JP5396156B2 - Aluminum alloy foil for electrolytic capacitor cathode and method for producing the same - Google Patents

Aluminum alloy foil for electrolytic capacitor cathode and method for producing the same Download PDF

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Description

本発明は、電解コンデンサの電極に用いられるアルミニウム合金箔に関し、特に電解コンデンサの陰極に好適なアルミニウム合金箔に関する。   The present invention relates to an aluminum alloy foil used for an electrode of an electrolytic capacitor, and more particularly to an aluminum alloy foil suitable for a cathode of an electrolytic capacitor.

アルミニウム合金箔を電極として用いる電解コンデンサ(アルミニウム電解コンデンサ)は、アルミニウム合金箔からなる陽極及び陰極、電解液、コンデンサ紙(電解紙)を基本的な構成要素として備えている。陽極を構成するアルミニウム合金箔の表面に形成された酸化皮膜(以下、化成皮膜)が誘電体として機能する。
アルミニウム電解コンデンサの静電容量(C)は、平行板コンデンサと同様に次式(1)で求められる。なお、式(1)において、εは誘電体の比誘電率、Sは誘電体の表面積(cm)、dは誘電体の厚さ(cm)である。式(1)より、誘電体の表面積を大きくすることにより、静電容量を大きくできる。
C=8.855×10−8×ε・S/d(μF)…(1)
An electrolytic capacitor using aluminum alloy foil as an electrode (aluminum electrolytic capacitor) includes an anode and a cathode made of aluminum alloy foil, an electrolytic solution, and capacitor paper (electrolytic paper) as basic components. An oxide film (hereinafter referred to as chemical conversion film) formed on the surface of the aluminum alloy foil constituting the anode functions as a dielectric.
The capacitance (C) of the aluminum electrolytic capacitor can be obtained by the following equation (1) as with the parallel plate capacitor. In Equation (1), ε is the dielectric constant of the dielectric, S is the surface area (cm 2 ) of the dielectric, and d is the thickness (cm) of the dielectric. From the equation (1), the capacitance can be increased by increasing the surface area of the dielectric.
C = 8.855 × 10 −8 × ε · S / d (μF) (1)

昨今の急速且つ広範囲にわたるデジタル化に伴い、アルミニウム電解コンデンサの小型化、高信頼性化及び高性能化の要求が強く、更なる高静電容量化が求められている。
通常、アルミニウム合金箔の比表面積を拡大するため、強酸溶液中で電気化学的に粗面化(エッチング)が施され、高容量化を図っている。一般に、高圧用陽極箔には直流電解エッチングが、また低圧用陽極箔及び陰極箔には交流電解エッチングが行なわれている。特に、後者は1μm以下の方位状ピットがぶどうの房状に連なったエッチング形態となっており、高容量化のためには、より微細なピット径とする必要がある。
With recent rapid and widespread digitization, there is a strong demand for miniaturization, high reliability, and high performance of aluminum electrolytic capacitors, and further higher capacitance is required.
Usually, in order to increase the specific surface area of the aluminum alloy foil, the surface is electrochemically roughened (etched) in a strong acid solution to increase the capacity. In general, DC electrolytic etching is performed on the high-pressure anode foil, and AC electrolytic etching is performed on the low-pressure anode foil and the cathode foil. In particular, the latter is an etching form in which azimuth-like pits of 1 μm or less are connected in a bunch of grapes, and it is necessary to make the pit diameter finer in order to increase the capacity.

これまで、例えば、特許文献1には、Fe;0.02〜0.15質量%、Mg;0.003〜0.02質量%、B;0.001〜0.015質量%を含み、残部がAlおよび不純物からなる電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔が開示されている。この電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔は、溶解性の改善にはアルミニウム合金中に電位差の異なる物質を均一に分散させることが有効であり、その物質としてAl−Fe系金属間化合物を利用することが最も良い方法であることを知見したことに基づいている。そのために、特許文献1は、Feの含有量を0.02〜0.15質量%と規定している。
また、特許文献2には、Si:0.02〜0.08質量%、Fe:0.02〜0.08質量%、Ti:0.5〜5質量ppm、V:0.5〜5質量ppm、B:25〜100質量ppm、Cu:0.003質量%以下、その他不可避不純物からなる電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔が開示されている。この電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔は、アルミニウム合金箔中のSiやFeの含有量を調整すると共に、更にBの含有量を増加させることによって、高静電容量で且つ耐折強度に優れた陰極箔が得られるとの知見に基づいている。耐折強度は、コンデンサ加工時にアルミニウム合金箔に切断等のトラブルが生ずるのを回避するために必要である。
So far, for example, Patent Document 1 includes Fe; 0.02 to 0.15 mass%, Mg; 0.003 to 0.02 mass%, B; 0.001 to 0.015 mass%, and the balance Discloses an aluminum alloy foil for an electrolytic capacitor cathode comprising Al and impurities. In order to improve the solubility of this aluminum alloy foil for an electrolytic capacitor cathode, it is effective to uniformly disperse substances having different potential differences in the aluminum alloy, and it is possible to use an Al-Fe intermetallic compound as the substance. It is based on finding out that it is the best method. Therefore, Patent Document 1 defines the Fe content as 0.02 to 0.15 mass%.
Moreover, in patent document 2, Si: 0.02-0.08 mass%, Fe: 0.02-0.08 mass%, Ti: 0.5-5 mass ppm, V: 0.5-5 mass An aluminum alloy foil for an electrolytic capacitor cathode made of ppm, B: 25 to 100 mass ppm, Cu: 0.003 mass% or less, and other inevitable impurities is disclosed. This aluminum alloy foil for electrolytic capacitor cathode is a cathode having high electrostatic capacity and excellent bending strength by adjusting the content of Si and Fe in the aluminum alloy foil and further increasing the content of B. This is based on the knowledge that a foil can be obtained. The bending strength is necessary to avoid troubles such as cutting in the aluminum alloy foil during capacitor processing.

特開平8−255733号公報JP-A-8-255733 特開2001−335868号公報JP 2001-335868 A

特許文献1、特許文献2の提案により、静電容量を向上できるが、近時の要求を十分に満足できるものではなかった。
本発明は、さらに高い静電容量が得られ、かつ耐折強度に優れる電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔を提供することを目的とする。
Although the electrostatic capacity can be improved by the proposals of Patent Document 1 and Patent Document 2, the recent requirements have not been sufficiently satisfied.
An object of the present invention is to provide an aluminum alloy foil for an electrolytic capacitor cathode that has a higher capacitance and is excellent in bending strength.

交流電解エッチングは、アノードサイクルでのアルミニウムの溶解、つまりピット形成とカソードサイクルでの皮膜形成とのバランスが重要である。本発明は、TiとBの存在比を特定し、Ga、さらにはNa、In、Zn、Ni及びMgのように比較的低温でアルミニウム合金箔の表面に濃化して溶解を助ける元素を添加することにより、均一なエッチングを可能とし、高い静電容量及び耐折強度の優れた電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔を得ようというものである。
すなわち本発明の電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔は、質量%で、
Si:0.01〜0.15%、
Fe:0.01〜0.15%、
Cu:0.005%以下、
Ti:0.001%以下、
B:0.0005〜0.0050%、
Ti/B≦0.5、
Ga:0.004〜0.05%、
Na、In、Zn、Ni及びMgの1種又は2種以上:合計で0.006〜0.1%、
残部がAl及び不可避的不純物からなることを特徴とする。
In AC electrolytic etching, it is important to dissolve aluminum in the anode cycle, that is, balance between pit formation and film formation in the cathode cycle. The present invention specifies the abundance ratio of Ti and B, and adds elements that assist the dissolution by concentrating on the surface of the aluminum alloy foil at a relatively low temperature, such as Ga, and Na, In, Zn, Ni and Mg. Thus, it is intended to obtain an aluminum alloy foil for an electrolytic capacitor cathode that enables uniform etching and has high electrostatic capacity and excellent bending strength.
That is, the aluminum alloy foil for the electrolytic capacitor cathode of the present invention is in mass%,
Si: 0.01 to 0.15%,
Fe: 0.01 to 0.15%,
Cu: 0.005% or less,
Ti: 0.001% or less,
B: 0.0005 to 0.0050%,
Ti / B ≦ 0.5,
Ga: 0.004 to 0.05%,
One or more of Na, In, Zn, Ni and Mg: 0.006 to 0.1% in total,
The balance is made of Al and inevitable impurities.

以上の本発明による電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔は、上記組成を有するアルミニウム合金鋳塊を530〜630℃で2〜24時間保持する均質化処理を行ない、その後、熱間圧延、冷間圧延を行ない、所定厚さの箔を得ることにより製造することができる。   The aluminum alloy foil for an electrolytic capacitor cathode according to the present invention as described above is subjected to a homogenization treatment in which an aluminum alloy ingot having the above composition is held at 530 to 630 ° C. for 2 to 24 hours, and then subjected to hot rolling and cold rolling. Can be manufactured by obtaining a foil having a predetermined thickness.

本発明による電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔は、従来にない高い静電容量が得られる。   The aluminum alloy foil for an electrolytic capacitor cathode according to the present invention can provide a high capacitance that has not been achieved conventionally.

以下、本発明を詳しく説明する。
始めに、本発明による電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔(以下、単にアルミニウム合金箔という)の組成限定理由を説明する。なお、以下の説明中の%は、特に断らない限り質量%を意味する。
<Si:0.01〜0.15%>
Siは、Al−Fe−Si化合物として、またSi単体としてエッチングの起点となる晶・析出物を形成させるとともに、アルミニウム合金箔に耐折強度を付与することのできる元素である。
Siが0.01%未満では、Siの絶対的な含有量が少ないために、エッチングの起点となる晶・析出物の形成が不足するとともに、耐折強度向上の効果を享受できない。また、溶解原料に含まれるSiを0.01%未満に低減する処理のためにアルミニウム合金箔のコストアップを招く。
Siが0.15%を超えると、晶・析出物の量が多くなりすぎて交流電解エッチングの際に過溶解が生じてエッチング形態が不均一になり、静電容量が低下するとともに、耐折強度も低下する。
以上の理由により、本発明におけるSiの含有量は、0.01〜0.15%とする。好ましいSiの含有量は0.01〜0.10%、より好ましいSiの含有量は0.01〜0.05%である。
The present invention will be described in detail below.
First, the reasons for limiting the composition of the aluminum alloy foil for an electrolytic capacitor cathode according to the present invention (hereinafter simply referred to as an aluminum alloy foil) will be described. In the following description, “%” means “% by mass” unless otherwise specified.
<Si: 0.01 to 0.15%>
Si is an element capable of forming a crystal / precipitate as a starting point of etching as an Al—Fe—Si compound or as a simple substance of Si and imparting bending strength to the aluminum alloy foil.
If Si is less than 0.01%, the absolute content of Si is small, so that formation of crystals / precipitates as the starting point of etching is insufficient, and the effect of improving bending strength cannot be enjoyed. Moreover, the process of reducing Si contained in a melt | dissolution raw material to less than 0.01% invites the cost increase of aluminum alloy foil.
If Si exceeds 0.15%, the amount of crystals / precipitates increases so much that over-dissolution occurs during AC electrolytic etching, resulting in a non-uniform etching pattern, a decrease in capacitance, and resistance to folding. The strength also decreases.
For these reasons, the Si content in the present invention is set to 0.01 to 0.15%. A preferable Si content is 0.01 to 0.10%, and a more preferable Si content is 0.01 to 0.05%.

