JP5422485B2 - ガス分析計 - Google Patents
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Description
本実施形態に係るガス分析計100は、例えば半導体製造プロセス中及び装置クリーニング後の真空チャンバVC内のガスモニタに用いられ、図1に示すように、真空チャンバVCに取り付けられて、当該真空チャンバVC内の試料ガスである残留ガスを分析するものである。具体的にこのものは、真空チャンバVC内のプロセスガス又は残留ガス等の試料ガスを検知するセンサ部21と、センサ部21を制御するとともに、当該センサ部21の出力に基づいて残留ガスの分析処理等を行う演算部22とを有するセンサユニット2を備えている。なお、符号3はセンサユニット2に電力を供給する電源である。
このように構成した本実施形態のガス分析計100によれば、イオン導出口211Aの開口サイズをポール電極213P全てに内接する仮想内接円ICよりも小さくすることによって、四重極部213に導入されるイオン量が少なくなりイオン検出部214により得られる信号値が小さくなる結果、最大使用圧力を高圧化することができる。具体的には、最大使用圧力を低真空領域(例えば1.3Pa)まで上げることができる。また、イオン導出口211Aの開口サイズが仮想内接円ICよりも小さいことから、イオン導出口211Aから出るイオンを四重極部213内に導入し易くすることができるので、イオン導出口211Aから出るイオン量そのものが減少しても、そのイオンを有効に活用することができる。さらに、イオン化部211、イオン引き出し電極212、四重極部213及びイオン検出部214が、真空チャンバVC内の雰囲気圧力に晒されるように配置される構成であることから、差動排気機構が不要であり、ガス分析計100をコンパクトに構成することができる。
なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。
211 ・・・イオン化部
211A・・・イオン導出口
211B・・・ガス導入部
212 ・・・イオン引き出し電極
212H・・・開口部
213 ・・・四重極部
213P・・・ポール電極
IC ・・・仮想内接円
214 ・・・イオン検出部
215 ・・・保護カバー(周辺部材)
216 ・・・不等電位低減構造
Claims (3)
- 真空チャンバに取り付けられて、当該真空チャンバ内の試料ガスを分析するものであり、
試料ガスをイオン化するとともに、そのイオンを外部に導出するためのイオン導出口を有するイオン化部と、
前記イオン化部のイオン導出口の外側に設けられて、イオンを引き出すイオン引き出し電極と、
前記イオン引き出し電極によりイオン化部から導出されたイオンを選択的に通過させる四重極部と、
前記四重極部を通過したイオンを検出するイオン検出部とを備え、
前記イオン化部、前記イオン引き出し電極、前記四重極部及び前記イオン検出部が、前記真空チャンバ内の雰囲気圧力に晒されるように配置されており、
前記イオン導出口の開口サイズが、前記イオン検出部により得られる信号値がピーク値となる雰囲気圧力を示す最大使用圧力を上げるべく、前記四重極部を構成する4つのポール電極全てに内接する仮想内接円よりも小さく構成されているガス分析計。 - 前記イオン引き出し電極が、イオンが通過する開口部を有しており、当該開口部の開口サイズが、前記イオン化部から出る電子量を低減すべく、前記イオン導出口の開口サイズよりも小さく構成されている請求項1記載のガス分析計。
- 前記イオン化部が、当該イオン化部の外部に設けられたグランド電位の周辺部材により前記イオン化部のガス導入部近傍に生じる不等電位領域を低減する不等電位低減構造を有する請求項1又は2記載のガス分析計。
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