JP5417912B2 - Semiconductor device - Google Patents

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Description

本発明は、半導体チップと、再配線を有するパッケージを備えた半導体装置において、再配線抵抗値の検査に関し、容易に精度良く測定可能なテスト回路を内蔵した半導体装置に関する。   The present invention relates to a test of a rewiring resistance value in a semiconductor device including a semiconductor chip and a package having a rewiring, and relates to a semiconductor device including a test circuit that can be easily and accurately measured.

図5は、従来の定電圧回路を内蔵した半導体装置の測定回路図である。
同図において、1は半導体装置、2は半導体装置1内の定電圧回路に接続されている負荷、3は半導体装置1を検査するためのテスタである。さらに半導体装置1は半導体チップ10と再配線を有するパッケージ20で構成されている。
FIG. 5 is a measurement circuit diagram of a semiconductor device incorporating a conventional constant voltage circuit.
In the figure, 1 is a semiconductor device, 2 is a load connected to a constant voltage circuit in the semiconductor device 1, and 3 is a tester for inspecting the semiconductor device 1. Further, the semiconductor device 1 includes a semiconductor chip 10 and a package 20 having rewiring.

半導体チップ10は、基準電圧Vref、誤差増幅回路11、出力トランジスタM1、出力電圧検出抵抗R1とR2で構成された定電圧回路と、スイッチ手段SW1からSW3を備えている。さらに、半導体チップ10には定電圧回路の出力用パッドCout1、テスト用パッドCtstと、外部端子に接続されたパッドCout2が設けてある。   The semiconductor chip 10 includes a reference voltage Vref, an error amplifier circuit 11, an output transistor M1, a constant voltage circuit composed of output voltage detection resistors R1 and R2, and switch means SW1 to SW3. Further, the semiconductor chip 10 is provided with an output pad Cout1 of the constant voltage circuit, a test pad Ctst, and a pad Cout2 connected to an external terminal.

出力用パッドCout1はパッケージ20上の配線21を介して半導体装置1の外部端子Outに接続されており、テスト用パッドCtstはパッケージ20上の配線23を介して半導体装置1の外部端子TSTに接続されている。   The output pad Cout1 is connected to the external terminal Out of the semiconductor device 1 via the wiring 21 on the package 20, and the test pad Ctst is connected to the external terminal TST of the semiconductor device 1 via the wiring 23 on the package 20. Has been.

配線21には、半導体チップ10のパッドとパッケージ20上の電極を接続するためのワイヤボンディングや、パッケージ20に施されたスルーホールなども含まれている。パッドCout2はパッケージの外部端子Outに配線22を介して接続されている。   The wiring 21 includes wire bonding for connecting the pads of the semiconductor chip 10 and the electrodes on the package 20, through holes provided in the package 20, and the like. The pad Cout2 is connected to the external terminal Out of the package via the wiring 22.

スイッチ手段SW1〜SW3の一端は全て共通接続されてテスト用パッドCtstに接続されている。スイッチ手段SW1の他端には信号S1が接続され、スイッチ手段SW2の他端はパッドCout2に接続されている。スイッチ手段SW3の他端には信号S3が接続されている。   One ends of the switch means SW1 to SW3 are all connected in common and connected to the test pad Ctst. The signal S1 is connected to the other end of the switch means SW1, and the other end of the switch means SW2 is connected to the pad Cout2. A signal S3 is connected to the other end of the switch means SW3.

スイッチ手段SW1からSW3は図示しない制御回路によって、テスタの測定項目と同期して選択的にオン/オフ制御されている。信号S1〜S3は、半導体チップ10の検査に必要な信号であり、半導体チップ10内で生成される電圧、電流、抵抗値などの電気情報信号である。図5では3つしか示していないが、いくつあっても構わない。   The switch means SW1 to SW3 are selectively ON / OFF controlled by a control circuit (not shown) in synchronization with the measurement items of the tester. The signals S <b> 1 to S <b> 3 are signals necessary for the inspection of the semiconductor chip 10, and are electrical information signals such as voltage, current, and resistance value generated in the semiconductor chip 10. Although only three are shown in FIG. 5, any number is possible.

定電圧回路の出力電圧を測定する場合は、スイッチ手段SW2オンにすると、テスト用パッドCtstに外部端子が接続されるので、外部端子TSTを介してテスタ3は定電圧回路の外部出力端子電圧を測定することができる。   When measuring the output voltage of the constant voltage circuit, when the switch means SW2 is turned on, an external terminal is connected to the test pad Ctst, so that the tester 3 determines the external output terminal voltage of the constant voltage circuit via the external terminal TST. Can be measured.

上記のように、半導体チップ内部に設けたスイッチ手段を介して、定電圧回路の出力電圧を測定する方法は、特許文献1(特開2007−234816号公報)に開示されている。   As described above, a method for measuring the output voltage of the constant voltage circuit via the switch means provided in the semiconductor chip is disclosed in Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 2007-234816).

しかしながら、半導体チップと、再配線を有するパッケージを備えた半導体装置において、再配線膜厚の製造ばらつきは、±20%〜30%と大きく定電圧回路から定格電流を出力した場合の出力電圧を測定する場合は、出力用パッドCout1から外部端子Outまでの配線21による電圧降下のばらつきが大きくなる。 However, in semiconductor devices with a semiconductor chip and a package with rewiring, the manufacturing variation in rewiring film thickness is as large as ± 20% to 30%, and the output voltage when the rated current is output from the constant voltage circuit is measured. In this case, the variation in voltage drop due to the wiring 21 from the output pad Cout1 to the external terminal Out increases.

出力用パッドCout1から外部端子Outまでの配線抵抗を0.1Ωとし、定電圧回路の定格負荷電流を300mAとすると、配線21の抵抗による電圧降下は30mVになるはずであるが、21mV〜39mVと18mVばらつくことになる。さらに定格電流が大きくなると電圧降下も比例して大きくなる。   If the wiring resistance from the output pad Cout1 to the external terminal Out is 0.1Ω and the rated load current of the constant voltage circuit is 300 mA, the voltage drop due to the resistance of the wiring 21 should be 30 mV, but 21 mV to 39 mV It will vary by 18 mV. Furthermore, as the rated current increases, the voltage drop increases proportionally.

