22, and etching another area | region. The height of the convex portion 22 is set to be approximately the same as the height of the light emitting / receiving element 12.
The light emitting / receiving element 12 is installed on the surface 2a of the substrate 2 adjacent to the convex portion 22, and the adhesive 13 is applied between the lower surface of the light emitting / receiving element 12 and the surface 2a of the substrate 2, thereby receiving and emitting the light emitting element. 12 is fixed on the substrate 2. The terminals of the light emitting / receiving surface 12 a of the light emitting / receiving element 12 and the conductive layer 3 are electrically connected by, for example, wire bonding 9.

そして、凸部22に光導波路15を設置してその光入出面15aを受発光素子12の受発光面12aに当接させて光学的に接続させる。受発光素子12と光導波路15との界面に光学接着剤を充填して固定する。光導波路15としては、光導波路フィルムに限定されず、細線光ファイバーアレイを光導波路15として用いることもできる。
この状態で、受発光素子12の受発光面12a及び導電層3とのワイヤーボンディング9による接続部と光導波路15の端面12aに固定した光路変換ミラー16との領域を、上述した液状の透明樹脂による第一の封止樹脂18によって封止する。第一の封止樹脂18はモールド樹脂によってポッティング形成され、その高さは凸部22に設置した光導波路15と同一高さにしてもよい。
従って、本第二実施形態による光基板21においても第一実施形態による光基板1と同様な効果を得られる。
And the optical waveguide 15 is installed in the convex part 22, The light entrance / exit surface 15a is contact | abutted to the light emitting / receiving surface 12a of the light emitting / receiving element 12, and is optically connected. The interface between the light emitting / receiving element 12 and the optical waveguide 15 is filled with an optical adhesive and fixed. The optical waveguide 15 is not limited to the optical waveguide film, and a thin optical fiber array can be used as the optical waveguide 15.
In this state, the region between the light receiving / emitting surface 12a of the light emitting / receiving element 12 and the connection portion by wire bonding 9 to the conductive layer 3 and the optical path conversion mirror 16 fixed to the end surface 12a of the optical waveguide 15 is the liquid transparent resin described above. The first sealing resin 18 is used for sealing. The first sealing resin 18 may be potted with mold resin, and the height thereof may be the same as that of the optical waveguide 15 installed on the convex portion 22.
Therefore, the optical substrate 21 according to the second embodiment can obtain the same effects as the optical substrate 1 according to the first embodiment.

なお、本第二実施形態による光基板21において、凸部22に代えて同一高さを有するスペーサを基板2上に設置して接着剤等で固定してもよい。この場合、スペーサの材料として耐熱性の高いポリイミドが好適であるが、他の樹脂や金属等でもよい。スペーサを作製する場合、ポリイミド等をウェハ上にスピン塗布した後に硬化させ、これを剥離して、フィルム状とすることで高精度な厚さのスペーサが得られる。
そして、作製したスペーサを接着剤で基板2上に接着する。
In the optical substrate 21 according to the second embodiment, a spacer having the same height may be installed on the substrate 2 instead of the convex portion 22 and fixed with an adhesive or the like. In this case, polyimide having high heat resistance is suitable as a material for the spacer, but other resin, metal, or the like may be used. In the case of manufacturing a spacer, polyimide or the like is spin-coated on a wafer and then cured, and this is peeled off to form a film, whereby a highly accurate spacer can be obtained.
And the produced spacer is adhere | attached on the board | substrate 2 with an adhesive agent.

