JP5427307B1 - Mounting device - Google Patents
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
【課題】簡易な構成でダイシングテープが貼付されているリングフレームにウエハをマウント可能なマウント装置を提供する。
【解決手段】マウント装置1は、上部容器20及び下部容器10を有し、上部容器20及び下部容器10が相対移動可能に構成され、上部容器20と下部容器10とが近接した際に容器密閉シール部材32によって密閉される真空容器と、下部容器10に昇降可能に配置され、ウエハが載置される昇降ステージ11とを備える。下部容器10のダイシングテープが貼り付けられたリングフレームが載置される載置部に分離シール部材31が配置され、上部容器20には、分離シール部材31にリングフレームを押し付ける押圧機構が配置される。分離シール部材31及び押圧機構によりダイシングテープで分割されてそれぞれ気密性が保たれる上部気密室及び下部気密室が形成され、上部気密室と下部気密室の差圧によりダイシングテープをウエハに貼付する。
【選択図】図1Provided is a mounting device capable of mounting a wafer on a ring frame to which a dicing tape is stuck with a simple configuration.
A mount device includes an upper container and a lower container, the upper container and the lower container are configured to be relatively movable, and the container is sealed when the upper container and the lower container are close to each other. A vacuum vessel sealed by a seal member 32 and an elevating stage 11 placed on the lower vessel 10 so as to be movable up and down and on which a wafer is placed are provided. A separation seal member 31 is disposed on the mounting portion on which the ring frame to which the dicing tape of the lower container 10 is attached is disposed, and the upper container 20 is disposed with a pressing mechanism that presses the ring frame against the separation seal member 31. The An upper hermetic chamber and a lower hermetic chamber are formed which are divided by a dicing tape by the separation seal member 31 and the pressing mechanism to maintain airtightness, respectively, and the dicing tape is attached to the wafer by the differential pressure between the upper airtight chamber and the lower airtight chamber .
[Selection] Figure 1
Description
本発明は、リングフレームにウエハをマウントするマウント装置に関する。 The present invention relates to a mounting apparatus for mounting a wafer on a ring frame.
ウエハを1個1個のチップに分割するダイシング工程では、ウエハをリングフレームにマウントしてから行われる。リングフレームへのマウントには、ダイシングテープが用いられる。一般的なマウント方法では、環状のリングフレームの中央部分にウエハを配置し、リングフレーム及びウエハにダイシングテープを貼着することが行われ、貼着にはローラーが用いられる。 The dicing process of dividing the wafer into one chip is performed after the wafer is mounted on the ring frame. A dicing tape is used for mounting on the ring frame. In a general mounting method, a wafer is disposed at the center of an annular ring frame, and a dicing tape is attached to the ring frame and the wafer, and a roller is used for attachment.
しかし、近年ではウエハの薄型化が進み、ローラーを用いた場合、ローラーの押圧力でウエハが破損する事態が生じることから、ローラーを用いないマウント装置が提案されている(例えば、特許文献1、2など)。
However, in recent years, the wafer has been made thinner, and when a roller is used, the wafer may be damaged by the pressing force of the roller. Therefore, a mounting apparatus that does not use a roller has been proposed (for example,
特許文献1では、上下筒体間に接着テープを連続供給するとともに上下筒体間を密封する機構と、下筒体にウエハとマウントフレームを載置して密封状に嵌入する摺動テーブル機構と、上下筒体の気圧調節をする機構を有する接着装置が開示されている。この装置では、摺動テーブル上のマウントフレーム面に接着テープを上下筒体の気圧差によって密着させるようにして、マウントフレームにウエハをマウントしている。
In
また、特許文献2では、弾性シートで区画分離された第1減圧室と第2減圧室とを対向形成するとともに、両減圧室の内圧を制御可能に構成し、第1減圧室には、粘着テープが貼り付けられたリングフレームをその非粘着面を弾性シートに近接させた状態で保持するリングフレーム保持部と、リングフレームに貼り付けられた粘着テープの粘着面に基板を接近させた状態に保持する基板保持部とを備える粘着テープ貼付装置が開示されている。この装置では、両減圧室を所定の圧力まで減圧した後、第2減圧室の圧力のみを大気圧に近づけてゆくよう制御し、リングフレームに基板をマウントしている。 Moreover, in patent document 2, while forming the 1st decompression chamber and the 2nd decompression chamber which were divided by the elastic sheet facing each other, the internal pressure of both decompression chambers can be controlled, and the first decompression chamber has an adhesive. A ring frame holding part that holds the ring frame with the tape attached with the non-adhesive surface thereof close to the elastic sheet, and the substrate is brought close to the adhesive surface of the adhesive tape attached to the ring frame. An adhesive tape pasting device provided with a substrate holding part to hold is disclosed. In this apparatus, after decompressing both decompression chambers to a predetermined pressure, only the pressure in the second decompression chamber is controlled to approach the atmospheric pressure, and the substrate is mounted on the ring frame.
特許文献1では、マウントフレームの開口の中央部にウエハを配置し、これらに長尺の接着テープを貼り付けた後、接着テープをカッティングしてマウントしていることから、ダイシングテープが貼付されているリングフレームにウエハをマウントすることはできない。
In
特許文献2では、弾性シート及び弾性シートを保持する機構が必要であること、また、減圧した際に基板が落下しないように支える基板保持機構が必要になるため、装置の構成が複雑化してしまう。 In Patent Document 2, an elastic sheet and a mechanism for holding the elastic sheet are necessary, and a substrate holding mechanism that supports the substrate so that the substrate does not fall when the pressure is reduced is required, which complicates the configuration of the apparatus. .
本発明は、上記事項に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、簡易な構成でダイシングテープが貼付されているリングフレームにウエハをマウント可能なマウント装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above matters, and an object of the present invention is to provide a mounting device capable of mounting a wafer on a ring frame to which a dicing tape is attached with a simple configuration.
本発明に係るマウント装置は、
上部容器及び下部容器を有し、前記上部容器及び前記下部容器が相対移動可能に構成され、前記上部容器と前記下部容器とが近接した際に容器密閉シール部材によって密閉される真空容器と、
前記下部容器に昇降可能に配置され、ウエハが載置される昇降ステージと、を備え、
前記下部容器のダイシングテープが貼り付けられたリングフレームが載置される載置部に分離シール部材が配置され、
前記上部容器には、前記分離シール部材に前記リングフレームを押し付ける押圧機構が配置され、
前記押圧機構は、前記リングフレームに当接して押圧する押圧部材と、伸縮可能なアクチュエーターとを有し、
前記アクチュエーターが伸張して前記押圧部材が前記リングフレームを前記分離シール部材に押し付け、前記リングフレームが前記分離シール部材に密着することにより、前記真空容器内にて前記ダイシングテープ、前記リングフレーム及び前記分離シール部材で分割されてそれぞれ気密性が保たれる上部気密室及び下部気密室が形成され、前記上部気密室と前記下部気密室の差圧により、前記ダイシングテープを前記ウエハに貼付する、
ことを特徴とする。
The mounting device according to the present invention includes:
A vacuum container having an upper container and a lower container, the upper container and the lower container being configured to be relatively movable, and sealed by a container sealing seal member when the upper container and the lower container are close to each other;
An elevating stage disposed on the lower container so as to be movable up and down and on which a wafer is placed,
A separation seal member is disposed on the mounting portion on which the ring frame to which the dicing tape of the lower container is attached is disposed,
The upper container is provided with a pressing mechanism that presses the ring frame against the separation seal member,
The pressing mechanism includes a pressing member that contacts and presses the ring frame, and an extendable actuator.
When the actuator extends, the pressing member presses the ring frame against the separation seal member, and the ring frame comes into close contact with the separation seal member, so that the dicing tape , the ring frame, and the An upper hermetic chamber and a lower hermetic chamber that are divided by a separation seal member to maintain airtightness are formed, and the dicing tape is attached to the wafer by a differential pressure between the upper hermetic chamber and the lower airtight chamber.
It is characterized by that.
また、前記上部気密室に給気する上部給気ラインと、
前記上部気密室から吸気する上部吸気ラインと、
前記下部気密室に給気する下部給気ラインと、
前記下部気密室から吸気する下部吸気ラインと、
給気量及び吸気量を制御する制御装置と、を備え、
前記制御装置の制御に基づいて前記上部気密室及び前記下部気密室の室圧が変動され、
前記上部気密室の室圧を前記下部気密室の室圧よりも高くして前記ダイシングテープを前記ウエハに向けて凸状に変形させて前記ダイシングテープを前記ウエハに貼付することが好ましい。
An upper air supply line for supplying air to the upper airtight chamber;
An upper intake line for taking in air from the upper airtight chamber;
A lower air supply line for supplying air to the lower airtight chamber;
A lower intake line for taking in air from the lower airtight chamber;
A control device for controlling the air supply amount and the intake air amount,
Based on the control of the control device, the chamber pressure of the upper hermetic chamber and the lower hermetic chamber is changed,
It is preferable that the chamber pressure of the upper hermetic chamber is made higher than the chamber pressure of the lower hermetic chamber, the dicing tape is deformed in a convex shape toward the wafer, and the dicing tape is attached to the wafer.
また、前記制御装置は前記上部気密室及び前記下部気密室の室圧に基づく前記ダイシングテープの変形量に応じて前記昇降ステージの高さを制御することが好ましい。 Further, it is preferable that the control device controls the height of the elevating stage according to a deformation amount of the dicing tape based on a chamber pressure of the upper hermetic chamber and the lower hermetic chamber.
本発明に係るマウント装置では、簡易な構成でダイシングテープが貼付されているリングフレームにウエハをマウントすることができる。 In the mounting apparatus according to the present invention, a wafer can be mounted on a ring frame to which a dicing tape is attached with a simple configuration.
図1〜図3を参照しつつ、本実施の形態に係るマウント装置1の構成について説明する。マウント装置1は、図1に示すように、下部容器10、昇降ステージ11、上部容器20、押圧部材22を有するアクチュエーター21、分離シール部材31、容器密閉シール部材32、下部給気ライン51、上部給気ライン52、下部吸気ライン61、上部吸気ライン62及び制御装置70を備える。
The configuration of the
下部容器10は、上部容器20側が開口した有底円筒状に構成されている。下部容器10の上部容器20に対向する端面は、中央に向けて張り出している。この張り出した部位は、リングフレームが載置される載置面として機能する。このリングフレームが載置される部位には、分離シール部材31が設置されている。分離シール部材31は、リングフレームの形状に応じた円環状に形成されている。分離シール部材31は、ゴムなどの弾性樹脂等、リングフレームに凹凸があっても密着可能な素材から構成される。なお、下部容器10の開口部は昇降ステージ11よりも大きく、昇降ステージ11が通過できるよう構成されている。
The
