JP5386429B2 - ガラスブランクの製造方法、磁気記録媒体基板の製造方法および磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、ガラスブランクの製造方法、磁気記録媒体基板の製造方法および磁気記録媒体の製造方法に関する。

従来、プレス成形工程を経て磁気記録媒体用基板（磁気ディスク基板）を製造するには、特許文献１に記載されているように、プレス成形によって得た円盤状のガラスブランクの主表面をラッピング工程で研削し、基板として要求されるレベルにまで平坦度を高めるとともに板厚偏差を減少させ、さらに、ポリッシング工程により主表面を仕上げる方法（従来法１）がとられている。ポリッシング工程は主表面を平滑かつ欠陥のない面に仕上げるための工程であって、ディスク主表面の平坦度や、板厚の均一性を高めることはできない。

磁気ディスク基板の製法には、特許文献２に記載されているように、フロート法、ダウンドロー法などによってシートガラスを成形し、このシートガラスから円盤状のガラスをくりぬき、中心穴あけ加工、内外周加工、主表面のポリッシング加工を施す方法（従来法２）がある。この方法では、平坦度の高いシートガラスが得られるので、平坦度、板厚の均一性を高めるためのラッピング工程は不要である。従来法１は、ガラスの利用率などの面で従来法２より優れているものの、ラッピング工程が不可欠である。そのため、ラッピング装置が必要、工数が多くなる、加工時間が長くなる、加工コストがかさむなどの問題がある。

特開２００３−５４９６５号公報 特開２００３−３６５２８号公報

従来法１によりラッピング工程省略可能なガラスブランクを得るには、ガラスブランクの板厚偏差を小さくするとともに、平坦度を高めることが必要である。従来法１では、ガラス流出口から溶融ガラス流を下型プレス成形面上に流出し、下端部をプレス成形面で受けた状態で溶融ガラス流を切断する。溶融ガラス流から分離された溶融ガラス塊は下型と対向する上型とによりプレスされ、薄板状に成形される。

下型の温度は、高温のガラスが融着しないよう溶融ガラスの流出温度よりも十分低く維持されている。そのため、溶融ガラスが下型上に流出してからプレス成形を開始するまでの間、ガラス塊は下型に接している面から熱を奪われ、ガラス塊の下面の粘度が局所的に上昇する。その結果、大きな粘度分布、温度分布が生じたガラス塊をプレス成形することになり、プレスによって伸びにくい部分が生じる。またプレス成形後の冷却速度もプレス成形品の部位ごとに異なるため、板厚偏差が増大したり、平坦度が低下してしまう。

こうした状況を回避するには、プレス成形開始直前における溶融ガラス塊の粘度分布を均一にすればよい。そのためには、ガラス流出口から流出する溶融ガラス流を下型などガラスよりも低温の部材で保持せずに切断し、溶融ガラス塊を分離、落下させ、落下中の溶融ガラス塊をプレス成形すればよい。

しかし、溶融ガラスからガラスブランクを量産する場合、量産開始時には板厚偏差が小さく、平坦度も優れたガラスブランクが得られるものの、時間の経過とともに板厚偏差が増加し、平坦度も低下するという問題があった。

本発明は、上記問題を解決するためになされたものであって、溶融ガラスをプレス成形して、板厚偏差が小さく、高い平坦度を有する磁気記録媒体基板用のガラスブランクを安定して量産することができるガラスブランクの製造方法を提供すること、および、前記方法で作製したガラスブランクをラッピング工程を行わずに磁気記録媒体基板に加工する磁気記録媒体基板の製造方法、ならびに、前記方法で作製した基板を用いて磁気記録媒体を製造する方法を提供することを目的とする。

本発明者は、溶融ガラスからガラスブランクを連続的に生産する場合、生産開始時には板厚偏差が小さく、平坦度も優れたガラスブランクが得られるものの、時間の経過とともに板厚偏差が増加し、平坦度も低下する原因を考察し、次のような結論を得るに至った。

（板厚偏差）
（１）板厚偏差が大きく、平坦度が低下したガラスブランクは、両主表面とも中央部が周辺部よりも窪んでいることから、プレス成形時、プレス成形面は中央部を頂部とした凸面になっている。
（２）板厚偏差の増加率は、ガラスブランクの生産工程を繰り返すうちに減少し、板厚偏差が一定値に収斂する傾向を示す。すなわち、プレス成形面は一定の凸面形状になる。この状態を定常状態と呼ぶことにする。
（３）プレス成形型の温度は、溶融ガラスの融着を防ぐため、溶融ガラスの温度よりも十分低い温度であって、プレス時のガラスの伸びを阻害しない温度に設定されている。プレス成形では、最初にプレス成形面の中央部が溶融ガラス塊に触れるため、プレス成形型内の温度分布は、プレス成形面の中央部に近いほど高温になり、深さ方向にはプレス成形面に近いほど高温になる。
（４）その結果、プレス成形型のプレス成形面中心部の浅い部分の膨張量が局所的に大きくなり、プレス成形面の中央部が盛り上がったり、反ったりする。
（５）時間の経過とともに、プレス成形型に流入する熱量と流出する熱量とがバランスして、プレス成形面の変形量が一定になるので、ガラスブランクの板厚偏差も大きい状態で安定化する、すなわち、定常状態となる。
（６）定常状態において、プレス成形時、プレス成形面全域においてプレス成形面同士の間隔が一定になるようにすれば、板厚偏差の小さいガラスブランクを安定して生産することができる。

（平坦度）
（１）ガラスブランクの平坦度は、ガラスが塑性変形可能な粘度の上限に達した時点での主表面の平坦度によって決まる。
（２）したがって、ガラスブランクの平坦度は、ガラスの粘度が塑性変形可能な範囲にあれば、両主表面からプレス成形面を離間させた後でも修正することができる。

（板厚偏差の低減と平坦度向上の両立）
（１）ガラスブランクの板厚偏差の低減と平坦度の向上を両立するには、一連のプロセスの中で、板厚偏差が決まるタイミングと平坦度が決まるタイミングが異なっていることに着目する必要がある。すなわち、板厚偏差が決まるタイミングには、プレス成形型同士の間隔をガラスブランクの板厚に相当する距離にまで近づけたときであり、平坦度が決まるタイミングは、さらにガラスの冷却が進んで成形したガラスをプレス成形型から取り出すとき、もしくは取り出す直前である。
（２）プレス成形面の形状は、定常状態ではほぼ一定となるが、プレス開始から成形したガラスをプレス成形型から取り出すまでの間に、ガラスから受ける熱によって僅かながらその形状が変化する。こうした変化は、対向するプレス成形面の両方でおきるため、板厚が決まった後、成形した薄板ガラスを対向するプレス成形面のうち一方に密着させた状態で、他方のプレス成形面から離して、前記他方のプレス成形面の形状変化が薄板ガラスの形状に影響を及ぼさないようにする必要がある。
（３）薄板ガラスの主表面を一方のプレス成形面に密着させたまま、ガラスを冷却する過程で前記主表面の平坦度を修正することにより、板厚偏差が少なく、平坦度の優れたガラスブランクを得ることができる。
（４）溶融ガラス塊の分量を一定に保ち、溶融ガラスからガラスブランクを成形する工程を一定周期で繰り返すため、定常状態において、プレス成形面の形状変化は毎回同じ変化をする。したがって、定常状態において所要の板厚偏差および平坦度のガラスブランクが得られるように生産条件を定めれば、板厚偏差が少なく、平坦度の優れたガラスブランクを安定して生産することができる。

上記の知見を元に、本発明は上記課題を解決するためになされたものである。すなわち、
本発明のガラスブランクの製造方法は、ガラス流出口から流出する溶融ガラス流から一定量の溶融ガラス塊を分離し、プレス成形型を用いて薄板ガラスをプレス成形し、薄板ガラスをプレス成形型から取り出す工程を一定周期で繰り返し、磁気記録媒体基板に加工するためのガラスブランクを生産するガラスブランクの製造方法において、溶融ガラス流から分離した溶融ガラス塊を落下させ、落下中の溶融ガラス塊を、プレス成形型の第１のプレス成形面と第２のプレス成形面とによりプレスし、２つのプレス成形面の間隔が均一になるようにして薄板ガラスを成形し、第２のプレス成形面と薄板ガラスとの密着状態を維持しつつ、第１のプレス成形面から薄板ガラスを離型し、さらに、第２のプレス成形面と薄板ガラスを密着させた状態で、第２のプレス成形面を平坦化することにより薄板ガラスの主表面を平坦化してから、第２のプレス成形面と薄板ガラスの密着状態を解除して薄板ガラスをプレス成形型から取り出すことを特徴とする。

ここで、本発明のガラスブランクの製造方法では、プレス成形時、第１のプレス成形面が凸面、第２のプレス成形面が凹面となり、かつ、第１のプレス成形面と第２のプレス成形面とが平行になるように調整したプレス成形型を用い、第２のプレス成形面が凹面から平面になった時点で、第２のプレス成形面と薄板ガラスとの密着状態を解除して薄板ガラスをプレス成形型から取り出す。

本発明のガラスブランクの製造方法の一実施形態は、第１のプレス成形面の表面粗さを第２のプレス成形面の表面粗さよりも大きいプレス成形型を使用して、第２のプレス成形面と薄板ガラスとの密着状態を維持しつつ、第１のプレス成形面から薄板ガラスを離型することが好ましい。

本発明のガラスブランクの製造方法の他の実施形態は、第１のプレス成形面から薄板ガラスを離型する際の第１のプレス成形面の温度を第２のプレス成形面の温度より低くすることにより、第２のプレス成形面と薄板ガラスとの密着状態を維持しつつ、第１のプレス成形面から薄板ガラスを離型することが好ましい。

本発明のガラスブランクの製造方法の他の実施形態は、薄板ガラスの外周方向から当該薄板ガラスに力を加え、第２のプレス成形面と薄板ガラスとの密着状態を解除することが好ましい。

本発明のガラスブランクの製造方法の他の実施形態は、ガラス流出口より流出する溶融ガラス流を空中に垂下させた状態で切断し、溶融ガラス塊を分離することが好ましい。

本発明の磁気記録媒体基板の製造方法は、本発明のガラスブランクの製造方法により作製されたガラスブランクの主表面を研磨する研磨工程を少なくとも経て、磁気記録媒体基板を製造することを特徴とする。

本発明の磁気記録媒体の製造方法は、本発明の磁気記録媒体基板の製造方法により作製された磁気記録媒体基板上に磁気記録層を形成する磁気記録層形成工程を少なくとも経て、磁気記録媒体を製造することを特徴とする。

本発明によれば、溶融ガラスをプレス成形し、板厚偏差が小さく、高い平坦度を有するガラスブランク、すなわち、ラッピング工程を省略しても所要の板厚偏差と平坦度を有する磁気記録媒体基板を得ることを可能にするガラスブランクの製造方法を提供することができる。その結果、基板の製造工程において、ラッピングを省略することができ、磁気記録媒体基板および磁気記録媒体の生産性を高めることができる。

実施例１において用いたプレス成形型の垂直断面形状を示す模式断面図である。

［ガラスブランクの製造方法］
本実施形態のガラスブランクの製造方法は、ガラス流出口から流出する溶融ガラス流から一定量の溶融ガラス塊を分離し、プレス成形型を用いて薄板ガラスをプレス成形し、薄板ガラスをプレス成形型から取り出す工程を一定周期で繰り返し、磁気記録媒体基板に加工するためのガラスブランクを生産するガラスブランクの製造方法において、溶融ガラス流から分離した溶融ガラス塊を落下させ、落下中の溶融ガラス塊を、プレス成形型の第１のプレス成形面と第２のプレス成形面とによりプレスし、２つのプレス成形面の間隔が均一になるようにして薄板ガラスを成形し、第２のプレス成形面と薄板ガラスとの密着状態を維持しつつ、第１のプレス成形面から薄板ガラスを離型し、さらに、第２のプレス成形面と薄板ガラスを密着させた状態で、第２のプレス成形面を平坦化することにより薄板ガラスの主表面を平坦化してから、第２のプレス成形面と薄板ガラスの密着状態を解除して薄板ガラスをプレス成形型から取り出すことを特徴とする。

溶融ガラス流から分離した溶融ガラス塊を落下させ、落下中の溶融ガラス塊を空中でプレス成形すれば、プレス開始直前の溶融ガラス内の粘度分布を小さくすることができ、プレス成形時に粘度が低くて伸びやすい部分と、粘度が高くて伸びにくい部分とが生じないようにすることができ、板厚偏差が少なく、平坦度のよいガラスブランクの成形に有利になる。

溶融ガラス塊をプレスして薄板ガラスに成形し、プレス成形型から取り出す工程を一定周期で繰り返すことにより、プレス時における第１のプレス成形面の形状および第２のプレス成形面の形状、薄板ガラスとの密着状態を解除する際の第２のプレス成形面の形状が一定になる。このように上記各タイミングにおけるプレス成形面の形状を安定化し、溶融ガラス塊を第１のプレス成形面と第２のプレス成形面によりプレスし、第１のプレス成形面と第２のプレス成形面の間隔が目的とするガラスブランクの板厚に相当する距離になるまでガラスを上記２つのプレス成形面の間に押し広げる。このとき、第１のプレス成形面と第２のプレス成形面の間隔が均一になるように、すなわち、前記２つのプレス成形面の薄板ガラスの主表面を転写成形する面全域において、２つのプレス成形面の間隔が一定になるようにする。