また、定電圧回路自体の出力電圧降下量(負荷安定度)の製造ばらつきも±10%〜30%あることからパッケージ外部出力端子電圧の降下を測定しても再配線膜厚のばらつきを正確には検出できない。   In addition, manufacturing variations in the output voltage drop (load stability) of the constant voltage circuit itself are ± 10% to 30%, so even if the drop in the external output terminal voltage is measured, the variation in the rewiring film thickness can be accurately determined. Cannot be detected.

近年、半導体装置の動作電圧の低電圧化が進むと共に、負荷として接続される半導体装置の動作電圧範囲も狭くなり、±80mVという厳しいものも出てきた。このような動作範囲の場合は、上記の配線21で生ずる電圧降下ばらつきも無視できなくなってきた。   In recent years, as the operating voltage of semiconductor devices has been lowered, the operating voltage range of semiconductor devices connected as a load has been narrowed, and a severe one of ± 80 mV has come out. In such an operating range, the voltage drop variation caused by the wiring 21 cannot be ignored.

このとき、再配線長を極力短くし電圧降下量を小さくすることは可能である。しかし、定電圧回路は、位相余裕を出力コンデンサCoutとその直列等価抵抗ESRで確保しているため、再配線抵抗値のばらつきにより所定の抵抗値を下回った場合は、発振という致命的な不具合が発生することになる。従って、再配線の抵抗値は小さければ良いわけでもない。
なお、再配線技術については、必要ならば特許文献2(特許第3856304号公報)を参照されたい。
At this time, it is possible to shorten the rewiring length as much as possible to reduce the voltage drop amount . However, since the constant voltage circuit secures the phase margin with the output capacitor Cout and its series equivalent resistance ESR, if the resistance falls below a predetermined resistance value due to variations in the rewiring resistance value, a fatal problem of oscillation occurs. Will occur . Therefore, the rewiring resistance value is not necessarily small.
Regarding rewiring technology, refer to Patent Document 2 (Japanese Patent No. 3856304) if necessary.

本発明は、上述した実情を考慮してなされたものであって、定電圧回路の再配線抵抗値が所望の範囲内であるかを、テスタによって容易にしかも精度良く検出できるようにした半導体装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of the above-described circumstances, and is a semiconductor device that can easily and accurately detect whether the rewiring resistance value of the constant voltage circuit is within a desired range. The purpose is to provide.

本発明は、上記の目的を達成するために、次のような構成を採用した。
a)請求項1の発明は、少なくとも出力用の第1パッドと外部端子電圧測定用の第2パッドおよびテスト用パッドを有する半導体チップと、前記半導体チップが積載され且つ負荷に接続される第1の外部端子が設けられたパッケージと、前記第1パッドと前記第1の外部端子を接続する第1の配線と、前記第1の外部端子と前記第2パッドを接続する第2の配線を備え、前記第1,第2の配線は前記パッケージに形成された再配線をそれぞれ備える半導体装置において、前記第1パッドと前記第2パッドを前記テスト用パッドに対して選択的に切り替え接続するスイッチ手段が設けられていると共に、前記スイッチ手段により前記第1パッドを前記テスト用パッドに接続することにより、前記第1の配線の電圧が前記テスト用パッドを介して測定可能に設けられ、且つ、前記スイッチ手段により前記第2パッドを前記テスト用パッドに接続することにより、前記第1の外部端子の電圧が前記第2の配線,前記第2パッドおよび前記テスト用パッドを介して測定可能に設けられていることを特徴とする。これにより、定電圧回路などの出力電圧と外部端子の正確な電圧を測定することが可能になった。
また、請求項2の発明は、少なくとも出力用の第1パッドと外部端子電圧測定用の第2パッドを有する半導体チップと、前記半導体チップが積載され且つ負荷に接続される第1の外部端子および電圧測定用の第2の外部端子が設けられたパッケージと、前記第1パッドと前記第1の外部端子を接続する第1の配線と、前記第1の外部端子と前記第2パッドを接続する第2の配線を備え、前記第1,第2の配線は前記パッケージに形成された再配線をそれぞれ備える半導体装置において、前記第1パッドと前記第2パッドを前記第2の外部端子に対して選択的に切り替え接続するスイッチ手段が設けられていると共に、前記スイッチ手段により前記第1パッドを前記第2の外部端子に接続することにより、前記第1の配線の電圧が前記第2の外部端子を介して測定可能に設けられ、且つ、前記スイッチ手段により前記第2パッドを前記第2の外部端子に接続することにより、前記第1の外部端子の電圧が前記第2の配線,前記スイッチ手段及び前記第2の外部端子を介して測定可能に設けられていることを特徴とする。
これにより、定電圧回路などの出力電圧と外部端子の正確な電圧を測定することが可能になった。
The present invention employs the following configuration in order to achieve the above object.
a) a first aspect of the invention, a first semiconductor chip having a first pad and the second pad and the test pad of the external terminal voltage measurement for at least an output, wherein the semiconductor chip is connected to the loaded and the load A package provided with the external terminals, a first wiring connecting the first pad and the first external terminal, and a second wiring connecting the first external terminal and the second pad. In the semiconductor device in which each of the first and second wirings includes a rewiring formed in the package, switch means for selectively switching and connecting the first pad and the second pad to the test pad And the switch means connects the first pad to the test pad, so that the voltage of the first wiring is passed through the test pad. By connecting the second pad to the test pad by the switch means, the voltage of the first external terminal can be set to the second wiring, the second pad, and the test It is provided so that measurement is possible via a pad . This makes it possible to measure the output voltage of a constant voltage circuit or the like and the accurate voltage of the external terminal.
According to a second aspect of the present invention, there is provided a semiconductor chip having at least a first pad for output and a second pad for measuring an external terminal voltage, a first external terminal on which the semiconductor chip is mounted and connected to a load; A package provided with a second external terminal for voltage measurement, a first wiring connecting the first pad and the first external terminal, and connecting the first external terminal and the second pad. In a semiconductor device comprising a second wiring, wherein each of the first and second wirings includes a rewiring formed in the package, the first pad and the second pad are connected to the second external terminal. Switch means for selectively switching connection is provided, and the first pad is connected to the second external terminal by the switch means, whereby the voltage of the first wiring is reduced to the second external terminal. The second pad is connected to the second external terminal by the switch means, and the voltage of the first external terminal is connected to the second wiring and the switch. It is possible to measure through the means and the second external terminal.
This makes it possible to measure the output voltage of a constant voltage circuit or the like and the accurate voltage of the external terminal.

