JP2007234816A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device Download PDF

Info

Publication number
JP2007234816A
JP2007234816A JP2006053706A JP2006053706A JP2007234816A JP 2007234816 A JP2007234816 A JP 2007234816A JP 2006053706 A JP2006053706 A JP 2006053706A JP 2006053706 A JP2006053706 A JP 2006053706A JP 2007234816 A JP2007234816 A JP 2007234816A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
external terminal
pad
semiconductor device
voltage
output
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2006053706A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshihisa Nagata
敏久 永田
Takao Mukai
琢雄 向井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP2006053706A priority Critical patent/JP2007234816A/en
Publication of JP2007234816A publication Critical patent/JP2007234816A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/484Connecting portions
    • H01L2224/48463Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond
    • H01L2224/48464Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond the other connecting portion not on the bonding area also being a ball bond, i.e. ball-to-ball

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device in which the output voltage of its built-in constant voltage circuit can be precisely measured when a rated current is outputted from the circuit. <P>SOLUTION: The semiconductor device (100) of this invention is equipped with a semiconductor chip (110) with an output pad (Cout1), and a package (120) with an external terminal (Out) connected to the output pad (Cout1) with an interconnection (21). The semiconductor chip (110) is furthermore equipped with an external terminal voltage measuring pad (Cout2) for measuring the voltage of the external terminal (Out), the external terminal (Out) and the external terminal voltage measuring pad (Cout2) are connected together, and the voltage of the external terminal (Out) is measured through the intermediary of the external terminal voltage measuring pad (Cout2). <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、定電圧回路を内蔵した半導体装置の検査に関し、特に、定電圧回路の出力電圧を精度良く測定することが可能な半導体装置に関する。   The present invention relates to inspection of a semiconductor device having a built-in constant voltage circuit, and more particularly to a semiconductor device capable of accurately measuring an output voltage of a constant voltage circuit.

従来、定電圧回路を内蔵した半導体装置では、定格電流を出力した場合の出力電圧の検査を行っている。   Conventionally, in a semiconductor device incorporating a constant voltage circuit, an output voltage is inspected when a rated current is output.

図1は、従来の定電圧回路を内蔵した半導体装置の測定回路図である。図1において、半導体装置1は、半導体チップ10と、パッケージ20と、配線21及び23とを有し、パッケージ20に設けられた第1及び第2の外部端子Out及びTSTの夫々を介して負荷2及びテスタ3に接続されている。   FIG. 1 is a measurement circuit diagram of a semiconductor device incorporating a conventional constant voltage circuit. In FIG. 1, the semiconductor device 1 includes a semiconductor chip 10, a package 20, and wirings 21 and 23, and loads are loaded via first and second external terminals Out and TST provided in the package 20. 2 and tester 3.

半導体チップ10は、基準電圧Vref、誤差増幅回路11、出力トランジスタM1並びに出力電圧検出抵抗R1及びR2から構成された定電圧回路30と、スイッチ手段SW1、SW2及びSW3とを有する。更に、半導体チップ10は、出力用パッドCout1と、テスト用パッドCtstとを有する。定電圧回路30の出力は、出力用パッドCout1に接続されている。   The semiconductor chip 10 includes a reference voltage Vref, an error amplification circuit 11, an output transistor M1, a constant voltage circuit 30 including output voltage detection resistors R1 and R2, and switch means SW1, SW2, and SW3. Further, the semiconductor chip 10 includes an output pad Cout1 and a test pad Ctst. The output of the constant voltage circuit 30 is connected to the output pad Cout1.

出力用パッドCout1は、配線21を介してパッケージ20上の第1の外部端子Outに接続されており、テスト用パッドCtstは、配線23を介してパッケージ20上の第2の外部端子TSTに接続されている。配線21及び23は、パッケージ20上に形成された再配線、半導体チップ10のパッドとパッケージ20上の電極とを接続するためのワイヤボンディング及びパッケージ20に形成されたスルーホール等を有する。   The output pad Cout1 is connected to the first external terminal Out on the package 20 via the wiring 21, and the test pad Ctst is connected to the second external terminal TST on the package 20 via the wiring 23. Has been. The wirings 21 and 23 have rewiring formed on the package 20, wire bonding for connecting the pads of the semiconductor chip 10 and the electrodes on the package 20, and through holes formed in the package 20.

スイッチ手段SW1、SW2及びSW3の一端は、全て共通接続されてテスト用パッドCtstに接続されている。スイッチ手段SW1の他端には信号S1が接続され、スイッチ手段SW2の他端には定電圧回路30の出力が接続され、スイッチ手段SW3の他端には信号S3が接続されている。スイッチ手段SW1、SW2及びSW3は、制御回路(図示せず。)によって、テスタ3の測定項目と同期して選択的にオン・オフ制御が為される。信号S1及びS3は、半導体チップ10の検査に必要な信号であり、半導体チップ10内で生成される電圧、電流及び抵抗値等の電気情報信号である。図1には、信号がS1及びS3の2つしか示されていないが、実際には幾つ存在しても良い。   One ends of the switch means SW1, SW2 and SW3 are all connected in common and connected to the test pad Ctst. A signal S1 is connected to the other end of the switch means SW1, an output of the constant voltage circuit 30 is connected to the other end of the switch means SW2, and a signal S3 is connected to the other end of the switch means SW3. The switch means SW1, SW2, and SW3 are selectively turned on / off in synchronization with the measurement items of the tester 3 by a control circuit (not shown). The signals S1 and S3 are signals necessary for the inspection of the semiconductor chip 10, and are electrical information signals such as voltage, current, and resistance value generated in the semiconductor chip 10. Although only two signals S1 and S3 are shown in FIG. 1, any number of signals may actually exist.

