JP5363225B2 - 洗浄方法 - Google Patents

Description

本発明は、洗浄方法、特には、電気・電子部品、光学部品、自動車部品、精密機械部品などの部品に付着したフラックス、ワックス、加工油などの脂肪族炭化水素及び／またはグリコールエーテル類及び／またはエステル類に対して不溶性もしくは難溶性の汚れを洗浄するための洗浄方法に関する。

従来、フラックス、ワックス、加工油、植物油などが付着した精密部品の洗浄には、トリフルオロトリクロロエタンなどのフロン系溶剤あるいは１，１，１−トリクロロエタン、トリクロロエチレン、塩化メチレンなどの塩素系溶剤が洗浄剤として使用されてきた。しかしながら、トリフルオロトリクロロエタンや１，１，１−トリクロロエタンは、オゾン層を破壊する物質として、１９９５年末にその製造が禁止された。また、トリクロロエチレンや塩化メチレンは、毒性が強く、放出された場合に大気汚染、水質汚染を起こすため、その法規制が厳しい。

また、界面活性剤や無機アルカリを添加した水系洗浄剤、リン酸塩類等の水溶性洗浄剤の利用も検討されるが、洗浄力が乏しく、かつ排水処理設備に大きなスペースを必要とするため経済性の面からも好ましくない。そのため、オゾン層を破壊することがなく、高脱脂力で低毒性、かつ常温で引火性のない、比較的安全な炭化水素系洗浄剤が見直されている。しかしながら、炭化水素系洗浄剤は、フロン系溶剤や塩素系溶剤と異なり引火性の液体であるため、消防法により危険物として指定数量の制約がある。

炭化水素の中でも、消防法危険物第三石油類に分類される炭化水素は、危険物としての指定数量の制約が少ない反面、蒸発速度が遅いため、洗浄処理後の乾燥に時間がかかるという問題があった。また、ハイドロフルオロカーボン又はハイドロフルオロエーテル（ＨＦＣ／Ｅ）は炭化水素系洗浄剤で洗浄後のすすぎ剤や蒸気洗浄剤として使用されるが、該炭化水素系洗浄剤は、ＨＦＣ／Ｅに難溶であるため、被洗浄物表面上で、炭化水素系洗浄剤からＨＦＣ／Ｅへの置換が十分に行われず、汚れ成分を含む炭化水素系洗浄剤の一部が被洗浄物表面に付着したまま残留し、洗浄不良を起こす恐れがあった。

これに対し、ＨＦＣ／Ｅと相溶性のあるグリコールエーテルやエステル等の有機化合物とＨＦＣ／Ｅとの混合物の温浴を用いた洗浄工程と、引き続いて該ＨＦＣ／Ｅ単体によるすすぎ工程からなる洗浄方法が提案されている(特許文献１参照)。また、ＨＦＣ／Ｅと有機化合物（グリコールエーテル類、グリコールエーテルアセテート類、ヒドロキシカルボン酸エステル類等）から成る均一な洗浄剤で被洗浄物を洗浄した後に該ＨＦＣ／Ｅですすぐ工程で、汚染されたすすぎ剤を静置することにより、混入した汚れ成分及び／又は洗浄剤成分を分離し、洗浄剤及びすすぎ剤を再利用する方法も提案されている（特許文献２参照）。しかしながら、これら特許文献に記載のグリコールエーテル類は、炭化水素と比較すると鉱物油に対する洗浄性が必ずしも高いとはいえない。

また、炭化水素系溶剤を主成分とする一次洗浄液で被洗浄物を洗浄処理した後、ＨＦＣを主成分とする二次洗浄液ですすぎ洗浄する洗浄装置（特許文献３参照）や、ＨＦＣ／Ｅに難溶性の炭化水素等の有機化合物とＨＦＣ／Ｅを洗浄槽に二層分離させて充填し、被洗浄物を主として有機化合物を含む上層液体により洗浄した後、これを主として該ＨＦＣ／Ｅを含む下層液体によりシャワー洗浄し、次いで該ＨＦＣ／Ｅですすぎ、更にこれを該ＨＦＣ／Ｅの飽和蒸気により蒸気洗浄する洗浄方法が提案されている（特許文献４参照）。さらに、炭化水素系溶剤で被洗浄物を洗浄後にＨＦＣ／Ｅですすぎ洗浄する洗浄装置（特許文献５参照）や、炭化水素系溶剤で洗浄後にＨＦＣ／Ｅですすぎ洗浄した被洗浄物をＨＦＣ／Ｅの蒸気と接触させて更にＨＦＣ／Ｅですすぎ洗浄する洗浄乾燥方法（特許文献６参照）が提案されている。そして、これら特許文献では、炭化水素系溶剤とＨＦＣ／Ｅが相溶しないことで両者を容易に比重分離できることが特徴として挙げられている。しかしながら、これら特許文献に開示の技術は、ＨＦＣ／Ｅに難溶性の溶剤を用いていることを特徴としているため、ＨＦＣ／Ｅによるすすぎ工程において溶剤が被洗浄物表面に残存して、溶剤に溶解された汚れ成分が被洗浄物表面にシミを作って洗浄不良を起こす恐れがある。

