JP5428424B2 - Embossed plate and decorative sheet embossed using the same - Google Patents
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Description
本発明は、エンボス版及びそれを用いてエンボス加工された化粧シートに関する。より詳細には、サンドブラスト処理を経て得られる特定の表面粗さのエンボス版及びそれを用いてエンボス加工されることにより得られる低艶化粧シートに関する。 The present invention relates to an embossed plate and a decorative sheet embossed using the embossed plate. More specifically, the present invention relates to an embossed plate having a specific surface roughness obtained through sandblasting and a low-gloss decorative sheet obtained by embossing using the embossed plate.
化粧シートは、木質板の表面の保護、装飾等を目的として木質板の表面に貼着することにより用いられる場合が多い。そして、これによって得られた化粧板は、各種の建材、家具等に使用されている。 The decorative sheet is often used by sticking to the surface of the wooden board for the purpose of protecting the surface of the wooden board, decorating and the like. And the decorative board obtained by this is used for various building materials, furniture, etc.
化粧シートとしては、例えば、基材シート、絵柄層、透明性樹脂層及び表面保護層を順に積層したものが知られており、基材シート側に被着材(例えば木質板)を積層することにより化粧板として使用されている。 As a decorative sheet, for example, a laminate in which a base sheet, a picture layer, a transparent resin layer, and a surface protective layer are sequentially laminated is known, and an adherend (for example, a wooden board) is laminated on the base sheet side. It is used as a decorative board.
化粧シートは、用途によっておもて面が低艶であることが要求される。そのため、表面保護層に艶消し剤を含有することによって低艶化を図ることが知られている。例えば、特許文献1には、任意の絵柄を設けた基材シート上に、1〜10g/m2の熱硬化型又は電子線硬化型アンカー剤からなる層、3〜10g/m2の艶消し剤を含有した電子線硬化型樹脂からなる層を設けてなることを特徴とする艶消し調化粧シートが記載されている。 The decorative sheet is required to have a low gloss front surface depending on the application. Therefore, it is known to reduce the gloss by including a matting agent in the surface protective layer. For example, Patent Document 1 discloses a layer made of 1 to 10 g / m 2 of a thermosetting or electron beam curable anchor agent on a base sheet provided with an arbitrary pattern, and 3 to 10 g / m 2 of matte. There is described a matte decorative sheet comprising a layer made of an electron beam curable resin containing an agent.
しかしながら、無機フィラー等の艶消し剤を含有することにより低艶化させる場合は、艶消し剤の含有量が多くなると表面保護層に内部ヘイズ(白濁)が発生し、下層の絵柄の鮮明性が低下するという問題がある。そのため、艶消し剤による低艶化には限界がある。近年では、表面保護層側からエンボス加工することによりおもて面の低艶化を図る試みがなされている。このエンボス加工は、主としてガラスビーズブラスト処理されたエンボス版により行われている。即ち、ガラスビーズブラスト法によって、エンボスシリンダー表面に投射材料を吹き付けることによりブラスト模様が形成されたエンボス版が使用されている。なお、ガラスビーズブラスト処理は、一般にモース硬度5程度の球状ガラス粒子が投射材料として用いられている。 However, when the matting agent such as an inorganic filler is used to reduce the matting, if the matting agent content increases, internal haze (white turbidity) is generated in the surface protective layer, and the pattern of the lower layer is clear. There is a problem of lowering. For this reason, there is a limit to the reduction in matting with a matting agent. In recent years, attempts have been made to reduce the glossiness of the front surface by embossing from the surface protective layer side. This embossing is performed mainly by an embossed plate subjected to glass bead blasting. That is, an embossed plate in which a blast pattern is formed by spraying a projection material onto the surface of the embossing cylinder by a glass bead blasting method is used. In the glass bead blasting process, spherical glass particles having a Mohs hardness of about 5 are generally used as the projection material.
しかしながら、上記エンボス版では、化粧シートのおもて面を十分に低艶化させることはできず、更なる改善の余地がある。 However, in the embossed plate, the front surface of the decorative sheet cannot be sufficiently glossed, and there is room for further improvement.
従って、本発明は、エンボス加工により化粧シートのおもて面を低艶化するのに有用なエンボス版及びそれを用いてエンボス加工することにより得られる低艶化粧シートを提供することを目的とする。 Accordingly, an object of the present invention is to provide an embossing plate useful for reducing the front surface of a decorative sheet by embossing and a low-gloss decorative sheet obtained by embossing using the embossed plate. To do.
本発明者は、従来技術の問題に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、サンドブラスト処理を経て得られる特定の表面粗さのエンボス版を用いてエンボス加工をする場合には、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies in view of the problems of the prior art, the present inventor is able to achieve the above object when embossing using an embossed plate having a specific surface roughness obtained through sandblasting. The headline and the present invention were completed.
即ち、本発明は、下記の化粧シート、化粧板及び化粧シートの製造方法に関する。
1.最表面に表面保護層を有する化粧シートであって、
前記表面保護層は、電離放射線硬化型樹脂及び無機フィラーを含み、前記無機フィラーの含有量が前記樹脂成分100重量部に対して15重量部以下であり、
前記化粧シートは、凹凸模様を有する銅基材の表面を、投射材料としてアルミナ粒子及びチタニア粒子の少なくとも1種であって、その粒度が100番手以下のものを用いてサンドブラスト処理した後、クロム層を積層すること、又は凹凸模様を有する銅基材の表面にクロム層を積層した後、前記投射材料を用いてサンドブラスト処理することにより得られる、表面粗さRzが30以上であるエンボス版によって最表面側からエンボス加工されることにより前記最表面の60°艶値が10以下である化粧シート。
2.前記化粧シートは、基材シート上に絵柄層、透明性樹脂層及び表面保護層を順に有する、上記項1に記載の化粧シート。
3.上記項1又は2に記載の化粧シートと被着材とを接合してなる化粧板。
4.前記被着材が木質材料である、上記項3記載の化粧板。
5.上記項1に記載の表面に表面保護層を有し、前記最表面の60°艶値が10以下である化粧シートの製造方法であって、
最表面に、電離放射線硬化型樹脂及び無機フィラーを含み、前記無機フィラーの含有量が前記樹脂成分100重量部に対して15重量部以下である塗液を塗工後、硬化させることにより表面保護層を形成する工程、及び
凹凸模様を有する銅基材の表面を、投射材料としてアルミナ粒子及びチタニア粒子の少なくとも1種であって、その粒度が100番手以下のものを用いてサンドブラスト処理した後、クロム層を積層すること、又は凹凸模様を有する銅基材の表面にクロム層を積層した後、前記投射材料を用いてサンドブラスト処理することにより得られる、表面粗さRzが30以上であるエンボス版を用いて、最表面側からエンボス加工する工程
を含有する、製造方法。
That is, this invention relates to the manufacturing method of the following decorative sheet, a decorative board, and a decorative sheet.
1. A decorative sheet having a surface protective layer on the outermost surface,
The surface protective layer contains an ionizing radiation curable resin and an inorganic filler, and the content of the inorganic filler is 15 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the resin component,
The decorative sheet is a chrome layer after sandblasting the surface of a copper substrate having a concavo-convex pattern using at least one of alumina particles and titania particles as a projection material and having a particle size of 100 or less. Or an embossed plate having a surface roughness Rz of 30 or more, which is obtained by laminating a chromium layer on the surface of a copper base material having a concavo-convex pattern and then sandblasting using the projection material. A decorative sheet in which the 60 ° gloss value of the outermost surface is 10 or less by embossing from the surface side.
2 . The said decorative sheet is a decorative sheet of said claim | item 1 which has a pattern layer, a transparent resin layer, and a surface protective layer in order on a base material sheet.
3 . A decorative board obtained by joining the decorative sheet according to
4 . Item 4. The decorative board according to Item 3 , wherein the adherend is a wood material.
5 . A method for producing a decorative sheet having a surface protective layer on the surface according to item 1, wherein the 60 ° gloss value of the outermost surface is 10 or less,
Surface protection by coating a coating liquid containing an ionizing radiation curable resin and an inorganic filler on the outermost surface, and the content of the inorganic filler is 15 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the resin component, followed by curing. After the step of forming a layer and the surface of the copper base material having a concavo-convex pattern, sandblasting is performed using at least one of alumina particles and titania particles as a projection material and having a particle size of 100 or less . An embossed plate having a surface roughness Rz of 30 or more obtained by laminating a chromium layer or laminating a chromium layer on the surface of a copper substrate having an uneven pattern and then sandblasting using the projection material The manufacturing method containing the process of embossing from the outermost surface side using.
以下、本発明のエンボス版及び化粧シートについて説明する。 Hereinafter, the embossed plate and the decorative sheet of the present invention will be described.