また、下部容器10の上面には、下部容器10と上部容器20が近接した際に、下部容器10及び上部容器20で囲まれる空間内の気密性を保つ容器密閉シール部材32が設置されている。容器密閉シール部材32は、上部容器20の円環状の端面が当接する箇所に設置されている。容器密閉シール部材32は、ゴムなどの弾性樹脂等、下部容器10と上部容器20とを密着させて、下部容器10と上部容器20とで囲まれる空間を密閉状態にし得る素材から構成される。
Further, on the upper surface of the
下部容器10には、昇降可能な昇降ステージ11が設置されている。昇降ステージ11は、上面にウエハが載置されるものであり、載置されるウエハの位置を一定にする係止部11aを有する。なお、係止部11aは、昇降ステージ11から突出し、昇降ステージ11に格納可能なピンであってもよい。昇降ステージ11は、不図示の駆動装置の駆動により昇降する。昇降ステージ11と下部容器10との摺動部分には不図示のシール部材が配置され、下部容器10内の気密性が保たれる。
The
また、下部容器10には、後述する下部気密室AL1の室圧を計測する圧力計41、下部気密室AL1に大気又は不活性ガスを供給する下部給気ライン51、下部気密室AL1から大気又は不活性ガスを吸引する下部吸気ライン61が接続している。下部給気ライン51及び下部吸気ライン61にはそれぞれバルブ53、63が設置されている。
Further, the
上部容器20は、不図示の駆動装置により昇降可能に構成されている。下部容器10側が開口した有底円筒形状をしている。下部容器10が下降した際、上部容器20の環状の下面が下部容器10に設置されている容器密閉シール部材32に当接するよう構成されている。
The
上部容器20の内部空間には、押圧部材22を有し、垂直方向に伸縮可能なアクチュエーター21が設置されている。アクチュエーター21は押圧部材22を押し下げて、下部容器10に配置されたリングフレームを分離シール部材31に押し付ける。なお、ここでは、アクチュエーター21は、分離シール部材31に沿って、等間隔に6つ設置されている。アクチュエーター21としては、エアシリンダー、油圧シリンダー、サーボモーター等の動力源を利用したものなどが挙げられる。
An
押圧部材22は、リングフレームを押圧した際に、リングフレームと分離シール部材31とが全域に渡って密着するよう、リングフレームの形状に応じた円環状に形成されていることが好ましい。また、押圧部材22のリングフレームに当接する表面は、リングフレームを押圧した際に、リングフレームの変形を抑制すべく、弾性樹脂等から構成されていることが好ましい。
The pressing
また、上部容器20には、後述する上部気密室AL2の室圧を計測する圧力計42、上部気密室AL2に大気又は不活性ガスを供給する上部給気ライン52、上部気密室AL2から大気又は不活性ガスを吸引する上部吸気ライン62が接続している。上部給気ライン52及び上部吸気ライン62にはそれぞれバルブ54、64が設置されている。
Further, the
制御装置70は、上部容器20、アクチュエーター21及び昇降ステージ11の稼働を制御する。また、制御装置70は、バルブ53、54、63、64の開閉を制御し、下部気密室AL1、上部気密室AL2それぞれについての給気並びに吸気を制御する。
The
続いて、マウント装置1によるマウント動作について説明する。なお、下記の動作については、全て制御装置70の制御に基づいて行われるものとする。
Subsequently, a mounting operation by the mounting
まず、図4に示すように、上部容器20が上昇し、上部容器20と下部容器10とが離間した状態で、昇降ステージ11の上面にウエハWが載置される。更に、下部容器10の上面に、ダイシングテープDTが貼付されたリングフレームRFが載置される。リングフレームRFが分離シール部材31に当接するよう載置される。また、リングフレームRFは、ダイシングテープDTの粘着面が昇降ステージ11を向くよう載置される。なお、ウエハW及びリングフレームRFの載置は、ロボットハンド等によって行われるよう構成されていてもよい。
First, as shown in FIG. 4, the
続いて、図5に示すように、上部容器20が下降する。上部容器20の環状の下面が容器密閉シール部材32に当接し、容器密閉シール部材32が上部容器20及び下部容器10で押圧され、容器密閉シール部材32が上部容器20及び下部容器10に密着する。これにより、上部容器20及び下部容器10で囲まれる空間が密閉され、気密性が保持される。
Subsequently, as shown in FIG. 5, the
更に、図6に示すように、アクチュエーター21が駆動し、押圧部材22が下降してリングフレームRFを分離シール部材31に押し付ける。リングフレームRFが分離シール部材31に密着することにより、ダイシングテープDT、リングフレームRF、分離シール部材31及び下部容器10で囲まれる下部気密室AL1と、ダイシングテープDT、リングフレームRF、分離シール部材31及び上部容器20で囲まれる上部気密室AL2が形成される。これにより、下部気密室AL1と上部気密室AL2とは、互いに独立して室圧を制御可能になる。
Further, as shown in FIG. 6, the
続いて、図7に示すように、バルブ63、64が開放されて下部気密室AL1及び上部気密室AL2それぞれの室内が吸気され、下部気密室AL1及び上部気密室AL2の室内が真空状態になる。この際、圧力差によってダイシングテープDTが変形することを抑えるべく、下部気密室AL1及び上部気密室AL2の室圧が同圧を維持するよう吸気が行われる。下部気密室AL1及び上部気密室AL2の制御は、圧力計41、42で測定される室圧をフィードバックし、制御装置70がバルブ63、64の開閉を制御する等により行われる。
Subsequently, as shown in FIG. 7, the
その後、図8に示すように、貼り付け初期において、上部気密室AL2にのみ、大気又は不活性ガスが供給されていく。上部気密室AL2の室圧が上昇するので、ダイシングテープDTがウエハWに向けて凸状に変形する。また、昇降ステージ11を上昇させることで、凸状に変形したダイシングテープDTがウエハWの中央部に貼り付けられる。その後、ダイシングテープDTはウエハWの中央部から外周部へ向けて放射状に貼り付けられていく。なお、昇降ステージ11の昇降速度及び高さは、下部気密室AL1及び上部気密室AL2のそれぞれの室圧に基づくダイシングテープDTの変形量に応じて、制御装置70により制御される。
Thereafter, as shown in FIG. 8, in the initial stage of attachment, the atmosphere or inert gas is supplied only to the upper airtight chamber AL2. Since the chamber pressure of the upper hermetic chamber AL2 increases, the dicing tape DT is deformed in a convex shape toward the wafer W. Further, the dicing tape DT deformed into a convex shape is attached to the central portion of the wafer W by raising the elevating
貼り付け終期においては、図9に示すように、昇降ステージ11の上昇とともに、下部気密室AL1にも大気又は不活性ガスが給気されていく。これにより、ダイシングテープDTの張力が調製され、ウエハW表面に形成されているデバイスに負荷が掛からないようにされる。
At the end of the pasting, as shown in FIG. 9, as the elevating
貼付完了後、図10に示すように、アクチュエーター21による押圧の解除、上部容器20の上昇、及び、昇降ステージ11の下降が行われる。そして、リングフレームRFにマウントされたウエハWがロボットハンド等によって搬出される。
After completion of the sticking, as shown in FIG. 10, the release of the pressure by the
このようにして、ウエハW全面にダイシングテープDTが貼付される。ローラーを用いないので、押圧力によりウエハWが破損することが抑えられる。 In this way, the dicing tape DT is stuck on the entire surface of the wafer W. Since no roller is used, the wafer W can be prevented from being damaged by the pressing force.
また、ウエハW中央部分から放射状に順次ダイシングテープDTが貼り付けることから、ウエハWとダイシングテープDTとの間に気泡が入ることも抑えられる。 In addition, since the dicing tape DT is sequentially attached radially from the central portion of the wafer W, it is possible to suppress bubbles from entering between the wafer W and the dicing tape DT.