以下、本発明の実施例について説明する。また、以下の記載では、光基板1の光導波路15を1層の光導波路フィルムとして説明するが、必ずしも1層である必要はない。また、以下の記載では光導波路15をマルチモードとして説明するが、必ずしもマルチモードである必要はない。
(実施例1)
実施例1として、まず基材2として、両面に銅箔3a付きのポリイミド基材(銅箔12μm厚、ポリイミド100μm厚、図3(a)参照)を絶縁樹脂層とした東レ製のものを用いる。そして、表裏面2a,2b間を、波長355nmの紫外線レーザ(YAG第三高調波)によって加工することで、複数のビアホール用穴5を形成した(図3(b)参照)。加工されたビアホール用穴5の内径は60μmであった。
Examples of the present invention will be described below. Moreover, although the following description demonstrates the optical waveguide 15 of the optical board | substrate 1 as a single layer optical waveguide film, it does not necessarily need to be 1 layer. Moreover, although the following description demonstrates the optical waveguide 15 as multimode, it does not necessarily need to be multimode.
(Example 1)
As Example 1, first, as a base material 2, a Toray-made product using a polyimide base material with copper foil 3 a on both sides (copper foil 12 μm thickness, polyimide 100 μm thickness, see FIG. 3A) as an insulating resin layer is used. . A plurality of via-holes 5 were formed by processing the front and back surfaces 2a and 2b with an ultraviolet laser (YAG third harmonic) having a wavelength of 355 nm (see FIG. 3B). The inner diameter of the processed via hole 5 was 60 μm.

続いて、ビアホール用穴5に堆積した樹脂残渣を除去する為に、過マンガン酸カリウムと水酸化ナトリウムを3対2の割合でイオン交換水に溶解させ、約50℃に加熱した。この混合液中に基板2を浸漬させ、樹脂残渣を除去した。
次に、ビアホール用穴5に銅めっき処理を施して、ビアホール6を形成した(図3(c)参照)。基板2の表裏面2a,2bに配線パターン形成するために、配線形成用のドライフィルムレジストをラミネーターにより加熱しつつ加圧して張り合わせ、レジスト層を形成した。さらに、所定のパターンを形成したフォトマスクを用いて超高圧水銀ランプを光源とした平行光にて露光し、1%炭酸ナトリウム水溶液にて現像を行い、所望のエッチングレジストパターンを得た(図3(d)参照)。
Subsequently, in order to remove the resin residue deposited in the via-hole 5, potassium permanganate and sodium hydroxide were dissolved in ion exchange water at a ratio of 3 to 2 and heated to about 50 ° C. The substrate 2 was immersed in this mixed solution, and the resin residue was removed.
Next, the via hole 5 was subjected to copper plating to form a via hole 6 (see FIG. 3C). In order to form a wiring pattern on the front and back surfaces 2a and 2b of the substrate 2, a dry film resist for forming a wiring was pressed and bonded while being heated by a laminator to form a resist layer. Furthermore, it exposed with the parallel light which used the ultrahigh pressure mercury lamp as the light source using the photomask in which the predetermined pattern was formed, and developed with 1% sodium carbonate aqueous solution, and obtained the desired etching resist pattern (FIG. 3). (See (d)).

銅箔3aのエッチングは、比重1.40の塩化第二鉄水溶液によってエッチングを行って形成した。その後、レジストを3%水酸化ナトリウム水溶液で剥離し、導電層3として回路パターン(電気配線)を得た(図3(e)参照)。
次に、パターニングされた銅箔3aからなる導電層3の電極の上に受発光素子制御素子8として「VCSELドライバーチップ」350μm厚(HELIX AG製)を実装し、ワイヤーボンディング9により導電層3と電気接続を行った(図4(f)参照)。
次に、受発光素子制御素子8とワイヤーボンディング9を含めた周辺を第二封止樹脂19としてトランスファーモールド樹脂で被覆した(図4(g)参照)。
The copper foil 3a was etched by etching with an aqueous ferric chloride solution having a specific gravity of 1.40. Thereafter, the resist was stripped with a 3% aqueous sodium hydroxide solution to obtain a circuit pattern (electric wiring) as the conductive layer 3 (see FIG. 3E).
Next, a “VCSEL driver chip” 350 μm thick (manufactured by HELIX AG) is mounted on the electrode of the conductive layer 3 made of the patterned copper foil 3 a as the light emitting / receiving element control element 8. Electrical connection was made (see FIG. 4 (f)).
Next, the periphery including the light emitting / receiving element control element 8 and the wire bonding 9 was covered with a transfer mold resin as the second sealing resin 19 (see FIG. 4G).

