JP5346239B2 - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5346239B2 JP5346239B2 JP2009122694A JP2009122694A JP5346239B2 JP 5346239 B2 JP5346239 B2 JP 5346239B2 JP 2009122694 A JP2009122694 A JP 2009122694A JP 2009122694 A JP2009122694 A JP 2009122694A JP 5346239 B2 JP5346239 B2 JP 5346239B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- container
- vapor deposition
- vacuum
- evaporation source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/541—CuInSe2 material PV cells
Landscapes
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Description
上記搬送機構は、第1の方向に長さ方向、第2の方向に幅方向及び第3の方向に厚み方向を有する基板を支持し、上記蒸着室内において上記基板を上記第1の方向に沿って搬送する。
上記蒸発源は、容器と、ヒータと、複数の筒状部とを含む。上記容器は、蒸着材料を収容し、上記基板と対向する基板対向面を有する。上記ヒータは、上記容器の内部に設置され、上記蒸着材料を加熱する。上記複数の筒状部は、上記基板に向かって突出するように上記基板対向面に形成され、上記蒸着材料の蒸気を上記容器の内部から上記基板へ向けて放出する。上記筒状部の先端部と上記基板との間における上記第3の方向に沿った距離は、100mm以下である。
上記搬送機構は、第1の方向に長さ方向、第2の方向に幅方向及び第3の方向に厚み方向を有する基板を支持し、上記蒸着室内において上記基板を上記第1の方向に沿って搬送する。
上記蒸発源は、容器と、ヒータと、複数の筒状部とを含む。上記容器は、蒸着材料を収容し、上記基板と対向する基板対向面を有する。上記ヒータは、上記容器の内部に設置され、上記蒸着材料を加熱する。上記複数の筒状部は、上記基板対向面に形成され、上記蒸着材料の蒸気を上記容器の内部から上記基板へ向けて放出する。上記基板対向面と上記基板との間における上記第3の方向に沿った距離は、100mm以下である。
上記搬送機構は、第1の方向に長さ方向、第2の方向に幅方向及び第3の方向に厚み方向を有する基板を支持し、上記蒸着室内において上記基板を上記第1の方向に沿って搬送する。
上記蒸発源は、容器と、ヒータと、複数の筒状部とを含む。上記容器は、蒸着材料を収容し、上記基板と対向する基板対向面を有する。上記ヒータは、上記容器の内部に設置され、上記蒸着材料を加熱する。上記複数の筒状部は、上記基板に向かって突出するように上記基板対向面に形成され、上記蒸着材料の蒸気を上記容器の内部から上記基板へ向けて放出する。上記筒状部の先端部と上記基板との間における上記第3の方向に沿った距離は、100mm以下である。
これにより、蒸発源の構成の簡素化を図りつつ、蒸着材料の利用効率の高い蒸発源を構成することが可能となる。
このように、筒状部を基板対向面上にマトリックス状あるいはグリッド状に配置することによって、基板の表面に対して筒状部を均一に対向させることが可能となる。これにより、基板上の各点において成膜レートのバラツキを抑えられ、膜厚均一性に優れた成膜処理が実現可能となる。
これにより、基板の端部領域の成膜レートを高めて、基板全面に対する膜厚の均一化を図ることが可能となる。
(1)上記外側筒状部の内径を、それ以外の残余の筒状部の内径よりも大きくする。
(2)上記外側筒状部の高さを、それ以外の残余の筒状部の高さよりも大きくする。
(3)上記外側筒状部を、上記第1の間隔よりも小さい第3の間隔で配置させる。
これにより、筒状部を介しての蒸気の放出を妨げることなく、容器内において蒸着材料を効率よく溶融または昇華させることができる。
これにより、筒状部の直上に位置する基板に対して膜厚分布が一様な領域を効率よく形成することができる。
上記搬送機構は、第1の方向に長さ方向、第2の方向に幅方向及び第3の方向に厚み方向を有する基板を支持し、上記蒸着室内において上記基板を上記第1の方向に沿って搬送する。
上記蒸発源は、容器と、ヒータと、複数の貫通孔とを含む。上記容器は、蒸着材料を収容し、上記基板と対向する基板対向面を有する。上記ヒータは、上記容器の内部に設置され、上記蒸着材料を加熱する。上記複数の貫通孔は、上記基板対向面に形成され、上記蒸着材料の蒸気を上記容器の内部から上記基板へ向けて放出する。上記基板対向面と上記基板との間における上記第3の方向に沿った距離は、100mm以下である。
図1は、本発明の一実施形態に係る真空蒸着装置を示す概略図である。本実施形態の真空蒸着装置1は、インライン式の真空蒸着装置として構成されている。
図10は、本発明の第2の実施形態による蒸発源の構成を示している。なお、上述の第1の実施形態と対応する部分については同一の符号を付し、その詳細な説明は省略する。
図11は、本発明の第3の実施形態による蒸発源の構成を示している。なお、上述の第1の実施形態と対応する部分については同一の符号を付し、その詳細な説明は省略する。
図12(A)、(B)は、本発明の第4の実施形態による蒸発源の構成を示している。なお、上述の第1の実施形態と対応する部分については同一の符号を付し、その詳細な説明は省略する。
図13は、本発明の第5の実施形態による蒸発源の構成を示している。なお、上述の第1の実施形態と対応する部分については同一の符号を付し、その詳細な説明は省略する。
13…成膜室
40、40A、40B、40C、60…蒸発源
41、61…容器
411、611…容器本体
412、612…蓋部材
42、42a、42b、42c…チムニ
43…ヒータ
50…蒸着材料
62…貫通孔
Claims (10)
- 蒸着室と、
第1の方向に長さ方向、第2の方向に幅方向及び第3の方向に厚み方向を有する基板を支持し、前記蒸着室内において前記基板を前記第1の方向に沿って搬送する搬送機構と、