定電圧回路30の出力電圧を測定する場合には、スイッチ手段SW2がオンとされ、テスト用パッドCtstに定電圧回路30の出力電圧が接続されるので、テスタ3は、第2の外部端子TSTを介して定電圧回路30の出力電圧を測定することができる。   When measuring the output voltage of the constant voltage circuit 30, the switch means SW2 is turned on and the output voltage of the constant voltage circuit 30 is connected to the test pad Ctst, so that the tester 3 is connected to the second external terminal TST. , The output voltage of the constant voltage circuit 30 can be measured.

上記のように、半導体チップ内部に設けたスイッチ手段を介して定電圧回路の出力電圧を測定する方法は、例えば特開2002−168914号公報(特許文献1)でも開示されている。
特開2002−168914号公報
As described above, a method for measuring the output voltage of the constant voltage circuit via the switch means provided in the semiconductor chip is also disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2002-168914 (Patent Document 1).
JP 2002-168914 A

しかし、図1に示した従来の半導体装置において定格電流出力時の定電圧回路の出力電圧を測定する場合には、本来外部端子Outで測定されるべき負荷2の両端の電圧に加えて、出力用パッドCout1から第1の外部端子Outまでの配線21による電圧降下が誤差として現れてしまうという問題がある。例えば、出力用パッドCout1から第1の外部端子Outまでの配線抵抗を0.1Ωとし、定電圧回路の定格電流を100mAとすると、配線21の抵抗による電圧降下は10mVとなる。電圧降下は、定格電流の大きさに比例して増大する。   However, when measuring the output voltage of the constant voltage circuit at the rated current output in the conventional semiconductor device shown in FIG. 1, in addition to the voltage at both ends of the load 2 that should be originally measured at the external terminal Out, There is a problem that a voltage drop due to the wiring 21 from the pad Cout1 to the first external terminal Out appears as an error. For example, when the wiring resistance from the output pad Cout1 to the first external terminal Out is 0.1Ω and the rated current of the constant voltage circuit is 100 mA, the voltage drop due to the resistance of the wiring 21 is 10 mV. The voltage drop increases in proportion to the magnitude of the rated current.

近年、半導体装置の動作電圧の低電圧化が進むと共に、負荷として接続される半導体装置の動作電圧範囲も狭くなってきており、中には±80mVという極めて狭い動作電圧範囲を有するものもある。このような動作範囲を有する半導体装置では、上述した配線21で生ずるような電圧降下を無視することができなくなってきている。   In recent years, as the operating voltage of semiconductor devices has been lowered, the operating voltage range of semiconductor devices connected as loads has become narrower, and some of them have an extremely narrow operating voltage range of ± 80 mV. In a semiconductor device having such an operating range, a voltage drop that occurs in the wiring 21 described above cannot be ignored.

本発明は、上記問題を鑑みて、内蔵された定電圧回路の定格電流出力時の出力電圧を正確に測定することが可能な半導体装置を提供することを目的とする。   In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a semiconductor device capable of accurately measuring an output voltage at the time of rated current output of a built-in constant voltage circuit.

上記目的を達成するために、本発明の半導体装置は、出力用パッドを有する半導体チップと、前記出力用パッドと配線により接続された外部端子を有するパッケージとを備えた半導体装置であって、前記半導体チップが前記外部端子の電圧を測定するための外部端子電圧測定用パッドを更に有し、前記外部端子と前記外部端子電圧測定用パッドとを接続し、前記外部端子電圧測定用パッドを介して前記外部端子の電圧を測定することを特徴とする。   In order to achieve the above object, a semiconductor device of the present invention is a semiconductor device comprising a semiconductor chip having an output pad, and a package having an external terminal connected to the output pad by wiring. The semiconductor chip further includes an external terminal voltage measurement pad for measuring the voltage of the external terminal, and connects the external terminal and the external terminal voltage measurement pad, via the external terminal voltage measurement pad. The voltage of the external terminal is measured.

これにより、内蔵された定電圧回路の定格電流出力時の出力電圧を正確に測定することが可能な半導体装置を提供することができる。なお、外部端子及びそれに対応した出力用パッドは複数存在しても良く、外部端子電圧測定用パッドも、それに応じて複数設けられる。   Thereby, it is possible to provide a semiconductor device capable of accurately measuring the output voltage at the rated current output of the built-in constant voltage circuit. Note that there may be a plurality of external terminals and corresponding output pads, and a plurality of external terminal voltage measurement pads are provided accordingly.

また、上記目的を達成するために、本発明の半導体装置は、前記半導体チップが、前記外部端子の電圧を測定するためのテスト用パッドを更に有し、前記外部端子電圧測定用パッドが、前記テスト用パッドに接続されていることを特徴とする。   In order to achieve the above object, in the semiconductor device of the present invention, the semiconductor chip further includes a test pad for measuring the voltage of the external terminal, and the external terminal voltage measurement pad is It is connected to a test pad.

これにより、外部に設けられたテスタによって、内蔵された定電圧回路の出力電圧を測定することが可能な半導体装置を提供することができる。   As a result, a semiconductor device capable of measuring the output voltage of the built-in constant voltage circuit with an external tester can be provided.

また、上記目的を達成するために、本発明の半導体装置は、前記半導体チップが、スイッチ手段を更に有し、前記外部端子電圧測定用パッドが、前記スイッチ手段を介して前記テスト用パッドに接続されていることを特徴とする。   In order to achieve the above object, in the semiconductor device of the present invention, the semiconductor chip further includes a switch means, and the external terminal voltage measurement pad is connected to the test pad via the switch means. It is characterized by being.

これにより、所定の場合、例えば、内蔵された定電圧回路から定格電流が出力されている場合にのみ、その出力電圧を測定することが可能な半導体装置を提供することができる。   Thereby, a semiconductor device capable of measuring the output voltage only in a predetermined case, for example, when a rated current is output from a built-in constant voltage circuit can be provided.

また、上記目的を達成するために、本発明の半導体装置は、前記外部端子電圧測定用パッドと前記外部端子との間の電圧降下が、前記出力用パッドと前記外部端子との間の電圧降下よりも小さいことを特徴とする。   In order to achieve the above object, according to the semiconductor device of the present invention, a voltage drop between the external terminal voltage measurement pad and the external terminal is a voltage drop between the output pad and the external terminal. It is characterized by being smaller than.

これにより、内蔵された定電圧回路の出力電圧を測定する際に、配線による電圧降下の影響を低減することが可能な半導体装置を提供することができる。   Thereby, when measuring the output voltage of the built-in constant voltage circuit, it is possible to provide a semiconductor device capable of reducing the influence of a voltage drop due to wiring.

また、上記目的を達成するために、本発明の半導体装置は、前記半導体チップが、定電圧回路を更に有し、前記出力用パッドが、前記定電圧回路の出力に接続されていることを特徴とする。   In order to achieve the above object, in the semiconductor device of the present invention, the semiconductor chip further includes a constant voltage circuit, and the output pad is connected to an output of the constant voltage circuit. And

これにより、内蔵された定電圧回路の出力電圧を測定するための外部端子電圧測定用パッドと外部端子との間に電流がほとんど流れないようにすることが可能な半導体装置を提供することができる。   Thus, it is possible to provide a semiconductor device capable of preventing almost no current from flowing between the external terminal voltage measurement pad for measuring the output voltage of the built-in constant voltage circuit and the external terminal. .

また、上記目的を達成するために、本発明の半導体装置は、前記外部端子電圧測定用パッドと前記外部端子との間の配線と、前記出力用パッドと前記外部端子との間の配線とが、一部共通する部分を有することを特徴とする。   In order to achieve the above object, the semiconductor device of the present invention includes a wiring between the external terminal voltage measurement pad and the external terminal, and a wiring between the output pad and the external terminal. , Characterized in that they have some common parts.

これにより、スペースに余裕がない等の問題がある場合に、外部端子電圧測定用パッド及び出力用パッドと外部端子との間の配線を一部共通とすることが可能な半導体装置を提供することができる。ただし、半導体装置に接続される負荷の動作電圧範囲が比較的大きい場合にのみ、このような配線レイアウトとすることができる。   Thus, it is possible to provide a semiconductor device capable of sharing a part of wiring between an external terminal voltage measurement pad and an output pad and an external terminal when there is a problem such as a lack of space. Can do. However, such a wiring layout can be obtained only when the operating voltage range of the load connected to the semiconductor device is relatively large.

また、上記目的を達成するために、本発明の半導体装置は、前記共通する部分が、前記パッケージ上のスルーホールを含む配線であることを特徴とする。   In order to achieve the above object, the semiconductor device of the present invention is characterized in that the common part is a wiring including a through hole on the package.

これにより、外部端子電圧測定用パッド及び出力用パッドと外部端子との間の配線の一部が共通である場合に、共通部分を可能な限り少なくとすることが可能な半導体装置を提供することができる。   Thus, it is possible to provide a semiconductor device capable of minimizing the common portion as much as possible when a part of the wiring between the external terminal voltage measurement pad and the output pad and the external terminal is common. Can do.

また、上記目的を達成するために、本発明の半導体装置は、前記外部端子電圧測定用パッド及び前記出力用パッドと前記外部端子との間の配線が、前記パッケージ上に形成された再配線を有することを特徴とする。   In order to achieve the above object, the semiconductor device according to the present invention includes a rewiring in which the wiring between the external terminal voltage measurement pad and the output pad and the external terminal is formed on the package. It is characterized by having.

これにより、小型化可能な半導体装置を提供することができる。   Thus, a semiconductor device that can be miniaturized can be provided.

また、上記目的を達成するために、本発明の半導体装置は、前記外部端子電圧測定用パッド及び前記出力用パッドと前記外部端子との間の配線が、ワイヤを有することを特徴とする。   In order to achieve the above object, the semiconductor device of the present invention is characterized in that the external terminal voltage measurement pad and the wiring between the output pad and the external terminal have wires.

これにより、パッケージ上に再配線を形成することができない場合にも、適切に配線レイアウトを行うことが可能な半導体装置を提供することができる。   As a result, it is possible to provide a semiconductor device capable of performing appropriate wiring layout even when rewiring cannot be formed on the package.

本発明により、内蔵された定電圧回路の定格電流出力時の出力電圧を正確に測定することが可能な半導体装置を提供することが可能となる。   According to the present invention, it is possible to provide a semiconductor device capable of accurately measuring an output voltage when a built-in constant voltage circuit outputs a rated current.

以下、添付の図面を参照して、本発明の実施形態を詳細に説明する。全ての図面を通して、同じ機能を有する構成要素には同じ参照符号が付されている。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Throughout the drawings, components having the same function are given the same reference numerals.

図2は、本発明の実施例を示す半導体装置の測定回路図である。図2において、半導体装置100は、半導体チップ110と、パッケージ120と、配線21、22及び23とを有し、パッケージ120に設けられた第1及び第2の外部端子Out及びTSTの夫々を介して負荷2及びテスタ3に接続されている。   FIG. 2 is a measurement circuit diagram of the semiconductor device showing the embodiment of the present invention. In FIG. 2, the semiconductor device 100 includes a semiconductor chip 110, a package 120, and wirings 21, 22, and 23, and the first and second external terminals Out and TST provided in the package 120 are respectively connected. Are connected to the load 2 and the tester 3.

半導体チップ110は、基準電圧Vref、誤差増幅回路11、出力トランジスタM1並びに出力電圧検出抵抗R1及びR2から構成された定電圧回路30と、スイッチ手段SW1、SW2及びSW3とを有する。更に、半導体チップ110は、出力用パッドCout1と、外部端子電圧測定用パッドCout2と、テスト用パッドCtstとを有する。定電圧回路30の出力は、出力用パッドCout1に接続されている。   The semiconductor chip 110 includes a reference voltage Vref, an error amplifier circuit 11, an output transistor M1, a constant voltage circuit 30 including output voltage detection resistors R1 and R2, and switch means SW1, SW2, and SW3. Further, the semiconductor chip 110 includes an output pad Cout1, an external terminal voltage measurement pad Cout2, and a test pad Ctst. The output of the constant voltage circuit 30 is connected to the output pad Cout1.

出力用パッドCout1及び外部端子電圧測定用パッドCout2は、夫々、配線21及び22を介してパッケージ120上の第1の外部端子Outに接続されており、テスト用パッドCtstは、配線23を介してパッケージ20上の第2の外部端子TSTに接続されている。配線21、22及び23は、パッケージ120上に形成された再配線、半導体チップ110のパッドとパッケージ120上の電極とを接続するためのワイヤボンディング及びパッケージ120に形成されたスルーホール等を有する。   The output pad Cout1 and the external terminal voltage measurement pad Cout2 are connected to the first external terminal Out on the package 120 via wirings 21 and 22, respectively, and the test pad Ctst is connected via the wiring 23. The second external terminal TST on the package 20 is connected. The wirings 21, 22, and 23 include rewiring formed on the package 120, wire bonding for connecting pads of the semiconductor chip 110 and electrodes on the package 120, and through holes formed in the package 120.

スイッチ手段SW1、SW2及びSW3の一端は、全て共通接続されてテスト用パッドCtstに接続されている。スイッチ手段SW1の他端には信号S1が接続され、スイッチ手段SW2の他端には外部端子電圧測定用パッドCout2が接続され、スイッチ手段SW3の他端には信号S3が接続されている。スイッチ手段SW1、SW2及びSW3は、制御回路(図示せず。)によって、テスタ3の測定項目と同期して選択的にオン・オフ制御が為される。図2には、信号がS1及びS3の2つしか示されていないが、実際には幾つ存在しても良い。   One ends of the switch means SW1, SW2 and SW3 are all connected in common and connected to the test pad Ctst. A signal S1 is connected to the other end of the switch means SW1, an external terminal voltage measuring pad Cout2 is connected to the other end of the switch means SW2, and a signal S3 is connected to the other end of the switch means SW3. The switch means SW1, SW2, and SW3 are selectively turned on / off in synchronization with the measurement items of the tester 3 by a control circuit (not shown). Although only two signals S1 and S3 are shown in FIG. 2, any number of signals may actually exist.

