JP5374935B2 - Cvd装置及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
図9は、一般的なAl配線層の形成及びAl配線の埋め込み酸化膜を形成の工程を説明する為のプロセスフローであり、図7は図9に示すプロセスフローの概念図である。
前記ウェハーが保持され、前記ウェハーより径の小さい静電チャックと、
前記静電チャックの側壁を囲むように設置されたカラーリングと、
を具備し、
前記カラーリングは、前記静電チャックの側壁に対向し且つ前記ウェハーの外周部の下方に位置する対向部を有し、前記対向部は前記静電チャックの側壁を囲むように形成されており、
前記対向部における前記静電チャックに対して外側は、前記ウェハーの外周部の最も外側の端部より内側に位置していることを特徴とする。
前記高密度プラズマCVD装置は、前記ウェハーが保持され、前記ウェハーより径の小さい静電チャックと、
前記静電チャックの側壁を囲むように設置されたカラーリングと、
を具備し、
前記カラーリングは、前記静電チャックの側壁に対向し且つ前記ウェハーの外周部の下方に位置する対向部を有し、前記対向部は前記静電チャックの側壁を囲むように形成されており、
前記対向部における前記静電チャックに対して外側は、前記ウェハーの外周部の最も外側の端部より内側に位置していることを特徴とする。
図6は代表的なHDP.CVD装置を説明する為の模式図である。
図1(a)は図6に示すHDP.CVD装置におけるウェハー保持部の平面図であり、図1(b)は図1(a)に示すウェハー保持部においてカラーリングの構造を説明するための断面図である。
Claims (4)
- 成膜とエッチングを同時に又は繰り返して行うことで埋め込み性の高い膜をウェハー上に形成する高密度プラズマCVD装置において、
前記ウェハーが保持され、前記ウェハーより径の小さい静電チャックと、
前記静電チャックの側壁を囲むように設置されたカラーリングと、
を具備し、
前記カラーリングは、前記静電チャックの側壁に対向し且つ前記ウェハーの外周部の下方に位置する対向部を有し、前記対向部は前記静電チャックの側壁を囲むように形成されており、
前記対向部における前記静電チャックに対して外側は、前記ウェハーの外周部の最も外側の端部より内側であって、前記ウェハーの外周裏面にまわりこんで成膜される膜領域よりも内側に位置していることを特徴とする高密度プラズマCVD装置。 - 請求項1において、前記対向部の上端部には傾斜面が形成されていることを特徴とする高密度プラズマCVD装置。
- 請求項1又は2において、前記対向部の上端部と前記ウェハーの裏面との間の隙間は、前記カラーリングを製造する際における寸法誤差を考慮した上で前記ウェハーと接触しない範囲で可能な限り小さくされていることを特徴とする高密度プラズマCVD装置。
- ウェハー外周部に膜が成膜された状態のウェハーを高密度プラズマCVD装置に導入し、前記高密度プラズマCVD装置によって成膜とエッチングを同時に又は繰り返して行うことで埋め込み性の高い膜を前記ウェハー上に形成する工程を有する半導体装置の製造方法において、
前記高密度プラズマCVD装置は、前記ウェハーが保持され、前記ウェハーより径の小さい静電チャックと、
前記静電チャックの側壁を囲むように設置されたカラーリングと、
を具備し、
前記カラーリングは、前記静電チャックの側壁に対向し且つ前記ウェハーの外周部の下方に位置する対向部を有し、前記対向部は前記静電チャックの側壁を囲むように形成されており、
前記対向部における前記静電チャックに対して外側は、前記ウェハーの外周部の最も外側の端部より内側であって、前記ウェハーの外周裏面にまわりこんで成膜される膜領域よりも内側に位置していることを特徴とする半導体装置の製造方法。
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