JP5414928B2 - ガスミスト圧浴システム - Google Patents
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Description
(1)まず、生体カバー部材を生体の任意の位置にセットし、生体カバー部材内を密閉する。
(2)次いで、ガスミストを生成して、生体カバー部材内に供給する。
(3)所定の条件(圧力、温度、湿度等)を一定時間維持した状態でガスミスト圧浴を行う。
図2は、本発明の第一の実施形態に係るガスミスト圧浴システムの全体概略図である。図2に示すように、本実施形態のガスミスト圧浴システムは、酸素、炭酸ガス、又は酸素と炭酸ガスの混合ガス(以下、単にガスという)を供給するガス供給手段10と、ガスミスト生成手段としてのガスミスト生成器30と、供給されたガスミストを内部に封入する生体カバー部材としての生体圧浴カバー50と、制御手段としての制御装置60と、から構成される。
図11(a)は、人体の片下肢(膝下部)用の生体圧浴カバー50Aである。この生体圧浴カバー50Aは、足部全体を覆う内側カバー51Aと、膝下部と内側カバー51Aを覆う外側カバー55Aとから構成される。内側カバー51Aには、ガスミスト供給管41に接続してガスミストを内部に導入する供給口52Aが設けられている。また、内側カバー51Aの端部は開口54Aになっている。外側カバー55Aには、生体への着脱を可能にし内部に封入したガスミストの漏出を防ぐ止着部57A、内側カバー51Aの供給口52Aと連結させて外側カバー55A内を密閉しながら内側カバー51Aとガスミスト供給管41を接続させる連結部58Aが設けられている。
上記実施形態では、内側カバー51が開口54によって開放された状態の生体圧浴カバー50について説明したが、内側カバーは内部が閉じられた状態であっても良い。以下、内側カバーが閉じられた生体圧浴カバー150について図12を用いて説明する。ガスミスト圧浴システムの生体圧浴カバー150以外の構成は、第一の実施形態と同一のため図示と説明を省略する。
図15は、本発明の第三の実施形態に係るガスミスト圧浴システムの全体概略図である。本実施形態では、発生させたミストを帯電させるための電荷付与手段をさらに備えたガスミスト圧浴システムについて説明する。なお、図2に示す第一の実施形態と同一の部分については、同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
10A ガスボンベ
11 レギュレータ
20 液体供給手段
30、130、230、230′、330、430 ガスミスト生成器
31、133、234、239、337、433 ガスミスト排出口
41 ガスミスト供給管
41A ジャバラ状の管
42 溝
50、50A、50B、50C、50D、150、150A、150B、150C、150D 生体圧浴カバー
51、51A、51B、51C、51D、151、151A、151B、151C、151D 第一のカバー(内側カバー)
52、52A、52B、52C、52D、152、152A、152B、152C、152D、156、156A、156B、156C、156D 供給口
54、54A、54B、54C、54D 開口
55、55A、55B、55C、55D、155、155A、155B、155
C、155D 第二のカバー(外側カバー)
57、57A、57B、57C、57D、153、153A、153B、153
C、153D、1557A、157B、157C、157D 止着部
58、58A、58B、58C、58D、158、158A、158B、158C、158D 連結部
60 制御装置
71、71a、71b 圧力計
72 温度計
81 電源装置
82 電極
90 ケース
91、92 スタンド
93 フック
131、231、235、331B、431 液体貯留部
132 ガス導入部
132A 接続部
132B 微細孔
134 キャップ
232、236、432A ガス供給口
233、237 超音波振動子
238 振動伝達槽
331 貯留部
331A ガスミスト貯留部
332 ノズル
332A ノズル先端開口
333 吸液管
334 バッフル
335 遮蔽板
336 吸液管形成部材
336A 吸液管形成部材の先端部
432 流体ノズル
432B 液体供給口
434 液体排出部
435 液体循環路
Claims (20)
- 所定値以上の濃度の炭酸ガス、又は酸素、又は炭酸ガスと酸素の混合ガス(以下、「ガス」という)と液体を粉砕溶解させたミスト(以下、「ガスミスト」という)を生体の皮膚又は粘膜に接触させるためのガスミスト圧浴システムであって、
前記ガスを供給するガス供給手段と、
液体貯留部を備えて、貯留された液体を粉砕して生成した液滴に前記ガス供給手段から供給されるガスを溶解させてガスミストを生成するガスミスト生成手段と、
前記生体の皮膚及び粘膜を被覆し、前記ガスミスト生成手段から供給されるガスミストを内部に封入する空間を形成するカバーであって、内側に配置される断熱用の第一のカバーと、この第一のカバーの外側に配置され内部を略密閉する第二のカバーとを有する生体カバー部材と、を備え、
