JP6950884B2 - 水素ガスシャワー水システム - Google Patents
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- Y02P90/45—Hydrogen technologies in production processes
Description
(1)本発明は、シャワー板に備わるシャワー用孔を通して、シャワー水とともに水素ガスを噴出させた水素ガスシャワー水システムであり、複数のシャワー用孔を備えた前記シャワー板、水および水素ガスを混合する水・水素ガス混合空間、水を導入する水導入空間、および先端が水素ガスを排出する水素ガス排出孔である水素ガスノズルを有するシャワーヘッド、前記シャワーヘッドの水導入空間へ水を供給する水供給部、並びに前記シャワーヘッドの水素ガスノズルへ水素ガスを供給する水素ガス供給部を有する水素ガスシャワー水システムであって、前記水・水素ガス混合空間は前記シャワー板と仕切板の間に配置され、前記水導入空間は前記仕切板を挟んで前記水・水素ガス混合空間と反対側に配置され、前記仕切板には前記水導入空間から前記水・水素ガス混合空間へ水を通す穴(水導通穴)が配置され、前記水導通穴に近接して前記水素ガスノズルの水素ガス排出孔が配置されて、前記水素ガスノズルの水素ガス排出孔から前記水導通穴を通して水素ガスが前記水・水素ガス混合空間へ排出される水素ガスシャワー水システムである。
(4)本発明は、シャワー板に備わるシャワー用孔を通して、シャワー水とともに水素ガスを噴出させた水素ガスシャワー水システムであり、前記シャワー水用の水供給部に水素ガス供給部へつながる水素ガス接続ラインが接続し、水素ガスがシャワーへ供給され、前記水素ガス供給ラインが水供給部と接続する部分は円錐形状であり、前記円錐形状の水素ガス接続ライン接続部分の頂点部に水素ガス排出孔が備わり、前記水素ガス排出孔から前記水供給部へ水素が供給されることを特徴とする、水素ガスシャワー水システムである。
11・・・シャワーヘッド、12・・・シャワー穴、13・・・水素ガス発生容器、
14・・・水、15・・・水素ガス発生剤ホルダー、16・・・水素ガス気泡、
17・・・空間、18・・・水素ガス出口管、19・・・水素ガス出口管、
20・・・水素ガス導入管、21・・・ホース、22・・・水素ガスシャワー水、
23・・・蓋(キャップ)、
30・・・シャワーヘッド30、31・・・シャワーヘッド本体、32・・・仕切板、
33・・・気液混合室、34・・・水導入室、35・・・気液仕切板、
36・・・水素ガス導入室、37・・・水導通(噴出)孔(穴)、
38・・・水素ガス導入接続管、39・・・水素ガス導入接続部、
40・・・水導入接続管、41・・・水素ガス導入管、42・・・水素ガス導入接続管、
43・・・水素ガス噴出口、44・・・水素ガス、45・・・水素ガスの流れ、
46・・・水の流れ、47・・・シャワー穴、48・・・水の流れ、
49・・・水素ガスの流れ、50・・・シャワー板、51・・・水素ガス51、
52・・・水、
58・・・水排出室、59・・・第2シャワー板、60・・・シャワーヘッド、
61・・・水素ガス導入室、62・・・水素ガス導入室外側ケース、
63・・・第2シャワー穴、64・・・水素ガス導入接続管、
65・・・水素ガス導入接続部、
Claims (13)
- シャワー板に備わるシャワー用孔を通して、シャワー水とともに水素ガスを噴出させた水素ガスシャワー水システムであり、
複数のシャワー用孔を備えた前記シャワー板、水および水素ガスを混合する水・水素ガス混合空間、水を導入する水導入空間、および先端が水素ガスを排出する水素ガス排出孔である水素ガスノズルを有するシャワーヘッド、前記シャワーヘッドの水導入空間へ水を供給する水供給部、並びに前記シャワーヘッドの水素ガスノズルへ水素ガスを供給する水素ガス供給部を有する水素ガスシャワー水システムであって、
前記水・水素ガス混合空間は前記シャワー板と仕切板の間に配置され、
前記水導入空間は前記仕切板を挟んで前記水・水素ガス混合空間と反対側に配置され、
前記仕切板には前記水導入空間から前記水・水素ガス混合空間へ水を通す穴(水導通穴)が配置され、