<Fe:0.01〜0.15%>
Feも、Siと同様に、Al−Fe金属間化合物、Al−Fe−Si金属間化合物としてエッチングの起点となる晶・析出物を形成させるとともに、アルミニウム合金箔に耐折強度を付与することのできる元素である。
Feが0.01%未満では、Feの絶対的な含有量が少ないために、エッチングの起点となる晶・析出物の形成が不足するとともに、耐折強度向上の効果を享受できない。また、溶解原料に含まれるFeを0.01%未満に低減する処理のためにアルミニウム合金箔のコストアップを招く。
Feが0.15%を超えると、析出物の量が多くなりすぎて交流電解エッチングの際に過溶解が生じてエッチング形態が不均一になり、静電容量が低下する。
以上の理由により、本発明におけるFeの含有量は、0.01〜0.15%とする。好ましいFeの含有量は0.01〜0.10%、より好ましいFeの含有量は0.01〜0.08%である。
<Fe: 0.01 to 0.15%>
Fe also forms crystals / precipitates as the starting point of etching as Al-Fe intermetallic compounds and Al-Fe-Si intermetallic compounds, as well as Si, and also provides folding strength to the aluminum alloy foil. It can be an element.
When Fe is less than 0.01%, since the absolute content of Fe is small, formation of crystals / precipitates as starting points of etching is insufficient, and the effect of improving bending strength cannot be enjoyed. Moreover, the process of reducing Fe contained in a melt | dissolution raw material to less than 0.01% invites the cost increase of aluminum alloy foil.
When Fe exceeds 0.15%, the amount of precipitates increases so much that over-dissolution occurs during AC electrolytic etching, resulting in non-uniform etching, and the capacitance decreases.
For these reasons, the Fe content in the present invention is set to 0.01 to 0.15%. A preferable Fe content is 0.01 to 0.10%, and a more preferable Fe content is 0.01 to 0.08%.

<Cu:0.005%以下>
Cuは、アルミニウム合金箔を製品として電解コンデンサに組み込んだ後に充放電が繰り返されると、電解液中に溶出し陽極と陰極との間を短絡させるおそれがあるため、極力低減させる必要がある。そのために、本発明のアルミニウム合金箔におけるCuの含有量は0.005%以下に規制する。好ましいCu含有量は0.003%以下、より好ましいCuの含有量は0.0015%以下である
<Cu: 0.005% or less>
Cu is required to be reduced as much as possible because it may elute into the electrolyte and short-circuit between the anode and the cathode when charging and discharging are repeated after the aluminum alloy foil is incorporated into the electrolytic capacitor as a product. Therefore, the Cu content in the aluminum alloy foil of the present invention is restricted to 0.005% or less. A preferable Cu content is 0.003% or less, and a more preferable Cu content is 0.0015% or less.

<Ti:0.001%以下>
Tiは、交流電解エッチング時に、深さ方向へのピットの成長を不均一にし、耐折強度低下を引起すので、0.001%以下に規制する必要がある。好ましいTiの含有量は0.0008%以下、より好ましいTiの含有量は0.0005%以下である。
<Ti: 0.001% or less>
Ti makes non-uniform pit growth in the depth direction during AC electrolytic etching and causes a decrease in bending strength, so it must be regulated to 0.001% or less. A preferable Ti content is 0.0008% or less, and a more preferable Ti content is 0.0005% or less.

<B:0.0005〜0.0050%>
Bは、アルミニウム合金のマトリックスのエッチング性を高める作用を有している。
Bが0.0005%未満ではこの作用が十分に発揮されない。
一方、Bが0.0050%を超えて多く含まれると、上記作用が顕著になり、深さ方向へのピットの成長が阻害される。
以上の理由により、本発明におけるBの含有量は、0.0005〜0.0050%とする。好ましいBの含有量は0.0005〜0.0030%、より好ましいBの含有量は0.0010〜0.0030%である。
<B: 0.0005 to 0.0050%>
B has an action of enhancing the etching property of the matrix of the aluminum alloy.
If B is less than 0.0005%, this effect is not sufficiently exhibited.
On the other hand, when B is contained in a large amount exceeding 0.0050%, the above action becomes remarkable, and the growth of pits in the depth direction is inhibited.
For the above reasons, the B content in the present invention is set to 0.0005 to 0.0050%. A preferable B content is 0.0005 to 0.0030%, and a more preferable B content is 0.0010 to 0.0030%.

