JP5375280B2 - 電気光学装置の製造方法、製造装置 - Google Patents

Description

本発明は、電気光学装置の製造方法、および当該製造方法に適合した製造装置に関する。

液晶表示装置や、有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置などの電気光学装置は、２枚のガラス基板間に、液晶や、有機ＥＬ（Electro Luminescence）などの電気光学物質を挟持した表示パネルを主体として構成されていた。
この表示パネルは、基本的に２枚のガラス基板を貼り合せた構成であるため、例えば、ブラウン管などよりも薄型化が容易であり、薄型テレビや、携帯電話などに多用されている。

既に、表示パネルの厚さが０．５ｍｍ程度の液晶表示装置も上市されているが、常に携帯することを想定した携帯電話や、ＩＤ（Identification）カードなどに用いられる表示パネルには、更なる薄型化が求められていた。
例えば、特許文献１には、複数の表示パネルが面付けされた大判パネルに対して、表裏両面からエッチング溶液を吹付けることにより、大判パネルを薄型化する製造装置が開示されている。

図１０は、当該製造装置３００の概要を示す図であり、２枚のガラス基板を貼り合せた構造の大判パネル２０が略鉛直（Ｙ軸方向）に立った状態で配置されている。そして、大判パネル２０の表面に対して略平行に、エッチング溶液を供給するための複数の配管５０が等間隔で配置されている。また、大判パネル２０の裏面においても同様であった。配管５０には、複数のノズル５１が形成されており、各ノズル５１からエッチング溶液が大判パネル２０の表裏両面にそれぞれ噴射される構成となっていた。また、エッチングによる平坦性を高めるために、エッチング溶液の噴射中において、矢印で示すように、大判パネル２０を左右（Ｘ軸方向）や、上下（Ｙ軸方向）に動かしても良いとの記載もある。

特許第３７４１７０８号公報

しかしながら、特許文献１（従来）の製造装置でエッチングを行うと、図１１（ａ）に示すように、大判パネル２０における上側（Ｙ軸（＋）側）の厚さｗ１１が、下側（Ｙ軸（−）側）の厚さｗ１２よりも厚くなってしまうという課題があった。換言すれば、大判パネル２０を均一に薄くすることが困難であるという課題があった。
これは、略鉛直に立った状態の大判パネル２０にエッチング溶液を吹き付けると、重力の関係上、エッチング溶液に浸される度合（以降、「エッチング度合」ともいう）が、上側よりも下側の方が多くなり、下側（地面側）におけるエッチング量が増えてしまうからである。図１１（ｂ）は、エッチング度合を模式的に示した図であり、ハッチングで示すように、下側の端面に近づく程、向い合うノズル５１から吹き付けられるエッチング溶液に、パネル面を伝って流れて来る上方で噴射されたエッチング溶液が加わることになるため、エッチング度合が高まることになる。また、この現象は、エッチング溶液の噴射中に、大判パネル２０を上下左右に移動したとしても、重力方向は同一であるため、同様に発生していた。
つまり、従来の製造装置（方法）では、均一な厚さの薄型表示パネルを得ることが困難であるという課題があった。換言すれば、ガラス基板を均一にエッチングすることは困難であるという課題があった。

本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の適用例又は形態として実現することが可能である。

（適用例）
ガラス基板を備えた電気光学装置の製造方法であって、（ａ）ガラス基板を略鉛直に立った状態で配置する工程と、（ｂ）ガラス基板における少なくとも一方の面へのエッチング溶液の吹付け、または、滴下を開始する工程と、（ｃ）ガラス基板を一方の面に沿って立った状態で回転させる工程と、を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。

この製造方法によれば、ガラス基板は、エッチング溶液が附着した状態、または、吹付け（滴下）が行われている状態で回転することになり、これらのエッチング溶液は、一方の面において回転にともない重力方向に流れることになる。
よって、この製造方法によれば、常に重力方向が一定であったためエッチング度合に偏りが生じていた従来の製造方法よりも、回転によりエッチング度合を均一化することができる。
従って、ガラス基板を均一にエッチングすることが可能な電気光学装置の製造方法を提供することができる。

また、電気光学装置は、ガラス基板を第１ガラス基板としたときに、第１ガラス基板と向い合う第２ガラス基板をさらに有し、第１ガラス基板と第２ガラス基板とを貼り合せるとともに、第１ガラス基板および第２ガラス基板の間に電気光学層を挟持した表示パネルから構成されてなり、（ａ）工程においては、表示パネルを立った状態に配置し、（ｂ）工程においては、表示パネルの表裏両面に、エッチング溶液の吹付け、または、滴下を開始し、（ｃ）工程においては、表示パネルを立った状態で回転させることが好ましい。
また、表示パネルを複数個面付けした大判パネルの状態で、（ａ）〜（ｃ）工程を行うことが好ましい。
また、吹付けは、複数のノズルから大判パネルの全面に略均一な量吹付けされることが好ましい。

また、滴下は、大判パネルにおける上側の一辺に沿って略均一な量滴下されることが好ましい。
また、（ｂ）工程は、吹付けを行う吹付け工程と、滴下を行う滴下工程とを含むとともに、（ｃ）工程においても継続して行われ、（ｂ）工程を開始すると、吹付け工程を行い、吹付け工程を開始してから所定の時間経過すると、吹付け工程から滴下工程に切り換えることが好ましい。
また、所定の時間は、表示パネルの厚さが０．３〜０．１ｍｍの範囲内となる時間であることが好ましい。
また、（ｃ）工程における回転の速度は、１〜２０ｒｐｍの範囲内であることが好ましい。

