JP5381240B2 - IC chip and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、ICカード、ICタグ等の様々なIC媒体に用いられるICチップに関するものである。   The present invention relates to an IC chip used for various IC media such as an IC card and an IC tag.

従来から、個人を認識するIDカードとして、磁気あるいは光学的読み取りを行う方法が社員証、キャッシュカード、クレジットカード等において広く用いられてきた。しかしながら、技術の大衆化によってデータの改ざんや偽造カードが出回るようになり、実際に偽造カードによって被害を受ける人が増加するなど、個人情報の秘匿に関しては社会問題化している。このため、近年はICチップを内蔵したIC媒体が情報容量の大きさや暗号化データを載せられるといった高セキュリティの点から個人データを管理するものとして注目を集めている。   Conventionally, as an ID card for recognizing an individual, a method of performing magnetic or optical reading has been widely used in employee ID cards, cash cards, credit cards, and the like. However, due to the popularization of technology, data tampering and counterfeit cards have become available, and the number of people who are actually damaged by counterfeit cards has increased. For this reason, in recent years, attention is attracting attention as managing personal data from the point of high security that an IC medium incorporating an IC chip can be loaded with information capacity and encrypted data.

特に非接触通信型のIC媒体は、手間が要らず携帯状態で外部の読み書き装置との情報交換が可能であり、様々な分野で使用されるようになってきている。これは、外部の読み書き装置からの電磁波によって、アンテナコイルに励起された誘導起電力でICチップを駆動するものであり、バッテリー電源をカード内部に持つ必要が無く、例えば、携帯状態で使用できるなどのアクティビティに優れている為である。   In particular, non-contact communication type IC media can be exchanged with an external read / write device in a portable state without requiring labor, and are being used in various fields. This is to drive an IC chip with an induced electromotive force excited in an antenna coil by electromagnetic waves from an external read / write device, and it is not necessary to have a battery power source inside the card, and it can be used in a portable state, for example. It is because it is excellent in activity.

このような非接触IC媒体は、従来、図4で示すように、アンテナシートへICチップをフリップチップ実装し、その後両面を樹脂で封止して、補強板の貼りあわせを行っている。この場合、ICチップの厚さが約200μm、補強板の厚さが1枚約30μmで、総厚が約450μmのICインレットが採用されていた。   Conventionally, as shown in FIG. 4, such a non-contact IC medium is formed by flip-chip mounting an IC chip on an antenna sheet, and then sealing both surfaces with a resin to bond a reinforcing plate. In this case, an IC inlet having an IC chip thickness of about 200 μm, a reinforcing plate thickness of about 30 μm, and a total thickness of about 450 μm was employed.

特開2005−84710号公報JP 2005-84710 A

しかしながら、ICチップ部分が厚くなることから、衝撃や曲げ等に対してこの部分が追従できずに、カードの衝撃、曲げ等に対する物理的強度特性に劣り、カードが点圧、衝撃、曲げ等のストレスを受けるとICチップが破壊される危惧があり、信頼性に問題があった。   However, since the IC chip portion becomes thick, this portion cannot follow the impact and bending, and the physical strength characteristics against the impact and bending of the card are inferior. There was a concern that the IC chip could be destroyed when stressed, and there was a problem with reliability.

本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、その課題とするところは、薄型化しながらも物理的強度特性に優れたICチップを提供することにあり、これにより、ICチップをアンテナシートに実装し、インレットを形成した際に、ICチップ部分を樹脂封止等しなくとも破損を防止するだけの強度を有すると共に、IC媒体表面の平滑性に優れる信頼性の高いIC媒体を提供することにある。   The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and the object of the present invention is to provide an IC chip having excellent physical strength characteristics while being thinned. A highly reliable IC medium having sufficient strength to prevent breakage without mounting the IC chip portion with resin when mounted on an antenna sheet and forming an inlet, and having excellent smoothness on the surface of the IC medium. It is to provide.

上述した課題を解決するために、本発明は、集積回路が形成されたシリコンウエハの片面に接着層を介して補強板を貼り合わせた積層体を形成する工程と、該積層体をダイシングし、ICチップに個片化する工程と、を有し、該積層体をダイシングする工程のうち、少なくとも該補強板のダイシングにレーザを用いることを特徴とするICチップの製造方法としたものである。   In order to solve the above-described problems, the present invention includes a step of forming a laminated body in which a reinforcing plate is bonded to one side of a silicon wafer on which an integrated circuit is formed via an adhesive layer, and dicing the laminated body. An IC chip manufacturing method, wherein a laser is used for dicing at least the reinforcing plate among the steps of dicing the laminated body.