次に、基板2にルーター加工を施し、溝部11を形成した(図4(h)参照)。溝部11内に受発光素子12として「4cH VCSEL」150μm厚(ULM製)を実装し、接着剤13により固定した(図5(i)参照)。
次に、ワイヤーボンディング9により受発光素子12とパターニングされた銅箔の導電層3とを接続した(図5(j)参照)。
そして、絶縁樹脂層の基板2に光導波路15としてマルチモードエポキシ系光導波路フィルム(NTT−AT製)を設置し(図5(k)参照)、エポキシ系屈折率整合光学接着剤(NTT−AT製)を使用して基板2の表面2aに固定した。
Next, the substrate 2 was subjected to router processing to form a groove 11 (see FIG. 4H). A “4cH VCSEL” 150 μm thick (manufactured by ULM) was mounted as the light emitting / receiving element 12 in the groove 11 and fixed by the adhesive 13 (see FIG. 5I).
Next, the light emitting / receiving element 12 and the patterned copper foil conductive layer 3 were connected by wire bonding 9 (see FIG. 5J).
Then, a multi-mode epoxy optical waveguide film (manufactured by NTT-AT) is installed as the optical waveguide 15 on the insulating resin layer substrate 2 (see FIG. 5 (k)), and an epoxy-based refractive index matching optical adhesive (NTT-AT). To the surface 2 a of the substrate 2.

次に、光導波路15の光入出力面15bと受発光素子12の受発光面12aとの接続部分を、エポキシ系屈折率整合光学接着剤(NTT−AT製)からなる液状の透明樹脂を第一の封止樹脂18として被覆した。これにより、光基板1を製造した(図1参照)
この光基板1の光学特性を評価した結果、各チャンネルで0.8〜1.1mWの安定した光出力を確認した。
Next, a liquid transparent resin made of an epoxy-based refractive index matching optical adhesive (manufactured by NTT-AT) is used as a connecting portion between the light input / output surface 15b of the optical waveguide 15 and the light receiving / emitting surface 12a of the light receiving / emitting element 12. One sealing resin 18 was coated. Thereby, the optical substrate 1 was manufactured (see FIG. 1) .
As a result of evaluating the optical characteristics of the optical substrate 1, a stable light output of 0.8 to 1.1 mW was confirmed in each channel.

(実施例2)
次に、実施例2として第二実施形態による光基板21の製造方法を説明する。本実施例2において、基板2に受発光素子制御素子8と周辺部をトランスファーモールド封止によって第二の封止樹脂19を形成する工程まで、実施例1と同一の手法で光基板21を作製するため、省略する。
以下に、基本的に凸部22をパターニングにより作製する場合の工程を説明する。
(Example 2)
Next, a method for manufacturing the optical substrate 21 according to the second embodiment will be described as Example 2. In the second embodiment, the optical substrate 21 is manufactured by the same method as in the first embodiment until the step of forming the second sealing resin 19 on the substrate 2 by transfer molding sealing the light emitting / receiving element control element 8 and the peripheral portion. Therefore, it is omitted.
Below, the process in the case of producing the convex part 22 by patterning fundamentally is demonstrated.