蒸着材料を収容し前記基板と対向する基板対向面を有する容器と、前記容器の内部に設置され前記蒸着材料を加熱するヒータと、前記基板に向かって突出するように前記基板対向面に形成され、前記蒸着材料の蒸気を前記容器の内部から前記基板へ向けて放出する複数の筒状部とを含み、前記筒状部の先端部と前記基板との間における前記第3の方向に沿った距離が100mm以下である蒸発源と、
前記容器の温度を検出する検出部と、
前記蒸着材料の湯面と前記容器の内部上面との間の距離が、前記筒状部の高さより小さくなるように、前記検出部の出力に基づいて前記ヒータの加熱温度を制御するコントロールユニットと
を具備する真空蒸着装置。 - 請求項1に記載の真空蒸着装置であって、
前記容器は、
開口部を有する容器本体と、
前記基板対向面を形成し、前記開口部を被覆する蓋部材とを有し、
前記複数の筒状部は、前記蓋部材に一体的に形成されている
真空蒸着装置。 - 請求項2に記載の真空蒸着装置であって、
前記蒸発源は、
前記第1の方向に平行に前記筒状部が第1の間隔をおいて配置された複数の第1の列群と、
前記第2の方向に平行に前記筒状部が第2の間隔をおいて配置された複数の第2の列群とを有する
真空蒸着装置。 - 請求項3に記載の真空蒸着装置であって、
前記第2の列群は、前記第2の方向に関して、前記基板の幅寸法を越えて延在し、
前記第1の列群に属する前記筒状部のうち、前記第2の方向に関して前記基板の端部よりも外方側に位置する筒状部は、前記基板の端部に向かって傾いている
真空蒸着装置。 - 請求項3に記載の真空蒸着装置であって、
前記第2の列群は、前記第2の方向に関して、前記基板の幅寸法を越えて延在し、
前記第1の列群に属する前記筒状部のうち、前記第2の方向に関して前記基板の端部よりも外方側に位置する筒状部は、残余の筒状部よりも大きい内径を有する
真空蒸着装置。 - 請求項3に記載の真空蒸着装置であって、
前記第2の列群は、前記第2の方向に関して、前記基板の幅寸法を越えて延在し、
前記第1の列群に属する前記筒状部のうち、前記第2の方向に関して前記基板の端部よりも外方側に位置する筒状部は、残余の筒状部よりも大きい突出高さを有する
真空蒸着装置。 - 請求項3に記載の真空蒸着装置であって、
前記第2の列群は、前記第2の方向に関して、前記基板の幅寸法を越えて延在し、
前記第1の列群に属する前記筒状部のうち、前記第2の方向に関して前記基板の端部よりも外方側に位置する筒状部は、前記第1の間隔よりも小さい第3の間隔をおいて配置されている
真空蒸着装置。 - 請求項1に記載の真空蒸着装置であって、
前記ヒータは、前記筒状部の軸心を通る軸線を挟むようにして配置された、前記第1の方向又は前記第2の方向に延在する複数の線状ヒータである
真空蒸着装置。 - 請求項1に記載の真空蒸着装置であって、
前記筒状部は円筒形状であり、前記第3の方向に沿った前記基板対向面からの前記筒状部の突出高さは、前記筒状部の内径よりも大きい
真空蒸着装置。 - 蒸着室と、
第1の方向に長さ方向、第2の方向に幅方向及び第3の方向に厚み方向を有する基板を支持し、前記蒸着室内において前記基板を前記第1の方向に沿って搬送する搬送機構と、
蒸着材料を収容し前記基板と対向する基板対向面を有する容器と、前記容器の内部に設置され前記蒸着材料を加熱するヒータと、前記基板対向面に形成され、前記蒸着材料の蒸気を前記容器の内部から前記基板へ向けて放出する複数の貫通孔とを含み、前記基板対向面と前記基板との間における前記第3の方向に沿った距離が100mm以下である蒸発源と、
前記容器の温度を検出する検出部と、
前記検出部の出力に基づいて前記ヒータを制御するコントロールユニットと
を具備し、
前記容器は、
開口部を有する容器本体と、
前記基板対向面を形成し、前記複数の貫通孔が形成され前記開口部を被覆する蓋部材とを有し、
前記コントロールユニットは、
前記蒸着材料の湯面と前記蓋部材の内面との間の距離が、前記貫通孔の深さより小さくなるように、前記ヒータの加熱温度を制御する
真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009122694A JP5346239B2 (ja) | 2009-05-21 | 2009-05-21 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009122694A JP5346239B2 (ja) | 2009-05-21 | 2009-05-21 | 真空蒸着装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010270363A JP2010270363A (ja) | 2010-12-02 |
JP5346239B2 true JP5346239B2 (ja) | 2013-11-20 |
Family
ID=43418620
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009122694A Active JP5346239B2 (ja) | 2009-05-21 | 2009-05-21 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5346239B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101239808B1 (ko) | 2011-04-07 | 2013-03-06 | 순천향대학교 산학협력단 | 유기 발광 표시 장치의 제조 방법 |
JP2012251213A (ja) * | 2011-06-03 | 2012-12-20 | Ulvac Japan Ltd | 成膜装置 |
JP2013133523A (ja) * | 2011-12-27 | 2013-07-08 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 成膜装置 |
KR102192500B1 (ko) * | 2013-10-24 | 2020-12-17 | 히다치 조센 가부시키가이샤 | 진공증착장치용 매니폴드 |
CN103924196B (zh) * | 2013-12-31 | 2016-06-08 | 上海天马有机发光显示技术有限公司 | 一种蒸镀装置 |
JP6512543B2 (ja) * | 2015-02-28 | 2019-05-15 | ケニックス株式会社 | 蒸着セル、薄膜作製装置および薄膜作製方法 |