また本発明は、前記積層体をダイシングする工程のうち、前記シリコンウエハ、前記接着剤及び前記補強板の全てのダイシングにレーザを用いることを特徴とする前記ICチップの製造方法としたものである。   The present invention also provides a method for manufacturing the IC chip, wherein a laser is used for dicing all of the silicon wafer, the adhesive, and the reinforcing plate in the step of dicing the laminate. .

また本発明は、前記ダイシングの対象部材により、前記レーザの波長、出力、周波数のいずれか1つ以上を変更することを特徴とする前記ICチップの製造方法としたものである。   Further, the present invention provides the IC chip manufacturing method, wherein any one or more of the wavelength, output, and frequency of the laser is changed according to the dicing target member.

また本発明は、前記積層体のダイシングを、1種類のレーザにて行うことを特徴とする前記ICチップの製造方法としたものである。   According to the present invention, there is provided a method of manufacturing the IC chip, wherein the dicing of the laminated body is performed with one kind of laser.

また本発明は、前記レーザは、ウォータージェットレーザであることを特徴とする前記ICチップの製造方法としたものである。   According to the present invention, the IC chip manufacturing method is characterized in that the laser is a water jet laser.

本発明は、以上説明したような構成であるから、以下に示す如き効果がある。   Since the present invention is configured as described above, the following effects can be obtained.

即ち、本発明におけるICチップの製造方法は、集積回路が形成されたシリコンウエハの片面に接着層を介して補強板を貼り合わせた積層体を、少なくともレーザを用いてダイシングして、ICチップに個片化する故、ダイシングブレードを長寿命化させ、生産コストを抑えることが可能となる。また、こうして得られたICチップは、アンテナシートに実装する際に、ICチップ部分を樹脂封止して補強板を積層する必要がなく、ひいてはICチップ部分の薄型化に貢献する。   In other words, the IC chip manufacturing method of the present invention is a method in which a laminated body in which a reinforcing plate is bonded to one side of a silicon wafer on which an integrated circuit is formed via an adhesive layer is diced using at least a laser to form an IC chip. Since it is separated into individual pieces, it is possible to extend the life of the dicing blade and reduce the production cost. Further, when the IC chip obtained in this way is mounted on the antenna sheet, it is not necessary to seal the IC chip part with a resin and laminate a reinforcing plate, which contributes to a reduction in thickness of the IC chip part.

本発明におけるICチップの製造方法の実施形態例を説明する図である。It is a figure explaining the embodiment of the manufacturing method of the IC chip in this invention. 本発明におけるICチップの製造方法の別の実施形態例を説明する図である。It is a figure explaining another embodiment of the manufacturing method of the IC chip in this invention. 本発明におけるICチップを実装したインレットの実施形態例を示す図である。It is a figure which shows the embodiment example of the inlet which mounted the IC chip in this invention. 従来技術におけるインレットを説明する図である。It is a figure explaining the inlet in a prior art.

以下、本発明における本発明におけるICチップの製造方法の実施形態例を、図面を参照して詳細に説明する。   Embodiments of the IC chip manufacturing method according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

本発明においてICチップは、Siウエハ、接着層、補強板(SUS)を積層してなる積層体をダイシングすることによりICチップに個片化して製造される。   In the present invention, the IC chip is manufactured by dicing a laminated body formed by laminating a Si wafer, an adhesive layer, and a reinforcing plate (SUS) into individual IC chips.

まず、集積回路及び接続端子が形成されたシリコンウエハを研削する。シリコンウエハの厚さについては、特に限定しないが、45μm〜100μmが好ましく、求める薄さ、強度等により適宜調整する。   First, a silicon wafer on which an integrated circuit and connection terminals are formed is ground. The thickness of the silicon wafer is not particularly limited, but is preferably 45 μm to 100 μm, and is appropriately adjusted depending on the required thinness, strength, and the like.