実施例2では、実施例1と同様の方法で表裏両面に銅箔3aが設けられた絶縁樹脂層の基板2にビアホール6を形成した(図3(a)〜(e)参照)。
次に、凸部22を形成すべき面をフィルムマスク24で覆い(図7(m))、フィルムマスク24部分を除く銅箔3aの厚さ部分を薄層にするために化学研磨を行った(図7(n)参照)。銅箔3aの厚さはフィルムマスク部分が180μmであり、他の部分は厚さ180μmから15μmに減少した。化学研磨液は硫酸過水系の化学研磨液を使用した。
その後、同様にエッチングレジストパターンを形成し(図7(n)参照)、導電層3からなる回路パターン即ち電気配線を形成すると共に、フィルムマスク24を除去した。これによって基板2の表面2aに凸部22を形成した(図7(o)、(p)参照)。
In Example 2, via holes 6 were formed in the substrate 2 of the insulating resin layer provided with the copper foils 3a on both front and back surfaces in the same manner as in Example 1 (see FIGS. 3A to 3E).
Next, the surface on which the convex portion 22 was to be formed was covered with a film mask 24 (FIG. 7 (m)), and chemical polishing was performed to make the thickness portion of the copper foil 3a excluding the film mask 24 portion into a thin layer. (See FIG. 7 (n)). The thickness of the copper foil 3a was 180 μm at the film mask portion, and the thickness of the other portions was reduced from 180 μm to 15 μm. The chemical polishing liquid used was a sulfuric acid / hydrogen peroxide type chemical polishing liquid.
Thereafter, similarly, an etching resist pattern was formed (see FIG. 7 (n)) to form a circuit pattern made of the conductive layer 3, that is, an electric wiring, and the film mask 24 was removed. Thereby, the convex part 22 was formed in the surface 2a of the board | substrate 2 (refer FIG.7 (o), (p)).

次に、ビアホール6にパターニングされた導電層3の電極の上に受発光素子制御素子8を実装し、ワイヤーボンディング9により他の導電層3との電気接続を行った(図8(q)参照)。そして、受発光素子制御素子8とワイヤーボンディング9を含む周辺領域を第二の封止樹脂19としてトランスファーモールド樹脂によって被覆した(図8(r)参照)。
次に、基板2の表面2aにおいて、凸部22に隣接する位置に受発光素子12を実装し、接着剤13によって底面を接着固定した。そして、ワイヤーボンディング9によって受発光素子12とパターニングされた銅箔からなる電気配線の導電層3とを接続した(図8(s)参照)。
Next, the light emitting / receiving element control element 8 was mounted on the electrode of the conductive layer 3 patterned in the via hole 6, and electrical connection with the other conductive layer 3 was performed by wire bonding 9 (see FIG. 8 (q)). ). Then, the peripheral region including the light emitting / receiving element control element 8 and the wire bonding 9 was covered with the transfer molding resin as the second sealing resin 19 (see FIG. 8 (r)).
Next, on the surface 2 a of the substrate 2, the light emitting / receiving element 12 was mounted at a position adjacent to the convex portion 22, and the bottom surface was bonded and fixed with the adhesive 13. Then, the light emitting / receiving element 12 was connected to the conductive layer 3 of the electric wiring made of the patterned copper foil by wire bonding 9 (see FIG. 8 (s)).

次に、凸部22上に光導波路15を設置した(図8(t)参照)。光導波路15の設置固定にはエポキシ系屈折率整合光学接着剤(NTT−AT製)を使用した。そして、光導波路15と受発光素子12の接続部分を、エポキシ系屈折率整合光学接着剤による透明樹脂を第一の封止樹脂18として被覆し、図6に示す光基板21を製造した。
この光基板21の光学特性を評価した結果、各チャンネルで0.8〜1.1mWの安定した光出力を確認した。
Next, the optical waveguide 15 was installed on the convex part 22 (refer FIG.8 (t)). An epoxy type refractive index matching optical adhesive (manufactured by NTT-AT) was used for installation and fixing of the optical waveguide 15. Then, the connecting portion between the optical waveguide 15 and the light emitting / receiving element 12 was covered with a transparent resin made of an epoxy-based refractive index matching optical adhesive as the first sealing resin 18 to manufacture the optical substrate 21 shown in FIG.
As a result of evaluating the optical characteristics of the optical substrate 21, a stable light output of 0.8 to 1.1 mW was confirmed in each channel.

