JP4874039B2 - Aluminum alloy foil for electrolytic capacitor cathode and alloy foil used therefor - Google Patents

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Description

本発明は、エッチング時の無効溶解が少なく、静電容量及び強度が高い電解コンデンサ電極を得るための、電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔及びその製造に用いる合金箔地に関する。   The present invention relates to an aluminum alloy foil for an electrolytic capacitor cathode and an alloy foil used in the production thereof for obtaining an electrolytic capacitor electrode with little ineffective dissolution during etching and high capacitance and strength.

アルミニウム箔は、エッチング処理を行い、エッチングピットを形成することにより、表面積を増大させることができる。そして、その表面に陽極酸化処理を施すことにより、酸化皮膜を形成し、これが誘電体として機能する。このため、アルミニウム箔をエッチング処理し、その表面に使用電圧に応じた種々の電圧で陽極酸化皮膜を形成することにより、さまざまな用途に適合する各種の電解コンデンサ用アルミニウム陽極用電極箔を製造することができる。   The aluminum foil can be increased in surface area by etching and forming etching pits. And the surface is anodized to form an oxide film, which functions as a dielectric. For this reason, aluminum foil electrode foils for various types of electrolytic capacitors suitable for various applications are manufactured by etching an aluminum foil and forming an anodized film on the surface with various voltages according to the operating voltage. be able to.

エッチング処理で形成されるエッチングピットは、陽極酸化電圧に対応した形状に処理される。   The etching pit formed by the etching process is processed into a shape corresponding to the anodic oxidation voltage.

具体的には、中高圧用のコンデンサ用途には、厚い酸化皮膜を形成する必要がある。このため、そのような厚い酸化皮膜でエッチングピットが埋まらないようにするため、中高圧陽極用アルミニウム箔では、主に直流エッチングを行うことによりエッチングピット形状をトンネルタイプとし、電圧に応じた太さに処理される。低圧用コンデンサ用途では、細かいエッチングピットが必要であり、主には交流エッチングによって海綿状のエッチングピットを形成させる。   Specifically, it is necessary to form a thick oxide film for a medium-high voltage capacitor application. For this reason, in order to prevent the etching pits from being filled with such a thick oxide film, in the aluminum foil for medium and high pressure anodes, the etching pit shape is made tunnel type by mainly performing DC etching, and the thickness according to the voltage. To be processed. In low voltage capacitor applications, fine etching pits are required, and spongy etching pits are formed mainly by AC etching.

一方、陰極用箔も、同様にエッチングによる表面積の拡大が行われる。電解コンデンサの容量は、陽極部と陰極部の合成容量であり、特に静電容量が大きい低圧用コンデンサ用の陰極箔には、静電容量が高いものが要求される。高い容量を実現するため、エッチング処理にて形成されるエッチングピットは、微細であり、かつ、箔の深さ方向に均一に進行させる必要がある。エッチング中にアルミニウム箔の過剰な溶解が起こると、形成された微細なエッチングピットが破壊され、有効な表面積拡大を達成することができなくなり、深さ方向で不均一な形状となる。一方、エッチング後の強度も重要であり、エッチングがされていない箔の中心部がその強度を保っているが、その中心部の強度を高くする必要がある。   On the other hand, the surface area of the cathode foil is similarly increased by etching. The capacity of the electrolytic capacitor is a combined capacity of the anode part and the cathode part. Particularly, a cathode foil for a low voltage capacitor having a large electrostatic capacity is required to have a high electrostatic capacity. In order to achieve a high capacity, the etching pits formed by the etching process must be fine and travel uniformly in the depth direction of the foil. If the aluminum foil is excessively dissolved during etching, the formed fine etching pits are destroyed, and effective surface area enlargement cannot be achieved, resulting in a non-uniform shape in the depth direction. On the other hand, the strength after etching is also important, and the central portion of the foil that has not been etched maintains its strength, but it is necessary to increase the strength of the central portion.

ところで、電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔としては、種々の組成が提案されている。   By the way, various compositions have been proposed as aluminum alloy foils for electrolytic capacitor cathodes.

例えば、特許文献1には、マンガン0.01〜0.1質量%を含有し、チタン含有量を0.001質量%以下とした電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔が開示されている。   For example, Patent Document 1 discloses an aluminum alloy foil for an electrolytic capacitor cathode containing 0.01 to 0.1% by mass of manganese and having a titanium content of 0.001% by mass or less.