これに対し、飽和炭化水素と酢酸エステルから成る洗浄剤で被洗浄物を洗浄処理した後、ＨＦＣ／Ｅですすぎ洗浄し、洗浄剤とＨＦＣ／Ｅの分離回収が容易な洗浄方法及びそれに用いる洗浄剤組成物が提案されている（特許文献７参照）。また、洗浄液として炭化水素類、グリコールエーテル類、及びエステル類から選ばれる１種以上を主成分とする洗浄液を用いて洗浄した後に、リンス液としてＨＦＣ／Ｅを用いて洗浄液をすすぎ乾燥させる処理を、長時間連続して良好な状態で継続する洗浄システム及び洗浄方法が提案されている（特許文献８参照）。しかしながら、該特許文献では、炭化水素類としては、パラフィン系炭化水素から選ばれる少なくとも１種の炭化水素が好ましいとされており、炭化水素類のみではＨＦＣ／Ｅに難溶であるため、被洗浄物表面上で、炭化水素洗浄剤からＨＦＣ／Ｅへの置換が十分に行われず、汚れ成分を含む炭化水素洗浄剤の一部が被洗浄物表面に付着したまま残留し、洗浄不良を起こす恐れがある。また、グリコールエーテル類及びエステル類は、炭化水素と比較すると鉱物油に対する洗浄性が必ずしも高いとはいえない。

特開平１０−３６８９４号公報 特開２００１−３３４１０４号公報 特開平６−３２８０５２号公報 特開平１０−１９２７９７号公報 特開平１０−２０２２０９号公報 特開２００８−２３８１１０号公報 特開２００６−２４９１１４号公報 特開２００８−１６３４００号公報

そこで、本発明の目的は、洗浄不良を起こさず、オゾン層破壊等の環境上の問題が無く、危険物の指定数量としての制約が少なく、揮発によるロスが少なく、加熱洗浄が可能で、十分な乾燥性能を有し、回収が容易な洗浄剤組成物を用いて、フラックス、ワックス、加工油などの脂肪族炭化水素及び／またはグリコールエーテル類及び／またはエステル類に不溶性もしくは難溶性の汚れを十分に洗浄することが可能な洗浄方法を提供することにある。

本発明者等は、上記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、沸点が２００〜３５０℃で且つ引火点が７０℃以上の芳香族炭化水素が、各種汚れの洗浄に適し、かつ、ハイドロフルオロカーボン又はハイドロフルオロエーテルと特有の溶解特性があることを見出し、本発明に到達した。

すなわち、本発明の洗浄方法は、
被処理物を、沸点が２００〜３５０℃で且つ引火点が７０℃以上である芳香族炭化水素を主成分とする洗浄剤組成物を用いて浸漬洗浄する工程と、
該浸漬洗浄後の被洗浄物を、ハイドロフルオロカーボン又はハイドロフルオロエーテルに浸漬してすすぎを行う工程と、
前記すすぎ後の被洗浄物を、ハイドロフルオロカーボン又はハイドロフルオロエーテルの蒸気と接触させて蒸気洗浄を行う工程と、
該蒸気洗浄後の被洗浄物を、乾燥する工程と、
前記洗浄剤組成物とハイドロフルオロカーボン又はハイドロフルオロエーテルとを回収する工程と
を含み、
前記蒸気洗浄を行う工程において、前記洗浄剤組成物とハイドロフルオロカーボン又はハイドロフルオロエーテルが相溶することにより、被洗浄物表面上の洗浄剤組成物とハイドロフルオロカーボン又はハイドロフルオロエーテルを置換させ、
前記回収工程において、すすぎ及び蒸気洗浄を行った後の洗浄剤組成物を含むハイドロフルオロカーボン又はハイドロフルオロエーテルを冷却することにより二層分離させ、各々を回収する
ことを特徴とする。