前記水導通穴に近接して前記水素ガスノズルの水素ガス排出孔が配置されて、前記水素ガスノズルの水素ガス排出孔から前記水導通穴を通して水素ガスが前記水・水素ガス混合空間へ排出されることを特徴とする水素ガスシャワー水システム。
- 前記水素ガスノズルは円錐形状であり、前記円錐形状の水素ガスノズルの頂点部に前記水素ガス排出孔が備わり、前記水素ガス排出孔が前記仕切り板に設けた前記水導通穴に近接していることを特徴とする、請求項1に記載の水素ガスシャワー水システム。
- 前記水導入空間へ導入された水が前記水導通穴を通って前記水・水素ガス混合空間へ流れ込むときに生じる負圧により、前記水素ガスノズルの水素ガスが前記水・水素ガス混合空間へ吸引されることを特徴とする、請求項1または2に記載の水素ガスシャワー水システム。
- 前記シャワーヘッドの水導入空間へ水を供給するシャワー水用の水供給部に水素ガス供給部へつながる水素ガス接続ラインが接続し、水素ガスがシャワーへ供給されることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかの項に記載の水素ガスシャワー水システム。
- 前記水素ガス接続ラインが水供給部と接続する部分は円錐形状であり、前記円錐形状の水素ガス接続ライン接続部分の頂点部に水素ガス排出孔が備わり、前記水素ガス排出孔から前記水供給部へ水素が供給されることを特徴とする、請求項4に記載の水素ガスシャワー水システム。
- 前記水素ガス供給部は、水素ガス発生装置、水素ガスボンベ、または液体水素であることを特徴とする、請求項1〜5のいずれかの項に記載の水素ガスシャワー水システム。
- 前記水素ガスノズルと前記水素ガス供給部を接続する接続ラインまたは前記水素ガス接続ラインには、圧力調整器が備わり、水素ガスの圧力を調整可能であることを特徴とする、請求項4〜6のいずれかの項に記載の水素ガスシャワー水システム。
- シャワー板に備わるシャワー用孔を通して、シャワー水とともに水素ガスを噴出させた水素ガスシャワー水システムであり、
水素ガス導入空間を挟んだ2つのシャワー板(第1シャワー板および第2シャワー板)を有するシャワー板、前記第1シャワー板と前記第2シャワー板に挟まれた水素ガス導入空間、および水を導入する水導入空間を有するシャワーヘッド、
前記シャワーヘッドの水導入空間へ水を供給する水供給部、並びに
前記シャワーヘッドの前記水素ガス導入空間へ水素ガスを供給する水素ガス供給部を有する水素ガスシャワー水システムであって、
前記第1シャワー板は複数のシャワー用孔を備え、前記水導入空間から前記第1シャワー板のシャワー用孔を通して前記水素ガス導入空間へ水が排出され、
前記第2シャワー板は複数のシャワー用孔を備え、前記水素ガス導入空間から前記第2シャワー板のシャワー用孔を通して水および水素ガスが前記シャワーヘッドの外側へ噴出されることを特徴とする水素ガスシャワー水システム。
- 前記水素ガス供給部は、水素ガス発生装置、水素ガスボンベ、または液体水素であることを特徴とする、請求項8に記載の水素ガスシャワー水システム。
- 前記水素ガス導入空間と前記水素ガス供給部を接続する接続ライン(水素ガス接続ライン)には、圧力調整器が備わり、水素ガスの圧力を調整可能であることを特徴とする、請求項9に記載の水素ガスシャワー水システム。
- 前記第2シャワー板は取り外し可能であることを特徴とする、請求項8〜10のいずれかの項に記載の水素ガスシャワー水システム。
- 前記水素ガス発生装置は、水および水素ガス発生用剤を入れた容器に水素ガス出口を取り付けたものであり、前記水素ガス出口を前記水素ガス接続ラインに接続したものであることを特徴とする、請求項6、7、9〜11のいずれかの項に記載の水素ガスシャワー水システム。
- 前記水素ガス発生装置には、複数の水素ガス出口を備え、その少なくとも1つの水素ガス出口を前記水素ガス接続ラインに接続し、その少なくとも1つの水素ガス出口は大気開放としたことを特徴とする、請求6、7、9〜12のいずれかの項に記載の水素ガスシャワー水システム。
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