特許文献2には、Si:0.15〜0.25質量%、Fe:0.35〜0.70質量%、Cu:0.10〜0.50質量%、Mn0.2〜2.0質量%を含有し、残部Al及び不可避不純物からなり、且つ、Fe/Si:1.5〜3.0であることを特徴とする電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔が開示されている。   In Patent Document 2, Si: 0.15 to 0.25 mass%, Fe: 0.35 to 0.70 mass%, Cu: 0.10 to 0.50 mass%, Mn 0.2 to 2.0 mass% An aluminum alloy foil for an electrolytic capacitor cathode is disclosed, which is composed of a remaining Al and inevitable impurities, and is Fe / Si: 1.5 to 3.0.

特許文献3には、Si:0.05〜0.30質量%、Fe:0.22〜0.60質量%、Cu:0.01〜0.19質量%、Mn0.21〜2.0質量%を含有し、残部Al及び不可避不純物からなることを特徴とする電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔が開示されている。   In Patent Document 3, Si: 0.05 to 0.30 mass%, Fe: 0.22 to 0.60 mass%, Cu: 0.01 to 0.19 mass%, Mn 0.21 to 2.0 mass% An aluminum alloy foil for an electrolytic capacitor cathode is disclosed, which is characterized by comprising a remaining percentage of Al and inevitable impurities.

しかしながら、これらのアルミニウム合金箔においても、エッチング時の無効溶解が少なく、静電容量及び強度が高い電解コンデンサ電極を得るためには、さらなる改良が必要である。
特開昭63−250110号公報 特開2004−76059号公報 特開2006−104542号公報
However, these aluminum alloy foils need to be further improved in order to obtain an electrolytic capacitor electrode with little ineffective dissolution during etching and high capacitance and strength.
JP-A-63-250110 JP 2004-76059 A JP 2006-104542 A

従って、本発明の主な目的は、エッチング時の無効溶解が少なく、静電容量及び強度が高い電解コンデンサ電極を得るための電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔及びその製造に用いる合金箔地を提供することにある。   Accordingly, the main object of the present invention is to provide an aluminum alloy foil for an electrolytic capacitor cathode for obtaining an electrolytic capacitor electrode having a low capacitance during etching and a high capacitance and strength, and an alloy foil used for the production thereof. There is.

本発明者は、従来技術の現況に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、アルミニウムに特定量のMn及びGaを含有させるとともに、Si、Fe、Cu等の不純物を一定値以下とする場合には、上記目的を達成できることを見出した。   As a result of intensive studies in view of the current state of the prior art, the inventor of the present invention contains a specific amount of Mn and Ga in aluminum, and when impurities such as Si, Fe, and Cu are set to a certain value or less, It has been found that the above object can be achieved.

すなわち、本発明は、以下の電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔及びそれに用いる合金箔地に係るものである。
1. アルミニウム合金箔であって、
Al:96質量%以上、
Mn:0.1質量%以上3.5質量%以下、
Ga:0.003質量%以上、
Si:0.07質量%以下、
Fe:0.07質量%以下、
Cu:0.008質量%以下、
Ni:0.008質量%以下、
Ti:0.001質量%以下、
であることを特徴とする電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔。
2. アルミニウム合金箔であって、
Al:96質量%以上、
Mn:0.12質量%以上1.0質量%以下、
Ga:0.003質量%以上0.05質量%以下、
Si:0.025質量%以下、
Fe:0.05質量%以下、
Cu:0.008質量%以下、
Ni:0.008質量%以下、
Ti:0.001質量%以下
であることを特徴とする電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔。
3. 前記項1に記載の組成からなることを特徴とする電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔地。
4. 前記項2に記載の組成からなることを特徴とする電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔地。
That is, the present invention relates to the following aluminum alloy foil for an electrolytic capacitor cathode and an alloy foil used therefor.
1. An aluminum alloy foil,
Al: 96 mass% or more,
Mn: 0.1 mass% or more and 3.5 mass% or less,
Ga: 0.003 mass% or more,
Si: 0.07 mass% or less,
Fe: 0.07 mass% or less,
Cu: 0.008 mass% or less,
Ni: 0.008 mass% or less,
Ti: 0.001 mass% or less,
An aluminum alloy foil for an electrolytic capacitor cathode, characterized in that
2. An aluminum alloy foil,
Al: 96 mass% or more,
Mn: 0.12% by mass or more and 1.0% by mass or less,
Ga: 0.003 mass% or more and 0.05 mass% or less,
Si: 0.025 mass% or less,
Fe: 0.05 mass% or less,
Cu: 0.008 mass% or less,
Ni: 0.008 mass% or less,
Ti: 0.001% by mass or less of an aluminum alloy foil for an electrolytic capacitor cathode.
3. An aluminum alloy foil for an electrolytic capacitor cathode, comprising the composition according to item 1 above.
4). 3. An aluminum alloy foil for an electrolytic capacitor cathode, comprising the composition according to item 2.

本発明の電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔によれば、これをエッチングすることによって電解コンデンサ電極を形成する場合には、無効溶解によるエッチングピットの破壊を抑制してより深く均一にエッチングすることができるので、より高い静電容量を得ることができる。   According to the aluminum alloy foil for an electrolytic capacitor cathode of the present invention, when an electrolytic capacitor electrode is formed by etching the foil, it is possible to etch more deeply and uniformly while suppressing destruction of etching pits due to ineffective dissolution. Therefore, a higher capacitance can be obtained.

また、無効溶解によるエッチング深さの不均一さを緩和ないしは解消できることから、エッチングがされていない箔の中心部厚みの均一化が図れる上、Mn添加の効果と相俟って、いっそう高い強度を得ることができる。   In addition, since the nonuniformity of the etching depth due to ineffective dissolution can be reduced or eliminated, the thickness of the central portion of the foil that has not been etched can be made uniform, and in addition to the effect of Mn addition, the strength can be further increased Obtainable.

1.電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔地及び箔
本発明の電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔及びそれに用いる合金箔地は、
Al:96質量%以上、
Mn:0.1質量%以上3.5質量%以下、
Ga:0.003質量%以上(0.05質量%以下)、
Si:0.07質量%以下、
Fe:0.07質量%以下、
Cu:0.008質量%以下、
Ni:0.008質量%以下、
Ti:0.001質量%以下、
を基本組成とする。
1. Aluminum alloy foil for electrolytic capacitor cathode and foil Aluminum alloy foil for electrolytic capacitor cathode of the present invention and alloy foil used therefor are:
Al: 96 mass% or more,
Mn: 0.1 mass% or more and 3.5 mass% or less,
Ga: 0.003 mass% or more (0.05 mass% or less),
Si: 0.07 mass% or less,
Fe: 0.07 mass% or less,
Cu: 0.008 mass% or less,
Ni: 0.008 mass% or less,
Ti: 0.001 mass% or less,
Is the basic composition.

本発明の電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔及びそれに用いる合金箔地は有意な元素を特定して添加配合するとともに、不純物含有量を制御したものである。各成分の添加の理由及び制限の理由を以下に説明する。   The aluminum alloy foil for an electrolytic capacitor cathode of the present invention and the alloy foil used therein are those in which significant elements are specified and added, and the impurity content is controlled. The reason for the addition of each component and the reason for the limitation will be described below.

本発明において、Mnは、0.1質量%以上3.5質量%以下、好ましくは0.12質量%以上1.0質量%以下とする。   In the present invention, Mn is 0.1% by mass or more and 3.5% by mass or less, preferably 0.12% by mass or more and 1.0% by mass or less.

アルミニウムにMnを添加すると、Mnは固溶するとともにAlMn等のAl−Mn化合物として析出する。このAl−Mn化合物の電位は、アルミニウムマトリックスとの腐食電位差が小さいため無効溶解を促進させることがない。一方、Mnはアルミニウム合金箔の強度を向上させることができる。Mnの含有量が0.1質量%未満になると、強度を向上させる効果が殆んど認められなくなる。一方、Mnの含有量が3.5質量%を超えると、アルミニウム合金箔の圧延性が悪くなったり、ピンホールの発生が多くなるおそれがある。 When Mn is added to aluminum, Mn is dissolved and precipitated as an Al—Mn compound such as Al 6 Mn. The potential of the Al—Mn compound does not promote ineffective dissolution because the difference in corrosion potential with the aluminum matrix is small. On the other hand, Mn can improve the strength of the aluminum alloy foil. When the Mn content is less than 0.1% by mass, the effect of improving the strength is hardly recognized. On the other hand, if the Mn content exceeds 3.5% by mass, the rollability of the aluminum alloy foil may be deteriorated, or pinholes may be generated.

Gaは、0.003質量%以上、好ましくは0.006質量%以上とする。   Ga is 0.003% by mass or more, preferably 0.006% by mass or more.

Gaはエッチングピットの均一な成長を促進して無効溶解を抑制する効果がある。このため、Gaの含有量は上記範囲に設定することが好ましい。なお、Gaの含有量の上限値は特に限定されないが、含有量が過多になるとエッチングピット径が増大して容量を低下させる傾向があるので、上限値は0.05質量%程度とするのが好ましい。   Ga has the effect of promoting uniform growth of etching pits and suppressing ineffective dissolution. For this reason, it is preferable to set content of Ga in the said range. The upper limit value of the Ga content is not particularly limited, but if the content is excessive, the etching pit diameter tends to increase and the capacity tends to decrease, so the upper limit value should be about 0.05% by mass. preferable.

本発明の電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔及びそれに用いる合金箔地は、Mn及びGaを上記範囲内で含むことにより、無効溶解によるエッチングピットの破壊を抑制してより深く均一にエッチングすることができ、高い静電容量及び強度を得ることができる。   The aluminum alloy foil for an electrolytic capacitor cathode of the present invention and the alloy foil used therefor can contain Mn and Ga within the above range, and can be etched more deeply and uniformly while suppressing the destruction of etching pits due to ineffective dissolution. High capacitance and strength can be obtained.

不純物として含まれるSi、Fe、Cu、Ni及びTiの量は、それぞれ次の範囲内となるように制御する。   The amounts of Si, Fe, Cu, Ni, and Ti contained as impurities are controlled so as to be within the following ranges, respectively.

Siは、0.07質量%以下、好ましくは0.025質量%以下とする。Si量を制御する理由は以下のとおりである。   Si is 0.07 mass% or less, preferably 0.025 mass% or less. The reason for controlling the amount of Si is as follows.

アルミニウムにSiが含まれると、Feが存在する場合にはAl−Fe−Si化合物として析出する。これらのAl−Fe−Si系化合物は、特に熱間圧延や焼鈍の工程中で析出しやすく、アルミニウムマトリックスとの腐食電位差が大きいため無効溶解を促進させる。このため、Feが存在する場合には、Si量を上記範囲に設定する必要がある。なお、Si量の下限値は特に限定されないが、より高い強度が得られるという点で0.005質量%以上とすることが望ましい。   When Si is contained in aluminum, it precipitates as an Al—Fe—Si compound when Fe is present. These Al—Fe—Si based compounds are likely to precipitate particularly during the hot rolling and annealing processes, and promote the ineffective dissolution because of the large difference in corrosion potential with the aluminum matrix. For this reason, when Fe exists, it is necessary to set Si amount to the said range. The lower limit of the amount of Si is not particularly limited, but is preferably 0.005% by mass or more in terms of obtaining higher strength.

Feは、0.07質量%以下、好ましくは0.05質量%以下にする。Fe量を制御する理由は以下のとおりである。   Fe is 0.07 mass% or less, preferably 0.05 mass% or less. The reason for controlling the amount of Fe is as follows.

アルミニウムにFeが含まれると、FeはAlFe等のAl−Fe化合物として析出する。これらのAl−Fe系化合物は、特に熱間圧延や焼鈍の工程中で析出しやすく、アルミニウムマトリックスとの腐食電位差が大きいため無効溶解を促進させる。このため、Fe量は上記範囲に設定する必要がある。なお、Fe量の下限値は特に限定されないが、エッチングピットが形成されやすくなるという見地より、0.005質量%以上とすることが望ましい。 When Fe is contained in aluminum, Fe precipitates as an Al—Fe compound such as Al 3 Fe. These Al—Fe compounds are likely to precipitate particularly during the hot rolling and annealing processes, and promote the ineffective dissolution because of the large difference in corrosion potential with the aluminum matrix. For this reason, it is necessary to set the amount of Fe within the above range. The lower limit of the amount of Fe is not particularly limited, but is preferably 0.005% by mass or more from the viewpoint that etching pits are easily formed.

Cuは、0.008質量%以下、好ましくは0.002質量%以下にする。Cu量を制御する理由は以下のとおりである。   Cu is 0.008 mass% or less, preferably 0.002 mass% or less. The reason for controlling the amount of Cu is as follows.

Cuはアルミニウムへの固溶度が大きく析出しにくいが、エッチングによりエッチング液中に溶出したCuイオンがアルミニウム合金箔表面に析出するとエッチング速度が大きくなるので、無効溶解を促進させる。このため、Cu量は上記範囲に設定する必要がある。なお、Cu量の下限値は特に限定されないが、エッチングピットが形成されやすくなるという見地より、0.0005質量%以上とすることが好ましい。   Cu has a high solid solubility in aluminum and is difficult to precipitate. However, if Cu ions eluted in the etching solution by etching are deposited on the surface of the aluminum alloy foil, the etching rate increases, thereby promoting ineffective dissolution. For this reason, the amount of Cu needs to be set in the above range. The lower limit of the amount of Cu is not particularly limited, but is preferably 0.0005% by mass or more from the viewpoint that etching pits are easily formed.

Niは、0.008質量%以下、好ましくは0.001質量%以下にする。Ni量を制御する理由は以下のとおりである。   Ni is 0.008 mass% or less, preferably 0.001 mass% or less. The reason for controlling the amount of Ni is as follows.

