JP5389659B2 - モノリス動電ポンプ製造 - Google Patents

Description

本発明は、ＥＫポンプ、特にハイブリッドモノリスを含むＥＫポンプに関する。

微小電気機械システム技術は、広範な流速および圧力にわたって液体を輸送するための様々な種類のマイクロポンプの開発に拍車をかけてきた。マイクロポンプは、基本的に、２つの群、膜移送型ポンプおよび場誘起フローポンプの一方に分類される。膜移送型ポンプにおいては、膜の偏向によって、液体を汲み出すための圧力が提供される。反対に、場誘起ポンプは、電気浸透流（「ＥＯＦ」）によって稼働する。場誘起ポンプは、この種類のポンプは製造および密閉を複雑にする可動部品を必要としない点で、重要な利点を有する。

「電気浸透ポンプ」としても公知の、動電（「ＥＫ」）ポンプにおいて、正確な流量制御は印加電界によって駆動され、電流制御または電圧制御回路で単純に達成される。このようなポンプにおいて、キャピラリーの末端に電位が加えられ、粘性抵抗によってＥＯＦが生じる。流体が正のポンプの正極に移動し、負のポンプの負極に移動する。

設計によって、ＥＫポンプは、低い失速圧力を有する。一般に、従来技術のオープンチャネルおよびキャピラリーＥＫポンプは、高圧負荷を有するシステムにおいて使用されない。機械的ポンプと異なり、電気浸透流は、圧力場を生じない。高圧を達成するために、ポンプチャネルは、流体力学的抵抗を生じるよう非常に小さくなければならない。これは、流体力学的抵抗によって流量が減少して高圧を確立する機械的ポンプと反対である。しかしながら、ＥＫポンプにおいて、流体力学的抵抗は、電気浸透流の方向と反対の方向に流量の減少を生じさせる。これによって、チャネル出口での圧力の正味の蓄積を生じる。従って、ポンプチャネルは、可能な限り小さい必要があるが、電解質の層厚さの２倍より小さい必要はない。さらに、単一の小さいポンプチャネルは最大流量を制限するので、大きな束のマイクロチャネルが必要である。

従来のＥＫポンプは、オープンチャネルおよびキャピラリーの両方とも、気泡発生の結果機能しなくなる可能性がある。例えばオープンチャネルシステムにおいて、加えられた電極電位が特定の閾値電圧を超える場合、電解および他の電極反応の結果として、気泡が発生する。試料に混入し、マイクロチャネルを妨害する、イオンが生成される。妨害物を排除するために、ポンプの下流で気泡放出デバイスを用いなければならない、または開いた貯蔵部を通じて気泡を逃さなければならない。開いた貯蔵部が使用される場合、ハウジングは電場侵入できなければならない。クローズドチャネルにおいて所与の印加電圧について達成された最大圧力として定義される「ＥＫ係数」（「ｐｓｉ／Ｖ」）によって測定して、ＥＫポンプ性能が改良できれば、このような気泡放出デバイスの必要なしに、より少ない気泡が発生する。

ＥＫポンプの電極反応および低圧の不利点を減少させるために試みがなされてきた。１つの手法は、キャピラリーまたはチャネルに、依然として電気浸透流を可能にする高い表面電荷を含む小粒子を充填することであった。しかしながら、特に直径約１ミクロン未満の粒子が使用される場合、カラムを充填することは非常に難しい。このような粒子では、非常に高い圧力が必要であり、これはしばしば、デバイスの機械的強度の制限のために、得ることができない。また、このようなカラムを充填するには長い時間が必要であり、これは、デバイスの費用を相当に追加する場合がある。

従って、近年、モノリスは高圧ＥＫポンプにおける成分としての使用が考慮されている。モノリスは、有機および無機物質ならびにこれらの組み合わせを用いて合成されている。有機物質はアルカリ性および酸性条件下で化学的に安定しているが、これらの物質は、種々の溶媒に供された場合に、収縮しおよび膨張する。また、これらは、無機シリカ物質の機械的強度を有さない。一方、シリカベースのモノリスは合成の間に収縮を被り、モノリスとキャピラリー壁／チャネル壁との間の大きな空洞が生じる場合がある。

モノリス組成を使用するＥＫポンプが示唆されている。例えば圧力駆動流に抵抗し、電気浸透流を可能にするようポリマーモノリスが選択される、米国特許６，２９０，９０９、第３欄３６行目を参照のこと。しかしながら、これらのモノリス組成は、高圧に必要な、剛性および小さいドメインサイズを欠く。これらはまた、メソ細孔において生じる二重層重複のために、ＥＫポンプとしてのこれらの性能を制限する相当なメソ多孔性を含む。

さらに、ハイブリッド無機−有機モノリス物質は、クロマトグラフィーの固定相として調査されて、キャピラリー壁へのモノリスの接着を向上させ、収縮に対する抵抗性を増大させてきた。例えばＷＯ２００４／１０５９１０を参照のこと。しかしながら、これらの物質は、相当なメソ多孔性を含み、これは、メソ細孔において生じる二重層重複のために、ＥＫポンプとしてのこれらの性能を制限する。

米国特許第６，２９０，９０９号明細書 国際公開第２００４／１０５９１０号パンフレット

従って、長期の寿命にわたって強力で安定的な形態を維持しながら、広範なｐＨにわたってより高い圧力を生じることができる、ＥＫモノリスポンプの必要性がある。

本発明は、本明細書中で「ハイブリッドモノリス」とも呼ばれる、オルガノシリカモノリスを含む高圧動電（「ＥＫ」）ポンプに関する。本発明のＥＫポンプは、電気浸透流を使用して、可動部品を使用しない高圧ポンプを提供する。このＥＫポンプの小型の性質によって、キャピラリーまたはマイクロチップベースの高圧液体クロマトグラフィー（「ＨＰＬＣ」）システムを構築する能力が提供される。

開示されるハイブリッドモノリスは、優れた強度、安定性および高圧性能を有して、信頼できる流送達および長い寿命を提供する。さらに提供されるように、ハイブリッドモノリスの表面電荷は、このＥＫポンプの有用性を、酸性試薬を汲み上げることを含む種々の用途に拡張させる目的で、改変することおよび／または永久的にすることができる。このＥＫポンプはチップベースおよび他のマイクロ流体システムと適合可能であり、これらに組み込むことができる。

このＥＫポンプは、１ミクロン未満の孔サイズを有する、連続的で安定したマクロ多孔性骨格を有するモノリスを含み、高圧適用に適している。特に、本発明のＥＫポンプは、２以上のｐＨの酸性環境において約２０，０００ｐｓｉもの高い圧力を発生させることができる。モノリスの孔サイズは１ミクロン未満であってもよい。これらの高性能ＥＫポンプは、１ボルトあたり少なくとも３から４ｐｓｉを生じ、酢酸溶離液中で低い電流を使用する。

改良された製造および再現性のための方法が、さらに提供される。本ＥＫモノリスポンプの製造および調製は、得られたメチルシルセスキオキサン（「ＭＳＱ」）の構造−特性の関係とともにゾルゲル化学の原理を適用することによる、一段階の化学的プロセスである。モノリスを製造する方法論における新規の改良は、孔サイズを減少させること、モノリスの形態の安定性を増大させること、水力流抵抗性を増大させること、広範なｐＨ下で稼働させることおよび製造の容易さに関する。表面グラフトもまた、酸性ＥＫポンプに利用して、モノリスに永久荷電を導入することができる。

充填層ポンプに対する、モノリスポンプのＥＫ係数の比較を提供する。 本発明のハイブリッドモノリスの加工の説明である。 モノリスの合成において使用された種々の量のメタノールによって調製されたモノリスの走査型電子顕微鏡像（「ＳＥＭ」）である。 ＥＫポンプ性能の結果を示すチャートである。 ＥＫポンプ試験場の説明である。 グラフト反応の前のモノリス表面の説明である。 表面グラフトの後のモノリス表面の説明である。 本発明のＥＫポンプを使用したＨＰＬＣシステムの図である。 プロセス最適化の前の任意の透過性を示す。 プロセス最適化の後の任意の透過性を示す。

本発明は、ハイブリッドモノリスを含む高圧動電（「ＥＫ」）ポンプに関する。ハイブリッドモノリスは、高い表面電荷密度およびマイクロメーターサイズの貫通孔を有する連続的で安定した骨格形態を提供する。本発明のハイブリッドモノリスは、ポリマーモノリスに対して優れた機械的強度および同等な機械的安定性を有する従来技術のモノリスと比較してより良い安定性を有する。本明細書中にさらに提供されるように、本発明のハイブリッドモノリスの表面電荷は、種々の化学試薬の使用によって、改変および／または安定したものにすることができる。化学試薬およびモノリスに対する得られる改変は、酸性溶液を汲み上げる能力が必要なチップベースのシステムおよび他の用途を含む種々のポンプ用途へハイブリッドモノリスの有用性を拡張する働きをする。

本発明のモノリスポンプを使用することの１つの利点および利益は、これを容易におよび効率的に製造することができることである。モノリスの合成は、一段階のプロセスである。プロセスの次の工程は、表面グラフトによって生じることができるモノリスポンプを製造することである。本明細書中に記載されているモノリスＥＫポンプはまた、粒子充填ポンプと比較して、改良された機械的安定性を有する。図１は、充填粒子とモノリスＥＫポンプとの寿命の比較である。図中に示されるように、本発明のモノリスのＥＫ係数（ｐｓｉ／Ｖ）を、粒子充填ポンプのＥＫ係数（ｐｓｉ／Ｖ）と比較する。両方の場合において汲み上げられた流体は０．１％酢酸であった。図に示されるように、本発明のモノリスＥＫポンプは、実質的により長い寿命を示す。基本的に、これは、モノリスＥＫポンプがこの圧力性能（ＥＫ係数を単位として表される。）を維持しており、同じ時間スケールにわたって性能の有意な喪失を示す充填層ＥＫポンプと比較して変化しないままであることを意味する。この改良された安定性の１つの理由は、堅い一体成形モノリスが、層移動を生じる層に作用する動電的または流体力によって有害に影響を及ぼされないことである。

本発明のＥＫポンプは、要素（即ち、フリット）を維持する必要なく製造することができ、これによって製造プロセスが劇的に単純化される。チップ上のＥＫポンプを製造することにおける課題の１つは、高圧でこれらのデバイス上に安定した層を充填する能力ならびに入口および出口を適切にフリットにする能力である。チップのチャネル内にモノリスを成型することによって、製造プロセスが大いに単純化される。また、粒子を充填するために使用される印加圧力は、マイクロ流体デバイスの機械的強度によって制限される場合がある。本発明のモノリスは、これらの障害を全て克服する。

モノリス合成に対する１つの手法は、スピノーダル分解のプロセスによって所望の孔サイズが生じるように適切なポロゲンで制御された様式で重合を行うことである。最初の組成および他の開始条件は、最終的なマクロ骨格形態を決定するスピノーダル分解の速度に影響を及ぼす場合がある。重合プロセスによって、ポロゲンと得られたポリマーとの間の液相分離が生じる。重合が続くと、ポリマーが凝固またはゲル化して、スピノーダル分解プロセスが止められる。ゲル化工程に続いて、モノリスは、一定の時間「熟成」されてもよく、即ち、ゲルを強化するために、重縮合反応が延長された時間にわたって継続する。従って、所望のモノリス形態の形成は、重合とスピノーダル分解との２つの同時に生じるプロセスの注意深い釣り合わせを必要とする。合成条件を変化させることによって、かなり広い範囲にわたって、骨格およびマクロ孔直径のサイズおよび比の両方を独立して調節することができる。最終的なマクロ孔および骨格形態は、反応温度、モノマー濃度、水濃度、アルコール濃度および／またはｐＨの任意の変化によって影響を及ぼされる。

重合が、スピノーダル分解の速度よりもかなり速く起こる場合、相分離は起こらない。一方、重合が、スピノーダル分解のものよりもかなり遅い時間スケールで起こる場合、スピノーダル分解プロセスは分離された液相を粗雑にし続け、即ち、各相の特徴的な長さが時間とともに増大する。これは、分離した孔を有する固体の形成または粒子の形成に最終的につながる。反応変数のそれぞれは、重合および相分離プロセスの相対速度の決定に関与する。これはまた、液相中のオリゴマーの可溶性に影響を及ぼす。正確な機序は十分理解されていないが、温度上昇によって粘性が減少し、それによって、スピノーダル分解の開始および速度が変化する。同時に、反応速度が変化する。

本発明において、モノリスは、ゾルゲル型反応における加水分解性アルコキシシランモノマーの重合によって調製される。シランモノマーは、最初に加水分解され、次いで縮合されて、［ＣＨ_３ＳｉＯ_３／２］_ｎの実験式を有するメチルシルセスキオキサンを生成する。一般に、メチルシルセスキオキサンは、式中ＸがＣｌ、ＯＣＨ_３（メチルトリメトキシシラン（「ＭＴＭＳ」））またはＯＣ_２Ｈ_５（メチルトリエトキシシラン（「ＭＴＥＳ」））である式ＣＨ_３ＳｉＸ_３の前駆体の加水分解および縮合によって調製することができる。さらに、ＣＨ_３はＣＨ_３−ＣＨ_２で置換されていてもよく、またはケイ素原子に連結した架橋エチル基（Ｘ_３Ｓｉ−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＳｉＸ_３、式中Ｘは通常ＯＣＨ_３またはＯＣＨ_２ＣＨ_３である。）であってもよい。またはＣＨ_３はアリル基で置換されていてもよい。

特に、ＭＴＭＳは、テトラメトキシシラン（ＴＭＯＳ）由来ゲルのものよりも低い架橋密度のゲルを形成する。ゾルゲル反応は、加水分解ならびに低温および低ｐＨで進行する低速の縮合で開始する。次の工程において、重合の速度を増大させるために、温度を上昇させる。オリゴマーを、例えばラジカル連鎖重合によって重合させ、さらに縮合させて、重合ゾルゲルを形成する。さらに、重合した基は、例えばキャピラリーの内面の官能基を固定しながら、第二の物質の表面と反応させることができる。

安定した多孔質構造を形成することにおける１つの難点は、広範なｐＨにわたる早期の相分離であり、架橋に利用可能な官能基がより少ない。これまでに可能ではないと報告されているが、適切な形態を有する安定した多孔質ＭＳＱゲル物質（モノリス）が、ＥＫポンプとして有用であることが見出された。一段階プロセスに関する少なくとも１つの従来技術の方法論において、ｐＨがシラノールの等電点（ＩＥＰ）より低い場合に、透明な沈殿および／または巨視的に相分離した樹脂のみが報告されている。Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．２００５，１７，２８０７−２８１６。

反応混合物のｐＨがＭＴＭＳの等電点より低い場合、ＭＴＭＳ加水分解は、酸性触媒から開始する。他方、反応混合物のｐＨが、塩基触媒による加水分解を開始するＭＴＭＳ等電点よりもかなり高い可能性があり、反応は異なる様式で行われる。メタノール含量（モノリス合成混合物中のパーセンテージ）は、マクロ孔の孔サイズの制御因子である。より低いメタノール含量は、より小さいマクロ孔を有するモノリスの合成と相関している。

従って、一段階方法において、加水分解および縮合は、触媒として酸、水または塩基を使用した単一の触媒濃度で進行して、ｐＨがそれぞれシラノール基のＩＥＰより低い、ＩＥＰに近い、またはＩＥＰより高い条件が達成される。二段階方法において、モノマーは最初、設定された時間にわたって、酸性条件下で反応する。使用される進行条件に依存して、異なるＭＳＱ物質の範囲が得られた。同上。

本発明における使用に適したモノリスの調製に関与する特定の反応化学は、以下のとおりである。

［式中、ＸはＣｌ、ＯＣＨ_３またはＯＣ_２Ｈ_５である。］

反応（１）は、アルコキシシランモノマーの加水分解工程である。反応（２）および（３）は、縮合反応である。

注目すべきことに、加水分解は、必ずしもＣＨ_３−Ｓｉ−（Ｘ）_２（ＯＨ）の形成で停止しない。Ｘ基はさらに加水分解されて、ＣＨ_３−Ｓｉ−（Ｘ）（ＯＨ）_２およびＣＨ_３−Ｓｉ−（ＯＨ）_３を形成することができる。化合物のそれぞれは、縮合反応を経ることができる。

図２中で図式的に示されるように、式中Ｘ＝Ｃｌ、ＯＣＨ_３またはＯＣ_２Ｈ_５である式ＣＨ_３−Ｓｉ−（Ｘ）_３の加水分解性アルコキシシランモノマーが、０から４℃で、容器中で酸性触媒およびメタノール、ＭｅＯＨと混合され、０から４℃で、約０から５分の間にわたって維持され、好ましくは撹拌、そうでなければ物理的に混合される。さらに、加水分解は発熱反応であるので、溶液は、氷浴上または反応混合物が確実に約０から４℃の間の温度で維持される他の機構上に置かれるべきである。

メタノールの量は、孔サイズに影響を及ぼす制御因子である。図３Ａから図３Ｄに示され、下記の実施例に記載されるように、メタノールを減少させることによって、孔サイズが減少する。これは、加水分解／重合速度、スピノーダル分解速度および／またはゲル可溶性等の種々の特徴を変化させる。メタノールの容量パーセントは、約１０から１８パーセントの間であってよい。異なる相対体積の各反応物は、モノリスの物理的構造、および恐らく孔サイズを変化させる。モノリスの物理的構造は、各反応物の相対体積の変動とともに変化して、連続的な孔、分離した孔または凝集体を生じる。

特に、図３は、反応混合物中でメタノール２．８０ｍｌ、メタノール２．６０ｍｌ、メタノール２．２０ｍｌおよびメタノール１．８０ｍｌを用いて製造されたモノリスの断面積を示す。固化したポリマー内の孔サイズは、使用するメタノールの量によって制御された。メタノールの量が減少すると、孔サイズはより小さくなり、恐らくより均一に配向する。メタノールの使用の代替案としては、エタノールおよび類似の有機溶媒が挙げられる。

ある反応触媒は、硝酸ＨＮＯ_３である。しかしながら、酸のいずれもが触媒として適している可能性があり、ＨＣｌ、ＨＢｒ、ＨＩ、ＨＣｌＯ_４、Ｈ_２ＳＯ_４、酢酸、安息香酸、クロロ酢酸、亜塩素酸、ギ酸、シアン化水素酸、フッ化水素酸、次亜塩素酸および亜硝酸が挙げられるが、これらに限定されない。

この溶液をろ過して、不溶性ケイ酸ポリマー等のいずれもの微粒子を除去する。この溶液は、この溶液中に存在する可能性のあるいずれもの微粒子の不規則なもの、未知の組成の微粒子、および恐らくはいくらかの不溶性ケイ酸ポリマーを除去するように、キャピラリーへの導入の間または前に場合によりろ過される。この溶液をろ過する場合、約０．４５μｍのメッシュサイズを有する使い捨てシリンジフィルター（図示せず）を使用してよい。メッシュサイズが微粒子の不規則なものを除去するのに十分な程小さい限り、他のフィルターもまた、使用してよい。

加水分解の前、間および／または後、だが常にキャピラリーまたはチャネルのいずれかに導入される前に、溶解した気体のいずれもを除去するために、この溶液は脱気される。例えばヘリウムガスを、反応物が混合される前に２０分間各反応物に通過させてもよく、またはこの溶液を、真空に３分間曝露することによって加水分解の後に脱気してもよい。

この溶液は、シリンジポンプまたは気体の圧力によって、キャピラリーまたは同様の種類の機構に導入される。例えばこの溶液はまた、マイクロ流体チャネルまたはチップに汲み上げられてもよい。キャピラリーは円筒状でなくてもよく、所望の形態のいずれかに成型されていてよい。このようなキャピラリーまたは他の機構に関する唯一の制限は、モノリス構造内の浸透性と比較して、匹敵するまたはより低い、ハウジングの壁とモノリスとの間の透水率を有することである。

次いで、キャピラリーの末端が密閉される。密閉の１つの方法は、キャピラリーの各末端をシリカラバーセプタ（図示せず）に入れる、または市販のフィッティングユニオン（図示せず）およびプラグ（図示せず）を用いることである。市販の部品としては、Ｕｐｃｈｕｒｃｈ Ｐ８８２アダプターユニオンおよびＰ５５１コーン型ポートプラグが挙げられる。他の市販の部品を使用してもよい。この時点で、溶液の温度を約２０から６５℃の間に上昇させて、重合およびその後のゲル化を開始させる。温度を少なくとも２０時間維持して、モノリスを固化させる。

本発明と関連して有用なキャピラリーは、溶融石英でできていてよいが、アルミナシリカ、ＰＥＥＫ、ステンレス鋼、エポキシ、セラミックスおよびガラスでできていてもよい。現在市場に出ている有用なキャピラリーとしては、ポリイミド、Ｔｅｆｌｏｎ（登録商標）および他のポリマーで覆われた、１５０μｍ ＩＤ／３６０μｍ ＯＤｘから３０ｃｍキャピラリーが挙げられる。キャピラリーの直径は、１から１００センチメートル（ｃｍ）の種々の長さを有して、約２０μｍから１ｃｍの間であってよい。直径の選択は、第一に、達成したい所望の流速範囲に依存する。溶融石英を使用することの１つの利点は、キャピラリーへのモノリスの増大した接着である場合がある。キャピラリーが、シランモノマーと反応することができるシラノールを含む場合、優良な固定支持体が提供される。これは、キャピラリー表面がまず適切なシランと反応する必要があり、次いでさらに重合工程の間に反応することができる、ポリマーモノリスの場合と異なる。

酸または塩基前処理、または「コンディショニング」を用いて、モノリスと前処理キャピラリーとの間の共有結合の量を増大させてより安定した構造を作成する目的で、反応性シラノール基を曝露することによって、キャピラリーを活性化してもよい。以下は、キャピラリーコンディショニング反応を例示する。

上記の構造は、一例に過ぎない。溶融石英の許容され得る分子式は、無定形固体（ガラス様）構造のＳｉＯ_２である。キャピラリーコンディショニングの前に、溶融石英の表面は、シロキサン結合（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ）および少量のシラノール（Ｓｉ−ＯＨ）基でほとんど覆われている。コンディショニング工程はシロキサン結合を破壊して２つのシラノール基にし、これはモノリスの結合「アンカー」として使用することができる。従って、溶融石英表面は、キャピラリーコンディショニングの結果として、より反応性が高くなる。

荷電試薬をモノリスのシリカ表面に共有結合させて、広範なｐＨにわたって、この電荷を変化および／または電荷を永久的に維持させてもよい。本発明のハイブリッドモノリスに関連して有用な、適切な荷電試薬としては、Ｎ−トリメトキシシリプロピル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムクロライドが挙げられる。シリカは低ｐＨで、シラノール基がプロトン化されているので非荷電であり、従って、修飾なしでは酸性溶液を汲み上げることができない。４．０より高いｐＨでは、シリカでできたモノリスは弱酸であり、負に荷電している。

調製されたモノリスの再現性は、各モノリスの流体力学的透過性を測定することによって評価し得る。再現性は、反応物溶液から３つのモノリスキャピラリーを成型することによって決定される。透過性の平均および標準偏差を、幾つかの反応溶液から調製されたモノリス（バッチ間再現性）および単一の反応溶液から合成されたモノリス（バッチ内再現性）の間で比較する。図８Ａおよび図８Ｂは、最適化の前および後の任意の透過性を示す。上述の手順から作製されたモノリスは、典型的には、類似した透過性を示し、調製プロセスは優良な再現性を有することが示唆される。

表面グラフト反応は以下の通りである。

［式中、ｎは、１より大きい整数であり、ポリマーが溶液中の可溶性をいつ喪失するかによって決定され、ランダム構造は、ランダムに繰り返されてもよい３つのサブユニットＡ、Ｂ、Ｃを含み、このモノリスの表面は、残余の未反応シラノールを有する。］

注目すべきことは、上記の構造は、例示の目的でのみ提供されることである。表面グラフト試薬は、１、２または３個までのシロキサン結合（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ）を形成することによって、表面シラノール（Ｓｉ−ＯＨ）と反応することができる。モノリスは無定形構造であり、従って、正確な化学的構造は描くことができない。さらに、上記の構造は、ランダムに繰り返される３つのサブユニットＡ、Ｂ、Ｃを含む。また、ｎは１より大きい整数であり、種々の公知の特徴付け方法によって決定される。多孔性、密度、係数およびガラス転移温度を含む、測定可能な特定の標準的物理的特性がある。ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ質量分析が特徴付けに有用な場合がある。他の高分子量化合物が、エレクトロスプレーによって特徴付けされている。

本発明のハイブリッドモノリスは、構造式Ｉを有する化合物を含む。

［式中、Ｘ_１、Ｘ_２およびＸ_３は、独立して変化し、ＯＨ、アルコキシ、アルキルおよびシロキサンマトリクスに架橋した結合からなる群から選択され、
Ｘ_４は独立してシロキサンマトリクスに沿って［−ＳｉＷ_１Ｗ_２（ＣＨ_２）_ｍＲ_２］としてならびにＨ、アルキル、置換アルキルおよびシロキサンマトリクスに架橋した結合からなる群から選択される少なくとも１つの置換基として変化し、
Ｒ_１はアルキル、アルケニルであり、いずれも場合により置換されていてよく、
Ｒ_２は第一級、第二級または第三級アミノ基であり、
Ｗ_１およびＷ_２は独立して変化し、Ｈ、アルキル、アルコキシ、置換アルコキシ、置換アルキル、ＯＨおよび酸素からなる群から選択され、ここで酸素はシロキサンマトリクスにまたは［−ＳｉＷ_１Ｗ_２（ＣＨ_２）_ｍＲ_２］に架橋しており、
ｍは１から１５の整数であり、
ｎは１より大きい整数であり、
ハイブリッドモノリスは、約２００Ｄａから約１００ｋＤａの間の分子量を有する。］

本明細書中で使用される場合、以下の用語は、示される意味を有する。

用語「アルコキシ」は、メトキシラジカル等の、酸素原子に結合したアルキルラジカルを含むラジカルを意味する。アルコキシラジカルとしては、１から約１０個の炭素原子およびしばしば１から約６個の炭素原子を有する「低級アルコキシ」ラジカルが挙げられる。このようなラジカルの例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシおよびｔｅｒｔ−ブトキシが挙げられる。

用語「アルキル」は、単独でまたは組み合わせで、好ましくは１から約１０個の炭素原子を含み、好ましくは１から約６個の炭素原子を含む、直鎖または分枝の非環式アルキルラジカルを意味する。「アルキル」はまた、３から約７個の炭素原子、しばしば３から５個の炭素原子を含む、環式アルキルラジカルを包含する。上記アルキルラジカルは、下記に定義される基で場合により置換されていてもよい。このようなラジカルの例としては、メチル、エチル、クロロエチル、ヒドロキシエチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、シアノブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、アミノペンチル、イソ−アミル、ヘキシル、オクチル等が挙げられる。