<Ti/B:0.5以下>
上述したように、Bはエッチング性を高める元素であるが、Tiが過剰に存在すると、TiBを形成し、Bが消費されてしまう。そこで、Bによるエッチング性向上の効果を得るために、Ti(質量%)/B(質量%)を0.5以下に規制する。Ti(質量%)/B(質量%)の好ましい範囲は、0.3以下、より好ましい範囲は0.15以下である。
<Ti / B: 0.5 or less>
As described above, B is an element that improves the etching property. However, if Ti is excessively present, TiB 2 is formed and B is consumed. Therefore, in order to obtain the effect of improving the etching property by B, Ti (mass%) / B (mass%) is regulated to 0.5 or less. A preferred range of Ti (mass%) / B (mass%) is 0.3 or less, and a more preferred range is 0.15 or less.

<Ga:0.004〜0.05%>
Gaは、熱処理により表面へ濃化し、表面の溶解性を均一にする作用を有している。Gaが0.004%未満ではこの作用が十分に発揮されない。一方、Gaが0.05%を超えて多く含まれると、上記作用が顕著になり、エッチング箔の表層が欠落し、静電容量の低下を引き起こす。以上の理由により、本発明におけるGaの含有量は0.004〜0.05%とし、好ましくは0.004〜0.03%、より好ましくは0.004〜0.01%である。
<Ga: 0.004 to 0.05%>
Ga has the effect of concentrating on the surface by heat treatment to make the solubility of the surface uniform. If Ga is less than 0.004%, this effect is not sufficiently exhibited. On the other hand, when Ga is contained in a large amount exceeding 0.05%, the above action becomes remarkable, the surface layer of the etching foil is lost, and the capacitance is reduced. For these reasons, the Ga content in the present invention is 0.004 to 0.05%, preferably 0.004 to 0.03%, and more preferably 0.004 to 0.01%.

<Na、In、Zn、Ni及びMgの1種又は2種以上:合計で0.006〜0.1%>
Na、In、Zn、Ni及びMgは、熱処理により表面へ濃化し、表面の溶解性を均一に向上させる作用を有している。
Na、In、Zn、Ni及びMgの1種又は2種以上の合計が0.006%未満では、上記作用が十分に得られないために、交流電解エッチングにより微細なピットを得ることができない。
Na、In、Zn、Ni及びMgの1種又は2種以上の合計が0.1%を超えると、表面の溶解性が高くなりすぎ、表面溶解が過多となり、微細なピットを形成することができなくなる。
以上の理由により、本発明におけるNa、In、Zn、Ni及びMgの1種又は2種以上の合計の含有量は、0.006〜0.1%とする。好ましいこれら元素の合計の含有量は0.007〜0.08%、より好ましいこれら元素の合計の含有量は0.008〜0.03%である。
<One or more of Na, In, Zn, Ni and Mg: 0.006 to 0.1% in total>
Na, In, Zn, Ni, and Mg have the effect of concentrating on the surface by heat treatment and improving the surface solubility uniformly.
If the total of one or more of Na, In, Zn, Ni, and Mg is less than 0.006%, the above-described effect cannot be obtained sufficiently, and fine pits cannot be obtained by AC electrolytic etching.
If the total of one or more of Na, In, Zn, Ni, and Mg exceeds 0.1%, surface solubility becomes too high, surface dissolution becomes excessive, and fine pits may be formed. become unable.
For the above reasons, the total content of one or more of Na, In, Zn, Ni and Mg in the present invention is set to 0.006 to 0.1%. The total content of these elements is preferably 0.007 to 0.08%, and the more preferable total content of these elements is 0.008 to 0.03%.