詳しく説明すると、集積回路並びに接続端子(図示せず)が形成されたSiウエハを研磨し、所定の厚み(例えば80μm)に加工し、研磨後に、研磨時にダメージを受けた加工変質層を除去する。このため、例えば、超微細な砥粒を持つ乾式砥石ホイールによる機械的な研磨であるポリッシュ処理等を施す。この処理により、研削によって発生したストレスをリリースすることが可能になり、Siウエハの反り低減やICチップにした場合の強度を高めることができる。このポリッシュ処理では2〜3μmのSiを除去する。   More specifically, the Si wafer on which the integrated circuit and the connection terminals (not shown) are formed is polished and processed to a predetermined thickness (for example, 80 μm), and after the polishing, the damaged layer damaged during polishing is removed. . For this reason, for example, a polishing process, which is mechanical polishing with a dry grindstone wheel having ultrafine abrasive grains, is performed. By this treatment, it is possible to release the stress generated by grinding, and it is possible to reduce the warpage of the Si wafer and increase the strength when the IC chip is used. In this polishing process, 2 to 3 μm of Si is removed.

次に、薄く仕上げたSiウエアの片面に接着層として、例えば、ダイアタッチフィルム(DAF)を用いて厚み50〜200μmの補強板(SUS)を貼り合わせる。補強板(SUS)には、C、Si、Mn、P、S、Ni、Cr等を単体もしくは複合させてなる金属が用いられる。   Next, a reinforcing plate (SUS) having a thickness of 50 to 200 μm is bonded to one side of the thinly finished Si wear using, for example, a die attach film (DAF) as an adhesive layer. For the reinforcing plate (SUS), a metal made of C, Si, Mn, P, S, Ni, Cr or the like alone or in combination is used.

本発明におけるICチップは、Siウエハに補強板と貼り合わせた後にダイシングしICチップに個片化されるため、Siウエハ単独でダイシングした場合に比べて、その後の、例えばアンテナシートへの実装等の工程において、取り扱いが容易であり、ICチップの破損の可能性を低下させることが可能となる。   The IC chip in the present invention is diced after being bonded to the reinforcing plate on the Si wafer and separated into IC chips. Therefore, compared to the case where the Si wafer is diced alone, for example, mounting on an antenna sheet or the like thereafter. In this process, the handling is easy and the possibility of breakage of the IC chip can be reduced.

補強板の厚み及び材質は、IC媒体に加工した後のICチップ部分の衝撃強度だけでなく、ダイシングのし易さにも大きく影響する。衝撃強度を向上させるためには、補強板の厚みを厚くし、硬度を高める必要があるが、ダイシングの際の加工性を良好にするには、この硬度を調整する必要があり、400Hv以下が望ましい。   The thickness and material of the reinforcing plate greatly affect not only the impact strength of the IC chip portion after being processed into an IC medium, but also the ease of dicing. In order to improve the impact strength, it is necessary to increase the thickness of the reinforcing plate and increase the hardness. However, in order to improve the workability at the time of dicing, it is necessary to adjust the hardness, which is 400 Hv or less. desirable.

接着層の膜厚は5〜50μmが望ましい。接着層の組成については特に限定しないが、低温で処理が可能なものが望ましい。また、接着層は低弾性率のものが望ましく、具体的には弾性率が75MPa以下であると良い。これにより、接着層が柔らかく、クッション性に優れ、接着層が薄型化ICチップの強度を補強する役割も果たすことが可能となる。   The film thickness of the adhesive layer is desirably 5 to 50 μm. The composition of the adhesive layer is not particularly limited, but a material that can be processed at a low temperature is desirable. The adhesive layer preferably has a low elastic modulus, and specifically, the elastic modulus is preferably 75 MPa or less. Thereby, the adhesive layer is soft and excellent in cushioning properties, and the adhesive layer can also play a role of reinforcing the strength of the thinned IC chip.

また、貼り合わせを行うときにウエハにかかる温度はより低温(〜60℃)であることが望ましい。高温で貼り合わせを行うと、ウエハに反りが発生する場合があり、この反りがその後の処理工程で不具合を誘発させる原因になることがある。   Further, it is desirable that the temperature applied to the wafer when bonding is lower (˜60 ° C.). When bonding is performed at a high temperature, the wafer may be warped, and this warpage may cause a defect in a subsequent processing step.

貼り合わせにはラミネータを用いるが、このとき真空雰囲気で貼り合わせると、ボイドや貼りムラ等の不具合を抑えることが可能になる(大気雰囲気でも貼り合わせは可能である)。補強板の面積は、Siウエハの面積と同等若しくは若干大きくしておくと良い。これにより、Siウエハに補強板を貼り合わせる際に、若干のズレが生じても、個片化した際に全てのICチップが補強板に覆われていることになり、さらに外周からの衝撃からもSiウエハを保護する役目も果たす。   A laminator is used for bonding, but bonding in a vacuum atmosphere at this time can suppress problems such as voids and uneven bonding (bonding is also possible in an air atmosphere). The area of the reinforcing plate is preferably equal to or slightly larger than the area of the Si wafer. As a result, even if a slight deviation occurs when the reinforcing plate is bonded to the Si wafer, all the IC chips are covered with the reinforcing plate when separated into individual pieces, and further from the impact from the outer periphery. Also serves to protect the Si wafer.

そして、Siウエハに補強板を貼り合わせた積層体を、ダイシングテープ上に固定し、レーザを用いて、若しくはレーザ及びダイシングブレードを用いて、ダイシングすることによりチップ単位に個片化しICチップとする。ダイシングは、Siウエハに設けられているスクライブラインに沿って行うことが一般的である。   Then, the laminated body in which the reinforcing plate is bonded to the Si wafer is fixed on a dicing tape, and is diced using a laser or using a laser and a dicing blade, and is singulated into chip units to form an IC chip. . Dicing is generally performed along a scribe line provided on the Si wafer.

スクライブラインとは、SiウエハをICチップに個片化する際に、ダイシングする場所を示す溝であり、予めSiウエハのメーカーによりSiウエハに設けられている。スクライブラインの幅は、現在の技術水準においては、一般的に50〜120μmのものが存在し、問題なくICチップを得る為には、このスクライブラインの幅より狭くダイシングする必要がある。ただし、本発明におけるSiウエハのスクライブライン幅は上記のものに限定されず、いかなる幅のスクライブラインが設けられたSiウエハでも使用可能である。   The scribe line is a groove indicating a location where dicing is performed when the Si wafer is separated into IC chips, and is provided in advance on the Si wafer by the manufacturer of the Si wafer. In the current state of the art, the scribe line width is generally 50 to 120 μm, and in order to obtain an IC chip without any problem, it is necessary to dice narrower than the scribe line width. However, the scribe line width of the Si wafer in the present invention is not limited to the above, and an Si wafer provided with a scribe line of any width can be used.

ダイシングテープは基材と糊からなるが、基材の材料としては、本発明においては特に限定しないが、一般的に、PET、PO、PVC等が用いられおり、Siウエハのダイシングには、PO及びPVCが好適に用いられ、環境適正等を考慮すると、POを用いるのが望ましい。また、上記以外に、レーザダイシング専用のダイシングテープ等も使用可能である。   Although the dicing tape is composed of a base material and glue, the material of the base material is not particularly limited in the present invention, but generally PET, PO, PVC, etc. are used. For dicing a Si wafer, PO is used. And PVC are preferably used, and it is desirable to use PO in consideration of environmental suitability and the like. In addition to the above, a dicing tape dedicated to laser dicing can also be used.

ダイシングテープの厚みは、薄すぎるとダイシング中に破損してしまうため、破損しない程度の厚みが必要である。また、糊の接着性が弱いとダイシング中に積層体が微量ではあるが動いてしまい、加工不良が発生する可能性があるため、積層体が動かない程度の接着性が求められる。   If the thickness of the dicing tape is too thin, the dicing tape is damaged during dicing. In addition, if the adhesiveness of the glue is weak, the laminate moves in a small amount during dicing, and processing failure may occur. Therefore, the adhesiveness that does not move the laminate is required.

補強板は硬度が高いため、ダイシングブレードを用いてダイシングを行うと、ダイシングブレードのライフを短くし、ダイシングの際に発生する振動も大きい為、実際に部材に形成される溝の幅が、ダイシングブレードのブレード幅よりかなり広くなってしまうといった問題がある故、本発明においては、積層体のダイシングの内、少なくとも補強板のダイシングはレーザを用いて行う。   Since the reinforcing plate is high in hardness, dicing with a dicing blade shortens the life of the dicing blade, and the vibration generated during dicing is also large. In the present invention, at least the reinforcing plate is diced by using a laser in the present invention because there is a problem that the blade becomes considerably wider than the blade width.

図1に示した本発明におけるICチップの製造方法の一実施形態例においては、Siウエハ及び接着層のダイシングにはダイシングブレードを用い、補強板のダイシングにはレーザを用いている。   In the embodiment of the IC chip manufacturing method of the present invention shown in FIG. 1, a dicing blade is used for dicing the Si wafer and the adhesive layer, and a laser is used for dicing the reinforcing plate.

ここで、Siウエハ及び接着層をダイシングした工程で、残った接着層については、補強板をダイシングする工程において、同時にダイシングするものとする。   Here, in the process of dicing the Si wafer and the adhesive layer, the remaining adhesive layer is diced simultaneously in the process of dicing the reinforcing plate.

ダイシングブレードとしては、ブレード基材単体からなるものでも良いし、ブレード基材の表面に、微細な砥粒が多数設けられたものでも良い。このブレード基材の材料、若しくは砥粒の材料により、その切断特性が変化する。Siウエハ及び接着層のダイシングに用いるダイシングブレードは、ブレード基材の表面に砥粒が設けられたものを用いるのが好ましく、表面に設けられた砥粒としては、ダイヤモンドが特に好適に用いられる。   The dicing blade may be composed of a single blade base material, or may be one in which a large number of fine abrasive grains are provided on the surface of the blade base material. The cutting characteristics vary depending on the blade base material or the abrasive material. As the dicing blade used for dicing the Si wafer and the adhesive layer, it is preferable to use a blade substrate having abrasive grains provided on the surface thereof, and diamond is particularly preferably used as the abrasive grains provided on the surface.

機械の性能、オペレート等の影響を受けることにより、ダイシングブレードのブレード幅より、実際の部材の切断幅は広くなる。よって、Siウエハ用のダイシングブレードは、Siウエハのスクライブライン幅より狭いことが求められ、具体的には、10〜15μm程度狭いことが望ましい。   Due to the influence of machine performance, operation, etc., the actual cutting width of the member becomes wider than the blade width of the dicing blade. Therefore, the dicing blade for the Si wafer is required to be narrower than the scribe line width of the Si wafer, and specifically, it is preferably about 10 to 15 μm.

補強板のダイシングに用いるレーザのレーザ幅についても、前述したダイシングブレードにより形成したSiウエハの切断幅よりも狭いことが求められる。これは、Siウエハをダイシングしてできた溝に、補強板のダイシングに用いるレーザを挿入して補強板をダイシングするが、この際にレーザが、Siウエハに接触し、余計に切削することを防ぐためである。   The laser width of the laser used for dicing the reinforcing plate is also required to be narrower than the cutting width of the Si wafer formed by the dicing blade described above. This is because the reinforcing plate is diced by inserting a laser used for dicing the reinforcing plate into a groove formed by dicing the Si wafer. At this time, the laser contacts the Si wafer and cuts excessively. This is to prevent it.

しかしながらレーザは、ダイシングブレードと比較して、機械の振動等の影響を受け難いため、レーザ幅はSiウエハに形成された溝の幅より、5〜10μm程度狭ければ問題ない。   However, since the laser is less susceptible to mechanical vibration and the like than the dicing blade, there is no problem if the laser width is about 5 to 10 μm narrower than the width of the groove formed in the Si wafer.

レーザとしては、YAGレーザ(波長:1064nm近辺)、UVレーザ(波長:355nm近辺)、グリーンレーザ(波長532nm近辺)等のレーザが使用できる。本発明においては、上記以外の波長のレーザも使用することができ、特に限定しない。なお、用いることができるレーザは対象材料が波長の吸収があるか否かで決められ、補強板のダイシングには、グリーンレーザ若しくはUVレーザが好適である。また、上記のレーザを用いたウォータージェットレーザが特に好適に使用できる。   As the laser, a laser such as a YAG laser (wavelength: around 1064 nm), a UV laser (wavelength: around 355 nm), a green laser (around 532 nm) can be used. In the present invention, lasers having wavelengths other than those described above can be used, and are not particularly limited. The laser that can be used is determined by whether or not the target material has wavelength absorption, and a green laser or a UV laser is suitable for dicing the reinforcing plate. In addition, a water jet laser using the above laser can be particularly preferably used.

ウォータージェットレーザとは、集光したレーザを、水を細く噴射することにより形成したウォータージェットに導入し、ウォータージェット内にてレーザを反射させて誘導する技術である。   The water jet laser is a technique for introducing a focused laser beam into a water jet formed by thinly jetting water, and guiding the laser beam by reflecting the laser beam in the water jet.

ウォータージェットレーザは、水の作用効果により、切断される媒体の発熱を抑制させる効果があり、ダイシング時に発生する熱によりSiウエハ及び補強板に反りが発生するのを防止することが可能となる。   The water jet laser has an effect of suppressing the heat generation of the medium to be cut due to the action effect of water, and it is possible to prevent the Si wafer and the reinforcing plate from being warped by heat generated during dicing.

また、ダイシング時にはSiウエハ及び補強板の削りカスが発生し、これがSiウエハ表面に付着することにより、不良品の原因となるため、ダイシングの際にSiウエハの表面にコート剤を塗布し、ダイシング後にコート剤を除去する等の対策をとる必要があるが、ウォータージェットレーザを用いると、水の洗浄効果により、コート剤を塗布しなくとも、Siウエハ表面への削りカスの付着を防止することが可能となる。   In addition, scraping of the Si wafer and the reinforcing plate occurs during dicing, and this adheres to the surface of the Si wafer, causing defective products. Therefore, when dicing, a coating agent is applied to the surface of the Si wafer and dicing is performed. Although it is necessary to take measures such as removing the coating agent later, the use of a water jet laser prevents the adhesion of shavings to the surface of the Si wafer due to the water cleaning effect without applying the coating agent. Is possible.

また、ウォータージェットレーザは通常のレーザに比べて、焦点位置が多数存在するため、加工可能範囲が広く、加工時間も短縮される。   In addition, since the water jet laser has a larger number of focal positions than a normal laser, the processable range is wide and the processing time is shortened.

図2は、本発明におけるICチップの製造方法の別の実施形態例を示す図である。図2に示したICチップの製造方法は、積層体のダイシングを、全てレーザを用いて行っている以外は、図1に示した製造方法と同様である。また、レーザとしても、前述した如く、通常のレーザ、ウォータージェットレーザ等が使用可能である。   FIG. 2 is a diagram showing another embodiment of the IC chip manufacturing method according to the present invention. The manufacturing method of the IC chip shown in FIG. 2 is the same as the manufacturing method shown in FIG. 1 except that the dicing of the laminated body is all performed using a laser. As the laser, a normal laser, a water jet laser, or the like can be used as described above.

本発明におけるSiウエハ、接着層及び補強板からなる積層体のように、材質の異なる複数の部材からなる積層体のダイシングを、レーザを用いて行うには、各々のダイシングの対象部材に対応したレーザを用いて行う場合と、1つのレーザを用いて全体を一度にダイシングする場合があげられる。各々の対象部材のダイシングを異なる工程にて行うと、ダイシングの加工適正が向上するため、ダイシング面を綺麗に仕上げることが可能となる。一方で、1つのレーザを用いて全体を一度にダイシングすると、加工時間の短縮という効果が得られる。   In order to perform dicing of a laminated body made of a plurality of members made of different materials, such as a laminated body made of a Si wafer, an adhesive layer and a reinforcing plate in the present invention, using a laser, each dicing target member is supported. There are a case where a laser is used and a case where a whole is diced at once using a single laser. When dicing of each target member is performed in different steps, the dicing processing is improved, so that the dicing surface can be finished finely. On the other hand, if the whole is diced at once using one laser, the effect of shortening the processing time can be obtained.

対象部材毎に対応したレーザとは、具体的には、少なくとも波長帯が適したレーザであることが好ましく、この適した波長帯は対象部材毎に異なる場合がある。波長帯が適するとは、対象部材にその波長帯のレーザが効率的に吸収されることである。   Specifically, the laser corresponding to each target member is preferably a laser having at least a suitable wavelength band, and this suitable wavelength band may differ for each target member. Appropriate wavelength band means that the target member efficiently absorbs the laser of the wavelength band.

具体的には、Siウエハ及び補強板のダイシングには、グリーンレーザ若しくはUVレーザが好適に用いられる。接着層にはYAGレーザが最適である。よって、各部材のダイシングを、工程を分けて行う場合には、これらのレーザを切り替えて行えば良い。例えば、シリコンウエハをUVレーザでダイシングした後、接着層をYAGレーザでダイシングし、さらに補強板をUVレーザでダイシングする工程が挙げられる。ただし、本発明におけるレーザでのダイシング工程は、これに限定されるものではない。   Specifically, a green laser or a UV laser is preferably used for dicing the Si wafer and the reinforcing plate. A YAG laser is optimal for the adhesive layer. Therefore, when dicing of each member is performed by dividing the process, these lasers may be switched. For example, after the silicon wafer is diced with a UV laser, the adhesive layer is diced with a YAG laser, and the reinforcing plate is diced with a UV laser. However, the dicing process with a laser in the present invention is not limited to this.

また、接着層は、グリーンレーザ若しくはUVレーザを用いてもダイシングは可能であるため、1つのレーザを用いて積層体全体を一度にダイシングする場合には、グリーンレーザ若しくはUVレーザを用いることが好ましい。   In addition, since the adhesive layer can be diced using a green laser or a UV laser, it is preferable to use a green laser or a UV laser when dicing the entire laminate at once using one laser. .

複数の部材を一度にダイシングする場合には、その厚みに応じて、各々の部材を個別にダイシングする場合に比べて、レーザの出力を上げる必要があるが、出力を上げすぎると、シリコンウエハが破損する危険性がある故、適宜出力を調節して行う。   When dicing a plurality of members at a time, it is necessary to increase the laser output as compared to the case where each member is individually diced according to the thickness. Since there is a risk of damage, adjust the output accordingly.

図3は、本発明におけるICチップをアンテナシートに実装してなるインレットの実施形態例を示す図である。アンテナシートとは、非接触通信用のアンテナが、コイル若しくはエッチング等によりフィルム上に設けられた部材のことである。   FIG. 3 is a view showing an embodiment of an inlet formed by mounting an IC chip according to the present invention on an antenna sheet. An antenna sheet is a member in which an antenna for non-contact communication is provided on a film by a coil or etching.

ICチップのアンテナシートの実装は、絶縁性樹脂フィルム(NCF)又は異方性導電性樹脂フィルム(ACF)等の樹脂組成物を介して貼り合わせても良いし、超音波実装し、隙間をアンダーフィルで充填させても良く、その他公知の実装方法により行って良く、本発明においてはこの実装方法については特に限定しない。   The mounting of the IC chip antenna sheet may be performed through a resin composition such as an insulating resin film (NCF) or an anisotropic conductive resin film (ACF), or it may be ultrasonically mounted and the gap will be It may be filled with a fill, or may be performed by other known mounting methods, and the mounting method is not particularly limited in the present invention.

また、図示しないが、電気的安定性を高める為に、ICチップ部分の厚みに影響を及ぼさない範囲で、ICチップの側面を樹脂等により封止しても良い。   Although not shown, the side surface of the IC chip may be sealed with a resin or the like within a range that does not affect the thickness of the IC chip portion in order to increase electrical stability.

図3(a)に示した如く、図1及び図2を用いて説明した本発明におけるICチップの製造方法を用いて得られたICチップは、上述した如くSiウエハが薄型化されており、更に補強板が既に積層されている故、アンテナシートに実装してインレットを形成する際に、樹脂封止した上に補強板を積層する必要がなく、インレットのICチップ部分の厚みを抑えることが可能となる。   As shown in FIG. 3A, the IC chip obtained by using the IC chip manufacturing method of the present invention described with reference to FIGS. 1 and 2 has a thin Si wafer as described above. Furthermore, since the reinforcing plate is already laminated, when forming the inlet by mounting on the antenna sheet, it is not necessary to laminate the reinforcing plate on the resin seal, and the thickness of the IC chip portion of the inlet can be suppressed. It becomes possible.

図3(a)に示した実装形態の場合には、Siウエハより、補強板を厚くすることが望ましく、本発明の構造とすることにより、全体としては薄型化を実現しながらも、補強板の厚みは従来よりも厚くすることが可能である故、ICチップ部分の強度を向上させることが可能となる。   In the case of the mounting form shown in FIG. 3 (a), it is desirable to make the reinforcing plate thicker than the Si wafer. By adopting the structure of the present invention, the reinforcing plate can be made thin as a whole. Therefore, the strength of the IC chip portion can be improved.

また、ICチップ部分に更なる強度が求められる場合には、図3(b)に示した如く、アンテナシートのICチップ積層部分の裏側に、接着層を介して補強板を積層しても良い。この場合であっても、従来のICチップ部分の表裏を樹脂封止して補強板を積層したインレットと比較して、ICチップ部分を薄くすることが可能である。   If further strength is required for the IC chip portion, a reinforcing plate may be laminated on the back side of the IC chip laminated portion of the antenna sheet via an adhesive layer as shown in FIG. . Even in this case, it is possible to make the IC chip portion thinner as compared with the conventional inlet in which the front and back surfaces of the IC chip portion are sealed with resin and a reinforcing plate is laminated.

図3(b)に示した実装形態の場合には、表裏いずれかの補強板を、Siウエハより厚くすることが望ましく、これにより、全体としては薄型化を実現しながらも、ICチップ部分の強度を向上させることが可能となる。   In the case of the mounting form shown in FIG. 3 (b), it is desirable to make the reinforcing plate on either the front or back side thicker than the Si wafer. Strength can be improved.

1・・・ICチップ
2・・・シリコンウエハ
3・・・接着層
4・・・補強板
5・・・ダイシングテープ
6・・・レーザ
7・・・ダイシングブレード
8・・・アンテナシート
9・・・封止樹脂
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... IC chip 2 ... Silicon wafer 3 ... Adhesion layer 4 ... Reinforcement plate 5 ... Dicing tape 6 ... Laser 7 ... Dicing blade 8 ... Antenna sheet 9 ...・ Sealing resin

集積回路及び接続端子が形成され、幅70μmのスクライブラインが設けられた厚さ80μmのシリコンウエハの片面に、接着層として厚さ30μmのDAF材を介して、補強板として厚さ70μmのSUS板を貼り合せて積層体を形成した。そして、POからなるダイシングテープ上に、補強板がダイシングテープと接するように積層体を固定し、砥粒として、ダイヤモンドが設けられた厚さ60μmのダイシングブレードを用いて、シリコンウエハ及び接着層をダイシングした。その後、10W、160kHzのUVレーザを、水圧10Mpaのウォータージェットに誘導したウォータージェットレーザを用い、シリコンウエハのダイシング溝に合わせて補強板をダイシングすることにより、個片化してICチップを得た。得られたICチップは、破損もなく、ダイシング面も滑らかであった。   A 70 μm thick SUS plate as a reinforcing plate is formed on one side of an 80 μm thick silicon wafer on which an integrated circuit and connection terminals are formed and a scribe line having a width of 70 μm is provided via a DAF material having a thickness of 30 μm as an adhesive layer. Were laminated to form a laminate. Then, the laminated body is fixed on the dicing tape made of PO so that the reinforcing plate is in contact with the dicing tape, and the silicon wafer and the adhesive layer are bonded using a 60 μm thick dicing blade provided with diamond as abrasive grains. Dicing. Then, using a water jet laser in which a 10 W, 160 kHz UV laser was guided to a water jet with a water pressure of 10 Mpa, the reinforcing plate was diced in accordance with the dicing grooves of the silicon wafer to obtain individual IC chips. The obtained IC chip was not damaged and the dicing surface was smooth.

Claims (2)

集積回路が形成されたシリコンウエハの片面に接着層を介して補強板を貼り合わせた積層体を形成する工程と、
該積層体をダイシングし、ICチップに個片化する工程と、を有し、
該積層体をダイシングする工程のうち、前記シリコンウエハ、前記接着層及び前記補強板の全てのダイシングにレーザを用い、
少なくとも前記シリコンウエハ及び前記補強板のダイシングにはグリーンレーザ若しくはUVレーザを用い、前記接着層のダイシングにはYAGレーザを用いることを特徴とするICチップの製造方法。
Forming a laminate in which a reinforcing plate is bonded to one side of a silicon wafer on which an integrated circuit is formed via an adhesive layer;
Dicing the laminate and dividing it into IC chips,
Among the steps of dicing the laminate , a laser is used for dicing all of the silicon wafer, the adhesive layer, and the reinforcing plate,
An IC chip manufacturing method , wherein a green laser or a UV laser is used for dicing at least the silicon wafer and the reinforcing plate, and a YAG laser is used for dicing the adhesive layer .
前記レーザは、ウォータージェットレーザであることを特徴とする請求項に記載のICチップの製造方法。 2. The IC chip manufacturing method according to claim 1 , wherein the laser is a water jet laser.
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