JP5421203B2 - 細胞培養施設 - Google Patents
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Description
者は玄関から更衣室に入り、そこで無塵衣に着替えてから準備室、第1のエアーロック前室、細胞調製室及びエアーロック後室の順に各室を移動し、滅菌処理室を経て更衣室で無塵衣を脱いで外へ出るという制限された人動線を移動するように構成されている。滅菌処理室では、全ての廃棄物や搬出物を外部に搬出する以前に高圧蒸気滅菌器により滅菌する。このように、作業者及び原材料や細胞調製に必要な器具類の人動線を一方向に制限することで、前回、細胞調製することにより生じたウイルスなどから、未作業者や未使用器具等を保護している。
機などの機器が設置されている。これら機器は、通常、表面が樹脂により構成されていることから、紫外線が照射されることで、当該樹脂表面が変質し、発塵することで、調製室内の清浄度が低下する問題があった。
る。
の保管などが行われる部屋であり、薬用保冷庫17、−30℃フリーザー18、消耗品保管移動棚19等が設置されている。このサプライ室4に保管される消耗品は、上述したGMPの基準値を満たすものである。
、CO2濃度5%等に設定されている。尚、当該のCO2インキュベータにおける温度及びCO2濃度データは、通信回線を介して検体管理システム33に送信され、自動的に記録
されるものとする。尚、保冷庫26や遠心分離機27等運転することで発塵する可能性が高い機器に関しては、詳細は後述する如く細胞調製室6内に形成された機器室(排気処理室。リターン経路の一部を構成する)30に配置されるものとする。
た、汚染の可能性のある無塵衣をエアーロック後室7から外に持ち出すと外部に汚染物質を拡散する危険性があるため、この部屋には、無塵衣を湿式高温滅菌するための滅菌器(オートクレーブ)28が設けられている。これにより、エアーロック後室7で着脱された無塵衣や使用済みの容器等はこの滅菌器28で滅菌処理される。尚、滅菌処理は、さらに滅菌処理の確実性を高めるための処理であり、+1.2気圧、+121℃程度の条件で処理するのが好ましい。
口35と同様の物品受渡口40が設けられている。尚、この物品受渡口40は、細胞調製室6側から保存・管理室8側方向への物品の移動のみを許容するものとする。即ち、物品受渡口40は、細胞調製室6側の開閉扉が開閉操作した後でなければ、保存・管理室8側の開閉扉を開閉することができない。また、保存・管理室8の施設1外部と隣接する側の壁面には、同様に物品受渡口41が設けられている。尚、この物品受渡口41は、保存・管理室8側から外部方向への物品の移動のみを許容するものとする。即ち、物品受渡口41は、保存・管理室8側の開閉扉が開閉操作した後でなければ、外部側の開閉扉を開閉することができない。
個別に空気調整する各空気調和機2C、3C、4C、5C、6C、7C及び8Cに接続される。
調製室6の室圧を0Pa即ち、大気圧とするため、エアーロック前室5の室圧は例えば+35Paとし、エアーロック後室7の室圧は例えば−15Paとする。
ことができると共に、浄化された空気を循環させることができるようになる。
25等の機器の樹脂製の表面が紫外線により変質する不都合を回避することができる。そのため、変質した樹脂により発塵する不都合を回避することができ、より一層効果的に清浄度の維持を図ることができるようになる。
流側に設置し、発塵の可能性の高い機器、例えば保冷庫26、遠心分離機27を空気の下流側に配置するものとする。
、使用後については滅菌処理をした上で廃棄される。尚、物品収納庫70はダクトであるため、物品収納庫70内を塞がないように物品を収納する必要がある。
なり、当該プレフィルタ75Aの交換のためだけに当該細胞培養施設1を非稼働とする不都合を回避することができるようになる。
能となる。尚、本実施例では、当該エアーロック前室5の清浄度を常にグレードB、即ち、作業者が入室し、作業を行っている時点で(所謂 in operation)、0.
