JP5088146B2 - Liquid epoxy resin composition for sealant - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid epoxy resin composition for a sealant that exhibits room temperature-curability and can be converted into a sealed item having a high glass transition temperature and excellent adhesive properties by heating and postcuring under a condition of a low temperature and a short time, and to provide an electronic part device exhibiting excellent heat resistance and adhesive properties that has an element sealed using the liquid epoxy resin composition for a sealant. <P>SOLUTION: The liquid epoxy resin composition for a sealant comprises an epoxy resin (A) bearing at least three epoxy groups in one molecule, an organic compound (B) bearing at least two mercapto groups in one molecule and a benzoxazine compound (C) having a specific structure, where the amount of the epoxy resin (A) is less than 90 mass% of the total amount of the epoxy resin (A) and the benzoxazine compound (C). The electronic part device comprises an element sealed using the liquid epoxy resin composition for a sealant. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、封止剤用液状エポキシ樹脂組成物に関する。
より詳細には、本発明は、室温硬化性を持ち、低温、短時間の条件下において加熱しポストキュアさせることによって、高いガラス転移温度と優れた接着性を有する封止体となることができる封止剤用液状エポキシ樹脂組成物と、当該封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を用いて封止された素子を有する、耐熱性、接着性に優れる電子部品装置に関するものである。
The present invention relates to a liquid epoxy resin composition for a sealant.
More specifically, the present invention has room temperature curability and can be a sealed body having a high glass transition temperature and excellent adhesiveness by heating and post-curing under low temperature and short time conditions. The present invention relates to a liquid epoxy resin composition for a sealant and an electronic component device having an element sealed with the liquid epoxy resin composition for a sealant and having excellent heat resistance and adhesiveness.

従来、素子の高集積化、高密度化とパッケージの薄型化、小型化の要求から、基板と素子とを封止する方法として、例えば、フリップチップ等のような素子を基板に接続し、その後基板と素子との間や素子の周囲をアンダーフィル剤で封止するキャピラリーフロー方式や、アンダーフィル剤を基板に予め塗布しておきここに素子を仮実装させたのちリフローによってはんだ接合とアンダーフィル剤による封止を一括して行うアンダーフィル剤先付け方式が提案されている。
そして、アンダーフィル剤として使用することができるエポキシ樹脂組成物として特許文献1が提案されている。
また、エポキシ樹脂を含有し、半導体等を封止する組成物として特許文献2〜4が提案されている。
Conventionally, as a method for sealing a substrate and an element in response to a demand for higher integration, higher density, thinner package and smaller size of the element, for example, an element such as a flip chip is connected to the substrate, and then Capillary flow method that seals between and around the substrate with an underfill agent, or solder coating and underfill by reflow after applying the underfill agent to the substrate in advance and temporarily mounting the element here There has been proposed an underfill agent pre-adhesion method in which sealing with an agent is performed collectively.
And patent document 1 is proposed as an epoxy resin composition which can be used as an underfill agent.
Patent Documents 2 to 4 have been proposed as compositions that contain an epoxy resin and seal a semiconductor or the like.

特開2006−16576号公報JP 2006-16576 A 特開平11−140278号公報JP-A-11-140278 特開2001−278954号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2001-278554 特開2006−206642号公報JP 2006-206642 A

しかしながら、従来用いられている電子材料用エポキシ樹脂組成物を硬化させて封止体とする場合、封止体の耐熱性を高くするために、エポキシ樹脂組成物を一般的に高温で加熱して硬化させることが必要であった。
従来のエポキシ樹脂組成物を低温硬化し、電子部品装置の封止剤として使用する場合、十分な封止剤の耐熱性、接着性を得ることが困難であった。
そこで、本発明は、室温硬化性を持ち、低温、短時間の条件下において加熱しポストキュアさせることによって、高いガラス転移温度と優れた接着性を有する封止体となることができる封止剤用液状エポキシ樹脂組成物と、当該封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を用いて封止された素子を有する、耐熱性、接着性に優れる電子部品装置とを提供することを目的とする。
However, when a conventionally used epoxy resin composition for electronic materials is cured to form a sealed body, the epoxy resin composition is generally heated at a high temperature in order to increase the heat resistance of the sealed body. It was necessary to cure.
When a conventional epoxy resin composition is cured at a low temperature and used as a sealant for an electronic component device, it has been difficult to obtain sufficient heat resistance and adhesiveness of the sealant.
Therefore, the present invention is a sealant that has room temperature curability and can be a sealed body having a high glass transition temperature and excellent adhesiveness by heating and post-curing under low temperature and short time conditions. It is an object of the present invention to provide a liquid epoxy resin composition for use and an electronic component device having an element sealed using the liquid epoxy resin composition for a sealant and having excellent heat resistance and adhesiveness.

本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、1分子内に3個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂(A)と、1分子内に2個以上のメルカプト基を有する有機化合物(B)と、特定の構造を有するベンゾオキサジン化合物(C)とを含有し、前記エポキシ樹脂(A)の量が、前記エポキシ樹脂(A)および前記ベンゾオキサジン化合物(C)の合計量の90質量%未満である封止剤用液状エポキシ樹脂組成物が室温硬化性を持ち、低温、短時間の条件下において加熱しポストキュアさせることによって、高いガラス転移温度と優れた接着性を有する封止体となることができる封止剤用液状エポキシ樹脂組成物であること、および当該封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を用いて封止された素子を有する電子部品装置が、耐熱性、接着性に優れることを見出して、本発明を完成させた。   As a result of diligent research to solve the above problems, the present inventor has obtained an epoxy resin (A) having three or more epoxy groups in one molecule and an organic compound having two or more mercapto groups in one molecule ( B) and a benzoxazine compound (C) having a specific structure, and the amount of the epoxy resin (A) is 90 mass of the total amount of the epoxy resin (A) and the benzoxazine compound (C). % Sealing resin having a high glass transition temperature and excellent adhesion by heating and post-curing under low temperature and short time conditions. And an electronic component device having an element sealed with the liquid epoxy resin composition for a sealant, having a heat resistance, And it found that the superior sex, has led to the completion of the present invention.

すなわち、本発明は、下記(1)〜()を提供する。
(1) 1分子内に3個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂(A)と、
1分子内に2個以上のメルカプト基を有する有機化合物(B)と、
下記式()で表されるベンゾオキサジン化合物(C)とを含有し、
前記エポキシ樹脂(A)の量が、前記エポキシ樹脂(A)および前記ベンゾオキサジン化合物(C)の合計量の90質量%未満である封止剤用液状エポキシ樹脂組成物であって、前記有機化合物(B)がメルカプト基含有シラン化合物の縮合物(D)である封止剤用液状エポキシ樹脂組成物。

(2) 前記エポキシ樹脂(A)が下記式(2)で表される上記(1)に記載の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物。

(式中、R2はそれぞれ独立に炭素原子数1〜10の炭化水素基であり、前記炭化水素基は置換基を有してもよく、R2は同一であっても異なっていてもよく、nは0〜4の整数である。)
) 前記有機化合物(B)が有するメルカプト基の量が、前記エポキシ樹脂(A)が有するエポキシ基に対して、0.1〜0.5当量である上記(1)または(2)に記載の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物。
(4) 電子材料を上記(1)〜(3)のいずれかに記載の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を用いて封止することによって得られる封止された電子材料。
) 基板と素子とを上記(1)〜()のいずれかに記載の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を用いて封止することによって得られる電子部品装置。
) 素子を基板に搭載した後、前記素子と前記基板とを上記(1)〜()のいずれかに記載の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を用いて封止することによって封止された電子部品装置を製造する電子部品装置の製造方法。
) 素子および基板のうちの一方または両方に上記(1)〜()のいずれかに記載の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を塗布した後、前記素子を前記基板に搭載して前記素子を前記基板に接着させることによって封止された電子部品装置を製造する電子部品装置の製造方法。
That is, the present invention provides the following (1) to ( 7 ).
(1) an epoxy resin (A) having three or more epoxy groups in one molecule;
An organic compound (B) having two or more mercapto groups in one molecule;
A benzoxazine compound (C) represented by the following formula ( 4 ),
A liquid epoxy resin composition for a sealant, wherein the amount of the epoxy resin (A) is less than 90% by mass of the total amount of the epoxy resin (A) and the benzoxazine compound (C), and the organic compound A liquid epoxy resin composition for a sealant, wherein (B) is a condensate (D) of a mercapto group-containing silane compound.

(2) The liquid epoxy resin composition for sealing agents according to (1), wherein the epoxy resin (A) is represented by the following formula (2).

(In the formula, each R 2 is independently a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and the hydrocarbon group may have a substituent, and R 2 may be the same or different. , N is an integer from 0 to 4.)
( 3 ) In the above (1) or (2) , the amount of the mercapto group that the organic compound (B) has is 0.1 to 0.5 equivalents relative to the epoxy group that the epoxy resin (A) has. The liquid epoxy resin composition for sealing agents as described.
(4) A sealed electronic material obtained by sealing an electronic material using the liquid epoxy resin composition for a sealant according to any one of (1) to (3).
( 5 ) An electronic component device obtained by sealing a substrate and an element using the liquid epoxy resin composition for a sealant according to any one of (1) to ( 3 ).
( 6 ) After mounting the element on the substrate, the element and the substrate are sealed by sealing with the liquid epoxy resin composition for sealant according to any one of (1) to ( 3 ) above. An electronic component device manufacturing method for manufacturing a stopped electronic component device.
( 7 ) After apply | coating the liquid epoxy resin composition for sealing agents in any one of said (1)-( 3 ) to one or both of an element and a board | substrate, the said element is mounted in the said board | substrate. An electronic component device manufacturing method for manufacturing a sealed electronic component device by bonding the element to the substrate.

本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物は、室温硬化性を持ち、低温、短時間の条件下において加熱しポストキュアさせることによって、高いガラス転移温度と優れた接着性を有する封止体となることができる。
また、本発明の電子部品装置は、耐熱性、接着性に優れる。
The liquid epoxy resin composition for a sealant of the present invention has room temperature curability and has a high glass transition temperature and excellent adhesion by heating and post-curing under low temperature and short time conditions. Can be.
The electronic component device of the present invention is excellent in heat resistance and adhesiveness.

本発明について以下詳細に説明する。
まずはじめに本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物について説明する。
本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物は、
1分子内に3個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂(A)と、
1分子内に2個以上のメルカプト基を有する有機化合物(B)と、
下記式(1)で表されるベンゾオキサジン化合物(C)とを含有し、
前記エポキシ樹脂(A)の量が、前記エポキシ樹脂(A)および前記ベンゾオキサジン化合物(C)の合計量の90質量%未満である組成物である。
式中、R1はそれぞれ独立に炭素原子数1〜10の炭化水素基であり、前記炭化水素基は置換基を有してもよく、R1は同一であっても異なっていてもよく、nはそれぞれ独立に0〜4の整数である。
The present invention will be described in detail below.
First, the liquid epoxy resin composition for a sealant of the present invention will be described.
The liquid epoxy resin composition for sealant of the present invention is
An epoxy resin (A) having three or more epoxy groups in one molecule;
An organic compound (B) having two or more mercapto groups in one molecule;
A benzoxazine compound (C) represented by the following formula (1):
In the composition, the amount of the epoxy resin (A) is less than 90% by mass of the total amount of the epoxy resin (A) and the benzoxazine compound (C).
In the formula, each R 1 is independently a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, the hydrocarbon group may have a substituent, and R 1 may be the same or different, n is an integer of 0-4 each independently.

エポキシ樹脂(A)について以下に説明する。
本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物に含有されるエポキシ樹脂(A)は、1分子内に3個以上のエポキシ基を有するものである。
The epoxy resin (A) will be described below.
The epoxy resin (A) contained in the liquid epoxy resin composition for sealant of the present invention has three or more epoxy groups in one molecule.

エポキシ樹脂(A)としては、例えば、N,N,N′,N′−テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン(TGDDM)、テトラグリシジル−m−キシリレンジアミン、トリグリシジル−p−アミノクレゾール、1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサンのようなグリシジルアミン型エポキシ樹脂;フェノールノボラック型、オルソクレゾールノボラック型、トリスヒドロキシフェニルメタン型、テトラフェニロールエタン型のような多官能タイプのグリシジルエーテル型エポキシ樹脂が挙げられる。   Examples of the epoxy resin (A) include N, N, N ′, N′-tetraglycidyldiaminodiphenylmethane (TGDDM), tetraglycidyl-m-xylylenediamine, triglycidyl-p-aminocresol, 1,3-bis. Glycidylamine type epoxy resin such as (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane; Multifunctional glycidyl ether type such as phenol novolac type, orthocresol novolak type, trishydroxyphenylmethane type, tetraphenylolethane type An epoxy resin is mentioned.

エポキシ樹脂は、それぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
また、エポキシ樹脂(A)として、例えば、下記式(2)で表されるエポキシ樹脂が挙げられる。
An epoxy resin can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.
Moreover, as an epoxy resin (A), the epoxy resin represented by following formula (2) is mentioned, for example.

式中、R2はそれぞれ独立に炭素原子数1〜10の炭化水素基であり、前記炭化水素基は置換基を有してもよく、R2は同一であっても異なっていてもよく、nは0〜4の整数である。 In the formula, each R 2 is independently a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, the hydrocarbon group may have a substituent, and R 2 may be the same or different, n is an integer of 0-4.

炭素原子数1〜10の炭化水素基は特に制限されない。
また、炭化水素基は置換基を有することができる。
炭素原子数1〜10の炭化水素基が有することができる置換基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基のようなアルコキシ基;ビニル基、アリル基、ブテニル基のようなアルケニル基;フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基のようなアリール基;メチル基、エチル基、ブチル基、t-ブチル基のようなアルキル基;エーテル結合、エステル結合が挙げられる。
The hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms is not particularly limited.
Moreover, the hydrocarbon group can have a substituent.
Examples of the substituent that the hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms may have include an alkoxy group such as a methoxy group, an ethoxy group, and a butoxy group; an alkenyl group such as a vinyl group, an allyl group, and a butenyl group; An aryl group such as a phenyl group, a naphthyl group and a biphenyl group; an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a butyl group and a t-butyl group; an ether bond and an ester bond.

炭素原子数1〜10の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基のような分岐していてもよい鎖状のアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基のような脂環族炭化水素基;ベンジル基、フェネチル基のようなアリール基置換アルキル基;メトキシ基置換アルキル基、エトキシ基置換アルキル基、ブトキシ基置換アルキル基のようなアルコキシ基置換アルキル基;ビニル基、アリル基、ブテニル基のようなアルケニル基;フェニル基、ナフチル基のようなアリール基;トリル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基、ブチルフェニル基、t-ブチルフェニル基のようなアルキル基置換アリール基;メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、t-ブトキシフェニル基のようなアルコキシ基置換アリール基などが挙げられる。   Examples of the hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a t-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, and an octyl group. , A branched alkyl group such as decyl group; an alicyclic hydrocarbon group such as cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclopentenyl group, cyclohexenyl group; benzyl group, phenethyl group Aryl group-substituted alkyl groups such as: methoxy group-substituted alkyl groups, ethoxy group-substituted alkyl groups, alkoxy group-substituted alkyl groups such as butoxy group-substituted alkyl groups; alkenyl groups such as vinyl groups, allyl groups, and butenyl groups; phenyl Group, aryl group such as naphthyl group; tolyl group, dimethylphenyl group, ethylphenyl group, butyl group Group, an alkyl group substituted aryl group such as t- butylphenyl group; methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, an alkoxy group-substituted aryl group such as a t- butoxyphenyl group.

2は同一でも異なっていてもよい。
nは、0〜4の整数であり、なかでも0又は1が好ましく、0がより好ましい。
R 2 may be the same or different.
n is an integer of 0 to 4, among which 0 or 1 is preferable, and 0 is more preferable.

なかでも、ガラス転移温度がより高くなり、組成物の粘度を低くすることができるという観点から、エポキシ樹脂(A)は式(2)で表されるものであることが好ましい。
式(2)で表されるエポキシ樹脂としては、例えば、トリグリシジル−p−アミノフェノール、トリグリシジル−p−アミノクレゾール、トリグリシジル−m−アミノフェノールが挙げられる。
なかでも、ガラス転移温度がより高くなり、組成物の粘度を低くすることができるという観点から、トリグリシジル−p−アミノフェノールが好ましい。
Especially, it is preferable that an epoxy resin (A) is what is represented by Formula (2) from a viewpoint that a glass transition temperature becomes higher and the viscosity of a composition can be made low.
Examples of the epoxy resin represented by the formula (2) include triglycidyl-p-aminophenol, triglycidyl-p-aminocresol, and triglycidyl-m-aminophenol.
Among these, triglycidyl-p-aminophenol is preferable from the viewpoint that the glass transition temperature becomes higher and the viscosity of the composition can be lowered.

エポキシ樹脂(A)は、組成物を均一にしやすいという観点から、その重量平均分子量が、200〜2,000であるのが好ましく、200〜500であるのがより好ましい。
また、エポキシ樹脂(A)は、組成物を均一にしやすく、組成物の粘度を適正な範囲とすることができるという観点から、室温下で液状であるのが好ましい。
エポキシ樹脂(A)の、粘度計としてE型粘度計を使用して3°コーンを用いて、回転速度1r.p.m、25℃の条件下で測定した粘度は、100〜2,000mPa・sであるのが好ましく、100〜1,000mPa・sであるのがより好ましい。
エポキシ樹脂(A)は、それぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
The weight average molecular weight of the epoxy resin (A) is preferably 200 to 2,000, more preferably 200 to 500, from the viewpoint that the composition can be easily made uniform.
The epoxy resin (A) is preferably in a liquid state at room temperature from the viewpoint that the composition can be easily made uniform and the viscosity of the composition can be within an appropriate range.
Using an E-type viscometer as the viscometer of the epoxy resin (A), using a 3 ° cone, the rotational speed is 1 r. p. m, the viscosity measured under conditions of 25 ° C. is preferably 100 to 2,000 mPa · s, more preferably 100 to 1,000 mPa · s.
An epoxy resin (A) can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.

有機化合物(B)について以下に説明する。
本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物に含有される有機化合物(B)は、1分子内に2個以上のメルカプト基を有するものである。
1分子の有機化合物(B)が有するメルカプト基の数は、室温硬化性により優れるという観点から、3個以上であるのが好ましい。
メルカプト基は、有機化合物(B)の末端、両末端または骨格内に結合することができる。
有機化合物(B)は、メルカプト基の他に、例えば、カルボニル基、尿素基(カルバミド基)、イソシアネート基、アルコキシシリル基のような官能基;エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合のような結合を少なくとも1個有することができる。
The organic compound (B) will be described below.
The organic compound (B) contained in the liquid epoxy resin composition for an encapsulant of the present invention has two or more mercapto groups in one molecule.
The number of mercapto groups contained in one molecule of the organic compound (B) is preferably 3 or more from the viewpoint of superior room temperature curability.
The mercapto group can be bonded to the end, both ends or the skeleton of the organic compound (B).
In addition to the mercapto group, the organic compound (B) includes, for example, a functional group such as a carbonyl group, a urea group (carbamide group), an isocyanate group, and an alkoxysilyl group; an ether bond, a thioether bond, an ester bond, an amide bond, and a urethane. There can be at least one bond, such as a bond.

有機化合物(B)としては、例えば、下記式(6)で表される化合物、メルカプト基含有シラン化合物の縮合物(D)が挙げられる。
R−(SH)n (6)
式(6)中、Rは炭化水素基であり、nは2以上の整数である。
炭化水素基は特に制限されない。例えば、鎖状のまたは分岐状のアルキル基、不飽和結合を含む脂肪族炭化水素基、シクロアルキル基、芳香族炭化水素基、アラルキル基が挙げられる。
nは、室温硬化性により優れるという観点から、3以上の整数であるのが好ましい。
式(6)で表される化合物としては、メルカプト基を2個有するジチオール化合物、メルカプト基を3個以上有する3官能以上のチオール化合物が挙げられる。
Examples of the organic compound (B) include a compound represented by the following formula (6) and a condensate (D) of a mercapto group-containing silane compound.
R- (SH) n (6)
In formula (6), R is a hydrocarbon group, and n is an integer of 2 or more.
The hydrocarbon group is not particularly limited. Examples thereof include a chain or branched alkyl group, an aliphatic hydrocarbon group containing an unsaturated bond, a cycloalkyl group, an aromatic hydrocarbon group, and an aralkyl group.
n is preferably an integer of 3 or more from the viewpoint of superior room temperature curability.
Examples of the compound represented by the formula (6) include dithiol compounds having two mercapto groups and trifunctional or more thiol compounds having three or more mercapto groups.

ジチオール化合物としては、例えば、エタンジチオール、プロパンジチオール、ブタンジチオール、ペンタンジチオール、ヘキサンジチオール、ヘプタンジチオール、オクタンジチオール、ノナンジチオール、デカンジチオール、ベンゼンジチオール、トルエン−3,4−ジチオール、3,6−ジクロロ−1,2−ベンゼンジチオール、1,5−ナフタレンジチオール、ベンゼンジメタンチオール、4,4′−チオビスベンゼンチオール、2−ジ−n−ブチルアミノ−4,6−ジメルカプト−s−トリアジン、5,5−ビス(メルカプトメチル)−3,7−ジチアノナン−1,9−ジチオール、ジメルカプトプロパノール、ジチオエリトリトール、ジメルカプトエチルサルファイトが挙げられる。   Examples of the dithiol compound include ethanedithiol, propanedithiol, butanedithiol, pentanedithiol, hexanedithiol, heptanedithiol, octanedithiol, nonanedithiol, decanedithiol, benzenedithiol, toluene-3,4-dithiol, and 3,6-dichloro. -1,2-benzenedithiol, 1,5-naphthalenedithiol, benzenedimethanethiol, 4,4'-thiobisbenzenethiol, 2-di-n-butylamino-4,6-dimercapto-s-triazine, 5 , 5-bis (mercaptomethyl) -3,7-dithianonane-1,9-dithiol, dimercaptopropanol, dithioerythritol, dimercaptoethylsulfite.

3官能以上のチオール化合物としては、例えば、ポリエーテル(例えば、ポリオキシプロピレングリコール)の末端にメルカプト基を導入したポリチオール(例えば、東レ・ファインケミカル社製「QE−340M」)、トリチオグリセリン、1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリチオール(トリメルカプト−トリアジン)、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、1,2,4−トリス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,3,5−トリス(メルカプトメチル)ベンゼン、2,4,6−トリス(メルカプトメチル)メシチレン、トリス(メルカプトメチル)イソシアヌレート、トリス(3−メルカプトプロピル)イソシアヌレート、2,4,5−トリス(メルカプトメチル)−1,3−ジチオランのようなトリチオール;ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、1,2,4,5−テトラキス(メルカプトメチル)ベンゼン、テトラメルカプトブタン、ペンタエリトリチオールのようなテトラチオール;ジペンタエリスリトールヘキサ−3−メルカプトプロピオネートのようなヘキサチオールが挙げられる。   Examples of the tri- or more functional thiol compound include polythiol (for example, “QE-340M” manufactured by Toray Fine Chemical Co., Ltd.), trithioglycerin, , 3,5-triazine-2,4,6-trithiol (trimercapto-triazine), trimethylolpropane tristhioglycolate, trimethylolpropane tristhiopropionate, 1,2,4-tris (mercaptomethyl) benzene 1,3,5-tris (mercaptomethyl) benzene, 2,4,6-tris (mercaptomethyl) mesitylene, tris (mercaptomethyl) isocyanurate, tris (3-mercaptopropyl) isocyanurate, 2,4,5 -Tris (mercaptomethi) ) -1,3-dithiolane-like trithiols; pentaerythritol tetrakisthioglycolate, pentaerythritol tetrakisthiopropionate, 1,2,4,5-tetrakis (mercaptomethyl) benzene, tetramercaptobutane, pentaerythrithiol And tetrathiols such as dipentaerythritol hexa-3-mercaptopropionate.

なかでも、室温硬化性により優れるという観点から、ジペンタエリスリトールヘキサ−3−メルカプトプロピオネートのようなヘキサチオール化合物;メルカプト基含有シラン化合物の縮合物が好ましい。   Among these, from the viewpoint of superior room temperature curability, a hexathiol compound such as dipentaerythritol hexa-3-mercaptopropionate; a condensate of a mercapto group-containing silane compound is preferable.

メルカプト基含有シラン化合物の縮合物(D)は、メルカプト基が炭化水素基を介してポリシロキサン骨格に結合している構造を有する化合物であれば特に制限されない。例えば、メルカプト基含有シラン化合物を縮合させることによって得ることができる。
縮合物(D)を製造する際に使用されるメルカプト基含有シラン化合物は、メルカプト基とケイ素原子とを有する化合物であれば特に制限されない。例えば、メルカプト基を有するシランカップリング剤が挙げられる。
メルカプト基含有シラン化合物に含まれるケイ素原子は、加水分解性シリル基(加水分解性を有するシリル基)またはシラノール基に含まれるケイ素原子であることが好ましい。
加水分解性シリル基は加水分解後シラノール基となるものであれば特に制限されない。加水分解性シリル基としては、ケイ素原子に例えばアルコキシ基、フェノキシ基が1〜3個結合しているものが挙げられる。アルコキシ基としては例えば、メトキシ基、エトキシ基が挙げられる。
ケイ素原子に結合しているアルコキシ基、フェノキシ基が1〜2個である場合、ケイ素原子に結合する残りの基は特に制限されない。例えば、メチル基、エチル基が挙げられる。
The condensate (D) of the mercapto group-containing silane compound is not particularly limited as long as it has a structure in which the mercapto group is bonded to the polysiloxane skeleton through a hydrocarbon group. For example, it can be obtained by condensing a mercapto group-containing silane compound.
The mercapto group-containing silane compound used when producing the condensate (D) is not particularly limited as long as it is a compound having a mercapto group and a silicon atom. For example, a silane coupling agent having a mercapto group can be mentioned.
The silicon atom contained in the mercapto group-containing silane compound is preferably a silicon atom contained in a hydrolyzable silyl group (silyl group having hydrolyzability) or a silanol group.
The hydrolyzable silyl group is not particularly limited as long as it becomes a silanol group after hydrolysis. Examples of the hydrolyzable silyl group include those in which 1 to 3 alkoxy groups and phenoxy groups are bonded to a silicon atom. Examples of the alkoxy group include a methoxy group and an ethoxy group.
When there are 1 to 2 alkoxy groups and phenoxy groups bonded to the silicon atom, the remaining groups bonded to the silicon atom are not particularly limited. Examples thereof include a methyl group and an ethyl group.

メルカプト基含有シラン化合物は、例えば、下記式(7)で表されるものが挙げられる。
(HS)n−R3−Si(−OR4a(−R53-a (7)
式(7)中、R3は炭素原子数1〜10の炭化水素基であり、R4、R5はそれぞれ独立に炭素原子数1〜10の炭化水素基であり、炭化水素基は置換基を有してもよく、aは1〜3の整数であり、nは1以上の整数である。
4またはR5としての炭素原子数1〜10の炭化水素基は例えば、メチル基、エチル基、フェニル基が挙げられる。
3としての炭素原子数1〜10の炭化水素基は2価であり、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基のようなアルキレン基;フェニレン基のような芳香環基が挙げられる。
炭化水素基が有することができる置換基は上記と同義である。
nは粘度、貯蔵安定性に優れるという観点から1〜2の整数であるのが好ましい。
Examples of the mercapto group-containing silane compound include those represented by the following formula (7).
(HS) n -R 3 -Si ( -OR 4) a (-R 5) 3-a (7)
In Formula (7), R 3 is a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, R 4 and R 5 are each independently a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and the hydrocarbon group is a substituent. A is an integer of 1 to 3, and n is an integer of 1 or more.
Examples of the hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms as R 4 or R 5 include a methyl group, an ethyl group, and a phenyl group.
The hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms as R 3 is divalent, for example, an alkylene group such as methylene group, ethylene group, propylene group, tetramethylene group, pentamethylene group, hexamethylene group; phenylene group An aromatic ring group such as
The substituents that the hydrocarbon group can have are as defined above.
n is preferably an integer of 1 to 2 from the viewpoint of excellent viscosity and storage stability.

メルカプト基含有シラン化合物としては、例えば、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、3−メルカプトプロピルエチルジエトキシシランが挙げられる。
なかでも、接着性により優れ、ガラス転移温度がより高くなるという観点から、3−メルカプトプロピルトリメトキシシランが好ましい。
メルカプト基含有シラン化合物は、それぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
Examples of the mercapto group-containing silane compound include 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldiethoxysilane, and 3-mercaptopropylethyldiethoxy. Examples include silane.
Among these, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane is preferable from the viewpoint of excellent adhesiveness and higher glass transition temperature.
The mercapto group-containing silane compounds can be used alone or in combination of two or more.