前記第一のカバーの被覆部位が前記第二のカバーの被覆部位よりも小さくしたことを特徴とするガスミスト圧浴システム。 - 前記第一のカバーは、前記第二のカバーに連通する開口を有して開放した状態で前記生体を局所的に被覆することを特徴とする請求項1に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記第一のカバーは、略密閉状態で前記生体を局所的に被覆することを特徴とする請求項1に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記液体貯留部に液体を供給する液体供給手段をさらに備えることを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記第一のカバー及び前記第二のカバー内の圧力を計測する圧力計と、
前記圧力計の測定値に基づき、前記第一のカバー及び前記第二のカバー内の気圧が予め設定した値の範囲内となるよう制御する制御手段と、
をさらに備えることを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項に記載のガスミスト圧浴システム。 - 前記第一のカバー又は第二のカバー内の温度、酸素濃度、炭酸ガス濃度又は湿度を計測するセンサの何れか一つ又は複数をさらに備え、
前記制御手段が、前記センサの測定値に基づき、前記第一のカバー又は前記第二のカバー内の環境が予め設定した値の範囲内となるよう制御することを特徴とする請求項5に記載のガスミスト圧浴システム。 - 前記制御手段は、前記生体カバー部材内の圧力値が所定値以上になった際には前記ガス供給手段からのガスの供給を停止することを特徴とする請求項5又は6に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記制御手段により、前記ガス供給手段からガスを前記ガスミスト生成手段に間歇的に供給することにより、前記生体カバー部材をインターバル加圧することを特徴とする請求項5乃至7の何れか一項に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記第一のカバーの被覆部位が、生体の手のひら又は足の裏を含むことを特徴とする請求項1乃至8の何れか一項に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記液体は、水、イオン水、オゾン水、生理食塩水、精製水、又は滅菌精製水の何れか一つ又は複数の組み合わせであることを特徴とする請求項1乃至9の何れか一項に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記液体は、メンソール、ビタミンE、ビタミンC誘導体、レチノール、麻酔薬、シクロデキストリン、光触媒、光触媒とアパタイトの複合体、ヒアルロン酸、コエンザイムQ10、シードオイル、プロポリス、クエン酸、エタノール、グルコン酸クロルヘキシジン、両性界面活性剤、塩化ベンザルコニウム、酢酸アルキルジアミノエテルグリシン、次亜塩素酸ナトリウム、過酢酸、セスキ炭酸ナトリウム、シリカ、ポピドンヨード、炭酸水素ナトリウム、高濃度炭酸泉剤、抗アレルギー剤、抗炎症剤、解熱鎮痛剤、抗真菌剤、抗インフルエンザウィルス剤、インフルエンザワクチン、ステロイド剤、抗ガン剤、血圧降下剤、化粧剤、増毛剤、発毛剤、又は育毛剤のうち、何れか一つ又は複数をさらに含有することを特徴とする請求項10に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記ガスミスト生成手段から前記生体カバー部材内に供給されるミストの粒径が、10μm以下であることを特徴とする請求項1乃至11の何れか一項に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記ガスミスト生成手段が供給するミストに電荷を付与する電荷付与手段をさらに備えることを特徴とする請求項1乃至12の何れか一項に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記電荷がマイナス電荷であることを特徴とする請求項13に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記ガスミスト生成手段が、前記生体圧浴カバーへガスミストを供給するためのガスミスト供給管を有し、
該ガスミスト供給管が、管内に付着する液滴を除去するためのフィルターを備えることを特徴とする請求項1乃至14の何れか一項に記載のガスミスト圧浴システム。 - 前記ガスミスト生成手段が、前記生体圧浴カバーへガスミストを供給するためのガスミスト供給管を有し、
該ガスミスト供給管の全部又は一部がジャバラ状の管から構成されることを特徴とする請求項1乃至15の何れか一項に記載のガスミスト圧浴システム。 - 前記ジャバラ状の管の内側に、管の軸方向に溝が形成されていることを特徴とする請求項16に記載のガスミスト圧浴システム。
- 前記ガスミスト生成手段が、前記生体圧浴カバーへガスミストを供給するためのガスミスト供給管を有し、
該ガスミスト供給管に、逆止弁を設けることを特徴とする請求項1乃至17の何れか一項に記載のガスミスト圧浴システム。 - 前記第一のカバーが、ガスミスト生成手段からガスミストの供給を受けるためのガスミスト供給口を有し、
該ガスミスト供給口に、逆止弁を設けることを特徴とする請求項1乃至18の何れか一項に記載のガスミスト圧浴システム。 - 前記第二のカバーが、ガスミスト生成手段からガスミストの供給を受けるためのガスミスト供給口を有し、
該ガスミスト供給口に、逆止弁を設けることを特徴とする請求項1乃至19の何れか一項に記載のガスミスト圧浴システム。
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