更には、下部気密室AL1及び上部気密室AL2は分離シール部材31及び押圧機構により、それぞれの気密性が高い。そして、下部気密室AL1及び上部気密室AL2の室圧をフィードバックし、ダイシングテープDTの変形量に基づいて昇降ステージ11の高さを制御することから、ウエハWの内面貼り付け応力分布を均一にし、ウエハWに形成されているデバイスに掛かる応力を破壊荷重以下に維持して貼付することが可能である。
Further, the lower hermetic chamber AL1 and the upper hermetic chamber AL2 have high airtightness due to the
なお、上記では、押圧機構として、押圧部材22を有するアクチュエーター21を例にとり説明したが、下部気密室AL1及び上部気密室AL2の気密性をそれぞれ保ち得る機構であれば、どのような機構であってもよい。例えば、図10に示すように、スプリング23等の弾性部材の弾性力によって、押圧部材22を押し付ける機構であってもよい。
In the above description, the
1 マウント装置
10 下部容器
11 昇降ステージ
11a 係止部
20 上部容器
21 アクチュエーター
22 押圧部材
23 スプリング
31 分離シール部材
32 容器密閉シール部材
41、42 圧力計
51 下部給気ライン
52 上部給気ライン
53、54 バルブ
61 下部吸気ライン
62 上部吸気ライン
63、64 バルブ
70 制御装置
AL1 下部気密室
AL2 上部気密室
W ウエハ
RF リングフレーム
DT ダイシングテープ
DESCRIPTION OF
Claims (3)
前記下部容器に昇降可能に配置され、ウエハが載置される昇降ステージと、を備え、
前記下部容器のダイシングテープが貼り付けられたリングフレームが載置される載置部に分離シール部材が配置され、
前記上部容器には、前記分離シール部材に前記リングフレームを押し付ける押圧機構が配置され、
前記押圧機構は、前記リングフレームに当接して押圧する押圧部材と、伸縮可能なアクチュエーターとを有し、
前記アクチュエーターが伸張して前記押圧部材が前記リングフレームを前記分離シール部材に押し付け、前記リングフレームが前記分離シール部材に密着することにより、前記真空容器内にて前記ダイシングテープ、前記リングフレーム及び前記分離シール部材で分割されてそれぞれ気密性が保たれる上部気密室及び下部気密室が形成され、前記上部気密室と前記下部気密室の差圧により、前記ダイシングテープを前記ウエハに貼付する、
ことを特徴とするマウント装置。 A vacuum container having an upper container and a lower container, the upper container and the lower container being configured to be relatively movable, and sealed by a container sealing seal member when the upper container and the lower container are close to each other;
An elevating stage disposed on the lower container so as to be movable up and down and on which a wafer is placed,
A separation seal member is disposed on the mounting portion on which the ring frame to which the dicing tape of the lower container is attached is disposed,
The upper container is provided with a pressing mechanism that presses the ring frame against the separation seal member,
The pressing mechanism includes a pressing member that contacts and presses the ring frame, and an extendable actuator.
When the actuator extends, the pressing member presses the ring frame against the separation seal member, and the ring frame comes into close contact with the separation seal member, so that the dicing tape , the ring frame, and the An upper hermetic chamber and a lower hermetic chamber that are divided by a separation seal member to maintain airtightness are formed, and the dicing tape is attached to the wafer by a differential pressure between the upper hermetic chamber and the lower airtight chamber.
A mounting device characterized by that.
前記上部気密室から吸気する上部吸気ラインと、
前記下部気密室に給気する下部給気ラインと、
前記下部気密室から吸気する下部吸気ラインと、
給気量及び吸気量を制御する制御装置と、を備え、
前記制御装置の制御に基づいて前記上部気密室及び前記下部気密室の室圧が変動され、
前記上部気密室の室圧を前記下部気密室の室圧よりも高くして前記ダイシングテープを前記ウエハに向けて凸状に変形させて前記ダイシングテープを前記ウエハに貼付する、
ことを特徴とする請求項1に記載のマウント装置。 An upper air supply line for supplying air to the upper airtight chamber;
An upper intake line for taking in air from the upper airtight chamber;
A lower air supply line for supplying air to the lower airtight chamber;
A lower intake line for taking in air from the lower airtight chamber;
A control device for controlling the air supply amount and the intake air amount,
Based on the control of the control device, the chamber pressure of the upper hermetic chamber and the lower hermetic chamber is changed,
The chamber pressure of the upper hermetic chamber is made higher than the chamber pressure of the lower hermetic chamber, the dicing tape is deformed in a convex shape toward the wafer, and the dicing tape is attached to the wafer.
The mounting apparatus according to claim 1, wherein:
ことを特徴とする請求項2に記載のマウント装置。 The control device controls the height of the elevating stage according to the deformation amount of the dicing tape based on the chamber pressure of the upper hermetic chamber and the lower hermetic chamber,
The mounting apparatus according to claim 2, wherein:
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