なお、凸部22の作製に際し、銅箔をフィルムマスク24によるパターニングによって作製する方法に代えて、合成樹脂製のスペーサによって作製してもよい。この場合には、図7(m)において、基板2の表面2aに被着された銅箔について、フィルムマスク24を設けることなく、実施例1の作製工程における図3(d),(e)に示す場合と同様にエッチングレジストパターンによって回路パターン(電気配線)を形成後、接着剤を介してスペーサを基板2の表面2aに積層して固着すればよい。   In addition, when producing the convex part 22, it may replace with the method of producing copper foil by the patterning by the film mask 24, and may produce it with the spacer made from a synthetic resin. In this case, in FIG. 7 (m), the copper foil deposited on the surface 2a of the substrate 2 is not provided with the film mask 24, and FIGS. In the same manner as shown in FIG. 5, after forming a circuit pattern (electrical wiring) by an etching resist pattern, a spacer may be laminated and fixed to the surface 2a of the substrate 2 with an adhesive.

1、21 光基板
2 絶縁樹脂層の基板
2a 表面
3 導電層
5 ビアホール用穴
6 ビアホール
8 受発光素子制御素子
9 ワイヤーボンディング
11 溝部
12 受発光素子
13 接着剤
15 光導波路
16 光路変換ミラー
17 金属膜
18 第一の封止樹脂
19 第二の封止樹脂
22 凸部
24 フィルムマスク
1,21 Optical substrate
2 Insulating resin layer substrate 2a Surface 3 Conductive layer 5 Via hole 6 Via hole 8 Light emitting / receiving element control element 9 Wire bonding 11 Groove 12 Light emitting / receiving element 13 Adhesive 15 Optical waveguide 16 Optical path conversion mirror 17 Metal film 18 First sealing Stop resin 19 Second sealing resin 22 Convex part 24 Film mask

Claims (8)