JP6620244B2 (ja) | 2016-08-02 | 2019-12-11 | 株式会社アルバック | 真空蒸着装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6202591B1 (en) * | 1998-11-12 | 2001-03-20 | Flex Products, Inc. | Linear aperture deposition apparatus and coating process |
JP4476019B2 (ja) * | 2004-05-20 | 2010-06-09 | 東北パイオニア株式会社 | 成膜源、真空成膜装置、有機el素子の製造方法 |
JP4767000B2 (ja) * | 2005-11-28 | 2011-09-07 | 日立造船株式会社 | 真空蒸着装置 |
JP4768584B2 (ja) * | 2006-11-16 | 2011-09-07 | 財団法人山形県産業技術振興機構 | 蒸発源およびこれを用いた真空蒸着装置 |
JP2008274322A (ja) * | 2007-04-26 | 2008-11-13 | Sony Corp | 蒸着装置 |
-
2009
- 2009-05-21 JP JP2009122694A patent/JP5346239B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010270363A (ja) | 2010-12-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5346239B2 (ja) | 真空蒸着装置 | |
US6982005B2 (en) | Multiple-nozzle thermal evaporation source | |
US7763535B2 (en) | Method for producing a metal backside contact of a semiconductor component, in particular, a solar cell | |
US9157145B2 (en) | Processing tool with combined sputter and evaporation deposition sources | |
JP2011105962A (ja) | 真空蒸着装置、真空蒸着方法、および、有機el表示装置の製造方法 | |
JP2008506849A (ja) | クリーン・ルーム対応コーティング・システム | |
US20120094025A1 (en) | Substrate Depositing System and Method | |
US20120021556A1 (en) | Deposition system | |
JP2009228091A (ja) | 蒸着装置 | |
KR101357089B1 (ko) | 화학량적 구배 층을 생산하기 위한 방법 및 장치 그리고 층 시스템 | |
JP2006203022A (ja) | 透明導電膜製膜装置及び多層透明導電膜連続製膜装置並びにその製膜方法 | |
US20110275196A1 (en) | Thermal Evaporation Sources with Separate Crucible for Holding the Evaporant Material | |
JP4703782B2 (ja) | 半導体構成要素、特にソーラーセルの金属裏側コンタクトの製造方法 | |
KR101983009B1 (ko) | 증발원 및 이를 구비한 진공 증착 장치 | |
KR101248355B1 (ko) | 진공 증착 장치 및 유기 el 표시 장치의 제조 방법 | |
KR20120120948A (ko) | 기판 상에 층을 증착하기 위한 장치 및 방법 | |
JP2011162846A (ja) | 真空蒸発源 | |
JP2023075126A (ja) | 真空チャンバ内で基板をコーティングするための気相堆積装置及び方法 | |
CN101689569B (zh) | 用于生产半导体器件特别是太阳能电池的金属背部触点的方法 | |
US20100236920A1 (en) | Deposition apparatus with high temperature rotatable target and method of operating thereof | |
US20110195184A1 (en) | Substrate protection device and method | |
JP2010013672A (ja) | 薄膜形成装置および薄膜形成方法 | |
US8087380B2 (en) | Evaporative system for solar cell fabrication | |
WO2010106432A2 (en) | Deposition apparatus with high temperature rotatable target and method of operating thereof | |
KR102680671B1 (ko) | 기상 증착 장치 및 진공 챔버에서 기판을 코팅하기 위한 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120119 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130222 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130319 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130514 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130806 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130816 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5346239 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |