JP5422935B2 - 減圧乾燥装置 - Google Patents
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また、透明導電膜の形成は、着色画素及びブラックマトリックスが形成されたガラス基板上に、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)を用いスパッタ法によって透明導電膜を形成するといった方法がとられている。
また、次工程への基板の搬送中に浮遊しているパーティクルなどが付着し易く不良品を発生させることがある。
象は、昇降ピン等と接触した部分と接触しない部分とでガラス基板の熱履歴が異なることが原因となっている。
た、図2は、図1のX−X線における断面図である。
図1及び図2に示すように、一例として示すこのチャンバーは、下部筐体(2A)、上
部筐体(2B)、定盤(3)、天板(4)で構成されている。下部筐体(2A)に上部筐
体(2B)を冠着することにより内部は密閉されたチャンバーとなる。上部筐体(2B)
の上面部には排気口(5)が複数個設けられている。
定盤(3)へのガラス基板(1)の搬入及び搬出は、例えば、ロボットハンド(フォーク)によって行われ、白太矢印で示すように、上部筐体(2B)はその都度に昇降する。天板(4)及び配管(6)は上部筐体(2B)と一体的に上下に昇降するようになっている。
て形成する際の、製造ラインの一例の概略を示す平面図である。図3に示すように、この
一例に示す製造ラインは、洗浄装置(11)、ガラス基板の振り分け装置(12)、第一
塗布装置(13−1)、第二塗布装置(13−2)、第一チャンバー(14−1)、第
二チャンバー(14−2)、ガラス基板の振り戻し装置(15)、プリベーク処理を行
う第一加熱装置(16)、露光装置(17)、現像装置(18)、ポストベーク処理を行
う第二加熱装置(19)で構成されている。
洗浄装置(11)から順次に搬出されたガラス基板は、振り分け装置(12)によって第一塗布装置(13−1)又は第二塗布装置(13−2)へ交互に搬入される。ガラス基板は、減圧処理後に第一チャンバー(14−1)又は第二チャンバー(14−2)から交互に搬出され、振り戻し装置(15)によって第一加熱装置(16)へ順次に搬入される。第一塗布装置(13−1)と第二塗布装置(13−2)は、同一の性能を有したものであり、また第一チャンバー(14−1)と第二チャンバー(14−2)は、同一の性能を有したものである。
図3は、塗布装置の2基を並列に配置した例である。減圧処理は塗布直後に行われるので、塗布装置に付随して、第一塗布装置(13−1)の直後に第一チャンバー(14−1)が設けられ、また第二塗布装置(13−2)の直後に第二チャンバー(14−2)が設けられている。
ては、図4における第一チャンバー(14−1)へのガラス基板の搬入動作中及び密閉動作中と、開放動作中及びガラス基板の搬出動作中は、第一チャンバー(14−1)に接続している第一真空ポンプ(P1)は、運転状態にあるが減圧処理には寄与していないことになる。
また、図4における第二チャンバー(14−2)においても同様である。
1)前記減圧乾燥装置は並列して設けた複数基のチャンバーで構成され、前記複数基のチャンバー内を排気によって減圧する真空ポンプとして、複数基の真空ポンプを備え、
2)前記複数基の各真空ポンプは、配管及びバルブを介して前記複数基の各チャンバーに接続され、
3)前記各チャンバーにおける減圧乾燥処理は、搬入動作及び密閉動作と、減圧処理と、開放動作及び搬出動作のサイクルで行われ、
前記減圧処理は、緩慢な減圧を行う初期と、急速な減圧を行う中期と、前記初期と同様な減圧を行う終期からなり、
4)前記複数の真空ポンプを前記バルブの操作により、第一チャンバーが減圧処理の中期であるときに、第二チャンバーは搬入動作及び密閉動作状態にあり、第一チャンバーが減圧処理の終期であるときに、第二チャンバーは減圧処理の初期にあり、第一チャンバーが開放動作及び搬出動作であるときに、第二チャンバーは減圧処理の中期にある、様に切り替える
ことを特徴とする減圧乾燥装置を提供することを課題とするものである。
図6は、本発明による減圧乾燥装置の一実施例の概略を示す説明図である。図6は、並列
して設けられた2基のチャンバーで構成され、2基の真空ポンプが備えられている例で
ある。2基のチャンバーは同一の性能を有したものであり、また2基の真空ポンプは同
一の性能を有したものである。
ャンバーの減圧に寄与させることが出来なかったが、上記のように、図6に示す排気系においては、その一方の真空ポンプを他方のチャンバーの減圧に寄与させることが可能となる。
して設けられた2基のチャンバーで構成され、4基の真空ポンプが備えられている例で
ある。2基のチャンバーは同一の性能を有したものであり、また4基の真空ポンプは同
一の性能を有したものである。
b)第一真空ポンプ(P1)と第一バルブ(B1)の間に第五バルブ(B5)を設け、また第四真空ポンプ(P4)と第一バルブ(B1)の間に第六バルブ(B6)を設け、
c)第二真空ポンプ(P2)と第二バルブ(B2)の間に第七バルブ(B7)を設け、また第三真空ポンプ(P3)と第二バルブ(B2)の間に第八バルブ(B8)を設けたものである。
これにより、第一真空ポンプ(P1)〜第四真空ポンプ(P4)の全ての真空ポンプは、配管及びバルブを介して第一チャンバー(14−1)及び第二チャンバー(14−2)に接続されているものとなる。
すなわち、第一チャンバー(14−1)に対し、任意の基数の真空ポンプを用いた減圧が行えるものとなる。
チャンバーにガラス基板が搬入される、搬入動作及び密閉動作(D1)の所要時間を20秒、チャンバー内での減圧処理(D2)の所要時間を60秒、開放動作及び搬出動作(D3)の所要時間を20秒とし、1枚のガラス基板に行う減圧乾燥処理の1サイクルを計100秒と設定した。
順次に搬入されるガラス基板にて、次のガラス基板は、前のガラス基板に対し、1/2サイクル(50秒)ずれて搬入されるようにしてある。例えば、符号(a)と(d)、符号(d)と(g)。
尚、2基のチャンバーは同一の性能を有したものであり、また4基の真空ポンプは同一の性能を有したものである。
1枚目のガラス基板への減圧乾燥処理が終了すると(符号(g))、3枚目のガラス基板が搬入され、1枚目のガラス基板への減圧乾燥処理と同一の処理が施される。減圧処理(D2)は、上記のように、a)2基の真空ポンプを用いた減圧処理を10秒、b)4基の真空ポンプを用いた減圧処理を40秒、c)2基の真空ポンプを用いた減圧処理を10秒である。
また、符号(f)〜(h)間は、2枚目のガラス基板の減圧処理の中期であり、4基の真空ポンプが減圧に用いられている。符号(f)〜(h)間は、1枚目のガラス基板の開放動作及び搬出動作(D3)、及び3枚目のガラス基板の搬入動作及び密閉動作(D1)のため4基の真空ポンプを第二チャンバー(14−2)の減圧に用いることができる。
これにより、チャンバーへのガラス基板の搬入動作及び密閉動作と、開放動作及び搬出動作中での、真空ポンプが減圧処理に寄与していない状態は解消され、減圧乾燥処理の能力を向上させることができるものとなる。
先ず、第一チャンバー(14−1)へ1枚目のガラス基板の搬入が開始され(符号(a))、搬入動作及び密閉動作(D1)が完了する(符号(b))。この時点で、第五バルブ(B5)、第六バルブ(B6)、及び第一バルブ(B1)を開き、第一真空ポンプ(P1)及び第四真空ポンプ(P4)の2基の真空ポンプで第一チャンバー(14−1)に対する初期の減圧を開始する(符号(b))。
ての真空ポンプを第一チャンバー(14−1)に対する減圧に用いることができる。
同時に、この時点で、第七バルブ(B7)、第八バルブ(B8)、及び第二バルブ(B2)を開き、第二真空ポンプ(P2)及び第三真空ポンプ(P3)の2基の真空ポンプで第二チャンバー(14−2)に対する初期の減圧を開始する(符号(e))。
符号(f)〜(h)間は、第二チャンバー(14−2)に対する中期の減圧が行われる。この間、第一チャンバー(14−1)は、1枚目のガラス基板の開放動作及び搬出動作(D3)、及び3枚目のガラス基板の搬入動作及び密閉動作(D1)のため4基の真空ポンプを第二チャンバー(14−2)の減圧に用いることができる。
以降、同様にして、第一チャンバー(14−1)に対しては、奇数枚目のガラス基板に対する減圧乾燥処理が行われ、第二チャンバー(14−2)に対しては、偶数枚目のガラス基板に対する減圧乾燥処理が行われる。
また、上記では、2基のチャンバー、4基の真空ポンプを例に説明したが、3基以上のチャンバー、5基以上のの真空ポンプにても同様の効を奏する。
図5に示す減圧乾燥装置は、並列に設けられた2基のチャンバーに4基の真空ポンプが備えられたものであるが、各1基のチャンバーに対し各2基の真空ポンプが固定して接続されている。
また、チャンバー内での減圧処理(D2)の所要時間は60秒であるが、その減圧処理の初期〜終期において、2基の真空ポンプを用いた均一な減圧(図9中、符号(b)〜(e)間、符号(×2))と設定した。
1枚目のガラス基板への減圧乾燥処理が終了すると(符号(f))、3枚目のガラス基板が搬入され、1枚目のガラス基板への減圧乾燥処理と同一の処理が施される。
また、符号(e)〜(g)間は、1枚目のガラス基板の開放動作及び搬出動作(D3)、及び3枚目のガラス基板の搬入動作及び密閉動作(D1)であり、第一チャンバー(14−1)の2基の真空ポンプは減圧に寄与してない。また、この2基の真空ポンプはバルブを介して第二チャンバー(14−2)に接続されてはいない。
一方、図8に示す、本発明による減圧乾燥装置における1基のチャンバーの減圧量は、(2基×10秒)+(4基×40秒)+(2基×10秒)=200基・秒である。すなわち、4基の真空ポンプをバルブを介してチャンバーに接続し、チャンバーの減圧に有効に用いることによって、200/120≒1.7倍といった大幅な減圧量の増となる。
これにより、減圧乾燥処理の1サイクルは、図8に示す100秒が80秒へと大幅に短縮されたものとなる。また、急峻な減圧に伴う塗膜への悪影響を抑制することが容易なものとなり、且つ多様な処理条件を設定することも容易なものとなる。
2A・・・下部筐体
2B・・・上部筐体
3・・・定盤
4・・・天板
5・・・排気口
6・・・排気の配管
6−1〜6−4・・・第一配管〜第四配管
11・・・洗浄装置
12・・・ガラス基板の振り分け装置
13−1、13−2・・・第一塗布装置、第二塗布装置
14−1、14−2・・・第一チャンバー、第二チャンバー
15・・・ガラス基板の振り戻し装置