図2に示した本発明の半導体装置では、半導体チップ110に外部端子電圧測定用パッドCout2が追加され、外部端子電圧測定用パッドCout2とパッケージ120上の第1の外部端子Outとの間に配線22が設けられた点で、図1に示した従来の半導体装置とは異なる。更に、図2の半導体装置では、スイッチ手段SW2の端子の一方が、定電圧回路30の出力ではなく、追加された外部端子電圧測定用パッドCout2に接続されている。   In the semiconductor device of the present invention shown in FIG. 2, an external terminal voltage measurement pad Cout2 is added to the semiconductor chip 110, and wiring is provided between the external terminal voltage measurement pad Cout2 and the first external terminal Out on the package 120. 1 is different from the conventional semiconductor device shown in FIG. Further, in the semiconductor device of FIG. 2, one of the terminals of the switch means SW2 is connected to the added external terminal voltage measurement pad Cout2 instead of the output of the constant voltage circuit 30.

図2の半導体装置において定電圧回路30から定格電流が出力される場合に、出力用パッドCout1と第1の外部端子Outとの間の配線21では大きな電圧降下が発生するが、外部端子電圧測定用パッドCout2と第1の外部端子Outとの間の配線22では、電流が流れていないために、電圧降下は発生しない。従って、半導体チップ110上の外部端子電圧測定用パッドCout2の電圧は、パッケージ120上の第1の外部端子Outの電圧と同じとなり、スイッチ手段SW2をオンとすると、テスト用パッドCtstに接続されるので、テスタ3は、第2の外部端子TSTを介して定電圧回路30の正確な出力電圧を測定することができる。   When the rated current is output from the constant voltage circuit 30 in the semiconductor device of FIG. 2, a large voltage drop occurs in the wiring 21 between the output pad Cout1 and the first external terminal Out. A voltage drop does not occur in the wiring 22 between the pad Cout2 and the first external terminal Out because no current flows. Therefore, the voltage of the external terminal voltage measurement pad Cout2 on the semiconductor chip 110 is the same as the voltage of the first external terminal Out on the package 120. When the switch means SW2 is turned on, the voltage is connected to the test pad Ctst. Therefore, the tester 3 can measure the accurate output voltage of the constant voltage circuit 30 via the second external terminal TST.

次に、図2に示された本発明の半導体装置の構造について、具体的な実施例を挙げて説明する。   Next, the structure of the semiconductor device of the present invention shown in FIG. 2 will be described with reference to specific examples.

図3は、図2の半導体装置の構造の第1の実施例を表す側面図である。   FIG. 3 is a side view showing the first embodiment of the structure of the semiconductor device of FIG.

図3において、半導体装置100は、半導体チップ110及びパッケージ120を有する。パッケージ120は、その上面に半導体チップ110を積載しており、その裏面には外部端子であるバンプOutが形成されている。半導体チップ110は、その上面に出力用パッドCout1及び外部端子電圧測定用パッドCout2を形成されている。更に、半導体装置100は、第1及び第2の配線21及び22を有する。第1の配線21は、第1のワイヤボンディング31と、パッケージ120の上面に形成された再配線と、第1のスルーホール33とを有し、半導体チップ110の上面に形成された出力用パッドCout1と、パッケージ120の裏面に形成された外部端子Outとを結合する。第2の配線22は、第2のワイヤボンディング32と、第2のスルーホール34と、パッケージ120の裏面に形成された再配線とを有し、半導体チップ110の上面に形成された外部端子電圧測定用パッドCout2と、パッケージ120の裏面に形成された外部端子Outとを結合する。   In FIG. 3, the semiconductor device 100 includes a semiconductor chip 110 and a package 120. The package 120 has a semiconductor chip 110 stacked on the upper surface thereof, and bumps Out as external terminals are formed on the rear surface thereof. The semiconductor chip 110 has an output pad Cout1 and an external terminal voltage measurement pad Cout2 formed on the upper surface thereof. Further, the semiconductor device 100 includes first and second wirings 21 and 22. The first wiring 21 has a first wire bonding 31, a rewiring formed on the upper surface of the package 120, and a first through hole 33, and an output pad formed on the upper surface of the semiconductor chip 110. Cout1 and the external terminal Out formed on the back surface of the package 120 are coupled. The second wiring 22 has a second wire bonding 32, a second through hole 34, and a rewiring formed on the back surface of the package 120, and an external terminal voltage formed on the upper surface of the semiconductor chip 110. The measurement pad Cout2 is coupled to the external terminal Out formed on the back surface of the package 120.

上記から明らかなように、第1及び第2の配線21及び22は、夫々独立しており、外部端子Outに接続されている以外は共通部分を有さない。従って、第1の配線21の電圧降下の影響は、第2の配線22には及ばない。定格電流出力時の定電圧回路の定格電圧を正確に測定するためには、このような構造が最も理想的である。   As is apparent from the above, the first and second wirings 21 and 22 are independent of each other and do not have a common part except that they are connected to the external terminal Out. Therefore, the influence of the voltage drop of the first wiring 21 does not reach the second wiring 22. Such a structure is most ideal for accurately measuring the rated voltage of the constant voltage circuit at the rated current output.