このような操作により均一な厚さを有する薄板ガラスを成形することができ、板厚偏差の低減がなされる。次いで、第２のプレス成形面と薄板ガラスとの密着状態を維持しつつ、第１のプレス成形面から薄板ガラスを離型し、以降、第１のプレス成形面の形状変化がガラスブランクの平坦度に影響を及ぼすことがないようにする。

第１のプレス成形面から薄板ガラスを離型した後も、薄板ガラスの主表面と第２のプレス成形面の密着状態を維持するが、この状態で第２のプレス成形面を平坦化することにより、第２のプレス成形面に主表面が密着している薄板ガラスの平坦度が良化される。

そして、薄板ガラスの平坦度を良化した後、第２のプレス成形面と薄板ガラスの密着状態を解除して薄板ガラスをプレス成形型から取り出し、板厚偏差が小さく、平坦度の優れたガラスブランクを得ることができる。

次に、第１のプレス成形面および第２のプレス成形面の形状の決め方について説明する。最初にガラスブランクの生産条件、すなわち、溶融ガラスの流出条件、溶融ガラス流から溶融ガラス塊を分離する周期、溶融ガラス塊の分離からプレスするまでに溶融ガラス塊が落下する距離、プレス成形型を駆動するタイミング、プレス圧力、プレス時間、成形した薄板ガラスを第１のプレス成形面から離型するタイミング、薄板ガラスを第２のプレス成形面から離型するタイミング、プレス成形型の設定温度あるいは冷却条件などを決める。

第１のプレス成形面および第２のプレス成形面をともに平坦に加工したプレス成形型を用いて、上記生産条件のもとにガラスブランクを試作する。次々に生産される試作品をサンプリングし、板厚の分布と両主表面の平坦度を測定する。時間の経過とともに板厚分布、平坦度が一定になったガラスブランクの寸法および形状に基づき、第１のプレス成形面と第２のプレス成形面の当初の形状を補正する。

第１のプレス成形面によって転写成形されるガラスブランクの主表面を第１の主表面、第２のプレス成形面によって転写成形されるガラスブランクの主表面を第２の主表面と呼ぶことにする。上記２つのプレス成形面はともに平坦に加工されているので、定常状態では、その中央部が盛り上がって凸面となる。そのため、第１の主表面、第２の主表面とも外周部に対して中央が窪む。試作品の測定によって得られた第１の主表面の外周部と中央の高低差をＤ１、第２の主表面の外周部と中央の高低差をＤ２とすると、Ｄ１が定常状態における第１のプレス成形面の外周部と中央の高低差、Ｄ２が第２のプレス成形面の外周部と中央の高低差であることがわかる。なお、プレス成形面の外周部に対して中央部が窪んでいる場合、Ｄ１、Ｄ２は負の値をとることにし、反対に中央部が盛り上がっている場合は、Ｄ１，Ｄ２は正の値をとるものとする。

定常状態では、ガラスブランクの中央の肉厚がＤ１＋Ｄ２だけ薄くなっているので、２つのプレス成形面の中央の窪みの合計量をＤ１＋Ｄ２にすることにより、ガラスブランクの中央の肉厚を所定の値に近づけることができる。

またプレス成形面の形状補正は、プレス成形面を平坦に加工するか球面加工することにより行う。そして、２つのプレス成形面の外周部と中央の高低差の合計をＤ１＋Ｄ２にすれば均一な板厚のガラスブランクを成形することができる。こうしたプレス成形面の形状補正を板厚偏差低減のための形状補正を呼ぶことにする。

板厚偏差低減のための形状補正を行ったプレス成形型を用いて試作を続け、定常状態になったときのガラスブランクの形状を測定する。このとき、ガラスブランクの板厚は均一であるが、主表面の平坦性については以下の３つのケースが考えられる。
（１）第１の主表面、第２の主表面とも平坦であって、平坦度が所要の値以内になっているケース。
（２）第１の主表面が凸面、第２の主表面が凹面のケース。
（３）第１の主表面が凹面、第２の主表面が凸面のケース。

（１）のケースでは、さらなる形状補正は不要であり、得られたプレス成形型を用いてガラスブランクの生産を連続的に行えばよい。ケース（２）で、第１の主表面の周辺部と中央の高低差をｄとすると、第２のプレス成形面の外周部を基準にした中央の深さをｄだけ深くする形状補正を行う。ケース（３）で、第１の主表面の周辺部と中央の高低差をｄとすると、第２のプレス成形面の外周部を基準にした中央の深さをｄだけ浅くする形状補正を行う。

ケース（２）、（３）のいずれにおいても、第２のプレス成形面の形状補正によって、薄板ガラスとの密着状態を解除する際の第２のプレス成形面が平坦になるようにすることができる。このようなプレス成形面の形状補正を平面度改善のための形状補正と呼ぶ。平坦度改善のための形状補正を行った第２のプレス成形面に対し、今度は第１のプレス成形面について板厚偏差低減のための形状補正を行う。

すなわち、ケース（２）では、第１のプレス成形面の中央をｄだけ高くする、あるいは浅くする形状補正を行う。ケース（３）では、第１のプレス成形面の中央をｄだけ低くする、あるいは深くする形状補正を行う。このような形状補正により、板厚偏差が小さく、平面度が良好なガラスブランクを安定して連続的に生産することができる。

以上の説明では、２つのプレス成形面を平坦に加工したプレス成形型を用いて試作を開始したが、当初のプレス成形面の形状は平坦に限定されるものではなく、板厚偏差を低減するように２つのプレス成形面の外周部と中心の高低差の合計量を決め、板厚偏差が増大しないように、平坦度を向上させるためのプレス成形面の形状補正を行えばよい。また、以上の説明では利便性を考慮して、プレス成形面の外周部と中心の高低差に注目してプレス成形面の形状を補正したが、プレス成形面上の外周部と中心以外の部位に注目して補正することもできる。

このように決定したプレス成形面を有するプレス成形型を用意する。プレス成形型を構成する材料としては、耐熱性、加工性、耐久性を考慮すると金属または合金が好ましい。中でもプレス成形型として使用する際の耐熱温度が１０００℃以上、好ましくは１１００℃以上の金属または合金がより好ましい。具体的には、球状黒鉛鋳鉄（ＦＣＤ）、合金工具鋼（ＳＫＤ６１など）、高速鋼（ＳＫＨ）、超硬合金、コルモノイ、ステライトなどが好ましい。

プレス成形面をガラスに転写してガラスブランクの主表面を成形するため、プレス成形面の表面粗さとガラスブランク主表面の表面粗さとはほぼ同等になる。ガラスブランク主表面の表面粗さは、後述するスクライブ加工とダイアモンドシートを用いた研削加工を行う上で、０．０１〜１０μｍの範囲とすることが望ましいため、プレス成形面の表面粗さも０．０１〜１０μｍの範囲とすることが好ましい。

次にプレス成形型をプレス駆動装置に取り付ける。さらに、落下中の溶融ガラス塊の中心が第１のプレス成形面および第２のプレス成形面の中心と同じ高さになったときにプレスが行われることが好ましく、そのためには、溶融ガラス流の切断のタイミングとプレスのタイミングを調整すればよい。こうした調整は、溶融ガラス流を切断するシアブレードの駆動のタイミングとプレス成形型の駆動のタイミングを調整することにより行われる。

プレス成形後、プレス成形面同士を引き離すことにより、薄板ガラスの主表面（第２の主表面）と第２のプレス成形面の密着状態を維持したまま、薄板ガラスのもう一方の主表面（第１の主表面）を第１のプレス成形面から離型する。そのためには、薄板ガラスの第２の主表面と第２のプレス成形面の密着力を、薄板ガラスの第１の主表面と第１のプレス成形面の密着力よりも大きくすればよい。例えば、第1のプレス成形面の表面粗さが第２のプレス成形面の表面粗さよりも大きいプレス成形型を使用する方法、第１のプレス成形面から薄板ガラスを離型する際の第1のプレス成形面の温度を第２のプレス成形面の温度より低く設定する方法、さらには前記２つの方法を併用する方法などがある。ここで、密着力とは薄板ガラスをプレス成形面からはがす際、薄板ガラスの主表面に垂直方向に加える力のことをさす。

なお、本実施形態のガラスブランク製造方法において、プレス成形面に離型剤、例えば窒化硼素などの粉末離型剤を塗布しないこと、すなわち、プレス成形面とガラスを直接接触させてプレス成形を行うことが望ましい。プレス成形面に離型剤を塗布することにより薄板ガラスの主表面に離型剤の形状が転写されて粗くなり、粗くなった主表面を除去するための加工が必要になるためである。また離型剤を塗布することにより、塗布の状態によってガラスからプレス成形面の熱伝導がプレス毎にばらつく、離型時の密着力がばらつくなど、高精度のガラスブランクを安定して生産する上での障害になるおそれがあるからである。

離型剤を使用しないで溶融ガラスとプレス成形面の融着を防止するには、プレス成形型の温度を概ねガラス転移温度近傍に維持することが望ましい。そのためには、プレス成形型の内部に冷却媒体、例えば、冷却ガス、冷却液などを流し、定常状態においても溶融ガラスとプレス成形面の融着が生じないようプレス成形型を一定条件で冷却する。

第２のプレス成形面と薄板ガラスの密着力は、薄板ガラスを平坦化するのに十分な大きさであり、密着力よりも大きい力で薄板ガラスを第２のプレス成形面から引き剥がそうとするガラスが変形、破損するおそれがある。ガラスの変形、破損を防止するには、外周方向から薄板ガラスに力を加え、第２のプレス成形面と薄板ガラスの密着状態を解除することが好ましい。この方法によれば、着力よりも小さい力で薄板ガラスを第２のプレス成形面からはがし、取り出すことができる。

さらに、ガラスブランクの板厚偏差、平坦度をより良化するには、プレスによってガラスが均一に薄く伸びるように、プレス開始時の溶融ガラス塊の粘度分布を小さくすることが望ましい。そのためには、溶融ガラス流をガラス流出口に垂下させた状態で切断、溶融ガラス塊を分離、落下させてプレス成形することが好ましい。このようにすることで、プレス開始まで溶融ガラスは断熱性の高い大気に囲まれるため、一部分の温度が局所的に低下して粘度分布が大きくなるのを防ぐことができる。

溶融ガラス流の切断は、対向するシアブレードの先端部を突き当ててガラスを剪断する方法、あるいは、対向するシアブレードを交差させてガラスを剪断する方法などを用いればよい。

本実施形態のガラスブランク製造方法において、流出する溶融ガラスの粘度を５０ｄＰａ・ｓ〜１０５０ｄＰａ・ｓの範囲とすることが好ましいが、上記のように溶融ガラス流をガラス流出口に垂下させた状態で切断し、溶融ガラス塊を分離する場合は、溶融ガラスの流出時の粘度を５００ｄＰａ・ｓ〜１０５０ｄＰａ・ｓの範囲とすることが好ましい。上記粘度が５００ｄＰａ・ｓ未満になると溶融ガラス流を空中に垂下した状態で必要量の溶融ガラス塊を分離することが難しくなる。流出時の粘度が５００ｄＰａ・ｓ未満の溶融ガラスについては、ガラス流出口下方に溶融ガラス流の下端を支持し、溶融ガラス塊を得るのに必要な量の溶融ガラスを蓄積してから溶融ガラス塊を分離し、落下させてプレス成形すればよい。

溶融ガラス塊を分離する位置とプレスする位置の高低差、すなわち、溶融ガラス塊の落下距離が長いと、ガラスの粘度が上昇し、プレスに適した粘度範囲を逸脱するおそれがあること、溶融ガラス塊の落下速度が増加し、プレスに適した位置で溶融ガラス塊をプレスすることが容易ではなくなることから、溶融ガラス塊の落下距離を１０００ｍｍ以内にすることが好ましい。落下距離の好ましい範囲は５００ｍｍ以内、より好ましい範囲は３００ｍｍ以内、さらに好ましい範囲は２００ｍｍ以内である。落下距離の下限は空中にある溶融ガラス塊（溶融ガラス流から分離されている状態）をプレスすることができ、かつ、溶融ガラス流の切断動作とプレス成形動作とが相互に妨げとならない距離の下限である。プレス成形型から取り出したガラスブランクはアニールにより歪を低減、除去して後工程へと送る。

以上の方法によれば、板厚偏差が１０μｍ以下、平坦度が１０μｍ以下のガラスブランクを安定して生産することができる。ガラスブランクの平坦度の好ましい範囲は８μｍ以下、より好ましい範囲は６μｍ以下、さらに好ましい範囲は４μｍ以下である。

本実施形態のガラスブランク製造方法は、板厚に対する直径の比（直径／板厚）が５０〜１５０のガラスブランクの製造に好適である。ここで、直径とはガラスブランクの長径と短径の相加平均である。前述のように、プレス成形型によってガラスブランクの外周面を規制しないので、前記外周面は自由表面となるが、成形されるガラスブランクの真円度は±０．５ｍｍ以内となる。

ガラスブランクの直径については特に制限はないが、前記直径の設定は、後述するようにガラスブランクから磁気記録媒体基板を加工する際に行うスクライブ加工や外周加工時の除去量を基板の直径に加えた値を目処に行うことが好ましい。

ガラスブランクの板厚は０．７５〜１．１ｍｍの範囲、好ましくは０．７５〜１．０ｍｍの範囲、より好ましくは０．９０〜０．９２ｍｍの範囲である。ガラスブランクの板厚、板厚偏差、平坦度、直径、真円度の測定は、三次元測定器、マイクロメータを用いて行えばよい。

使用するガラスの組成は、磁気記録媒体基板に求められる性質に応じて適宜選択すればよく、例えば、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ソーダアルミノケイ酸ガラス、アルミノボロシリケートガラス、ボロシリケートガラス、などを挙げることができる。また、これらのガラスは加熱処理により結晶化する結晶化ガラスであってもよく、加熱処理により結晶化した後に加工して基板に仕上げることもできる。

磁気ディスク等の磁気記録媒体の基板に使用されるガラスには、化学的耐久性があり、剛性が大きく、高い熱膨張係数を有することが望まれる。さらに、抗折強度を高めることを重視する場合は、化学強化可能な組成であることが求められ、また、磁気記録媒体の製造過程で高温熱処理を行う場合は、耐熱性の高い組成であることが望まれる。

化学的耐久性があり、剛性が大きく、高い熱膨張係数を有するガラスとして、
酸化物基準に換算し、モル％表示にて、
ＳｉＯ_２を５０〜７５％、
Ａｌ_２Ｏ_３を０〜１５％、
Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏを合計で５〜３５％、
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ及びＺｎＯを合計で０〜３５％、及び
ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５及びＨｆＯ_２を合計で０〜１５％含むガラスを例示することができる。

なお、清澄時の泡切れを改善するため、Ｓｎ酸化物及びＣｅ酸化物を外割り合計含有量で０．１〜３．５質量％添加することが望ましい。この場合、Ｓｎ酸化物とＣｅ酸化物の合計含有量に対するＳｎ酸化物の含有量の質量比（Ｓｎ酸化物の質量／（Ｓｎ酸化物の質量＋Ｃｅ酸化物の質量））は０．０１〜０．９９である。以下、特記しない限り、ガラス成分の含有量、合計含有量はモル％にて表示するが、Ｓｎ酸化物、Ｃｅ酸化物の含有量は質量％にて表示するものとする。

ＳｉＯ_２は、ガラスのネットワーク形成成分であり、ガラス安定性、化学的耐久性、特に耐酸性を向上させる働きをする必須成分である。ＳｉＯ_２の含有量が５０％未満だと上記働きを十分得ることができず、７５％を超えるとガラス中に未溶解物が生じたり、清澄時のガラスの粘性が高くなりすぎて泡切れが不十分になる。したがって、ＳｉＯ_２の含有量は５０〜７５％であることが好ましい。

Ａｌ_２Ｏ_３もガラスのネットワーク形成に寄与し、ガラス安定性、化学的耐久性を向上させる働きをするとともに、化学強化時のイオン交換速度を増加させる働きもする。Ａｌ_２Ｏ_３の含有量が１５％を超えるとガラスの溶融性が低下し、未溶解物が生じやすくなる。また、熱膨張係数が低下し、ヤング率も低下する。したがって、Ａｌ_２Ｏ_３の含有量は０〜１５％であることが好ましい。

Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏは、ガラスの溶融性および成形性を向上させる働きをする。また、熱膨張係数を増加させる働きもする。Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの含有量が５％未満であると上記働きを十分得ることができず、３５％を超えると化学的耐久性、特に耐酸性が低下したり、ガラスの熱的安定性が低下する。また、ガラス転移温度が低下し、耐熱性も低下する。したがって、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの含有量は５〜３５％であることが好ましい。なお、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏのうち、ガラス転移温度を低下させる働きが最も大きいものはＬｉ_２Ｏである。

ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ及びＺｎＯは、ガラスの溶融性、成形性、ヤング率を向上させる働きをする。また、熱膨張係数、ヤング率を増加させる働きもする。しかし、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ及びＺｎＯの合計含有量が３５％を超えると化学的耐久性やガラスの熱的安定性が低下する。したがって、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ及びＺｎＯの合計含有量は０〜３５％であることが好ましい。

ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５及びＨｆＯ_２は、化学的耐久性、特に耐アルカリ性を改善し、ガラス転移温度を高めて耐熱性を改善し、ヤング率や破壊靭性を高める働きをする。しかし、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５及びＨｆＯ_２の合計含有量が１５％を越えるとガラスの溶融性が低下し、ガラス中にガラス原料の未溶解物が残ってしまう。したがって、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５及びＨｆＯ_２の合計含有量は、０〜１５%であることが好ましい。

上記の組成範囲に含まれる組成範囲を以下に例示する。なお、ガラス成分の含有量、合計含有量は、特記しない限りモル％にて表示するものとする。

第１のガラスは、化学強化の効率を重視したものであり、その組成範囲は、
ＳｉＯ_２の含有量：６０〜７５%、
Ａｌ_２Ｏ_３の含有量：３〜１２％、
Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの合計含有量：２３〜３５％、
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ及びＺｎＯの合計含有量：０〜５％、
ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５及びＨｆＯ_２の合計含有量：０〜７％、
である。

第２のガラスは、化学的耐久性を重視したものであり、その組成範囲は、
ＳｉＯ_２の含有量：６０〜７５%、
Ａｌ_２Ｏ_３の含有量：１〜１５％、
Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの合計含有量：１５〜２５％、
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ及びＺｎＯの合計含有量：１〜６％、
ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５及びＨｆＯ_２の合計含有量：１〜９％、
である。

第３のガラスは、高剛性を重視したものであり、その組成範囲は、
ＳｉＯ_２の含有量：５０〜７０%、
Ａｌ_２Ｏ_３の含有量：１〜８％、
Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの合計含有量：１２〜２２％、
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ及びＺｎＯの合計含有量：１０〜２０％、
ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５及びＨｆＯ_２の合計含有量：３〜１０％、
である。

第４のガラスは、高耐熱性を重視したものであり、その組成範囲は、
ＳｉＯ_２の含有量：５０〜７０%、
Ａｌ_２Ｏ_３の含有量：１〜１０％、
Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの合計含有量：５〜１７％
（うちＬｉ_２Ｏの含有量：０〜１％）、
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ及びＺｎＯの合計含有量：１０〜２５％、
ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５及びＨｆＯ_２の合計含有量：１〜１２％、
である。

第５のガラスは、高耐熱性、高剛性、及び高熱膨張を重視したものであり、その組成範囲は、
ＳｉＯ_２の含有量：５０〜７５%、
Ａｌ_２Ｏ_３の含有量：０〜５％、
Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの合計含有量：３〜１５％
（うちＬｉ_２Ｏの含有量：０〜１％）、
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ及びＺｎＯの合計含有量：１４〜３５％、
ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｙｂ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｎｂ_２Ｏ_５及びＨｆＯ_２の合計含有量：２〜９％、
である。

［磁気記録媒体基板の製造方法］
本実施形態の磁気記録媒体基板の製造方法は、本実施形態のガラスブランクの製造方法により作製されたガラスブランクの主表面を研磨する研磨工程を少なくとも経て、磁気記録媒体基板を製造することを特徴とする。

まず、プレス成形して得られたガラスブランクに対してスクライブが行われる。スクライブとは、成形されたガラスブランクを所定のサイズのリング形状とするために、ガラスブランクの表面に超鋼合金製あるいはダイヤモンド粒子からなるスクライバにより２つの同心円（内側同心円および外側同心円）状の切断線（線状のキズ）を設けることをいう。２つの同心円の形状にスクライブされたガラスブランクは、部分的に加熱され、ガラスの熱膨張の差異により、外側同心円の外側部分が除去される。これにより、真円形状のディスク状ガラスとなる。

ガラスブランクの主表面の粗さが１μｍ以下であるため、スクライバを用いて好適に切断線を設けることができる。なお、ガラスブランクの主表面の粗さが１μｍを越える場合、スクライバが表面凹凸に追従せず、切断線を一様に設けることはできないので、主表面を平滑化してからスクライブを行う。

次に、スクライブしたガラスの形状加工が行われる。形状加工は、チャンファリング（外周端部および内周端部の面取り）を含む。チャンファリングでは、リング形状のガラスの外周端部および内周端部に、ダイヤモンド砥石により面取りが施される。

次にディスク状ガラスの端面研磨が行われる。端面研磨では、ガラスの内周側端面及び外周側端面をブラシ研磨により鏡面仕上げを行う。このとき、酸化セリウム等の微粒子を遊離砥粒として含むスラリーが用いられる。端面研磨を行うことにより、ガラスの端面での塵等が付着した汚染、ダメージあるいはキズ等の損傷の除去を行うことにより、ナトリウムやカリウム等のコロージョンの原因となるイオン析出の発生を防止することができる。

次に、ディスク状ガラスの主表面に第１研磨が施される。第１研磨は、主表面に残留したキズ、歪みの除去を目的とする。第１研磨による取り代は、例えば数μｍ〜１０μｍ程度である。取り代の大きい研削工程を行わずに済むため、ガラスには、研削工程に起因するキズ、歪み等は生じない。よって、第１研磨工程における取り代は少なくて済む。

第１研磨工程、及び後述する第２研磨工程では、両面研磨装置が用いられる。両面研磨装置は、研磨パッドを用い、ディスク状ガラスと研磨パッドとを相対的に移動させて研磨を行う装置である。両面研磨装置はそれぞれ所定の回転比率で回転駆動されるインターナルギア及び太陽ギアを有する研磨用キャリア装着部と、この研磨用キャリア装着部を挟んで互いに逆回転駆動される上定盤及び下定盤とを有する。上定盤および下定盤のディスク状ガラスと対向する面には、それぞれ後述する研磨パッドが貼り付けられている。インターナルギアおよび太陽ギアに噛合するように装着した研磨用キャリアは遊星歯車運動をして、太陽ギアの周囲を自転しながら公転する。

研磨用キャリアにはそれぞれ複数のディスク状ガラスが保持されている。上定盤は上下方向に移動可能であって、ディスク状ガラスの表裏の主表面に研磨パッドを加圧する。そして研磨砥粒（研磨材）を含有するスラリー（研磨液）を供給しつつ、研磨用キャリアの遊星歯車運動と、上定盤および下定盤が互いに逆回転することにより、ディスク状ガラスと研磨パッドとは相対的に移動して、ディスク状ガラスの表裏の主表面が研磨される。

なお、第１研磨工程では、研磨パッドとして例えば硬質樹脂ポリッシャ、研磨材としては例えば酸化セリウム砥粒、が用いられる。

次に、第１研磨後のディスク状ガラスは化学強化される。化学強化液として、例えば硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）の混合液等を用いることができる。化学強化では、化学強化液が、例えば３００℃〜４００℃に加熱され、洗浄したガラスが、例えば２００℃〜３００℃に予熱された後、ガラスが化学強化液中に、例えば３時間〜４時間浸漬される。この浸漬の際には、ガラスの両主表面全体が化学強化されるように、複数のガラスが端面で保持されるように、ホルダに収納した状態で行うことが好ましい。

このように、ガラスを化学強化液に浸漬することによって、ガラスの表層のリチウムイオン及びナトリウムイオンが、化学強化液中のイオン半径が相対的に大きいナトリウムイオン及びカリウムイオンにそれぞれ置換され、約５０〜２００μｍの厚さの圧縮応力層が形成される。これにより、ガラスが強化されて良好な耐衝撃性が備わるようになる。なお、化学強化処理されたガラスは洗浄される。例えば、硫酸で洗浄された後に、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）等で洗浄される。

次に、化学強化されて十分に洗浄されたガラスに第２研磨が施される。第２研磨による取り代は、例えば１μｍ程度である。 第２研磨は、主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする。第２研磨工程では、第１研磨工程と同様に、両面研磨装置を用いてディスク状ガラスに対する研磨が行われるが、使用する研磨液（スラリー）に含有される研磨砥粒、および研磨パッドの組成が異なる。第２研磨工程では、第１研磨工程よりも、使用する研磨砥粒の粒径を小さくし、研磨パッドの硬さを柔らかくする。例えば、第２研磨工程では、研磨パッドとして例えば軟質発砲樹脂ポリッシャ、研磨材としては例えば、第１研磨工程で用いる酸化セリウム砥粒よりも微細な酸化セリウム砥粒、が用いられる。

第２研磨工程で研磨されたディスク状ガラスは、再度洗浄される。洗浄では、中性洗剤、純水、ＩＰＡが用いられる。第２研磨により、主表面の平坦度が４μｍ以下であり、主表面の粗さが０．２ｎｍ以下の磁気ディスク用ガラス基板が得られる。

ガラスブランクから磁気ディスク用ガラス基板を作製する過程で板厚偏差を低減し、平坦度を高めるラッピング工程は省略されている。それにもかかわらず、基板主表面の平坦度が４μｍ以下と優れている理由は、ガラスブランクの板厚偏差が小さく、平坦度が優れているからである。この後、磁気ディスク用ガラス基板に、磁性層等の各層が成膜されて、磁気ディスクが作製される。

なお、化学強化工程は、第１研磨工程と第２研磨工程との間に行われるが、この順番に限定されない。第１研磨工程の後に第２研磨工程が行われる限り、化学強化工程は、適宜配置することができる。例えば、第１研磨工程→第２研磨工程→化学強化工程（以下、工程順序１）の順でもよい。但し、工程順序１では、化学強化工程により生じうる表面凹凸が除去されないことになるため、第１研磨工程→化学強化工程→第２研磨工程の工程順序が、より好ましい。

［磁気記録媒体の製造方法］
本実施形態の磁気記録媒体の製造方法は、本実施形態の磁気記録媒体基板の製造方法により作製された磁気記録媒体基板上に磁気記録層を形成する磁気記録層形成工程を少なくとも経て、磁気記録媒体を製造することを特徴とする。

前述の方法で作製した磁気記録媒体基板（磁気ディスク用ガラス基板）の主表面上に、磁性層等の層を成膜して、磁気記録媒体基板（磁気ディスク）を作製する。例えば、基板主表面側から、付着層、軟磁性層、非磁性下地層、垂直磁気記録層、保護層および潤滑層を順次積層する。付着層には、例えばＣｒ合金等が用いられ、ガラス基板との接着層として機能する。軟磁性層には、例えばＣｏＴａＺｒ合金等が用いられ、非磁性下地層には、例えばグラニュラー非磁性層等が用いられ、垂直磁気記録層には、例えばグラニュラー磁性層等が用いられる。また、保護層には、水素カーボンからなる材料が用いられ、潤滑層には、例えばフッ素系樹脂等が用いられる。

より具体的には、ガラス基板に対して、インライン型スパッタリング装置を用いて、ガラス基板の両主表面に、ＣｒＴｉの付着層、ＣｏＴａＺｒ／Ｒｕ／ＣｏＴａＺｒの軟磁性層、ＣｏＣｒＳｉＯ₂の非磁性グラニュラー下地層、ＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ₂・ＴｉＯ₂のグラニュラー磁性層、水素化カーボン保護膜を順次成膜する。さらに、成膜された最上層にディップ法によりパーフルオロポリエーテル潤滑層を成膜して磁気記録媒体（磁気ディスク）を得る。

以下、実施例により本発明をより詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限られるものではない。
（実施例１）
表１に示す５種のガラス（Ｎｏ．１〜Ｎｏ．５）が得られるように酸化物、炭酸塩、硝酸塩、水酸化物などの原料を秤量し、十分混合して調合原料とした。この原料をガラス溶解炉内の溶融槽内に投入し、加熱、溶融し、得られた溶融ガラスを溶融槽から清澄槽へと流して清澄槽内で脱泡を行い、さらに作業槽へと流して作業槽内で攪拌、均質化し、作業槽の底部に取り付けたガラス流出管から流出した。溶融槽、清澄槽、作業槽、ガラス流出パイプはそれぞれ温度制御され、各工程においてガラスの温度、粘度が最適状態に保たれる。

ガラス流出管より流出する溶融ガラスを鋳型に鋳込み成形した。得られたガラスを試料として、ガラス転移温度、液相温度を測定した。ガラス転移温度と液相温度の測定方法を以下に示す。
（１）ガラス転移温度Ｔｇ
各ガラスのガラス転移温度Ｔｇを、熱機械分析装置（ＴＭＡ）を用いて測定した。
（２）液相温度
白金ルツボにガラス試料を入れ、所定温度にて２時間保持し、炉から取り出し冷却後、結晶析出の有無を顕微鏡により観察し、結晶の認められない最低温度を液相温度(L.T.)とした。
各ガラスのガラス転移温度と液相温度を表１に示す。

これらのガラスを使用して順次、ガラスブランクを作製した。まず、ガラス流出管の流出口下方に流出する溶融ガラス流を切断するための一対のシアブレードと、さらにその下方にシアブレードで切断、分離され、落下する溶融ガラス塊をプレス成形するプレス成形装置を配置する。

溶融ガラス流から切断、分離した溶融ガラス塊がプレスされるまでに落下する距離が２００ｍｍ以内になるようにシアブレードとプレス成形型の高低差を調整する。
溶融ガラスの流出粘度が５００〜１０５０ｄＰａ・ｓの範囲内で一定になるように溶融ガラス流を流出するガラス流出管の温度を制御する。

シアブレードによる溶融ガラス流の切断周期を、直径７５ｍｍ、板厚０．９ｍｍの円盤状のガラスブランク１個分に相当する溶融ガラス塊が得られるように調整する。まず、第１のプレス成形面および第２のプレス成形面の形状を決定するためにガラスブランクを試作する。

鋳鉄（ＦＣＤ）を加工して、第１のプレス成形面および第２のプレス成形面が円形の平坦面になるようにプレス成形型を作製し、プレス成形型を駆動する装置に取り付ける。第１のプレス成形面、第２のプレス成形面ともに表面粗さを０．１〜１μｍの範囲とし、第１のプレス成形面の表面粗さを第２のプレス成形面の表面粗さよりも大きく設定し、薄板ガラスを第２のプレス成形面に密着させた状態で第１のプレス成形面から確実に離型できるようにした。

前記駆動装置には、プレス成形型の前進、後退時に対向する２つのプレス成形面が平行に保たれるようにガイドする機構が設けられている。溶融ガラス塊をプレスし、薄板ガラスを成形する際のプレス圧力を６．７ＭＰａ程度、プレス開始からガラスを薄板状に押し広げるまでに時間を０．１秒以内、第１のプレス成形面から薄板ガラスを離間するまでの時間を数秒、さらに薄板ガラスに外周方向から力を加えて第２のプレス成形面から離型するまでの時間を数秒とした。

上記各条件を固定し、ガラスブランクの試作を開始し、適当な間隔で試作品をサンプリングし、板厚偏差を測定した。プレス成形を数十回繰り返し、板厚偏差の変化が見られなくなった時点、すなわち、定常状態になった時点で得られたガラスブランクの両主表面は、ともに外周部に対し中央が１５μｍほど窪んだ凹面になっていた。
この結果に基づき、第１のプレス成形面は平坦面のままとし、第２のプレス成形面を球状の凹面とし、外周部と中央の高低差が３０μｍになるようにプレス成形面の形状を補正した。

プレス成形面の形状補正したプレス成形型を用い、上記各条件は固定したまま、試作を開始した。そして、定常状態になった時点で得られたガラスブランクの形状を測定したところ板厚は均一であったものの、第１の主表面が凹面、第２の主表面が凸面であり、第１の主表面の外周部と中央の高低差（第２の主表面の外周面と中央の高低差）はともに６μｍであった。

そこで第２のプレス成形面を球状の凹面のまま、外周部と中央の高低差を３０μｍから６μｍを差し引いた２４μｍになるように第２のプレス成形面の形状を補正した。また、第１のプレス成形面を平坦から凹面とし、外周部と中央の高低差を６μｍとする形状補正を行った。

図１は、実施例１において用いたプレス成形型の垂直断面形状を示す模式断面図である。ここで、図１（ａ）は、プレス成形面の形状を補正したプレス成形型の垂直断面を表したものであり、プレス前の金型形状（成形型１０、２０昇温後の成形型１０、２０内温度分布が小さい状態）を表したものである。図１（ａ）に示すように第１のプレス成形型１０と、第二のプレス成形型２０とが対向配置されており、第１のプレス成形面１０Ｓはわずかに凸面を成し、第１のプレス成形面１０Ｓに対向する第２のプレス成形面は凹面を成している。図１（ｂ）は、プレス成形を繰り返し行うことにより第１の成形型１０および第２の成形型２０の中央部が膨張した状態（成形型１０，２０昇温後の成形型１０，２０内温度分布が小さい状態）で溶融ガラス塊を薄板ガラス３０に成形したときの垂直断面を示したものである。この段階では、板厚偏差が良好となる。図１（ｃ）は、第２のプレス成形面２０Ｓと薄板ガラス３０とを密着した状態で第１のプレス成形面１０Ｓから離型する際の垂直断面を示したものである。図１（ｄ）は、プレス後、第１の成形型１０および第２の成形型２０の中央部が更に膨張した状態で、第２のプレス成形面２０Ｓが平坦になったときに薄板ガラス３０を取り出す様子を示したものである。この段階では平坦度が良好となる。

このようにしてプレス成形面の形状を補正したプレス成形型を用い、各生産条件は試作時の条件と同じにしてガラスブランクを連続して生産し、定常状態になった時点で作製されたガラスブランクの板厚偏差と平坦度を測定したところ、板厚偏差は１０μｍ以内、平坦度は４μｍ以内であった。

このようにして表１に示すＮｏ．1〜Ｎｏ．５の各ガラスについて、直径７５ｍｍ、真円度±０．５ｍｍ以内、板厚０．９０ｍｍ、板厚偏差４μｍ以内、平坦度４μｍ以内のガラスブランクを安定して生産した。直径、真円度、板厚、板厚偏差、平坦度の測定は三次元測定器とマイクロメータを用いて行った。

上記例では、第２のプレス成形面と密着した状態で薄板ガラスを第１のプレス成形面から離型するために第２のプレス成形面の表面粗さを第１のプレス成形面の表面粗さより小さくしたが、第２のプレス成形面の設定温度を第１のプレス成形面の設定温度よりも数十℃高くなるようにして、薄板ガラスを第２のプレス成形面との密着状態を維持しつつ第１のプレス成形面から確実に離型するようにしてもよい。ただし、プレス成形面の形状を定めるための試作のときから、プレス成形面の設定温度を上記のようにしておくとよい。ガラスブランクはアニールされ歪が低減、除去される。

（実施例２）
実施例１において作製したガラスブランクを用い、磁気ディスク基板の外周となる部分と中心孔になる部分にスクライブ加工を施した。こうした加工で、外側および外側に２つの同心円状の溝を形成する。次いで、スクライブ加工した部分を部分的に加熱して、ガラスの熱膨張の差異により、スクライブ加工した溝に沿ってクラックを発生させ、外側同心円の外側部分と内側部分とが除去される。これにより、真円形状のディスク状ガラスとなる。

次に、ディスク状ガラスをチャンファリングなどにより形状加工を施し、さらに端面研磨を行った。次に、ディスク状ガラスの主表面に第１研磨を施した後、ガラスを化学強化液に浸漬して化学強化する。

化学強化後、十分に洗浄したガラスに対し、第２研磨を施した。第２研磨工程後、ディスク状ガラスを再度洗浄して磁気ディスク用ガラス基板を作製した。基板の外径は６５ｍｍ、中心孔径は２０ｍｍ、厚さは０．８ｍｍで、主表面の平坦度が４μｍ以下、主表面の粗さが０．２ｎｍ以下であり、ラッピング工程なしに所望形状の磁気記録媒体基板を得ることができた。

（実施例３）
実施例２において作製した磁気記録媒体基板（磁気ディスク用ガラス基板）の両主表面上に、インライン型スパッタリング装置を用いて、順に、ＣｒＴｉの付着層、ＣｏＴａＺｒ／Ｒｕ／ＣｏＴａＺｒの軟磁性層、ＣｏＣｒＳｉＯ₂の非磁性グラニュラー下地層、ＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ₂・ＴｉＯ₂のグラニュラー磁性層、水素化カーボン保護膜を成膜し、最上層にディップ法によりパーフルオロポリエーテル潤滑層を成膜して磁気記録媒体（磁気ディスク）を得た。このようにして得た磁気ディスクをハードディスクドライブに組み込み、動作確認をしたところ所期の性能を得ることができた。

１０ 第１の成形型
１０Ｓ 第１の成形面
２０ 第２の成形型
２０Ｓ 第２の成形面
３０ 薄板ガラス

Claims (7)

1. ガラス流出口から流出する溶融ガラス流から一定量の溶融ガラス塊を分離し、プレス成形型を用いて薄板ガラスをプレス成形し、上記薄板ガラスをプレス成形型から取り出す工程を一定周期で繰り返し、磁気記録媒体基板に加工するためのガラスブランクを生産するガラスブランクの製造方法において、
   上記溶融ガラス流から分離した上記溶融ガラス塊を落下させ、
   落下中の上記溶融ガラス塊を、上記プレス成形型の第１のプレス成形面と第２のプレス成形面とによりプレスし、上記２つのプレス成形面の間隔が均一になるようにして上記薄板ガラスを成形し、
   上記プレス成形に際して、上記第１のプレス成形面が凸面、上記第２のプレス成形面が凹面となり、かつ、上記第１のプレス成形面と上記第２のプレス成形面とが平行になるように調整した上記プレス成形型を用い、
   次に、上記第２のプレス成形面と上記薄板ガラスとの密着状態を維持しつつ、上記第１のプレス成形面から上記薄板ガラスを離型し、
   さらに、上記第２のプレス成形面と上記薄板ガラスを密着させた状態で、上記第２のプレス成形面を凹面から平面へと平坦化することにより上記薄板ガラスの主表面を平坦化してから、上記第２のプレス成形面と上記薄板ガラスの密着状態を解除して上記薄板ガラスを上記プレス成形型から取り出すことを特徴とするガラスブランクの製造方法。
2. 前記第１のプレス成形面の表面粗さを前記第２のプレス成形面の表面粗さよりも大きい前記プレス成形型を使用して、前記第２のプレス成形面と前記薄板ガラスとの密着状態を維持しつつ、前記第１のプレス成形面から前記薄板ガラスを離型することを特徴とする請求項１に記載のガラスブランクの製造方法。
3. 前記第１のプレス成形面から前記薄板ガラスを離型する際の前記第１のプレス成形面の温度を前記第２のプレス成形面の温度より低くすることにより、前記第２のプレス成形面と前記薄板ガラスとの密着状態を維持しつつ、前記第１のプレス成形面から前記薄板ガラスを離型することを特徴とする請求項１または２に記載のガラスブランクの製造方法。
4. 前記薄板ガラスの外周方向から当該薄板ガラスに力を加え、前記第２のプレス成形面と前記薄板ガラスとの密着状態を解除することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のガラスブランクの製造方法。
5. 前記ガラス流出口より流出する前記溶融ガラス流を空中に垂下させた状態で切断し、前記溶融ガラス塊を分離することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のガラスブランクの製造方法。
6. 請求項１〜５のいずれか１項に記載のガラスブランクの製造方法により作製されたガラスブランクの主表面を研磨する研磨工程を少なくとも経て、磁気記録媒体基板を製造することを特徴とする磁気記録媒体基板の製造方法。
7. 請求項６に記載の磁気記録媒体基板の製造方法により作製された磁気記録媒体基板上に磁気記録層を形成する磁気記録層形成工程を少なくとも経て、磁気記録媒体を製造することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。

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