アルミニウムにNiが含まれると、Feが存在する場合にはAlFe等のAl−Fe系化合物の析出を促進する。これらのAl−Fe系化合物は、特に熱間圧延や焼鈍の工程中で析出しやすく、アルミニウムマトリックスとの腐食電位差が大きいために無効溶解を促進させる。また、エッチング速度が大きくなるので、無効溶解を促進させることもある。このため、Ni量は上記範囲に設定することが好ましい。なお、Ni量の下限値は特に限定されないが、エッチングピットが形成されやすくなるという見地より、0.0001質量%以上とすることが望ましい。 When Ni is contained in aluminum, precipitation of Al—Fe compounds such as Al 3 Fe is promoted when Fe is present. These Al—Fe compounds are likely to precipitate particularly during the hot rolling and annealing processes, and promote the ineffective dissolution because of the large difference in corrosion potential with the aluminum matrix. Further, since the etching rate is increased, ineffective dissolution may be promoted. For this reason, the amount of Ni is preferably set in the above range. The lower limit of the amount of Ni is not particularly limited, but is preferably 0.0001% by mass or more from the viewpoint that etching pits are easily formed.

Tiは、0.001質量%以下、好ましくは0.0005質量%以下とする。Ti量を制御する理由は以下のとおりである。   Ti is 0.001 mass% or less, preferably 0.0005 mass% or less. The reason for controlling the Ti amount is as follows.

Tiはエッチングピットの均一な成長を阻害し、アルミニウム合金箔を不均一に溶解するので、無効溶解を促進させる。このため、Ti量は上記範囲に設定することが好ましい。なお、Ti量の下限値は特に限定されないが、エッチングピットが形成されやすくなるという見地より、0.0001質量%以上とすることが好ましい。Ti量の制御は、例えば、アルミニウム溶湯中にB(ボロン)を添加し、生成するTiBを分離除去することにより容易に行うことができる。 Ti inhibits the uniform growth of the etching pits and dissolves the aluminum alloy foil nonuniformly, thus promoting ineffective dissolution. For this reason, it is preferable to set the amount of Ti within the above range. The lower limit of the Ti amount is not particularly limited, but is preferably 0.0001% by mass or more from the viewpoint that etching pits are easily formed. The amount of Ti can be easily controlled, for example, by adding B (boron) to the molten aluminum and separating and removing TiB 2 to be generated.

なお、その他の不純物として、例えばマグネシウム(Mg)、亜鉛(Zn)、バナジウム(V)、クロム(Cr)、ジルコニウム(Zr)、ホウ素(B)、ビスマス(Bi)等の元素の1種又は2種以上を含んでいても良い。これらの含有量は、本発明合金箔等の特性等に悪影響を与えない範囲内であれば良く、一般的には各々0.005質量%以下とすることが好ましい。   As other impurities, for example, one or two elements such as magnesium (Mg), zinc (Zn), vanadium (V), chromium (Cr), zirconium (Zr), boron (B), and bismuth (Bi) are used. It may contain more than seeds. These contents should just be in the range which does not have a bad influence on the characteristics etc. of this invention alloy foil etc., and generally it is preferred to make it 0.005 mass% or less, respectively.

本発明のアルミニウム合金箔のアルミニウム含有量(Al純度)は、通常96質量%以上、好ましくは96〜98質量%とすれば良い。   The aluminum content (Al purity) of the aluminum alloy foil of the present invention is usually 96% by mass or more, preferably 96 to 98% by mass.

本発明のアルミニウム合金箔の厚みは限定的でないが、通常は20〜100μm、特に30〜70μmとすることが望ましい。   Although the thickness of the aluminum alloy foil of the present invention is not limited, it is usually preferably 20 to 100 μm, particularly preferably 30 to 70 μm.

本発明のアルミニウム合金箔は、電解コンデンサ陰極用として好適に用いることができる。すなわち、本発明のアルミニウム合金箔を交流エッチング処理してエッチド箔又はこれを陽極酸化処理することにより得られる箔を電解コンデンサの陰極として用いることができる。   The aluminum alloy foil of the present invention can be suitably used for an electrolytic capacitor cathode. That is, the aluminum alloy foil of the present invention can be used as a cathode of an electrolytic capacitor by performing an AC etching process and performing an etched foil or anodizing the etched foil.

2.電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔地及び箔の製造方法
本発明のアルミニウム合金箔は、組成を上記範囲に設定するほかは、通常の方法に従って鋳造、圧延等を実施することによって箔地を製造し、さらに所定厚さに圧延して箔を製造することができる。また、アルミニウム合金箔地及びアルミニウム合金箔に適宜熱処理を施しても良い。
2. Aluminum alloy foil for electrolytic capacitor cathode and method for producing foil The aluminum alloy foil of the present invention is produced by carrying out casting, rolling, etc. according to a normal method, except that the composition is set in the above range, Furthermore, it can be rolled to a predetermined thickness to produce a foil. Moreover, you may heat-process suitably for aluminum alloy foil fabric and aluminum alloy foil.

