JP5365003B2 - Honeymoon type adhesive composition, mounting substrate bonding method, and mounting substrate assembly - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a honeymoon-type adhesive composition excellent in adhesion, water resistance and room-temperature curability. <P>SOLUTION: The honeymoon-type adhesive composition comprises a liquid A containing an epoxy resin having two or more epoxy groups in a molecule and a thiol compound having two or more mercapto groups in a molecule and a liquid B containing an amine compound. There are also provided a method for bonding a mounted substrate using the honeymoon-type adhesive composition and a mounted substrate assembly in which a pad portion of a mounted substrate and a bump of a functional element mounted on the mounted substrate are electrically connected with the honeymoon-type adhesive composition. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、ハネムーン型接着剤組成物、実装基板の接着方法および実装基板組み立て体に関する。   The present invention relates to a honeymoon adhesive composition, a method for bonding a mounting substrate, and a mounting substrate assembly.

実装基板と機能素子とをハネムーン型接着剤を用いて接着させ実装基板の組み立て体とすることが、例えば、特許文献1において提案されている。
ハネムーン型接着剤は、主剤と硬化剤とを具備し、主剤を第1の被着体に塗布し、硬化剤を第2の被着体に塗布し、第1の被着体と第2の被着体とを塗布面で貼り合わせることによって、主剤と硬化剤とを接触させ硬化させて第1の被着体と第2の被着体とを接着させる接着剤であり、事前に主剤と硬化剤とを混合させずに使用するものである。
また、半導体チップと基板とを二液型のエポキシ系接着剤で接着させる方法が、例えば、特許文献2(実施例1)において提案されている。
For example, Patent Document 1 proposes that a mounting substrate and a functional element are bonded using a honeymoon adhesive to form an assembly of a mounting substrate.
The honeymoon type adhesive comprises a main agent and a curing agent, the main agent is applied to the first adherend, the curing agent is applied to the second adherend, the first adherend and the second adherend. It is an adhesive that bonds the first adherend and the second adherend to each other by bonding the adherend to the adherend on the application surface, thereby bringing the main agent and the curing agent into contact with each other and curing the adhesive. It is used without mixing with a curing agent.
Further, for example, Patent Document 2 (Example 1) proposes a method of bonding a semiconductor chip and a substrate with a two-component epoxy adhesive.

特開平11−029748号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-029748 特開平10−022338号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-022338

しかしながら、本願発明者は、特許文献1のようにアクリル系モノマーを含有するハネムーン型接着剤組成物は接着性が低く、その硬化物は耐水性に劣ることを見出した。
また、本願発明者は、特許文献2のように従来のエポキシ系の組成物をハネムーン型接着剤組成物として用いる場合、室温硬化後において硬化物全体が均一な硬化状態とならず硬化不良が発生することを見出した。
そこで、本発明は、接着性、耐水性、室温硬化性に優れるハネムーン型接着剤組成物を提供することを目的とする。
However, the inventor of the present application has found that a honeymoon type adhesive composition containing an acrylic monomer as in Patent Document 1 has low adhesiveness, and its cured product has poor water resistance.
In addition, when the present inventor uses a conventional epoxy composition as a honeymoon type adhesive composition as in Patent Document 2, the cured product does not become a uniform cured state after curing at room temperature, resulting in poor curing. I found out.
Then, an object of this invention is to provide the honeymoon type adhesive composition excellent in adhesiveness, water resistance, and room temperature curability.

本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、分子内に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂と分子内に2個以上のメルカプト基を有するチオール化合物とを含有するA液と、アミン化合物を含有するB液とからなる二液型組成物が、接着性、耐水性、室温硬化性に優れるハネムーン型接着剤組成物となりうることを見出し、本発明を完成させた。   As a result of diligent research to solve the above problems, the present inventor has a liquid A containing an epoxy resin having two or more epoxy groups in the molecule and a thiol compound having two or more mercapto groups in the molecule. The present inventors have found that a two-component composition comprising a liquid B containing an amine compound can be a honeymoon adhesive composition having excellent adhesion, water resistance, and room temperature curability, and completed the present invention.

すなわち、本発明は、下記(1)〜(10)を提供する。
(1) 分子内に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂と、分子内に2個以上のメルカプト基を有するチオール化合物とを含有するA液と、
アミン化合物を含有するB液とからなるハネムーン型接着剤組成物。
(2) 前記メルカプト基が、前記エポキシ基に対して0.1〜0.6当量である上記(1)に記載のハネムーン型接着剤組成物。
(3) 前記チオール化合物が、メルカプト基含有シラン化合物の縮合物である上記(1)または(2)に記載のハネムーン型接着剤組成物。
(4) 前記アミン化合物が、第三級アミンである上記(1)〜(3)のいずれかに記載のハネムーン型接着剤組成物。
(5) 前記B液が、さらに、イミダゾール化合物を含有する上記(1)〜(4)のいずれかに記載のハネムーン型接着剤組成物。
(6) 前記A液が、さらに、フェノール化合物を含有する上記(1)〜(5)のいずれかに記載のハネムーン型接着剤組成物。
(7) 前記A液および/または前記B液が、さらに、ベンゾオキサジン化合物を含有する上記(1)〜(6)のいずれかに記載のハネムーン型接着剤組成物。
(8) 機能素子と実装基板とを上記(1)〜(7)のいずれかに記載のハネムーン型接着剤組成物を用いて接着させる実装基板の接着方法。
(9) 前記エポキシ樹脂と前記チオール化合物とを混合する混合工程と、
前記A液を前記実装基板に塗布し、前記B液を前記機能素子に塗布する塗布工程と、
前記実装基板の塗布面と前記機能素子の塗布面とが接するように前記実装基板と前記機能素子とを重ね合わせて、前記A液と前記B液とを室温で硬化させて積層体とする室温硬化工程と、
前記積層体を加熱して実装基板組み立て体とする加熱硬化工程とを具備する上記(8)に記載の実装基板の接着方法。
(10) 実装基板のパッド部と前記実装基板の上に実装された機能素子のバンプとを上記(1)〜(7)のいずれかに記載のハネムーン型接着剤組成物で電気的に接続した実装基板組み立て体。
That is, the present invention provides the following (1) to (10).
(1) Liquid A containing an epoxy resin having two or more epoxy groups in the molecule and a thiol compound having two or more mercapto groups in the molecule;
A honeymoon type adhesive composition comprising B liquid containing an amine compound.
(2) The honeymoon adhesive composition according to (1), wherein the mercapto group is 0.1 to 0.6 equivalents relative to the epoxy group.
(3) The honeymoon adhesive composition according to (1) or (2), wherein the thiol compound is a condensate of a mercapto group-containing silane compound.
(4) The honeymoon adhesive composition according to any one of (1) to (3), wherein the amine compound is a tertiary amine.
(5) The honeymoon adhesive composition according to any one of (1) to (4), wherein the liquid B further contains an imidazole compound.
(6) The honeymoon adhesive composition according to any one of (1) to (5), wherein the liquid A further contains a phenol compound.
(7) The honeymoon adhesive composition according to any one of (1) to (6), wherein the liquid A and / or the liquid B further contains a benzoxazine compound.
(8) A method for bonding a mounting substrate, in which a functional element and a mounting substrate are bonded using the honeymoon adhesive composition according to any one of (1) to (7).
(9) a mixing step of mixing the epoxy resin and the thiol compound;
Applying the liquid A to the mounting substrate and applying the liquid B to the functional element;
The mounting substrate and the functional element are overlapped so that the application surface of the mounting substrate and the application surface of the functional element are in contact with each other, and the liquid A and the liquid B are cured at room temperature to form a laminate. Curing process;
The mounting substrate bonding method according to (8), further comprising a heat curing step in which the laminate is heated to form a mounting substrate assembly.
(10) The pad portion of the mounting substrate and the bumps of the functional element mounted on the mounting substrate were electrically connected with the honeymoon adhesive composition according to any one of (1) to (7) above. Mounting board assembly.

本発明のハネムーン型接着剤組成物は、接着性、耐水性、室温硬化性に優れる。
本発明の実装基板の接着方法は接着性、室温硬化性に優れており、本発明の実装基板の接着方法によれば導通性、耐水性に優れる実装基板組み立て体を得ることができる。
本発明の実装基板組み立て体は、導通性、耐水性に優れる。
The honeymoon type adhesive composition of the present invention is excellent in adhesiveness, water resistance and room temperature curability.
The mounting substrate bonding method of the present invention is excellent in adhesiveness and room temperature curability, and according to the mounting substrate bonding method of the present invention, a mounting substrate assembly excellent in conductivity and water resistance can be obtained.
The mounting board assembly of the present invention is excellent in conductivity and water resistance.

本発明について以下詳細に説明する。
本発明のハネムーン型接着剤組成物は、
分子内に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂と、分子内に2個以上のメルカプト基を有するチオール化合物とを含有するA液と、
アミン化合物を含有するB液とからなる組成物である。
以下これを「本発明の組成物」ということがある。
The present invention will be described in detail below.
The honeymoon adhesive composition of the present invention is
A liquid containing an epoxy resin having two or more epoxy groups in the molecule and a thiol compound having two or more mercapto groups in the molecule;
It is a composition which consists of B liquid containing an amine compound.
Hereinafter, this may be referred to as “the composition of the present invention”.

エポキシ樹脂について以下に説明する。
本発明の組成物に使用されるエポキシ樹脂は、1分子中に2個以上のオキシラン環(エポキシ基)を有する化合物であれば特に限定されない。
具体的には、例えば、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、臭素化ビスフェノールA型、水添ビスフェノールA型、ビスフェノールS型、ビスフェノールAF型、ビフェニル型のようなビスフェニル基を有するエポキシ化合物、ポリアルキレングリコール型、アルキレングリコール型のエポキシ化合物、ナフタレン環を有するエポキシ化合物、フルオレン基を有するエポキシ化合物等の二官能型のグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;フェノールノボラック型、オルソクレゾールノボラック型、トリスヒドロキシフェニルメタン型、三官能型、テトラフェニロールエタン型のような多官能型のグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;ダイマー酸のような合成脂肪酸のグリシジルエステル型エポキシ樹脂;N,N,N′,N′−テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン(TGDDM)、テトラグリシジル−m−キシリレンジアミン、トリグリシジル−p−アミノフェノール、N,N−ジグリシジルアニリンのようなグリシジルアミノ基を有する芳香族エポキシ樹脂;トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン環を有するエポキシ化合物(例えば、ジシクロペンタジエンとm−クレゾールのようなクレゾール類またはフェノール類を重合させた後、エピクロルヒドリンを反応させる製造方法によって得られうるエポキシ化合物)が挙げられる。
The epoxy resin will be described below.
The epoxy resin used for the composition of this invention will not be specifically limited if it is a compound which has a 2 or more oxirane ring (epoxy group) in 1 molecule.
Specifically, for example, epoxy compounds having a bisphenyl group, such as bisphenol A type, bisphenol F type, brominated bisphenol A type, hydrogenated bisphenol A type, bisphenol S type, bisphenol AF type, and biphenyl type, polyalkylene Bifunctional glycidyl ether type epoxy resins such as glycol type, alkylene glycol type epoxy compounds, epoxy compounds having a naphthalene ring, epoxy compounds having a fluorene group; phenol novolac type, orthocresol novolak type, trishydroxyphenylmethane type, Trifunctional, polyfunctional glycidyl ether type epoxy resin such as tetraphenylolethane type; glycidyl ester type epoxy resin of synthetic fatty acid such as dimer acid; N, N, N ′, N′-tetraglyce Aromatic epoxy resins having glycidylamino groups, such as dildiaminodiphenylmethane (TGDDM), tetraglycidyl-m-xylylenediamine, triglycidyl-p-aminophenol, N, N-diglycidylaniline; tricyclo [5.2. 1.0 2,6 ] Epoxy compound having a decane ring (for example, an epoxy compound obtainable by a production method in which dicyclopentadiene is polymerized with cresols or phenols such as m-cresol and then reacted with epichlorohydrin) Is mentioned.

また、エポキシ樹脂としては、例えば、東レ・ファインケミカル社製のフレップ10のようなエポキシ樹脂主鎖に硫黄原子を有するエポキシ樹脂;ウレタン結合を有するウレタン変性エポキシ樹脂;ポリブタジエン、液状ポリアクリロニトリル−ブタジエンゴム、アクリロニトリルブタジエンゴム(NBR)のようなゴムを含有するゴム変性エポキシ樹脂;ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ソルビトール型エポキシ樹脂、ポリグリセロール型エポキシ樹脂、ペンタエリスリトール型エポキシ樹脂、トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂のような分子内にアセトアセテート基を有するエポキシ樹脂が挙げられる。   Examples of the epoxy resin include an epoxy resin having a sulfur atom in an epoxy resin main chain such as Flep 10 manufactured by Toray Fine Chemical Co., Ltd .; a urethane-modified epoxy resin having a urethane bond; polybutadiene, liquid polyacrylonitrile-butadiene rubber, Rubber-modified epoxy resin containing rubber such as acrylonitrile butadiene rubber (NBR); bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, sorbitol type epoxy resin, polyglycerol type epoxy resin, pentaerythritol type epoxy resin, trimethylolpropane An epoxy resin having an acetoacetate group in the molecule, such as a type epoxy resin.

エポキシ樹脂は、取り扱いの容易さ、混合性の観点から、室温で液状であるものが好ましい。
エポキシ樹脂はそれぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
The epoxy resin is preferably liquid at room temperature from the viewpoint of ease of handling and mixing.
The epoxy resins can be used alone or in combination of two or more.

エポキシ樹脂は、2官能のエポキシ樹脂および3官能以上のエポキシ樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種であるのが好ましい態様の1つとして挙げられる。
2官能のエポキシ樹脂は、オキシラン環(エポキシ基)を2個有する化合物であれば特に制限されない。例えば従来公知のものが挙げられる。
3官能以上のエポキシ樹脂は、オキシラン環(エポキシ基)を3個以上有する化合物であれば特に制限されない。例えば従来公知のものが挙げられる。
One preferred embodiment of the epoxy resin is at least one selected from the group consisting of a bifunctional epoxy resin and a trifunctional or higher functional epoxy resin.
The bifunctional epoxy resin is not particularly limited as long as it is a compound having two oxirane rings (epoxy groups). For example, a conventionally well-known thing is mentioned.
The trifunctional or higher functional epoxy resin is not particularly limited as long as it is a compound having three or more oxirane rings (epoxy groups). For example, a conventionally well-known thing is mentioned.

チオール化合物について以下に説明する。
本発明の組成物に使用されるチオール化合物は、分子内に2個以上のメルカプト基(−SH)を有する化合物であれば特に制限されない。チオール化合物は、アミン化合物の存在下で活性化し室温でエポキシ樹脂と反応し硬化することができる。チオール化合物としては、例えば、従来公知のものが挙げられる。
メルカプト基は、例えば、チオール化合物の末端、骨格内に結合することができる。
チオール化合物は、メルカプト基の他に、例えば、カルボニル基、尿素基(カルバミド基)、イソシアネート基のような官能基;エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合のような結合を有することができる。
チオール化合物としては、メルカプト基を2個有するジチオール化合物、メルカプト基を3個以上有する3官能以上のチオール化合物が挙げられる。
The thiol compound will be described below.
The thiol compound used in the composition of the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having two or more mercapto groups (—SH) in the molecule. The thiol compound can be activated in the presence of an amine compound and can be cured by reacting with an epoxy resin at room temperature. As a thiol compound, a conventionally well-known thing is mentioned, for example.
The mercapto group can be bonded, for example, to the terminal or skeleton of the thiol compound.
In addition to the mercapto group, the thiol compound has a functional group such as a carbonyl group, a urea group (carbamide group), or an isocyanate group; a bond such as an ether bond, a thioether bond, an ester bond, an amide bond, or a urethane bond. be able to.
Examples of the thiol compound include a dithiol compound having two mercapto groups and a tri- or more functional thiol compound having three or more mercapto groups.

ジチオール化合物としては、例えば、エタンジチオール、プロパンジチオール、ブタンジチオール、ペンタンジチオール、ヘキサンジチオール、ヘプタンジチオール、オクタンジチオール、ノナンジチオール、デカンジチオール、ベンゼンジチオール、トルエン−3,4−ジチオール、3,6−ジクロロ−1,2−ベンゼンジチオール、1,5−ナフタレンジチオール、ベンゼンジメタンチオール、4,4′−チオビスベンゼンチオール、2−ジ−n−ブチルアミノ−4,6−ジメルカプト−s−トリアジン、5,5−ビス(メルカプトメチル)−3,7−ジチアノナン−1,9−ジチオール、ジメルカプトプロパノール、ジチオエリトリトール、ジメルカプトエチルサルファイドが挙げられる。   Examples of the dithiol compound include ethanedithiol, propanedithiol, butanedithiol, pentanedithiol, hexanedithiol, heptanedithiol, octanedithiol, nonanedithiol, decanedithiol, benzenedithiol, toluene-3,4-dithiol, and 3,6-dichloro. -1,2-benzenedithiol, 1,5-naphthalenedithiol, benzenedimethanethiol, 4,4'-thiobisbenzenethiol, 2-di-n-butylamino-4,6-dimercapto-s-triazine, 5 , 5-bis (mercaptomethyl) -3,7-dithianonane-1,9-dithiol, dimercaptopropanol, dithioerythritol, dimercaptoethyl sulfide.

3官能以上のチオール化合物としては、例えば、ポリエーテル(例えば、ポリオキシプロピレングリコール)の末端にメルカプト基を導入したポリチオール(例えば、東レ・ファインケミカル社製「QE−340M」)、トリチオグリセリン、1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリチオール(トリメルカプト−トリアジン)、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、1,2,4−トリス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,3,5−トリス(メルカプトメチル)ベンゼン、2,4,6−トリス(メルカプトメチル)メシチレン、トリス(メルカプトメチル)イソシアヌレート、トリス(3−メルカプトプロピル)イソシアヌレート、2,4,5−トリス(メルカプトメチル)−1,3−ジチオランのようなトリチオール;ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、1,2,4,5−テトラキス(メルカプトメチル)ベンゼン、テトラメルカプトブタン、ペンタエリトリチオールのようなテトラチオール;ジペンタエリスリトールヘキサ−3−メルカプトプロピオネートのようなヘキサチオール;メルカプト基含有シラン化合物、またはメルカプト基含有シラン化合物の縮合物が挙げられる。   Examples of the trifunctional or higher functional thiol compound include polythiol (for example, “QE-340M” manufactured by Toray Fine Chemical Co., Ltd.), trithioglycerin, and the like obtained by introducing a mercapto group at the end of a polyether (for example, polyoxypropylene glycol). , 3,5-triazine-2,4,6-trithiol (trimercapto-triazine), trimethylolpropane tristhioglycolate, trimethylolpropane tristhiopropionate, 1,2,4-tris (mercaptomethyl) benzene 1,3,5-tris (mercaptomethyl) benzene, 2,4,6-tris (mercaptomethyl) mesitylene, tris (mercaptomethyl) isocyanurate, tris (3-mercaptopropyl) isocyanurate, 2,4,5 -Tris (mercaptomethi) ) -1,3-dithiolane-like trithiols; pentaerythritol tetrakisthioglycolate, pentaerythritol tetrakisthiopropionate, 1,2,4,5-tetrakis (mercaptomethyl) benzene, tetramercaptobutane, pentaerythrithiol Tetrathiols such as: hexathiols such as dipentaerythritol hexa-3-mercaptopropionate; mercapto group-containing silane compounds, or condensates of mercapto group-containing silane compounds.

なかでも、室温硬化により優れ、得られる硬化物物性に優れるという観点から、ジメルカプトエチルサルファイドのようなジチオール化合物;ジペンタエリスリトールヘキサ−3−メルカプトプロピオネートのようなヘキサチオール化合物;メルカプト基含有シラン化合物の縮合物が好ましい。   Among them, from the viewpoint of being excellent at room temperature curing and physical properties of the resulting cured product, a dithiol compound such as dimercaptoethylsulfide; a hexathiol compound such as dipentaerythritol hexa-3-mercaptopropionate; containing a mercapto group Condensates of silane compounds are preferred.

チオール化合物としてのメルカプト基含有シラン化合物は、メルカプト基とケイ素原子とを有する化合物であれば特に制限されない。
ケイ素原子は加水分解性シリル基(加水分解性を有するシリル基)、またはシラノール基を形成することが好ましい。
加水分解性シリル基は加水分解後シラノール基となるものであれば特に制限されない。加水分解性シリル基としては、ケイ素原子に例えばアルコキシ基、フェノキシ基が1〜3個結合しているものが挙げられる。アルコキシ基としては例えば、メトキシ基、エトキシ基が挙げられる。
ケイ素原子に結合しているアルコキシ基、フェノキシ基が1〜2個である場合、ケイ素原子に結合する残りの基は特に制限されない。例えば、メチル基、エチル基が挙げられる。
The mercapto group-containing silane compound as the thiol compound is not particularly limited as long as it is a compound having a mercapto group and a silicon atom.
The silicon atom preferably forms a hydrolyzable silyl group (a hydrolyzable silyl group) or a silanol group.
The hydrolyzable silyl group is not particularly limited as long as it becomes a silanol group after hydrolysis. Examples of the hydrolyzable silyl group include those in which 1 to 3 alkoxy groups and phenoxy groups are bonded to a silicon atom. Examples of the alkoxy group include a methoxy group and an ethoxy group.
When there are 1 to 2 alkoxy groups and phenoxy groups bonded to the silicon atom, the remaining groups bonded to the silicon atom are not particularly limited. Examples thereof include a methyl group and an ethyl group.

メルカプト基含有シラン化合物としては、例えば、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、3−メルカプトプロピルエチルジエトキシシランが挙げられる。   Examples of the mercapto group-containing silane compound include 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldiethoxysilane, and 3-mercaptopropylethyldiethoxy. Examples include silane.

チオール化合物としてのメルカプト基含有シラン化合物の縮合物は、特に制限されない。例えば、上記のメルカプト基含有シラン化合物の縮合物が挙げられる。   The condensate of the mercapto group-containing silane compound as the thiol compound is not particularly limited. For example, the condensate of said mercapto group containing silane compound is mentioned.

メルカプト基含有シラン化合物の縮合物は、接着性により優れ、硬化物のガラス転移温度に優れるという観点から、その重量平均分子量が、500〜5,000であるのが好ましく、1,000〜3,000であるのがより好ましい。
メルカプト基含有シラン化合物の縮合物の製造は、特に制限されない。例えば、従来公知のものが挙げられる。
チオール化合物は、それぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
The condensate of the mercapto group-containing silane compound is preferably from 500 to 5,000 in terms of weight average molecular weight from the viewpoint of excellent adhesion and excellent glass transition temperature of the cured product. More preferably, it is 000.
The production of the condensate of the mercapto group-containing silane compound is not particularly limited. For example, a conventionally well-known thing is mentioned.
The thiol compounds can be used alone or in combination of two or more.

チオール化合物のメルカプト基が、室温硬化性により優れ、硬化物物性に優れるという観点から、エポキシ樹脂が有するエポキシ基に対して、0.1〜1.1当量であるのが好ましく、0.1〜0.6当量であるのがより好ましい。   From the viewpoint that the mercapto group of the thiol compound is superior in room temperature curability and excellent in cured product properties, it is preferably 0.1 to 1.1 equivalents relative to the epoxy group of the epoxy resin, More preferably, it is 0.6 equivalent.

アミン化合物について以下に説明する。
本発明の組成物に使用されるアミン化合物は、窒素原子を有する化合物であり、メルカプト基を活性化させることができるものであれば特に制限されない。
The amine compound will be described below.
The amine compound used in the composition of the present invention is a compound having a nitrogen atom and is not particularly limited as long as it can activate a mercapto group.

アミン化合物は、窒素原子を2個以上有するポリアミン化合物が好ましい。
ポリアミン化合物としては例えば、脂肪族ポリアミン、脂環式ポリアミン、芳香族ポリアミン、潜在性硬化剤、特殊アミンが挙げられる。
芳香族ポリアミン、特殊アミンが好ましい態様として挙げられる。
The amine compound is preferably a polyamine compound having two or more nitrogen atoms.
Examples of the polyamine compound include aliphatic polyamines, alicyclic polyamines, aromatic polyamines, latent curing agents, and special amines.
Aromatic polyamines and special amines are preferred examples.

芳香族ポリアミン系硬化剤は、芳香環にアミノ基及び/又はイミノ基が結合しているものであれば特に制限されない。例えば、トリスジメチルアミノメチルフェノール、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−1、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンのような第三級アミン;N,N′−ジメチルエチレンジアミン、N,N′−ジエチルエチレンジアミン、N,N′−ジイソプロピルエチレンジアミン、N,N′−ジメチル−1,3−プロパンジアミン、N,N′−ジエチル−1,3−プロパンジアミン、N,N′−ジイソプロピル−1,3−プロパンジアミン、N,N′−ジメチル−1,6−ヘキサンジアミン、N,N′−ジエチル−1,6−ヘキサンジアミンのような第二級アミン;3,3′−ジアミノジフェニルスルホン(3,3′−DDS)、4,4′−ジアミノジフェニルスルホン(4,4′−DDS)のようなジアミノジフェニルスルホン、ジアミノジフェニルエーテル(DADPE)、ビスアニリン、3,3′−ジクロロ−4,4′−ジアミノジフェニルメタン(MOCA)、4,4′−ジアミノジフェニルメタン、2,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′−ジアミノジフェニルメタン、3,4′−ジアミノジフェニルメタン、2,2′−ジアミノビフェニル、3,3′−ジアミノビフェニル、2,4−ジアミノフェノール、2,5−ジアミノフェノール、o−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、2,3−トリレンジアミン、2,4−トリレンジアミン、2,5−トリレンジアミン、2,6−トリレンジアミン、3,4−トリレンジアミン、メチルチオトルエンジアミン、ジエチルトルエンジアミンのような第一級アミンが挙げられる。 The aromatic polyamine curing agent is not particularly limited as long as an amino group and / or an imino group are bonded to the aromatic ring. For example, preparative squirrel dimethylaminomethyl phenol, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene -1,1,4- diazabicyclo [2.2.2 Tertiary amines such as octane; N, N′-dimethylethylenediamine, N, N′-diethylethylenediamine, N, N′-diisopropylethylenediamine, N, N′-dimethyl-1,3-propanediamine, N, N'-diethyl-1,3-propanediamine, N, N'-diisopropyl-1,3-propanediamine, N, N'-dimethyl-1,6-hexanediamine, N, N'-diethyl-1,6 Secondary amines such as hexanediamine; 3,3'-diaminodiphenylsulfone (3,3'-DDS), 4,4'-diaminodi Enirusuruhon diaminodiphenylsulfone such as (4,4'-DDS), diaminodiphenyl ether (DADPE), bisaniline, 3, 3'-dichloro-4,4'-diaminodiphenylmethane (MOCA), 4,4'-diaminodiphenylmethane 2,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 3,4'-diaminodiphenylmethane, 2,2'-diaminobiphenyl, 3,3'-diaminobiphenyl, 2,4-diaminophenol, 2, 5-diaminophenol, o-phenylenediamine, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 2,3-tolylenediamine, 2,4-tolylenediamine, 2,5-tolylenediamine, 2,6-tolylenediamine Amine, 3,4-tolylenediamine, methylthio Toluenediamine, include primary amines such as diethyl toluene diamine.

潜在性硬化剤は、熱等によってアミン化合物を生成し、生成したアミン化合物がエポキシ樹脂またはチオール化合物の硬化剤として機能するものであれば特に制限されない。例えば、有機酸ジヒドラジド、ジシアンジアミド、アミンイミド、第三級アミン塩、イミダゾール塩、ルイス酸、ブレンステッド酸、オキサゾリジン化合物、ケチミン化合物が挙げられる。
なかでも、ケチミン化合物が好ましい態様の1つとして挙げられる。
The latent curing agent is not particularly limited as long as it generates an amine compound by heat or the like, and the generated amine compound functions as a curing agent for an epoxy resin or a thiol compound. Examples thereof include organic acid dihydrazide, dicyandiamide, amine imide, tertiary amine salt, imidazole salt, Lewis acid, Bronsted acid, oxazolidine compound, and ketimine compound.
Among them, a ketimine compound is mentioned as one of preferable embodiments.

ケチミン化合物は、ケトンまたはアルデヒドと、アミンとから導かれるケチミン結合を有する化合物である。なお、本明細書においてケチミン化合物には、−HC=N結合を有するアルジミンも含まれる。
ケチミン化合物は特に制限されない。例えば、メチルイソブチルケトン(MIBK)とプロピレンジアミンとから得られるもの;メチルイソプロピルケトン(MIPK)および/またはメチル−t−ブチルケトン(MTBK)とジェファーミンEDR148とから得られるもの;MIPKおよび/またはMTBKと1,3BACとから得られるもの;MIPKおよび/またはMTBKとノルボルナンジアミン(NBDA)とから得られるもの;MIPKおよび/またはMTBKとm−キシリレンジアミン(MXDA)とから得られるもの;MIPKおよび/またはMTBKとポリアミドアミンとから得られるもの;ジエチルケトンとMXDAとから得られるものが挙げられる。
The ketimine compound is a compound having a ketimine bond derived from a ketone or aldehyde and an amine. In the present specification, the ketimine compound includes aldimine having a —HC═N bond.
The ketimine compound is not particularly limited. For example, obtained from methyl isobutyl ketone (MIBK) and propylene diamine; obtained from methyl isopropyl ketone (MIPK) and / or methyl-t-butyl ketone (MTBK) and Jeffamine EDR148; and MIPK and / or MTBK Obtained from 1,3BAC; obtained from MIPK and / or MTBK and norbornanediamine (NBDA); obtained from MIPK and / or MTBK and m-xylylenediamine (MXDA); MIPK and / or Those obtained from MTBK and polyamidoamine; those obtained from diethyl ketone and MXDA.

なかでも、チオール化合物の活性化、硬化物物性に優れ、チオール化合物と塩を形成しにくく室温速硬化性により優れるという観点から、第三級アミンが好ましく、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノールがより好ましい。
アミン化合物は、それぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
Of these, tertiary amines are preferred from the viewpoints of excellent activation of thiol compounds and physical properties of cured products, and that they are less likely to form salts with thiol compounds and are superior in room temperature rapid curability, and 2,4,6-tris (dimethylamino) is preferred. Methyl) phenol is more preferred.
An amine compound can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.

アミン化合物の量は、室温速硬化性により優れ、硬化物の耐熱性に優れるという観点から、エポキシ樹脂100質量部に対して、0.1〜5質量部であるのが好ましく、0.5〜3質量部であるのがより好ましい。
なお、アミン化合物が液状の場合、液状のアミン化合物がチオール化合物と塩を形成することがある。このような場合、アミン化合物として、チオール化合物と塩を形成するアミン化合物とチオール化合物と塩を形成しないアミン化合物とを併用することができる。チオール化合物と塩を形成するアミン化合物は硬化阻害を起こさない程度の量で使用することができる。
The amount of the amine compound is preferably 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin, from the viewpoint of being excellent in room temperature rapid curability and excellent in heat resistance of the cured product. More preferably, it is 3 parts by mass.
When the amine compound is liquid, the liquid amine compound may form a salt with the thiol compound. In such a case, an amine compound that forms a salt with the thiol compound and an amine compound that does not form a salt with the thiol compound can be used in combination. The amine compound that forms a salt with the thiol compound can be used in an amount that does not cause curing inhibition.

本発明の組成物においては、接着強度、硬化物の耐熱性に優れるという観点から、さらに、イミダゾール化合物を含有するのが好ましい。
本発明の組成物に用いられるイミダゾール化合物は、エポキシ樹脂の重合触媒として使用することができる。
イミダゾール化合物は、イミダゾール環を有する化合物であれば特に限定されない。例えば、N−メチルイミダゾール、2−メチルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、1−イソブチル−2−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、2,4−ジアミノ−6(2′−メチルイミダゾール(1′))エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6(2′−ウンデシルイミダゾール(1′))エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6(2′−エチル,4−メチルイミダゾール(1′))エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6(2′−メチルイミダゾール(1′))エチル−s−トリアジン・イソシアヌル酸付加物、2−メチルイミダゾールイソシアヌル酸の2:3付加物、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−3,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−ヒドロキシメチル−5−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニル−3,5−ジシアノエトキシメチルイミダゾール等の各種イミダゾール類、および、これらのイミダゾール類とフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ナフタレンジカルボン酸、マレイン酸、蓚酸等の多価カルボン酸との塩類が挙げられる。
In the composition of this invention, it is preferable to contain an imidazole compound from a viewpoint that it is excellent in adhesive strength and the heat resistance of hardened | cured material.
The imidazole compound used in the composition of the present invention can be used as a polymerization catalyst for an epoxy resin.
The imidazole compound is not particularly limited as long as it is a compound having an imidazole ring. For example, N-methylimidazole, 2-methylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 1-isobutyl-2-methylimidazole, 2-phenyl-4 -Methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1 -Cyanoethyl-2-undecylimidazole, 2,4-diamino-6 (2'-methylimidazole (1 ')) ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 (2'-undecylimidazole (1' )) Ethyl-s-triazine, 2,4- Amino-6 (2'-ethyl, 4-methylimidazole (1 ')) ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 (2'-methylimidazole (1')) ethyl-s-triazine isocyanuric acid Adduct, 2: 3 adduct of 2-methylimidazole isocyanuric acid, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-3,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-hydroxymethyl-5-methylimidazole Various imidazoles such as 1-cyanoethyl-2-phenyl-3,5-dicyanoethoxymethylimidazole, and these imidazoles and phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, naphthalenedicarboxylic acid , Salts with polyvalent carboxylic acids such as maleic acid and succinic acid It is below.

なかでも、低温硬化性に優れ、低粘度となるという観点から、N−メチルイミダゾールが好ましい。
イミダゾール化合物は、それぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
Of these, N-methylimidazole is preferable from the viewpoint of excellent low-temperature curability and low viscosity.
The imidazole compounds can be used alone or in combination of two or more.

イミダゾール化合物の量は、接着性により優れ、硬化性(耐熱性)に優れるという観点から、エポキシ樹脂100質量部に対して、0.1〜5質量部であるのが好ましく、0.5〜3質量部であるのがより好ましい。
イミダゾール化合物は、貯蔵安定性に優れるという観点から、B液に加えるのが好ましい。
The amount of the imidazole compound is preferably 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin from the viewpoint of being excellent in adhesion and excellent in curability (heat resistance), and 0.5 to 3 More preferred is part by mass.
The imidazole compound is preferably added to the B liquid from the viewpoint of excellent storage stability.

本発明のハネムーン型接着剤組成物は、さらにフェノール化合物を含有することができる。さらに含有することができるフェノール化合物は例えばエポキシ樹脂硬化剤として使用することができるものが挙げられる。
フェノール化合物としては、1分子中に2個以上のフェノール性ヒドロキシ基を有するものであれば特に制限はなく、例えば、フェノール、クレゾール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、フェニルフェノール、アミノフェノール等のフェノール類及び/又はα−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類とホルムアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック型フェノール樹脂、フェノール類及び/又はナフトール類とジメトキシパラキシレン又はビス(メトキシメチル)ビフェニルから合成されるフェノール・アラルキル樹脂、ナフトール・アラルキル樹脂などのアラルキル型フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂、シクロペンタジエン変性フェノール樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、多環芳香環変性フェノール樹脂、トリフェノールメタン型フェノール樹脂、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、チオジフェノール、ナフタレンジオールなどが挙げられる。また、フェノール樹脂はアリル化物として用いることができる。
The honeymoon adhesive composition of the present invention can further contain a phenol compound. Further, examples of the phenol compound that can be contained include those that can be used as an epoxy resin curing agent.
The phenol compound is not particularly limited as long as it has two or more phenolic hydroxy groups in one molecule. For example, phenol, cresol, resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, phenylphenol, aminophenol, etc. Phenols and / or novolak type phenol resins and phenols obtained by condensation or cocondensation of naphthols such as α-naphthol, β-naphthol, dihydroxynaphthalene and the like and compounds having an aldehyde group such as formaldehyde in the presence of an acidic catalyst And / or phenol-aralkyl resins synthesized from naphthols and dimethoxyparaxylene or bis (methoxymethyl) biphenyl, aralkyl-type phenol resins such as naphthol-aralkyl resins, dicyclopentadiene modification Phenolic resin, cyclopentadiene modified phenolic resin, terpene modified phenolic resin, polycyclic aromatic ring modified phenolic resin, triphenolmethane type phenolic resin, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, thiodiphenol, naphthalenediol and the like. Moreover, a phenol resin can be used as an allylated product.

なかでも、硬化物物性に優れるという観点から、ノボラック型フェノール樹脂が好ましい態様の1つとして挙げられる。
フェノール化合物は、それぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
Especially, from a viewpoint that it is excellent in hardened | cured material physical property, a novolak-type phenol resin is mentioned as one of the preferable aspects.
A phenol compound can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.

フェノール化合物の量は、接着性、特に耐水接着性に優れるという観点から、エポキシ樹脂に対して、0.05〜0.6当量であるのが好ましく、0.1〜0.4当量であるのがより好ましい。   The amount of the phenolic compound is preferably 0.05 to 0.6 equivalent, preferably 0.1 to 0.4 equivalent with respect to the epoxy resin, from the viewpoint of excellent adhesion, particularly water-resistant adhesion. Is more preferable.

本発明の組成物はさらにベンゾオキサジン化合物を含有することができる。本発明の組成物がさらにベンゾオキサジン化合物を含有する場合、そのような組成物は、室温硬化性、接着性により優れ、ガラス転移温度の高い硬化物となることができる。
本発明の組成物がさらに含有することができるベンゾオキサジン化合物としては、例えば、下記式(1)で表される化合物が挙げられる。
式中、R1はそれぞれ独立に炭素原子数1〜10の炭化水素基であり、前記炭化水素基は置換基を有してもよく、R1は同一であっても異なっていてもよく、nはそれぞれ独立に0〜4の整数である。
The composition of the present invention may further contain a benzoxazine compound. When the composition of the present invention further contains a benzoxazine compound, such a composition is excellent in room temperature curability and adhesiveness and can be a cured product having a high glass transition temperature.
As a benzoxazine compound which the composition of this invention can contain further, the compound represented by following formula (1) is mentioned, for example.
In the formula, each R 1 is independently a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, the hydrocarbon group may have a substituent, and R 1 may be the same or different, n is an integer of 0-4 each independently.

式(1)に示すベンゾオキサジン化合物は、オキサジン環がベンゼン環と縮合している縮合多環系の化合物である。また、ベンゾオキサジン化合物はベンゾオキサジン環を2個有する。
そして、式(1)において、2個のベンゾオキサジン環の窒素原子が互いにベンゾオキサジン化合物の中心方向[式(1)における、2個のフェニレン基を結合するメチレン基のある方向]に向き合うように、ベンゾオキサジン環が配置されている。同じことをベンゾオキサジン環のベンゼン環について言うと、式(1)において、ベンゾオキサジン環のベンゼン環が2つともベンゾオキサジン化合物の外側に位置するように、ベンゾオキサジン環が配置されている。
The benzoxazine compound represented by the formula (1) is a condensed polycyclic compound in which an oxazine ring is condensed with a benzene ring. The benzoxazine compound has two benzoxazine rings.
In the formula (1), the nitrogen atoms of the two benzoxazine rings face each other in the central direction of the benzoxazine compound [the direction in which the methylene group bonding two phenylene groups in the formula (1)]. The benzoxazine ring is arranged. When the same thing is said about the benzene ring of a benzoxazine ring, in Formula (1), the benzoxazine ring is arrange | positioned so that both the benzene rings of a benzoxazine ring may be located in the outer side of a benzoxazine compound.

炭素原子数1〜10の炭化水素基は特に制限されない。
また、炭化水素基は置換基を有することができる。
炭素原子数1〜10の炭化水素基が有することができる置換基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基のようなアルコキシ基;ビニル基、アリル基、ブテニル基のようなアルケニル基;フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基のようなアリール基;メチル基、エチル基、ブチル基、t-ブチル基のようなアルキル基;エーテル結合、エステル結合が挙げられる。
The hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms is not particularly limited.
Moreover, the hydrocarbon group can have a substituent.
Examples of the substituent that the hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms may have include an alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, and a butoxy group; an alkenyl group such as a vinyl group, an allyl group, and a butenyl group; An aryl group such as a phenyl group, a naphthyl group and a biphenyl group; an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a butyl group and a t-butyl group; an ether bond and an ester bond.

炭素原子数1〜10の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基のような分岐していてもよい鎖状のアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基のような脂環族炭化水素基;ベンジル基、フェネチル基のようなアリール基置換アルキル基;メトキシ基置換アルキル基、エトキシ基置換アルキル基、ブトキシ基置換アルキル基のようなアルコキシ基置換アルキル基;ビニル基、アリル基、ブテニル基のようなアルケニル基;フェニル基、ナフチル基のようなアリール基;トリル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基、ブチルフェニル基、t-ブチルフェニル基のようなアルキル基置換アリール基;メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、t-ブトキシフェニル基のようなアルコキシ基置換アリール基などが挙げられる。   Examples of the hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a t-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, and an octyl group. , A branched alkyl group such as decyl group; an alicyclic hydrocarbon group such as cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclopentenyl group, cyclohexenyl group; benzyl group, phenethyl group Aryl group-substituted alkyl groups such as: methoxy group-substituted alkyl groups, ethoxy group-substituted alkyl groups, alkoxy group-substituted alkyl groups such as butoxy group-substituted alkyl groups; alkenyl groups such as vinyl groups, allyl groups, and butenyl groups; phenyl Group, aryl group such as naphthyl group; tolyl group, dimethylphenyl group, ethylphenyl group, butyl group Group, an alkyl group substituted aryl group such as t- butylphenyl group; methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, an alkoxy group-substituted aryl group such as a t- butoxyphenyl group.

1は同一でも異なっていてもよい。
nはそれぞれ独立に0〜4の整数であり、ガラス転移温度が高くなり、接着性により優れるという観点から、0、1、2であるのが好ましく、0であるのがより好ましい。
R 1 may be the same or different.
Each n is independently an integer of 0 to 4, and is preferably 0, 1, or 2 and more preferably 0 from the viewpoint that the glass transition temperature is high and the adhesiveness is excellent.

ベンゾオキサジン化合物としては、例えば、下記式(4)で表される化合物、P−d型ベンゾオキサジン(商品名P−d型ベンゾオキサジン、四国化成工業社製)が挙げられる。
Examples of the benzoxazine compound include a compound represented by the following formula (4) and Pd-type benzoxazine (trade name Pd-type benzoxazine, manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.).

なかでも、ガラス転移温度が高くなり、接着性により優れるという観点から、式(4)で表される化合物、P−d型ベンゾオキサジンが好ましい。
ベンゾオキサジン化合物はそれぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
Of these, the compound represented by the formula (4) and Pd-type benzoxazine are preferable from the viewpoint that the glass transition temperature is high and the adhesiveness is excellent.
The benzoxazine compounds can be used alone or in combination of two or more.

エポキシ樹脂の量は、ガラス転移温度が高くなり、接着性に優れるという観点から、エポキシ樹脂およびベンゾオキサジン化合物の合計量の90質量%未満であるのが好ましい。
エポキシ樹脂の量がエポキシ樹脂およびベンゾオキサジン化合物の合計量の90質量%未満である場合、ベンゾオキサジン化合物は10質量%を超える量となる。
また、エポキシ樹脂とベンゾオキサジン化合物との量は、ガラス転移温度がより高くなり、接着性により優れるという観点から、エポキシ樹脂に対するベンゾオキサジン化合物の比(ベンゾオキサジン化合物/エポキシ樹脂)が、質量比で、10超/90未満〜80/20であるのが好ましく、20/80〜80/20であるのがより好ましい。
The amount of the epoxy resin is preferably less than 90% by mass of the total amount of the epoxy resin and the benzoxazine compound from the viewpoint that the glass transition temperature becomes high and the adhesiveness is excellent.
When the amount of the epoxy resin is less than 90% by mass of the total amount of the epoxy resin and the benzoxazine compound, the amount of the benzoxazine compound exceeds 10% by mass.
In addition, the amount of the epoxy resin and the benzoxazine compound is such that the ratio of the benzoxazine compound to the epoxy resin (benzoxazine compound / epoxy resin) in terms of mass ratio, from the viewpoint that the glass transition temperature becomes higher and the adhesiveness is superior. It is preferably more than 10 / less than 90 to 80/20, more preferably 20/80 to 80/20.

本発明の組成物は、エポキシ樹脂、チオール化合物、アミン化合物、イミダゾール化合物、フェノール化合物およびベンゾオキサジン化合物のほかに、本発明の目的を損わない範囲で、例えば、硬化触媒、シランカップリング剤、フィラー(充填剤)、可塑剤、酸化防止剤、老化防止剤、無機顔料、有機顔料、接着付与剤、難燃剤、脱水剤、溶剤、チクソトロピー付与剤、帯電防止剤、充填剤のような添加剤を配合することができる。添加剤の量は特に制限されない。   The composition of the present invention includes an epoxy resin, a thiol compound, an amine compound, an imidazole compound, a phenol compound and a benzoxazine compound, as long as the object of the present invention is not impaired, for example, a curing catalyst, a silane coupling agent, Additives such as fillers (fillers), plasticizers, antioxidants, anti-aging agents, inorganic pigments, organic pigments, adhesion-imparting agents, flame retardants, dehydrating agents, solvents, thixotropic agents, anti-static agents, fillers Can be blended. The amount of the additive is not particularly limited.

硬化触媒は、エポキシ樹脂またはチオール化合物に対して使用できるものであれば特に制限されない。例えば、2−エチルヘキサン酸、オレイン酸のようなカルボン酸類;ポリリン酸、エチルアシッドホスフェート、ブチルアシッドホスフェートのようなリン酸類;ジブチルスズジラウレート、ジオクチルスズジラウレートのような有機金属類が挙げられる。   The curing catalyst is not particularly limited as long as it can be used for an epoxy resin or a thiol compound. Examples thereof include carboxylic acids such as 2-ethylhexanoic acid and oleic acid; phosphoric acids such as polyphosphoric acid, ethyl acid phosphate, and butyl acid phosphate; and organic metals such as dibutyltin dilaurate and dioctyltin dilaurate.

シランカップリング剤は、エポキシ樹脂またはチオール化合物と反応する官能基と加水分解性ケイ素含有基とを有する化合物であれば特に限定されない。
官能基としては、例えば、アミノ基、イミノ基、ウレイド基、メルカプト基、酸無水物基等が挙げられる。
加水分解性ケイ素含有基は、上述の加水分解性シリル基と同様である。
シランカップリング剤としては、例えば、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルエチルジエトキシシラン、ビストリメトキシシリルプロピルアミン、ビストリエトキシシリルプロピルアミン、ビスメトキシジメトキシシリルプロピルアミン、ビスエトキシジエトキシシリルプロピルアミン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルエチルジエトキシシラン、3,3−ジメチル−4−アミノブチルトリメトキシシラン、3,3−ジメチル−4−アミノブチルメチルジメトキシシラン等のアミノシラン化合物;(N−シクロヘキシルアミノメチル)メチルジエトキシシラン、(N−シクロヘキシルアミノメチル)トリエトキシシラン、(N−フェニルアミノメチル)メチルジメトキシシラン、(N−フェニルアミノメチル)トリメチルオキシシラン、下記式(1)で表される化合物、下記式(2)で表されるN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、下記式(3)で表される化合物等のイミノシラン化合物;
The silane coupling agent is not particularly limited as long as it is a compound having a functional group that reacts with an epoxy resin or a thiol compound and a hydrolyzable silicon-containing group.
Examples of the functional group include an amino group, an imino group, a ureido group, a mercapto group, and an acid anhydride group.
The hydrolyzable silicon-containing group is the same as the hydrolyzable silyl group described above.
Examples of the silane coupling agent include γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropylethyldiethoxysilane, bistrimethoxysilylpropylamine, and bistriethoxy. Silylpropylamine, bismethoxydimethoxysilylpropylamine, bisethoxydiethoxysilylpropylamine, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N -Β (aminoethyl) γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropylethyldiethoxysilane, 3,3-dimethyl-4-aminobutyltrimethoxysilane, 3,3-di Aminosilane compounds such as til-4-aminobutylmethyldimethoxysilane; (N-cyclohexylaminomethyl) methyldiethoxysilane, (N-cyclohexylaminomethyl) triethoxysilane, (N-phenylaminomethyl) methyldimethoxysilane, (N -Phenylaminomethyl) trimethyloxysilane, a compound represented by the following formula (1), N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane represented by the following formula (2), represented by the following formula (3) Iminosilane compounds such as compounds;

γ−ウレイドプロピルトリメトキシシラン等のウレイドシラン化合物;γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン等のメルカプト基含有シラン化合物等が挙げられる。
なかでも、硬化性、硬化後の物性に優れるという観点から、式(2)で表されるN−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランが好ましい。
シランカップリング剤は、それぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
Ureidosilane compounds such as γ-ureidopropyltrimethoxysilane; containing mercapto groups such as γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldiethoxysilane A silane compound etc. are mentioned.
Among these, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane represented by the formula (2) is preferable from the viewpoint of excellent curability and physical properties after curing.
A silane coupling agent can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.

シランカップリング剤の量は、接着性、耐水性(耐水接着性)により優れるという観点から、エポキシ樹脂100質量部に対して、0.1〜20質量部であるのが好ましく、1〜10質量部であるのがより好ましい。   The amount of the silane coupling agent is preferably 0.1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin from the viewpoint of being excellent in adhesiveness and water resistance (water-resistant adhesiveness). More preferably, it is part.

アミノシラン化合物、イミノシラン化合物、ウレイドシラン化合物のようなアミン系シランカップリング剤は、貯蔵安定性に優れるという観点から、B液に入れるのが好ましい。
また、アミン系以外のシランカップリング剤は、A液に入れることができる。
An amine-based silane coupling agent such as an aminosilane compound, an iminosilane compound, or a ureidosilane compound is preferably added to the B liquid from the viewpoint of excellent storage stability.
In addition, silane coupling agents other than amines can be added to the A liquid.

フィラーとしては、例えば、ヒュームドシリカ、焼成シリカ、沈降シリカ、粉砕シリカ、溶融シリカのようなシリカ;アエロジル;けいそう土;酸化鉄、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化バリウム、酸化マグネシウム;炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸亜鉛;ろう石クレー、カオリンクレー、焼成クレー;カーボンブラック;またはこれらを例えば、脂肪酸、樹脂酸、脂肪酸エステル、ウレタン化合物により処理した処理物が挙げられる。   Examples of the filler include fumed silica, calcined silica, precipitated silica, ground silica, fused silica, aerosil; diatomaceous earth; iron oxide, zinc oxide, titanium oxide, barium oxide, magnesium oxide; calcium carbonate, Magnesium carbonate, zinc carbonate; wax stone clay, kaolin clay, calcined clay; carbon black; or a treated product of these treated with, for example, fatty acid, resin acid, fatty acid ester or urethane compound.

可塑剤としては、例えば、ジイソノニルアジペートジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ブチルベンジルフタレート、アジピン酸ジオクチル、コハク酸イソデシル、ジエチレングリコールジベンゾエート、ペンタエリスリトールエステル、オレイン酸ブチル、アセチルリシノール酸メチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリオクチル、アジピン酸プロピレングリコールポリエステル、アジピン酸ブチレングリコールポリエステルが挙げられる。   Examples of the plasticizer include diisononyl adipate dioctyl phthalate, dibutyl phthalate, butyl benzyl phthalate, dioctyl adipate, isodecyl succinate, diethylene glycol dibenzoate, pentaerythritol ester, butyl oleate, methyl acetylricinoleate, tricresyl phosphate, phosphate Examples include trioctyl, propylene glycol adipate polyester, butylene glycol adipate polyester.

酸化防止剤としては、例えば、ブチルヒドロキシトルエン、ブチルヒドロキシアニソール、亜リン酸トリフェニル等が挙げられる。
老化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系、ベンゾトリアゾール系、ヒンダードアミン系の化合物が挙げられる。
Examples of the antioxidant include butylhydroxytoluene, butylhydroxyanisole, triphenyl phosphite and the like.
Examples of the antiaging agent include hindered phenol compounds, benzotriazole compounds, and hindered amine compounds.

無機顔料としては、例えば、二酸化チタン、酸化亜鉛、群青、ベンガラ、リトポン、鉛、カドミウム、鉄、コバルト、アルミニウム、塩酸塩、硫酸塩が挙げられる。
有機顔料としては、例えば、アゾ顔料、銅フタロシアニン顔料が挙げられる。
接着付与剤としては、例えば、テルペン樹脂、フェノール樹脂、テルペン−フェノール樹脂、ロジン樹脂、キシレン樹脂が挙げられる。
難燃剤としては、例えば、クロロアルキルホスフェート、ジメチルメチルホスホネート、臭素原子および/またはリン原子含有化合物、アンモニウムポリホスフェート、ジエチルビスヒドロキシエチルアミノエチルホスフェート、ネオペンチルブロマイドーポリエーテル、臭素化ポリエーテルが挙げられる。
脱水剤としては、例えば、アシロキシシリル基含有ポリシロキサンが挙げられる。
Examples of inorganic pigments include titanium dioxide, zinc oxide, ultramarine, bengara, lithopone, lead, cadmium, iron, cobalt, aluminum, hydrochloride, and sulfate.
Examples of organic pigments include azo pigments and copper phthalocyanine pigments.
Examples of the adhesion imparting agent include terpene resin, phenol resin, terpene-phenol resin, rosin resin, and xylene resin.
Examples of the flame retardant include chloroalkyl phosphate, dimethylmethylphosphonate, bromine atom and / or phosphorus atom-containing compound, ammonium polyphosphate, diethyl bishydroxyethylaminoethyl phosphate, neopentyl bromide polyether, and brominated polyether. Can be mentioned.
Examples of the dehydrating agent include acyloxysilyl group-containing polysiloxane.

本発明の組成物は、その製造について特に制限されない。
例えば、エポキシ樹脂とチオール化合物とフェノール化合物と必要に応じて使用することができる添加剤とを含有するA液と、アミン化合物とベンゾオキサジン化合物と必要に応じて使用することができるイミダゾール化合物、添加剤とを含有するB液とを、別々に、あらかじめ減圧下または窒素ガス存在下において、混合ミキサー等のかくはん装置を用いて十分に混練して調製することができる。
なお、ベンゾオキサジン化合物は、A液および/またはB液に用いることができる。
The composition of the present invention is not particularly limited for its production.
For example, liquid A containing an epoxy resin, a thiol compound, a phenol compound, and an additive that can be used as needed, an amine compound and a benzoxazine compound, and an imidazole compound that can be used as needed The liquid B containing the agent can be separately kneaded and prepared in advance under reduced pressure or in the presence of nitrogen gas using a stirring device such as a mixing mixer.
In addition, a benzoxazine compound can be used for A liquid and / or B liquid.

A液の調製については、硬化物全体が均一に硬化でき部分的な硬化不良を発生させず組成物の硬化性がより優れるという観点から、エポキシ樹脂とチオール化合物とを十分に混合して均一にすることが好ましい。   About preparation of A liquid, the epoxy resin and the thiol compound are fully mixed uniformly from a viewpoint that the whole hardened | cured material can harden | cure uniformly and does not generate | occur | produce the partial hardening defect, but the sclerosis | hardenability of a composition is more excellent. It is preferable to do.

本発明の組成物は、はじめにA液とB液とを接触させて予め室温で硬化させた後、さらに加熱して硬化させることが好ましい。
本発明の組成物を室温で硬化させる際の温度は、硬化時間の観点から、10〜40℃であるのが好ましく、20〜30℃であるのがより好ましい。
本発明の組成物を加熱して硬化させる際の温度は、硬化時間の観点から、80〜180℃であるのが好ましく、120〜180℃であるのがより好ましい。
It is preferable that the composition of the present invention is first cured by bringing the liquid A and the liquid B into contact with each other and curing in advance at room temperature.
The temperature at which the composition of the present invention is cured at room temperature is preferably 10 to 40 ° C, more preferably 20 to 30 ° C, from the viewpoint of curing time.
The temperature at which the composition of the present invention is heated and cured is preferably 80 to 180 ° C, more preferably 120 to 180 ° C, from the viewpoint of curing time.

本発明の組成物の用途としては、例えば、アンダーフィル材、異方性導電性接着剤、構造用接着シール、シーリング材、接着剤、コーティング材、プライマー、塗料が挙げられる。
本発明の組成物を適用できる被着体は、特に制限されず、例えば、配線回路基板やプリント配線基板等の実装基板、各種電子部品等の機能素子、金属、プラスチック、ガラス、塗板が挙げられる。
Applications of the composition of the present invention include, for example, underfill materials, anisotropic conductive adhesives, structural adhesive seals, sealing materials, adhesives, coating materials, primers, and paints.
The adherend to which the composition of the present invention can be applied is not particularly limited, and examples thereof include mounting boards such as printed circuit boards and printed wiring boards, functional elements such as various electronic components, metals, plastics, glass, and coated plates. .

本発明の組成物は、接着性、耐水性、室温硬化性に優れる。また、本発明の組成物は、室温条件下で硬化後加熱して硬化させることができ、室温での硬化時間が1〜5時間と短時間で硬化し、均一な硬化物が得られ硬化不良が発生しにくく、接着強度が高い。   The composition of the present invention is excellent in adhesion, water resistance and room temperature curability. In addition, the composition of the present invention can be cured by heating after curing under room temperature conditions. The curing time at room temperature is cured in a short time of 1 to 5 hours, resulting in a uniform cured product and poor curing. Is less likely to occur and the adhesive strength is high.

次に、本発明の実装基板の接着方法について以下に説明する。
本発明の実装基板の接着方法は、
機能素子と実装基板とを本発明のハネムーン型接着剤組成物を用いて接着させる接着方法である。
以下これを「本発明の接着方法」ということがある。
Next, a method for bonding a mounting board according to the present invention will be described below.
The mounting method of the mounting substrate of the present invention is as follows:
This is an adhesion method in which a functional element and a mounting substrate are adhered using the honeymoon adhesive composition of the present invention.
Hereinafter, this may be referred to as “the bonding method of the present invention”.

本発明の接着方法に使用される機能素子または実装基板は、半導体技術において用いられるものであれば特に制限されない。
機能素子としては、例えば、IC、LSIのような集積回路チップが挙げられる。
一方、実装基板としては、例えば、配線回路基板、プリント配線板等が挙げられる。
本発明の接着方法は、熱に弱い部材を含む、電子部品及び/又は実装基板の接着に使用する場合、特に好ましい効果を奏することができる。
The functional element or mounting substrate used in the bonding method of the present invention is not particularly limited as long as it is used in semiconductor technology.
Examples of functional elements include integrated circuit chips such as IC and LSI.
On the other hand, examples of the mounting board include a printed circuit board and a printed wiring board.
The bonding method of the present invention can exhibit particularly favorable effects when used for bonding electronic components and / or mounting boards including members that are vulnerable to heat.

本発明の接着方法に使用されるハネムーン型接着剤組成物は、本発明のハネムーン型接着剤組成物であれば特に制限されない。
ハネムーン型接着剤組成物はA液およびB液を備えるが、A液およびB液のいずれか一方を機能素子に適用し、残りを実装基板に適用するかは特に制限されない。A液を機能素子に、かつB液を実装基板に適用することができる。また、B液を機能素子に、かつA液を実装基板に適用することができる。
The honeymoon type adhesive composition used in the bonding method of the present invention is not particularly limited as long as it is the honeymoon type adhesive composition of the present invention.
The honeymoon type adhesive composition includes the liquid A and the liquid B, but it is not particularly limited whether one of the liquid A or the liquid B is applied to the functional element and the rest is applied to the mounting substrate. A liquid can be applied to a functional element and B liquid can be applied to a mounting substrate. Moreover, B liquid can be applied to a functional element and A liquid can be applied to a mounting substrate.

本発明の接着方法としては、例えば、
エポキシ樹脂とチオール化合物とを混合する混合工程と、
A液を実装基板に塗布し、B液を機能素子に塗布する塗布工程と、
実装基板の塗布面と機能素子の塗布面とが接するように実装基板と機能素子とを重ね合わせて、A液とB液とを室温で硬化させて積層体とする室温硬化工程と、
積層体を加熱して実装基板組み立て体とする加熱硬化工程とを具備する実装基板の接着方法が挙げられる。
以下、当該接着方法を「本発明の接着方法A」ということがある。
As the bonding method of the present invention, for example,
A mixing step of mixing an epoxy resin and a thiol compound;
An application step of applying A liquid to the mounting substrate and applying B liquid to the functional element;
A room temperature curing step in which the mounting substrate and the functional element are superposed so that the application surface of the mounting substrate and the application surface of the functional element are in contact with each other, and the liquid A and the liquid B are cured at room temperature to form a laminate;
There is a method for bonding a mounting substrate, which includes a heat curing step in which the laminated body is heated to form a mounting substrate assembly.
Hereinafter, the adhesion method may be referred to as “the adhesion method A of the present invention”.

本発明の接着方法Aについて以下に説明する。
混合工程は、エポキシ樹脂とチオール化合物とを混合して混合物とする工程である。
混合工程において、エポキシ樹脂およびチオール化合物の他に添加剤を加えて混合することができる。
A液の調製については、硬化物全体が均一に硬化でき部分的な硬化不良を発生させず組成物の硬化性がより優れるという観点から、エポキシ樹脂とチオール化合物とを十分に混合して均一にすることが好ましい。
混合工程は、例えば、ハネムーン型接着剤組成物のA液の調製の段階、ハネムーン型接着剤組成物の使用直前に行うことができる。
The bonding method A of the present invention will be described below.
The mixing step is a step of mixing an epoxy resin and a thiol compound to form a mixture.
In the mixing step, an additive can be added and mixed in addition to the epoxy resin and the thiol compound.
About preparation of A liquid, the epoxy resin and the thiol compound are fully mixed uniformly from a viewpoint that the whole hardened | cured material can harden | cure uniformly and does not generate | occur | produce the partial hardening defect, but the sclerosis | hardenability of a composition is more excellent. It is preferable to do.
The mixing step can be performed, for example, at the stage of preparing the liquid A of the honeymoon type adhesive composition, immediately before the use of the honeymoon type adhesive composition.

本発明の接着方法Aの塗布工程以降の工程については、添付の図面を参照しながら説明する。なお、本発明は添付の図面に制限されない。
図1は、本発明の接着方法Aを説明するための、実装基板と機能素子との要部断面の一例を模式的に表す断面図である。
図2および図3は、本発明の接着方法Aを説明するための、実装基板と機能素子との接着の一例を模式的に表す概略図である。
The steps after the coating step of the bonding method A of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The present invention is not limited to the attached drawings.
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of a cross-section of a main part of a mounting substrate and a functional element for explaining the bonding method A of the present invention.
2 and 3 are schematic views schematically illustrating an example of bonding between a mounting substrate and a functional element for explaining the bonding method A of the present invention.

塗布工程は、A液を実装基板に塗布し、B液を機能素子に塗布する工程である。
塗布工程において、A液を実装基板に塗布する方法、B液を機能素子に塗布する方法は特に制限されない。例えば、従来公知のものが挙げられる。
The application process is a process in which the liquid A is applied to the mounting substrate and the liquid B is applied to the functional element.
In the application step, the method for applying the A liquid to the mounting substrate and the method for applying the B liquid to the functional element are not particularly limited. For example, a conventionally well-known thing is mentioned.

図1(a)において、実装基板3にA剤51A、機能素子1にB剤52Bを塗布している。この場合、A剤51Aは、実装基板3上に形成された電極4(パッド部)を覆うように塗布される。B剤52Bは、機能素子1上に形成されたバンプ2(リード端子)を覆うように塗布される。   In FIG. 1A, the A agent 51A is applied to the mounting substrate 3, and the B agent 52B is applied to the functional element 1. In this case, the A agent 51 </ b> A is applied so as to cover the electrodes 4 (pad portions) formed on the mounting substrate 3. The B agent 52B is applied so as to cover the bumps 2 (lead terminals) formed on the functional element 1.

図2(a)において、B剤(図示せず。)を機能素子1(例えば、集積回路チップ)の接着面11B(B剤塗布面)に塗布する。
図2(b)において、A剤(図示せず。)を実装基板3(例えば、配線回路基板)上の所定領域31(A剤塗布面)に塗布する。
In FIG. 2A, B agent (not shown) is applied to the adhesive surface 11B (B agent application surface) of the functional element 1 (for example, an integrated circuit chip).
In FIG.2 (b), A agent (not shown) is apply | coated to the predetermined area | region 31 (A agent application surface) on the mounting board | substrate 3 (for example, wiring circuit board).

室温硬化工程は、実装基板の塗布面と機能素子の塗布面とが接するように実装基板と機能素子とを重ね合わせて、A液とB液とを室温で硬化させて積層体とする工程である。   The room temperature curing process is a process in which the mounting substrate and the functional element are overlapped so that the application surface of the mounting substrate and the application surface of the functional element are in contact with each other, and the liquid A and liquid B are cured at room temperature to form a laminate. is there.

室温硬化工程において、室温で硬化させる際の温度は上記と同義である。
室温硬化の時間は、30〜300分であるのが好ましい。
In the room temperature curing step, the temperature at the time of curing at room temperature is as defined above.
The room temperature curing time is preferably 30 to 300 minutes.

室温硬化工程においてA液とB液とが接触することによって、A剤中のチオール化合物がB剤中のアミン化合物によって活性化されエポキシ樹脂と室温で反応し硬化する。
したがって、従来のように接着剤組成物を硬化させるために高温加熱するによって、実装基板を変形させることがなく、実装基板組み立て体の導通性を優れたものとすることができる。
また、ハネムーン型接着剤組成物を加熱硬化させる前に予め室温で硬化させ実装基板と機能素子とを強固に接着することによって、加熱硬化工程において実装基板が熱によって変形するのを防ぐことができ、実装基板組み立て体の導通性を優れたものとすることができる。
When A liquid and B liquid contact in a room temperature hardening process, the thiol compound in A agent is activated by the amine compound in B agent, reacts with an epoxy resin at room temperature, and is hardened.
Therefore, the mounting substrate is not deformed by heating at a high temperature to cure the adhesive composition as in the prior art, and the conductivity of the mounting substrate assembly can be made excellent.
In addition, it is possible to prevent the mounting substrate from being deformed by heat in the heat curing process by pre-curing the honeymoon adhesive composition at room temperature before heat curing and firmly bonding the mounting substrate and the functional element. The conductivity of the mounting board assembly can be made excellent.

図1(b)において、機能素子1と実装基板3とは、機能素子1を実装基板3上に、機能素子1の各バンプ2と対応する実装基板3の各電極4とを対向させて重ね合わせて積層体10とする。
図1(b)において、A液51AとB液52Aとが接触した後、ハネムーン型接着剤組成物5は室温で硬化して硬化物5となる。
In FIG. 1B, the functional element 1 and the mounting substrate 3 are stacked on the mounting substrate 3 with the bumps 2 of the functional element 1 and the corresponding electrodes 4 of the mounting substrate 3 facing each other. It is set as the laminated body 10 collectively.
In FIG. 1B, after the A liquid 51A and the B liquid 52A are in contact, the honeymoon adhesive composition 5 is cured at room temperature to become a cured product 5.

図2(c)において、実装基板3の電極4と機能素子1のバンプ2とが対向するように位置合わせを行う。図2(c)中、参照番号53AはA剤を、54BはB剤を意味する。
次いで、図3(a)において、加圧台6a及び加圧部6bにより、機能素子1を5〜7kg/cm2の圧力で実装基板3に矢印で示す方向に室温で加圧する。
In FIG. 2C, alignment is performed so that the electrodes 4 of the mounting substrate 3 and the bumps 2 of the functional element 1 face each other. In FIG. 2C, reference numeral 53A means A agent, and 54B means B agent.
Next, in FIG. 3A, the functional element 1 is pressurized to the mounting substrate 3 at a room temperature in a direction indicated by an arrow with a pressure of 5 to 7 kg / cm 2 by the pressurizing table 6a and the pressurizing unit 6b.

加熱硬化工程は、積層体を加熱して実装基板組み立て体とする工程である。
加熱硬化工程において、加熱して硬化させる際の温度は上記と同義である。
加熱硬化の時間は、30〜360分であるのが好ましい。
加熱の方向は特に制限されない。実装基板もしくは機能素子のいずれか一方から、または実装基板および機能素子の両方向から、加熱することができる。
The heat curing step is a step of heating the laminated body to obtain a mounting substrate assembly.
In the heat curing step, the temperature when heated and cured is as defined above.
The heat curing time is preferably 30 to 360 minutes.
The direction of heating is not particularly limited. Heating can be performed from either the mounting substrate or the functional element, or from both directions of the mounting substrate and the functional element.

図1(b)において、加熱硬化工程で積層体10を加熱し(図示せず。)、積層体10を実装基板組み立て体10とすることができる。   In FIG. 1B, the laminated body 10 can be heated (not shown) in the heat curing step, and the laminated body 10 can be used as the mounting substrate assembly 10.

図3(b)において、積層体10を機能素子1側から加熱し(図示せず。)積層体10を実装基板組み立て体10とすることができる。   In FIG. 3B, the laminate 10 can be heated from the functional element 1 side (not shown) to form the laminate 10 as the mounting substrate assembly 10.

本発明の接着方法は接着性、室温硬化性に優れており、本発明の実装基板の接着方法によれば導通性、耐水性に優れる実装基板組み立て体を得ることができる。   The bonding method of the present invention is excellent in adhesion and room temperature curability, and according to the mounting substrate bonding method of the present invention, a mounting substrate assembly excellent in conductivity and water resistance can be obtained.

次に、本発明の実装基板組み立て体について以下に説明する。
本発明の実装基板組み立て体は、
実装基板のパッド部と前記実装基板の上に実装された機能素子のバンプとを本発明のハネムーン型接着剤組成物で電気的に接続したものである。
Next, the mounting board assembly of the present invention will be described below.
The mounting board assembly of the present invention is
The pad portion of the mounting substrate and the bumps of the functional element mounted on the mounting substrate are electrically connected with the honeymoon adhesive composition of the present invention.

本発明の実装基板組み立て体について添付の図面を用いて以下に説明する。なお、本発明は添付の図面に限定されない。
図4は、本発明の実装基板組み立て体の一例の断面を模式的に示す断面図である。
図4において、本発明の実装基板組み立て体400は、実装基板3のパッド部4と実装基板3の上に実装された機能素子1のバンプ2とをハネムーン型接着剤組成物5で電気的に接続したものである。
The mounting board assembly of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. The present invention is not limited to the attached drawings.
FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of an example of the mounting board assembly of the present invention.
In FIG. 4, the mounting substrate assembly 400 of the present invention electrically connects the pad portion 4 of the mounting substrate 3 and the bumps 2 of the functional element 1 mounted on the mounting substrate 3 with the honeymoon adhesive composition 5. Connected.

本発明の実装基板組み立て体に使用されるハネムーン型接着剤組成物は、本発明の組成物であれば特に制限されない。
本発明の実装基板組み立て体に使用される、実装基板および機能素子は上記と同義である。
本発明の実装基板組み立て体は本発明の組成物を使用するものであればその製造について特に制限されない。例えば、本発明の接着方法によって製造することができる。
The honeymoon type adhesive composition used for the mounting substrate assembly of the present invention is not particularly limited as long as it is the composition of the present invention.
The mounting substrate and the functional element used in the mounting substrate assembly of the present invention have the same meaning as described above.
If the mounting board assembly of this invention uses the composition of this invention, it will not restrict | limit in particular about the manufacture. For example, it can be manufactured by the bonding method of the present invention.

本発明の実装基板組み立て体は、使用されるハネムーン型接着剤組成物においてA液がチオール化合物を含有し、このことによって組成物の硬化性が均一となる。また、ハネムーン型接着剤組成物がエポキシ樹脂およびチオール化合物を含有することによってアクリル系組成物と比較して耐熱性、耐水性、接着性に優れる。また、ハネムーン型接着剤組成物が室温においての硬化性に優れ接着強度が高く、実装基板と機能素子とを室温で予め接着させておくことによってその後の加熱条件下における実装基板の反りを抑制して実装基板を平坦に保持することができ、実装基板組み立て体の導通性に優れる。   In the mounting substrate assembly of the present invention, the liquid A contains a thiol compound in the honeymoon type adhesive composition used, whereby the curability of the composition becomes uniform. In addition, since the honeymoon type adhesive composition contains an epoxy resin and a thiol compound, it is excellent in heat resistance, water resistance, and adhesiveness as compared with an acrylic composition. In addition, the honeymoon type adhesive composition is excellent in curability at room temperature and has high adhesive strength. By pre-adhering the mounting substrate and the functional element at room temperature, the warping of the mounting substrate under subsequent heating conditions is suppressed. The mounting board can be held flat, and the mounting board assembly is excellent in electrical conductivity.

以下に、実施例を示して本発明を具体的に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. However, the present invention is not limited to these.

1.評価
得られた組成物について以下の評価を行った。結果を第1表、第2表に示す。
(1)室温硬化時間
2枚のPETフィルム(縦1cm、横1cm)を準備し、そのうちの1枚にA液0.1gを塗布し、残りの1枚にB液を必要量塗布し、PETフィルムの塗布面を対向させて重ね合わせ、2枚のPETフィルムを貼り合せ、23℃の条件下で硬化するまでの時間を測定した。
1. Evaluation The following evaluation was performed about the obtained composition. The results are shown in Tables 1 and 2.
(1) Room temperature curing time Two PET films (length 1 cm, width 1 cm) are prepared, 0.1 g of A solution is applied to one of them, and a necessary amount of B solution is applied to the remaining one, and PET The two coated PET films were laminated with the coated surfaces of the films facing each other, and the time until curing at 23 ° C. was measured.

(2)接着強度
2つの被着体(縦10mm、横50mm、厚さ1.6mmのガラスエポキシ)を準備し、そのうちの1枚にA液0.1gを塗布し、残りの1枚にB液を必要量塗布し、被着体の塗布面を対向させて重ね合わせ、2つの被着体を貼り合せ、23℃の条件下で3時間置いた後、170℃で1時間加熱処理を行い、2つの被着体が接着剤を介して積層したサンプルを得た。得られたサンプルを接着強度用サンプルとした。
接着強度用サンプルを引張試験機に取り付け、引張速度1mm/分の条件下で引張試験を行い、接着強度を測定した。
(2) Adhesive strength Two adherends (10 mm long, 50 mm wide, 1.6 mm thick glass epoxy) were prepared, one of which was coated with 0.1 g of solution A, and the remaining one was B Apply the required amount of the liquid, superimpose the application surfaces of the adherends on top of each other, bond the two adherends, leave them at 23 ° C for 3 hours, and heat-treat at 170 ° C for 1 hour. A sample in which two adherends were laminated via an adhesive was obtained. The obtained sample was used as a sample for adhesive strength.
A sample for adhesive strength was attached to a tensile tester, a tensile test was performed under conditions of a tensile speed of 1 mm / min, and the adhesive strength was measured.

(3)耐水性
接着強度用サンプルをプレッシャークッカー試験機(温度121℃、湿度100%)に入れ、24時間後にプレッシャークッカー試験機から取出し、23℃の条件下で1時間置いた。1時間経過後、得られたサンプルの強度を引張試験(引張速度1mm/分)にて求めた。
耐水性の評価基準は、上記(2)接着強度の評価結果に対する耐水試験後の接着強度の強度保持率が、70%以上であるものを○、60%以上70%未満の場合を△、60%未満の場合を×とした。
(3) Water resistance The sample for adhesive strength was put into a pressure cooker tester (temperature 121 ° C., humidity 100%), taken out of the pressure cooker tester 24 hours later, and placed at 23 ° C. for 1 hour. After 1 hour, the strength of the obtained sample was determined by a tensile test (tensile speed: 1 mm / min).
The evaluation criteria for water resistance are as follows: ○ when the strength retention of the adhesive strength after the water resistance test with respect to the evaluation result of (2) adhesive strength is 70% or more, Δ when the strength retention is 60% or more and less than 70%, 60 The case where it was less than% was set as x.

(4)導通性
得られた組成物を使用して実装基板組み立て体を作製し導通試験を行った。
A液をガラスエポキシからなる配線回路基板上の所定領域に塗布した。
B液を1cm2□の集積回路チップ(約300ピンのバンプを有する)の所定面に塗布した。
(4) Conductivity A mounting substrate assembly was produced using the obtained composition and a conduction test was performed.
Liquid A was applied to a predetermined area on a printed circuit board made of glass epoxy.
The solution B was applied to a predetermined surface of a 1 cm 2 □ integrated circuit chip (having bumps of about 300 pins).

この集積回路チップの塗布面のバンプと配線回路基板の塗布面の電極との位置合わせを行った。更に、該集積回路チップを配線回路基板に、押圧装置によって5〜7kg/cm2の圧力で押圧して、組成物中のチオール化合物を室温(23℃)で180分間、硬化させて集積回路チップと配線回路基板を固定して積層体とし、当該積層体を170℃で、1時間加熱してエポキシ樹脂を熱硬化させ、実装基板組み立て体を得た。 The bumps on the coated surface of the integrated circuit chip and the electrodes on the coated surface of the wiring circuit board were aligned. Further, the integrated circuit chip is pressed against a printed circuit board with a pressure device at a pressure of 5 to 7 kg / cm 2 , and the thiol compound in the composition is cured at room temperature (23 ° C.) for 180 minutes to thereby integrate the integrated circuit chip. The printed circuit board was fixed to form a laminated body, and the laminated body was heated at 170 ° C. for 1 hour to thermally cure the epoxy resin, thereby obtaining a mounting board assembly.

得られた実装基板組み立て体について、電気を流し通電可能かどうかを試験した。
導通性の評価基準としては、通電する場合を○、通電しない場合を×とした。
常温で組成物が十分に硬化している場合、加熱時のストレスからの基板の反りが抑制され、導通不良(バンプ破断)を防ぐことができる。
About the obtained mounting substrate assembly, it was tested whether electricity could be supplied by supplying electricity.
As the evaluation criteria for continuity, the case of energization was marked with ◯, and the case of not energizing was marked with x.
When the composition is sufficiently cured at normal temperature, warpage of the substrate from stress during heating is suppressed, and poor conduction (bump breakage) can be prevented.

2.組成物の製造
(1)組成物の成分および量
第1表、第2表に示す各成分を同表に示す量(単位;質量部)で使用した。
なお、チオール化合物1〜3の量は、エポキシ樹脂1または2のエポキシ基に対するメルカプト基の当量として記載した。
また、フェノール化合物の量は、エポキシ樹脂1または2のエポキシ基に対するヒドロキシ基の当量として記載した。
また、フィラー1の量は、A液中に占めるフィラー1の重量%として記載した。
フィラー2の量は、B液中に占めるフィラー2の重量%として記載した。
(2)組成物の製造方法
A液は、第1表、第2表に示す、エポキシ樹脂とチオール化合物とを脱泡撹拌器を用いて1分間当りの回転数2,000回、2分間撹拌して混合し、ここに第1表、第2表に示す、A液の他の成分を加えてさらに撹拌して均一なものとした。
B液は、第1表、第2表に示す成分を脱泡撹拌器を用いて撹拌して均一なものとした。
2. Production of Composition (1) Components and Amount of Composition Each component shown in Tables 1 and 2 was used in an amount (unit: parts by mass) shown in the same table.
In addition, the quantity of the thiol compounds 1-3 was described as the equivalent of the mercapto group with respect to the epoxy group of the epoxy resin 1 or 2.
Moreover, the amount of the phenol compound is described as the equivalent of the hydroxy group with respect to the epoxy group of the epoxy resin 1 or 2.
Moreover, the quantity of the filler 1 was described as weight% of the filler 1 which occupies for A liquid.
The amount of the filler 2 is described as the weight% of the filler 2 in the B liquid.
(2) Production method of the composition A solution is agitated for 2 minutes at a rotational speed of 2,000 times per minute using an air bubble stirrer with the epoxy resin and thiol compound shown in Tables 1 and 2. Then, the other components shown in Tables 1 and 2 were added, and the mixture was further stirred until uniform.
Liquid B was made uniform by stirring the components shown in Tables 1 and 2 using a defoaming stirrer.

第1表、第2表に示されている各成分の詳細は以下のとおりである。
・エポキシ樹脂1:ビスフェノールA型エポキシ樹脂(EP−4100E、旭電化社製)
・エポキシ樹脂2:トリグリシジル−pアミノフェノール(MY−0510、ハンツマン・アドバンスト・マテリアルズ社製)
・ベンゾオキサジン化合物:下記式(4)で表される化合物(商品名ベンゾオキサジン P−d、四国化成工業社製)
・アクリレート1、2:NKエステルDCP(新中村化学工業社製)
・チオール化合物1:ジメルカプトエチルサルファイド
・チオール化合物2:ジペンタエリスリトールヘキサ−3−メルカプトプロピオネート(DPMP、堺化学社製)
・チオール化合物3:メルカプト基含有シラン化合物の縮合物。3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(KBM−803、信越化学工業社製)196gを水18g、ジブチル錫−ジラウレート0.5gの存在下、窒素雰囲気中室温で15時間撹拌し、反応終了後に脱溶媒することによってメルカプト基含有シラン化合物の縮合物を得た。得られた縮合物をチオール化合物3とする。
・フェノール化合物:商品名MEH−8000H、明和化成社製
・シランカップリング剤1:2−(3,4エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン(KBM−303、信越化学工業社製)
・シランカップリング剤2:N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン(KBM−573、信越化学工業社製)
・フィラー1:シリカフィラー(UF−103A、トクヤマ社製)
・フィラー2:アエロジル(RY−202S、日本アエロジル社製)
・アミン化合物1:特殊アミン(U−cat41、サンアプロケミカル社製)
・アミン化合物2:2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール(DMP−30、精工化学社製)
・重合触媒:N−メチルイミダゾール
・アミン化合物3:ケチミン(HOK−01、大都産業社製)
・過酸化物:ナイパーBMT−M(日本油脂社製)
The details of each component shown in Tables 1 and 2 are as follows.
Epoxy resin 1: bisphenol A type epoxy resin (EP-4100E, manufactured by Asahi Denka Co.)
Epoxy resin 2: triglycidyl-p aminophenol (MY-0510, manufactured by Huntsman Advanced Materials)
Benzoxazine compound: a compound represented by the following formula (4) (trade name: benzoxazine Pd, manufactured by Shikoku Chemicals)
・ Acrylate 1, 2: NK ester DCP (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
-Thiol compound 1: Dimercaptoethyl sulfide-Thiol compound 2: Dipentaerythritol hexa-3-mercaptopropionate (DPMP, manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd.)
Thiol compound 3: a condensate of mercapto group-containing silane compounds. 196 g of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane (KBM-803, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is stirred for 15 hours at room temperature in a nitrogen atmosphere in the presence of 18 g of water and 0.5 g of dibutyltin-dilaurate, and the solvent is removed after completion of the reaction. As a result, a condensate of a mercapto group-containing silane compound was obtained. The resulting condensate is designated as thiol compound 3.
-Phenol compound: Trade name MEH-8000H, manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.-Silane coupling agent 1: 2- (3,4 epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane (KBM-303, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
Silane coupling agent 2: N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (KBM-573, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
Filler 1: Silica filler (UF-103A, manufactured by Tokuyama Corporation)
Filler 2: Aerosil (RY-202S, manufactured by Nippon Aerosil)
Amine compound 1: Special amine (U-cat 41, manufactured by San Apro Chemical Co.)
Amine compound 2: 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol (DMP-30, manufactured by Seiko Chemical Co., Ltd.)
-Polymerization catalyst: N-methylimidazole-Amine compound 3: Ketimine (HOK-01, manufactured by Daito Sangyo Co., Ltd.)
・ Peroxide: Niper BMT-M (manufactured by NOF Corporation)

第1表、第2表に示す結果から明らかなように、チオール化合物を含有しない比較例1は室温硬化性に劣った。アミン化合物を含有しない比較例2は室温硬化性に劣った。B液がチオール化合物を含有する比較例3は室温硬化後硬化物全体が均一に硬化せず部分的に硬化不良が発生した
これに対して、実施例1〜15の組成物は、室温硬化性、耐水性に優れ、接着強度が高く接着性に優れる。
また、実施例1〜15の接着方法は接着性、室温硬化性に優れており、実施例1〜15の接着方法によれば導通性、耐水性に優れる実装基板組み立て体を得ることができる。
実施例1〜15の実装基板組み立て体は、導通性、耐水性に優れる。
As is apparent from the results shown in Tables 1 and 2, Comparative Example 1 containing no thiol compound was inferior in room temperature curability. Comparative Example 2 containing no amine compound was inferior in room temperature curability. In Comparative Example 3 in which the liquid B contains a thiol compound, the entire cured product was not uniformly cured after curing at room temperature, and partial curing failure occurred .
On the other hand, the compositions of Examples 1 to 15 are excellent in room temperature curability and water resistance, and have high adhesive strength and excellent adhesiveness.
Moreover, the adhesion method of Examples 1-15 is excellent in adhesiveness and room temperature curability, and according to the adhesion method of Examples 1-15 , the mounting substrate assembly excellent in electroconductivity and water resistance can be obtained.
The mounting board assemblies of Examples 1 to 15 are excellent in conductivity and water resistance.

図1は、本発明の接着方法Aを説明するための、実装基板と機能素子との要部断面の一例を模式的に表す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of a cross-section of a main part of a mounting substrate and a functional element for explaining the bonding method A of the present invention. 図2は、本発明の接着方法Aを説明するための、実装基板と機能素子との接着の一例を模式的に表す概略図である。FIG. 2 is a schematic view schematically illustrating an example of bonding between a mounting substrate and a functional element for explaining the bonding method A of the present invention. 図3は、本発明の接着方法Aを図2に引き続いて順に説明する概略図である。FIG. 3 is a schematic view illustrating the bonding method A of the present invention in order following FIG. 図4は、本発明の実装基板組み立て体の一例の断面を模式的に示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of an example of the mounting board assembly of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 機能素子
2 バンプ
3 実装基板
4 電極
5 ハネムーン型接着剤組成物、硬化物
51A A液
52B B液
6a 加圧台
6b 加圧部
10 積層体、実装基板組み立て体
11B B剤塗布面
31A A剤塗布面
53A A剤
54B B剤
400 実装基板組み立て体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Functional element 2 Bump 3 Mounting board 4 Electrode 5 Honeymoon type adhesive composition, hardened | cured material 51A A liquid 52B B liquid 6a Pressurization stand 6b Pressurization part 10 Laminated body, mounting board assembly 11B B agent application surface 31A A agent Coating surface 53A A agent 54B B agent 400 Mounting board assembly

Claims (17)

分子内に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂と、分子内に2個以上のメルカプト基を有するチオール化合物とを含有するA液と、
ポリアミン化合物を含有するB液とからなり、
前記A液を第1の被着体に塗布し、前記B液を第2の被着体に塗布し、前記第1の被着体と前記第2の被着体とを塗布面で貼り合わせる、ハネムーン型接着剤組成物。
A liquid containing an epoxy resin having two or more epoxy groups in the molecule and a thiol compound having two or more mercapto groups in the molecule;
Ri Do and a B solution containing the polyamine compound,
The liquid A is applied to the first adherend, the liquid B is applied to the second adherend, and the first adherend and the second adherend are bonded together on the application surface. , Honeymoon type adhesive composition.
前記メルカプト基が、前記エポキシ基に対して0.1〜0.6当量である請求項1に記載のハネムーン型接着剤組成物。   The honeymoon adhesive composition according to claim 1, wherein the mercapto group is 0.1 to 0.6 equivalents relative to the epoxy group. 前記チオール化合物が、ジチオール、トリチオール、テトラチオール、ヘキサチオール、メルカプト基含有シラン化合物及びメルカプト基含有シラン化合物の縮合物からなる群から選ばれる少なくとも1種である請求項1又は2に記載のハネムーン型接着剤組成物。  3. The honeymoon type according to claim 1, wherein the thiol compound is at least one selected from the group consisting of dithiol, trithiol, tetrathiol, hexathiol, a mercapto group-containing silane compound, and a condensate of a mercapto group-containing silane compound. Adhesive composition. 前記チオール化合物が、メルカプト基含有シラン化合物の縮合物である請求項1〜3のいずれかに記載のハネムーン型接着剤組成物。   The honeymoon type adhesive composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the thiol compound is a condensate of a mercapto group-containing silane compound. 前記ポリアミン化合物が、脂肪族ポリアミン、脂環式ポリアミン、芳香族ポリアミン及び潜在性硬化剤からなる群から選ばれる少なくとも1種である請求項1〜4のいずれかに記載のハネムーン型接着剤組成物。The honeymoon adhesive composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the polyamine compound is at least one selected from the group consisting of an aliphatic polyamine, an alicyclic polyamine, an aromatic polyamine, and a latent curing agent. . 前記ポリアミン化合物が、第三級アミンである請求項1〜のいずれかに記載のハネムーン型接着剤組成物。 The polyamine compound, honeymoon type adhesive composition according to any one of claims 1 to 5 which is a tertiary amine. 前記ポリアミン化合物の量は、前記エポキシ樹脂100質量部に対して、0.1〜5質量部である請求項1〜6のいずれかに記載のハネムーン型接着剤組成物。The amount of the said polyamine compound is 0.1-5 mass parts with respect to 100 mass parts of said epoxy resins, The honeymoon type adhesive composition in any one of Claims 1-6. 前記B液が、さらに、イミダゾール化合物を含有する請求項1〜のいずれかに記載のハネムーン型接着剤組成物。 The honeymoon adhesive composition according to any one of claims 1 to 7 , wherein the liquid B further contains an imidazole compound. 前記A液が、さらに、フェノール化合物を含有する請求項1〜のいずれかに記載のハネムーン型接着剤組成物。 The honeymoon adhesive composition according to any one of claims 1 to 8 , wherein the liquid A further contains a phenol compound. 前記A液および/または前記B液が、さらに、ベンゾオキサジン化合物を含有する請求項1〜のいずれかに記載のハネムーン型接着剤組成物。 The honeymoon adhesive composition according to any one of claims 1 to 9 , wherein the liquid A and / or the liquid B further contains a benzoxazine compound. 前記メルカプト基が、前記エポキシ基に対して0.1〜0.5当量である請求項1〜10のいずれかに記載のハネムーン型接着剤組成物。  The honeymoon adhesive composition according to any one of claims 1 to 10, wherein the mercapto group is 0.1 to 0.5 equivalents relative to the epoxy group. 前記A液を前記第1の被着体着体としての機能素子に適用しかつ前記B液を前記第2の被着体着体としての実装基板に適用する、又は、前記B液を前記第1の被着体着体としての機能素子に適用しかつ前記A液を前記第2の被着体着体としての実装基板に適用する、請求項1〜11のいずれかに記載のハネムーン型接着剤組成物。Applying the liquid A to a functional element as the first adherend and / or applying the liquid B to a mounting substrate as the second adherend, or applying the liquid B to the first adherend The honeymoon type adhesion according to any one of claims 1 to 11, which is applied to a functional element as one adherend adherend and the liquid A is applied to a mounting substrate as the second adherend adherend. Agent composition. 前記B液が、さらに、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルエチルジエトキシシラン、ビストリメトキシシリルプロピルアミン、ビストリエトキシシリルプロピルアミン、3,3−ジメチル−4−アミノブチルトリメトキシシラン、3,3−ジメチル−4−アミノブチルメチルジメトキシシラン、(N−シクロヘキシルアミノメチル)メチルジエトキシシラン、(N−シクロヘキシルアミノメチル)トリエトキシシラン、(N−フェニルアミノメチル)メチルジメトキシシラン、(N−フェニルアミノメチル)トリメチルオキシシラン、下記式(1)で表される化合物、下記式(2)で表される化合物、及び、下記式(3)で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種を含有する請求項1〜12のいずれかに記載のハネムーン型接着剤組成物。The liquid B further comprises γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropylethyldiethoxysilane, bistrimethoxysilylpropylamine, bistriethoxysilylpropyl. Amine, 3,3-dimethyl-4-aminobutyltrimethoxysilane, 3,3-dimethyl-4-aminobutylmethyldimethoxysilane, (N-cyclohexylaminomethyl) methyldiethoxysilane, (N-cyclohexylaminomethyl) tri Ethoxysilane, (N-phenylaminomethyl) methyldimethoxysilane, (N-phenylaminomethyl) trimethyloxysilane, a compound represented by the following formula (1), a compound represented by the following formula (2), and the following Expressed by equation (3) Honeymoon-type adhesive composition according to any one of claims 1 to 12 containing at least one selected from the group consisting of that compound.
前記A液が、さらに、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン及び2−(3,4エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランからなる群から選ばれる少なくとも1種を含有する請求項1〜13のいずれかに記載のハネムーン型接着剤組成物。The solution A further comprises γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldiethoxysilane, and 2- (3,4 epoxycyclohexyl) ethyl. The honeymoon type | mold adhesive composition in any one of Claims 1-13 containing at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of trimethoxysilane. 機能素子と実装基板とを請求項1〜14のいずれかに記載のハネムーン型接着剤組成物を用いて接着させる実装基板の接着方法。 Functional element and the mounting substrate and the claims 1-14 the method of bonding the mounting substrate to be bonded using honeymoon adhesive composition according to any one of. 前記エポキシ樹脂と前記チオール化合物とを混合する混合工程と、
前記A液を前記実装基板に塗布し、前記B液を前記機能素子に塗布する塗布工程と、
前記実装基板の塗布面と前記機能素子の塗布面とが接するように前記実装基板と前記機能素子とを重ね合わせて、前記A液と前記B液とを室温で硬化させて積層体とする室温硬化工程と、
前記積層体を加熱して実装基板組み立て体とする加熱硬化工程とを具備する請求項15に記載の実装基板の接着方法。
A mixing step of mixing the epoxy resin and the thiol compound;
Applying the liquid A to the mounting substrate and applying the liquid B to the functional element;
The mounting substrate and the functional element are overlapped so that the application surface of the mounting substrate and the application surface of the functional element are in contact with each other, and the liquid A and the liquid B are cured at room temperature to form a laminate. Curing process;
The mounting substrate bonding method according to claim 15 , further comprising a heat curing step of heating the laminated body to obtain a mounting substrate assembly.
実装基板のパッド部と前記実装基板の上に実装された機能素子のバンプとを請求項1〜14のいずれかに記載のハネムーン型接着剤組成物で電気的に接続した実装基板組み立て体。 Mounting board assembly electrically connected with honeymoon adhesive composition according to any one of the pad portion of the mounting substrate and the bump of the mounted functional element on the mounting substrate according to claim 1-14.
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