5μm以上の粒子数が1m3当たり10000個以下のレベル(以下、CLASS10,
000とする。)に維持する制御を行っているものとする。
設定している。係るグレードAは、清浄度が最も高いことを示すものでCLASS100を示し、グレードBは清浄度がAの次に高いCLASS10,000を示し、グレードCは清浄度がBの次に高いCLASS100,000(作業時)を示し、グレードDは清浄度が最も低いCLASS100,000(休憩時)を示している。
空気調和装置や送風機等が運転される。これに対し、実際に細胞培養に使用されていない場合、即ち、非細胞調製時には、前記検体管理システム33により、細胞調製室6の室内温度を高温度、例えば、虫や真菌の繁殖を抑制するのに適した温度+40℃〜+50℃に設定する。
器の機械室内に生じた粉塵や埃などは、当該流通する清浄な空気と共に、HEPAフィルタ65にて処理されることとなるため、より一層、細胞調製室90内の清浄度の維持を図ることができるようになる。機器の機械室内に空気が滞留することで塵や埃が堆積する不都合を回避することができ、これによっても、細胞調製室90内の清浄度を維持することができるようになる。尚、細胞調製室90側における機器の凹凸が減少することから、埃溜の発生箇所を減少させることができ、細胞調製室90内の清掃作業も簡素化される。
2 エントランス
2B〜8B 配管
2C〜8C 空気調和機
3 更衣室(一次ガウニング室)
4 サプライ室
5 エアーロック前室(二次ガウニング室)
5D、6D、7D 定風量装置
6、90 細胞調製室
7 エアーロック後室(デガウニング室)
8 保存・管理室
10、15、16、36、37、38 扉
11、35、40、41 物品受渡口
22 安全キャビネット
25 CO2インキュベータ
26、91 保冷庫
27 遠心機
30 機器室
33 検体管理システム
51 外気処理装置
54、57、65、75 HEPAフィルタ
57A、75A プレフィルタ
56、66、74、80 給気口
58、81 排気口
60、76 排気ダンパー
61、77 送風機
62、78 ダクト配管(排気経路)
63、79 室圧センサ
93 機器メンテナンス室
91A 扉
91B 吸込口
Claims (2)
- 細胞調製に関わる作業を行うための調製室と、該調製室に隣接して設けられたエアーロック前室及びエアーロック後室と、前記エアーロック前室に隣接して設けられ細胞調製に必要な材料を保管するサプライ室とを備えてなる細胞培養施設において、
前記サプライ室は、前記エアーロック前室との間の壁に前記サプライ室側からのみ開放可能な扉を備え、
前記エアーロック前室は、前記調製室との間の壁に前記エアーロック前室側からのみ開放可能な扉を備え、
前記調製室は、前記エアーロック後室との間の壁に前記調製室側からのみ開放可能な扉を備えて人の動線を前記サプライ室から前記エアーロック前室方向、及び前記エアーロック前室から前記調製室方向、及び前記調製室から前記エアーロック後室方向にのみ規制し、前記調製室には、前記調整室の天井面と該天井面から所定寸法だけ下の位置に渡って上部仕切パネルを設けるとともに、床面と該床面から所定寸法だけ上の位置に渡って下部仕切パネルを設けることで、機器を配置する機器室を区画形成し、
前記調製室は、室内の空気を排気する排気口と、該排気された空気を清浄化する送風機を備えたフィルタと、前記排気口と前記フィルタに接続された循環用配管と、該フィルタを経た空気を室内に供給する供給口とから成る空気循環経路を備え、
前記調製室の天井面に前記フィルタを経た清浄空気を供給する供給口を備え、
前記機器室の天井面に排気口を備え、
前記供給口から供給された空気が前記調製室内を経て前記機器室に進入し、前記排気口から循環用配管及び前記フィルタを経て前記供給口から再び室内に供給されるように前記機器室を前記空気循環経路の一部となるよう構成し、
前記機器室に、当該機器室内を通過する空気に紫外線を照射する紫外線照射装置と、前記紫外線照射装置から前記機器に直接紫外線が照射されることを阻止する遮蔽手段とを設けたことを特徴とする細胞培養施設。 - 前記フィルタはHEPAフィルタである請求項1に記載の細胞培養施設。
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