製造方法としては、例えば、上記組成を有する原料の溶湯を調製し、溶湯を凝固させることにより鋳塊を製造する。この場合、得られた鋳塊に400〜630℃程度で1〜20時間程度の均質化処理を施しても良い。その後、鋳塊に対して熱間圧延と冷間圧延を施すことによって箔地とし、さらに所望の厚みの箔に圧延する。連続鋳造によって薄板のアルミニウム合金を製造する場合には、連続鋳造後、直接冷間圧延によって所望の厚みの箔を得ることもできる。軟質のアルミニウム合金箔を製造する場合には、アルミニウム合金箔に250〜450℃程度で1〜30時間程度の熱処理を施せば良い。   As a manufacturing method, for example, an ingot is manufactured by preparing a molten raw material having the above composition and solidifying the molten metal. In this case, you may perform the homogenization process for about 1 to 20 hours at about 400-630 degreeC to the obtained ingot. Thereafter, the ingot is subjected to hot rolling and cold rolling to form a foil, and further rolled into a foil having a desired thickness. When a thin aluminum alloy is produced by continuous casting, a foil having a desired thickness can be obtained by direct cold rolling after continuous casting. When producing a soft aluminum alloy foil, the aluminum alloy foil may be heat-treated at about 250 to 450 ° C. for about 1 to 30 hours.

3.電解コンデンサ陰極
電解コンデンサ陰極を形成するために本発明のアルミニウム合金箔をエッチングする方法は特に限定されず、公知の方法に従って行えば良い。各処理条件は、例えば下記のようにすれば良いが、これらに限定されるものではない。
3. Electrolytic Capacitor Cathode The method for etching the aluminum alloy foil of the present invention to form the electrolytic capacitor cathode is not particularly limited, and may be performed according to a known method. Each processing condition may be as follows, for example, but is not limited thereto.

エッチング処理で使用するエッチング液は限定的でなく、塩酸中に、硫酸、燐酸、硝酸等のいずれかを含有する混合水溶液等の公知のエッチング液を使用することができる。エッチング液の濃度は、特に限定されないが、通常は1〜10モル/L、好ましくは3〜8モル/Lとなるように設定すれば良い。エッチング液の温度は、特に制限されないが、好ましい液温度は30〜70℃である。液温度が高くなれば反応が促進されて好ましいが、高温になり過ぎると反応が速すぎて箔表面の溶解が激しく均一な初期ピットを形成し難くなる。   The etching solution used in the etching treatment is not limited, and a known etching solution such as a mixed aqueous solution containing any one of sulfuric acid, phosphoric acid, nitric acid and the like in hydrochloric acid can be used. The concentration of the etching solution is not particularly limited, but is usually set to 1 to 10 mol / L, preferably 3 to 8 mol / L. The temperature of the etching solution is not particularly limited, but a preferable solution temperature is 30 to 70 ° C. If the liquid temperature is high, the reaction is promoted, which is preferable. However, if the temperature is too high, the reaction is too fast, and the foil surface is so melted that it becomes difficult to form uniform initial pits.

エッチング処理は、一般的には交流(AC)にて実施することができる。その場合の電流密度は、一般的に0.1〜1A/cm程度とすることが好ましい。また、処理時間は、通常は1〜10分程度が適当である。 The etching process can generally be performed by alternating current (AC). In that case, the current density is generally preferably about 0.1 to 1 A / cm 2 . The treatment time is usually about 1 to 10 minutes.

以下に実施例、従来例及び比較例を示し、本発明の特徴を一層明確にする。なお、本発明は、実施例に限定されない。   Examples, conventional examples and comparative examples are shown below to further clarify the features of the present invention. In addition, this invention is not limited to an Example.

実施例1〜6、従来例及び比較例1〜5
まず、純度99.9質量%のアルミニウム地金を用いて、表1に示す組成のアルミニウム合金鋳塊を製造した。得られた鋳塊に550℃で10時間の均質化処理を施した後、熱間圧延によって6mmの厚みまで圧延した。その後、冷間圧延を行い0.35mmの箔地とし、必要に応じて中間焼鈍を行い更に冷間圧延を実施して50μmとし、不活性ガス中350℃で5時間焼鈍してアルミニウム合金箔を得た。
Examples 1 to 6, conventional examples and comparative examples 1 to 5
First, an aluminum alloy ingot having a composition shown in Table 1 was manufactured using an aluminum ingot having a purity of 99.9% by mass. The obtained ingot was homogenized at 550 ° C. for 10 hours, and then rolled to a thickness of 6 mm by hot rolling. Thereafter, cold rolling is performed to obtain a foil of 0.35 mm, intermediate annealing is performed as necessary, cold rolling is further performed to 50 μm, and annealing is performed at 350 ° C. in an inert gas for 5 hours to obtain an aluminum alloy foil. Obtained.

試験例1
実施例1〜6、従来例及び比較例1〜5で得られたアルミニウム合金箔を、塩酸3モル/L及び硫酸0.5モル/Lの60℃混合水溶液中、電流密度0.3A/cmで90秒間交流エッチング処理した後、各特性を評価した。結果を表1に示す。
Test example 1
The aluminum alloy foils obtained in Examples 1 to 6, Conventional Examples and Comparative Examples 1 to 5 were mixed at a current density of 0.3 A / cm in a 60 ° C. mixed aqueous solution of hydrochloric acid 3 mol / L and sulfuric acid 0.5 mol / L. Each of the characteristics was evaluated after AC etching for 90 seconds at 2 . The results are shown in Table 1.

なお、表1中の各物性は次のようにして測定した。   In addition, each physical property in Table 1 was measured as follows.

<静電容量>
エッチング後、アジピン酸アンモニウム水溶液(150g/L)中にて3Vの化成を行った。LCRメーターを用い、アジピン酸アンモニウム水溶液(150g/L)にて静電容量を測定した。従来例(表1)又は比較例1(表2)の値を100%として相対値で示す。なお、測定面積はそれぞれ10cmとした。
<Capacitance>
After the etching, 3V conversion was performed in an aqueous solution of ammonium adipate (150 g / L). The electrostatic capacity was measured with an aqueous solution of ammonium adipate (150 g / L) using an LCR meter. The relative value is shown with the value of the conventional example (Table 1) or Comparative Example 1 (Table 2) as 100%. The measurement area was 10 cm 2 each.

<引張強度>
JIS B 7721に準じて引張試験機により測定した。
<Tensile strength>
It measured with the tension tester according to JISB7721.

<折曲強度>
JIS P 8115に準じて、MIT形自動折曲試験機により測定した。曲率半径0.5mm、荷重250g、折曲角度左右各90°の条件とし、90°の折曲を1回として切断されるまでの回数を測定した。
<Bending strength>
According to JIS P 8115, it was measured with an MIT type automatic bending tester. The number of times until cutting was performed with a 90 ° bend as one time was measured under the conditions of a radius of curvature of 0.5 mm, a load of 250 g, and a bending angle of 90 ° to the left and right.

Figure 0004874039
Figure 0004874039

表1に示すように、比較例のアルミニウム合金箔は静電容量、引張強度及び折曲強度のいずれかが劣るものであるのに対し、実施例のアルミニウム合金箔は高い静電容量を維持しつつ、引張強度20N/cm以上(特に30N/cm以上)及び折曲強度120回以上(特に130回以上)という優れた効果を達成できることがわかる。   As shown in Table 1, the aluminum alloy foil of the comparative example is inferior in capacitance, tensile strength or bending strength, whereas the aluminum alloy foil of the example maintains a high capacitance. On the other hand, it can be seen that excellent effects of a tensile strength of 20 N / cm or more (particularly 30 N / cm or more) and a bending strength of 120 or more (particularly 130 or more) can be achieved.

試験例2
実施例5で得られたアルミニウム合金箔を5部用意し、塩酸3モル/L及び硫酸0.5モル/Lの60℃混合水溶液中、交流エッチング処理を90秒間(実施例5)、100秒間(実施例6)、120秒間(実施例7)、135秒間(実施例8)、150秒間(実施例10)それぞれ実施した後、試験例1と同様にして各特性を評価した。いずれの実施例も、電流密度は0.3A/cmとした。その結果を表2に示す。なお、表2には、比較のため、比較例1の結果も併せて示す。
Test example 2
5 parts of the aluminum alloy foil obtained in Example 5 was prepared, and AC etching was performed for 90 seconds (Example 5) and 100 seconds in a 60 ° C. mixed aqueous solution of hydrochloric acid 3 mol / L and sulfuric acid 0.5 mol / L. (Example 6) After 120 seconds (Example 7), 135 seconds (Example 8), and 150 seconds (Example 10), each characteristic was evaluated in the same manner as in Test Example 1. In all the examples, the current density was 0.3 A / cm 2 . The results are shown in Table 2. Table 2 also shows the results of Comparative Example 1 for comparison.