b)また、前記半導体チップは、さらにテスト用パッドを有し、前記第1パッドあるいは第2パッドは、前記テスト用パッドと接続することができる。この場合、半導体装置の外部に設けたテスタによって外部端子の正確な測定が可能である。 b) The semiconductor chip further includes a test pad, and the first pad or the second pad can be connected to the test pad . In this case, the external terminals can be accurately measured by a tester provided outside the semiconductor device.

c)また、前記半導体チップはスイッチ手段を有し、前記第1パッドおよび第2パッドと前記テスト用パッドは、前記スイッチ手段を介して接続することができる。この場合、半導体装置の外部に設けたテスタによって外部端子の電圧測定が可能である。 c) The semiconductor chip has switch means, and the first pad, the second pad and the test pad can be connected via the switch means . In this case, the voltage of the external terminal can be measured by a tester provided outside the semiconductor device.

d)また、前記スイッチ手段は、前記第1パッドまたは前記第2パッドのいずれかを選択的に前記半導体チップのテスト用パッドに接続することができる。この場合、スイッチ手段により前記第1パッドまたは前記第2パッドを選択して半導体装置の外部に設けたテスタによって外部端子の電圧測定が可能である。 d) In addition, the switch means can selectively connect either the first pad or the second pad to the test pad of the semiconductor chip . In this case, the voltage of the external terminal can be measured by a tester provided outside the semiconductor device by selecting the first pad or the second pad by the switch means.

e)また、前記第2パッドと前記外部端子とを接続する配線に流れる電流による電圧降下は、前記第1パッドと前記外部端子とを接続する配線に流れる電流による電圧降下より小さくすることができる。この場合、第2パッドと外部端子とを接続する配線に流れる電流による電圧降下の影響をできるだけ小さくできる。 e) Further, the voltage drop due to the current flowing through the wiring connecting the second pad and the external terminal can be made smaller than the voltage drop due to the current flowing through the wiring connecting the first pad and the external terminal. . In this case, the influence of the voltage drop due to the current flowing in the wiring connecting the second pad and the external terminal can be minimized.

f)また、前記第1パッドと前記外部端子間の配線と、前記第2パッドと前記外部端子間の配線は一部共通する部分を備えたこと、さらに、前記共通する部分が、パッケージ上のスルーホール内の再配線部を含む配線とすることができる。この場合、パッケージの大きさや外部端子のレイアウトによっては一部共通する部分が存在するが、スルーホール内の再配線部を含む配線とすることで、できるだけ少なくしている。 f) Further, the wiring between the first pad and the external terminal and the wiring between the second pad and the external terminal have a part in common, and the common part is on the package. A wiring including a rewiring portion in the through hole can be obtained. In this case, there is a part in common depending on the size of the package and the layout of the external terminals, but the number of wirings including the rewiring part in the through hole is reduced as much as possible.

g)また、前記半導体チップは電子回路を内蔵し、前記第1パッドは前記電子回路の出力に接続することができる。この場合、この場合、前記第2パッドと外部端子間には電流がほとんど流れない。 g) The semiconductor chip may include an electronic circuit, and the first pad may be connected to an output of the electronic circuit . In this case, almost no current flows between the second pad and the external terminal.

h)また、前記半導体チップは電子回路を複数内蔵し、前記電子回路毎に、前記第1パッドと前記第2パッドと前記スイッチ手段と同様の構成を備えること、さらには、前記電子回路を定電圧回路にすることができる。この場合、所望の電子回路(定電圧回路)の出力電圧と外部出力端子電圧が、半導体装置の外部に設けたテスタによって測定可能である。これにより定電圧回路から、外部負荷へ出力電流が出力された際、その定電圧回路の出力電圧と外部出力端子電圧が測定でき、さらにはその間の再配線抵抗値を容易に検出することができるようになる。 h) The semiconductor chip includes a plurality of electronic circuits, each of the electronic circuits has a configuration similar to the first pad, the second pad, and the switch means, and further defines the electronic circuit. It can be a voltage circuit . In this case, the output voltage of the desired electronic circuit (constant voltage circuit) and the external output terminal voltage can be measured by a tester provided outside the semiconductor device. As a result, when an output current is output from the constant voltage circuit to the external load, the output voltage of the constant voltage circuit and the external output terminal voltage can be measured, and the rewiring resistance value between them can be easily detected. It becomes like this.

本発明によれば、第1パッド(出力電圧測定用パッド)と第2パッド(パッケージ外部出力端子電圧測定用パッド)間の再配線抵抗値を容易に検出できるようになり、該再配線抵抗値が所望の範囲内であるかを、テスタによって容易にしかも精度良く検出できるようになった。これにより再配線膜厚が大きくばらついても、規格外のものを確実にリジェクトできるようになった。 According to the present invention, the rewiring resistance value between the first pad (output voltage measuring pad) and the second pad (package external output terminal voltage measuring pad) can be easily detected. Can be easily and accurately detected by the tester. As a result, even if the rewiring film thickness varies widely, it is possible to reliably reject non-standard products.

本発明の実施例を示す半導体装置の測定回路図である。It is a measurement circuit diagram of a semiconductor device showing an example of the present invention. 半導体装置1の第1の構成を示す実施例である。1 is an example showing a first configuration of a semiconductor device 1. 半導体装置1の第2の構成を示す実施例である。2 is an example showing a second configuration of the semiconductor device 1; 半導体装置1の第3の構成を示す実施例である。3 is an example showing a third configuration of the semiconductor device 1. 従来の定電圧回路を内蔵した半導体装置の測定回路図である。It is a measurement circuit diagram of a semiconductor device incorporating a conventional constant voltage circuit.