縮合物(D)はその製造について特に制限されない。例えば、従来公知のものが挙げられる。具体的には、メルカプト基含有シラン化合物をジブチル錫ラウレートのようなシラノール縮合触媒で反応させることによって縮合物(D)を製造することができる。   The condensate (D) is not particularly limited for its production. For example, a conventionally well-known thing is mentioned. Specifically, the condensate (D) can be produced by reacting a mercapto group-containing silane compound with a silanol condensation catalyst such as dibutyltin laurate.

メルカプト基含有シラン化合物の縮合物(D)としては、例えば、下記式(8)で表されるものが挙げられる。
式(8)中、R6、R8はそれぞれ独立に炭素原子数1〜10の炭化水素基であり、R3は炭素原子数1〜10の炭化水素基であり、前記炭化水素基は置換基を有してもよく、R7は式(7)中の−OR4または−R5であり、nは1以上の整数であり、mは1以上の整数である。
6、R8としての炭素原子数1〜10の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、フェニル基が挙げられる。
3としての炭素原子数1〜10の炭化水素基は、式(7)中のR3と同義である。
炭化水素基が有することができる置換基は前記と同義である。
Examples of the condensate (D) of the mercapto group-containing silane compound include those represented by the following formula (8).
In formula (8), R 6 and R 8 are each independently a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, R 3 is a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and the hydrocarbon group is substituted. R 7 may be —OR 4 or —R 5 in Formula (7), n is an integer of 1 or more, and m is an integer of 1 or more.
Examples of the hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms as R 6 and R 8 include a methyl group, an ethyl group, and a phenyl group.
Hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms as R 3 are the same as R 3 in the formula (7).
The substituents that the hydrocarbon group can have are as defined above.

メルカプト基含有シラン化合物の縮合物(D)としては、例えば、3−メルカプトプロピルトリメトキシシランの縮合物、3−メルカプトプロピルトリエトキシシランの縮合物、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシランの縮合物、3−メルカプトプロピルメチルジエトキシシランの縮合物が挙げられる。
なかでも、室温硬化性により優れるという観点から、3−メルカプトプロピルトリメトキシシランの縮合物が好ましい。
Examples of the condensate (D) of the mercapto group-containing silane compound include a condensate of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, a condensate of 3-mercaptopropyltriethoxysilane, and a condensate of 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3 -Mercaptopropylmethyldiethoxysilane condensates.
Among these, a condensate of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane is preferable from the viewpoint of superior room temperature curability.

また、メルカプト基含有シラン化合物の縮合物(D)は、接着性により優れ、硬化物のガラス転移温度がより高くなるという観点から、その重量平均分子量が、500〜5,000であるのが好ましく、500〜2,000であるのがより好ましい。
なお、本願明細書において、重量平均分子量は、GCP(ゲル透過カラムクロマトグラフィー)によるポリスチレン換算値である。
In addition, the condensate (D) of the mercapto group-containing silane compound is preferably from 500 to 5,000 in terms of weight average molecular weight from the viewpoint of excellent adhesiveness and higher glass transition temperature of the cured product. 500 to 2,000 is more preferable.
In addition, in this-application specification, a weight average molecular weight is a polystyrene conversion value by GCP (gel permeation column chromatography).

また、メルカプト基含有シラン化合物の縮合物(D)は、接着性により優れ、硬化物のガラス転移温度がより高くなるという観点から、そのチオール化量が、100〜500g/eqであるのが好ましく、100〜300g/eqであるのがより好ましい。
有機化合物(B)は、それぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
In addition, the condensate (D) of the mercapto group-containing silane compound is preferably from 100 to 500 g / eq in terms of the thiolation amount from the viewpoint that the adhesiveness is excellent and the glass transition temperature of the cured product becomes higher. 100 to 300 g / eq is more preferable.
An organic compound (B) can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.

有機化合物(B)が有するメルカプト基の量は、室温硬化性により優れ、ガラス転移温度がより高くなり、接着性により優れるという観点から、エポキシ樹脂(A)が有するエポキシ基に対して、0.1〜0.5当量であるのが好ましく、0.2〜0.4当量であるのがより好ましい。   The amount of the mercapto group that the organic compound (B) has is 0.000 to the epoxy group that the epoxy resin (A) has, from the viewpoint that it is excellent in room temperature curability, has a higher glass transition temperature, and is excellent in adhesiveness. It is preferably 1 to 0.5 equivalent, and more preferably 0.2 to 0.4 equivalent.

ベンゾオキサジン化合物(C)について以下に説明する。
本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物に含有されるベンゾオキサジン化合物(C)は、下記式(1)で表される化合物である。
式中、R1はそれぞれ独立に炭素原子数1〜10の炭化水素基であり、前記炭化水素基は置換基を有してもよく、R1は同一であっても異なっていてもよく、nはそれぞれ独立に0〜4の整数である。
The benzoxazine compound (C) will be described below.
The benzoxazine compound (C) contained in the liquid epoxy resin composition for an encapsulant of the present invention is a compound represented by the following formula (1).
In the formula, each R 1 is independently a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, the hydrocarbon group may have a substituent, and R 1 may be the same or different, n is an integer of 0-4 each independently.

ベンゾオキサジン化合物(C)は、式(1)に示すとおり、オキサジン環がベンゼン環と縮合している縮合多環系の化合物である。また、ベンゾオキサジン化合物(C)はベンゾオキサジン環を2個有する。
そして、式(1)において、2個のベンゾオキサジン環の窒素原子が互いにベンゾオキサジン化合物(C)の中心方向[式(1)における、2個のフェニレン基を結合するメチレン基のある方向]に向き合うように、ベンゾオキサジン環が配置されている。同じことをベンゾオキサジン環のベンゼン環について言うと、式(1)において、ベンゾオキサジン環のベンゼン環が2つともベンゾオキサジン化合物(C)の外側に位置するように、ベンゾオキサジン環が配置されている。
The benzoxazine compound (C) is a condensed polycyclic compound in which an oxazine ring is condensed with a benzene ring as shown in the formula (1). The benzoxazine compound (C) has two benzoxazine rings.
In the formula (1), the nitrogen atoms of the two benzoxazine rings are in the central direction of the benzoxazine compound (C) with each other [the direction in which the methylene group is bonded to two phenylene groups in the formula (1)]. A benzoxazine ring is arranged so as to face each other. The same thing can be said about the benzene ring of the benzoxazine ring. In the formula (1), the benzoxazine ring is arranged so that both benzene rings of the benzoxazine ring are located outside the benzoxazine compound (C). Yes.

炭素原子数1〜10の炭化水素基は上記と同義である。
炭化水素基が有することができる置換基は上記と同義である。
nはそれぞれ独立に0〜4の整数であり、ガラス転移温度がより高くなり、接着性により優れるという観点から、0、1、2であるのが好ましく、0であるのがより好ましい。
The hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms has the same meaning as described above.
The substituents that the hydrocarbon group can have are as defined above.
Each n is independently an integer of 0 to 4, and is preferably 0, 1 or 2 and more preferably 0 from the viewpoint that the glass transition temperature becomes higher and the adhesiveness is more excellent.

ベンゾオキサジン化合物(C)としては、例えば、下記式(4)で表される化合物、P−d型ベンゾオキサジン(商品名P−d型ベンゾオキサジン、四国化成工業社製)が挙げられる。
Examples of the benzoxazine compound (C) include a compound represented by the following formula (4) and Pd type benzoxazine (trade name Pd type benzoxazine, manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.).

なかでも、ガラス転移温度がより高くなり、接着性により優れるという観点から、式(4)で表される化合物、P−d型ベンゾオキサジンが好ましい。
ベンゾオキサジン化合物(C)はそれぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
Of these, the compound represented by the formula (4) and the Pd-type benzoxazine are preferable from the viewpoint that the glass transition temperature becomes higher and the adhesiveness is more excellent.
The benzoxazine compounds (C) can be used alone or in combination of two or more.

エポキシ樹脂(A)の量は、ガラス転移温度が高くなり、接着性に優れるという観点から、エポキシ樹脂(A)およびベンゾオキサジン化合物(C)の合計量の90質量%未満である。
エポキシ樹脂(A)の量がエポキシ樹脂(A)およびベンゾオキサジン化合物(C)の合計量の90質量%未満である場合、ベンゾオキサジン化合物(C)は10質量%を超える量となる。
また、エポキシ樹脂(A)とベンゾオキサジン化合物(C)との量は、ガラス転移温度がより高くなり、接着性により優れるという観点から、エポキシ樹脂(A)に対するベンゾオキサジン化合物(C)の比(ベンゾオキサジン化合物(C)/エポキシ樹脂(A))が、質量比で、10超/90未満〜80/20であるのが好ましく、20/80〜80/20であるのがより好ましい。
The amount of the epoxy resin (A) is less than 90% by mass of the total amount of the epoxy resin (A) and the benzoxazine compound (C) from the viewpoint that the glass transition temperature becomes high and the adhesiveness is excellent.
When the amount of the epoxy resin (A) is less than 90% by mass of the total amount of the epoxy resin (A) and the benzoxazine compound (C), the benzoxazine compound (C) is an amount exceeding 10% by mass.
Further, the amount of the epoxy resin (A) and the benzoxazine compound (C) is such that the ratio of the benzoxazine compound (C) to the epoxy resin (A) from the viewpoint that the glass transition temperature becomes higher and the adhesiveness is superior ( The benzoxazine compound (C) / epoxy resin (A)) is preferably in a mass ratio of more than 10 / less than 90 to 80/20, and more preferably 20/80 to 80/20.

本発明の封止用液状エポキシ樹脂組成物は、さらに硬化剤を含有することができる。さらに含有することができる硬化剤は例えばエポキシ樹脂に対して使用することができるものが挙げられる。硬化剤としては、例えば、フェノール樹脂、アミン化合物、酸無水物が挙げられる。
フェノール樹脂としては、1分子中に2個以上のフェノール性ヒドロキシ基を有するものであれば特に制限はなく、例えば、フェノール、クレゾール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、フェニルフェノール、アミノフェノール等のフェノール類及び/又はα−ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類とホルムアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック型フェノール樹脂、フェノール類及び/又はナフトール類とジメトキシパラキシレン又はビス(メトキシメチル)ビフェニルから合成されるフェノール・アラルキル樹脂、ナフトール・アラルキル樹脂などのアラルキル型フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂、シクロペンタジエン変性フェノール樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、多環芳香環変性フェノール樹脂、トリフェノールメタン型フェノール樹脂、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、チオジフェノール、ナフタレンジオールなどが挙げられる。また、フェノール樹脂はアリル化物として用いることができる。
The sealing liquid epoxy resin composition of the present invention can further contain a curing agent. Further, examples of the curing agent that can be contained include those that can be used for epoxy resins. As a hardening | curing agent, a phenol resin, an amine compound, and an acid anhydride are mentioned, for example.
The phenol resin is not particularly limited as long as it has two or more phenolic hydroxy groups in one molecule. For example, phenol, cresol, resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, phenylphenol, aminophenol, etc. Phenols and / or novolak type phenol resins and phenols obtained by condensation or cocondensation of naphthols such as α-naphthol, β-naphthol, dihydroxynaphthalene and the like and compounds having an aldehyde group such as formaldehyde in the presence of an acidic catalyst And / or phenol / aralkyl resins synthesized from naphthols and dimethoxyparaxylene or bis (methoxymethyl) biphenyl, aralkyl-type phenol resins such as naphthol / aralkyl resins, and dicyclopentadiene modification Examples include phenol resin, cyclopentadiene-modified phenol resin, terpene-modified phenol resin, polycyclic aromatic ring-modified phenol resin, triphenolmethane type phenol resin, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, thiodiphenol, naphthalenediol. Moreover, a phenol resin can be used as an allylated product.

アミン化合物は、窒素原子を2個以上有するポリアミン化合物が好ましい。
ポリアミン化合物としては例えば、脂肪族ポリアミン、脂環式ポリアミン、芳香族ポリアミン、潜在性硬化剤、特殊アミンが挙げられる。
The amine compound is preferably a polyamine compound having two or more nitrogen atoms.
Examples of the polyamine compound include aliphatic polyamines, alicyclic polyamines, aromatic polyamines, latent curing agents, and special amines.

芳香族ポリアミン系硬化剤は、芳香環にアミノ基及び/又はイミノ基が結合しているものであれば特に制限されない。例えば、ベンジルジメチルアミン、ジメチルアミノメチルフェノール、トリスジメチルアミノメチルフェノール、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−1、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタンのような第三級アミン;N,N′−ジメチルエチレンジアミン、N,N′−ジエチルエチレンジアミン、N,N′−ジイソプロピルエチレンジアミン、N,N′−ジメチル−1,3−プロパンジアミン、N,N′−ジエチル−1,3−プロパンジアミン、N,N′−ジイソプロピル−1,3−プロパンジアミン、N,N′−ジメチル−1,6−ヘキサンジアミン、N,N′−ジエチル−1,6−ヘキサンジアミンのような第二級アミン;3,3′−ジアミノジフェニルスルホン(3,3′−DDS)、4,4′−ジアミノジフェニルスルホン(4,4′−DDS)のようなジアミノジフェニルスルホン、ジアミノジフェニルエーテル(DADPE)、ビスアニリン、ベンジルジメチルアニリン、3,3′−ジクロロ−4,4′−ジアミノジフェニルメタン(MOCA)、4,4′−ジアミノジフェニルメタン、2,4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′−ジアミノジフェニルメタン、3,4′−ジアミノジフェニルメタン、2,2′−ジアミノビフェニル、3,3′−ジアミノビフェニル、2,4−ジアミノフェノール、2,5−ジアミノフェノール、o−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、2,3−トリレンジアミン、2,4−トリレンジアミン、2,5−トリレンジアミン、2,6−トリレンジアミン、3,4−トリレンジアミン、メチルチオトルエンジアミン、ジエチルトルエンジアミンのような第一級アミンが挙げられる。   The aromatic polyamine curing agent is not particularly limited as long as an amino group and / or an imino group are bonded to the aromatic ring. For example, benzyldimethylamine, dimethylaminomethylphenol, trisdimethylaminomethylphenol, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-1, 1,4 -Tertiary amines such as diazabicyclo [2.2.2] octane; N, N'-dimethylethylenediamine, N, N'-diethylethylenediamine, N, N'-diisopropylethylenediamine, N, N'-dimethyl-1 , 3-propanediamine, N, N′-diethyl-1,3-propanediamine, N, N′-diisopropyl-1,3-propanediamine, N, N′-dimethyl-1,6-hexanediamine, N, Secondary amines such as N'-diethyl-1,6-hexanediamine; 3,3'-diaminodiph Nylsulfone (3,3'-DDS), diaminodiphenylsulfone such as 4,4'-diaminodiphenylsulfone (4,4'-DDS), diaminodiphenyl ether (DADPE), bisaniline, benzyldimethylaniline, 3,3'- Dichloro-4,4'-diaminodiphenylmethane (MOCA), 4,4'-diaminodiphenylmethane, 2,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 3,4'-diaminodiphenylmethane, 2,2'- Diaminobiphenyl, 3,3'-diaminobiphenyl, 2,4-diaminophenol, 2,5-diaminophenol, o-phenylenediamine, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 2,3-tolylenediamine, 2, 4-tolylenediamine, 2, - tolylenediamine, 2,6-tolylenediamine, 3,4-tolylenediamine, methylthio diamine include primary amines such as diethyl toluene diamine.