また、本発明の洗浄方法の好適例においては、
前記蒸気洗浄を行う工程の温度が３５〜１５０℃の範囲であり、
前記回収工程における冷却温度が−５℃以下である。

本発明の洗浄方法の他の好適例においては、前記ハイドロフルオロカーボン又はハイドロフルオロエーテルの沸点が３５〜１５０℃である。

本発明の洗浄方法において、前記洗浄剤組成物は、前記ハイドロフルオロカーボン又はハイドロフルオロエーテルへの溶解度が３５℃において２０重量％以上で且つ−１５℃において１５重量％以下であることが好ましい。

本発明の洗浄方法に用いる洗浄剤組成物は、オゾン層破壊等の環境上の問題が無く、第３石油類に属することから危険物の指定数量としての制約が少なく、高沸点がゆえに揮発によるロスが少なくて加熱洗浄ができ、かつ、フラックス、ワックス、加工油など、特には、脂肪族炭化水素及び／またはグリコールエーテル類及び／またはエステル類に不溶性もしくは難溶性の汚れに対して十分な洗浄特性を有している。そして、ＨＦＣ／Ｅの沸点温度近傍において相溶し、低温になるに連れて溶解度が大きく低下する該洗浄剤組成物の特性を活用した本発明の洗浄方法によれば、該ＨＦＣ／Ｅによる被洗浄物のすすぎを健全に行うことができ、被洗浄物の蒸発速度が速く、また、洗浄剤と蒸気洗浄剤との分離回収が容易となる。

ＨＦＥの一種である１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテルに対する、本発明の洗浄方法に用いる洗浄剤組成物の好適例の溶解度を示す図である。

本発明の洗浄方法は、まず、被処理物を、沸点が２００〜３５０℃で且つ引火点が７０℃以上である芳香族炭化水素を主成分とする洗浄剤組成物を用いて浸漬洗浄する。該洗浄剤組成物は、沸点が２００〜３５０℃の範囲にある芳香族炭化水素、望ましくは沸点が２３０〜３５０℃の範囲にある芳香族炭化水素、特に望ましくは沸点が２６０〜３５０℃の範囲にある芳香族炭化水素を主成分とする。該芳香族炭化水素は、単環でも、縮合多環であってもよく、これらを単独で用いても複数を混合して用いても構わない。沸点が２００℃未満の芳香族炭化水素は消防法危険物の第二石油類、または、第一石油類に属するため、安全上好ましくない。さらに、沸点が２００℃未満の芳香族炭化水素はＨＦＣ／Ｅの沸点温度近傍において相溶するが、低温になるに連れて溶解度が大きく低下しないため、洗浄剤組成物と蒸気洗浄剤（ハイドロフルオロカーボン又はハイドロフルオロエーテル）の分離回収が困難となり好ましくない。また、沸点が３５０℃を超えると、芳香族炭化水素が高粘度になるため、洗浄効率が低下したり、洗浄後の乾燥がし難くなるため好ましくない。なお、２００９年度以前のＰＲＴＲ法（化学物質管理促進法）及び２０１０年度以降のＰＲＴＲ法の規制に触れない沸点が２６０〜３４０℃の範囲にある芳香族炭化水素が特に好ましい。

上記芳香族炭化水素は、引火点が７０℃以上である。ここで、芳香族炭化水素の引火点が７０℃未満であると、通常、洗浄で使用する温度範囲において、引火性蒸気の発生が多くなり、安全上の危険性が増大するため、本発明においては、引火点が７０℃以上の芳香族炭化水素を使用する。また、引火点が７０℃未満の芳香族炭化水素は、消防法危険物の第二石油類、または、第一石油類に属するため、消防法上の危険物としての指定数量の制約が厳しい。

上記沸点が２００〜３５０℃で且つ引火点が７０℃以上である芳香族炭化水素としては、特に限定されるものではないが、メチルナフタレン、ジメチルナフタレン、エチルナフタレン、メチルビフェニル、炭素数１２〜１３のアルキルナフタレン、炭素数１５〜１７のアルキルビフェニル、炭素数１５〜１７のアルキルジフェニルアルカン等が挙げられる。

上記洗浄剤組成物は、上記芳香族炭化水素を好ましくは４０重量％以上、より好ましくは８０重量％以上含有する。芳香族炭化水素の含有量が４０重量％未満であると、フラックス及びワックス、特には、脂肪族炭化水素及び／またはグリコールエーテル類及び／またはエステル類に不溶性もしくは難溶性の汚れに対する洗浄性が低下するため好ましくない。