以下、図面を参照して、本発明の実施形態を詳細に説明する。
図1は、本発明の実施例を示す半導体装置の測定回路図である。
図5と異なる部分は、半導体チップ10にスイッチ手段SW4が追加され、パッドCout1とパッドCout2を、スイッチ手段SW4を介してさらにスイッチ手段SW2に接続したことである。
尚、スイッチ手段SW4は、図1から明らかなように、スイッチ手段SW2をパッドCout1に接続しているとき、スイッチ手段SW2とパッドCout2との接続をOFFするようになっている。また、スイッチ手段SW4は、スイッチ手段Sw2をパッドCout2に接続したとき、スイッチ手段Sw2とパッドCout1との接続をOFFするようになっている。このようにスイッチ手段Sw4は、図1から明らかなように、スイッチ手段Sw2をパッドCout1,2に対して切り替え接続できるようになっている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is a measurement circuit diagram of a semiconductor device showing an embodiment of the present invention.
The difference from FIG. 5 is that the switch means SW4 is added to the semiconductor chip 10, and the pads Cout1 and Cout2 are further connected to the switch means SW2 via the switch means SW4.
As is clear from FIG. 1, the switch means SW4 is configured to turn off the connection between the switch means SW2 and the pad Cout2 when the switch means SW2 is connected to the pad Cout1. Further, the switch means SW4 is configured to turn off the connection between the switch means Sw2 and the pad Cout1 when the switch means Sw2 is connected to the pad Cout2. As described above, the switch means Sw4 can switch-connect the switch means Sw2 to the pads Cout1 and Cout2 as is apparent from FIG.

定電圧回路30から外部負荷2へ大電流を供給した場合は、パッドCout1から外部端子Out(第1の外部端子)間の第1の配線21に大きな電圧降下が生ずるが、パッドCout2と外部端子Out間の第2の配線22には電流が流れないため、電圧降下発生しない。 When a large current is supplied from the constant voltage circuit 30 to the external load 2, a large voltage drop occurs in the first wiring 21 between the pad Cout1 and the external terminal Out (first external terminal), but the pad Cout2 and the external terminal since the second no current flows through the wire 22 between Out, the voltage drop does not occur.

そのため、パッドCout2の電圧は外部端子Out同じ電圧となる。従って、このスイッチ手段SW4をパッドCout2側に切り替え接続して、パッドCout2の電圧スイッチ手段SW4、スイッチ手段SW2、テスト用パッドCtst、および外部端子TST(第2の外部端子)を介してテスタに入力することによって、正確な外部端子Out(第1の外部端子)の出力電圧を測定することができる。 Therefore, the voltage of the pad Cout2 external terminal Out the same voltage and ing. Accordingly, the switch means SW4 is switched and connected to the pad Cout2 side, and the voltage of the pad Cout2 is applied to the tester via the switch means SW4, the switch means SW2, the test pad Ctst, and the external terminal TST (second external terminal). depending on entering, it is possible to measure the output voltage of accurate external terminal Out (first external terminal).

このとき、さらに、スイッチ手段SW4をパッドCout1側に切り替え接続して、パッドCout1の電圧をスイッチ手段SW4、スイッチ手段SW2、テスト用パッドCtst、および外部端子TSTを介してテスタ3に入力するようにすれば、パッドCout1の電圧を測定できるようになる。
以上の測定結果を用いて再配線抵抗値を容易にかつ正確に検出できる。
At this time, the switch means SW4 is further switched and connected to the pad Cout1, and the voltage of the pad Cout1 is input to the tester 3 via the switch means SW4, the switch means SW2, the test pad Ctst, and the external terminal TST. Then, the voltage of the pad Cout1 can be measured.
The rewiring resistance value can be easily and accurately detected using the above measurement results.

図2は、半導体装置1の第1の構成を示す実施例である。図1と同じ機能部品には同じ番号および記号を付与している。   FIG. 2 is an example showing a first configuration of the semiconductor device 1. The same functional parts as those in FIG. 1 are given the same numbers and symbols.

図2において、半導体装置1は、半導体チップ10およびパッケージ20を有する。パッケージ20は、その上面に半導体チップ10を積載しており、その裏面には外部端子Out(バンプOut、即ち第1の外部端子)が形成されている。半導体チップ10は、その上面(外表面)に出力用パッドCout1(出力用の第1パッド)および外部端子電圧測定用パッドCout2(外部端子電圧測定用の第2パッド)が形成されている。 In FIG. 2, the semiconductor device 1 includes a semiconductor chip 10 and a package 20. The package 20 has the semiconductor chip 10 mounted on the upper surface thereof, and external terminals Out (bumps Out, that is, first external terminals) are formed on the back surface thereof. The semiconductor chip 10 has an output pad Cout1 (output first pad) and an external terminal voltage measurement pad Cout2 (external terminal voltage measurement second pad) formed on the upper surface (outer surface) thereof.

さらに、半導体装置10は、第1の配線21および第2の配線22を有する。
第1の配線21は、図2から明らかなように、第1のワイヤボンディング31と、パッケージ20に形成された再配線を有する。この再配線は、パッケージ20の上面(外表面)に形成された再配線部21aと、再配線部21aに連設され且つ第1のスルーホール33内(内表面)に形成された再配線部33aとを有する。この第1のスルーホール33は、パッケージ20の上面(外表面)から裏面まで貫通している。また、再配線部33aは、図2から明らかなように、外表面が第1のスルーホール33の内表面に密着するように形成されている。このような第1のワイヤボンディング31および再配線を有する第1の破線21は、半導体チップ10の上面に形成された出力用パッドCout1と、パッケージ20の裏面に形成された外部端子Outとを結合する。
Further, the semiconductor device 10 includes a first wiring 21 and a second wiring 22.
As is clear from FIG. 2 , the first wiring 21 has a first wire bonding 31 and a rewiring formed on the package 20 . This rewiring is performed by a rewiring portion 21a formed on the upper surface (outer surface) of the package 20 , and a rewiring portion connected to the rewiring portion 21a and formed in the first through hole 33 (inner surface). 33a . The first through hole 33 penetrates from the upper surface (outer surface) to the back surface of the package 20. Further, as is clear from FIG. 2, the rewiring portion 33 a is formed so that the outer surface is in close contact with the inner surface of the first through hole 33. The first broken line 21 having the first wire bonding 31 and the rewiring as described above couples the output pad Cout1 formed on the upper surface of the semiconductor chip 10 and the external terminal Out formed on the back surface of the package 20. To do.

第2の配線22は、図2から明らかなように、第2のワイヤボンディング32と、パッケージ20に形成された再配線を有する。この再配線は、図2から明らかなように、第2のスルーホール34内に形成され且つ外周面が第2のスルーホール34の内表面に密着する軸状の再配線34aと、再配線34aに連設され且つパッケージ20の裏面(外表面)に形成された再配線部22aとを有する。この第2のスルーホール34は、パッケージ20の上面(外表面)から裏面まで貫通している。このような第2のワイヤボンディング32および再配線を有する第2の配線22は、半導体チップ10の上面に形成された外部端子電圧測定用パッドCout2と、パッケージ20の裏面に形成された外部端子Outとを結合する。 As is apparent from FIG. 2 , the second wiring 22 has a second wire bonding 32 and a rewiring formed on the package 20. As is apparent from FIG. 2, the rewiring is formed in the second through hole 34 and has an axial rewiring 34a whose outer peripheral surface is in close contact with the inner surface of the second through hole 34, and the rewiring 34a. And a rewiring portion 22 a formed on the back surface (outer surface) of the package 20 . The second through hole 34 penetrates from the upper surface (outer surface) to the back surface of the package 20. The second wire bonding 32 and the second wiring 22 having the rewiring include the external terminal voltage measurement pad Cout2 formed on the upper surface of the semiconductor chip 10 and the external terminal Out formed on the back surface of the package 20. And combine.

上記から明らかなように、第1の配線21および第2の配線22は、夫々独立しており、外部端子Outに接続されている以外は共通部分を有さない。従って、第1の配線21の電圧降下の影響は第2の配線22には及ばない。定格電流出力時の定電圧回路の定格電圧を正確に測定するためには、このような構造が最も望ましい。   As is clear from the above, the first wiring 21 and the second wiring 22 are independent of each other and have no common part except that they are connected to the external terminal Out. Therefore, the influence of the voltage drop of the first wiring 21 does not reach the second wiring 22. Such a structure is most desirable in order to accurately measure the rated voltage of the constant voltage circuit at the rated current output.

図3は、半導体装置1の第2の構成を示す実施例である。図2と同じ機能部品には同じ番号および記号を付与している。   FIG. 3 is an example showing a second configuration of the semiconductor device 1. The same functional parts as those in FIG. 2 are given the same numbers and symbols.

図3において、半導体装置は、半導体チップ10およびパッケージ20を有する。パッケージ20は、その上面に半導体チップ10を積載している。また、パッケージ20の裏面には図3から明らかなように突部状の外部端子Out(バンプOut即ち第1の外部端子)が形成されている。半導体チップ10は、その上面に出力用パッドCout1および外部端子電圧測定用パッドCout2を形成されている。 In FIG. 3, the semiconductor device 1 includes a semiconductor chip 10 and a package 20. The package 20 has the semiconductor chip 10 mounted on the upper surface thereof . Further, as is apparent from FIG. 3, protruding external terminals Out (bump Out, ie, first external terminals) are formed on the back surface of the package 20 . The semiconductor chip 10 has an output pad Cout1 and an external terminal voltage measurement pad Cout2 formed on the upper surface thereof.

さらに、半導体装置10は、第1の配線21および第2の配線22を有する。第1の配線21は、図3から明らかなように、第1のワイヤボンディング31と、パッケージ20に形成された再配線を有する。この再配線は、図3から明らかなように、パッケージ20の外表面に形成された再配線部21aと、再配線部21aに連設され且つ共通スルーホール41内に形成された軸状の再配線部41aを有する。この共通スルーホール41は、パッケージ20の上面(外表面)から裏面まで貫通している。また、再配線部41aは、図3から明らかなように、外周面が共通スルーホール41の内表面に密着するように形成されている。このような第1のワイヤボンディング31および再配線を有する第1の配線21は、半導体チップ10の上面に形成された出力用パッドCout1と、パッケージ20の裏面に形成された外部端子Outとを結合する。 Further, the semiconductor device 10 includes a first wiring 21 and a second wiring 22. As is apparent from FIG. 3 , the first wiring 21 has a first wire bonding 31 and a rewiring formed on the package 20 . As is apparent from FIG. 3, the rewiring is performed by a rewiring portion 21a formed on the outer surface of the package 20, and a shaft-like rewiring formed in the common through hole 41 and connected to the rewiring portion 21a. It has the wiring part 41a. The common through hole 41 penetrates from the upper surface (outer surface) to the back surface of the package 20. Further, as is clear from FIG. 3, the rewiring portion 41 a is formed so that the outer peripheral surface is in close contact with the inner surface of the common through hole 41. The first wire bonding 31 and the first wiring 21 having rewiring are coupled to the output pad Cout1 formed on the upper surface of the semiconductor chip 10 and the external terminal Out formed on the back surface of the package 20. To do.

第2の配線22は、図3から明らかなように、第2のワイヤボンディング32と、パッケージ20に形成された再配線を有する。この再配線は、パッケージ20の上面(外表面)に形成された再配線部22aと、再配線部22aに連設され且つ共通スルーホール41内に形成された軸状の再配線部41aとを有する。この共通スルーホール41内の再配線部41aは、図3から明らかなように、共通スルーホール41の内表面に密着するように形成されている。また、この再配線部41aは、図3から明らかなように、一端が第1の配線21の再配線部21aと第2の配線22の再配線部22aに連設されていることにより、第1,第2の配線21,22の再配線の共通部分として用いられる。このようなワイヤボンディング32および再配線を有する第2の配線22は、半導体チップ10の上面に形成された外部端子電圧測定用パッドCout2と、パッケージ20の裏面に形成された外部端子Outとを結合する。 As apparent from FIG. 3 , the second wiring 22 has a second wire bonding 32 and a rewiring formed on the package 20 . In this rewiring, a rewiring portion 22a formed on the upper surface (outer surface) of the package 20 and a shaft-shaped rewiring portion 41a connected to the rewiring portion 22a and formed in the common through hole 41 are used. Have. As is clear from FIG. 3, the rewiring portion 41 a in the common through hole 41 is formed so as to be in close contact with the inner surface of the common through hole 41. Further, as is apparent from FIG. 3, the rewiring portion 41a is connected to the rewiring portion 21a of the first wiring 21 and the rewiring portion 22a of the second wiring 22 by one end. It is used as a common part of the rewiring of the first and second wirings 21 and 22. The second wiring 22 having such wire bonding 32 and rewiring couples the external terminal voltage measurement pad Cout2 formed on the upper surface of the semiconductor chip 10 and the external terminal Out formed on the back surface of the package 20. To do.

図3の半導体装置が図2と異なる部分は、第1の配線21および第2の配線22が同一の共通スルーホール41内の再配線部41aを共用していることである。
スペース等の問題により配線の一部を共通とせざるを得ない場合、その共通部分を共通スルーホール41内の再配線部41aとすることで、可能な限り共通部分を小さくすることができる。
この場合、第2の配線22でも電圧降下は発生するが、定電圧回路に接続される負荷の動作電圧範囲が比較的大きい場合には無視することができる程度であり、再配線抵抗の検出が可能である。
3 differs from FIG. 2 in that the first wiring 21 and the second wiring 22 share the rewiring portion 41a in the same common through hole 41.
When a part of the wiring must be made common due to a problem such as space, the common part can be made as small as possible by using the common part as the rewiring part 41a in the common through hole 41 .
In this case, a voltage drop also occurs in the second wiring 22, but it can be ignored when the operating voltage range of the load connected to the constant voltage circuit is relatively large, and the rewiring resistance can be detected. Is possible.

図4は、半導体装置1の第3の構成で、CSP(chip size package)に応用した場合の実施例である。図2と同じ機能部品には同じ番号および記号を付与している。   FIG. 4 shows an embodiment in which the third configuration of the semiconductor device 1 is applied to a CSP (chip size package). The same functional parts as those in FIG. 2 are given the same numbers and symbols.

本例では、図4から明らかなように、第1の配線21は再配線部21a、21b,51aを備える再配線であり、第2の配線22は配線部22a,52aを備える再配線である。そして、半導体チップ10の下面(裏面)に設けたパッドCout1とCout2は、図4から明らかなように、パッケージ20の下面の膜状の再配線部21b,22aにそれぞれ接続されている。この再配線部21bはスルーホール51内の軸状の再配線部51a下端に連設され、再配線部22aはスルーホール52内の軸状の再配線部52aの下端に連設されている。このスルーホール51,52、パッケージ20の上面(外表面)から裏面まで貫通している。
また、再配線部51a,52aは、図4から明らかなように、外表面がスルーホール51,52の内表面に密着するように形成されている。また、スルーホール51内の再配線部5aは、上端がパッケージ20の上面(外表面)の再配線部21aに連設されている。この再配線部2aはパッケージ20の上面の外部端子Outに接続されている。更に、スルーホール52内の再配線部52aの上端はパッケージ20の上面の外部端子Outに接続されている。これらにより、パッドCout1とCout2は第1,第2の配線21,22を介してパッケージ20の上面に設けた外部端子Outに接続されている。
In this example, as is apparent from FIG. 4, the first wiring 21 is a rewiring including rewiring portions 21a, 21b, and 51a, and the second wiring 22 is a rewiring including wiring portions 22a and 52a. . The pads Cout1 and Cout2 provided on the lower surface (back surface) of the semiconductor chip 10 are connected to the film-like rewiring portions 21b and 22a on the lower surface of the package 20, as is apparent from FIG . The rewiring portion 21 b is connected to the lower end of the axial rewiring portion 51 a in the through hole 51, and the rewiring portion 22 a is connected to the lower end of the axial rewiring portion 52 a in the through hole 52. The through holes 51 and 52 penetrate from the upper surface (outer surface) to the back surface of the package 20.
Further, as is apparent from FIG. 4, the rewiring portions 51 a and 52 a are formed so that the outer surfaces are in close contact with the inner surfaces of the through holes 51 and 52. Further, the rewiring portion 5 a in the through hole 51 is connected to the rewiring portion 21 a on the upper surface (outer surface) of the package 20 at the upper end. The rewiring unit 2 a is connected to the external terminal Out on the upper surface of the package 20. Further, the upper end of the rewiring portion 52 a in the through hole 52 is connected to the external terminal Out on the upper surface of the package 20. Thus, the pads Cout1 and Cout2 are connected to the external terminal Out provided on the upper surface of the package 20 via the first and second wirings 21 and 22.

さらに詳しく述べると、図4において、半導体装置1は、半導体チップ10およびパッケージ20を有し、CSP(Chip Size Package)で構成されている。半導体チップ10は、その下面に出力用パッドCout1および外部端子電圧測定用パッドCout2が形成されている。 More specifically, in FIG. 4, the semiconductor device 1 includes a semiconductor chip 10 and a package 20 and is configured by CSP (Chip Size Package). The semiconductor chip 10 has an output pad Cout1 and an external terminal voltage measurement pad Cout2 formed on the lower surface thereof.

パッケージ20は、図4から明らかなように、半導体チップ10の上面に出力用パッドCout1および外部端子電圧測定用パッドCout2を覆うように積載され、その上面には突部(バンプ)状の外部端子Out(バンプOut)が形成されている。 As is apparent from FIG. 4 , the package 20 is stacked on the upper surface of the semiconductor chip 10 so as to cover the output pad Cout1 and the external terminal voltage measurement pad Cout2, and the upper surface thereof has a protruding (bump) -like external terminal. Out (bump Out) is formed.