1.エンボス版
本発明のエンボス版は、1)凹凸模様を有する銅基材の表面をサンドブラスト処理した後、クロム層を積層すること、又は2)凹凸模様を有する銅基材にクロム層を積層した後、サンドブラスト処理すること、により得られ、表面粗さRzが30以上であることを特徴とする。
1. Embossed plate The embossed plate of the present invention is obtained by 1) sandblasting the surface of a copper substrate having a concavo-convex pattern and then laminating a chromium layer, or 2) after laminating a chromium layer on a copper substrate having a concavo-convex pattern The surface roughness Rz is 30 or more, which is obtained by sandblasting.
銅基材に付与されている凹凸模様は、エンボス加工によって化粧シートおもて面に付与すべき模様である。凹凸模様としては、例えば、木目導管模様、浮造模様(浮出した年輪の凹凸模様)ヘアライン、梨地等の方向性のある模様が挙げられ、これらの中から所望の模様を適宜選択することができる。この中でも、木目導管模様は、木質化粧シートのおもて面に付与する凹凸模様として好適である。 The uneven pattern imparted to the copper base material is a pattern to be imparted to the front surface of the decorative sheet by embossing. Examples of the concavo-convex pattern include directional patterns such as a wood grain conduit pattern, a float pattern (a concavo-convex pattern of raised annual rings), a hairline, and a satin texture, and a desired pattern can be appropriately selected from these patterns. . Among these, the wood grain conduit pattern is suitable as an uneven pattern imparted to the front surface of the woody decorative sheet.
銅基材に凹凸模様を付与する方法は限定的ではない。例えば、公知の腐食法等によって銅基材に凹凸模様を付与できる。かかる凹凸模様の付与工程の一例を示す。先ず、所定の凹凸模様(木目導管模様、浮造模様等)のパターンをコンピュータ画面上で作成後、前記パターンの画像をエンボス版のシリンダーの円周長でエンドレスになるようエンドレスファイルを作成する。エンドレスファイルの作成には、エンドレスパターン発生のソフトを設計しても良いし、ファイル接合部分を市販のレタッチソフトで修正しても良い。かかるエンドレスファイルの凹凸模様データを、レジスト感光液を塗布した銅基材(エンボスシリンダー)上にレーザーストリーム製版装置を用いて直接出力して焼き付ける。この場合、シリンダー幅方向には、レーザーストリーム製版装置の幅送り機能を利用できる。次いで、シリンダーの現像、腐食、レジスト剥離を行うことにより、銅基材に所望のエンボス凹凸模様を付与することができる。なお、銅基材に付与する凹凸模様の表面粗さは限定されず、従来、銅基材(エンボスシリンダー)に凹凸模様を付与する場合と同じでよいが、後続のサンドブラスト処理により凹凸模様が消失しないように、凹凸模様の深さ(版深)は35μm以上に設定することが好ましい。なお、銅基材のモース硬度は3程度(2〜4程度)であることが好ましい。 The method for imparting the concavo-convex pattern to the copper base material is not limited. For example, a concavo-convex pattern can be imparted to the copper base material by a known corrosion method or the like. An example of the uneven | corrugated pattern provision process is shown. First, after creating a pattern of a predetermined concavo-convex pattern (wood conduit pattern, float pattern, etc.) on a computer screen, an endless file is created so that the image of the pattern is endless with the circumference of the cylinder of the embossed plate. To create an endless file, software for generating an endless pattern may be designed, and the file joint portion may be corrected with commercially available retouching software. The concavo-convex pattern data of the endless file is directly output and baked on a copper base material (embossed cylinder) coated with a resist photosensitive solution using a laser stream plate making apparatus. In this case, the width feed function of the laser stream plate making apparatus can be used in the cylinder width direction. Subsequently, a desired embossed concavo-convex pattern can be imparted to the copper base material by performing development, corrosion, and resist peeling of the cylinder. The surface roughness of the concavo-convex pattern to be applied to the copper base material is not limited and may be the same as the conventional case of providing the concavo-convex pattern to the copper base material (embossed cylinder), but the concavo-convex pattern disappears by the subsequent sandblasting treatment. In order to avoid this, it is preferable to set the depth of the uneven pattern (plate depth) to 35 μm or more. In addition, it is preferable that the Mohs hardness of a copper base material is about 3 (about 2-4).
1)の方法により凹凸模様を有する銅基材をサンドブラスト処理する際は、後続のクロム層の積層により得られるエンボス版の表面粗さRzが30以上(好ましくは30〜60)となる条件であれば特に限定されない。また、2)の方法により凹凸模様を有する銅基材にクロム層を積層後、サンドブラスト処理する場合も同様である。 When sandblasting a copper substrate having a concavo-convex pattern by the method of 1), the surface roughness Rz of the embossed plate obtained by laminating subsequent chromium layers should be 30 or more (preferably 30 to 60). If it does not specifically limit. The same applies to the case where the chrome layer is laminated on the copper base material having the concavo-convex pattern by the method 2) and then sandblasted.
クロム層の積層厚さは、1)の方法では15〜30μm程度が好ましく、2)の方法では15μm以上であれば好ましく、凹凸模様を損失しない程度であれば上限は限定されず、例えば300μm程度に設定できる。クロム層は、例えば、メッキ等によって付与される。 The laminated thickness of the chromium layer is preferably about 15 to 30 μm in the method 1), preferably 15 μm or more in the method 2), and the upper limit is not limited as long as the uneven pattern is not lost. For example, about 300 μm Can be set. A chromium layer is provided by plating etc., for example.
サンドブラスト処理に用いる投射材料としては、鉄、炭化珪素、アルミナ、チタニア、酸化クロム、酸化鉄等の無機粒子が使用できる。これらの投射材料の中でもアルミナ粒子及び酸化チタン粒子の少なくとも1種が好ましい。無機粒子の形状は限定的ではないが、一般に不定形である。無機粒子のモース硬度は7程度(6〜9程度)であることが好ましい。無機粒子の粒度は100番手以下(♯100以下)が好ましい。サンドブラスト処理は、無機粒子を投射材料として、例えば、これを圧搾空気の力によってノズルの先端から銅基板の表面に吹き付けることによって行う。本発明では、サンドブラスト処理は、クロム層の積層との組み合わせで所定の表面粗さが得られるように、1回又は複数回に分けて行うことができる。 As the projection material used for the sandblasting treatment, inorganic particles such as iron, silicon carbide, alumina, titania, chromium oxide, iron oxide and the like can be used. Among these projection materials, at least one of alumina particles and titanium oxide particles is preferable. The shape of the inorganic particles is not limited, but is generally indefinite. The Mohs hardness of the inorganic particles is preferably about 7 (about 6 to 9). The particle size of the inorganic particles is preferably 100 or less (# 100 or less). The sand blasting is performed by spraying inorganic particles as a projection material, for example, from the tip of the nozzle to the surface of the copper substrate by the force of compressed air. In the present invention, the sandblasting treatment can be performed once or a plurality of times so that a predetermined surface roughness can be obtained in combination with the lamination of chromium layers.
1)の方法でサンドブラスト処理に続いて処理面にクロム層を積層する際は、クロム層の積層厚さは15〜30μm程度である。これにより、表面粗さRzが30以上(好ましくは30〜60)であるエンボス版が得られる。また、2)の方法でサンドブラスト処理に先立ってクロム層を積層する際は、クロム層の厚さは15μm以上であれば好ましく、上限としては300μm程度である。クロム層の積層後、サンドブラスト処理により、表面粗さRzが30以上(好ましくは30〜60)であるエンボス版が得られる。 When the chromium layer is laminated on the treated surface following the sandblasting process by the method 1), the laminated thickness of the chromium layer is about 15 to 30 μm. Thereby, an embossed plate having a surface roughness Rz of 30 or more (preferably 30 to 60) is obtained. Moreover, when laminating a chromium layer prior to sandblasting by the method 2), the thickness of the chromium layer is preferably 15 μm or more, and the upper limit is about 300 μm. After lamination of the chromium layer, an embossed plate having a surface roughness Rz of 30 or more (preferably 30 to 60) is obtained by sandblasting.
なお、本明細書のRzは、JIS B 0601に規定されている十点平均粗さであり、測定長4mm、カットオフ値0.8mm条件での測定値である(Rzはサンドブラスト処理+クロム層の積層により得られるブラスト面の表面粗さであり、木目導管模様等の凹凸模様の影響は含まない)。 In addition, Rz of this specification is a ten-point average roughness prescribed | regulated to JISB0601, and is a measured value on measurement length 4mm and cut-off value 0.8mm conditions (Rz is a sandblasting process + chromium layer) This is the surface roughness of the blasted surface obtained by laminating, and does not include the influence of uneven patterns such as the wood grain conduit pattern).