表裏に電気配線がパターニングされた絶縁樹脂層からなる基板と、
該基板の表裏の電気配線を接続するビアホールと、
前記基板に設けられた受発光素子と、
前記電気配線に実装された受発光素子制御素子と、
前記基板に設置されていて端面に光路変換ミラーを備えた光導波路とを有する光基板であって、
前記受発光素子と光導波路とは段差を以て前記基板に配設されていて前記光路変換ミラーを介して光学的に接続するように接合され、
前記受発光素子と電気配線との接続部と前記光導波路の光路変換ミラーとが第一の封止樹脂によって覆れていると共に、前記受発光素子制御素子と電気配線との接続部が第二の封止樹脂によって覆われており、前記第一の封止樹脂は前記第二の封止樹脂より溶融温度が低く、前記光路変換ミラーの光入出力部の裏面に金属膜が設けられていることを特徴とする光基板。
A substrate made of an insulating resin layer with electrical wiring patterned on the front and back;
Via holes connecting the electrical wiring on the front and back of the substrate;
A light emitting / receiving element provided on the substrate;
A light emitting and receiving element control element mounted on the electrical wiring;
An optical substrate installed on the substrate and having an optical waveguide provided with an optical path conversion mirror on an end face,
The light emitting / receiving element and the optical waveguide are disposed on the substrate with a step and are joined so as to be optically connected via the optical path conversion mirror,
The connection portion between the light emitting / receiving element and the electric wiring and the optical path conversion mirror of the optical waveguide are covered with a first sealing resin, and the connection portion between the light emitting / receiving element control element and the electric wiring is the second. of is covered with the sealing resin, the first sealing resin the second melting temperature than the sealing resin is rather low, a metal film is provided on the back surface of the light input portion of the optical path conversion mirror light board, characterized in that there.
前記基板に凸部を設けると共に該凸部に前記光導波路が設置され、
前記基板に設けられた前記受発光素子と光導波路の光入出力部とが接合されている請求項1に記載された光基板。
Providing a convex portion on the substrate and the optical waveguide is installed on the convex portion,
The optical substrate according to claim 1, wherein the light emitting / receiving element provided on the substrate and the light input / output unit of the optical waveguide are joined.
前記凸部が前記基板の表裏に設けられた電気配線と同じ材質である請求項2に記載された光基板。 The optical substrate according to claim 2 , wherein the convex portion is made of the same material as the electrical wiring provided on the front and back surfaces of the substrate. 前記凸部がスペーサである請求項2に記載された光基板。 The optical substrate according to claim 2 , wherein the convex portion is a spacer. 前記基板に溝部が形成され、該溝部に前記受発光素子が設置され、
前記基板に設置された前記光導波路の光入出力部と前記受発光素子とが接合されている請求項1に記載された光基板。
A groove is formed in the substrate, and the light emitting / receiving element is installed in the groove,
The optical substrate according to claim 1 , wherein an optical input / output unit of the optical waveguide installed on the substrate and the light emitting / receiving element are joined.
絶縁樹脂層の表裏に電気配線がパターニングされてなる基板の前記電気配線をビアホールによって接続し、前記電気配線を接続させた受発光素子と前記電気配線に実装された受発光素子制御素子とを前記基板に設け、前記受発光素子制御素子と電気配線との接続部を第二の封止樹脂により封止してなる光基板の製造方法であって、
端面に光路変換ミラーを備えた光導波路を、その光入出力部が前記受発光素子の受発光面と接合されるように前記受発光面に対して段差を設けて前記基板に設置する工程と、
前記受発光素子と電気配線との接続部を前記光導波路の端面に設けた、光入出力部の裏面に金属膜を形成した前記光路変換ミラーと共に前記第二の封止樹脂より溶融温度の低い第一の封止樹脂により封止する工程と
を備えたことを特徴とする光基板の製造方法。
The electrical wiring of the substrate formed by patterning electrical wiring on the front and back of the insulating resin layer is connected by a via hole, and the light emitting / receiving element control element mounted on the electrical wiring is connected to the light emitting / receiving element connected to the electrical wiring. A method for producing an optical substrate, provided on a substrate, wherein a connection portion between the light emitting / receiving element control element and an electric wiring is sealed with a second sealing resin,
A step of providing an optical waveguide having an optical path conversion mirror on an end surface thereof on the substrate with a step with respect to the light emitting / receiving surface such that the light input / output unit is bonded to the light emitting / receiving surface of the light emitting / receiving element; ,
The melting point is lower than that of the second sealing resin together with the optical path conversion mirror in which the connection portion between the light emitting / receiving element and the electric wiring is provided on the end surface of the optical waveguide and the metal film is formed on the back surface of the light input / output portion. And a step of sealing with a first sealing resin.
前記基板にスペーサまたは前記電気配線と同じ材質の基材からなる凸部を設けて、該凸部に光導波路を設置することで、前記基板に設けた受発光素子の受発光面と光導波路の光入出力部を一致させて光学的に接続するようにした請求項6に記載された光基板の製造方法。 The substrate is provided with a convex portion made of the same material as the spacer or the electric wiring, and an optical waveguide is installed on the convex portion, so that the light emitting / receiving surface of the light emitting / receiving element provided on the substrate and the optical waveguide 7. The method of manufacturing an optical substrate according to claim 6 , wherein the optical input / output portions are matched and optically connected. 前記基板に溝部を形成して該溝部内に前記受発光素子を設置し、
前記基板に光導波路を設置して、前記受発光素子の受発光面と光導波路の光入出力部を一致させて光学的に接続するようにした請求項6に記載された光基板の製造方法。
Forming a groove in the substrate and installing the light emitting / receiving element in the groove;
7. The method of manufacturing an optical substrate according to claim 6 , wherein an optical waveguide is installed on the substrate, and the light receiving / emitting surface of the light emitting / receiving element and the light input / output portion of the optical waveguide are aligned and optically connected. .
JP2009221880A 2009-09-28 2009-09-28 Optical substrate and manufacturing method thereof Expired - Fee Related JP5434433B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009221880A JP5434433B2 (en) 2009-09-28 2009-09-28 Optical substrate and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009221880A JP5434433B2 (en) 2009-09-28 2009-09-28 Optical substrate and manufacturing method thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011070045A JP2011070045A (en) 2011-04-07
JP5434433B2 true JP5434433B2 (en) 2014-03-05

