JP5364032B2 - 走査電子顕微鏡及びそれを用いた試料の観察方法 - Google Patents
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試料を平面内及び高さ方向に移動させることが可能な試料載置手段と、試料載置手段に載
置した試料に収束させた一次電子線を照射して走査する電子光学系手段と、電子光学系手
段で収束させた一次電子線を照射して走査することにより試料から発生した二次信号を検
出する二次信号検出手段と、二次信号検出手段で検出した信号を処理して試料の画像を生
成する画像生成手段と、試料載置手段に載置した試料の高さを検出する試料高さ検出手段
とを備えた走査型電子顕微鏡において、試料高さ検出手段は、試料を載置した試料載置手
段を平面内で一方向に移動させることを試料載置手段の高さを順次変えながら繰り返し実
行して試料載置手段に載置した試料の高さを検出し、試料高さ検出手段は、光投光部と光受光部とを有し、試料載置手段で駆動された試料が光投光部とこの光投光部に対向して配置した光受光部との間を通過させることにより試料の高さを検出し、試料高さ検出手段は、光ビームを発射する光投光部とこの光投光部に対向して配置されて光投光部から発射された光ビームを受光する光受光部とを有し、光投光部から発射されて受光部へ向かう光ビームは試料を載置した試料載置手段が試料室の内部で移動できる高さ方向の上限の部分を通るように光投光部と受光部とを設置した。
また、本発明では、内部を真空に排気可能な試料室と、この試料室内で試料を載置して試料を平面内及び高さ方向に移動させることが可能な試料載置手段と、この試料載置手段に載置した試料に収束させた一次電子線を照射して走査する電子光学系手段と、この電子光学系手段で収束させた一次電子線を照射して走査することにより試料から発生した二次信号を検出する二次信号検出手段と、この二次信号検出手段で検出した信号を処理して試料の画像を生成する画像生成手段と、試料載置手段に載置した試料の高さを検出する試料高さ検出手段とを備えた走査型電子顕微鏡において、試料高さ検出手段は、試料を載置した試料載置手段を平面内で一方向に移動させることを試料載置手段の高さを順次変えながら繰り返し実行して試料載置手段に載置した試料の高さを検出し、試料高さ検出手段は、光投光部と光受光部とを有し、試料載置手段で駆動された試料が光投光部とこの光投光部に対向して配置した光受光部との間を通過させることにより試料の高さを検出し、試料高さ検出手段は、光投光部と光受光部とを高さ方向に異なる位置に少なくとも2対備え、試料を載置した試料載置手段を平面内で一方向に移動させることを試料載置手段の高さを順次変えながら繰り返し実行することを、試料が少なくとも2対のうち高さ方向に一番低い1対の光投光部と光受光部との間を始めて通過するまでとこの高さ方向に一番低い1対の光投光部と光受光部との間を一度通過した後とで、平面内で一方向に移動させる毎に変える高さ方向の変化量を変えるようにした。
内及び高さ方向に移動可能な試料載置手段に載置した試料に収束させた一次電子線を照射
して走査し、収束させた一次電子線を照射して走査することにより試料から発生した二次
信号を検出し、検出した信号を処理して試料の画像を生成する走査型電子顕微鏡を用いた
試料の観察方法において、試料を載置した試料載置手段を平面内で一方向に移動させるこ
とを試料載置手段の高さを順次変えながら繰り返し実行することにより得られる試料の高
さ情報を用いて試料を載置した試料載置手段が試料室の内部で移動できる高さ方向の上限
を検出し、試料の高さ情報を、光投光部と光受光部とを高さ方向に異なる位置に少なくとも2対備えた試料高さ検出手段を用いて、試料載置手段で高さを順次変えながら試料載置手段を平面内で一方向に移動させることを繰り返し行い、試料が前記少なくとも2対のうち高さ方向に一番低い1対の光投光部と光受光部との間を始めて通過するまでと高さ方向に一番低い1対の光投光部と光受光部との間を一度通過した後とで、平面内で一方向に移動させる毎に変える高さ方向の変化量を変えて実行することにより得るようにした。
図4は、試料台5f上の観察試料6の高さを算出する際の試料移動機構部5の動作を真上から見た図である。前述した通り、投光素子7aと受光素子7bは、試料室3にそれぞれ対向して配置され、これらの光軸7cと直交する方向に試料台5fを移動させるX軸移動機構5cを、試料検出開始位置(X=Xs)から移動方向401へ図示していない駆動手段により連続的に移動させる。X軸移動機構5cの移動中に、試料台5f上の観察試料6が投光素子7aから発射されて受光素子7bへ向かう検出光の光軸7cを横切ると、受光素子7bからの出力信号を受けて光電式物体検出手段8で観察試料6が検出される。
Hs=Zd−(Hh+Z) ・・・(数1)
により算出される。
2b・・・対物レンズ 20・・・二次信号電子検出器 3、30・・・試料室
40・・・真空ポンプ 5・・・試料移動機構部 5a・・・Z軸移動機構部
5b・・・T軸移動機構部 5c・・・X軸移動機構部 5d・・・Y軸移動機構部
5e・・・R軸移動機構部 5f・・・試料台 6・・・観察試料 7a、17a・・・投光素子 7b、17b・・・受光素子 8、18・・・光電式物体検出手段 9、109・・・手動操作入力手段 10、110・・・試料移動機構制御手段 10a、110a・・・各軸駆動手段 10b、110b・・・各軸位置記憶手段 10c、110c・・・各軸駆動指令生成手段 10d、110d・・・物体検出情報記憶手段 10e、110e・・・試料位置・高さ算出手段 10f、110f・・・上位通信手段 11、111・・・走査電子顕微鏡システム制御手段 12、112・・・ディスプレイ装置 13、113・・・入力手段。
Claims (7)
- 内部を真空に排気可能な試料室と、
該試料室内で試料を載置して前記試料を平面内及び高さ方向に移動させることが可能な
試料載置手段と、
該試料載置手段に載置した試料に収束させた一次電子線を照射して走査する電子光学系
手段と、
該電子光学系手段で収束させた一次電子線を照射して走査することにより前記試料から
発生した二次信号を検出する二次信号検出手段と、
該二次信号検出手段で検出した信号を処理して前記試料の画像を生成する画像生成手段
と、
前記試料載置手段に載置した試料の高さを検出する試料高さ検出手段と、
を備えた走査型電子顕微鏡であって、
前記試料高さ検出手段は、前記試料を載置した試料載置手段を平面内で一方向に移動さ
せることを該試料載置手段の高さを順次変えながら繰り返し実行して前記試料載置手段に
載置した試料の高さを検出し、
前記試料高さ検出手段は、光投光部と光受光部とを有し、前記試料載置手段で駆動され
た前記試料が前記光投光部と該光投光部に対向して配置した前記光受光部との間を通過さ
せることにより前記試料の高さを検出し、
前記試料高さ検出手段は、光ビームを発射する光投光部と該光投光部に対向して配置さ
れて該光投光部から発射された光ビームを受光する光受光部とを有し、前記光投光部から
発射されて前記受光部へ向かう光ビームは前記試料を載置した試料載置手段が前記試料室
の内部で移動できる高さ方向の上限の部分を通るように前記光投光部と前記受光部とが設
置されていることを特徴とすることを特徴とする走査型電子顕微鏡。 - 内部を真空に排気可能な試料室と、
該試料室内で試料を載置して前記試料を平面内及び高さ方向に移動させることが可能な
試料載置手段と、
該試料載置手段に載置した試料に収束させた一次電子線を照射して走査する電子光学系
手段と、
該電子光学系手段で収束させた一次電子線を照射して走査することにより前記試料から
発生した二次信号を検出する二次信号検出手段と、
該二次信号検出手段で検出した信号を処理して前記試料の画像を生成する画像生成手段
と、
前記試料載置手段に載置した試料の高さを検出する試料高さ検出手段と、
を備えた走査型電子顕微鏡であって、
前記試料高さ検出手段は、前記試料を載置した試料載置手段を平面内で一方向に移動さ
せることを該試料載置手段の高さを順次変えながら繰り返し実行して前記試料載置手段に
載置した試料の高さを検出し、
前記試料高さ検出手段は、光投光部と光受光部とを有し、前記試料載置手段で駆動され
た前記試料が前記光投光部と該光投光部に対向して配置した前記光受光部との間を通過さ
せることにより前記試料の高さを検出し、
前記試料高さ検出手段は、光投光部と光受光部とを高さ方向に異なる位置に少なくとも
2対備え、前記試料を載置した試料載置手段を平面内で一方向に移動させることを該試料
載置手段の高さを順次変えながら繰り返し実行することを、前記試料が前記少なくとも2
対のうち高さ方向に一番低い1対の光投光部と光受光部との間を始めて通過するまでと該
高さ方向に一番低い1対の光投光部と光受光部との間を一度通過した後とで、前記平面内
で一方向に移動させる毎に変える高さ方向の変化量を変えることを特徴とする走査型電子顕微鏡。 - 前記試料高さ検出手段は、前記試料を載置した試料載置手段が前記試料室の内部で移動
できる高さ方向の上限を検出することを特徴とする請求項1又は2に記載の走査型電子顕微鏡。 - 前記試料高さ検出手段の光投光部は、径を0.5mm以下に細く絞った光ビームを前記
受光部に向けて発射することを特徴とする請求項1又は2に記載の走査型電子顕微鏡。 - 更に制御手段を備え、前記高さ検出手段で検出した前記試料載置手段に載置した試料の
高さ情報に基づいて前記試料載置手段の高さ方向の位置を制御することを特徴とする請求
項1又は2に記載の走査型電子顕微鏡。 - 内部を真空に排気した試料室内で平面内及び高さ方向に移動可能な試料載置手段に載置
した試料に収束させた一次電子線を照射して走査し、
該収束させた一次電子線を照射して走査することにより前記試料から発生した二次信号
を検出し、
該検出した信号を処理して前記試料の画像を生成する
走査型電子顕微鏡を用いた試料の観察方法であって、
前記試料を載置した試料載置手段を平面内で一方向に移動させることを該試料載置手段
の高さを順次変えながら繰り返し実行することにより得られる前記試料の高さ情報を用い
て前記試料を載置した試料載置手段が前記試料室の内部で移動できる高さ方向の上限を検
出し、
前記試料の高さ情報を、光投光部と光受光部とを高さ方向に異なる位置に少なくとも2
対備えた試料高さ検出手段を用いて、前記試料載置手段で高さを順次変えながら前記試料
載置手段を平面内で一方向に移動させることを繰り返し行い、前記試料が前記少なくとも
2対のうち高さ方向に一番低い1対の光投光部と光受光部との間を始めて通過するまでと
該高さ方向に一番低い1対の光投光部と光受光部との間を一度通過した後とで、前記平面
内で一方向に移動させる毎に変える高さ方向の変化量を変えて実行することにより得ることを特徴とする走査型電子顕微鏡を用いた試料の観察方法。 - 前記試料の高さ情報を、前記試料載置手段で高さを順次変えながら前記試料載置手段を
平面内で一方向に移動させることを繰り返し実行することにより前記試料を光投光部と該
光投光部に対向して配置された光受光部との間を通過させることにより得ることを特徴と
する請求項6記載の走査型電子顕微鏡を用いた試料の観察方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010097930A JP5364032B2 (ja) | 2010-04-21 | 2010-04-21 | 走査電子顕微鏡及びそれを用いた試料の観察方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010097930A JP5364032B2 (ja) | 2010-04-21 | 2010-04-21 | 走査電子顕微鏡及びそれを用いた試料の観察方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011228170A JP2011228170A (ja) | 2011-11-10 |
JP5364032B2 true JP5364032B2 (ja) | 2013-12-11 |
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ID=45043296
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010097930A Expired - Fee Related JP5364032B2 (ja) | 2010-04-21 | 2010-04-21 | 走査電子顕微鏡及びそれを用いた試料の観察方法 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP5364032B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101725137B1 (ko) | 2015-08-21 | 2017-04-26 | 한국표준과학연구원 | 전자현미경용 시료실 장치 및 이를 구비한 전자현미경 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11354059A (ja) * | 1998-06-08 | 1999-12-24 | Hitachi Ltd | 荷電粒子線照射装置及びそれを用いた走査電子顕微鏡 |
JP2003158064A (ja) * | 2001-11-22 | 2003-05-30 | Konica Corp | 基材の高さ検出方法、基材の描画方法、その方法にて描画された基材、測定装置、及び電子ビーム描画装置 |
-
2010
- 2010-04-21 JP JP2010097930A patent/JP5364032B2/ja not_active Expired - Fee Related
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