上記過程を経て得られるエンボス版は、化粧シートに付与すべき凹凸模様(木目導管模様などのエンボス凹凸模様)に加えて、サンドブラスト処理に起因する特定のサンドブラスト模様も有する。このようなエンボス版を用いて化粧シート最表面をエンボス加工した場合には、エンボス凹凸模様のほか、サンドブラスト模様も付与される。そして、かかるサンドブラスト模様が付与されることにより、化粧シートのおもて面は低艶(60°艶値が10以下となる。 The embossed plate obtained through the above process has a specific sandblast pattern resulting from the sandblasting process in addition to the uneven pattern to be applied to the decorative sheet (embossed uneven pattern such as a wood grain conduit pattern). When the outermost surface of the decorative sheet is embossed using such an embossed plate, a sandblast pattern is provided in addition to the embossed uneven pattern. And by providing such a sandblast pattern, the front surface of the decorative sheet has a low gloss (60 ° gloss value is 10 or less).
2.化粧シート
本発明の化粧シートは最表面に表面保護層を有する化粧シートであって、上記本発明のエンボス版によって最表面側からエンボス加工されることにより前記最表面の60°艶値が10以下の低艶であることを特徴とする。
2. The decorative sheet of the present invention is a decorative sheet having a surface protective layer on the outermost surface, and the 60 ° gloss value of the outermost surface is 10 or less by being embossed from the outermost surface side by the embossed plate of the present invention. It is characterized by low gloss.
化粧シートの層構成は、最表面に表面保護層を有する限り特に限定されず、公知の化粧シートの構成を広く採用できる。その中でも、基材シート上に絵柄層、透明性樹脂層及び表面保護層を順に有する化粧シートが好適例として挙げられる。 The layer configuration of the decorative sheet is not particularly limited as long as it has a surface protective layer on the outermost surface, and the configurations of known decorative sheets can be widely adopted. Among them, a decorative sheet having a pattern layer, a transparent resin layer, and a surface protective layer in this order on a base sheet is a preferred example.
以下、この層構成を例に挙げて具体的に説明する。 Hereinafter, this layer configuration will be specifically described by taking an example.
基材シート及び透明性樹脂層
基材シート及び透明性樹脂層は、後者が透明性であるほかは、公知の化粧シートで使用される材質(樹脂)を用いることができる。
The base material sheet and the transparent resin layer The base material sheet and the transparent resin layer can be made of a material (resin) used in a known decorative sheet, except that the latter is transparent.
これらの層の形成に使用される樹脂としては、熱可塑性樹脂が好ましい。具体的には、軟質、半硬質又は硬質ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸エステル共重合体、アイオノマー、アクリル酸エステル、メタアクリル酸エステル等が挙げられる。本発明では、特に透明性樹脂層として、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂が好ましい。 The resin used for forming these layers is preferably a thermoplastic resin. Specifically, soft, semi-rigid or rigid polyvinyl chloride, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyamide, polyethylene, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-acrylic acid ester copolymer Examples include polymers, ionomers, acrylic esters, and methacrylic esters. In the present invention, a polyolefin resin such as polypropylene is particularly preferable as the transparent resin layer.
これらの層は着色されていても良い。この場合は、上記樹脂に着色剤(顔料又は染料)を配合することにより着色することができる。着色剤としては、チタン白、亜鉛華、弁柄、朱、群青、コバルトブルー、チタン黄、カーボンブラック等の無機顔料、イソインドリノン、ハンザイエローA、キナクリドン、パーマネントレッド4R、フタロシアニンブルー、インダスレンブルーRS、アニンリンブラック等の有機顔料(染料も含む)、アルミニウム、真鍮等の金属顔料、二酸化チタン被覆雲母、塩基性炭酸鉛等の箔粉からなる真珠光沢(パール)顔料等が挙げられる。これらは、1種又は2種以上で使用することができる。また、着色剤の添加量も、所望の色合い等に応じて適宜設定すれば良い。 These layers may be colored. In this case, it can color by mix | blending a coloring agent (a pigment or dye) with the said resin. Colorants include titanium white, zinc white, petal, vermilion, ultramarine, cobalt blue, titanium yellow, carbon black and other inorganic pigments, isoindolinone, Hansa Yellow A, quinacridone, permanent red 4R, phthalocyanine blue, indanthrene. Examples thereof include organic pigments (including dyes) such as blue RS and aniline black, metal pigments such as aluminum and brass, pearlescent pigments made of foil powder such as titanium dioxide-coated mica and basic lead carbonate, and the like. These can be used alone or in combination of two or more. Further, the addition amount of the colorant may be appropriately set according to the desired color tone.
また、これらの層には、充填剤、発泡剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、ラジカル捕捉剤、軟質成分(例えばゴム)等の各種の添加剤が含まれていてもよい。 In addition, these layers include various kinds of fillers, foaming agents, flame retardants, lubricants, antistatic agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, radical scavengers, soft components (for example, rubber), and the like. Additives may be included.
難燃剤は、耐燃性を付与するために添加される。例えば、塩化パラフィン、トリクレジルホスフェート、塩素化油、テトラブロモ無水フタル酸、テトラブロモビスフェノールA、ジブロモプロピルホスフェート、トリ(2,3−ジブロモプロピル)ホスフェート、酸化アンチモン、含水アルミナ、ホウ酸バリウム等を好適に用いることができる。 A flame retardant is added in order to provide flame resistance. For example, chlorinated paraffin, tricresyl phosphate, chlorinated oil, tetrabromophthalic anhydride, tetrabromobisphenol A, dibromopropyl phosphate, tri (2,3-dibromopropyl) phosphate, antimony oxide, hydrous alumina, barium borate, etc. It can be used suitably.
酸化防止剤は、酸化分解を抑制ないしは防止するために添加される。例えば、アルキルフェノール類、アミン類、キノン類等が好適である。 Antioxidants are added to suppress or prevent oxidative degradation. For example, alkylphenols, amines, quinones and the like are suitable.
紫外線吸収剤は、樹脂(特にポリオレフィン系樹脂)の劣化を招く波長280〜450nmの領域の紫外線を吸収するものである。例えば、ベンゾフェノン系、サリチレート系、ベンゾトリアゾール系、アクリロニトリル系等の各紫外線吸収剤を挙げることができる。例えば、分子中にOH基を有する有機系の化合物を使用することができる。具体的には、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−tert−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−tert−アミル−5’−イソブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−イソブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−イソブチル−5’−プロピルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール等の2’−ヒドロキシフェニル−5−クロロベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤類、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール等の2’−ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤類等のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2、2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシ−4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン系紫外線吸収剤類、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン等の2−ヒドロキシベンゾフェノン系紫外線吸収剤類等のベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸フェニル、4−tert−ブチルフェニルサリチレート等のサリチル酸エステル系紫外線吸収剤等が挙げられる。その他にも、ベンゾトリアゾール骨格にアクリロイル基又はメタクリロイル基が導入された反応型紫外線吸収剤等を用いることもできる。これらのうち、吸収波長と着色性の問題を考慮してベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましい。 The ultraviolet absorber absorbs ultraviolet rays in a wavelength range of 280 to 450 nm that causes deterioration of the resin (particularly polyolefin resin). Examples thereof include benzophenone-based, salicylate-based, benzotriazole-based, and acrylonitrile-based ultraviolet absorbers. For example, an organic compound having an OH group in the molecule can be used. Specifically, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-tert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3′-tert-butyl-5 ′) -Methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-tert-amyl-5'-isobutylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'- 2′-hydroxyphenyl-5-5 such as isobutyl-5′-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3′-isobutyl-5′-propylphenyl) -5-chlorobenzotriazole Chlorobenzotriazole ultraviolet absorbers, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-tert-butylphenyl) benzotriazo Benzotriazole-based UV absorbers such as 2'-hydroxyphenylbenzotriazole-based UV absorbers such as 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2,2'-dihydroxy-4- Methoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4,4′-dimethoxybenzophenone, 2,2 ′, 4,4′-tetrahydroxy-4,4′-tetrahydroxybenzophenone UV absorbers, 2,4-dihydroxy Examples include benzophenone ultraviolet absorbers such as 2-hydroxybenzophenone ultraviolet absorbers such as benzophenone, and salicylic acid ester ultraviolet absorbers such as phenyl salicylate and 4-tert-butylphenyl salicylate. In addition, a reactive ultraviolet absorber in which an acryloyl group or a methacryloyl group is introduced into the benzotriazole skeleton can also be used. Of these, benzotriazole-based ultraviolet absorbers are particularly preferred in consideration of absorption wavelength and colorability problems.
ラジカル捕捉剤は、日光による変褪色、亀裂、白化、強度劣化等を防止して耐候性を向上させるために添加される。ラジカル捕捉剤としては、ビス−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)セバケートのほか、例えば特公平4−82625号公報に開示されている化合物等のヒンダードアミン系ラジカル捕捉剤、ピペリジル系ラジカル捕捉剤等が使用される。 The radical scavenger is added to prevent discoloration due to sunlight, cracks, whitening, strength deterioration, and the like and improve weather resistance. As the radical scavenger, in addition to bis- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidinyl) sebacate, for example, a hindered amine radical scavenger such as a compound disclosed in JP-B-4-82625, Piperidyl radical scavengers and the like are used.
これらの層の形成方法は限定的でなく、例えば予め形成されたシート又はフィルムを隣接する層に積層する方法、前記樹脂を含む樹脂組成物を溶融押出することにより隣接する層上に塗工する方法、隣接する層と一緒にラミネートする方法等のいずれも採用することができる。本発明では、特に溶融押出により層形成することが好ましく、特にポリオレフィン系樹脂を溶融押出によって形成することが望ましい。具体的には、絵柄層上に予め接着剤層を形成し、当該接着剤層上にポリプロピレン系熱可塑性エラストマーを溶融押出により塗工することで好適に形成することができる。溶融押出の方法は、例えばTダイ等を用いる公知の方法に従って実施すればよい。 The method for forming these layers is not limited, for example, a method in which a preformed sheet or film is laminated on an adjacent layer, or a resin composition containing the resin is applied onto an adjacent layer by melt extrusion. Any of a method and a method of laminating together with adjacent layers can be employed. In the present invention, it is particularly preferable to form a layer by melt extrusion, and it is particularly desirable to form a polyolefin resin by melt extrusion. Specifically, it can be suitably formed by previously forming an adhesive layer on the pattern layer and applying a polypropylene thermoplastic elastomer on the adhesive layer by melt extrusion. What is necessary is just to implement the method of melt extrusion, for example according to the well-known method using a T die.
これらの層の厚みは、最終製品の用途、使用方法等により適宜設定できるが、一般的には50〜250μmの範囲とすることが好ましい。特に、透明性樹脂層は、20〜200μm程度とすることが好ましい。 The thickness of these layers can be appropriately set depending on the use of the final product, the method of use, and the like, but generally it is preferably in the range of 50 to 250 μm. In particular, the transparent resin layer is preferably about 20 to 200 μm.
基材シートの表面(おもて面)及び/又は裏面には、隣接する層との接着性を高めるために、必要に応じてコロナ放電処理を行うこともできる。コロナ放電処理の方法・条件は、公知の方法に従えばよい。 Corona discharge treatment can also be performed on the front surface (front surface) and / or the back surface of the base sheet, if necessary, in order to enhance the adhesion with the adjacent layers. The method and conditions for the corona discharge treatment may follow a known method.
また、基材シートの表面(おもて面)及び/又は裏面には、プライマー層を形成することもできる。プライマー層を形成するための材料(プライマー剤)としては、例えばポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール樹脂、ニトロセルロース樹脂等の樹脂類のほか、アルキルチタネート、エチレンイミン等の化合物も使用することができる。特に、2液硬化型のウレタン系樹脂の使用が好ましい。イソシアネートとしてヘキサメチレンジイソシアネート(HMDI)等の脂肪酸イソシアネート(脂肪族イソシアネート)、ポリオールとしてアクリルポリオールをそれぞれ使用する場合には、より優れた耐候性、密着性等が得られるので好ましい。 Moreover, a primer layer can also be formed on the front surface (front surface) and / or the back surface of the base sheet. As a material for forming the primer layer (primer agent), for example, polyester resins, polyurethane resins, acrylic resins, polycarbonate resins, vinyl chloride / vinyl acetate copolymers, polyvinyl butyral resins, nitrocellulose resins, and other resins Further, compounds such as alkyl titanate and ethyleneimine can also be used. In particular, it is preferable to use a two-component curable urethane resin. It is preferable to use fatty acid isocyanate (aliphatic isocyanate) such as hexamethylene diisocyanate (HMDI) as the isocyanate and acrylic polyol as the polyol, because more excellent weather resistance and adhesion can be obtained.
プライマー層の形成は、プライマー剤をそのまま又は溶媒に溶解若しくは分散させて、公知の印刷方法、塗布方法等に従ってプライマー層を形成することができる。 The primer layer can be formed according to a known printing method, coating method, or the like by dissolving or dispersing the primer agent as it is or in a solvent.
絵柄層
絵柄層(印刷層)は、木目、節目等の天然素材が有する柄のほか、文字、記号、図等も表わすことができる。
Picture layer The picture layer (printing layer) can represent characters, symbols, drawings, etc. in addition to the patterns of natural materials such as wood grain and joints.
絵柄層は、着色剤及び樹脂バインダーを含むインキを用いて形成できる。バインダーとしては、例えば塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン等の塩素化ポリオレフィン、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、セルロース系樹脂等を用いることができ、これらの1種又は2種以上を使用することができる。着色剤としては、公知のもの又は市販品が使用できる。具体的には、前記の着色剤を用いることができる。 The pattern layer can be formed using an ink containing a colorant and a resin binder. As the binder, for example, chlorinated polyolefin such as chlorinated polyethylene and chlorinated polypropylene, polyester resin, urethane resin, acrylic resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, cellulose resin, and the like can be used. Or 2 or more types can be used. As the colorant, known or commercially available products can be used. Specifically, the above colorants can be used.
絵柄層の形成は、例えばグラビア印刷、オフセット印刷、シルクスクリーン印刷、転写シートからの転写印刷等の公知の印刷法により好適に実施することができる。例えば、絵柄層が木目の基調色になるように、顔料(又は染料)添加により着色されたインキを用いて印刷すれば良い。 The pattern layer can be suitably formed by a known printing method such as gravure printing, offset printing, silk screen printing, or transfer printing from a transfer sheet. For example, printing may be performed using an ink colored by adding a pigment (or dye) so that the pattern layer has a wood grain base color.
接着剤層
絵柄層と透明性樹脂層との間には接着剤層が介在してもよい。
An adhesive layer may be interposed between the adhesive layer picture layer and the transparent resin layer.
接着剤層で使用する接着剤は、公知又は市販の接着剤の中から、絵柄層又は透明性樹脂層を構成する成分等に応じて適宜選択することができる。例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂のほか、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂等の熱硬化性樹脂が挙げられる。 The adhesive used in the adhesive layer can be appropriately selected from known or commercially available adhesives according to the components constituting the pattern layer or the transparent resin layer. Examples thereof include thermosetting resins such as polyester resins, polyurethane resins, and epoxy resins, in addition to polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene.
この中でも、本発明では、耐熱性等をより高めることができるという点でウレタン系樹脂接着剤が好ましい。ウレタン系樹脂接着剤は、ポリオールを主剤とし、イソシアネートを架橋剤(硬化剤)とする2液硬化型ウレタン樹脂が挙げられる。 Among these, in this invention, a urethane type resin adhesive is preferable at the point that heat resistance etc. can be improved more. Examples of the urethane resin adhesive include a two-component curable urethane resin having a polyol as a main component and an isocyanate as a crosslinking agent (curing agent).
上記ポリオールとしては、分子中に2個以上の水酸基を有するものである。例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、アクリルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカーボネートポリオール等が用いられる。 The polyol has two or more hydroxyl groups in the molecule. For example, polyethylene glycol, polypropylene glycol, acrylic polyol, polyester polyol, polyether polyol, polycarbonate polyol and the like are used.
また、上記イソシアネートとしては、分子中に2個以上のイソシアネート基を有する多価イソシネートが用いられる。例えば、2,4−トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、4,4−ジフェニルメタンジイソシアネート等の芳香族イソシアネート類、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水素添加トリレンジイソシアネート、水素添加ジフェニルメタンジイソシアネート等の脂肪族(乃至は脂環族)イソシアネートが用いられる。また、上記各種イソシアネートの付加体又は多量体を用いることもできる。例えば、トリレンジイソシアネートの付加体、トリレンジイソシアネートの3量体等が挙げられる。 Moreover, as said isocyanate, the polyvalent isocyanate which has a 2 or more isocyanate group in a molecule | numerator is used. For example, aromatic isocyanates such as 2,4-tolylene diisocyanate, xylene diisocyanate, 4,4-diphenylmethane diisocyanate, aliphatics such as hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, hydrogenated tolylene diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate (or Alicyclic) isocyanates are used. Further, adducts or multimers of the above various isocyanates can also be used. Examples thereof include adducts of tolylene diisocyanate and trimers of tolylene diisocyanate.