図4は、図2の半導体装置の構造の第2の例を表す側面図である。   FIG. 4 is a side view showing a second example of the structure of the semiconductor device of FIG.

図4において、半導体装置100は、半導体チップ110及びパッケージ120を有する。パッケージ120は、その上面に半導体チップ110を積載しており、その裏面には外部端子であるバンプOutが形成されている。半導体チップ110は、その上面に出力用パッドCout1及び外部端子電圧測定用パッドCout2を形成されている。更に、半導体装置100は、第1及び第2の配線21及び22を有する。第1の配線21は、第1のワイヤボンディング31と、パッケージ120の上面に形成された再配線と、スルーホール41とを有し、半導体チップ110の上面に形成された出力用パッドCout1と、パッケージ120の裏面に形成された外部端子Outとを結合する。第2の配線22は、第2のワイヤボンディング32と、パッケージ120の上面に形成された再配線と、スルーホール41とを有し、半導体チップ110の上面に形成された外部端子電圧測定用パッドCout2と、パッケージ120の裏面に形成された外部端子Outとを結合する。   In FIG. 4, the semiconductor device 100 includes a semiconductor chip 110 and a package 120. The package 120 has a semiconductor chip 110 stacked on the upper surface thereof, and bumps Out as external terminals are formed on the rear surface thereof. The semiconductor chip 110 has an output pad Cout1 and an external terminal voltage measurement pad Cout2 formed on the upper surface thereof. Further, the semiconductor device 100 includes first and second wirings 21 and 22. The first wiring 21 includes a first wire bonding 31, a rewiring formed on the upper surface of the package 120, and a through hole 41, and an output pad Cout 1 formed on the upper surface of the semiconductor chip 110; The external terminal Out formed on the back surface of the package 120 is coupled. The second wiring 22 has a second wire bonding 32, a rewiring formed on the upper surface of the package 120, and a through hole 41, and an external terminal voltage measurement pad formed on the upper surface of the semiconductor chip 110. Cout2 and the external terminal Out formed on the back surface of the package 120 are coupled.

図4の半導体装置では、図3とは異なり、第1及び第2の配線21及び22が、1つのスルーホール41を共用している。スペース等の問題により配線の一部を共通とせざるを得ない場合、その共通部分をスルーホールとすることで、可能な限り共通部分を小さくすることができる。この場合、配線22でも電圧降下は発生するが、定電圧回路に接続される負荷の動作電圧範囲が比較的大きい場合には無視することができる程度である。   In the semiconductor device of FIG. 4, unlike FIG. 3, the first and second wirings 21 and 22 share one through hole 41. When a part of the wiring must be shared due to a problem such as space, the common part can be made as small as possible by using the common part as a through hole. In this case, although a voltage drop also occurs in the wiring 22, it can be ignored when the operating voltage range of the load connected to the constant voltage circuit is relatively large.

図5は、図2の半導体装置の構造の第3の実施例を表す側面図である。   FIG. 5 is a side view showing a third embodiment of the structure of the semiconductor device of FIG.

図5において、半導体装置100は、半導体チップ110及びパッケージ120を有し、CSP(Chip Size Package)で構成されている。半導体チップ110は、その上面に出力用パッドCout1及び外部端子電圧測定用パッドCout2を形成されている。パッケージ120は、半導体チップ110の上面に出力用パッドCout1及び外部端子電圧測定用パッドCout2を覆うように積載され、その上面には外部端子であるバンプOutが形成されている。更に、パッケージ120は、第1及び第2の配線21及び22を有する。第1の配線21は、パッケージ120の上面に形成された再配線と、第3のスルーホール51と、パッケージ120の裏面に形成された再配線とを有し、パッケージ120の上面に形成された外部端子Outと、半導体チップ110の上面に形成された出力用パッドCout1とを結合する。第2の配線22は、第4のスルーホール52と、パッケージ120の裏面に形成された再配線とを有し、パッケージ120の上面に形成された外部端子Outと、半導体チップ110の上面に形成された外部端子電圧測定用パッドCout2とを結合する。   In FIG. 5, a semiconductor device 100 includes a semiconductor chip 110 and a package 120, and is configured by a CSP (Chip Size Package). The semiconductor chip 110 has an output pad Cout1 and an external terminal voltage measurement pad Cout2 formed on the upper surface thereof. The package 120 is stacked on the upper surface of the semiconductor chip 110 so as to cover the output pad Cout1 and the external terminal voltage measurement pad Cout2, and a bump Out which is an external terminal is formed on the upper surface. Further, the package 120 includes first and second wirings 21 and 22. The first wiring 21 has a rewiring formed on the upper surface of the package 120, a third through hole 51, and a rewiring formed on the back surface of the package 120, and is formed on the upper surface of the package 120. The external terminal Out and the output pad Cout1 formed on the upper surface of the semiconductor chip 110 are coupled. The second wiring 22 has a fourth through hole 52 and a rewiring formed on the back surface of the package 120, and is formed on the external terminal Out formed on the top surface of the package 120 and on the top surface of the semiconductor chip 110. The external terminal voltage measurement pad Cout2 thus coupled is coupled.

このように本発明の半導体装置は、CSPで構成されることも可能である。構造をCSPとしたことにより、図3及び4に示した構造とは異なり、ワイヤボンディングが不要となる。従って、ワイヤボンディングを使用した場合に比べ、パッドと外部端子を結合する配線21及び22の抵抗は小さくなるので、配線21及び22で発生する電圧降下も小さくなる。ただし、図5に示した構造では、図3と同じく、第1及び第2の配線21及び21が、外部端子Outに接続されている以外は共通部分を有さないので、第2の配線22では電圧降下が発生しない。   As described above, the semiconductor device of the present invention can also be configured by a CSP. Since the structure is CSP, unlike the structure shown in FIGS. 3 and 4, wire bonding is not required. Therefore, compared to the case where wire bonding is used, the resistance of the wirings 21 and 22 that couple the pad and the external terminal is reduced, so that the voltage drop generated in the wirings 21 and 22 is also reduced. However, in the structure shown in FIG. 5, since the first and second wirings 21 and 21 do not have a common portion except that they are connected to the external terminal Out, as in FIG. Then there is no voltage drop.

〔変形例〕
本発明は、上述した実施例に限定されるものではない。例えば、本発明の半導体装置は、図3、4及び5に示したような構造に限らず、特許請求の範囲の適用範囲内で多種多様な構造をとることが可能である。
[Modification]
The present invention is not limited to the embodiments described above. For example, the semiconductor device of the present invention is not limited to the structure shown in FIGS. 3, 4, and 5, and can have various structures within the scope of the claims.

また、本発明は、定電圧回路に限らず、何らかの回路を組み込まれ、その出力電圧を正確に測定する必要がある半導体装置に適用することができる。   The present invention is not limited to a constant voltage circuit, and can be applied to a semiconductor device in which some circuit is incorporated and its output voltage needs to be accurately measured.

従来の定電圧回路内蔵した半導体装置の測定回路図である。It is a measurement circuit diagram of a conventional semiconductor device incorporating a constant voltage circuit. 本発明の実施例を示す半導体装置の測定回路図である。It is a measurement circuit diagram of a semiconductor device showing an example of the present invention. 図2の半導体装置の構造の第1の例を表す側面図である。FIG. 3 is a side view illustrating a first example of the structure of the semiconductor device in FIG. 2. 図2の半導体装置の構造の第2の例を表す側面図である。FIG. 3 is a side view illustrating a second example of the structure of the semiconductor device in FIG. 2. 図2の半導体装置の構造の第3の実施例を表す側面図である。FIG. 6 is a side view illustrating a third embodiment of the structure of the semiconductor device in FIG. 2.

符号の説明Explanation of symbols

1,100 半導体装置
2 負荷
3 テスタ
10,110 半導体チップ
20,120 パッケージ
21,22,23 配線
30 定電圧回路
31,32 ワイヤボンディング
33,34,41,51,52 スルーホール
SW1,SW2,SW3 スイッチ手段
Out,TST 外部端子
Ctst,Cout1,Cout2 パッド
1,100 Semiconductor device 2 Load 3 Tester 10, 110 Semiconductor chip 20, 120 Package 21, 22, 23 Wiring 30 Constant voltage circuit 31, 32 Wire bonding 33, 34, 41, 51, 52 Through hole SW1, SW2, SW3 Switch Means Out, TST External terminal Ctst, Cout1, Cout2 Pad

Claims (9)

出力用パッドを有する半導体チップと、前記出力用パッドと配線により接続された外部端子を有するパッケージとを備えた半導体装置において、
前記半導体チップは、前記外部端子の電圧を測定するための外部端子電圧測定用パッドを更に有し、
前記外部端子と前記外部端子電圧測定用パッドとを接続し、前記外部端子電圧測定用パッドを介して前記外部端子の電圧を測定することを特徴とする半導体装置。
In a semiconductor device comprising a semiconductor chip having an output pad and a package having an external terminal connected to the output pad by wiring,
The semiconductor chip further includes an external terminal voltage measurement pad for measuring the voltage of the external terminal,
A semiconductor device comprising: connecting the external terminal and the external terminal voltage measurement pad; and measuring the voltage of the external terminal via the external terminal voltage measurement pad.
前記半導体チップは、前記外部端子の電圧を測定するためのテスト用パッドを更に有し、
前記外部端子電圧測定用パッドは、前記テスト用パッドに接続されていることを特徴とする、請求項1記載の半導体装置。
The semiconductor chip further includes a test pad for measuring the voltage of the external terminal,
The semiconductor device according to claim 1, wherein the external terminal voltage measurement pad is connected to the test pad.
前記半導体チップは、スイッチ手段を更に有し、
前記外部端子電圧測定用パッドは、前記スイッチ手段を介して前記テスト用パッドに接続されていることを特徴とする、請求項2記載の半導体装置。
The semiconductor chip further includes switch means,
3. The semiconductor device according to claim 2, wherein the external terminal voltage measurement pad is connected to the test pad via the switch means.
前記外部端子電圧測定用パッドと前記外部端子との間の電圧降下は、前記出力用パッドと前記外部端子との間の電圧降下よりも小さいことを特徴とする、請求項1乃至3のうちいずれか一項記載の半導体装置。   4. The voltage drop between the external terminal voltage measurement pad and the external terminal is smaller than the voltage drop between the output pad and the external terminal. 5. A semiconductor device according to claim 1. 前記半導体チップは、定電圧回路を更に有し、
前記出力用パッドは、前記定電圧回路の出力に接続されていることを特徴とする、請求項1乃至4のうちいずれか一項記載の半導体装置。
The semiconductor chip further includes a constant voltage circuit,
The semiconductor device according to claim 1, wherein the output pad is connected to an output of the constant voltage circuit.
前記外部端子電圧測定用パッドと前記外部端子との間の配線と、前記出力用パッドと前記外部端子との間の配線とは、一部共通する部分を有することを特徴とする、請求項1乃至5のうちいずれか一項記載の半導体装置。   2. The wiring between the external terminal voltage measurement pad and the external terminal and the wiring between the output pad and the external terminal have a part in common. The semiconductor device according to claim 1. 前記共通する部分は、前記パッケージ上のスルーホールを含む配線であることを特徴とする、請求項6記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 6, wherein the common part is a wiring including a through hole on the package. 前記外部端子電圧測定用パッド及び前記出力用パッドと前記外部端子との間の配線は、前記パッケージ上に形成された再配線を有することを特徴とする、請求項1乃至7のうちいずれか一項記載の半導体装置。   The wiring between the external terminal voltage measurement pad and the output pad and the external terminal includes a rewiring formed on the package. A semiconductor device according to item. 前記外部端子電圧測定用パッド及び前記出力用パッドと前記外部端子との間の配線は、ワイヤを有することを特徴とする、請求項1乃至5のうちいずれか一項記載の半導体装置。   6. The semiconductor device according to claim 1, wherein the wiring between the external terminal voltage measurement pad and the output pad and the external terminal includes a wire.
JP2006053706A 2006-02-28 2006-02-28 Semiconductor device Withdrawn JP2007234816A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006053706A JP2007234816A (en) 2006-02-28 2006-02-28 Semiconductor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006053706A JP2007234816A (en) 2006-02-28 2006-02-28 Semiconductor device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007234816A true JP2007234816A (en) 2007-09-13

Family

ID=38555108

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006053706A Withdrawn JP2007234816A (en) 2006-02-28 2006-02-28 Semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007234816A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010219100A (en) * 2009-03-13 2010-09-30 Ricoh Co Ltd Semiconductor device
JP2013008742A (en) * 2011-06-22 2013-01-10 Renesas Electronics Corp Semiconductor chip and manufacturing method thereof and semiconductor package

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010219100A (en) * 2009-03-13 2010-09-30 Ricoh Co Ltd Semiconductor device
JP2013008742A (en) * 2011-06-22 2013-01-10 Renesas Electronics Corp Semiconductor chip and manufacturing method thereof and semiconductor package

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7808258B2 (en) Test interposer having active circuit component and method therefor
JP4215023B2 (en) Semiconductor device having a plurality of semiconductor integrated circuits and method for inspecting connection state between semiconductor integrated circuits
US7965095B2 (en) Separate testing of continuity between an internal terminal in each chip and an external terminal in a stacked semiconductor device
JP6135690B2 (en) Semiconductor chip and method for detecting disconnection of wire bonded to semiconductor chip
JP2871661B1 (en) Semiconductor device
JP2007234816A (en) Semiconductor device
US10600698B2 (en) Semiconductor device, semiconductor chip, and test method for semiconductor chip
JP2000243795A (en) Power supply current measurement circuit of burn-in tester
US8810252B2 (en) Solder joint inspection
JP4710443B2 (en) Multi-chip module
JP2005322768A (en) Semiconductor integrated circuit
US20080197872A1 (en) Semiconductor chip, multi-chip semiconductor device, inspection method of the same, and electric appliance integrating the same
US20080093597A1 (en) Semiconductor device
KR100915931B1 (en) Semiconductor device and semiconductor measuring device
JP5004418B2 (en) Semiconductor device test circuit
JP5417912B2 (en) Semiconductor device
JP2002168914A (en) Stabilized electric power source unit
JP7392533B2 (en) inspection system
JP2006170878A (en) Electronic circuit device, and measuring method therefor
JP2010223791A (en) Semiconductor device and inspecting method for the same
US20210208197A1 (en) On-chip current sensor
JP2012083262A (en) Testing device and testing method
US20100052767A1 (en) Semiconductor module
JP2007198930A (en) Semiconductor inspection system and semiconductor device
JP2009065037A (en) Semiconductor integrated circuit and inspecting device therefor

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090116

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20111005