用語「シクロアルキル」は、シクロプロピル シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびシクロヘプチル等の、３から１０個の炭素原子を有するラジカルを包含する。用語「シクロアルキル」は、各環が３から約７個の炭素原子、好ましくは３から約５個の炭素原子を含む、単環または多重環の炭素環を含む。例としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロアルケニルおよびシクロヘプチル等のラジカルが挙げられる。用語「シクロアルキル」は、シクロアルキル環がベンゾチエピンの７員複素環と共有して炭素環原子を有する、スピロ系をさらに包含する。

用語「複素環式」は、飽和した、部分的に飽和したおよび不飽和のヘテロ原子含有の環状のラジカルを包含し、ここでヘテロ原子は、窒素、硫黄および酸素から選択されてもよい。このような複素環式ラジカルは、好ましくは３から１０員を有する環系を含む。飽和複素環式ラジカルの例としては、１から４個の窒素原子を含む飽和３から６員複素単環基［例えばピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジノ、ピペラジニル等］；１から２個の酸素原子および１から３個の窒素原子を含む飽和３から６員複素単環基［例えばモルホリニル等］；１から２個の硫黄原子および１から３個の窒素原子を含む飽和３から６員複素単環基［例えばチアゾリジニル等］が挙げられる。部分的に飽和した複素環式ラジカルの例としては、ジヒドロチオフェン、ジヒドロピラン、ジヒドロフランおよびジヒドロチアゾールが挙げられる。「複素環式」ラジカルは、低級アルキル、ヒドロキシ、オキソ、アミノおよび低級アルキルアミノ等の、１から３個の置換基を有してもよいが、５から６員ヘテロアリールラジカルが挙げられる。

用語「ヘテロアリール」は、不飽和複素環式ラジカルを包含する。「ヘテロアリール」ラジカルとも呼ばれる、不飽和複素環式ラジカルの例としては、１から４個の窒素原子を含む不飽和３から６員複素単環基、例えばピロリル、ピロリニル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニル、ピリダジニル、トリアゾリル［例えば４Ｈ−１，２，４−トリアゾリル、１Ｈ−１，２，３−トリアゾリル、２Ｈ−１，２，３−トリアゾリル等］テトラゾリル［例えば１Ｈ−テトラゾリル、２Ｈ−テトラゾリル等］等；１から５個の窒素原子を含む不飽和縮合複素環基、例えばインドリル、イソインドリル、インドリジニル、ベンゾイミダゾリル、キノリル、イソキノリル、インダゾリル、ベンゾトリアゾリル、テトラゾロピリダジニル［例えばテトラゾロ［１，５−ｂ］ピリダジニル等］等；酸素原子を含む不飽和３から６員複素単環基、例えばピラニル、フリル等；硫黄原子を含む不飽和３から６員複素単環基、例えばチエニル等；１から２個の酸素原子および１から３個の窒素原子を含む不飽和３から６員複素単環基、例えばオキサゾリル、イソオキサゾリル、オキサジアゾリル［例えば１，２，４−オキサジアゾリル、１，３，４−オキサジアゾリル、１，２，５−オキサジアゾリル等］等；１から２個の酸素原子および１から３個の窒素原子を含む不飽和縮合複素環基［例えばベンゾオキサゾリル、ベンゾオキサジアゾリル等］；１から２個の硫黄原子および１から３個の窒素原子を含む不飽和３から６員複素単環基、例えばチアゾリル、チアジアゾリル［例えば１，２，４−チアジアゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、１，２，５−チアジアゾリル等］およびイソチアゾリル；１から２個の硫黄原子および１から３個の窒素原子を含む不飽和縮合複素環基［例えばベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル等］等が挙げられる。この用語はまた、複素環式ラジカルがアリールラジカルと融合しているラジカルを包含する。このような融合二環式ラジカルの例としては、ベンゾフリル、ベンゾチエニル等が挙げられる。

用語「場合により置換されていてよい」は、先行する基が置換または非置換であってよいことを意味する。置換されている場合、「場合により置換されていてよい」基の置換基としては、以下の群から独立して選択される１つ以上の置換基または指定されたこのサブセットを挙げることができるが、これらに限定されない。（Ｃ_１−Ｃ_６）アルキル、（Ｃ_２−Ｃ_６）アルケニル、（Ｃ_２−Ｃ_６）アルキニル、（Ｃ_１−Ｃ_６）ヘテロアルキル、（Ｃ_１−Ｃ_６）ハロアルキル、（Ｃ_２−Ｃ_６）ハロアルケニル、（Ｃ_２−Ｃ_６）ハロアルキニル、（Ｃ_３−Ｃ_６）シクロアルキル、フェニル、（Ｃ_１−Ｃ_６）アルコキシ、フェノキシ、（Ｃ_１−Ｃ_６）ハロアルコキシ、アミノ、（Ｃ_１−Ｃ_６）アルキルアミノ、（Ｃ_１−Ｃ_６）アルキルチオ、フェニル−Ｓ−、オキソ、（Ｃ_１−Ｃ_６）カルボキシエステル、（Ｃ_１−Ｃ_６）カルボキサミド、（Ｃ_１−Ｃ_６）アシルオキシ、Ｈ、ハロゲン、ＣＮ、ＮＯ_２、ＮＨ_２、Ｎ_３、ＮＨＣＨ_３、Ｎ（ＣＨ_３）_２、ＳＨ、ＳＣＨ_３、ＯＨ、ＯＣＨ_３、ＯＣＦ_３、ＣＨ_３、ＣＦ_３、Ｃ（Ｏ）ＣＨ_３、ＣＯ_２ＣＨ_３、ＣＯ_２Ｈ、Ｃ（Ｏ）ＮＨ_２、ピリジニル、チオフェン、フラニル、（Ｃ１−Ｃ６）カルバメートおよび（Ｃ_１−Ｃ_６）尿素。２つの置換基を連結させて、０から３個のヘテロ原子からなる融合５員、６員または７員炭素環または複素環を形成してもよい。場合により置換されていてよい基は、非置換であってよく（例えば−ＣＨ２ＣＨ_３）、完全に置換されていてよく（例えば−ＣＦ_２ＣＦ_３）、一置換でもよく（例えば−ＣＨ_２ＣＨ_２Ｆ）または完全に置換されているのと一置換との間の任意のレベルで置換されていてもよい（例えば−ＣＨ_２ＣＦ_３）。

式Ｉおよび式ＩＩのアミノ基は、本明細書中で開示される場合、下記に同定される、対応する第一級、第二級および第三級アミンに由来してもよい。これらのアミンは例示であり、従って限定していない。

第一級アミンは、本明細書中で開示される場合、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミン、ｓｅｃ−ブチルアミン、イソ−ブチルアミン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、ペンチルアミン、１，１−ジメチルプロピルアミン、１，２−ジメチルプロピルアミン、１−エチルプロピルアミン、２−メチルブチルアミン、イソペンチルアミン、ヘキシルアミン、１，３−ジメチルブチルアミン、３，３−ジメチルアミン、ヘプチルアミン、２−アミノヘプタン、オクチルアミン、１，５−ジメチルヘキシルアミン、２−エチルヘキシルアミン、１−メチルヘプチルアミン、ｔｅｒｔ−オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ウンデシルアミン、ドデシルアミン、トリデシルアミン、テトラデシルアミン、ペンタデシルアミン、ヘキサデシルアミン、ヘプタデシルアミン、オクタデシルアミン、ノナデシルアミン、エイコシルアミン等の直鎖第一級アミンアルキルアミンをいってよく、これらのいずれも、場合により置換されていてよい。

第一級および第二級アミンとしては、本明細書中で開示される場合、ベンジルアミン、Ｎ−メチルベンジルアミン、Ｎ−エチルベンジルアミン、Ｎ−プロピルベンジルアミン、Ｎ−ブチルベンジルアミン、Ｎ−ペンチルベンジルアミン、Ｎ−ヘキシルベンジルアミン、Ｎ−ヘプチルベンジルアミン、Ｎ−オクチルベンジルアミン、Ｎ−ノニルベンジルアミン、Ｎ−デシルベンジルアミン、Ｎ−ウンデシルベンジルアミン、Ｎ−ドデシルベンジルアミン、Ｎ−トリデシルベンジルアミン、Ｎ−テトラデシルベンジルアミン、Ｎ−ペンタデシルベンジルアミン、Ｎ−ヘキサデシルベンジルアミン、Ｎ−ヘプタデシルベンジルアミン、Ｎ−オクタデシルベンジルアミン、ジベンジルアミン、Ｎ−イソプロピルベンジルアミン等の直鎖ベンジルアミンを挙げることができ、これらのいずれも、場合により置換されていてよい。

第一級および第二級アミンとしては、本明細書中で開示される場合、アニリン、Ｎ−メチルアニリン、Ｎ−エチルアニリン、Ｎ−プロピルアニリン、Ｎ−ブチルアニリン、Ｎ−ペンチルアニリン、Ｎ−ヘキシルアニリン、Ｎ−ヘプチルアニリン、Ｎ−オクチルアニリン、Ｎ−ノニルアニリン、Ｎ−デシルアニリン、Ｎ−ウンデシルアニリン、Ｎ−ドデシルアニリン、Ｎ−トリデシルアニリン、Ｎ−テトラデシルアニリン、Ｎ−ペンタデシルアニリン、Ｎ−ヘキサデシルアニリン、Ｎ−ヘプタデシルアニリン、Ｎ−オクタデシルアニリン等のアニリン誘導体を挙げることができ、これらのいずれも、場合により置換されていてよい。

第一級および第二級アミンとしては、本明細書中で開示される場合、フェネチルアミン、Ｎ−メチルフェネチルアミン、４−メチルフェネチルアミン、３−フェニルプロピルアミン、１−メチル−３−フェニルプロピルアミンおよび４−フェニルブチルアミン等のフェニルアミン等のアリールおよびヘテロアリールアミンを挙げることができ、これらのいずれも、場合により置換されていてよい。第二級ヘテロアリールアミンとしては、例えばベンズイミジゾール、１−Ｈ−インダゾール、カルバゾール、インドール、インドリン、１−Ｈテトラゾール、１，２，４−トリアゾール、ピロール、イミダゾールおよび１，２−ジアゾールを挙げることができ、これらのいずれも、場合により置換されていてよい。

第二級アミンとしては、本明細書中で開示される場合、ピロリジン、２−メチルピペリジン、３−メチルピペリジン、４−メチルピペリジン、２−ピロリン、３−ピロリン、ピラゾリジン、イミダゾリジン、２−ピラゾリン、２−イミダゾリン、イミダゾリン−２−チオン、１，２，３−トリアゾール、１−Ｈ−ピリジン−２−オン、アゼピン、５−Ｈ−１，２，５−オキサチアゾール、１，２，４−オキサジアジン、２−Ｈ−１，２，−オキサジン等の複素環式アミンを挙げることができ、これらのいずれも、場合により置換されていてよい。

第二級および第三級アミンは、本明細書中で開示される場合、ジメチルアミン、トリメチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジプロピルアミン、トリプロピルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、ジペンチルアミンおよびトリペンチルアミン等の直鎖第二級および第三級アミンをいってよい。

第二級および第三級アミンとしては、本明細書中で開示される場合、直鎖混合アミン、例えばＮ−メチルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエチルアミンおよびＮ−メチルジエチルアミンを挙げることができ、これらのいずれも、場合により置換されていてよい。

第一級、第二級および第三級アミンとしては、本明細書中で開示される場合、ジアミン、例えばＮ，Ｎ−ジメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ’−エチレンジアミンを挙げることができ、これらのいずれも、場合により置換されていてよい。

第一級、第二級および第三級アミンとしては、本明細書中で開示される場合、シクロアルキルアミン、例えばシクロヘキシルアミン、Ｎ−メチルシクロヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルシクロヘキシルアミン、Ｎ，ブチルシクロヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルシクロヘキシルアミンならびにそれぞれのシクロブチル、ペンチル、ヘプチルおよびオクチル系を挙げることができ、これらのいずれも、場合により置換されていてよい。

従って、グラフトハイブリッドモノリスの例は、以下の組成である。

［式中、ｎは１より大きい整数であり、ポリマーが溶液中の可溶性をいつ喪失するかによって決定され、ランダム構造は、ランダムに繰り返されてもよい３つのサブユニットＡ、Ｂ、Ｃを含み、モノリスの表面は、残りの未反応シラノールおよびシロキサンを有する。］

モノリス電荷は、（第四級アミン構造の組み込みによって）永久的に正にしてよく、約２から約９の間のｐＨの稼働条件下でそのままであり続ける。また、図６Ａおよび図６Ｂは、表面グラフト反応によって、表面シラノール基を永久荷電した第四級アミン基（−ＮＭｅ_３ ^＋）に置換することによってモノリス上の表面電荷が変化することを示す。上記に挙げたアミンのいずれも、アルキル化剤、例えばＣＨ_３Ｘによる、窒素の四級化によって永久的に正に荷電させ得る。Ｘは、任意のハロゲンまたは他の離脱基であり得る。

このモノリスは、永久荷電を有さなくてもよい。または、例えばｐＨを７未満に調節することによって、アミン構造を正に荷電させてもよい。

本発明のモノリスは、大きなマクロ孔の、連続的で相互接続した孔構造によって特徴付けられる。マクロ孔サイズは、ベッド不安定性を引き起こさずに、骨格サイズから独立して変化させることができる。このモノリスは、１ミクロン未満の孔サイズを有する、高い流れ抵抗性を有する。

本発明のＥＫポンプは安定的である。図１のＥＫポンプは、１４００時間を超えて安定しており、性能の減少が２０パーセント未満であることが示されている。

本発明のＥＫポンプは、向上した再現性を提供する。キャピラリー中のモノリスの製造は、孔サイズおよび／または多孔性に関して再現可能である。簡潔に述べると、キャピラリー中の１つのモノリスを水で５０００ｐｓｉまで加圧し、得られた流速を測定した。多孔性が減少し、キャピラリーの長さが増大すると、流速は小さくなる（孔サイズは長さに沿って一定であると仮定する。）。流れ抵抗性は、加えられた圧力をＥＫポンプ長および流速で割ることによって定義される。より高い流れ抵抗性は、平均孔サイズの減少を反映するようである。再現性は、反応物溶液由来の３つのモノリスキャピラリーを成型することによって決定される。流れ抵抗性の平均および標準偏差を、幾つかの反応溶液から調製されたモノリスの間（バッチ間再現性）および単一の反応溶液から合成されたモノリス（バッチ内再現性）間にて比較する。モノリス調製プロセスは、ハイブリッドモノリスの再現可能な製造について最適化されている。プロセス再現性は、正確な温度制御により、およびキャピラリーまたは類似したチャネル中に充填された反応混合物中に溶解した、または捕捉された気体を除去することにより、改良されている。

本発明のＥＫポンプは、約２から約９の間のｐＨの溶液を汲み上げる能力を有する。図４に示されるように、このＥＫポンプは、０．１％酢酸を汲み上げる流体として使用して−２４００Ｖの印加電圧で、最大流速１．１μｌ／分を有する。同じ稼働条件で、これは、５０００ｐｓｉで８４０ｎｌ／分または１５０００ｐｓｉで３４０ｎｌ／分を発生させることができる。本発明のＥＫポンプは、異なる汲み上げる流体を利用すること等によって、より高い印加電圧で、より高い流速を発生させることができる。また、最大流速は、改良された表面グラフトによって増大させ得る。最大流速は、ＥＫポンプの直径によって決定される。見かけの直線速度は、チューブの断面積で割った流速（Ｆ／Ａ＝Ｆ／πｒ^２）として定義される。例えば１５０ｕｍ ＩＤチューブ中での流速１．１ｕＬ／分は、直線速度（［（１．１ｕＬ／分）（分／６０秒）（ｃｍ^３／１０００ｕＬ）］／［（π）（７５×１０^−４ｃｍ）^２］）から０．１ｃｍ／秒を生じる。流速はまた、印加電圧に正比例する。最大印加電圧は、２つのパラメーター、アーク放電がいつ起こる、および過剰な熱がいつ発生するかに依存する。

本発明のＥＫポンプは、チップ形式に適合可能である。モノリスは、特定の形態を有さない溶液から形成される。従って、このモノリスは、任意の所与の形状に形成することができる。チップへの適用のために、このモノリスは、チャネルを充填し、モノマーを重合させることによって、大気圧で形成される。例えばＩｓｈｉｄａ，Ａら、Ｒｅｖｅｒｓｅｄ−ｐｈａｓｅ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ ｏｎ ａ Ｍｉｃｒｏｃｈｉｐ Ｗｉｔｈ Ｓａｍｐｌｅ Ｉｎｊｅｃｔｏｒ ａｎｄ Ｍｏｎｏｌｉｔｈｉｃ Ｓｉｌｉｃａ Ｃｏｌｕｍｎ、Ｊ．Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒ．Ａ１１３２（２００６）９０−９８を参照のこと。

本発明のＥＫポンプはまた、ＨＰＬＣシステムと関連して有用である。このＥＫポンプは、比較的高い背圧に対して液体を送達するデバイスである。現在のＨＰＬＣシステムは、機械的ポンプを採用して、カラムの寸法および孔サイズに依存して１０００から１０，０００ｐｓｉの間（またはそれ以上）の圧力を達成している。このＥＫポンプは、パルスのない流れ、より小さいサイズおよび減少した製造コストの利益を提供することができる機械的ポンプに代わることができる。図７は、ＨＬＰＣシステムのための典型的なＥＫポンプを提供する。

本発明のＥＫポンプを試験するために、（ａ）流量係数（ｎＬ／分／Ｖ）；（ｂ）ＥＫ係数（ｐｓｉ／ボルト）；（ｃ）電流（μＡ）；および時間で表した寿命を含む幾つかの異なる試験パラメーターを検討する。流量係数は、ポンプに加えられる圧力負荷のない流量と同等な理論的パラメーターであり、汲み上げ能力の尺度である。ゼータ電位は、表面電荷密度の尺度である。従って、ゼータ電位が高いほど、流速は大きい。

ＥＫ係数は、特定の印加電圧で稼働するＥＫポンプから達成可能な最大圧力の尺度である。電流は、溶媒の伝導度と関連し、気体形成およびジュール加熱の速度とも関連する。

図５は、本発明のＥＫポンプを試験するための配置を示す図である。電流が、流体貯蔵部中に配置された電極によって提供される。ＥＫポンプの第１の末端は流体中に配置され、第２の末端はクロスコネクターに連結されている。クロスコネクターの流体出口は、キャピラリーレストリクターチューブに連結されており、クロスコネクターの他のフィッティングは、それぞれ圧力センサーおよび接地電極に取り付けられている。レストリクターの出口は、流量センサーに接続されている。流量センサーは、廃棄ラインに接続されている。

図４は、幾つかの電圧（−８００、−１６００および−２４００Ｖ）で稼働したモノリスＥＫポンプで得られた結果を図表にしたプロットを提供する。極性の逆転は流れ方向の逆転を生じるので、印加電圧の極性は、本発明者らの実施例において重要である。特定の電圧で所与のレストリクターを使用した流速および背圧は、図５に示されるように、流量センサーおよび圧力センサーで測定される。システムについての異なる背圧を、図５に示されるように、異なる寸法のキャピラリーレストリクターを使用することによって得た。所与のレストリクターおよび特定の電圧を使用した流速および背圧は、流量センサーでの尺度であり、圧力は図５に示されるようにモニタリングされる。

以下の実施例によって、本発明をさらに説明する。

キャピラリーの前処理
ポリイミドコートされた溶融石英キャピラリー（Ｐｏｌｙｍｉｃｒｏ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ、Ｐｈｏｅｎｉｘ、ＡＺ、Ｐ／Ｎ ＴＳＰ１５０３７５）を塩基および酸でコンディショニング処理する。アセトンをおよそ５０μＬ／分で約２時間、続いて１Ｍ ＮａＯＨ洗い流し液をおよそ５０μＬ／分で約２時間流すことによって、キャピラリーを洗い流す。次いで、キャピラリーを密閉して１Ｍ ＮａＯＨを保持し、次いでオーブンで、およそ８０℃で約２時間加熱する。続いて、オーブンからキャピラリーを取り除き、室温に冷却する。次いで、キャピラリーを１Ｍ ＨＣｌで、およそ５０μＬ／分で約２時間洗い流す。キャピラリーを最終的に脱イオン水で、全ての酸が洗い流されるまで、およそ５０μＬ／分で数時間洗い流す。キャピラリー前処理の各工程について、特定の時間および流速が提供されているが、これらの値は、洗い流す容量がキャピラリーチューブの内部容積よりもはるかに大きい限りは、重要ではない。

ハイブリッドモノリスの調製
一段階方法において、ＭＴＭＳ加水分解および縮合は、酸性触媒を用いて単一の触媒濃度にて進行して、それぞれｐＨがシラノール基のＩＥＰより低い条件が達成される。約１．４から１．８ｍｌの間のメタノールを、ＭＴＭＳ約１０ｍｌおよび１モル濃度のＨＮＯ_３約２．６ミリリットルと、溶液中で混合する。この溶液を、０から４℃の間の温度で５分間撹拌し、ここで加水分解が起こる。この溶液を、実施例１で前処理したキャピラリーに汲み上げ、密閉する。キャピラリーを水浴中でおよそ４０℃に約２０から２４時間維持する。この実施例において、前処理されたキャピラリーの内面はＳｉＯＨである。上昇した温度で、縮合反応が起こり、キャピラリー内で重合／ゲル化が起こる。

モノリスのグラフト
触媒としての、荷電試薬、Ｎ−トリメトキシシリプロピル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムクロライド＋エタノール＋５％酢酸（全酸濃度＝１％）を、実施例２のハイブリッドモノリスによって汲み上げ、４０℃で数時間以上固化させる。Ｎ−トリメトキシシリプロピル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチルアンモニウムクロライドが、モノリスのシリカ表面に共有結合する。

ＥＫポンプの試験
実施例３のモノリスを、図５に示される設定を使用してＥＫポンプとして試験した。得られた電流、流速および圧力を、様々な印加電圧および様々な流量レストリクター要素で測定した。流量係数およびＥＫ係数を、図４に示される圧力対流速プロットから導いた。所与の圧力での全ての値をつなぐ直線から、２つの切片が生じる。切片を印加電圧で割って、２つの圧力非依存的係数を得る。結果を図４に示す。最大稼働圧力は−２４００Ｖで約２２，０００ｐｓｉ、−１６００Ｖで１４０００ｐｓｉおよび−８００Ｖで７０００ｐｓｉである。平均ＥＫ係数は、従って９ｐｓｉ／Ｖである。標準誤差に沿った平均したＥＫ係数を稼働時間に対してプロットして、図１に示す寿命プロットが生じる。

図１中の各点の間で（５０から１５０時間間隔）、ＥＫポンプは、図５に示されるように、固定された流量レストリクターに対して継続的に稼働していた。印加電圧を、５００Ｖ段階の上下で、１０分間隔で０Ｖから−３０００Ｖに通法によって変化させた。背圧は、通常５０００ｐｓｉ未満であった。電位工程に関する得られた流速／圧力プロットは提供していない。

Claims (15)

1. 構造式Ｉの化合物を含むハイブリッドモノリス。
   

   

   ［式中、
   Ｘ_１、Ｘ_２およびＸ_３は独立して変化し、ＯＨ、アルコキシ、アルキルおよびシロキサンマトリクスに架橋した結合からなる群から選択され、
   Ｘ_４は独立してシロキサンマトリクスに沿って［−ＳｉＷ_１Ｗ_２（ＣＨ_２）_ｍＲ_２］としてならびにＨ、アルキル、置換アルキルおよびシロキサンマトリクスに架橋した結合からなる群から選択される少なくとも１つの置換基として変化し、
   Ｒ_１は置換または未置換のアルキルまたはアルケニルであり、
   Ｒ_２は第一級、第二級または第三級アミノ基であり、
   Ｗ_１およびＷ_２は独立して変化し、Ｈ、アルキル、アルコキシ、置換アルコキシ、置換アルキル、ＯＨおよび酸素からなる群から選択され、ここで酸素はシロキサンマトリクスにまたは［−ＳｉＷ_１Ｗ_２（ＣＨ_２）_ｍＲ_２］に架橋しており、
   ｍは１から１５の整数であり、
   ｎは１より大きい整数であり、
   ２００Ｄａから１００ｋＤａの間の分子量を有する。］
2. 以下のランダム構造を有する化合物を含むハイブリッドモノリス。
   

   

   ［式中、
   ｎは、１より大きい整数であり、ポリマーが溶液中の可溶性をいつ喪失するかによって決定され、ランダム構造は、ランダムに繰り返されてもよい３つのサブユニットＡ、Ｂ、Ｃを含み、
   このモノリスの表面は残余の未反応シラノールを有する。］
3. 前記化合物が永久荷電を有する、請求項１または２に記載のモノリス。
4. 加水分解性アルコキシシランモノマーを酸性触媒およびメタノールと混合し、反応におけるメタノールの量が１０から１８容量パーセントの間である工程を含む、ゾルゲル反応において請求項１または２に記載のモノリスを製造する方法。
5. 請求項１または２に記載のモノリスを含む、ＥＫポンプ。
6. １つ以上の請求項１に記載のハイブリッドモノリスを含む、高圧液体クロマトグラフィーシステム。
7. 請求項５に記載のＥＫポンプを含む、マイクロ流体チップ。
8. ２００から１０００ｎｍの間のマクロ孔サイズを有する骨格を有するモノリスを含む、請求項５に記載のＥＫポンプ。
9. ハイブリッドモノリスを含み、ポンプは２０から１０，０００ミクロンの間の直径を有する、請求項５に記載のＥＫポンプ。
10. ６８．９５から６８９５０ｋＰａ（１０から１０，０００ｐｓｉ）の間の圧力を発生させることができる、請求項１または２に記載のハイブリッドモノリスを含むＥＫポンプ。
11. ２から１２の間のｐＨで稼働することができる、請求項１に記載のハイブリッドモノリスを含むＥＫポンプ。
12. １ミクロン未満のマクロ孔サイズを有する骨格を有するモノリスを含む、請求項１１に記載のＥＫポンプ。
13. 直径が１５０μｍを超えない、ハイブリッドモノリスを含む、請求項１１に記載のＥＫポンプ。
14. ５５１６０ｋＰａ（８０００ｐｓｉ）を超える圧力を発生させることができる、ハイブリッドモノリスを含む、請求項１１に記載のＥＫポンプ。
15. ２から４の間のｐＨで稼働することができる、ハイブリッドモノリスを含む、請求項１１に記載のＥＫポンプ。

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