潜在性硬化剤は、熱等によってアミン化合物を生成し、生成したアミン化合物がエポキシ樹脂(A)または有機化合物(B)の硬化剤として機能するものであれば特に制限されない。例えば、有機酸ジヒドラジド、ジシアンジアミド、アミンイミド、第三級アミン塩、イミダゾール塩、ルイス酸、ブレンステッド酸、オキサゾリジン化合物、ケチミン化合物が挙げられる。   The latent curing agent is not particularly limited as long as it generates an amine compound by heat or the like, and the generated amine compound functions as a curing agent for the epoxy resin (A) or the organic compound (B). Examples thereof include organic acid dihydrazide, dicyandiamide, amine imide, tertiary amine salt, imidazole salt, Lewis acid, Bronsted acid, oxazolidine compound, and ketimine compound.

酸無水物は、カルボン酸無水物基を有する化合物であれば特に制限されない。例えば、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチル無水ナジック酸、無水ハイミック酸、無水コハク酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸が挙げられる。   The acid anhydride is not particularly limited as long as it is a compound having a carboxylic acid anhydride group. Examples include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methyl nadic anhydride, hymic anhydride, succinic anhydride, trimellitic anhydride, and pyromellitic anhydride.

なかでも、硬化物物性に優れるという観点から、第三級アミンが好ましく、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノールがより好ましい。
硬化剤は、それぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
Among these, from the viewpoint of excellent cured product properties, tertiary amines are preferable, and 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol is more preferable.
A hardening | curing agent can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

硬化剤の量は、室温硬化性に優れるという観点から、エポキシ樹脂(A)と有機化合物(B)との合計100質量部に対して、0.5〜10質量部であるのが好ましく、0.5〜5質量部であるのがより好ましい。   The amount of the curing agent is preferably 0.5 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the epoxy resin (A) and the organic compound (B) from the viewpoint of excellent room temperature curability. More preferably, it is 5-5 mass parts.

本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物においては、ポストキュアにおける加熱温度を低くすることができ、プレキュア時の室温硬化性に優れるという観点から、さらに、重合触媒としてイミダゾール化合物を含有するのが好ましい。重合触媒はエポキシ樹脂に対して使用することができるものが挙げられる。
イミダゾール化合物は、イミダゾール環を有する化合物であれば特に限定されない。例えば、N−メチルイミダゾール、2−メチルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、1−イソブチル−2−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、2,4−ジアミノ−6(2′−メチルイミダゾール(1′))エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6(2′−ウンデシルイミダゾール(1′))エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6(2′−エチル,4−メチルイミダゾール(1′))エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6(2′−メチルイミダゾール(1′))エチル−s−トリアジン・イソシアヌル酸付加物、2−メチルイミダゾールイソシアヌル酸の2:3付加物、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−3,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−ヒドロキシメチル−5−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニル−3,5−ジシアノエトキシメチルイミダゾール等の各種イミダゾール類、および、これらのイミダゾール類とフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ナフタレンジカルボン酸、マレイン酸、蓚酸等の多価カルボン酸との塩類が挙げられる。
In the liquid epoxy resin composition for an encapsulant of the present invention, the heating temperature in the post-cure can be lowered, and from the viewpoint of excellent room temperature curability at the time of pre-curing, it further contains an imidazole compound as a polymerization catalyst. Is preferred. Examples of the polymerization catalyst include those that can be used for epoxy resins.
The imidazole compound is not particularly limited as long as it is a compound having an imidazole ring. For example, N-methylimidazole, 2-methylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 1-isobutyl-2-methylimidazole, 2-phenyl-4 -Methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1 -Cyanoethyl-2-undecylimidazole, 2,4-diamino-6 (2'-methylimidazole (1 ')) ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 (2'-undecylimidazole (1' )) Ethyl-s-triazine, 2,4- Amino-6 (2'-ethyl, 4-methylimidazole (1 ')) ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 (2'-methylimidazole (1')) ethyl-s-triazine isocyanuric acid Adduct, 2: 3 adduct of 2-methylimidazole isocyanuric acid, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-3,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-hydroxymethyl-5-methylimidazole Various imidazoles such as 1-cyanoethyl-2-phenyl-3,5-dicyanoethoxymethylimidazole, and these imidazoles and phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, naphthalenedicarboxylic acid , Salts with polyvalent carboxylic acids such as maleic acid and succinic acid It is below.

なかでも、硬化性に優れるという観点から、N−メチルイミダゾールが好ましい。
イミダゾール化合物は、それぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
Of these, N-methylimidazole is preferable from the viewpoint of excellent curability.
The imidazole compounds can be used alone or in combination of two or more.

イミダゾール化合物の量は、硬化性に優れるという観点から、エポキシ樹脂(A)100質量部に対して、0.5〜10質量部であるのが好ましく、0.5〜5質量部であるのがより好ましい。
本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を主剤と硬化剤とを有する2液型として製造する場合、イミダゾール化合物は、貯蔵安定性に優れるという観点から、硬化剤側に加えるのが好ましい。
From the viewpoint of excellent curability, the amount of the imidazole compound is preferably 0.5 to 10 parts by mass, and 0.5 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin (A). More preferred.
When manufacturing the liquid epoxy resin composition for sealing agents of this invention as a 2 liquid type which has a main ingredient and a hardening | curing agent, it is preferable to add an imidazole compound to the hardening | curing agent side from a viewpoint that it is excellent in storage stability.

本発明の封止用液状エポキシ樹脂組成物は、フラックス機能を付与するためにさらにフラックス剤を含有することができる。
フラックス剤は特に制限されない。例えば、従来公知のものが挙げられる。具体的には例えば、ハロゲン化水素酸アミン塩等が挙げられる。フラックス剤としては、電気特性の観点から例えば、ヒドロキシ安息香酸等のフェノール性水酸基とカルボキシル基を有する化合物、トリメリット酸等のカルボンキシル基を含む酸無水物、アビチエン酸、アジピン酸、アスコルビン酸、クエン酸、2−フランカルボン酸、リンゴ酸等の有機酸、1分子にアルコール性水酸基を2個以上含有する化合物等が好ましい。
The liquid epoxy resin composition for sealing of the present invention can further contain a flux agent in order to impart a flux function.
The fluxing agent is not particularly limited. For example, a conventionally well-known thing is mentioned. Specific examples thereof include hydrohalic acid amine salts. As a flux agent, from the viewpoint of electrical characteristics, for example, a compound having a phenolic hydroxyl group and a carboxyl group such as hydroxybenzoic acid, an acid anhydride containing a carboxyxyl group such as trimellitic acid, abitienic acid, adipic acid, ascorbic acid, Preference is given to organic acids such as citric acid, 2-furancarboxylic acid and malic acid, and compounds containing two or more alcoholic hydroxyl groups per molecule.

フラックス剤の量は、フラックス機能が発現する量であれば特に制限されず、封止用液状エポキシ樹脂組成物全量中の0.5〜10質量%が好ましく、1〜5質量%がさらに好ましい。
フラックス剤の量が0.5質量%以上の場合、はんだのぬれ性が十分になり接続抵抗が低くなる傾向がある。
また、フラックス剤の量が10質量%以下の場合、ボイドが発生しにくくなる傾向がある。
The amount of the fluxing agent is not particularly limited as long as the flux function is exhibited, and is preferably 0.5 to 10% by mass, more preferably 1 to 5% by mass in the total amount of the sealing liquid epoxy resin composition.
When the amount of the fluxing agent is 0.5% by mass or more, the wettability of the solder is sufficient and the connection resistance tends to be low.
Moreover, when the amount of the fluxing agent is 10% by mass or less, voids tend not to be generated.

発明の封止用液状エポキシ樹脂組成物は必要に応じてさらに充填剤を含有することできる。
充填剤は、吸湿性、線膨張係数低減、熱伝導性向上及び強度向上のために使用されるものであり、封止用液状エポキシ樹脂組成物に一般に使用されているものであれば特に制限されない。例えば、溶融シリカ、結晶シリカ、ヒュームドシリカ、アルミナ、ジルコン、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、チタン酸カリウム、チタン酸バリウム、炭化珪素、窒化珪素、窒化アルミ、窒化ホウ素、ベリリア、ジルコニア、フォステライト、ステアタイト、スピネル、ムライト、チタニア等の粉体、又はこれらを球形化したビーズ、ガラス繊維のような無機充填剤が挙げられる。
充填剤はそれぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
なかでも、線膨張係数低減の観点からは溶融シリカが好ましく、高熱伝導性の観点からはアルミナが好ましい。
また、充填剤の形状は高充填化が図れるため球形が好ましい。
封止用液状エポキシ樹脂組成物に揺変性を付与する場合には、揺変性比に合わせて超微粒子状シリカなどを少量添加することができる。
The liquid epoxy resin composition for sealing of the invention can further contain a filler as necessary.
The filler is used for hygroscopicity, linear expansion coefficient reduction, thermal conductivity improvement and strength improvement, and is not particularly limited as long as it is generally used in a liquid epoxy resin composition for sealing. . For example, fused silica, crystalline silica, fumed silica, alumina, zircon, calcium silicate, calcium carbonate, potassium titanate, barium titanate, silicon carbide, silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, beryllia, zirconia, fosterite, steer Examples thereof include powders such as tight, spinel, mullite, and titania, or spherical fillers and inorganic fillers such as glass fibers.
The fillers can be used alone or in combination of two or more.
Of these, fused silica is preferable from the viewpoint of reducing the linear expansion coefficient, and alumina is preferable from the viewpoint of high thermal conductivity.
In addition, the shape of the filler is preferably a spherical shape because high filling can be achieved.
In the case of imparting thixotropy to the liquid epoxy resin composition for sealing, a small amount of ultrafine silica can be added according to the thixotropy ratio.

本発明の封止用液状エポキシ樹脂組成物が無機充填剤を含有する場合には、本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物は、樹脂成分と無機充填剤との親和性を高めて無機充填剤の分散性を向上するために、必要に応じてさらにカップリング剤を含有することができる。
カップリング剤としては、例えば、エポキシシラン、メルカプトシラン、アミノシラン、アルキルシラン、ウレイドシラン、ビニルシラン等のシラン系化合物;チタン系化合物、アルミニウムキレート類、アルミニウム/ジルコニウム系化合物等のカップリング剤が挙げられる。
これらを具体的に例示すると、例えば、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シランのようなビニルシラン;γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシランのような(メタ)アクリルシラン;β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシランのようなエポキシシラン;γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシランのようなメルカプトシラン;γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ−アニリノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−[ビス(β−ヒドロキシエチル)]アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(β−アミノエチル)アミノプロピルジメトキシメチルシラン、N−(トリメトキシシリルプロピル)エチレンジアミン、N−β−(N−ビニルベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(ジメトキシメチルシリルイソプロピル)エチレンジアミンのようなアミノシラン;メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシランのようなアルコキシシラン;γ−クロロプロピルトリメトキシシランのようなハロゲン化シラン;ヘキサメチルジシランのようなジシラン系カップリング剤;イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリス(ジオクチルパイロホスフェート)チタネート、イソプロピルトリ(N−アミノエチル−アミノエチル)チタネート、テトラオクチルビス(ジトリデシルホスファイト)チタネート、テトラ(2,2−ジアリルオキシメチル−1−ブチル)ビス(ジトリデシル)ホスファイトチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)オキシアセテートチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)エチレンチタネート、イソプロピルトリオクタノイルチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルイソステアロイルジアクリルチタネート、イソプロピルトリ(ジオクチルホスフェート)チタネート、イソプロピルトリクミルフェニルチタネート、テトライソプロピルビス(ジオクチルホスファイト)チタネート等のチタネート系カップリング剤などが挙げられる。
シランカップリング剤はそれぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
When the liquid epoxy resin composition for sealing of the present invention contains an inorganic filler, the liquid epoxy resin composition for sealant of the present invention increases the affinity between the resin component and the inorganic filler and is inorganic. In order to improve the dispersibility of the filler, a coupling agent can be further contained as necessary.
Examples of the coupling agent include silane compounds such as epoxy silane, mercapto silane, amino silane, alkyl silane, ureido silane, and vinyl silane; coupling agents such as titanium compounds, aluminum chelates, and aluminum / zirconium compounds. .
Specific examples thereof include, for example, vinyl silane such as vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane; γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane. (Meth) acryl silanes such as γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane; β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxy Silane, epoxy silane such as γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane; γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, mercaptosilane such as γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane; Pyrtriethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, γ-anilinopropyltrimethoxysilane, γ-anilinopropylmethyldimethoxysilane, γ- [bis (β-hydroxyethyl)] aminopropyltriethoxy Silane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ- (β-aminoethyl) aminopropyldimethoxymethylsilane, N- (trimethoxysilylpropyl) ethylenediamine, N-β- (N- Aminosilanes such as vinylbenzylaminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N- (dimethoxymethylsilylisopropyl) ethylenediamine; alkoxysilanes such as methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, methyltriethoxysilane; A halogenated silane such as chloropropyltrimethoxysilane; a disilane-based coupling agent such as hexamethyldisilane; isopropyltriisostearoyl titanate, isopropyltris (dioctylpyrophosphate) titanate, isopropyltri (N-aminoethyl-aminoethyl) ) Titanate, tetraoctyl bis (ditridecyl phosphite) titanate, tetra (2,2-diallyloxymethyl-1-butyl) bis (ditridecyl) phosphite titanate, bis (dioctyl pyrophosphate) oxyacetate titanate, bis (dioctyl pyro) Phosphate) ethylene titanate, isopropyl trioctanoyl titanate, isopropyl dimethacrylisostearoyl titanate, isopropyl tridode Examples thereof include titanate coupling agents such as silbenzenesulfonyl titanate, isopropyl isostearoyl diacryl titanate, isopropyl tri (dioctyl phosphate) titanate, isopropyl tricumyl phenyl titanate, and tetraisopropyl bis (dioctyl phosphite) titanate.
The silane coupling agents can be used alone or in combination of two or more.

カップリング剤の量は、無機充填剤に対して0.05〜5重量%であることが好ましく、0.1〜2.5重量%がより好ましい。
シランカップリング剤の量が0.05重量%以上の場合、充填剤の分散性向上の効果に優れる。
また、シランカップリング剤の量が5重量%以下の場合、硬化物中にボイドが発生しにくくなる傾向がある。
The amount of the coupling agent is preferably 0.05 to 5% by weight and more preferably 0.1 to 2.5% by weight with respect to the inorganic filler.
When the amount of the silane coupling agent is 0.05% by weight or more, the effect of improving the dispersibility of the filler is excellent.
Moreover, when the amount of the silane coupling agent is 5% by weight or less, voids tend not to be generated in the cured product.

本発明の封止用液状エポキシ樹脂組成物は、IC等の半導体素子の耐湿性及び高温放置特性を向上させる観点から、必要に応じてさらにイオントラップ剤を含有することができる。
イオントラップ剤としては特に制限はなく、例えば、従来公知のものが挙げられる。具体的には例えば、ハイドロタルサイト類や、マグネシウム、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、ビスマスから選ばれる元素の含水酸化物等が挙げられる。
The liquid epoxy resin composition for sealing of the present invention can further contain an ion trapping agent as necessary from the viewpoint of improving the moisture resistance and high temperature storage characteristics of a semiconductor element such as an IC.
There is no restriction | limiting in particular as an ion trap agent, For example, a conventionally well-known thing is mentioned. Specific examples include hydrotalcites and hydrous oxides of elements selected from magnesium, aluminum, titanium, zirconium and bismuth.

なかでも、下記組成式(I)で示されるハイドロタルサイトが好ましい態様の1つとして挙げられる。
Mg1-XAlX(OH)2(CO3X/2・mH2O (I)
(式中、0<X≦0.5であり、mは正の数である。)
イオントラップ剤は、それぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
イオントラップ剤の量は、ハロゲンイオンなどの陰イオンを捕捉できる十分量であれば特に制限はなく、エポキシ樹脂(A)に対して0.1〜5質量%が好ましく、0.1〜1質量%がより好ましい。
Especially, the hydrotalcite shown by the following compositional formula (I) is mentioned as one of the preferable aspects.
Mg 1-X Al X (OH) 2 (CO 3 ) X / 2 · mH 2 O (I)
(In the formula, 0 <X ≦ 0.5, and m is a positive number.)
An ion trap agent can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.
The amount of the ion trapping agent is not particularly limited as long as it is a sufficient amount capable of capturing anions such as halogen ions, and is preferably 0.1 to 5% by mass, and 0.1 to 1% by mass with respect to the epoxy resin (A). % Is more preferable.

本発明の封止用液状エポキシ樹脂組成物は必要に応じてさらに難燃剤を含有することができる。
難燃剤としては、従来公知のものを使用することができ、例えば、臭素化エポキシ樹脂、三酸化アンチモン、ノンハロゲン、ノンアンチモンの難燃剤が挙げられる。
具体的には、例えば、赤リン、フェノール樹脂等の熱硬化性樹脂等で被覆された赤リン、リン酸エステル、酸化トリフェニルホスフィン等のリン化合物、メラミン、メラミン誘導体、メラミン変性フェノール樹脂、トリアジン環を有する化合物、シアヌル酸誘導体、イソシアヌル酸誘導体等の窒素含有化合物、シクロホスファゼン等のリン及び窒素含有化合物、ジシクロペンタジエニル鉄等の金属錯体化合物、酸化亜鉛、錫酸亜鉛、硼酸亜鉛、モリブデン酸亜鉛等の亜鉛化合物、酸化鉄、酸化モリブデン等の金属酸化物、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム等の金属水酸化物、下記組成式(II)で示される複合金属水酸化物などが挙げられる。
p(M1 ab)・q(M2 cd)・r(M3 cd)・mH2O (II)
(ここで、M1、M2及びM3は互いに異なる金属元素を示し、a、b、c、d、p、q及びmは正の数、rは0又は正の数を示す。)
The liquid epoxy resin composition for sealing of the present invention can further contain a flame retardant as necessary.
As the flame retardant, conventionally known ones can be used, and examples thereof include brominated epoxy resins, antimony trioxide, non-halogen, and non-antimony flame retardants.
Specifically, for example, red phosphorus coated with a thermosetting resin such as red phosphorus, phenolic resin, etc., phosphorus compounds such as phosphate ester, triphenylphosphine oxide, melamine, melamine derivatives, melamine modified phenolic resin, triazine Compounds having a ring, nitrogen-containing compounds such as cyanuric acid derivatives and isocyanuric acid derivatives, phosphorus and nitrogen-containing compounds such as cyclophosphazene, metal complex compounds such as dicyclopentadienyl iron, zinc oxide, zinc stannate, zinc borate, Examples include zinc compounds such as zinc molybdate, metal oxides such as iron oxide and molybdenum oxide, metal hydroxides such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide, and composite metal hydroxides represented by the following composition formula (II). It is done.
p (M 1 a O b ) · q (M 2 c O d ) · r (M 3 c O d ) · mH 2 O (II)
(Here, M 1 , M 2 and M 3 represent different metal elements, a, b, c, d, p, q and m are positive numbers, and r is 0 or a positive number.)

組成式(II)中のM1、M2及びM3は互いに異なる金属元素であれば特に制限はない。
難燃性の観点からは、M1が第3周期の金属元素、IIA族のアルカリ土類金属元素、IVB族、IIB族、VIII族、IB族、IIIA族及びIVA族に属する金属元素から選ばれ、M2がIIIB〜IIB族の遷移金属元素から選ばれることが好ましく、M1がマグネシウム、カルシウム、アルミニウム、スズ、チタン、鉄、コバルト、ニッケル、銅及び亜鉛から選ばれ、M2が鉄、コバルト、ニッケル、銅及び亜鉛から選ばれることがより好ましい。
流動性の観点からは、M1がマグネシウム、M2が亜鉛又はニッケルで、r=0のものが好ましい。
p、q及びrのモル比は特に制限はないが、r=0で、p/qが1/99〜1/1であることが好ましい。
市販品としては、例えば、組成式(II)中のM1がマグネシウム、M2が亜鉛で、pが7、qが3、mが10で、a、b、c及びdが1で、rが0である水酸化マグネシウム・亜鉛固溶体複合金属水酸化物(タテホ化学工業株式会社製、商品名エコーマグZ−10)が挙げられる。
なお、金属元素の分類は、典型元素をA亜族、遷移元素をB亜族とする長周期型の周期率表(出典:共立出版株式会社発行「化学大辞典4」1987年2月15日縮刷版第30刷)に基づいて行った。
難燃剤はそれぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
M 1 , M 2 and M 3 in the composition formula (II) are not particularly limited as long as they are different metal elements.
From the viewpoint of flame retardancy, M 1 is selected from metal elements belonging to the third period metal element, group IIA alkaline earth metal element, group IVB, group IIB, group VIII, group IB, group IIIA and group IVA M 2 is preferably selected from IIIB-IIB group transition metal elements, M 1 is selected from magnesium, calcium, aluminum, tin, titanium, iron, cobalt, nickel, copper and zinc, and M 2 is iron. More preferably, it is selected from cobalt, nickel, copper and zinc.
From the viewpoint of fluidity, it is preferable that M 1 is magnesium, M 2 is zinc or nickel, and r = 0.
The molar ratio of p, q and r is not particularly limited, but preferably r = 0 and p / q is 1/99 to 1/1.
Commercially available products include, for example, M 1 in composition formula (II), magnesium, M 2 is zinc, p is 7, q is 3, m is 10, a, b, c, and d are 1, r May be magnesium hydroxide / zinc solid solution composite metal hydroxide (product name: Echo Mug Z-10, manufactured by Tateho Chemical Co., Ltd.).
In addition, the classification of metal elements is a long-period type periodic rate table in which the typical element is the A subgroup and the transition element is the B subgroup (Source: Kyoritsu Shuppan Co., Ltd., “Chemical Dictionary 4”, February 15, 1987) (Reduced plate 30th printing).
A flame retardant can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

本発明の封止用液状エポキシ樹脂組成物は、さらに、例えば、染料、顔料、カーボンブラック等の着色剤、希釈剤、レベリング剤、消泡剤、シリコーンオイル、シリコーンレジン、液状ゴム、ゴム粉末、熱可塑性樹脂等の応力緩和剤のような添加剤を必要に応じて含有することができる。   The sealing liquid epoxy resin composition of the present invention further includes, for example, dyes, pigments, colorants such as carbon black, diluents, leveling agents, antifoaming agents, silicone oils, silicone resins, liquid rubbers, rubber powders, An additive such as a stress relaxation agent such as a thermoplastic resin can be contained as necessary.

本発明の封止用液状エポキシ樹脂組成物はその製造について特に制限されず、いかなる手法を用いても製造することができる。一般的な方法として、例えば、三本ロール、らいかい機等によって分散させ混練を行う方法を挙げることができる。   The liquid epoxy resin composition for sealing of the present invention is not particularly limited for its production, and can be produced using any technique. As a general method, for example, a method of dispersing and kneading with a three-roller, a rough machine or the like can be mentioned.

本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物は、1液型または2液型の組成物として製造することができる。貯蔵安定性に優れるという観点から、2液型の組成物として製造するのが好ましい態様の1つとして挙げられる。
本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を、主剤と硬化剤とを有する2液型の組成物として製造する場合、主剤側にエポキシ樹脂(A)、有機化合物(B)およびベンゾオキサジン化合物(C)と必要に応じてシランカップリング剤、充填剤とを入れ、硬化剤側に硬化剤、イミダゾール化合物、必要に応じてシランカップリング剤、充填剤を入れることができる。
The liquid epoxy resin composition for a sealant of the present invention can be produced as a one-component or two-component composition. From the viewpoint of excellent storage stability, it is mentioned as one of preferred embodiments that it is produced as a two-component composition.
When the liquid epoxy resin composition for a sealant of the present invention is produced as a two-component composition having a main agent and a curing agent, an epoxy resin (A), an organic compound (B), and a benzoxazine compound are formed on the main agent side. (C) and a silane coupling agent and a filler as required, and a curing agent, an imidazole compound, and a silane coupling agent and a filler as required can be added to the curing agent side.

本発明の組成物は、素子、基板等の電子材料に対する封止剤用組成物として使用することができる。
本発明の封止用液状エポキシ樹脂組成物を適用することができる基板としては、例えば、リードフレーム、配線済みのテープキャリア、配線板、ガラス、シリコンウエハ等の支持部材が挙げられる。
また、本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を適用することができる素子としては、例えば、半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子;コンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子が挙げられる。
The composition of this invention can be used as a composition for sealing agents with respect to electronic materials such as elements and substrates.
Examples of the substrate to which the sealing liquid epoxy resin composition of the present invention can be applied include support members such as lead frames, wired tape carriers, wiring boards, glass, and silicon wafers.
Examples of the element to which the liquid epoxy resin composition for sealing agent of the present invention can be applied include active elements such as semiconductor chips, transistors, diodes, and thyristors; passive elements such as capacitors, resistors, and coils. Can be mentioned.

本発明の封止用液状エポキシ樹脂組成物によって素子及び/又はボンディングエリアを封止して得られる電子部品装置としては、例えば、リードフレーム、配線済みのテープキャリア、配線板、ガラス、シリコンウエハ等の支持部材(基板)に、半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子、コンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子等の素子を搭載し、必要な部分を本発明の封止用液状エポキシ樹脂組成物で封止して得られる電子部品装置などが挙げられる。
このような電子部品装置としては、具体的には例えば、リードフレーム上に半導体素子を固定し、ボンディングパッド等の素子の端子部とリード部をワイヤボンディングやバンプで接続した後、本発明の封止用液状エポキシ樹脂組成物を用いてディスペンス方式等により封止してなる、PLCC(Plastic Leaded Chip Carrier)、QFP(Quad Flat Package)、SOP(Small Outline Package)、SOJ(Small Outline J−lead package)、TSOP(Thin Small Outline Package)、TQFP(Thin Quad Flat Package)等の一般的な樹脂封止型IC、テープキャリアにバンプで接続した半導体チップを、本発明の封止用液状エポキシ樹脂組成物で封止したTCP(Tape Carrier Package)、配線板やガラス上に形成した配線に、ワイヤボンディング、フリップチップボンディング、はんだ等で接続した半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子及び/又はコンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子を、本発明の封止用液状エポキシ樹脂組成物で封止したCOB(Chip On Board)モジュール、ハイブリッドIC、マルチチップモジュール、マザーボード接続用の端子を形成したインターポーザ基板に半導体チップを搭載し、バンプまたはワイヤボンディングにより半導体チップとインターポーザ基板に形成された配線を接続した後、本発明の封止用液状エポキシ樹脂組成物で半導体チップ搭載側または半導体チップと基板の間を封止したBGA(Ball Grid Array)、CSP(Chip Size Package)、MCP(Multi Chip Package)、フリップチップなどの片面封止パッケージが挙げられる。
As an electronic component device obtained by sealing an element and / or a bonding area with the liquid epoxy resin composition for sealing of the present invention, for example, a lead frame, a wired tape carrier, a wiring board, glass, a silicon wafer, etc. On the support member (substrate), active elements such as semiconductor chips, transistors, diodes, thyristors, etc., and passive elements such as capacitors, resistors, coils, etc. are mounted, and the necessary parts are liquid epoxy for sealing of the present invention. Examples thereof include an electronic component device obtained by sealing with a resin composition.
As such an electronic component device, specifically, for example, a semiconductor element is fixed on a lead frame, and a terminal portion and a lead portion of an element such as a bonding pad are connected by wire bonding or bump, and then the sealing of the present invention is performed. PLCC (Plastic Leaded Chip Carrier), QFP (Quad Flat Package), SOP (Small Outline Package), SOJ (Small Outline J-Lead Package), which is sealed using a liquid epoxy resin composition for stopping. ), TSOP (Thin Small Outline Package), TQFP (Thin Quad Flat Package) and other general resin-encapsulated ICs, and semiconductor chips connected to tape carriers by bumps , TCP (Tape Carrier Package) sealed with the liquid epoxy resin composition for sealing of the present invention, semiconductor chip, transistor connected to wiring formed on a wiring board or glass by wire bonding, flip chip bonding, solder, etc. COB (Chip On Board) module in which active elements such as diodes and thyristors and / or passive elements such as capacitors, resistors and coils are encapsulated with the liquid epoxy resin composition for encapsulation of the present invention, hybrid IC, multi A liquid epoxy resin composition for sealing of the present invention after mounting a semiconductor chip on an interposer substrate on which terminals for connecting a chip module and a mother board are formed, and connecting the wiring formed on the semiconductor chip and the interposer substrate by bumps or wire bonding Semiconductor chips with objects One side sealing packages such as BGA (Ball Grid Array), CSP (Multi Size Package), MCP (Multi Chip Package), flip chip, etc. are provided.

本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物は電子部品装置を封止するためのアンダーフィル剤、アンダーフィル材先付け方式において使用されるアンダーフィル剤として使用することができる。   The liquid epoxy resin composition for an encapsulant of the present invention can be used as an underfill agent for encapsulating an electronic component device and an underfill agent used in an underfill material prior system.

なかでも本発明の封止用液状エポキシ樹脂組成物は、フリップチップ及びCSP等の信頼性を向上させるために使用されるアンダーフィル材を用いる電子部品装置に好適である。
また、本発明の封止用液状エポキシ樹脂組成物は、アンダーフィル材先付け方式で製造する電子部品装置に好適である。
Especially, the liquid epoxy resin composition for sealing of this invention is suitable for the electronic component apparatus using the underfill material used in order to improve reliability, such as a flip chip and CSP.
Moreover, the liquid epoxy resin composition for sealing of this invention is suitable for the electronic component apparatus manufactured by an underfill material advance system.

本発明の封止用液状エポキシ樹脂組成物を用いて素子及び/又はボンディングエリアを塗布、封止する方法としては、例えば、ディスペンス方式、注型方式、印刷方式等が挙げられる。   Examples of a method for applying and sealing an element and / or a bonding area using the liquid epoxy resin composition for sealing of the present invention include a dispense method, a casting method, a printing method, and the like.

本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を電子部品装置に適用した後、電子部品装置を室温(20〜25℃)の条件下に1〜3時間置いて本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を室温で硬化(プレキュア)させ、電子部品装置を接着させることができる。
そして、室温硬化後、さらに電子部品装置をオーブンなどの加熱装置に入れ、150〜180℃の条件下に1〜3時間置いて加熱して硬化(ポストキュア)させ、本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物をガラス転移温度が高く接着性に優れる封止体とし、電子部品装置の封止を完全なものとすることができる。
なお、本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を電子部品装置に適用後すぐに加熱硬化させることができる。
After the liquid epoxy resin composition for a sealant of the present invention is applied to an electronic component device, the electronic component device is placed at room temperature (20 to 25 ° C.) for 1 to 3 hours, and then the liquid for a sealant of the present invention is placed. The epoxy resin composition can be cured (precured) at room temperature to bond the electronic component device.
Then, after curing at room temperature, the electronic component device is further placed in a heating device such as an oven, and is heated for 1 to 3 hours under conditions of 150 to 180 ° C. to be cured (post-cure). The liquid epoxy resin composition can be used as a sealing body having a high glass transition temperature and excellent adhesiveness, and the electronic component device can be completely sealed.
In addition, the liquid epoxy resin composition for sealing agents of the present invention can be heat-cured immediately after application to an electronic component device.

本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を23℃の条件下に3時間置いて室温で硬化させ、室温硬化後さらに150℃の条件下に1時間置いて加熱して硬化(ポストキュア)させて得た硬化物のガラス転移温度は、耐熱性に優れるという観点から、140℃以上であるのが好ましく、150℃以上であるのが好ましい。   The liquid epoxy resin composition for a sealant of the present invention is cured at room temperature for 3 hours under conditions of 23 ° C., and then cured by curing for 1 hour under conditions of 150 ° C. after curing at room temperature (post cure). The glass transition temperature of the cured product obtained is preferably 140 ° C. or higher, and preferably 150 ° C. or higher, from the viewpoint of excellent heat resistance.

なお、本願発明において、ガラス転移温度の測定は、動的粘弾性測定装置(DMA)を用いて以下の測定条件で行った。
<測定条件>
・測定温度:室温〜220℃
・昇温速度:5℃/分
・測定周波数:1Hz、歪:0.01%
測定の結果、得られた損失剛性率(G″)のピークトップの温度をガラス転移温度とした。
In the present invention, the glass transition temperature was measured under the following measurement conditions using a dynamic viscoelasticity measuring device (DMA).
<Measurement conditions>
Measurement temperature: room temperature to 220 ° C
・ Temperature increase rate: 5 ° C./min ・ Measurement frequency: 1 Hz, strain: 0.01%
As a result of the measurement, the temperature at the peak top of the obtained loss rigidity (G ″) was defined as the glass transition temperature.

本発明の封止された電子材料について以下に説明する。
本発明の封止された電子材料は、
電子材料を本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を用いて封止することによって得られる封止された電子材料である。
The encapsulated electronic material of the present invention will be described below.
The encapsulated electronic material of the present invention is
It is the sealed electronic material obtained by sealing an electronic material using the liquid epoxy resin composition for sealing agents of this invention.

本発明の封止された電子材料において使用される組成物は、本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物であれば特に制限されない。
本発明の封止された電子材料において使用される電子材料は特に制限されない。例えば、従来公知のものが挙げられる。
本発明の封止された電子材料(封止された電子材料は封止体とも言われる。)は本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を使用する以外にその製造について特に制限されない。例えば、上記と同義のものが挙げられる。
The composition used in the sealed electronic material of the present invention is not particularly limited as long as it is a liquid epoxy resin composition for a sealant of the present invention.
The electronic material used in the sealed electronic material of the present invention is not particularly limited. For example, a conventionally well-known thing is mentioned.
The sealed electronic material of the present invention (the sealed electronic material is also referred to as a sealed body) is not particularly limited for its production other than using the liquid epoxy resin composition for a sealant of the present invention. For example, the same thing as the above is mentioned.

本発明において電子材料はそれぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。また、電子材料を2個以上を組み合わせて電子部品装置とすることができる。
電子材料を2個以上組み合わせてこれらを封止する場合電子部品の組合わせについて特に制限されない。例えば、素子と基板との組合せ、素子と素子との組合せ、基板と基板との組合せが挙げられる。
In this invention, an electronic material can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively. Moreover, an electronic component device can be obtained by combining two or more electronic materials.
When two or more electronic materials are combined and sealed, the combination of electronic components is not particularly limited. For example, the combination of an element and a board | substrate, the combination of an element and an element, and the combination of a board | substrate and a board | substrate are mentioned.

電子材料を2個以上組合せてこれらを封止する場合、電子材料を封止する方法として例えば、電子材料を実装後アンダーフィル剤で封止する方法、アンダーフィル剤を電子材料に先付けしその後別の電子材料に搭載する方法(アンダーフィル剤先付け方法)が挙げられる。
本発明の電子材料において、2個以上の電子材料を封止する場合、封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を、例えば、実装後に使用されるアンダーフィル剤として、またはアンダーフィル材先付け方式において使用されるアンダーフィル剤として使用することができる。
When sealing two or more electronic materials in combination, as a method for sealing the electronic material, for example, a method of sealing the electronic material with an underfill agent after mounting, an underfill agent is placed on the electronic material first, and then separated. There is a method of mounting on an electronic material (underfill agent pre-attachment method).
In the electronic material of the present invention, when two or more electronic materials are sealed, the liquid epoxy resin composition for a sealant is used, for example, as an underfill agent used after mounting or in an underfill material advancement system Can be used as an underfill agent.

次に本発明の電子部品装置について説明する。
本発明の電子部品装置は、
基板と素子とを本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を用いて封止することによって得られる電子部品装置である。
Next, the electronic component device of the present invention will be described.
The electronic component device of the present invention is
It is an electronic component device obtained by sealing a board | substrate and an element using the liquid epoxy resin composition for sealing agents of this invention.

本発明の電子部品装置に使用される基板および素子は特に制限されない。例えば、従来公知のものが挙げられる。
本発明の電子部品装置に使用される組成物は本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物であれば特に制限されない。
The board | substrate and element used for the electronic component apparatus of this invention are not restrict | limited in particular. For example, a conventionally well-known thing is mentioned.
If the composition used for the electronic component apparatus of this invention is a liquid epoxy resin composition for sealing agents of this invention, it will not restrict | limit in particular.

本発明の電子部品装置はその製造について特に制限されない。例えば、次の(1)、(2)が挙げられる。   The electronic component device of the present invention is not particularly limited for its manufacture. For example, the following (1) and (2) are mentioned.

(1)素子を基板に搭載した後、前記素子と前記基板とを本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を用いて封止することによって封止された電子部品装置を製造する電子部品装置の製造方法
(1)の製造方法において、封止剤用液状エポキシ樹脂組成物は電子材料を実装後に塗布するアンダーフィル剤として使用されている。
(1) An electronic component for manufacturing an electronic component device sealed by mounting the device on a substrate and then sealing the device and the substrate with the liquid epoxy resin composition for a sealant of the present invention. Device Manufacturing Method In the manufacturing method (1), the liquid epoxy resin composition for a sealant is used as an underfill agent for applying an electronic material after mounting.

(2)素子および基板のうちの一方または両方に本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を塗布した後、前記素子を前記基板に搭載して前記素子を前記基板に接着させることによって封止された電子部品装置を製造する電子部品装置の製造方法
が挙げられる。
(2)の製造方法はアンダーフィル剤先付け方法によるものであり、(2)の製造方法において封止剤用液状エポキシ樹脂組成物は電子材料を実装前に塗布するアンダーフィル剤として使用されている。
(2) After applying the liquid epoxy resin composition for sealant of the present invention to one or both of the element and the substrate, sealing is performed by mounting the element on the substrate and bonding the element to the substrate. An electronic component device manufacturing method for manufacturing a stopped electronic component device may be mentioned.
The manufacturing method of (2) is based on an underfill agent prior method, and in the manufacturing method of (2), the liquid epoxy resin composition for sealant is used as an underfill agent for applying an electronic material before mounting. .

本発明の電子部品装置について添付の図面を用いて以下に説明する。なお、本願発明は添付の図面に限定されない。
添付の図1および図2を用いて本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物をアンダーフィル剤として使用して素子を封止する電子部品装置について説明する。
図1は、素子を基板に実装後、素子の周囲にアンダーフィル剤として本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を適用することを模式的に示す斜視図である。
図2は、素子と基板の間にアンダーフィル剤としての本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物が浸透して、硬化後アンダーフィル剤が封止体となって本発明の電子部品装置が得られることを模式的に示す斜視図である。
The electronic component device of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. The present invention is not limited to the attached drawings.
An electronic component device for sealing an element using the liquid epoxy resin composition for a sealant of the present invention as an underfill agent will be described with reference to FIGS.
FIG. 1 is a perspective view schematically showing that the liquid epoxy resin composition for a sealant of the present invention is applied as an underfill agent around an element after the element is mounted on a substrate.
FIG. 2 shows that the liquid epoxy resin composition for an encapsulant of the present invention as an underfill agent penetrates between the element and the substrate, and the underfill agent after curing becomes an encapsulant to form the electronic component device of the present invention. It is a perspective view which shows typically that is obtained.

図1において、基板100と素子130とは、基板100が有する電極110と、素子130が有するはんだバンプ140とによって接続され、素子130は基板100の上に実装されている。
素子は特に制限されない。例えば、BGA、CSPのようなICパッケージが挙げられる。
実装後の素子130の周囲(図示せず。)にアンダーフィル剤120を例えば、塗布すること(図示せず。)によって適用する。このとき素子130の周囲の一部にアンダーフィル剤120を適用しない部分(図示せず。)を設けるのが気泡の発生を防ぐことができるという観点から好ましい。素子130の1〜3辺に沿ってアンダーフィル剤120を塗布することができる(図示せず。)。
In FIG. 1, a substrate 100 and an element 130 are connected by an electrode 110 included in the substrate 100 and a solder bump 140 included in the element 130, and the element 130 is mounted on the substrate 100.
The element is not particularly limited. For example, IC packages such as BGA and CSP are listed.
The underfill agent 120 is applied, for example, by applying (not shown) around the element 130 after mounting (not shown). At this time, it is preferable to provide a portion (not shown) where the underfill agent 120 is not applied to a part of the periphery of the element 130 from the viewpoint of preventing generation of bubbles. The underfill agent 120 can be applied along the first to third sides of the element 130 (not shown).

図2において、アンダーフィル剤220は毛細血管現象によって素子230と基板200との隙間に浸透することができる。
アンダーフィル剤220が素子230と基板200との隙間に十分に浸透した電子部品装置270を、室温下においてアンダーフィル剤220を室温硬化させることができる。その後電子部品装置270を加熱することによって、アンダーフィル剤220は加熱硬化(ポストキュア)されて封止体220となる。封止体220は素子230を基板200に封止することができる。
このようにして、アンダーフィル剤220として本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を用いて封止された素子230を有する電子部品装置270が得られる。
In FIG. 2, the underfill agent 220 can penetrate into the gap between the element 230 and the substrate 200 by capillary action.
The electronic component device 270 in which the underfill agent 220 has sufficiently penetrated into the gap between the element 230 and the substrate 200 can be cured at room temperature at room temperature. Thereafter, by heating the electronic component device 270, the underfill agent 220 is heat-cured (post-cured) to form the sealing body 220. The sealing body 220 can seal the element 230 to the substrate 200.
In this manner, an electronic component device 270 having the element 230 encapsulated using the liquid epoxy resin composition for encapsulant of the present invention as the underfill agent 220 is obtained.

添付の図3および図4を用いて本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物をアンダーフィル剤先付け方式においてアンダーフィル剤として使用して素子を封止する電子部品装置について説明する。
図3は、実装前の、アンダーフィル剤として本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を適用した基板と、素子とを模式的に示す斜視図である。
図4は、素子をアンダーフィル剤としての本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を適用した基板に実装させ、硬化後アンダーフィル剤が封止体となって本発明の電子部品装置が得られることを模式的に示す斜視図である。
An electronic component device for sealing an element using the liquid epoxy resin composition for an encapsulant of the present invention as an underfill agent in an underfill agent pre-adhering system will be described with reference to FIGS.
FIG. 3 is a perspective view schematically showing a substrate and an element to which the liquid epoxy resin composition for a sealant of the present invention is applied as an underfill agent before mounting.
FIG. 4 shows an electronic component device according to the present invention in which an element is mounted on a substrate to which the liquid epoxy resin composition for an encapsulant of the present invention as an underfill agent is applied, and the cured underfill agent becomes a sealed body. It is a perspective view which shows typically what is obtained.

図3において、はんだバンプ340とアクティブ面350とを有する素子330は、はんだバンプ340とアクティブ面350とが基板300に面し、はんだバンプ340が有する金属化パターン310と整列するように配置される。
基板300には予めアンダーフィル剤320が適用されている。
図4において、バンプされた素子430が、金属化パターン410と綿密に接触するように移動され(図示せず。)接続される。アンダーフィル剤420によってアクティブ面450は完全に被覆されるのが好ましい態様の1つとして挙げられる。アンダーフィル剤420はアクティブ面450を保護するため素子430の周辺にはみ出して素子430の周囲を封止するのが好ましい態様の1つとして挙げられる。
In FIG. 3, the element 330 having the solder bump 340 and the active surface 350 is arranged so that the solder bump 340 and the active surface 350 face the substrate 300 and are aligned with the metallized pattern 310 of the solder bump 340. .
An underfill agent 320 is applied to the substrate 300 in advance.
In FIG. 4, the bumped element 430 is moved (not shown) and connected so as to be in intimate contact with the metallized pattern 410. One preferred embodiment is that the active surface 450 is completely covered by the underfill agent 420. In order to protect the active surface 450, the underfill agent 420 protrudes to the periphery of the element 430 and seals the periphery of the element 430.

図4において、電子部品装置470は室温硬化後または室温硬化なしで、加熱硬化(ポストキュア)され(図示せず。)、アンダーフィル剤420は封止体420となり、封止体420は素子430を基板400に封止する。
なお、アンダーフィル剤先付け方式においては加熱硬化の際にリフローを同時に行うことができ効率的である。
このようにして、アンダーフィル剤先付け方式におけるアンダーフィル剤420として本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を用いて封止された素子430を有する電子部品装置470が得られる。
In FIG. 4, the electronic component device 470 is heat-cured (post-cured) after room temperature curing or without room temperature curing (not shown), the underfill agent 420 becomes the sealing body 420, and the sealing body 420 is the element 430. Is sealed to the substrate 400.
In addition, in the underfill agent advance system, reflow can be performed at the time of heat curing, which is efficient.
In this way, an electronic component device 470 having an element 430 encapsulated using the liquid epoxy resin composition for encapsulant of the present invention as the underfill agent 420 in the underfill agent advancement system is obtained.

以下に、実施例を示して本発明を具体的に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されない。
1.評価
得られた組成物について、その接着強度(初期、耐水)、接着強度保持率、ガラス転移温度および室温硬化性を以下の方法で試験し評価した。結果を第1表に示す。
(1)接着強度(初期)
2枚の被着体(縦10mm、横50mm、厚さ1.6mmのガラスエポキシ)を準備し、そのうちの1枚の被着体(以下これを「被着体A」という。)の表面全体に、第1表に示す主剤と硬化剤とを均一に混合して得た各組成物を塗布し、残りの1枚の被着体(以下これを「被着体B」という。)を被着体Aに重ねあわせて貼り合わせた。
被着体A、Bを上記のように重ね合わせたものを23℃の条件下で3時間置いた後(室温硬化)、150℃で1時間加熱する処理(ポストキュア)を行い、2つの被着体A、Bが組成物を介して積層したサンプルを得た。得られたサンプルを接着強度用サンプルとする。
接着強度用サンプルを引っ張り試験機に取り付け、引っ張り速度1mm/分の条件下で引っ張り試験を行い、接着強度を測定した。得られた接着強度を接着強度(初期)とする。
Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. However, the present invention is not limited to these.
1. Evaluation About the obtained composition, the adhesive strength (initial stage, water resistance), adhesive strength retention, glass transition temperature, and room temperature curability were tested and evaluated by the following methods. The results are shown in Table 1.
(1) Adhesive strength (initial)
Two adherends (a glass epoxy having a length of 10 mm, a width of 50 mm, and a thickness of 1.6 mm) were prepared, and the entire surface of one of the adherends (hereinafter referred to as “the adherend A”). Then, each composition obtained by uniformly mixing the main agent and the curing agent shown in Table 1 was applied, and the remaining one adherend (hereinafter referred to as “adherence B”) was covered. It overlapped and bonded to the kimono A.
After superposing the adherends A and B as described above for 3 hours under a condition of 23 ° C. (room temperature curing), a treatment of heating at 150 ° C. for 1 hour (post-cure) is performed. A sample in which the adherends A and B were laminated via the composition was obtained. Let the obtained sample be a sample for adhesive strength.
A sample for adhesion strength was attached to a tensile testing machine, a tensile test was performed under the condition of a tensile speed of 1 mm / min, and the adhesive strength was measured. The obtained adhesive strength is defined as adhesive strength (initial).

(2)接着強度(耐水)
上記のとおりにして得た接着強度用サンプルを、プレッシャークッカー試験機に入れ、温度121℃、湿度100%RHの条件下に24時間置き、その後プレッシャークッカー試験機から接着強度用サンプルを取り出し、23℃の条件下に1時間置いた。
1時間経過後、得られた接着強度用サンプルを引っ張り試験機に取り付け、引っ張り速度1mm/分の条件下で引っ張り試験を行い、接着強度を測定した。得られた接着強度を接着強度(耐水)とする。
(2) Adhesive strength (water resistance)
The adhesive strength sample obtained as described above is placed in a pressure cooker tester, placed under conditions of a temperature of 121 ° C. and a humidity of 100% RH for 24 hours, and then the adhesive strength sample is taken out from the pressure cooker tester. It was placed for 1 hour under the condition of ° C.
After 1 hour, the obtained sample for adhesion strength was attached to a tensile tester, a tensile test was performed under the condition of a tensile speed of 1 mm / min, and the adhesive strength was measured. The obtained adhesive strength is defined as adhesive strength (water resistance).

(3)接着強度保持率
接着強度(初期)および接着強度(耐水)の値を下記式にあてはめて、接着強度保持率を算出した。
接着強度保持率(%)=[接着強度(耐水)/接着強度(初期)]×100
(3) Adhesive strength retention rate Adhesive strength retention rate was calculated by applying the values of adhesive strength (initial) and adhesive strength (water resistance) to the following equations.
Adhesive strength retention (%) = [Adhesive strength (water resistance) / Adhesive strength (initial)] × 100

(4)ガラス転移温度
接着強度(初期)に記載した方法で得られた接着強度用サンプルを用いて、組成物が硬化しすることによって得られた硬化物のガラス転移温度を、動的粘弾性測定装置(DMA)を用いて以下の測定条件で行った。
<測定条件>
・測定温度:室温〜220℃
・昇温速度:5℃/分
・測定周波数:1Hz、歪:0.01%
測定の結果、得られた損失剛性率(G″)のピークトップの温度をガラス転移温度とした。
(4) Glass transition temperature Using the sample for adhesive strength obtained by the method described in Adhesive strength (initial), the glass transition temperature of the cured product obtained by curing the composition is determined by dynamic viscoelasticity. The measurement was performed under the following measurement conditions using a measuring device (DMA).
<Measurement conditions>
Measurement temperature: room temperature to 220 ° C
・ Temperature increase rate: 5 ° C./min ・ Measurement frequency: 1 Hz, strain: 0.01%
As a result of the measurement, the temperature at the peak top of the obtained loss rigidity (G ″) was defined as the glass transition temperature.

(5)室温硬化性
2枚のPETフィルム(縦1cm、横1cm)を準備し、そのうちの1枚のPETフィルム(以下これを「PETフィルムA」という。)の表面全体に、第1表に示す主剤と硬化剤とを均一に混合して得た各組成物を塗布し、残りの1枚のPETフィルム(以下これを「PETフィルムB」という。)をPETフィルムAに重ねあわせて貼り合わせた。
PETフィルムA、Bを上記のように重ね合わせたものを23℃の条件下に置いて、硬化するまでの時間を測定した。
(5) Room temperature curability Two PET films (1 cm in length and 1 cm in width) were prepared, and the entire surface of one of the PET films (hereinafter referred to as “PET film A”) is shown in Table 1. Each composition obtained by uniformly mixing the main agent and the curing agent shown is applied, and the remaining one PET film (hereinafter referred to as “PET film B”) is overlapped and bonded to the PET film A. It was.
The PET films A and B overlapped as described above were placed at 23 ° C., and the time until curing was measured.

2.組成物の製造
(1)メルカプト基含有シラン化合物の縮合物(D)の製造
3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(商品名KBM−803、信越化学工業社製)196gを、水18g、ジブチル錫ラウレート0.5gの存在下、窒素雰囲気中室温で15時間撹拌し、反応終了後に反応によって生じたメチルアルコールを除去することによってメルカプト基含有シラン化合物の縮合物を得た。得られた縮合物を有機化合物(B1)とする。
2. Manufacture of composition (1) Manufacture of condensate (D) of mercapto group-containing silane compound 3-mercaptopropyltrimethoxysilane (trade name KBM-803, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 196 g, water 18 g, dibutyltin laurate 0 In the presence of 0.5 g, the mixture was stirred at room temperature in a nitrogen atmosphere for 15 hours, and after the completion of the reaction, methyl alcohol produced by the reaction was removed to obtain a condensate of a mercapto group-containing silane compound. Let the obtained condensate be an organic compound (B1).

(2)組成物の製造
第1表に示す成分を同表に示す量(単位:質量部)で使用し、組成物を製造した。
なお、第1表中において有機化合物(B)の量は、エポキシ樹脂(A)が有するエポキシ基に対するメルカプト基の当量で記載した。
また、充填剤1の量は主剤中に占める充填剤1の重量%として記載し、充填剤2の量は硬化剤中に占める充填剤2の重量%として記載した。
主剤は、ベンゾオキサジン化合物(C)をエポキシ樹脂(A)に加え、ベンゾオキサジン化合物(C)をエポキシ樹脂(A)に80℃の条件下で2時間かけて溶解させた。溶解後加熱をやめて混合物を室温の条件下に置き混合物の温度を室温と同じ程度にしたのち、混合物に有機化合物(B)を加えてこれらを脱泡撹拌機を用いて1分当たり回転数2,000回の条件下で2分間撹拌して混合し、ここにエポキシ樹脂(A)、有機化合物(B)およびベンゾオキサジン化合物(C)以外の、第1表に示す主剤の成分を加えてさらに撹拌して均一な主剤を得た。
硬化剤は、第1表の硬化剤に示す成分を脱泡撹拌機を用いて撹拌し、均一な硬化剤とした。
(2) Production of Composition A composition was produced by using the components shown in Table 1 in the amounts (unit: parts by mass) shown in the same table.
In Table 1, the amount of the organic compound (B) is described in terms of the mercapto group equivalent to the epoxy group of the epoxy resin (A).
Further, the amount of the filler 1 is described as the weight percent of the filler 1 in the main agent, and the amount of the filler 2 is described as the weight percent of the filler 2 in the curing agent.
As the main agent, benzoxazine compound (C) was added to epoxy resin (A), and benzoxazine compound (C) was dissolved in epoxy resin (A) at 80 ° C. over 2 hours. After dissolution, heating is stopped and the mixture is placed at room temperature to bring the temperature of the mixture to about the same as room temperature. Then, the organic compound (B) is added to the mixture, and these are rotated at a rotational speed of 2 per minute using a defoaming stirrer. The mixture was stirred for 2 minutes under the condition of 1,000,000 times, and the main component components shown in Table 1 other than the epoxy resin (A), organic compound (B) and benzoxazine compound (C) were added thereto. A homogeneous main agent was obtained by stirring.
The curing agent was a uniform curing agent obtained by stirring the components shown in Table 1 with a defoaming stirrer.

第1表に示されている各成分は、以下のとおりである。
・エポキシ樹脂(A1):トリグリシジル−pアミノフェノール(商品名MY−0510、ハンツマンアドバンストマテリアルズ社製)
・エポキシ樹脂(A2):Bis−F型エポキシ樹脂(商品名YDF−170、東都化成社製)
・有機化合物(B1):上述のとおり製造したもの
・チオール化合物:ジペンタエリスリトールヘキサ−3−メルカプトプロピオネート(DPMP、堺化学社製)
・ベンゾオキサジン化合物(C1):下記式(4)で表される化合物(商品名ベンゾオキサジン P−d、四国化成工業社製)
・ベンゾオキサジン化合物2:下記式(5)で表される化合物(商品名Bis−S ベンゾオキサジン、小西化学工業社製)
・シランカップリング剤1:2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン(商品名KBM−303、信越化学工業社製)
・充填剤1:シリカフィラー(商品名UF−103A、トクヤマ社製)
・硬化剤1:2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール(商品名DMP−30、精工化学社製)
・イミダゾール:N−メチルイミダゾール(関東化学社製)
・シランカップリング剤2:N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン(商品名KBM−573、信越化学工業社製)
・充填剤2:ヒュームドシリカ(商品名RY200S、日本アエロジル社製)
Each component shown in Table 1 is as follows.
Epoxy resin (A1): triglycidyl-p aminophenol (trade name MY-0510, manufactured by Huntsman Advanced Materials)
Epoxy resin (A2): Bis-F type epoxy resin (trade name YDF-170, manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.)
Organic compound (B1): manufactured as described above Thiol compound: Dipentaerythritol hexa-3-mercaptopropionate (DPMP, manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd.)
Benzoxazine compound (C1): a compound represented by the following formula (4) (trade name: benzoxazine Pd, manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.)
Benzoxazine compound 2: Compound represented by the following formula (5) (trade name Bis-S benzoxazine, manufactured by Konishi Chemical Industries)
Silane coupling agent 1: 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane (trade name KBM-303, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
Filler 1: Silica filler (trade name UF-103A, manufactured by Tokuyama Corporation)
Curing agent 1: 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol (trade name DMP-30, manufactured by Seiko Chemical Co., Ltd.)
・ Imidazole: N-methylimidazole (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.)
Silane coupling agent 2: N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane (trade name KBM-573, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
Filler 2: Fumed silica (trade name RY200S, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.)

第1表に示す結果から明らかなように、エポキシ樹脂(A)の量が、エポキシ樹脂(A)およびベンゾオキサジン化合物(C)の合計量の90質量%以上である比較例1〜3は、接着強度(初期)、接着強度(耐水)および接着強度の保持率に劣り、ガラス転移温度が低く、室温硬化性が悪かった。
有機化合物(B)を含有しない比較例4は、室温硬化性に劣った。
式(1)で表されるベンゾオキサジン化合物(C)以外のベンゾオキサジン化合物を含有する比較例5は、実施例1と比較して、接着強度(初期、耐水)および接着強度の保持率に劣り、ガラス転移温度が低かった。
式(1)で表されるベンゾオキサジン化合物(C)以外のベンゾオキサジン化合物を含有する比較例6は、接着強度(耐水)および接着強度の保持率に劣り、ガラス転移温度が低かった。
有機化合物(B)以外のチオール化合物を含有する比較例7は、接着強度(初期、耐水)および接着強度の保持率に劣り、ガラス転移温度が低かった。
これに対して、実施例1〜4は、室温で硬化することができ室温硬化時間が短く室温硬化性に優れ、接着強度(初期および耐水試験後)および耐水試験後の接着強度の保持率が高く接着性に優れ、ガラス転移温度が高く耐熱性に優れ、低温で短時間のポストキュアの条件下において硬化させることによって高いガラス転移温度と優れた接着性を有する硬化物となることができ、粘度が低く作業性に優れる。
As is clear from the results shown in Table 1, Comparative Examples 1 to 3, in which the amount of the epoxy resin (A) is 90% by mass or more of the total amount of the epoxy resin (A) and the benzoxazine compound (C), Adhesive strength (initial), adhesive strength (water resistance) and adhesive strength retention were poor, glass transition temperature was low, and room temperature curability was poor.
The comparative example 4 which does not contain an organic compound (B) was inferior to room temperature curability.
Comparative Example 5 containing a benzoxazine compound other than the benzoxazine compound (C) represented by the formula (1) is inferior to Example 1 in adhesive strength (initial, water resistance) and adhesive strength retention. The glass transition temperature was low.
Comparative Example 6 containing a benzoxazine compound other than the benzoxazine compound (C) represented by the formula (1) was inferior in adhesive strength (water resistance) and adhesive strength retention, and had a low glass transition temperature.
Comparative Example 7 containing a thiol compound other than the organic compound (B) was inferior in adhesive strength (initial, water resistance) and adhesive strength retention, and had a low glass transition temperature.
On the other hand, Examples 1-4 can be cured at room temperature, have a short room temperature curing time and excellent room temperature curability, and have an adhesive strength (initial and after water resistance test) and a retention rate of adhesive strength after the water resistance test. High adhesiveness, high glass transition temperature, excellent heat resistance, can be cured with high glass transition temperature and excellent adhesion by curing under low temperature and short post-curing conditions, Low viscosity and excellent workability.

従来、封止剤用液状エポキシ樹脂組成物に含有されるベンゾオキサジン化合物としては式(5)で表される化合物が提案されていた。
しかしながら、本願発明者は、式(5)で表されるベンゾオキサジン化合物を含有する組成物を150℃の条件下でポストキュアさせる場合、得られる硬化物のガラス転移温度が低いことを見出した。
また、従来提案されていた単環のオキサジンを有するオキサジン化合物を含有するエポキシ樹脂組成物の硬化物は、150℃でのポストキュアによって高いガラス転移温度を発現させることができないことを見出した。
これに対して、本願発明者は、ベンゾオキサジン化合物が、式(1)で表されるベンゾオキサジン化合物(C)のように、オキサジン環がベンゼン環と縮合しているベンゾオキサジン環を2個有し、2個のベンゾオキサジン環の窒素原子がベンゾオキサジン環のベンゼン環よりもベンゾオキサジン化合物のより中心の方向(ベンゾオキサジン化合物(C)の中心にあるメチレン基のある方向。下記式(1)において点線矢印で示す。)に向き合って位置するように配置されているものであることによって、ベンゾオキサジン化合物(C)、エポキシ樹脂(A)および有機化合物(B)をエポキシ樹脂(A)の量が、エポキシ樹脂(A)およびベンゾオキサジン化合物(C)の合計量の90質量%未満で含有する組成物を、150℃の加熱条件下でポストキュアさせる場合、得られる硬化物は、加熱条件が150℃と低温であるにもかかわらず、硬化物のガラス転移温度が非常に高くなることを見出した。
Conventionally, a compound represented by the formula (5) has been proposed as a benzoxazine compound contained in a liquid epoxy resin composition for a sealant.
However, the present inventor has found that when the composition containing the benzoxazine compound represented by the formula (5) is post-cured under the condition of 150 ° C., the obtained cured product has a low glass transition temperature.
Moreover, it discovered that the hardened | cured material of the epoxy resin composition containing the oxazine compound which has the monocyclic oxazine proposed conventionally cannot express a high glass transition temperature by the postcure at 150 degreeC.
In contrast, the inventor of the present application has two benzoxazine rings in which the oxazine ring is condensed with the benzene ring, as in the benzoxazine compound (C) represented by the formula (1). The direction in which the nitrogen atoms of the two benzoxazine rings are more central to the benzoxazine compound than the benzene ring of the benzoxazine ring (the direction in which the methylene group is at the center of the benzoxazine compound (C). In this case, the benzoxazine compound (C), the epoxy resin (A), and the organic compound (B) are contained in an amount of the epoxy resin (A). The composition containing less than 90% by mass of the total amount of the epoxy resin (A) and the benzoxazine compound (C) at 150 ° C. under heating conditions In case of post-curing, the cured product obtained, even though the heating conditions are 0.99 ° C. and cold, it was found that the glass transition temperature of the cured product is very high.

このように、本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物から得られる硬化物のガラス転移温度が、ポストキュアにおける温度条件が150℃と低いにもかかわらず高くなる。   Thus, the glass transition temperature of the hardened | cured material obtained from the liquid epoxy resin composition for sealing agents of this invention becomes high although the temperature conditions in a postcure are as low as 150 degreeC.

図1は、素子を基板に実装後、素子の周囲にアンダーフィル剤として本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を適用することを模式的に示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view schematically showing that the liquid epoxy resin composition for a sealant of the present invention is applied as an underfill agent around an element after the element is mounted on a substrate. 図2は、素子と基板の間にアンダーフィル剤としての本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物が浸透して、硬化後アンダーフィル剤が封止体となって本発明の電子部品装置が得られることを模式的に示す斜視図である。FIG. 2 shows that the liquid epoxy resin composition for an encapsulant of the present invention as an underfill agent penetrates between the element and the substrate, and the underfill agent after curing becomes an encapsulant to form the electronic component device of the present invention. It is a perspective view which shows typically that is obtained. 実装前の、アンダーフィル剤として本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を適用した基板と、素子とを模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows typically the board | substrate to which the liquid epoxy resin composition for sealing agents of this invention is applied as an underfill agent before mounting, and an element. 図4は、素子をアンダーフィル剤として本発明の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を適用した基板に実装させ、硬化後アンダーフィル剤が封止体となって本発明の電子部品装置が得られることを模式的に示す斜視図である。FIG. 4 shows that the electronic component device of the present invention is obtained by mounting an element as an underfill agent on a substrate to which the liquid epoxy resin composition for a sealant of the present invention is applied, and the cured underfill agent becomes a sealed body. It is a perspective view showing typically what is done.

符号の説明Explanation of symbols

100、200、300、400 基板
110、210 電極
310、410 金属化パターン
120、220、320、420 アンダーフィル剤(後に封止体)
130、230、330、430 素子
140、240、340、440 はんだバンプ
270、470 電子部品装置
350、450 アクティブ面
100, 200, 300, 400 Substrate 110, 210 Electrode 310, 410 Metallized pattern 120, 220, 320, 420 Underfill agent (later sealed)
130, 230, 330, 430 Element 140, 240, 340, 440 Solder bump 270, 470 Electronic component device 350, 450 Active surface

Claims (7)

1分子内に3個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂(A)と、
1分子内に2個以上のメルカプト基を有する有機化合物(B)と、
下記式()で表されるベンゾオキサジン化合物(C)とを含有し、
前記エポキシ樹脂(A)の量が、前記エポキシ樹脂(A)および前記ベンゾオキサジン化合物(C)の合計量の90質量%未満である封止剤用液状エポキシ樹脂組成物であって、前記有機化合物(B)がメルカプト基含有シラン化合物の縮合物(D)である封止剤用液状エポキシ樹脂組成物。
An epoxy resin (A) having three or more epoxy groups in one molecule;
An organic compound (B) having two or more mercapto groups in one molecule;
A benzoxazine compound (C) represented by the following formula ( 4 ),
A liquid epoxy resin composition for a sealant, wherein the amount of the epoxy resin (A) is less than 90% by mass of the total amount of the epoxy resin (A) and the benzoxazine compound (C), and the organic compound A liquid epoxy resin composition for a sealant, wherein (B) is a condensate (D) of a mercapto group-containing silane compound.
前記エポキシ樹脂(A)が下記式(2)で表される請求項1に記載の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物。

(式中、R2はそれぞれ独立に炭素原子数1〜10の炭化水素基であり、前記炭化水素基は置換基を有してもよく、R2は同一であっても異なっていてもよく、nは0〜4の整数である。)
The liquid epoxy resin composition for sealing agents according to claim 1, wherein the epoxy resin (A) is represented by the following formula (2).

(In the formula, each R 2 is independently a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and the hydrocarbon group may have a substituent, and R 2 may be the same or different. , N is an integer from 0 to 4.)
前記有機化合物(B)が有するメルカプト基の量が、前記エポキシ樹脂(A)が有するエポキシ基に対して、0.1〜0.5当量である請求項1または2に記載の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物。 The amount of mercapto group which the said organic compound (B) has is 0.1-0.5 equivalent with respect to the epoxy group which the said epoxy resin (A) has, For the sealing agent of Claim 1 or 2 Liquid epoxy resin composition. 電子材料を請求項1〜のいずれかに記載の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を用いて封止することによって得られる封止された電子材料。 The sealed electronic material obtained by sealing an electronic material using the liquid epoxy resin composition for sealing agents in any one of Claims 1-3 . 基板と素子とを請求項1〜のいずれかに記載の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を用いて封止することによって得られる電子部品装置。 The electronic component apparatus obtained by sealing a board | substrate and an element using the liquid epoxy resin composition for sealing agents in any one of Claims 1-3 . 素子を基板に搭載した後、前記素子と前記基板とを請求項1〜のいずれかに記載の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を用いて封止することによって封止された電子部品装置を製造する電子部品装置の製造方法。 After mounting an element on a board | substrate, the said component and the said board | substrate were sealed by sealing with the liquid epoxy resin composition for sealing agents in any one of Claims 1-3. A method for manufacturing an electronic component device. 素子および基板のうちの一方または両方に請求項1〜のいずれかに記載の封止剤用液状エポキシ樹脂組成物を塗布した後、前記素子を前記基板に搭載して前記素子を前記基板に接着させることによって封止された電子部品装置を製造する電子部品装置の製造方法。 After apply | coating the liquid epoxy resin composition for sealing agents in any one of Claims 1-3 to one or both of an element and a board | substrate, the said element is mounted in the said board | substrate and the said element is set to the said board | substrate. An electronic component device manufacturing method for manufacturing an electronic component device sealed by bonding.
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Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011198844A (en) * 2010-03-17 2011-10-06 Sekisui Chem Co Ltd Adhesive film for bonding electronic component
JP5707052B2 (en) * 2010-04-27 2015-04-22 電気化学工業株式会社 Resin composite composition and use thereof
JP5698940B2 (en) * 2010-09-08 2015-04-08 積水化学工業株式会社 Adhesive for electronic parts and method for manufacturing semiconductor device
CN103459492B (en) * 2011-03-28 2016-06-15 3M创新有限公司 Curable compositions, goods, curing and inviscid product
JP5860231B2 (en) * 2011-06-23 2016-02-16 積水化学工業株式会社 Adhesive for electronic parts
US9156946B2 (en) 2011-09-28 2015-10-13 3M Innovative Properties Company Amine/thiol curing of benzoxazines
JP6114989B2 (en) * 2013-02-08 2017-04-19 パナソニックIpマネジメント株式会社 Method for curing thermosetting resin composition, thermosetting resin composition, prepreg using the same, metal-clad laminate, resin sheet, printed wiring board and sealing material
US9850375B2 (en) * 2013-08-23 2017-12-26 Elite Electronic Material (Kunshan) Co. Ltd. Resin composition, copper clad laminate and printed circuit board using same
JP6329776B2 (en) * 2014-01-28 2018-05-23 株式会社アドマテックス Sealing material for mold underfill
JP7279319B2 (en) * 2017-09-04 2023-05-23 味の素株式会社 resin composition
JP7210031B2 (en) * 2017-11-27 2023-01-23 ナミックス株式会社 Film semiconductor sealing material
EP3790039A4 (en) * 2018-04-26 2022-01-19 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Resin composition, laminate, semiconductor wafer with resin composition layer, substrate for mounting semiconductor with resin composition layer, and semiconductor device
DE102019118480B4 (en) 2018-11-30 2022-06-09 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. INTEGRATED CIRCUIT PACKAGE AND METHOD
JP7525295B2 (en) 2020-04-30 2024-07-30 サカタインクス株式会社 Pigment dispersion composition for black matrix, resist composition for black matrix, and black matrix
CN115440504A (en) * 2021-06-02 2022-12-06 重庆三峡学院 Mo-CoP @ Ni-Fe LDH core-shell hierarchical nanosheet and preparation method and application thereof

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI313684B (en) * 2002-10-03 2009-08-21 Chang Chun Plastics Co Ltd Nitrogen-oxygen heterocyclic compound
JP2006022146A (en) * 2004-07-06 2006-01-26 Yokohama Rubber Co Ltd:The Curable resin composition

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