さらに、パッケージ20は、第1の配線21および第2の配線22を有する。
第1の配線21は、図4から明らかなように、パッケージ20に形成された再配線を有する。この再配線は、パッケージ20の上面(外表面)に形成された再配線部21a、再配線部21aに連設され且つ第3のスルーホール51内(内表面)に形成された再配線部51aと、再配線部51aに連設され且つパッケージ20の裏面(外表面)に形成された再配線部21bとを有する。このような再配線を有する第1の配線21は、パッケージ20の上面に形成された外部端子Outと、半導体チップ10の上面に形成された出力用パッドCout1とを結合する。
Further, the package 20 has a first wiring 21 and a second wiring 22.
As apparent from FIG. 4 , the first wiring 21 has a rewiring formed in the package 20 . This rewiring is performed by a rewiring portion 21a formed on the upper surface (outer surface) of the package 20 , and a rewiring portion 51a connected to the rewiring portion 21a and formed in the third through hole 51 (inner surface). And a rewiring portion 21b that is connected to the rewiring portion 51a and formed on the back surface (outer surface) of the package 20 . The first wiring 21 having such a rewiring couples the external terminal Out formed on the upper surface of the package 20 and the output pad Cout1 formed on the upper surface of the semiconductor chip 10.

第2の配線22は、図4から明らかなように、パッケージ20に形成された再配線を有する。この再配線は、第4のスルーホール52内に形成され且つ外表面が第4のスルーホール32の内表面に密着する軸状の再配線部52aと、再配線部52aに連設され且つパッケージ120の裏面(外表面)に形成された再配線22aとを有する。このような再配線を有する第2の配線22は、パッケージ120の上面に形成された外部端子Outと、半導体チップ110の上面に形成された外部端子電圧測定用パッドCout2とを結合する。 As apparent from FIG. 4 , the second wiring 22 has a rewiring formed in the package 20. This rewiring is formed in the fourth through hole 52 and has an axial rewiring portion 52a whose outer surface is in close contact with the inner surface of the fourth through hole 32, and is connected to the rewiring portion 52a and is packaged. And a rewiring 22a formed on the back surface (outer surface) of 120 . The second wiring 22 having such a rewiring couples the external terminal Out formed on the upper surface of the package 120 and the external terminal voltage measurement pad Cout2 formed on the upper surface of the semiconductor chip 110.

このように、本発明の半導体装置は、CSPで構成されることも可能である。構造をCSPとしたことにより、図2および3に示した構造とは異なり、ワイヤボンディングが不要となる。
従って、ワイヤボンディングを使用した場合に比べ、パッドと外部端子を結合する第1の配線21および第2の配線22の抵抗は小さくなるので、第1の配線21および第2の22で発生する電圧降下も小さくなる。ただし、図4に示した構造では、図2と同じく、第1の配線21および第2の配線22が、外部端子Outに接続されている以外は共通部分を有さないので、第2の配線22では電圧降下が発生しない。
As described above, the semiconductor device of the present invention can also be configured by a CSP. Since the structure is CSP, wire bonding is not required unlike the structures shown in FIGS.
Therefore, compared to the case where wire bonding is used, the resistance of the first wiring 21 and the second wiring 22 that couple the pad and the external terminal is reduced, so that the voltage generated in the first wiring 21 and the second 22 is reduced. The descent is also reduced. However, in the structure shown in FIG. 4, since the first wiring 21 and the second wiring 22 do not have a common part except that they are connected to the external terminal Out, as in FIG. At 22 no voltage drop occurs.

上記のように本発明によれば、定電圧回路の出力測定用パッドとパッケージに設けた外部出力端子測定用パッド電圧が測定でき、さらには再配線抵抗値を容易に検出することができる。   As described above, according to the present invention, the output measurement pad of the constant voltage circuit and the external output terminal measurement pad voltage provided in the package can be measured, and the rewiring resistance value can be easily detected.

なお、本発明は、上述した実施例に限定されるものではない。例えば、本発明の半導体装置は、図2、3および4に示したような構造に限らず、特許請求の範囲の適用範囲内で多種多様な構造をとることが可能である。   In addition, this invention is not limited to the Example mentioned above. For example, the semiconductor device of the present invention is not limited to the structure shown in FIGS. 2, 3 and 4, and can have various structures within the scope of the claims.

また、上記実施例では、半導体チップ1に一つの定電圧回路が内蔵され、その出力が出力用パッドCout1に接続された例を示したが、図1と同様な定電圧回路を2つ以上内蔵し、その出力をそれぞれに対応して設けられた出力用パッドに接続するようにしてもよい。   In the above embodiment, an example is shown in which one constant voltage circuit is built in the semiconductor chip 1 and its output is connected to the output pad Cout1, but two or more constant voltage circuits similar to those in FIG. 1 are built in. Then, the output may be connected to output pads provided corresponding to the outputs.

また、上記実施例では、出力電圧を測定する電子回路として定電圧回路を例として説明したが、本発明は定電圧回路に限るものではなく、その出力電圧を正確に測定する必要がある如何なる回路にも適用することができる。   In the above embodiments, the constant voltage circuit is described as an example of the electronic circuit for measuring the output voltage. However, the present invention is not limited to the constant voltage circuit, and any circuit that needs to accurately measure the output voltage. It can also be applied to.

1:半導体装置
2:負荷
3:テスタ
10:半導体チップ
11:誤差増幅回路
20:パッケージ
21〜23:配線
21a:再配線部
22a:再配線部
22b:再配線部
30:定電圧回路
31,32:ワイヤボンディング
33,34:スルーホール
33a,34a:再配線部
41:共通スルーホール
41a:再配線部
51,52:スルーホール
51a,52a:再配線部
Vref:基準電圧
M1:出力トランジスタ
R1,R2:抵抗
SW1〜SW4:スイッチ手段
Out:
TST:外部端子
Ctst:テスト用パッド
Cout1:出力用パッド(第1のパッド)
Cout2:パッド(第2のパッド)
1: Semiconductor device 2: Load 3: Tester 10: Semiconductor chip 11: Error amplifier circuit 20: Package
21-23: Wiring
21a: Rewiring section
22a: Rewiring section
22b: Rewiring unit 30: Constant voltage circuit 31, 32: Wire bonding
33, 34: Through hole
33a, 34a: Rewiring unit
41: Common through hole
41a: Rewiring section
51, 52: Through hole
51a, 52a: Rewiring unit
Vref: reference voltage M1: output transistors R1, R2: resistors SW1 to SW4: switch means Out:
TST: External terminal Ctst: Test pad Cout1: Output pad (first pad)
Cout2: Pad (second pad)