電気光学装置に用いられるガラス基板をエッチングするための製造装置であって、ガラス基板を略鉛直に立った状態で保持する支持フレームと、ガラス基板における少なくとも一方の面にエッチング溶液を吹付けるための一方の面に対向して配置された複数のノズルと、支持フレームを一方の面に沿って立った状態で回転させる回転機構とを、少なくとも備えることを特徴とする電気光学装置の製造装置。
対向する２枚のガラス基板を貼り合せるとともに、２枚のガラス基板の間に電気光学層を挟持した表示パネルを複数個面付けした大判パネルの状態で、大判パネルの表裏両面をエッチングするための製造装置であって、大判パネルを略鉛直に立った状態で保持する支持フレームと、大判パネルの表面にエッチング溶液を吹付けるための表面に対向して配置された複数の第１ノズルと、大判パネルの裏面にエッチング溶液を吹付けるための裏面に対向して配置された複数の第２ノズルと、支持フレームを表面に沿って立った状態で回転させる回転機構とを、少なくとも備えることを特徴とする電気光学装置の製造装置。
また、ガラス基板における上側の一辺、または大判パネルにおける上側の一辺に沿ってエッチング溶液を滴下するための滴下機構をさらに備えることが好ましい。

実施形態１に係る大判パネルの一態様を示す斜視図。 図１のｐ−ｐ断面図。 製造装置の概要図。 （ａ）製造装置の正面図、（ｂ）（ａ）のｑ−ｑ断面における側断面図。 エッチング溶液の噴射態様を示す図。 表示パネルの製造方法の流れを示すフローチャート図。 実施形態２に係る製造装置の概要図。 製造装置の側断面図。 表示パネルの製造方法の流れを示すフローチャート図。 従来の製造装置の概要図。 （ａ）従来のエッチング態様を示す側面図、（ｂ）従来のエッチング度合を模式的に示した図。

以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の各図においては、各層や各部位を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部位の縮尺を実際とは異ならしめてある。

（実施形態１）
「表示パネルの概要」
図１は、本実施形態に係る大判パネルの一態様を示す斜視図である。図２は、図１におけるｐ−ｐ断面図である。
まず、本発明の実施形態１に係る電気光学装置を構成する表示パネル（大判パネル）の概要について説明する。なお、図１０と同一の部位については、同一の番号を附している。

大判パネル２０には、表示パネル１８が４つ面付けされている。表示パネル１８は、本実施形態の電気光学装置としての有機ＥＬ表示装置における主要な構成部位である。なお、有機ＥＬ表示装置は、表示パネル１８を後述する製造方法を用いて薄く加工した後、１個ずつに分断して形成される。
表示パネル１８は、横長の長方形をなしており、図１を含む各図においては、当該横方向をＸ軸方向とし、横方向よりも短い縦方向をＹ軸方向と定義している。また、表示パネル１８の厚さ方向をＺ軸方向としている。
４個の表示パネル１８は、大判パネル２０においてＸ軸方向に２列、Ｙ軸方向に２行の行列をなして配置されている。よって、大判パネル２０は、横長の長方形をなしている。なお、ここでは説明を容易にするために、２行２列の事例を用いて説明するが、面付け数は、いくつであっても良い。例えば、１個であっても良いし、５個以上であっても良い。

大判パネル２０は、素子基板１と対向基板１６とを貼り合せた構成となっており、各表示パネル１８は、シール材１５で区画されている。なお、以降の説明において、大判パネル２０における対向基板１６側の面を表面、素子基板１側の面を裏面ともいう。
各表示パネル１８において、平面的にシール材１５で区画された領域内は、表示領域となっている。表示領域には、複数の画素がマトリックス状に配置されている。
表示パネル１８は、複数の画素から出射される表示光を表面から出射するトップエミッション型の構成となっている。
また、大判パネルのサイズは、好適例として、横５００ｍｍ×縦４００ｍｍのサイズを用いている。なお、このサイズに限定するものではなく、例えば、横２２００ｍｍ×縦１８００ｍｍなどの一辺の長さが１ｍを超える大判パネルであっても良い。

図２において、表示パネル１８は、素子基板１、素子層２、平坦化層４、画素電極６、隔壁７、電気光学層としての有機ＥＬ層８、共通電極９、電極保護層１０、緩衝層１１、ガスバリア層１２、充填材１３、ＣＦ層１４、対向基板１６などから構成されている。
素子基板１は、透明な無機ガラスから構成されている。本実施形態では、好適例として、厚さが０．３〜０．７ｍｍ程度の無アルカリガラスを用いている。
素子層２には、各画素をアクティブ駆動するための画素回路が形成されている。画素回路には、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）からなる画素を選択するための選択トランジスターや、有機ＥＬ層８に電流を流すための駆動トランジスター３などが含まれており、画素ごとに対応して形成されている。

素子層２の上層（Ｚ軸（−）方向）には、例えば、アクリル樹脂などからなる絶縁層である平坦化層４が形成されている。
平坦化層４の上層には、画素ごとに区画されて、反射層５と、画素電極６とがこの順番で積層されている。反射層５は、例えば、アルミニウムなどからなる反射層であり、有機ＥＬ層８から素子基板１側に向かう光を反射して、表示に寄与する光にする。
画素電極６は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）や、ＺｎＯなどの透明電極から構成されており、画素ごとに素子層２の駆動トランジスター３のドレイン端子と平坦化層４を貫通するコンタクトホールにより接続されている。
隔壁７は、光硬化性の黒色樹脂などから構成され、平面的に各画素を格子状に区画している。なお、素子層２における駆動トランジスター３を含む画素回路は、光による誤動作を防止するために、平面的に隔壁と重なるように配置されている。

有機ＥＬ層８は、画素電極６、および隔壁７を覆って形成されている。また、図２においては一層の構成となっているが、実際は、それぞれが有機物の薄膜からなる正孔輸送層、発光層、電子注入層などから構成されており、画素電極６上にこの順番に積層されている。正孔輸送層は、芳香族ジアミン（ＴＰＡＢ２Ｍｅ−ＴＰＤ，α−ＮＰＤ）などの昇華性の材料から構成されている。発光層は、白色光を放射する有機材料薄膜から構成されている。電子注入層は、ＬｉＦ（フッ化リチウム）などから構成されている。
共通電極９は、ＭｇＡｇなどの金属を、光を透過するようにごく薄く成膜した金属薄膜層である。

電極保護層１０は、ＳｉＯ₂や、Ｓｉ₃Ｎ₄などの透明で、かつ、水分を遮断する機能を有する材質から構成されている。
緩衝層１１は、熱硬化性のエポキシ樹脂などの透明な有機緩衝層である。
ガスバリア層１２は、ＳｉＯ₂や、Ｓｉ₃Ｎ₄などの透明で、かつ、水分を遮断する機能を有する封止層であり、有機ＥＬ層８への水分の浸入を防止する機能を担う。
充填材１３は、例えば、熱硬化性のエポキシ樹脂などからなる透明な接着層であり、ガスバリア層１２とＣＦ層１４との間の凹凸面に充填されるとともに、両者を接着する。また、外部から、有機ＥＬ層８への水分の浸入を防ぐ機能も果たす。

対向基板１６は、素子基板１と同様な無機ガラスから構成されており、有機ＥＬ層８側（Ｚ軸（＋）側）には、ＣＦ層１４が形成されている。
ＣＦ層１４には、赤色カラーフィルター１４ｒ、緑色カラーフィルター１４ｇ、青色カラーフィルター１４ｂが画素配置と同様に配置されている。詳しくは、各色のカラーフィルターは、それぞれが対応する画素電極６と重なるように配置されており、各カラーフィルター間には、ハッチングで示した遮光部が形成されている。遮光部は、平面的に隔壁７と重なるように格子状に形成されており、光学的には、ブラックマトリックスの機能を果たす。

このように構成された各画素からは、カラーフィルターの色調に対応した表示光が出射される。例えば、赤色画素の場合、有機ＥＬ層８で放射された白色光は、赤色カラーフィルター１４ｒによって赤色光が選択されて、赤色の表示光として対向基板１６から出射される。また、緑色、青色の画素においても同様である。
これにより、表示パネル１８では、対向基板１６から出射される複数のカラー画素からの表示光によりフルカラーの画像が表示されることになる。
なお、表示パネル１８の構成は、トップエミッション型に限定するものではなく、２枚のガラス基板間に、電気光学層を挟持した構成であれば良い。例えば、有機ＥＬ層８が発する光を素子基板１側から出射するボトムエミッション型の有機ＥＬ表示装置であっても良い。また、無機ＥＬを光源として備えた無機ＥＬ表示装置であっても良い。

「製造装置（方法）の概要」
図３は、本実施形態に係る製造装置の概要を示す図であり、図１０に対応している。
ここでは、本実施形態に係る製造装置の概要について、図３を用いて説明する。なお、図１０と同様な構成部位については、同じ番号を附している。
製造装置１００は、大判パネル２０の表裏面にエッチング溶液を吹付ける際に、大判パネル２０を回転させるための回転機構６０を備えている。回転機構６０は、略鉛直（Ｙ軸方向）に立った状態で配置された大判パネル２０を、矢印で示すように、一方の面としての表面（対向基板１６側の面）に沿って、回転軸Ｒｓを中心にして、時計方向に回転させるための回転機構である。また、回転軸Ｒｓは、大判パネル２０における対角線の交点である中心Ｃｅを通り、表面に対して略垂直な線分である。なお、回転機構６０の詳細については後述するが、この回転機構６０を備えていることが、図１０の製造装置３００と異なる。

図３に示すように、製造装置１００は、大判パネル２０の表面に対して略平行に、エッチング溶液を供給するための複数の配管５０を備えている。複数の配管５０は、それぞれが略鉛直方向に延在するとともに、略等間隔に配列されている。各配管５０における大判パネル２０側には、複数のノズル５１が形成されている。
ノズル５１は、配管５０に流れるエッチング溶液をシャワー状に噴射するためのノズルであり、エッチング溶液は、図３に示すように、円錐状に拡大して噴射され、当該円錐の底面における略円形状をなして大判パネル２０の表面に吹付けられる。なお、この略円形状の領域を噴射領域という。
複数のノズル５１は、大判パネル２０の表面に対して満遍なくエッチング溶液が吹付けられるように、各噴射領域が周縁部で重なるように配置されている。換言すれば、大判パネル２０の表面が複数の噴射領域によって覆われるように、複数のノズル５１が配置されている。なお、図３では、構成を解り易くするために、図面の手前方向（Ｘ軸（−）方向）における配管５０の記載を省略している。

また、製造装置１００は、大判パネル２０の裏面（素子基板１側の面）と対向する側にも、同様な複数の配管５０を備えている。
つまり、製造装置１００は、大判パネル２０の表裏両面に対して、それぞれエッチング溶液を吹付け可能に形成されている。
そして、大判パネル２０の表裏両面にエッチング溶液が吹付けられているときに、回転機構６０によって、大判パネル２０が回転される。
ここで、大判パネル２０は、略鉛直に立った状態で表面（裏面）に沿って回転するため、吹付けられたエッチング溶液は、表面（裏面）において、回転に伴う重力方向の変化に従って、流れ落ちることになる。
このように、本実施形態に係る製造方法は、大判パネル２０にエッチング溶液が吹付けられているときに、略鉛直に立った状態の大判パネル２０を表面（裏面）に沿って回転させることを特徴としている。

「製造装置の詳細な構成」
図４（ａ）は、本実施形態に係る製造装置の正面図であり、大判パネル２０と正対した状態で一部形状を省略して図示している。図４（ｂ）は、（ａ）のｑ−ｑ断面における側断面図である。
ここでは、製造装置１００の詳細な構成について、図４を用いて説明する。
製造装置１００は、外部に対する気密性を確保したチャンバー７０内にて、大判パネル２０にエッチング処理を施し、大判パネル２０を薄型化するためのチャンバー装置である。なお、以下の説明において、大判パネル２０の中心Ｃｅを基点として、Ｙ軸（＋）側を上側、Ｙ軸（−）側を下側とし、Ｘ軸（＋）側を右側、Ｘ軸（−）側を左側として説明する。

製造装置１００は、チャンバー７０、支持フレームとしてのリム６１、回転機構６０、溶液供給本管５２、配管５０などから構成されている。
チャンバー７０は、外部に対して内気を気密にすることが可能なエアーチャンバーであり、内部気圧、および温度を調整可能に設けられている。また、チャンバー７０は、開閉可能な搬入口７１と、搬出口７２とを備えている。
大判パネル２０は、後述するリム６１に固定された状態で搬入口７１からチャンバー７０内に搬入され、エッチング処理が施された後、搬出口７２から搬出される。なお、図示を省略しているが、チャンバー７０には、エッチング溶液の気化物を専用の処理装置に導くための排気ダクトや、底部７３側に溜るエッチング溶液の廃液を回収するための廃液管などが配管されている。また、廃液が効率良く廃液管に導かれるように、チャンバー７０の底部７３は、漏斗状（先細）に形成されている。

リム６１は、リング状の支持フレームであり、その内周には、大判パネル２０を保持するための複数の支持アーム６４，６５，６６が備えられている。また、リム６１の直径は、大判パネル２０の対角線よりも少し長く設定している。
支持アーム６４は、リム６１の内周からＹ軸方向に沿って延在しており、大判パネル２０の上側の辺、または下側の辺を支持している。また、側面においては、図４（ｂ）に示すように、大判パネル２０の表面側に配置された支持アーム６４ａと、裏面側に配置された支持アーム６４ｂとの２本の支持アームから構成されており、当該２つの支持アームの先端部で大判パネル２０の周縁部を挟持している。
支持アーム６５は、リム６１の内周からＸ軸方向に沿って延在していることと、大判パネル２０の左右の辺を支持していること以外は、支持アーム６４の構成と同様である。

また、各支持アーム６４，６５の先端部は、図４（ａ）に示すように、アーム部よりも幅広のパッド形状となっている。当該パッド形状は、平面的には略正方形、または円形をなし、相応の厚さを有している。図４（ｂ）に示すように、幅広の表裏面のパッドによって、大判パネルを挟持することにより、大判パネル２０に局所的な応力が加わることを防止している。
支持アーム６６は、支持アーム６４と支持アーム６５とを組み合せた構成を有しており、当該２つの支持アームの先端部を一体化している。換言すれば、支持アーム６６は、一体化された先端部を直角の頂点とし、支持アーム６４と支持アーム６５とを当該直角を挟む２辺とした直角三角形をなしており、大判パネル２０の角部を支持している。

図４（ａ）では、好適例として、大判パネル２０の上下の辺をそれぞれ２ヶ所ずつ支持アーム６４で保持し、左右の辺をそれぞれ１ヶ所ずつ支持アーム６５で保持している。そして、大判パネル２０の４隅を支持アーム６６で支持している。つまり、大判パネル２０の外周部を１０ヶ所で保持している。
なお、この支持構造に限定するものではなく、リム６１の回転時にもしっかりと大判パネル２０を保持することが可能な支持構造であれば良く、例えば、大判パネル２０の４隅を４つの支持アーム６６のみで支持する構成であっても良い。

また、大判パネル２０をリム６１にセットする際には、保持される部分がエッチング溶液によって侵されないように、マスキング処理を施す。好適には、大判パネル２０の４つの端面（側面）を含む外周部に、マスキングテープ２１を貼り付けておく。
マスキングテープ２１は、エッチング溶液に侵されない耐性材料から構成されている。本実施形態では、エッチング溶液としてフッ酸溶液を用いるため、フッ酸に対する耐性を持つ耐性材料を用いる。耐性材料としては、例えば、テフロン（登録商標）などのフッ素系樹脂や、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）などの樹脂シート部材を基材としたテープを用いる。また、テーピングによるマスキング処理に限定するものではなく、これらの樹脂を大判パネル２０の周縁部にコーティングすることであっても良い。
大判パネル２０がセットされたリム６１は、搬入口７１からチャンバー７０内に搬入され、回転機構６０の一構成部位であるローラー６２の上に配置される。

回転機構６０は、ローラー６２、倒れ防止部６７などから構成されている。
ローラー６２は、ローラー６２ａ、ローラー６２ｂ、ローラー６２ｃの３つのローラーから構成されている。３つのローラーは、リム６１の外輪に沿って配置されており、搬入口７１側から搬出口７２に向かって、ローラー６２ａ、ローラー６２ｂ、ローラー６２ｃの順に配置されている。ローラー６２ａ，６２ｂ，６２ｃは、それぞれチャンバー７０の底部７３に形成された台座７４ａ，７４ｂ，７４ｃ上に配置されている。
このうち、駆動モーター（図示せず）によって回転駆動される動輪は、リム６１を最も底部で支えるローラー６２ｂとしている。
ローラー６２ｂの左右における上側（Ｙ軸（＋）側）に配置されたローラー６２ａ、およびローラー６２ｃは、動力のない補助ローラーであり、リム６１がＸ軸（＋）方向に転んで行かないように保持している。換言すれば、ローラー６２ａ，６２ｂ，６２ｃの各回転中心を結ぶ逆三角形６３内にリム６１を収めて、リム６１が回転軸Ｒｓを中心にして回転するように、支持している。

なお、好適例としてローラー６２ｂを動輪として説明したが、３つのローラーのうち、少なくとも１つが動輪となっていれば良い。例えば、ローラー６２ａ、または、ローラー６２ｃのみが動輪であっても良いし、３つのローラー全てが動輪という構成であっても良い。また、２つ以上動輪がある場合には、それらの回転を同期させることが好ましい。
倒れ防止部６７は、図４（ｂ）に示すように、Ｚ軸方向にリム６１が倒れることを防止するための支持部材であり、チャンバー７０の上側と下側とにそれぞれ配置されている。上側の倒れ防止部６７は、チャンバー７０の天井から突出して形成され、リム６１の上側の周縁部を両サイドから挟むように配置された２本の支柱から構成されている。下側の倒れ防止部６７は、台座７４ｂ上に形成され、リム６１の下側の周縁部を両サイドから挟むように配置された２本の支柱から構成されている。

リム６１や、回転機構６０を構成する各部位の表面も、前述した耐性材料から構成されている。好適には、リム６１や、ローラー６２は、アルミニウムや、ステンレスなどの金属を芯材として、その周囲に耐性材料（樹脂）を被覆した構成となっている。このような構成物は、例えば、インサート成型法によって、形成することができる。
また、同様に、支持アーム６４，６５，６６も金属を芯材としてその周囲に耐性材料（樹脂）を被覆した構成であっても良いし、金属材料を主体としてその表面に耐性材料をコーティングした部材を使用しても良い。
倒れ防止部６７は、ポリプロピレン、またはポリエチレンを射出成型して形成される。また、台座７４など、チャンバー７０内におけるこれらの部位以外の各部位についても、同様に、その表面には耐性材料が形成されている。

溶液供給本管５２は、チャンバー７０内の上側に配置されており、エッチング溶液を複数の配管５０に分配する本管である。本実施形態では、好適例として、１０〜５０ｗｔ％範囲内の濃度のフッ酸（フッ化水素酸）をエッチング溶液（水溶液）として用いている。
複数の配管５０は、溶液供給本管５２から分岐され、それぞれがＹ軸に沿って下側に延在している。図４（ａ）では、６本の配管５０が大判パネル２０と重なって略等間隔に配置されている。なお、当該図面では、大判パネル２０の裏面側に配置された溶液供給本管５２、および配管５０が示されているが、表面側にも同様の構成が設けられている。
溶液供給本管５２、および配管５０は、ポリプロピレン、またはポリエチレン製のパイプから構成されている。また、エッチング溶液は、２５℃を中心値として、２０±１０℃の範囲内で温度管理されている。

図４（ｂ）に示すように、複数の配管５０は、それぞれ大判パネル２０の表面、または裏面に沿って略平行に配置されている。また、大判パネル２０の表面、または裏面と対向する部分には、複数のノズル５１がＹ軸に沿って略等間隔に配置されている。
詳しくは、大判パネル２０の表面（対向基板１６側）と向い合う配管５０には、第１ノズルとしての５つのノズル５１が形成されている。大判パネル２０の裏面と向い合う配管５０には、第２ノズルとしての５つのノズル５１が形成されている。
各ノズル５１からは、エッチング溶液が円錐状に噴射される。

図５は、エッチング溶液の噴射態様を示す図であり、図４（ａ）に対応している。
図５では、大判パネル２０の表面において一つのノズル５１から噴射されるエッチング溶液が吹付けられる領域を噴射領域ｄとして示している。
各噴射領域ｄは、隣り合う噴射領域ｄと、その周縁部が重なっている。また、大判パネル２０の表面は、複数の噴射領域ｄによって満遍に覆われている。換言すれば、図４で説明した複数の配管５０、およびノズル５１の位置は、複数の噴射領域ｄにより、大判パネル２０の表面を満遍に覆うことができるように配置されている。
図５では、図４（ａ）の態様から、大判パネル２０が９０°回転した状態を示しているが、この状態においても、大判パネル２０の表面が複数の噴射領域ｄによって覆われている。つまり、大判パネル２０において最も長い対角線の部分も噴射領域ｄによって覆われている。換言すれば、リム６１の内周部の略全域が噴射領域ｄによって覆われている。
よって、リム６１が回転した場合であっても、大判パネル２０の表面（裏面）は、その全面が満遍（隙間）なく噴射領域ｄによって覆われることになる。

図４（ｂ）に戻る。
また、ノズル５１からのエッチング溶液の噴射時の圧力は、大判パネル２０の表面（裏面）にエッチング溶液が十分に届く圧力であれば良いが、好適例としては、０．０２５〜０．０９８ＭＰａの範囲内に設定する。なお、エッチングの初期段階においては、ガラス基板の厚さが約０．３ｍｍ以上あり、強度があるので、約０．０９８ＭＰａとし、エッチングが進行して薄くなるのにともなって、圧力を弱めることが好ましい。

「表示（大判）パネルの製造方法」
図６は、表示（大判）パネルの製造方法の流れを示すフローチャートである。
ここでは、図４で説明した製造装置１００による表示（大判）パネルの製造方法について、図６のフローチャートに沿って詳細に説明する。

ステップＳ１では、大判パネル２０が装着されたリム６１をチャンバー７０内にセットする。つまり、略鉛直に立った状態の大判パネル２０をチャンバー７０内にセットする。
ステップＳ２では、製造装置１００の計時部により計時を開始する。なお、計時の開始は、ステップＳ３のエッチング溶液吹付け開始時点と同期させることが好ましい。
ステップＳ３では、各ノズル５１からのエッチング溶液の吹付けを開始する。
ステップＳ４では、ローラー６２ｂを駆動して、リム６１（大判パネル２０）を回転させる。また、このときの回転速度は、例えば、１０ｒｐｍとする。なお、回転速度は、大判パネル２０のサイズや、エッチング量などに応じて、１〜２０ｒｐｍの範囲内で適宜設定することができる。
ステップＳ５では、計時開始から時間ｔ１が経過したか判断する。時間ｔ１を経過していない場合（S5:No）は、引き続きエッチング溶液の吹付け、および回転を継続しながら、時間ｔ１となるのを待ち受ける。時間ｔ１を経過した場合（S5:Yes）は、エッチング溶液の吹付け、および回転を終了する。換言すれば、エッチング処理を終了する。

なお、時間ｔ１は、様々な大判パネルサイズや、エッチング量による複数の実験データに基づいて導出されたものであり、製造装置１００にあらかじめ記憶されている。
また、時間ｔ１に達するまでの間において、ステップＳ３では、エッチング溶液の吐出圧力を、開始時点からの時間経過にともない逓減させても良い。これによれば、エッチングが進んで薄くなった基板が割れることを抑制することができる。
また、ステップＳ４では、リム６１の回転速度を変化させたり、時計回りから反時計回りに逆転させても良い。これによれば、大判パネルの表面（裏面）におけるエッチング溶液の流動態様が変化するため、より均一なエッチングを行うことができる。

発明者等の実験データによれば、上述の製造方法により、エッチング前に約１ｍｍであった大判パネル２０の厚さを約８０μｍにまで薄くすることができている。詳しくは、エッチング前における大判パネル２０の素子基板１、および対向基板１６の厚さは、それぞれ約０．５ｍｍであったが、上述の製造方法により表裏面をそれぞれエッチングすることにより、素子基板１、および対向基板１６の厚さをそれぞれ約４０μｍとすることに成功している。なお、この数値が限界値ではなく、条件を最適化することによって更なる薄型化も可能であると考察している。
また、このようにして薄型化された大判パネル２０は、純水などによってエッチング溶液を洗い流した後、単品の表示パネルに切断される。そして、端子部を露出させて、例えば、駆動回路が実装されたフレキシブル基板と接続して、単品の表示パネルとなる。なお、切断の際には、エッチングされた部分と、マスキングされていた部分との段差を補間するため、当該段差を織り込んだ凸形状の専用案内板を用いることが好ましい。また、薄膜化しているため、単品に切断した後の取り扱いを容易にするため、例えば、ポリエステルフィルムなどの樹脂シート部材で表示パネルをラミネートすることが好ましい。

上述した通り、本実施形態に係る製造方法、および製造装置１００によれば、以下の効果を得ることができる。
この製造方法によれば、大判パネル２０は、エッチング溶液が附着した状態、または、吹付けが行われている状態で回転することになり、これらのエッチング溶液は、大判パネル２０の表面（裏面）において回転にともない重力方向に流れることになる。換言すれば、大判パネル２０の表面（裏面）におけるエッチング度合が均一化される。
よって、この製造方法によれば、常に重力方向が一定であったためエッチング度合に偏りが生じていた従来の製造方法よりも、回転により大判パネル２０のガラス基板におけるエッチング度合を均一化することができる。
従って、本実施形態に係る製造方法によれば、均一な厚さの薄型表示（大判）パネルを得ることができる。換言すれば、ガラス基板を均一にエッチングすることが可能な電気光学装置の製造方法を提供することができる。

また、製造装置１００は、大判パネル２０を略鉛直に立った状態で保持するリム６１と、大判パネル２０の表面に対向して配置された複数の（第１）ノズル５１と、大判パネル２０の裏面に対向して配置された複数の（第２）ノズル５１と、リム６１を大判パネル２０の表面（裏面）に沿って立った状態で回転させる回転機構６０とを備えている。
よって、大判パネル２０が回転している状態において、その表面および裏面にエッチング溶液が吹付けられるため、吹付けられたエッチング溶液は、大判パネル２０の表面（裏面）において回転にともない重力方向に流れることになる。
よって、この製造方法によれば、常に重力方向が一定であったためエッチング度合に偏りが生じていた従来の製造方法よりも、回転により大判パネル２０のガラス基板におけるエッチング度合を均一化することができる。
従って、均一な厚さの薄型表示（大判）パネルを得ることが可能な製造装置１００を提供することができる。換言すれば、ガラス基板を均一にエッチングすることが可能な製造装置１００を提供することができる。

（実施形態２）
図７は、本実施形態に係る製造装置の概要を示す図であり、図３に対応している。図８は、製造装置の側断面図であり、図４（ｂ）に対応している。
以下、本発明の実施形態２に係る製造装置１１０について、図７および図８を用いて説明する。
本実施形態における製造装置１１０は、大判パネル２０の上側からエッチング溶液を滴下するための滴下機構を備えている点が、実施形態１の製造装置１００と異なる。それ以外は、製造装置１００と同様である。
ここでは、実施形態１における説明と重複する部分は省略し、滴下機構中心に説明する。また、同一の構成部位については同一の番号を附して説明する。

図７に示すように、製造装置１１０において、大判パネル２０の上側には、滴下機構８０が備えられている。なお、複数のノズルを含む配管５０の構成や、回転機構６０の構成などは、実施形態１の製造装置１００と同様である。
滴下機構８０は、配管８１、滴下孔８２などから構成されている。
配管８１は、エッチング溶液を供給する配管であり、ポリプロピレン、またはポリエチレン製のパイプから構成されている。配管８１の一端（図示せず）は、エッチング溶液の供給を開始、および停止するためのバルブ（薬液タンク）に接続している。
滴下孔８２は、配管８１に略等間隔に形成された孔であり、当該孔からエッチング溶液が滴下される。なお、孔に限定するものではなく、滴下用のノズルが形成されていても良い。図７において方物線状の点線で示すように、複数の滴下孔８２からは、大判パネル２０の裏面における上側の一辺に沿って、エッチング溶液が略均一な液量滴下される。なお、図７では、大判パネル２０の裏面側の滴下機構８０のみが示されているが、表面側にも同様な滴下機構が備えられている。

図８に示すように、滴下機構８０は、大判パネル２０の表面側、および裏面側にそれぞれ備えられている。なお、図８においては、図面を見易くするため、上側の支持アームを省略している。
滴下機構８０は、複数のノズル５１による吹付けと同時に滴下を行うことも可能な構成となっているが、本実施形態では、好適例として、複数のノズル５１による吹付けの後に、滴下を行うこととしている。
大判パネル２０の表面側、および裏面側における滴下は、同時に行われ、その滴下量は、上側の一辺を略満遍に浸すことが可能な量となっている。なお、滴下といっても、一滴ずつしたたり落ちることではない。滴下とは、ノズル５１から噴射される圧力よりも弱く、図８に示すように、滴下孔８２と大判パネル２０との高さ（位置）の違いによる重力によって、一定の太さの液流をそれぞれ表面、または裏面に向かって方物線状に掛けることを指している。

「表示（大判）パネルの製造方法」
図９は、本実施形態に係る表示（大判）パネルの製造方法の流れを示すフローチャートであり、図６に対応している。
ここでは、図８で説明した製造装置１１０による表示（大判）パネルの製造方法について、図９のフローチャートに沿って詳細に説明する。

ステップＳ１１では、大判パネル２０が装着されたリム６１をチャンバー７０内にセットする。
ステップＳ１２では、製造装置１１０の計時部により計時を開始する。なお、計時の開始は、ステップＳ１３のエッチング溶液吹付け開始時点と同期させることが好ましい。
ステップＳ１３では、各ノズル５１からのエッチング溶液の吹付けを開始する。
ステップＳ１４では、ローラー６２ｂを駆動して、リム６１（大判パネル２０）を回転させる。
ステップＳ１５では、計時開始から所定の時間としての時間ｔ１１が経過したか判断する。時間ｔ１１を経過していない場合（S15:No）は、引き続きエッチング溶液の吹付け、および回転を継続しながら、時間ｔ１１となるのを待ち受ける。時間ｔ１１を経過した場合（S15:Yes）は、ステップＳ１６に進む。
ステップＳ１６では、各ノズル５１からのエッチング溶液の吹付けを終了し、滴下機構８０による滴下を開始する。換言すれば、エッチング溶液の吹付けから、滴下に切り換える。なお、リム６１（大判パネル２０）の回転は継続している。
ステップＳ１７では、計時開始から時間ｔ１２が経過したか判断する。時間ｔ１２を経過していない場合（S17:No）は、引き続きエッチング溶液の滴下、および回転を継続しながら、時間ｔ１２となるのを待ち受ける。時間ｔ１２を経過した場合（S17:Yes）は、エッチング溶液の滴下、および回転を終了する。

なお、時間ｔ１１，１２は、様々な大判パネルサイズや、エッチング量による複数の実験データに基づいて導出されたものであり、製造装置１１０にあらかじめ記憶されている。詳しくは、時間ｔ１１は、大判パネル２０の厚さが約０．２ｍｍとなるタイミングにおける時間である。本実施形態の製造方法では、この厚さ以下になると大判パネル２０の強度がかなり低くなるため、吹付けよりも衝撃の少ない滴下に切り換えている。なお、約０．２ｍｍとなるタイミングに限定するものではなく、大判パネル２０に用いられている無機ガラスの種類や特性に応じて、所定の時間としての時間ｔ１１を定めれば良い。例えば、厚さが０．３〜０．１ｍｍの範囲内における所定の厚さとなるタイミングの時間であっても良い。
また、本実施形態の製造方法によっても、実施形態１での実験データと同様の結果を得ることができている。

上述した通り、本実施形態によれば、実施形態１における効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
この製造方法によれば、大判パネル２０の厚さが約０．２ｍｍとなる時間ｔ１１で、エッチング溶液の吹付けから、滴下に切り換えている。
よって、大判パネル２０に加わる衝撃が低減されるため、大判パネル２０の割れや、クラックの発生を抑制することができる。
さらに、滴下に切り換えた後も、リム６１（大判パネル２０）の回転は継続しているため、表面（裏面）におけるエッチング溶液の分布が吹付け時と同様に均一化されている。換言すれば、滴下時におけるエッチング度合も均一化されている。
従って、本実施形態に係る製造方法によれば、均一な厚さの薄型表示（大判）パネルを安定して得ることができる。換言すれば、ガラス基板を均一に、かつ安定してエッチングすることが可能な電気光学装置の製造方法を提供することができる。

また、製造装置１１０は、大判パネル２０を略鉛直に立った状態で保持するリム６１と、大判パネル２０の表面に対向して配置された複数の（第１）ノズル５１と、大判パネル２０の裏面に対向して配置された複数の（第２）ノズル５１と、リム６１を大判パネル２０の表面（裏面）に沿って立った状態で回転させる回転機構６０とに加えて、大判パネル２０における上側の一辺に沿ってエッチング溶液を滴下するための滴下機構８０をさらに備えている。
よって、大判パネル２０の厚さが約０．２ｍｍとなった時点で、ノズルによる噴射から、滴下機構による滴下に切り換えることができる。換言すれば、上記製造方法を実現することができる。
従って、均一な厚さの薄型表示（大判）パネルを安定して得ることが可能な製造装置１１０を提供することができる。換言すれば、ガラス基板を均一に、かつ安定してエッチングすることが可能な製造装置１１０を提供することができる。

なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、上述した実施形態に種々の変更や改良などを加えることが可能である。変形例を以下に述べる。

（変形例１）
図１を用いて説明する。
上記各実施形態では、表示パネル１８は、有機ＥＬ表示装置であるものとして説明したが、これに限定するものではなく、２枚のガラス基板間に電気光学層を挟持した電気光学装置であれば良い。例えば、電気光学層として液晶を用いた液晶表示装置であっても良い。液晶表示装置は、透過型、反射型、半透過反射型のいずれの型式であっても良い。また、駆動方式も、ＴＮ（Twisted Nematic）方式、ＶＡ（Vertical Alignment）方式、ＩＰＳ（In-Place-Switching）方式、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）方式のいずれであっても良い。
これらの液晶表示装置（表示パネル）であっても、上記実施形態と同様の作用効果を得ることができる。

（変形例２）
図１を用いて説明する。
上記各実施形態では、表示パネル１８は、表裏両面にガラス基板を備えることとして説明したが、これに限定するものではなく、表裏面のいずれか一方の基板がガラス基板という構成であっても良い。または、１枚構成のガラス基板であっても良い。
例えば、自発光型のプラズマディスプレイの場合、表示面側（対向基板側）の基板にはガラス基板が用いられるが、素子基板側には、金属基板などの非ガラス基板が用いられることがある。なお、この場合、非ガラス基板面は、マスキング処理を行うとともに、当該面には、エッチング溶液を吹付け（滴下）しないようにする。
この構成であっても、上記製造装置および製造方法によって、ガラス基板側のみエッチング処理を行うことができる。
また、同様に、大判パネルに替えて、１枚のガラス基板を用いた場合であっても、上記製造装置および製造方法によって、エッチング処理を行うことができる。
これらの構成であっても、上記実施形態と同様の作用効果を得ることができる。

（変形例３）
上記各実施形態では、エッチング溶液の噴射、および滴下時において、常時リム６１（大判パネル２０）を時計方向に回転させることとして説明したが、これに限定するものではなく、大判パネル２０の表面（裏面）に略均一にエッチング溶液が行き渡るように回転させれば良い。
例えば、リム６１（大判パネル２０）の回転を間欠的に行っても良い。また、適宜、時計方向とは反対の反時計回りに回転させても良い。または、これらの動作を組み合せても良い。これらの方法であっても、上記実施形態と同様の作用効果を得ることができる。

１…ガラス基板としての素子基板、８…電気光学層としての有機ＥＬ層、１６…ガラス基板としての対向基板、２０…大判パネル、６１…支持フレームとしてのリム、５０，８１…配管、５１…ノズル、６０…回転機構、６２…ローラー、８２…液滴孔、１００，１１０…製造装置、Ｒｓ…回転軸。

Claims (8)

1. ガラス基板を備えた電気光学装置の製造方法であって、
   （ａ）前記ガラス基板を略鉛直に配置する工程と、
   （ｂ）前記ガラス基板の少なくとも一方の面へ、エッチング溶液の吹付けをする工程またはエッチング溶液の滴下をする工程と、
   （ｃ）前記ガラス基板を前記略鉛直の状態で回転させる工程と、を含み、
   前記エッチング溶液の滴下をする工程は、前記ガラス基板における上側の一辺に沿って略均一な量滴下されることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
2. 第１のガラス基板と、第２のガラス基板と、前記第１のガラス基板と前記第２のガラス基板との間に電気光学層を設けた表示パネルを備えた電気光学装置の製造方法であって、
   （ａ）前記表示パネルを略鉛直に配置する工程と、
   （ｂ）前記第１のガラス基板および前記第２のガラス基板の前記電気光学層が設けられた面とは各々反対の面へ、エッチング溶液の吹付けをする工程またはエッチング溶液の滴下をする工程と、
   （ｃ）前記表示パネルを前記略鉛直の状態で回転させる工程と、を含み、
   前記エッチング溶液の滴下をする工程は、前記表示パネルにおける上側の一辺に沿って略均一な量滴下されることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
3. 前記表示パネルを複数個面付けした大判パネルの状態で、前記（ａ）〜（ｃ）工程を行い、
   前記吹付けは、複数のノズルから前記大判パネルの全面に略均一な量吹付けされることを特徴とする請求項２に記載の電気光学装置の製造方法。
4. ガラス基板を備えた電気光学装置の製造方法であって、
   （ａ）前記ガラス基板を略鉛直に配置する工程と、
   （ｂ）前記ガラス基板における少なくとも一方の面へ、エッチング溶液の吹付けをする工程および前記エッチング溶液の滴下を行う工程と、
   （ｃ）前記ガラス基板を前記一方の面に沿って前記略鉛直の状態で回転させる工程と、を含み、
   前記（ｂ）工程は、前記（ｃ）工程においても継続して行われ、
   前記（ｂ）工程において、前記吹付け工程を行い、前記吹付け工程を開始してから所定の時間経過すると、前記吹付け工程から前記滴下工程に切り換えることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
5. 前記所定の時間は、前記表示パネルの厚さが０．３〜０．１ｍｍの範囲内となる時間であることを特徴とする請求項４に記載の電気光学装置の製造方法。
6. 前記（ｃ）工程における前記回転の速度は、１〜２０ｒｐｍの範囲内であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
7. 電気光学装置に用いられるガラス基板をエッチングするための製造装置であって、
   前記ガラス基板を略鉛直に保持する支持フレームと、
   前記ガラス基板における少なくとも一方の面にエッチング溶液を吹付けるために設けられ、前記一方の面に対向するように配置された複数のノズルと、
   前記ガラス基板が前記略鉛直の状態で前記支持フレームを回転させる回転機構と、
   前記ガラス基板の外周をなす第１の辺に沿って前記エッチング溶液を滴下する滴下機構と、備えることを特徴とする電気光学装置の製造装置。
8. 第１のガラス基板と、第２のガラス基板と、前記第１のガラス基板と前記第２のガラス基板との間に電気光学層を設けた表示パネルを複数個面付けした大判パネルをエッチングするための製造装置であって、
   前記大判パネルを略鉛直に保持する支持フレームと、
   前記大判パネルの第１の面にエッチング溶液を吹付けるための、前記第１の面に対向して配置された複数の第１ノズルと、
   前記大判パネルの第２の面にエッチング溶液を吹付けるための、前記第２の面に対向して配置された複数の第２ノズルと、
   前記支持フレームを前記略鉛直の状態で回転させる回転機構と、
   前記第１のガラス基板における上側の一辺または前記大判パネルにおける上側の一辺に沿って前記エッチング溶液を滴下する滴下機構と、を備えることを特徴とする電気光学装置の製造装置。

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