なお、必要に応じて、接着面にコロナ放電処理、プラズマ処理、脱脂処理、表面粗面化処理等の公知の易接着処理を施すこともできる。 If necessary, the adhesion surface can be subjected to known easy adhesion treatment such as corona discharge treatment, plasma treatment, degreasing treatment, and surface roughening treatment.
接着方法としては、用いる接着剤の種類等に応じて公知の方法に従って実施すれば良い。例えばポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂を用いて溶融押出(エクストルージョンコート法)により絵柄層上に塗工する方法、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂等の熱硬化性樹脂にイソシアネート、アミン等の架橋剤、メチルエチルケトンパーオキサイド、ハイドロパーオキサイド、アザビスイソブチロニトリル等の重合開始剤、ナフテン酸コバルト、ジメチルアニリン等の重合促進剤等を必要により添加した接着剤を塗工し、ドライラミネートする方法を採用することができる。また、本発明では、熱圧着できる接着剤を使用して熱圧着によって絵柄層と透明性樹脂層とを積層することもできる。 What is necessary is just to implement as an adhesion | attachment method according to a well-known method according to the kind etc. of adhesive agent to be used. For example, a method of coating on a pattern layer by melt extrusion (extrusion coating method) using a polyolefin resin such as polyethylene or polypropylene, an isocyanate to a thermosetting resin such as a polyester resin, a polyurethane resin, or an epoxy resin, Apply an adhesive such as a crosslinking agent such as amine, a polymerization initiator such as methyl ethyl ketone peroxide, hydroperoxide, azabisisobutyronitrile, a polymerization accelerator such as cobalt naphthenate, dimethylaniline, etc. A dry laminating method can be employed. In the present invention, the picture layer and the transparent resin layer can be laminated by thermocompression bonding using an adhesive that can be thermocompression bonded.
接着剤層の厚さは、表面保護層、使用する接着剤の種類等に応じて異なるが、通常は0.1〜30μm程度とすれば良い。 The thickness of the adhesive layer varies depending on the surface protective layer, the type of adhesive used, and the like, but is usually about 0.1 to 30 μm.
表面保護層
透明性樹脂層の上には、表面保護層が形成されている。表面保護層は限定的ではないが、樹脂成分として電離放射線硬化型樹脂又は2液硬化型ウレタン系樹脂を含有することが好ましい。実質的には、これらの樹脂から形成されているものが好ましい。電離放射線硬化型樹脂又は2液硬化型ウレタン系樹脂により透明性表面保護層を形成する場合には、化粧シートの耐摩性、耐衝撃性、耐汚染性、耐擦傷性、耐候性等を高め易い。
A surface protective layer is formed on the surface protective layer transparent resin layer. The surface protective layer is not limited, but preferably contains an ionizing radiation curable resin or a two-component curable urethane resin as a resin component. Substantially those formed from these resins are preferred. When forming a transparent surface protective layer with ionizing radiation curable resin or two-component curable urethane resin, it is easy to improve the abrasion resistance, impact resistance, contamination resistance, scratch resistance, weather resistance, etc. of the decorative sheet. .
電離放射線硬化型樹脂としては特に限定されず、紫外線、電子線等の電離放射線の照射により重合架橋反応可能なラジカル重合性二重結合を分子中に含むプレポリマー(オリゴマーを含む)及び/又はモノマーを主成分とする透明性樹脂が使用できる。これらのプレポリマー又はモノマーは、単体又は複数を混合して使用できる。硬化反応は、通常、架橋硬化反応である。 The ionizing radiation curable resin is not particularly limited, and prepolymers (including oligomers) and / or monomers containing radically polymerizable double bonds capable of undergoing a crosslinking reaction upon irradiation with ionizing radiation such as ultraviolet rays and electron beams. A transparent resin containing as a main component can be used. These prepolymers or monomers can be used alone or in combination. The curing reaction is usually a cross-linking curing reaction.
具体的には、前記プレポリマー又はモノマーとしては、分子中に(メタ)アクリロイル基、(メタ)アクリロイルオキシ基等のラジカル重合性不飽和基、エポキシ基等のカチオン重合性官能基等を有する化合物が挙げられる。また、ポリエンとポリチオールとの組み合わせによるポリエン/チオール系のプレポリマーも好ましい。ここで、(メタ)アクリロイル基とは、アクリロイル基又はメタクリロイル基の意味である。 Specifically, as the prepolymer or monomer, a compound having in the molecule a radically polymerizable unsaturated group such as a (meth) acryloyl group or (meth) acryloyloxy group, or a cationically polymerizable functional group such as an epoxy group. Is mentioned. Further, a polyene / thiol prepolymer based on a combination of polyene and polythiol is also preferable. Here, the (meth) acryloyl group means an acryloyl group or a methacryloyl group.
ラジカル重合性不飽和基を有するプレポリマーとしては、例えば、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、トリアジン(メタ)アクリレート、シリコーン(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの分子量としては、通常250〜100000程度が好ましい。 Examples of the prepolymer having a radically polymerizable unsaturated group include polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, triazine (meth) acrylate, and silicone (meth) acrylate. Etc. These molecular weights are usually preferably about 250 to 100,000.
ラジカル重合性不飽和基を有するモノマーとしては、例えば、単官能モノマーとして、メチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。また、多官能モノマーとしては、例えば、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイドトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 As a monomer which has a radically polymerizable unsaturated group, methyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate etc. are mentioned as a monofunctional monomer, for example. Examples of the polyfunctional monomer include diethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane ethylene oxide tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra ( And (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate.
カチオン重合性官能基を有するプレポリマーとしては、例えば、ビスフェノール型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ化合物等のエポキシ系樹脂、脂肪酸系ビニルエーテル、芳香族系ビニルエーテル等のビニルエーテル系樹脂のプレポリマーが挙げられる。また、チオールとしては、例えば、トリメチロールプロパントリチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコレート等のポリチオールが挙げられる。ポリエンとしては、例えば、ジオール及びジイソシアネートによるポリウレタンの両端にアリルアルコールを付加したものが挙げられる。 Examples of the prepolymer having a cationic polymerizable functional group include prepolymers of epoxy resins such as bisphenol type epoxy resins and novolac type epoxy compounds, and vinyl ether type resins such as fatty acid type vinyl ethers and aromatic vinyl ethers. Examples of the thiol include polythiols such as trimethylolpropane trithioglycolate and pentaerythritol tetrathioglycolate. Examples of the polyene include those in which allyl alcohol is added to both ends of polyurethane by diol and diisocyanate.
電離放射線硬化型樹脂を硬化させるために用いる電離放射線としては、電離放射線硬化型樹脂(組成物)中の分子を硬化反応させ得るエネルギーを有する電磁波又は荷電粒子が用いられる。通常は紫外線又は電子線を用いればよいが、可視光線、X線、イオン線等を用いてもよい。 As the ionizing radiation used for curing the ionizing radiation curable resin, electromagnetic waves or charged particles having energy capable of causing a curing reaction of molecules in the ionizing radiation curable resin (composition) are used. Usually, ultraviolet rays or electron beams may be used, but visible light, X-rays, ion rays, or the like may be used.
紫外線源としては、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト、メタルハライドランプ等の光源が使用できる。紫外線の波長としては、通常190〜380nmが好ましい。 As the ultraviolet light source, for example, a light source such as an ultra-high pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a black light, a metal halide lamp can be used. As a wavelength of ultraviolet rays, 190 to 380 nm is usually preferable.
電子線源としては、例えば、コッククロフトワルトン型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が使用できる。その中でも、特に100〜1000keV、好ましくは100〜300keVのエネルギーをもつ電子を照射できるものが好ましい。 As the electron beam source, for example, various electron beam accelerators such as a cockcroft Walton type, a bandegraft type, a resonant transformer type, an insulated core transformer type, a linear type, a dynamitron type, and a high frequency type can be used. Among them, those capable of irradiating electrons having energy of 100 to 1000 keV, preferably 100 to 300 keV are preferable.
2液硬化型ウレタン系樹脂としては特に限定されないが、中でも主剤としてOH基を有するポリオール成分(アクリルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、エポキシポリオール等)と、硬化剤成分であるイソシアネート成分(トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、メタキシレンジイソシアネート等)とを含むものが使用できる。 The two-component curable urethane resin is not particularly limited. Among them, a polyol component (acrylic polyol, polyester polyol, polyether polyol, epoxy polyol, etc.) having an OH group as a main component and an isocyanate component (tolylene diene) which is a curing agent component. Isocyanate, hexamethylene diisocyanate, metaxylene diisocyanate and the like) can be used.