Figure 0004874039
Figure 0004874039

表2の結果からも明らかなように、本発明のアルミニウム合金箔では、比較例1と同等又はそれ以上の引張強度を維持しつつ、より高い静電容量が得られることがわかる。   As is clear from the results in Table 2, it can be seen that the aluminum alloy foil of the present invention can obtain a higher capacitance while maintaining a tensile strength equal to or higher than that of Comparative Example 1.

Claims (6)

アルミニウム合金箔であって、
Al:96質量%以上、
Mn:0.1質量%以上3.5質量%以下、
Ga:0.003質量%以上、
Si:0.07質量%以下、
Fe:0.07質量%以下、
Cu:0.008質量%以下、
Ni:0.008質量%以下、
Ti:0.001質量%以下、
であることを特徴とする電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔。
An aluminum alloy foil,
Al: 96 mass% or more,
Mn: 0.1 mass% or more and 3.5 mass% or less,
Ga: 0.003 mass% or more,
Si: 0.07 mass% or less,
Fe: 0.07 mass% or less,
Cu: 0.008 mass% or less,
Ni: 0.008 mass% or less,
Ti: 0.001 mass% or less,
An aluminum alloy foil for an electrolytic capacitor cathode, characterized in that
アルミニウム合金箔であって、
Al:96質量%以上、
Mn:0.12質量%以上1.0質量%以下、
Ga:0.003質量%以上0.05質量%以下、
Si:0.025質量%以下、
Fe:0.05質量%以下、
Cu:0.008質量%以下、
Ni:0.008質量%以下、
Ti:0.001質量%以下
であることを特徴とする電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔。
An aluminum alloy foil,
Al: 96 mass% or more,
Mn: 0.12% by mass or more and 1.0% by mass or less,
Ga: 0.003 mass% or more and 0.05 mass% or less,
Si: 0.025 mass% or less,
Fe: 0.05 mass% or less,
Cu: 0.008 mass% or less,
Ni: 0.008 mass% or less,
Ti: 0.001% by mass or less of an aluminum alloy foil for an electrolytic capacitor cathode.
請求項1に記載の組成からなることを特徴とする電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔地。 An aluminum alloy foil for an electrolytic capacitor cathode, comprising the composition according to claim 1. 請求項2に記載の組成からなることを特徴とする電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔地。 An aluminum alloy foil for an electrolytic capacitor cathode, comprising the composition according to claim 2. 下記の特性:The following characteristics:
Al:96質量%以上、Al: 96 mass% or more,
Mn:0.1質量%以上3.5質量%以下、Mn: 0.1 mass% or more and 3.5 mass% or less,
Ga:0.003質量%以上、Ga: 0.003 mass% or more,
Si:0.07質量%以下、Si: 0.07 mass% or less,
Fe:0.07質量%以下、Fe: 0.07 mass% or less,
Cu:0.008質量%以下、Cu: 0.008 mass% or less,
Ni:0.008質量%以下、Ni: 0.008 mass% or less,
Ti:0.001質量%以下、Ti: 0.001 mass% or less,
を有する電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔の製造方法であって、A method for producing an aluminum alloy foil for an electrolytic capacitor cathode, comprising:
(1)アルミニウム地金を用いて、アルミニウム合金鋳塊を製造する工程、及び(1) A process for producing an aluminum alloy ingot using an aluminum ingot; and
(2)前記鋳塊に対して熱間圧延と冷間圧延を施す工程、(2) a step of subjecting the ingot to hot rolling and cold rolling;
を含むことを特徴とする製造方法。The manufacturing method characterized by including.
下記の特性:The following characteristics:
Al:96質量%以上、Al: 96 mass% or more,
Mn:0.12質量%以上1.0質量%以下、Mn: 0.12% by mass or more and 1.0% by mass or less,
Ga:0.003質量%以上0.05質量%以下、Ga: 0.003 mass% or more and 0.05 mass% or less,
Si:0.025質量%以下、Si: 0.025 mass% or less,
Fe:0.05質量%以下、Fe: 0.05 mass% or less,
Cu:0.008質量%以下、Cu: 0.008 mass% or less,
Ni:0.008質量%以下、Ni: 0.008 mass% or less,
Ti:0.001質量%以下Ti: 0.001 mass% or less
を有する電解コンデンサ陰極用アルミニウム合金箔の製造方法であって、A method for producing an aluminum alloy foil for an electrolytic capacitor cathode, comprising:
(1)アルミニウム地金を用いて、アルミニウム合金鋳塊を製造する工程、及び(1) A process for producing an aluminum alloy ingot using an aluminum ingot; and
(2)前記鋳塊に対して熱間圧延と冷間圧延を施す工程、(2) a step of subjecting the ingot to hot rolling and cold rolling;
を含むことを特徴とする製造方法。The manufacturing method characterized by including.
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