<製造方法>
本発明のアルミニウム合金箔は、上述した化学組成に調製されたアルミニウム鋳塊(スラブ)を作製し、このスラブに均質化処理を施し、その後、熱間圧延、冷間圧延を順次行なうことにより得ることができる。以下、本発明のアルミニウム合金箔に好適な製造方法について説明する。
スラブは、半連続鋳造法等の常法により得ることができる。半連続鋳造法により得られるスラブは通常300〜700mm程度の厚さを有している。
このスラブに均質化処理を施す。均質化処理により、ピット形成の基点となるAl−Fe金属間化合物、Al−Fe−Si金属間化合物を均一に分散させる。
均質化処理の保持温度が530℃未満では、上記金属間化合物の分布が不均一で、交流電解エッチング時に局部溶解を起こす。また、均質化処理の保持温度が630℃を超えると、スラブが溶融する危険性があるのに加え、生産コストが高くなる。したがって、均質化処理の保持温度は530〜630℃とする。好ましい均質化処理の保持温度は、560〜600℃である。
均質化処理の保持時間が2時間未満では、その作用が十分発揮されない。また、均質化処理の保持時間が24時間を超えても、消費エネルギに見合うだけの均質化の効果を得ることができない。したがって、均質化処理の保持時間は、2〜24時間とすることが好ましい。より好ましい均質化処理の保持時間は、2〜10時間である。
均質化処理は、公知の加熱炉を用いて行うことができ、加熱方法、加熱手段が特に限定されるものではない。
<Manufacturing method>
The aluminum alloy foil of the present invention is obtained by producing an aluminum ingot (slab) prepared to have the above-described chemical composition, subjecting the slab to homogenization, and then sequentially performing hot rolling and cold rolling. be able to. Hereinafter, the manufacturing method suitable for the aluminum alloy foil of the present invention will be described.
The slab can be obtained by a conventional method such as a semi-continuous casting method. The slab obtained by the semi-continuous casting method usually has a thickness of about 300 to 700 mm.
The slab is homogenized. By the homogenization treatment, the Al—Fe intermetallic compound and the Al—Fe—Si intermetallic compound which are the base points of pit formation are uniformly dispersed.
When the holding temperature of the homogenization treatment is less than 530 ° C., the distribution of the intermetallic compound is not uniform, and local dissolution occurs during AC electrolytic etching. Moreover, when the holding | maintenance temperature of a homogenization process exceeds 630 degreeC, in addition to the danger that a slab will fuse | melt, production cost will become high. Therefore, the holding temperature of the homogenization treatment is set to 530 to 630 ° C. A preferable holding temperature of the homogenization treatment is 560 to 600 ° C.
If the holding time of the homogenization treatment is less than 2 hours, the effect is not sufficiently exhibited. Further, even if the holding time of the homogenization process exceeds 24 hours, it is not possible to obtain a homogenization effect that is commensurate with the energy consumption. Therefore, the holding time for the homogenization treatment is preferably 2 to 24 hours. A more preferable homogenization holding time is 2 to 10 hours.
The homogenization treatment can be performed using a known heating furnace, and the heating method and heating means are not particularly limited.

均質化処理が施されたスラブは、次に、熱間圧延される。上記均質化処理により当該温度に保持されたスラブを、そのまま熱間圧延に供することができる。この熱間圧延により、スラブは、2〜10mm程度の厚さとされる。熱間圧延における他の条件は本発明として特に限定をされるものではなく、常法に従えばよい。   Next, the slab subjected to the homogenization treatment is hot-rolled. The slab maintained at the temperature by the homogenization treatment can be directly subjected to hot rolling. By this hot rolling, the slab has a thickness of about 2 to 10 mm. Other conditions in the hot rolling are not particularly limited as the present invention, and may be according to ordinary methods.

熱間圧延終了後、冷間圧延が行なわれる。冷間圧延により、アルミニウム合金箔は、最終的に得たい厚さに仕上げられる。なお、冷間圧延の途中で中間焼鈍を行ってもよい。
以上の冷間圧延によって、例えば数十μmから100μm程度のアルミニウム合金箔を得ることができるが、本発明としては最終品としてのアルミニウム合金箔の厚さが特に限定されるものではない。
なお、冷間圧延終了後に熱処理(最終焼鈍)を行うこともできる。
After the hot rolling is completed, cold rolling is performed. By cold rolling, the aluminum alloy foil is finished to the final desired thickness. In addition, you may perform intermediate annealing in the middle of cold rolling.
By the above cold rolling, for example, an aluminum alloy foil of about several tens of μm to 100 μm can be obtained, but the thickness of the aluminum alloy foil as a final product is not particularly limited in the present invention.
In addition, heat processing (final annealing) can also be performed after completion | finish of cold rolling.