これらの表面保護層は、必要に応じて、耐候剤、可塑剤、安定剤、無機フィラー、分散剤、染料、顔料等の着色剤、溶剤等を含んでもよい。なお、無機フィラーの含有によって表面保護層の低艶化を図ることもできるが、含有量が多くなると内部ヘイズ(白濁)が発生し、下層の絵柄の鮮明性が低下するという問題がある。そのため、無機フィラーの含有量は樹脂成分100重量部に対して15重量部以下(好ましくは6〜14重量部)に設定することが好ましい。 These surface protective layers may contain a weathering agent, a plasticizer, a stabilizer, an inorganic filler, a dispersant, a colorant such as a dye and a pigment, a solvent, and the like, if necessary. In addition, although the glossiness of a surface protective layer can also be aimed at by containing an inorganic filler, when content increases, there exists a problem that internal haze (white turbidity) generate | occur | produces and the clarity of the pattern of a lower layer falls. Therefore, the content of the inorganic filler is preferably set to 15 parts by weight or less (preferably 6 to 14 parts by weight) with respect to 100 parts by weight of the resin component.
表面保護層は、例えば、透明性樹脂層上に電離放射線硬化型樹脂又は2液硬化型ウレタン系樹脂をグラビアコート、ロールコート等の公知の塗工法により塗工後、樹脂を硬化させることにより形成できる。 The surface protective layer is formed by, for example, applying an ionizing radiation curable resin or a two-component curable urethane resin on a transparent resin layer by a known coating method such as gravure coating or roll coating, and then curing the resin. it can.
表面保護層の厚さは特に限定されず、最終製品の特性に応じて適宜設定できるが、通常0.1〜50μm、好ましくは1〜20μm程度である。 The thickness of the surface protective layer is not particularly limited and can be appropriately set according to the characteristics of the final product, but is usually about 0.1 to 50 μm, preferably about 1 to 20 μm.
エンボス加工
本発明では、化粧シートの最表面(表面保護層)側から、本発明のエンボス版を用いてエンボス加工が施されている。
Embossing In the present invention, embossing is performed from the outermost surface (surface protective layer) side of the decorative sheet using the embossed plate of the present invention.
エンボス加工は、例えば、加熱ドラム上で化粧シートを加熱軟化させた後、更に赤外線輻射ヒーターで160〜180℃に加熱し、所望の形の凹凸模様を設けたエンボス板で加圧・賦形し、冷却固定して形成する。本発明では、エンボス版として前記エンボス版を使用する限り、エンボス版を設置するエンボス機は限定されない。例えば、公知の枚葉又は輪転式のエンボス機において、エンボス版を前記エンボス版に代えたものを使用できる。 For embossing, for example, after the decorative sheet is heated and softened on a heating drum, it is further heated to 160 to 180 ° C. with an infrared radiation heater, and pressed and shaped with an embossed plate provided with a concavo-convex pattern of a desired shape. , Cooled and fixed. In this invention, as long as the said embossing plate is used as an embossing plate, the embossing machine which installs an embossing plate is not limited. For example, in a known single wafer or rotary embossing machine, an embossing plate replaced with the embossing plate can be used.
本発明のエンボス版を用いてエンボス加工することにより、所望の凹凸模様に加えて、表面粗さRzが18程度以上のサンドブラスト模様が付与される。このサンドブラスト模様の付与により表面保護層の60°艶値は10以下(好ましくは5〜9)となる。本発明では、エンボス加工により化粧シート表面を低艶化するため、表面保護層に配合する艶消し剤(無機フィラー)の含有量を低く抑えることができる。例えば、表面保護層の樹脂成分100重量部に対して15重量部以下に設定することができる。そのため、艶消し剤の配合によるヘイズの問題が改善されるため、絵柄鮮明性に影響を与えることなく化粧シートを低艶化することができる。 By embossing using the embossed plate of the present invention, a sandblast pattern having a surface roughness Rz of about 18 or more is given in addition to the desired uneven pattern. By applying this sandblast pattern, the 60 ° gloss value of the surface protective layer becomes 10 or less (preferably 5 to 9). In this invention, since the surface of a decorative sheet is made low gloss by embossing, content of the matting agent (inorganic filler) mix | blended with a surface protective layer can be restrained low. For example, it can be set to 15 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the resin component of the surface protective layer. Therefore, since the problem of haze due to the blending of the matting agent is improved, the decorative sheet can be reduced in gloss without affecting the sharpness of the pattern.
3.化粧板
本発明の化粧シートは、被着材を接合することにより化粧板となる。
3. Decorative plate The decorative sheet of the present invention becomes a decorative plate by joining adherends.
被着材
被着材は限定的でなく、公知の化粧板と同様のものを用いることができる。例えば、木質材料、金属、セラミックス、プラスチックス、ガラス等が挙げられる。特に、本発明化粧シートは、木質材料に好適に使用することができる。木質材料としては、具体的には、杉、檜、欅、松、ラワン、チーク、メラピー等の各種素材から作られた突板、木材単板、木材合板、パーティクルボード、中密度繊維板(MDF)等が挙げられる。
Adhering material The adhering material is not limited, and the same material as a known decorative board can be used. For example, wood materials, metals, ceramics, plastics, glass and the like can be mentioned. In particular, the decorative sheet of the present invention can be suitably used for wood materials. Specific examples of wood materials include veneer, wood veneer, wood plywood, particle board, medium density fiberboard (MDF) made from various materials such as cedar, firewood, firewood, pine, lawan, teak, and melapie. Etc.
被着材への積層
積層方法は限定的でなく、例えば接着剤により化粧シートを被着材に貼着する方法等を採用することができる。接着剤は、被着材の種類等に応じて公知の接着剤から適宜選択すれば良い。例えば、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、アイオノマー等のほか、ブタジエン−アクリルニトリルゴム、ネオプレンゴム、天然ゴム等が挙げられる。
The method of laminating and laminating the adherend is not limited, and for example, a method of sticking a decorative sheet to the adherend with an adhesive can be employed. What is necessary is just to select an adhesive agent suitably from well-known adhesive agents according to the kind etc. of to-be-adhered material. Examples include polyvinyl acetate, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ionomer, butadiene-acrylonitrile rubber, neoprene rubber, natural rubber, and the like.
このようにして製造された化粧板は、例えば、壁、天井、床等の建築物の内装材、窓枠、扉、手すり等の建具の表面化粧板、家具又は弱電、OA機器等のキャビネットの表面化粧板等に好ましく用いることができる。 The decorative board manufactured in this way is, for example, interior decoration materials for buildings such as walls, ceilings and floors, surface decorative boards for furniture such as window frames, doors and handrails, furniture or light electrical appliances, cabinets such as OA equipment. It can be preferably used for a surface decorative board or the like.
本発明のエンボス版は、1)凹凸模様を有する銅基材の表面をサンドブラスト処理した後、クロム層を積層すること、又は2)凹凸模様を有する銅基材にクロム層を積層した後、サンドブラスト処理すること、により得られ、表面粗さRzが30以上である。このエンボス版を用いて化粧シートの最表面をエンボス加工することにより、化粧シート最表面にサンドブラスト模様が付与されて最表面の60°艶値が10以下と低艶化することができる。このような効果は、従来のガラスビーズによるブラスト処理では得られず、サンドブラスト処理により初めて得られるものである。 The embossed plate of the present invention is obtained by 1) sandblasting the surface of a copper substrate having a concavo-convex pattern and then laminating a chromium layer, or 2) laminating a chromium layer on a copper substrate having a concavo-convex pattern and then sandblasting. It is obtained by processing, and the surface roughness Rz is 30 or more. By embossing the outermost surface of the decorative sheet using this embossed plate, a sandblast pattern is imparted to the outermost surface of the decorative sheet, and the 60 ° gloss value of the outermost surface can be reduced to 10 or less. Such an effect cannot be obtained by the conventional blasting with glass beads, but can be obtained for the first time by the sandblasting.
以下に実施例及び比較例を示し、本発明をより明確に説明する。但し本発明は実施例に限定されない。 Examples and comparative examples are shown below to explain the present invention more clearly. However, the present invention is not limited to the examples.