16−1、16−2・・・第一加熱装置、第二加熱装置
17・・・露光装置
18・・・現像装置
B1〜B8・・・第一バルブ〜第八バルブ
C1〜C4・・・1枚目〜4枚目のガラス基板への減圧乾燥処理のサイクル
D1・・・搬入動作及び密閉動作
D2・・・減圧処理
D3・・・開放動作及び搬出動作
P1〜P4・・・第一真空ポンプ〜第四真空ポンプ
Claims (1)
- ガラス基板上にフォトリソグラフィ法によってパターン形成する際に用いる減圧乾燥装置であって、
1)前記減圧乾燥装置は並列して設けた複数基のチャンバーで構成され、前記複数基のチャンバー内を排気によって減圧する真空ポンプとして、複数基の真空ポンプを備え、
2)前記複数基の各真空ポンプは、配管及びバルブを介して前記複数基の各チャンバーに接続され、
3)前記各チャンバーにおける減圧乾燥処理は、搬入動作及び密閉動作と、減圧処理と、開放動作及び搬出動作のサイクルで行われ、前記減圧処理は、緩慢な減圧を行う初期と、急速な減圧を行う中期と、前記初期と同様な減圧を行う終期からなり、
4)前記複数の真空ポンプを前記バルブの操作により、第一チャンバーが減圧処理の中期であるときに、第二チャンバーは搬入動作及び密閉動作状態にあり、第一チャンバーが減圧処理の終期であるときに、第二チャンバーは減圧処理の初期にあり、第一チャンバーが開放動作及び搬出動作であるときに、第二チャンバーは減圧処理の中期にある、様に切り替えることを特徴とする減圧乾燥装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008194532A JP5422935B2 (ja) | 2008-07-29 | 2008-07-29 | 減圧乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2008194532A JP5422935B2 (ja) | 2008-07-29 | 2008-07-29 | 減圧乾燥装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010034265A JP2010034265A (ja) | 2010-02-12 |
JP5422935B2 true JP5422935B2 (ja) | 2014-02-19 |
Family
ID=41738406
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2008194532A Expired - Fee Related JP5422935B2 (ja) | 2008-07-29 | 2008-07-29 | 減圧乾燥装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5422935B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7369805B2 (ja) * | 2022-01-25 | 2023-10-26 | 株式会社Screenホールディングス | 減圧乾燥装置および減圧乾燥方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62251105A (ja) * | 1986-04-24 | 1987-10-31 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 真空乾燥機の運転方法 |
JPH04119373U (ja) * | 1991-04-11 | 1992-10-26 | 日立工機株式会社 | 真空排気装置 |
IT1270914B (it) * | 1993-03-26 | 1997-05-16 | Cartigliano Spa Off | Impianto a vuoto stabilizzato per essicatoi di pelli industriali a pianali multipli |
JPH09306851A (ja) * | 1996-05-10 | 1997-11-28 | Sony Corp | 減圧排気システムおよび減圧気相処理装置 |
JP4080349B2 (ja) * | 2003-02-21 | 2008-04-23 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 減圧乾燥装置および被膜形成装置 |
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2008
- 2008-07-29 JP JP2008194532A patent/JP5422935B2/ja not_active Expired - Fee Related
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---|---|
JP2010034265A (ja) | 2010-02-12 |
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A977 | Report on retrieval |
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