上記各工程を経て得られたアルミニウム合金箔には、その後、交流電解エッチング処理が施される。このエッチング処理においては、微細なピットが高密度で均一に形成される。常法により電解コンデンサに電極として組み込むことにより静電容量の高いコンデンサが得られる。   The aluminum alloy foil obtained through the above steps is then subjected to alternating current electrolytic etching. In this etching process, fine pits are uniformly formed with high density. A capacitor having a high capacitance can be obtained by incorporating it as an electrode in an electrolytic capacitor by a conventional method.

3N純度のアルミニウム地金を用い、表1〜表3に示す化学組成になるように調整した後に、半連続鋳造法によって厚さ600mmのスラブを作製した。
このスラブに575℃で4時間保持する均質化処理を施した後、熱間圧延、冷間圧延を常法にしたがって行い、厚さが0.005mmのアルミニウム合金箔を得た。このアルミニウム合金箔を脱脂処理後、アルゴンガス雰囲気中で、330℃で4時間保持する熱処理を行なって供試材を得た。
After adjusting the chemical composition shown in Tables 1 to 3 using 3N purity aluminum ingot, a slab having a thickness of 600 mm was prepared by a semi-continuous casting method.
The slab was subjected to a homogenization treatment for 4 hours at 575 ° C., and then subjected to hot rolling and cold rolling in accordance with a conventional method to obtain an aluminum alloy foil having a thickness of 0.005 mm. The aluminum alloy foil was degreased and then heat treated by holding at 330 ° C. for 4 hours in an argon gas atmosphere to obtain a test material.

<静電容量測定>
得られた供試材に対して、下記の条件で交流電解エッチングを行った。
交流電解エッチング条件
液組成:HCl 80ml/l,AlCl・6HO 60g/l,HNO 7ml/l
電解条件:電流密度 0.1A/cm,周波数 30Hz,電解時間 100s
<Capacitance measurement>
The obtained test material was subjected to AC electrolytic etching under the following conditions.
AC electrolytic etching conditions Liquid composition: HCl 80 ml / l, AlCl 3 · 6H 2 O 60 g / l, HNO 3 7 ml / l
Electrolysis conditions: current density 0.1 A / cm 2 , frequency 30 Hz, electrolysis time 100 s

交流電解エッチングが施された供試材に対して、化成処理を行った後、静電容量を測定した。その結果を表1〜表3に示す。静電容量の測定方法は以下の通りである。なお、表1〜表3には、表1のNo.1について得られた静電容量を100とする指数で表している。
化成処理条件(EIAJ(Electronics Industries Association of Japan)法に準拠)
液溶液:アジピン酸アンモニウム溶液(150g/l,85℃)
印加電圧:3V
容量測定条件(EIAJ法に準拠)
液溶液:アジピン酸アンモニウム溶液(150g/l,30℃)
120Hzの直列等価回路でLCRメータにて測定
After performing the chemical conversion treatment on the test material subjected to AC electrolytic etching, the capacitance was measured. The results are shown in Tables 1 to 3. The method for measuring the capacitance is as follows. In Tables 1 to 3, No. 1 in Table 1 is shown. The electrostatic capacity obtained for 1 is represented by an index of 100.
Chemical conversion treatment conditions (conforming to EIAJ (Electronics Industries Association of Japan) law)
Liquid solution: ammonium adipate solution (150 g / l, 85 ° C.)
Applied voltage: 3V
Capacity measurement conditions (conforms to EIAJ method)
Liquid solution: ammonium adipate solution (150 g / l, 30 ° C.)
Measured with LCR meter with 120Hz series equivalent circuit

また、上記の交流電解エッチングを終えた供試材を、大気中に400℃で5分間加熱処理を行い、JIS P 8115のMIT型自動折り曲げ試験器により、EIAJ法に準拠して、折曲強さ(回/cm)を測定した。その結果を表1〜表3に示す。なお、表1のNo.1について得られた折曲強さを100とする指数で表す。   In addition, the test material that has been subjected to the above-described AC electrolytic etching is heated in the atmosphere at 400 ° C. for 5 minutes, and is subjected to JIS P 8115 MIT type automatic bending tester in accordance with the EIAJ method. The thickness (times / cm) was measured. The results are shown in Tables 1 to 3. In Table 1, No. It is represented by an index with the bending strength obtained for 1 as 100.