実施例1〜4及び比較例1〜6
図1に示す層構成の化粧シートを作製した。着色剤により着色した基材シート1として、ポリプロピレン系樹脂フィルム(厚み60μm)を用意した。この表面及び裏面にコロナ放電処理を施した後、表面にウレタン系樹脂をバインダーとしたプライマー層をグラビア印刷により形成した。次に、ウレタン系樹脂をバインダーとするインキを使用したグラビア印刷にて絵柄層2(厚み2μm)を形成した。一方、裏面にはウレタン系樹脂をバインダーとしたプライマー層(図示せず)をグラビア印刷により形成した。
Examples 1-4 and Comparative Examples 1-6
A decorative sheet having a layer structure shown in FIG. 1 was produced. A polypropylene resin film (thickness: 60 μm) was prepared as the base sheet 1 colored with the colorant. After performing corona discharge treatment on the front and back surfaces, a primer layer using a urethane resin as a binder was formed on the surface by gravure printing. Next, the pattern layer 2 (
次いで、前記の絵柄層の上に2液硬化型ウレタン樹脂からなる塗液を塗工して接着剤層(厚み3μm)を形成した。その上から、ポリプロピレン系熱可塑性エラストマーをTダイで溶融押し出し塗工することによって、透明性樹脂層3(厚み80μm)を形成した。透明性樹脂層3の上に、2液硬化型ウレタン系樹脂を塗工し、プライマー層(厚さ2μm)を形成した。 Next, a coating solution made of a two-component curable urethane resin was applied on the pattern layer to form an adhesive layer (thickness 3 μm). On top of that, a transparent thermoplastic resin layer 3 (thickness 80 μm) was formed by melt extrusion coating a polypropylene thermoplastic elastomer with a T-die. A two-component curable urethane-based resin was applied on the transparent resin layer 3 to form a primer layer (thickness: 2 μm).
次に、電離放射線硬化型樹脂を含む塗液(EB塗液)を用いてグラビアコートにて塗膜を形成した後、175keV及び5Mrad(50kGy)の条件で電子線を照射して塗膜を架橋硬化させることにより、表面保護層4(厚み15μm)を形成した。 Next, after forming a coating film by gravure coating using a coating liquid (EB coating liquid) containing an ionizing radiation curable resin, the coating film is crosslinked by irradiating an electron beam under the conditions of 175 keV and 5 Mrad (50 kGy). The surface protective layer 4 (thickness 15 μm) was formed by curing.
最後に、表面保護層の側を赤外線非接触方式のヒーターで加熱し、表面保護層及び透明性樹脂層を柔らかくした後、直ちに表面保護層の面から熱圧によるエンボス加工を行った。これにより、表面樹脂層にエンボス模様(木目導管模様)とブラスト模様とを有する化粧シートを得た。 Finally, the surface protective layer side was heated with an infrared non-contact heater to soften the surface protective layer and the transparent resin layer, and then immediately embossed by heat pressure from the surface of the surface protective layer. Thereby, a decorative sheet having an embossed pattern (wood grain conduit pattern) and a blast pattern on the surface resin layer was obtained.
エンボス版及びEB塗液の詳細については次に示す。 Details of the embossed plate and the EB coating liquid are shown below.
<実施例1>
・エンボス版
木目導管凹凸形状(導管版深60μm)を有する銅基板(モース硬度3)をサンドブラスト処理(投射材料:♯60のアルミナ粒子、モース硬度9)した後、クロムメッキ(20μm)を施すことにより表面粗さRzが43のエンボス版を作製した。
<Example 1>
・ Embossed plate After sandblasting (projection material: alumina particles of # 60, Mohs hardness 9) on a copper substrate (Mohs hardness 3) having an uneven shape of wood grain conduit depth (conduit plate depth 60 μm), chromium plating (20 μm) is applied. Thus, an embossed plate having a surface roughness Rz of 43 was produced.
エンボス版の表面粗さを図2(a)に示す。また、エンボス加工後の表面保護層の表面粗さを図2(b)に示す。測定機器は(「Surfcom 120A」、株式会社東京精密製)である。
・EB塗液
ウレタンアクリレートオリゴマー 100重量部
シリカ(富士シリシア製:サイシリア450) 14重量部
抗菌剤(銀イオン担持ゼオライト:平均粒径6.4μm) 0.5重量部
酢酸エチル 100重量部
<実施例2>
・エンボス版
木目導管凹凸形状(導管版深60μm)を有する銅基板(モース硬度3)をサンドブラスト処理(投射材料:♯40のアルミナ粒子、モース硬度9)した後、クロムメッキ(20μm)を施すことにより表面粗さRzが45のエンボス版を作製した。
・EB塗液
実施例1と同じものを用いた。
The surface roughness of the embossed plate is shown in FIG. Moreover, the surface roughness of the surface protective layer after embossing is shown in FIG. The measuring instrument is “Surfcom 120A” manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.
・ EB coating liquid Urethane acrylate oligomer 100 parts by weight Silica (manufactured by Fuji Silysia: Cicilia 450) 14 parts by weight Antibacterial agent (silver ion-carrying zeolite: average particle size 6.4 μm) 0.5 parts by weight Ethyl acetate 100 parts by weight <Example 2>
・ Embossed plate After sandblasting (projection material: # 40 alumina particles, Mohs hardness 9) on a copper substrate (Mohs hardness 3) with a grained shape (grain depth 60 μm) in wood grain, chromium plating (20 μm) is applied. Thus, an embossed plate having a surface roughness Rz of 45 was produced.
-EB coating liquid The same thing as Example 1 was used.
<実施例3>
・エンボス版
木目導管凹凸形状(導管版深60μm)を有する銅基板(モース硬度3)をサンドブラスト処理(投射材料:♯100のアルミナ粒子、モース硬度9)した後、クロムメッキ(20μm)を施すことにより表面粗さRzが30のエンボス版を作製した。
・EB塗液
実施例1と同じものを用いた。
<Example 3>
・ Embossed plate Sand-blasting (projection material: # 100 alumina particles, Mohs hardness 9) on a copper substrate (Mohs hardness 3) having an uneven shape of wood grain conduit depth (conduit plate depth 60 μm), followed by chromium plating (20 μm) Thus, an embossed plate having a surface roughness Rz of 30 was produced.
-EB coating liquid The same thing as Example 1 was used.
<実施例4>
・エンボス版
木目導管凹凸形状(導管版深60μm)を有する銅基板(モース硬度3)上にメッキによりクロム層(モース硬度9)を20μm積層し、サンドブラスト処理(投射材料:♯60のアルミナ粒子、モース硬度9)を施すことにより表面粗さRzが33のエンボス版を作製した。
・EB塗液
実施例1と同じものを用いた。
<Example 4>
Embossing plate A copper layer (Mohs hardness 3) having a grain shape of the grain (conduit depth 60 μm) is laminated by plating 20 μm of a chromium layer (Mohs hardness 9), and sandblasting (projection material: # 60 alumina particles, By applying Mohs hardness 9), an embossed plate having a surface roughness Rz of 33 was produced.
-EB coating liquid The same thing as Example 1 was used.
<比較例1>
・エンボス版
木目導管凹凸形状(導管版深60μm)を有する銅基板(モース硬度3)をガラスビーズブラスト処理(投射材料:平均粒径200μmのガラスビーズ、モース硬度5)した後、クロムメッキ(20μm)を施すことにより表面粗さRzが7.5のエンボス版を作製した。
<Comparative Example 1>
・ Embossed plate A copper substrate (Mohs hardness 3) having a grain-concave shape (conduit depth 60 μm) is subjected to glass bead blasting (projection material: glass beads having an average particle size of 200 μm, Mohs hardness 5), and then chrome plating (20 μm). ) To produce an embossed plate having a surface roughness Rz of 7.5.
エンボス版の表面粗さを図3(a)に示す。また、エンボス加工後の表面保護層の表面粗さを図3(b)に示す。
・EB塗液
実施例1と同じものを用いた。
The surface roughness of the embossed plate is shown in FIG. Moreover, the surface roughness of the surface protective layer after embossing is shown in FIG.
-EB coating liquid The same thing as Example 1 was used.
<比較例2>
・エンボス版
木目導管凹凸形状(導管版深60μm)を有する銅基板(モース硬度3)をサンドブラスト処理(投射材料:♯200のアルミナ粒子、モース硬度9)した後、クロムメッキ(20μm)を施すことにより表面粗さRzが13のエンボス版を作製した。
・EB塗液
実施例1と同じものを用いた。
<Comparative example 2>
・ Embossed plate After sandblasting (projection material: # 200 alumina particles, Mohs hardness 9) on a copper substrate (Mohs hardness 3) having an uneven shape of wood grain conduit (conduit depth 60 μm), chromium plating (20 μm) is applied. Thus, an embossed plate having a surface roughness Rz of 13 was produced.
-EB coating liquid The same thing as Example 1 was used.
<比較例3>
・エンボス版
木目導管凹凸形状(導管版深60μm)を有する銅基板(モース硬度3)をサンドブラスト処理(投射材料:♯150のアルミナ粒子、モース硬度9)した後、クロムメッキ(20μm)を施すことにより表面粗さRzが15のエンボス版を作製した。
<Comparative Example 3>
・ Embossed plate A copper substrate (Mohs hardness 3) having an uneven shape (grain depth 60 μm) in a wood grain is sandblasted (projection material: alumina particles of # 150, Mohs hardness 9) and then chromium plated (20 μm). Thus, an embossed plate having a surface roughness Rz of 15 was produced.