上記洗浄剤組成物には、本発明の目的を損なわない範囲で、他の炭化水素類、エステル類、アルコール類、ケトン類、ラクタム類などの配合成分や、界面活性剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、防錆剤などの慣用の添加剤を含めることができる。これら成分の含有量は、合計で１０重量％未満、特には２重量％未満であることが好ましい。また、通常、水は配合されないことが好ましい。

上記界面活性剤としては非イオン性界面活性剤が好ましく、例えば、高級アルコールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、ソルビトール及びソルビタンの脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル、シリコン系、フッ素系などいずれのものも使用できる。

また、上記紫外線吸収剤及び酸化防止剤は、洗浄液の長期保存などにおける安定性の向上に役立ち、紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、ヒンダードアミン系などを使用でき、酸化防止剤としては、例えば、フェノール系、アミン系、硫黄系、リン系など、上記洗浄剤組成物に溶解するものはいずれも使用できる。なお、フェノール系酸化防止剤を５０〜１０００重量ｐｐｍ添加することが特に好ましい。

本発明の洗浄方法においては、被洗浄物を洗浄剤組成物に浸漬して洗浄する。該浸漬による洗浄においては、洗浄効果を高めるために、同時に攪拌、揺動、超音波、エアバブリングなどを組み合せることが好ましい。この場合、超音波の使用条件は、例えば、発振周波数２０〜１００ｋＨｚ、洗浄剤１Ｌ当りの発振出力１０〜２００Ｗが好ましい。また、エアバブリングでは、微細な気泡を、好ましくはガス：洗浄剤組成物の体積比を１：１〜５：１で通気することにより、洗浄剤組成物に溶解しない汚れを気泡と共に上昇させ、分離できる。また、洗浄時間は、１５秒間〜２時間、特には３０秒間〜２０分間が好ましい。この範囲未満では洗浄が不十分で、汚れを十分に除去できないことがある一方、この範囲を超えても洗浄効果は格別には向上しない。なお、洗浄温度は、２０〜１３０℃が好ましく、５０〜１３０℃で加熱処理することにより洗浄効果を著しく上昇させることができる。

本発明の洗浄方法は、上述のようにして浸漬洗浄した後の被洗浄物を、ハイドロフルオロカーボン又はハイドロフルオロエーテルに浸漬してすすぎを行う。また、上記洗浄剤組成物は引火点が高い反面、蒸発速度が遅いという問題があるため、速乾性を持たせるためにハイドロフルオロカーボン又はハイドロフルオロエーテル（ＨＦＣ／Ｅ）を蒸気洗浄剤とする蒸気洗浄を更に行う。すなわち、ＨＦＣ／Ｅを満たしたすすぎ槽で被洗浄物に付着した洗浄剤組成物をすすいで除去した後に、更に、被洗浄物を該ＨＦＣ／Ｅの飽和蒸気層に静置することで、蒸発速度を格段に改善することができる。ここで、ＨＦＣ／Ｅの沸点は、好ましくは３５〜１５０℃の範囲にあり、ハンドリングのし易さ、洗浄剤組成物との相溶性及び洗浄剤組成物との沸点差を考慮して、沸点が４０〜１１０℃のハイドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）が特に好ましく用いられる。ＨＦＥの例としては、１，２，２，２−テトラフルオロエチル−ヘプタフルオロプロピルエーテル（沸点４０℃）、１，１，１，２，３，３−ヘキサフルオロ−２−ヘプタフルオロプロピロキシ−３−（１，２，２，２−テトラフルオロエトキシ）−プロパン（沸点１０４℃）、１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテル（沸点５６℃）、ノナフルオロブチルメチルエーテル（沸点６１℃）、ノナフルオロブチルエチルエーテル（沸点７６℃）が挙げられる。

一般に蒸気洗浄では蒸気洗浄剤の沸点近傍において洗浄剤と蒸気洗浄剤は相溶するのが好ましいとされている。本発明で用いる洗浄剤組成物である沸点が２００〜３５０℃の芳香族炭化水素（実施例１〜３）の蒸気洗浄剤としてのＨＦＥの一種である１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテル（ＨＦＥ−１）への溶解度を図１に示す。本発明で用いる洗浄剤組成物は、温度の上昇に連れてＨＦＥ−１への溶解度が急激に増加することから、良好な蒸気洗浄が達成される。そして、蒸気洗浄剤の沸点近傍で均一な本発明の洗浄剤組成物と蒸気洗浄剤の混合物は、冷却すると二層に分離して、容易に各々を回収し、再利用することができる。

さらに、上記洗浄剤組成物は、室温以上（具体的には例えば３５℃）のＨＦＣ／ＨＦＥに相溶し、低温（具体的には例えば−１５℃）のＨＦＣ／ＨＦＥには難溶性であることが好ましい。ここで、相溶とは、室温以上（具体的には例えば３５℃）における洗浄剤組成物とＨＦＣ／ＨＦＥの飽和溶液の総重量を１００とした場合に、洗浄剤組成物の重量が２０以上であると定義する。また、難溶性とは、低温（具体的には例えば−１５℃）における洗浄剤組成物とＨＦＣ／ＨＦＥの飽和溶液の総重量を１００とした場合に、洗浄剤組成物の重量が１５以下であると定義する。洗浄剤組成物が、室温以上（具体的には例えば３５℃）のＨＦＣ／ＨＦＥに相溶し、低温（具体的には例えば−１５℃）のＨＦＣ／ＨＦＥには難溶性であれば、被洗浄物を洗浄剤組成物で洗浄した後に、室温以上（具体的には例えば３５℃）のＨＦＣ／Ｅを満たしたすすぎ槽で被洗浄物に付着した洗浄剤組成物をすすいで除去することができ、蒸気洗浄剤による蒸気洗浄を行わずとも、被洗浄物の洗浄と乾燥を十分に行うことができ、かつ、洗浄剤組成物と蒸気洗浄剤の混合物は、低温（具体的には例えば−１５℃）にすると二層に分離して、容易に各々を回収し、再利用することができる。なお、本発明で用いる洗浄剤組成物は、ＨＦＣ／ＨＦＥへの溶解度が３５℃において２０重量％以上で且つ−１５℃において１５重量％以下であることが好ましい。また、本発明において、すすぎ工程の温度は、−５〜１５０℃の範囲が好ましく、３５〜１１０℃の範囲が更に好ましい。また、蒸気洗浄工程の温度は、３５〜１５０℃の範囲が好ましく、４０〜１１０℃の範囲が更に好ましい。

本発明の洗浄方法において、被洗浄物に付着した洗浄剤組成物の除去は、ＨＦＣ／Ｅを用いたすすぎ及び蒸気洗浄により行う。その方法は特に制限されるものでなく、公知のいずれの方法も使用できる。例えば、ＨＦＣ／Ｅを満たしたすすぎ槽で洗浄剤組成物の付着した被洗浄物をすすいだ後に、該ＨＦＣ／Ｅの飽和蒸気層に静置して蒸気洗浄することにより清浄な物品が得られる。すすぎ槽は、沸騰浴または温浴または冷浴のいずれか一方、または、全てでもよく、また、すすぎ効果を高めるために攪拌機または超音波発生機を取り付けることもできる。沸騰浴ですすいだ後に超音波発生機の付いた冷浴ですすぐのが最も効果的である。被洗浄物はすすぎ槽でＨＦＣ／Ｅの沸点よりも低い温度に冷却された後に引き上げられて、該ＨＦＣ／Ｅの飽和蒸気層に導入されると、被洗浄物表面で該ＨＦＣ／Ｅは凝縮・液化して、すすぎ槽では除去できなかった汚れを含む洗浄剤組成物と置換され、すすぎが完了する。この際、該ＨＦＣ／Ｅと洗浄剤組成物の相溶性が低いと、置換が不十分となり、被洗浄剤表面に洗浄剤組成物が残留して、シミが発生する恐れがあるが、上記洗浄剤組成物は該ＨＦＣ／Ｅの沸点近傍で該ＨＦＣ／Ｅと相溶するため、洗浄不良は起こらない。すすぎを終了した被洗浄物の表面は、該ＨＦＣ／Ｅのみで濡れている状態にあるため、速やかに乾燥される。

蒸気洗浄剤から洗浄剤成分や汚れ成分を分離するには、しばしば蒸留法が適用される。上記洗浄剤組成物においても蒸気洗浄剤との分離に蒸留法を用いることが可能であるが、一般に蒸留法には多大な時間や費用を要するという問題点がある。図１に示したように、本発明で用いる洗浄剤組成物と蒸気洗浄剤の相溶性には顕著な温度依存性があることから、本発明の洗浄方法では、洗浄剤組成物を含有するすすぎ槽や蒸気洗浄剤の凝縮液を冷却して２層分離させて、各々を回収して再利用することが好ましい。ここで、回収工程における冷却温度は、−５℃以下が好ましく、−１５℃以下が更に好ましい。また、回収された汚れ成分を含む洗浄剤組成物は、蒸留法等により洗浄剤組成物と汚れ成分に分離された後に再利用される。

本発明の洗浄方法においては、上記蒸気洗浄を施した被洗浄物を更に乾燥する。ここで、乾燥方法は、特に限定されず、例えば、加熱乾燥、減圧乾燥、風乾などが挙げられる。

上記被洗浄物としては、電子・電気部品、光学部品、精密機械部品、自動車部品などの部品を例示することができる。対象となる電気・電子部品としては、プリント配線基板、セラミック配線基板などの配線基板、リードフレームなどの半導体パッケージ部材、リレー、コネクターなどの接点部材、液晶、プラズマディスプレイなどの表示部品、ハードディスク記憶媒体、磁気ヘッドなどの磁気記憶部品、水晶振動子などの圧電部品、モータ、ソレノイドなどの電動機部品、センサー部品が挙げられる。光学部品としては、眼鏡、カメラ用などのレンズ、その筐体が挙げられる。精密機械部品としては、ＶＴＲなどに用いられる精密ベアリングなどの部品が挙げられる。

上記被洗浄物に付着している汚れとしては、ワックス、松脂、油脂、鉱油などからなる機械油、植物油、グリース、フラックス、フォトレジスト、接着剤が挙げられる。上述した洗浄剤組成物は、フラックス及びワックス、特には、脂肪族炭化水素及び／またはグリコールエーテル類及び／またはエステル類に不溶性もしくは難溶性の汚れに対して優れた洗浄力を有する。

以下、本発明を実施例、比較例により更に詳細に説明するが、本発明は実施例により限定して解釈されるものではない。

以下に示す実施例１〜３及び比較例１〜５の洗浄剤に対して、下記の方法で、引火点、沸点、松脂溶解性、蜜蝋溶解性、特殊潤滑剤溶解性、フラックス洗浄性、ワックス洗浄性、植物油洗浄性を評価した。結果を表１に示す。また、併せて、２００９年度以前のＰＲＴＲ法規制有無、２０１０年度以降のＰＲＴＲ法規制有無についても表１に標記する。

（実施例１）
実施例１では、メチルナフタレンを６１重量％、ジメチルナフタレンを１７重量％、エチルナフタレンを１５重量％含有する芳香族炭化水素系洗浄液１を用いた。

（実施例２）
実施例２では、炭素数１２のアルキルナフタレンを６８重量％、炭素数１３のアルキルナフタレンを１８重量％、メチルビフェニルを６重量％含有する芳香族炭化水素系洗浄液２を用いた。

（実施例３）
実施例３では、炭素数１５のアルキルビフェニル（またはアルキルジフェニルアルカン）を６重量％、炭素数１６のアルキルビフェニル（またはアルキルジフェニルアルカン）を２７重量％、炭素数１７のアルキルビフェニル（またはアルキルジフェニルアルカン）を４９重量％、炭素数１３のアルキルナフタレンを８重量％含有する芳香族炭化水素系洗浄液３を用いた。

（比較例１）
比較例１では、炭素数９のアルキルベンゼンを２５重量％、炭素数１０のアルキルベンゼンを６９重量％含有する芳香族炭化水素系洗浄液４を用いた。

（比較例２）
比較例２では、ノルマルドデカンを用いた。

（比較例３）
比較例３では、３−メトキシ−３−メチルブチルアルコールを用いた。

（比較例４）
比較例４では、３−メトキシ−３−メチルブチルアセテートを用いた。

（比較例５）
比較例５では、ノルマルドデカンを４０重量％、３−メトキシ−３−メチルブチルアセテートを６０重量％含有する飽和炭化水素系洗浄液１を用いた。

［引火点］
ＪＩＳ Ｋ２２６５に従い、ペンスキーマルテンス密閉法引火点試験器で洗浄剤組成物の引火点を測定した。

［沸点］
ＪＩＳ Ｋ２２５４に従い、常圧法蒸留試験方法で洗浄剤組成物の初留点と終点を測定した。

［２００９年度以前のＰＲＴＲ法規制有無］
２００９年度以前のＰＲＴＲ法（化学物質管理促進法）にて指定化学物質に挙げられている各物質が法で規定されている量を含有する場合を「該当」、２００９年度以前のＰＲＴＲ法（化学物質管理促進法）にて指定化学物質に挙げられている各物質が法で規定されている量を含有しない場合を「非該当」として表１に示した。

［２０１０年度以降のＰＲＴＲ法規制有無］
２０１０年度以降のＰＲＴＲ法（化学物質管理促進法）にて指定化学物質に挙げられている各物質が法で規定されている量を含有する場合を「該当」、２０１０年度以降のＰＲＴＲ法（化学物質管理促進法）にて指定化学物質に挙げられている各物質が法で規定されている量を含有しない場合を「非該当」として表１に示した。

［松脂溶解性］
各洗浄剤組成物４０重量％と松脂（関東化学）６０重量％を混合し、室温で超音波照射（出力１００Ｗ、周波数２８ｋＨｚ）を５分間行い、目視により不溶解分の有無を観察した。完全に相溶したものを○、微かにでも不溶解分の有るものを×として評価し、表１に併せて示した。

［蜜蝋溶解性］
各洗浄剤組成物９５重量％と蜜蝋（セラリカＮＯＤＡ製）５重量％を混合し、４０℃で５分間の攪拌混合（回転数１００ｒｐｍ）を行い、目視により不溶解分の有無を観察した。完全に相溶したものを○、微かにでも不溶解分の有るものを×として評価し、表１に併せて示した。

［特殊潤滑剤溶解性］
各洗浄剤組成物９０重量％と電気接点用潤滑剤（ＮＯＫ製、ＳＹＮＴＨＥＳＩＮ ＰＤＬ ２５０／０１）１０重量％を混合し、室温で超音波照射（出力１２５Ｗ、周波数４２ｋＨｚ）を５分間行い、目視により不溶解分の有無を観察した。完全に相溶したものを○、微かにでも不溶解分の有るものを×として評価し、表１に併せて示した。

［フラックス洗浄性］
フラックス洗浄性の評価は、金属板（銅板５０×５０ｍｍ、厚さ０．０３ｍｍ）上にロジン系フラックス入りハンダペースト（タムラ化研製、ＳＱ−１０３０ＳＺＭ−１）各１ｍｇを９箇所に塗布し、２５０℃で３０秒間リフローしたものを洗浄に用いた。この洗浄対象物を２００ｃｍ³の洗浄液が充填された洗浄槽において液温２０℃で超音波照射（出力１００Ｗ、周波数２８ｋＨｚ）し、１０秒間洗浄した。洗浄後、金属板上にフラックスの痕跡が認められなくなったものを○、微かにでも痕跡のあるものを×として評価し、表１に併せて示した。

［ワックス洗浄性］
ワックス洗浄性の評価は、金属板（銅板５０×５０ｍｍ、厚さ０．０３ｍｍ）上にテルペンフェノール樹脂系ワックス（日化精工製、アルコワックス５４２Ｍ）１００ｍｇを塗布し、室温で３０秒間超音波照射（出力１００Ｗ、周波数２８ｋＨｚ）して洗浄することによって行った。評価はワックスの残存率（残存するワックス重量の初期塗布量に対する割合（％））を求め、残存率１５％未満を○、１５％以上を×とした。

［植物油洗浄性］
植物油の洗浄性評価は、積層メッシュ板（ＳＵＳ製３０ｍｍφ、厚さ１．０ｍｍ）上にひまし油（関東化学）３００〜４００ｍｇを付着させ、室温で６０秒間超音波照射（出力１００Ｗ、周波数２８ｋＨｚ）して洗浄することによって行った。評価は植物油残存率（残存する植物油重量の初期の付着量に対する割合（％））を求め、残存率１５％未満を○、１５％以上を×とした。

表１から、実施例１〜３と比較例２と比較例４〜５の洗浄剤は第三石油類（引火点７０℃以上２００℃未満）であり、比較例１と比較例３の洗浄剤は第二石油類（引火点２１℃以上７０℃未満）であることが分かる。

また、表１に示す結果から、実施例１〜３の洗浄剤組成物は、松脂溶解性、蜜蝋溶解性、潤滑剤溶解性、フラックス洗浄性、ワックス洗浄性、植物油洗浄性の総に優れることがわかる。一方、比較例２のノルマルデカンは、松脂溶解性、蜜蝋溶解性、潤滑剤溶解性、フラックス洗浄性、ワックス洗浄性、植物油洗浄性の総てが悪く、比較例３及び５の洗浄剤組成物は、蜜蝋溶解性、潤滑剤溶解性が悪く、比較例４の洗浄剤組成物は、蜜蝋溶解性、潤滑剤溶解性、フラックス洗浄性が悪かった。

次に、実施例１〜３と比較例１〜５の洗浄剤について、下記の方法で蒸気洗浄剤への溶解度を測定した。結果を表２に示す。

［蒸気洗浄剤への溶解度−１］
実施例１〜３と比較例１〜５の洗浄剤について、蒸気洗浄剤（１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテル（ＨＦＥ−１））への溶解度を測定した。なお、溶解度は、洗浄剤と蒸気洗浄剤の混合溶液中の洗浄剤の重量％で表した。また、３５℃におけるＨＦＥ−１への溶解度が５重量％以上であり、かつ、−１５℃におけるＨＦＥ−１への溶解度が２５重量％以下の洗浄剤について、３５℃においてＨＦＥ−１に溶解している洗浄剤の−１５℃における回収率を分離回収率として表２に付記する。

［蒸気洗浄剤への溶解度−２］
実施例１〜３と比較例１〜５の洗浄剤について、蒸気洗浄剤（ノナフルオロブチルエチルエーテル（ＨＦＥ−２））への溶解度を測定した。なお、溶解度は、洗浄剤と蒸気洗浄剤の混合溶液中の洗浄剤の重量％で表した。また、３５℃におけるＨＦＥ−２への溶解度が５重量％以上であり、かつ、−１５℃におけるＨＦＥ−２への溶解度が２５重量％以下の洗浄剤について、３５℃においてＨＦＥ−２に溶解している洗浄剤の−１５℃における回収率を分離回収率として表２に付記する。

実施例１〜３と比較例５の洗浄剤は、３５℃以上でＨＦＥ−１と相溶し、冷却するに従い相溶性は大きく低下した。一方、比較例２の洗浄剤は４５℃においてもＨＦＥ−１への溶解度が低く、部品上に残存付着している洗浄剤との置換が行われ難い。したがって、実施例１〜３と同じ条件で蒸気洗浄した場合は、すすぎ不良となる。また、比較例１と比較例３〜４の洗浄剤は−１５℃においてもＨＦＥ−１に完全に相溶するため、冷却しながら洗浄剤と蒸気洗浄剤（ＨＦＥ−１）を分離して各々を回収することはできない。

また、実施例１〜３と比較例２の洗浄剤は、４５℃以上でＨＦＥ−２と相溶し、冷却するに従い相溶性は大きく低下した。一方、比較例１と比較例３〜５の洗浄剤は−１５℃においてもＨＦＥ−２に完全に相溶するため、冷却しながら洗浄剤と蒸気洗浄剤（ＨＦＥ−２）を分離して各々を回収することはできない。

本発明に用いる洗浄剤組成物は、オゾン層破壊等の環境上の問題が無く、危険物の指定数量としての制約が少なく、揮発によるロスが少なく、加熱洗浄ができ、十分な乾燥性能を有し、かつ、回収が容易であることから、本発明の洗浄方法は、電気・電子部品、光学部品、自動車部品、精密機械部品などの部品に付着したフラックス、ワックス、加工油などの、特には、脂肪族炭化水素及び／またはグリコールエーテル類及び／またはエステル類に不溶性もしくは難溶性の汚れの洗浄に有用である。

Claims (4)

1. 被処理物を、沸点が２００〜３５０℃で且つ引火点が７０℃以上である芳香族炭化水素を主成分とする洗浄剤組成物を用いて浸漬洗浄する工程と、
   該浸漬洗浄後の被洗浄物を、ハイドロフルオロカーボン又はハイドロフルオロエーテルに浸漬してすすぎを行う工程と、
   前記すすぎ後の被洗浄物を、ハイドロフルオロカーボン又はハイドロフルオロエーテルの蒸気と接触させて蒸気洗浄を行う工程と、
   該蒸気洗浄後の被洗浄物を、乾燥する工程と、
   前記洗浄剤組成物とハイドロフルオロカーボン又はハイドロフルオロエーテルとを回収する工程と
   を含み、
   前記蒸気洗浄を行う工程において、前記洗浄剤組成物とハイドロフルオロカーボン又はハイドロフルオロエーテルが相溶することにより、被洗浄物表面上の洗浄剤組成物とハイドロフルオロカーボン又はハイドロフルオロエーテルを置換させ、
   前記回収工程において、すすぎ及び蒸気洗浄を行った後の洗浄剤組成物を含むハイドロフルオロカーボン又はハイドロフルオロエーテルを冷却することにより二層分離させ、各々を回収する
   ことを特徴とする洗浄方法。
2. 前記蒸気洗浄を行う工程の温度が３５〜１５０℃の範囲であり、
   前記回収工程における冷却温度が−５℃以下である
   ことを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
3. 前記ハイドロフルオロカーボン又はハイドロフルオロエーテルの沸点が３５〜１５０℃であることを特徴とする請求項１又は２に記載の洗浄方法。
4. 前記洗浄剤組成物は、前記ハイドロフルオロカーボン又はハイドロフルオロエーテルへの溶解度が３５℃において２０重量％以上で且つ−１５℃において１５重量％以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の洗浄方法。

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