特開2007−234816号公報JP 2007-234816 A 特許第3856304号公報Japanese Patent No. 3856304

Claims (6)

少なくとも出力用の第1パッドと外部端子電圧測定用の第2パッドおよびテスト用パッドを有する半導体チップと、
前記半導体チップが積載され且つ負荷に接続される第1の外部端子が設けられたパッケージと、
前記第1パッドと前記第1の外部端子を接続する第1の配線と、
前記第1の外部端子と前記第2パッドを接続する第2の配線を備え、
前記第1,第2の配線は前記パッケージに形成された再配線をそれぞれ備える半導体装置において、
前記第1パッドと前記第2パッドを前記テスト用パッドに対して選択的に切り替え接続するスイッチ手段が設けられていると共に、
前記スイッチ手段により前記第1パッドを前記テスト用パッドに接続することにより、前記第1の配線の電圧が前記テスト用パッドを介して測定可能に設けられ、且つ、前記スイッチ手段により前記第2パッドを前記テスト用パッドに接続することにより、前記第1の外部端子の電圧が前記第2の配線,前記第2パッドおよび前記テスト用パッドを介して測定可能に設けられていることを特徴とする半導体装置。
A semiconductor chip having at least a first pad for output, a second pad for measuring external terminal voltage, and a test pad ;
A package on which the semiconductor chip is loaded and provided with a first external terminal connected to the load ;
A first wiring connecting the first pad and the first external terminal;
A second wiring connecting the first external terminal and the second pad;
In the semiconductor device, wherein the first and second wirings each include a rewiring formed in the package ,
Switch means for selectively switching and connecting the first pad and the second pad to the test pad is provided,
By connecting the first pad to the test pad by the switch means, the voltage of the first wiring can be measured through the test pad, and the second pad is provided by the switch means. Is connected to the test pad so that the voltage of the first external terminal can be measured through the second wiring, the second pad, and the test pad. Semiconductor device.
少なくとも出力用の第1パッドと外部端子電圧測定用の第2パッドを有する半導体チップと、
前記半導体チップが積載され且つ負荷に接続される第1の外部端子および電圧測定用の第2の外部端子が設けられたパッケージと、
前記第1パッドと前記第1の外部端子を接続する第1の配線と、
前記第1の外部端子と前記第2パッドを接続する第2の配線を備え、
前記第1,第2の配線は前記パッケージに形成された再配線をそれぞれ備える半導体装置において、
前記第1パッドと前記第2パッドを前記第2の外部端子に対して選択的に切り替え接続するスイッチ手段が設けられていると共に、
前記スイッチ手段により前記第1パッドを前記第2の外部端子に接続することにより、前記第1の配線の電圧が前記第2の外部端子を介して測定可能に設けられ、且つ、前記スイッチ手段により前記第2パッドを前記第2の外部端子に接続することにより、前記第1の外部端子の電圧が前記第2の配線,前記スイッチ手段及び前記第2の外部端子を介して測定可能に設けられていることを特徴とする半導体装置。
A semiconductor chip having at least a first pad for output and a second pad for measuring an external terminal voltage ;
A package on which the semiconductor chip is mounted and provided with a first external terminal connected to the load and a second external terminal for voltage measurement ;
A first wiring connecting the first pad and the first external terminal;
A second wiring connecting the first external terminal and the second pad;
In the semiconductor device, wherein the first and second wirings each include a rewiring formed in the package ,
Switch means for selectively switching and connecting the first pad and the second pad to the second external terminal;
By connecting the first pad to the second external terminal by the switch means, the voltage of the first wiring can be measured via the second external terminal, and by the switch means By connecting the second pad to the second external terminal, the voltage of the first external terminal can be measured via the second wiring, the switch means, and the second external terminal. wherein a is.
請求項1または2記載の半導体装置において、
前記半導体チップは前記スイッチ手段を有することを特徴とする半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1 or 2,
The semiconductor device, wherein the semiconductor chip has the switch means .
請求項1から3のいずれか一つに記載の半導体装置において、
前記第2パッドと前記外部端子とを接続する配線に流れる電流による電圧降下は、前記第1パッドと前記外部端子とを接続する配線に流れる電流による電圧降下より小さいことを特徴とする半導体装置。
The semiconductor device according to any one of claims 1 to 3 ,
2. A semiconductor device according to claim 1, wherein a voltage drop caused by a current flowing through a wiring connecting the second pad and the external terminal is smaller than a voltage drop caused by a current flowing through a wiring connecting the first pad and the external terminal.
請求項1から4のいずれか一つに記載の半導体装置において、
前記パッケージは外表面である上面から外表面である裏面まで貫通するスルーホールを備えると共に、
前記パッケージに形成された再配線は、前記パッケージの外表面に形成された膜状の再配線部と、該膜状の再配線部に連設され且つ前記スルーホール内に形成されて外周面が前記スルーホールの内表面に密着する軸状の再配線部を備えることを特徴とする半導体装置。
The semiconductor device according to any one of claims 1 to 4 ,
The package includes a through hole that penetrates from the upper surface that is the outer surface to the rear surface that is the outer surface,
The rewiring formed in the package includes a film-shaped rewiring portion formed on the outer surface of the package, a continuous connection with the film-shaped rewiring portion, and formed in the through hole, and has an outer peripheral surface. A semiconductor device comprising an axial rewiring portion that is in close contact with the inner surface of the through hole .
請求項5記載の半導体装置において、
前記第1,第2の配線の再配線は、前記パッケージのスルーホールの内に形成された前記軸状の再配線部を共通の再配線部として有することを特徴とする半導体装置。
The semiconductor device according to claim 5,
The rewiring of the first and second wirings includes the shaft-shaped rewiring part formed in the through hole of the package as a common rewiring part .
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