JP5404267B2 - 位置測定装置 - Google Patents
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Description
2 コリメータ機器
3 目盛支持体
4 偏向部品
5 受信器
22 絞り
24 コリメータレンズ
26 絞り
30 構造化された領域
30a,30b 目盛構造
31 第一の表面
32 第二の表面
40 目盛支持体3の方を向いた表面
42 第一の偏向・拡大領域
42’ 反射性の偏向領域
42a,42b,42c,42d 反射性の平面素子
43 第一の偏向・拡大領域
44 目盛支持体3の方を向いた表面40の裏側
45 第二の偏向・拡大領域
46 第二の偏向・拡大領域
46’ 反射性の偏向領域
46a,46b,46c,46d 反射性の平面素子
142 入射領域
144a,144b 反射面
146 出射領域
E 平面
L 電磁波
L1 電磁波ビーム
L2 電磁波ビーム
R1 空間領域
R2 空間領域
U 電磁波が存在しないホール
Claims (19)
- ・第一の空間領域(R1)の方を向いた第一の表面(31)とその表面と逆側の第二の空間領域(R2)の方を向いた第二の表面(32)とを有する目盛支持体(3)と、
・目盛支持体(3)に設けられた、位置測定のために電磁波(L)を用いて透過方式で走査することが可能な少なくとも一つの目盛構造(30a,30b)と、
・第一の空間領域(R1)内に配置された、位置測定のために目盛構造(30a,30b)と相互作用する電磁波(L)を送出する送信器(1)と、
・同じく第一の空間領域(R1)内に配置された、送信器(1)から送出された電磁波(L)を目盛構造(30a,30b)との相互作用後に受信する受信器(5)と、
・第二の空間領域(R2)内に配置された、送信器(1)及び受信器(5)の逆側の目盛支持体(3)の第二の表面(32)の前に有る、方向転換された電磁波(L2)が受信器(5)に当たるように、位置測定の際に送信器(1)から送出された電磁波(L)を方向転換する偏向部品(4)と、
を備えた位置測定装置において、
送信器(1)には、送信器(1)から送出された電磁波を平行な電磁波ビーム(L1)とするために、送信器(1)から送出された電磁波(L)をコリメートする機器(2)が対置されていることと、
偏向部品(4)には、方向転換された電磁波ビーム(L1)を拡大する機器(42,46;43,45;142,146)が設けられており、そのため、偏向部品(4)によって目盛構造(30a,30b)の方に方向転換された電磁波ビーム(L2)が、送信器(1)から偏向部品(4)の方向に送出された電磁波ビーム(L1)よりも大きな横断面を有することと、
を特徴とする位置測定装置。 - 目盛構造(30a,30b)が、第一と第二の空間領域(R1,R2)の間に有る平面(E)内を延びていることと、
送信器(1)と受信器(5)が、平面(E)に対して同じ側の第一の空間領域内に配置されるとともに、偏向部品(4)が、平面(E)に対して送信器(1)及び受信器(5)の逆側の第二の空間領域(R2)内に配置されていることと、
を特徴とする請求項1に記載の位置測定装置。 - 目盛支持体(3)は、送信器(1)から送出された電磁波ビーム(L1)が目盛支持体(3)を通り抜けてから、偏向部品(4)に当たるように、送信器(1)と偏向部品(4)の間に置かれていることを特徴とする請求項1又は2に記載の位置測定装置。
- 送信器(1)から送出された電磁波ビーム(L1)が、少なくとも一つの目盛構造(30a,30b)の近傍に有る目盛支持体(3)の領域を通り抜けて行くことを特徴とする請求項3に記載の位置測定装置。
- 偏向部品(4)は、方向転換後の電磁波(L)が目盛支持体(3)を通過する際に目盛構造(30a,30b)と相互作用してから受信器(5)に当たるように、位置測定の際に、送信器(1)から送出された電磁波(L)を目盛構造(30a,30b)と相互作用する前に方向転換させることを特徴とする請求項1から4までのいずれか一つに記載の位置測定装置。
- 電磁波ビーム(L1)を拡大する機器(42,46;43,45;142,146)が、電磁波ビーム(L1)と相互作用して電磁波ビーム(L1)を拡大させる少なくとも一つの拡大領域(42,43,45,46)を有することを特徴とする請求項1から5までのいずれか一つに記載の位置測定装置。
- 少なくとも二つの拡大領域(42,46;43,45;142,146)が配備されていることを特徴とする請求項6に記載の位置測定装置。
- 各拡大領域(42,43,45,46)が、反射する形態で構成されていることを特徴とする請求項6又は7に記載の位置測定装置。
- 各拡大領域(142,146)が、使用する電磁波を透過する形態で構成されていることを特徴とする請求項6又は7に記載の位置測定装置。
- 当該の少なくとも一つの拡大領域(42,46;142,146)が、湾曲した面によって構成されていることを特徴とする請求項6から9までのいずれか一つに記載の位置測定装置。
- 当該の少なくとも一つの拡大領域(42,46)が、放物線状に湾曲した面によって構成されていることを特徴とする請求項10に記載の位置測定装置。
- 当該の少なくとも一つの拡大領域(142,146)が、レンズを形成する面によって構成されていることを特徴とする請求項10に記載の位置測定装置。
- 当該の少なくとも一つの拡大領域(43,45)が、回折光学素子によって構成されていることを特徴とする請求項6から8までのいずれか一つに記載の位置測定装置。
- 当該の回折光学素子が、位置に依存した局所的な格子定数を有し、そのため、回折光学素子の局所的な回折構造の大きさが、位置に依存することを特徴とする請求項13に記載の位置測定装置。
- 偏向部品(4)において、少なくとも一つの反射面(44;144a,144b)は、方向転換すべき電磁波ビーム(L1)が第一の拡大領域(42,43,142)との相互作用後に、その反射面(44;144a,144b)で反射されて、第二の拡大領域(45,46,146)に当たるように、二つの拡大領域(42,46;43,45;142,146)の間に設けられていることを特徴とする請求項7に記載の位置測定装置。
- 偏向部品(4)は、送信器(1)から入射して来た電磁波ビーム(L1)を方向転換して、方向転換後の電磁波を更に平行な電磁波ビーム(L2)に構成することを特徴とする請求項1から15までのいずれか一つに記載の位置測定装置。
- 第一の拡大領域(42,43,142)が、送信器(1)から入射して来た電磁波ビーム(L1)から発散した電磁波ビームを生成し、第二の拡大領域(45,46,146)が、その発散した電磁波ビームを再び平行にすることを特徴とする請求項7から16までのいずれか一つに記載の位置測定装置。
- 当該の少なくとも一つの拡大領域(42,43;45,46)が、送信器(1)から入射して来た電磁波ビーム(L1)を少なくとも一つの目盛構造(30a,30b)の方向に方向転換するためにも配備されていることを特徴とする請求項6に記載の位置測定装置。
- 方向転換すべき電磁波と相互作用する、偏向部品(4)の少なくとも一つの平面(42’,46’)は、偏向部品(4)によって目盛構造(30a,30b)の方向に方向転換された電磁波ビーム(L2)が、その内部に少なくとも一つの電磁波の無い部分領域(U)を有するように構造化されていることを特徴とする請求項1から18までのいずれか一つに記載の位置測定装置。
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