Family

ID=44015390

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009221880A Expired - Fee Related JP5434433B2 (en) 2009-09-28 2009-09-28 Optical substrate and manufacturing method thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5434433B2 (en)

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003185891A (en) * 2001-12-19 2003-07-03 Shigeru Koshibe Device for receiving and transmitting light
JP3731542B2 (en) * 2002-01-25 2006-01-05 日本電気株式会社 Optical module and optical module mounting method
JP2005062645A (en) * 2003-08-19 2005-03-10 Toppan Printing Co Ltd Optical connection structure body and its manufacturing method
JP2006351718A (en) * 2005-06-14 2006-12-28 Nec Corp Optical element and optical module using it
JP2007171676A (en) * 2005-12-22 2007-07-05 Topcon Corp Optical fiber cable
JP2007187870A (en) * 2006-01-13 2007-07-26 Hitachi Cable Ltd Optical module comprising structure of optical element embedded in substrate
JP5076603B2 (en) * 2007-04-03 2012-11-21 オムロン株式会社 Optical cable module and electronic device including optical cable module

Also Published As

Publication number Publication date
JP2011070045A (en) 2011-04-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8041159B2 (en) Optical/electrical hybrid substrate and method of manufacturing the same
US7734124B2 (en) Optical waveguide and method of manufacturing the same, and method of manufacturing optical/electrical hybrid substrate
JP4260650B2 (en) Photoelectric composite substrate and manufacturing method thereof
WO2013179522A1 (en) Method for producing opto-electric hybrid flexible printed wiring board, and opto-electric hybrid flexible printed wiring board
KR100688845B1 (en) A method for manufacturing optical-waveguides, optical-electricity PCB with the optical-waveguides and method for manufacturing the same
JP2016206377A (en) Optical waveguide device and method of manufacturing the same
JP5395734B2 (en) Method for manufacturing photoelectric composite substrate
JP2012118424A (en) Optical waveguide, method for manufacturing the same and optical waveguide device
TWI283490B (en) Circuit board structure of integrated optoelectronic component
JP2010097169A (en) Photoelectric module, optical substrate and method of manufacturing photoelectric module
JP6235878B2 (en) Optical waveguide device and manufacturing method thereof
JP5272999B2 (en) Optical substrate manufacturing method
JP5029343B2 (en) Optical substrate manufacturing method
JP2004302188A (en) Electric wiring substrate with optical waveguide
JP5434433B2 (en) Optical substrate and manufacturing method thereof
JP5278644B2 (en) Photoelectric board and manufacturing method thereof, optical integrated circuit, optical interconnector, optical multiplexer / demultiplexer
JP5648724B2 (en) Optical substrate and manufacturing method thereof
JP5076869B2 (en) Optical substrate manufacturing method
JP2013228467A (en) Opto-electric hybrid flexible print circuit board and manufacturing method thereof
JP5387240B2 (en) Optical substrate and manufacturing method thereof
JP5477576B2 (en) Optical substrate manufacturing method
JP5136142B2 (en) Optical substrate manufacturing method
JP5367635B2 (en) Manufacturing method of wiring board with optical waveguide
JP2006060004A (en) Optical component supporting substrate and its production method
JP2011128435A (en) Optical waveguide substrate

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120823

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130213

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130611

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20130806

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130806

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130820

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20131021

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20131021

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20131112

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20131125

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees