JP5353562B2 - Uf膜モジュールの洗浄方法 - Google Patents
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Description
径0.3μm以上0.5μm未満の微粒子(平均値):6119
径0.3μm以上0.5μm未満の微粒子(最小値):0
径0.3μm以上0.5μm未満の微粒子(最大値):67360
径0.5μm以上の微粒子(平均値):822
径0.5μm以上の微粒子(最小値):0
径0.5μm以上の微粒子(最大値):960
従って、必要に応じて、押し出しガスの供給ラインに減圧弁等を設け、押し出しガスの供給圧力を調整することが好ましい。
以下の手順でモジュール内に満たされた超純水を押し出し排出する。
(1) バルブV4A,V4B,V5,V6を閉とした状態から、処理水出口4AのバルブV4Aと処理水出口4BのバルブV4Bとを開とすると共に、処理水出口4Aから押し出しガスをモジュール容器1内に入れ、処理水出口4Bより超純水を押し出し排出する。その後、押し出しガスの供給を停止し、処理水出口4A,4BのバルブV4A,V4Bを閉める。
(2) 濃縮水出口6のバルブV6と給水入口5のバルブV5を開けると共に、濃縮水出口6より押し出しガスをモジュール容器1内に入れ、給水入口5より超純水を押し出し排出する。その後、押し出しガスの供給を停止し、濃縮水出口6のバルブV6と給水入口5のバルブV5を閉める。
その後、UF膜モジュール10Aを洗浄設備から取り外す。
なお、上記(1),(2)の手順は逆に行ってもよい。
以下の手順でモジュール内に満たされた超純水を押し出し排出する。
(1) バルブV4,V5,V6を閉とした状態から、濃縮水出口6のバルブV6と給水入口5のバルブV5を開けると共に、濃縮水出口6より押し出しガスをモジュール容器1内に入れ、給水入口5より超純水を押し出し排出する。その後、押し出しガスの供給を停止し、濃縮水出口6のバルブV6と給水入口5のバルブV5を閉める。
その後、UF膜モジュール10Bを洗浄設備から取り外す。
図1に示す構成の中空糸UF膜モジュール(口径1mmφ、ポリスルホン製、分画分子量6,000)10Aを0.5重量%塩酸水溶液で洗浄した後、超純水で仕上げ洗浄した。その後、モジュール内に超純水が満たされた状態で、前述のIの手順で純度99.99%の窒素ガスを用いてモジュール内の超純水を押し出した。なお、窒素ガスの供給圧力は0.2MPaとした。
結果を表1に示す。
実施例1と同様にしてUF膜モジュールの洗浄を行った後、窒素ガスによる超純水の押し出しを行わずにUF膜モジュールを洗浄設備から取り外した。このUF膜モジュールの取り外しの際には、モジュール内の超純水の流出に伴って、雰囲気中の空気がモジュール内に流出した。
このUF膜モジュールについて、実施例1と同様に汚染状況の評価を行い、結果を表1に示した。
2 中空糸UF膜
3A,3B 接着樹脂
4,4A,4B 処理水出口
5 給水入口
6 濃縮水出口
10A,10B UF膜モジュール
Claims (2)
- 超純水製造装置に設置するUF膜モジュールを、超純水製造装置に組み込む前に洗浄設備で洗浄する方法において、該洗浄設備において、最終洗浄水として超純水を使用して洗浄した後に、モジュール内の超純水を、純度99.99%以上の窒素ガスによって押し出して排出させ、その後、該洗浄設備から取り外して超純水製造装置に組み込むことにより、該UF膜モジュールを該洗浄設備から取り外す際の、該UF膜モジュール内の超純水の流出に伴う雰囲気中の空気の該UF膜モジュール内への流入を防止することを特徴とするUF膜モジュールの洗浄方法。
- 請求項1において、UF膜モジュールが超純水製造装置の端末に設置されるUF膜モジュールであることを特徴とするUF膜モジュールの洗浄方法。
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