エンボス版の表面粗さを図4(a)に示す。また、エンボス加工後の表面保護層の表面粗さを図4(b)に示す。
・EB塗液
実施例1と同じものを用いた。
The surface roughness of the embossed plate is shown in FIG. Moreover, the surface roughness of the surface protective layer after embossing is shown in FIG.
-EB coating liquid The same thing as Example 1 was used.
<比較例4>
・エンボス版
木目導管凹凸形状(導管版深60μm)及び梨地凹凸を有する銅基板(モース硬度3)をガラスビーズブラスト処理(投射材料:平均粒径200μmのガラスビーズ、モース硬度5)した後、クロムメッキ(20μm)を施すことにより表面粗さRzが38のエンボス版を作製した。
<Comparative Example 4>
-Embossed plate Wood grain conduit uneven shape (conduit plate depth 60μm) and satin textured copper substrate (Mohs hardness 3) glass bead blasting (projection material: glass beads with an average particle size of 200μm, Mohs hardness 5), then chromium By applying plating (20 μm), an embossed plate having a surface roughness Rz of 38 was produced.
エンボス版の表面粗さを図5(a)に示す。また、エンボス加工後の表面保護層の表面粗さを図5(b)に示す。
・EB塗液
実施例1と同じものを用いた。
The surface roughness of the embossed plate is shown in FIG. Moreover, the surface roughness of the surface protective layer after embossing is shown in FIG.5 (b).
-EB coating liquid The same thing as Example 1 was used.
<比較例5>
・エンボス版
木目導管凹凸形状(導管版深60μm)を有する銅基板(モース硬度3)をガラスビーズブラスト処理(投射材料:平均粒径200μmのガラスビーズ、モース硬度5)した後、クロムメッキ(20μm)を施すことにより表面粗さRzが7.5のエンボス版を作製した。
<Comparative Example 5>
・ Embossed plate A copper substrate (Mohs hardness 3) having a grain-concave shape (conduit depth 60 μm) is subjected to glass bead blasting (projection material: glass beads having an average particle size of 200 μm, Mohs hardness 5), and then chrome plating (20 μm). ) To produce an embossed plate having a surface roughness Rz of 7.5.
エンボス加工後の表面保護層の表面粗さを図6(b)に示す。
・EB塗液
ウレタンアクリレートオリゴマー 100重量部
シリカ(富士シリシア製:サイシリア450) 18重量部
抗菌剤(銀イオン担持ゼオライト:平均粒径6.4μm) 0.5重量部
酢酸エチル 100重量部
<比較例6>
・エンボス版
木目導管凹凸形状(導管版深60μm)を有する銅基板(モース硬度3)上にメッキによりクロム層(モース硬度9)を20μm積層し、サンドブラスト処理(投射材料:♯180のアルミナ粒子、モース硬度9)を施すことにより表面粗さRzが6のエンボス版を作製した。
・EB塗液
実施例1と同じものを用いた。
FIG. 6B shows the surface roughness of the surface protective layer after embossing.
-EB coating liquid Urethane acrylate oligomer 100 parts by weight Silica (manufactured by Fuji Silysia: Cicilia 450) 18 parts by weight Antibacterial agent (silver ion-carrying zeolite: average particle size 6.4 μm) 0.5 parts by weight Ethyl acetate 100 parts by weight <Comparative Example 6>
-Embossed plate A copper layer (Mohs hardness 3) having a grain shape of a wood grain conduit (conduit depth 60 μm) is laminated by plating with a chromium layer (Mohs hardness 9) 20 μm, and sandblasting (projection material: # 180 alumina particles, An embossed plate having a surface roughness Rz of 6 was produced by applying a Mohs hardness of 9).
-EB coating liquid The same thing as Example 1 was used.
試験例1
実施例及び比較例で作製したエンボス版の物性とエンボス加工後の化粧シートの物性を調べた。その結果を表1に示す。なお、測定方法は、下記の通りとした。
(1)エンボス版表面粗さ:Rz
エンボス版の表面粗さ(Rz:十点平均粗さ)を、JIS B 0601に準拠して、測定長4mm、カットオフ値0.8mmで測定した。なお、Rzはブラスト模様が形成されている表面のRzであり、木目導管模様の凹凸を考慮した表面粗さではない。
(2)絵柄鮮明性
化粧シートおもて面から絵柄を観察した。絵柄が鮮明なものを○、表面保護層の白化等により絵柄が不鮮明なものを×と評価した。
(3)化粧シートおもて面の60°艶値
JIS Z 8761に規定されている60度鏡面光沢測定方法に基づき、化粧シートおもて面の60°艶値を測定した。
Test example 1
The physical properties of the embossed plates prepared in Examples and Comparative Examples and the physical properties of the decorative sheet after embossing were examined. The results are shown in Table 1. The measurement method was as follows.
(1) Embossed plate surface roughness: Rz
The surface roughness (Rz: 10-point average roughness) of the embossed plate was measured according to JIS B 0601 with a measurement length of 4 mm and a cut-off value of 0.8 mm. In addition, Rz is Rz of the surface in which the blast pattern is formed, and is not the surface roughness which considered the unevenness | corrugation of the wood grain conduit pattern.
(2) Pattern clarity The pattern was observed from the front surface of the decorative sheet. The case where the pattern was clear was evaluated as ◯, and the case where the pattern was unclear due to whitening of the surface protective layer was evaluated as X.
(3) 60 ° gloss value of the front surface of the decorative sheet The 60 ° gloss value of the front surface of the decorative sheet was measured based on the 60 ° specular gloss measurement method defined in JIS Z 8761.
表1より、本発明のエンボス版を用いることにより、表面保護層に白化等を生じさせることなく効果的に化粧シートおもて面の艶値を低下させることができることが分かる。 From Table 1, it can be seen that the gloss value of the front surface of the decorative sheet can be effectively reduced without causing whitening or the like in the surface protective layer by using the embossed plate of the present invention.
1.基材シート
2.絵柄印刷層
3.透明性樹脂層
4.表面保護層
1. 1.
Claims (5)
前記表面保護層は、電離放射線硬化型樹脂及び無機フィラーを含み、前記無機フィラーの含有量が前記樹脂成分100重量部に対して15重量部以下であり、
前記化粧シートは、凹凸模様を有する銅基材の表面を、投射材料としてアルミナ粒子及びチタニア粒子の少なくとも1種であって、その粒度が100番手以下のものを用いてサンドブラスト処理した後、クロム層を積層すること、又は凹凸模様を有する銅基材の表面にクロム層を積層した後、前記投射材料を用いてサンドブラスト処理することにより得られる、表面粗さRzが30以上であるエンボス版によって最表面側からエンボス加工されることにより前記最表面の60°艶値が10以下である化粧シート。 A decorative sheet having a surface protective layer on the outermost surface,
The surface protective layer contains an ionizing radiation curable resin and an inorganic filler, and the content of the inorganic filler is 15 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the resin component,
The decorative sheet is a chrome layer after sandblasting the surface of a copper substrate having a concavo-convex pattern using at least one of alumina particles and titania particles as a projection material and having a particle size of 100 or less. Or an embossed plate having a surface roughness Rz of 30 or more, which is obtained by laminating a chromium layer on the surface of a copper base material having a concavo-convex pattern and then sandblasting using the projection material. A decorative sheet in which the 60 ° gloss value of the outermost surface is 10 or less by embossing from the surface side.
最表面に、電離放射線硬化型樹脂及び無機フィラーを含み、前記無機フィラーの含有量が前記樹脂成分100重量部に対して15重量部以下である塗液を塗工後、硬化させることにより表面保護層を形成する工程、及び
凹凸模様を有する銅基材の表面を、投射材料としてアルミナ粒子及びチタニア粒子の少なくとも1種であって、その粒度が100番手以下のものを用いてサンドブラスト処理した後、クロム層を積層すること、又は凹凸模様を有する銅基材の表面にクロム層を積層した後、前記投射材料を用いてサンドブラスト処理することにより得られる、表面粗さRzが30以上であるエンボス版を用いて、最表面側からエンボス加工する工程
を含有する、製造方法。 A method for producing a decorative sheet comprising the surface protective layer according to claim 1, wherein the outermost surface has a 60 ° gloss value of 10 or less,
Surface protection by coating a coating liquid containing an ionizing radiation curable resin and an inorganic filler on the outermost surface, and the content of the inorganic filler is 15 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the resin component, followed by curing. After the step of forming a layer and the surface of the copper base material having a concavo-convex pattern, sandblasting is performed using at least one of alumina particles and titania particles as a projection material and having a particle size of 100 or less . An embossed plate having a surface roughness Rz of 30 or more obtained by laminating a chromium layer or laminating a chromium layer on the surface of a copper substrate having an uneven pattern and then sandblasting using the projection material The manufacturing method containing the process of embossing from the outermost surface side using.
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