Figure 0005396156
Figure 0005396156

Figure 0005396156
Figure 0005396156

Figure 0005396156
Figure 0005396156

Claims (2)

質量%で、
Si:0.01〜0.15%、
Fe:0.01〜0.15%、
Cu:0.005%以下、
Ti:0.001%以下、
B:0.0005〜0.0050%、
Ti/B≦0.5、
Ga:0.004〜0.05%、
Na、In、Zn、Ni及びMgの1種又は2種以上:合計で0.006〜0.1%、
残部がAl及び不可避的不純物からなることを特徴とする電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔。
% By mass
Si: 0.01 to 0.15%,
Fe: 0.01 to 0.15%,
Cu: 0.005% or less,
Ti: 0.001% or less,
B: 0.0005 to 0.0050%,
Ti / B ≦ 0.5,
Ga: 0.004 to 0.05%,
One or more of Na, In, Zn, Ni and Mg: 0.006 to 0.1% in total,
An aluminum alloy foil for an electrolytic capacitor cathode, wherein the balance consists of Al and inevitable impurities.
質量%で、
Si:0.01〜0.15%、
Fe:0.01〜0.15%、
Cu:0.005%以下、
Ti:0.001%以下、
B:0.0005〜0.0050%、
Ti/B≦0.5、
Ga:0.004〜0.05%、
Na、In、Zn、Ni及びMgの1種又は2種以上:合計で0.006〜0.1%、
残部がAl及び不可避的不純物からなるアルミニウム合金鋳塊を530〜630℃で2〜24時間保持する均質化処理を行ない、
その後、熱間圧延、冷間圧延を行ない、所定厚さの箔を得ることを特徴とする電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔の製造方法。
% By mass
Si: 0.01 to 0.15%,
Fe: 0.01 to 0.15%,
Cu: 0.005% or less,
Ti: 0.001% or less,
B: 0.0005 to 0.0050%,
Ti / B ≦ 0.5,
Ga: 0.004 to 0.05%,
One or more of Na, In, Zn, Ni and Mg: 0.006 to 0.1% in total,
A homogenization treatment is performed in which an aluminum alloy ingot consisting of Al and inevitable impurities is held at 530 to 630 ° C. for 2 to 24 hours,
Thereafter, hot rolling and cold rolling are performed to obtain a foil having a predetermined thickness, and a method for producing an aluminum alloy foil for an electrolytic capacitor cathode.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03122239A (en) * 1989-10-05 1991-05-24 Showa Alum Corp Aluminum alloy for cathode foil of electrolytic capacitor
JPH03165508A (en) * 1989-11-24 1991-07-17 Showa Alum Corp Aluminum alloy for cathode foil of electrolytic capacitor
JP4582627B2 (en) * 2003-10-28 2010-11-17 住友軽金属工業株式会社 Aluminum alloy foil for electrolytic capacitor cathode
JP4021923B1 (en) * 2006-12-06 2007-12-12 三菱アルミニウム株式会社 Aluminum foil for electrolytic capacitor electrode and manufacturing method thereof
JP4021922B1 (en) * 2006-11-15 2007-12-12 三菱アルミニウム株式会社 Method for producing aluminum foil for electrolytic capacitor electrode

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109295361A (en) * 2018-10-23 2019-02-01 宁波龙安包装科技有限公司 Compound tension medicinal aluminum foil and its processing method
CN109295361B (en) * 2018-10-23 2021-07-30 宁波龙安包装科技有限公司 Composite tensile medicinal aluminum foil and processing method thereof

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