JP5334802B2

JP5334802B2 - Cleaning and film forming apparatus, and cleaning and film forming method

Info

Publication number: JP5334802B2
Application number: JP2009254472A
Authority: JP
Inventors: 輝政大▲崎▼; 隆奈良
Original assignee: 太田義尾機械工業株式会社; レアテック株式会社
Priority date: 2009-11-05
Filing date: 2009-11-05
Publication date: 2013-11-06
Anticipated expiration: 2029-11-05
Also published as: JP2011099143A

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cleaning and film forming device or the like which can efficiently increase the detergency of the water used for performing the cleaning of an object, and further, can increase working efficiency upon the performance of coating (formation of a film to an object). <P>SOLUTION: The cleaning and film forming device 100 is used for performing the cleaning of an object and film formation to the object. The device includes: a coat tank 1 storing a coat liquid; a mixing and energizing tank 2 connected with the coat tank 1; a water feeding apparatus 3 connected to the mixing and energizing tank 2; and a discharging apparatus 4 connected with the delivery opening of the mixing and energizing tank 2. Further, the space between the coat tank 1 and the mixing and energizing tank 2 is provided with a valve 5. The mixing and energizing tank 2 mixes the liquid in the tank, and passes electricity through the mixed liquid. Then, the feed of the coat liquid to the mixing and energizing tank 2 is not performed upon cleaning, and the coat liquid is fed to the mixing and energizing tank 2 upon the formation of a film. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は，洗浄及び被膜形成装置，並びに洗浄及び被膜形成方法などに関する。 The present invention relates to a cleaning and film forming apparatus, a cleaning and film forming method, and the like.

対象物を水で洗浄する洗浄装置としては，例えば特許文献１（特許第３７８６２４９号明細書）に記載されている洗浄装置がある。 As a cleaning apparatus for cleaning an object with water, for example, there is a cleaning apparatus described in Patent Document 1 (Japanese Patent No. 3786249).

この洗浄装置は，粒状セラミックス（例えば，トルマリン）を充填した水活性タンクと，送出口を有する送水装置とを含む。そして，対象物を洗浄するためには，水活性タンクを通過した水を，送水装置の送出口から対象物に向けて放出する。ここで，水が水活性タンクを通過することにより水の品質が改善され，その水は，活性水となる。このようにすることで，この洗浄装置では，対象物を洗浄するときの洗浄力が高めることができる。
しかしながら，上記洗浄装置では，水が粒状セラミックスに接したからといってその全てが活性水となるわけではない。そのため，上記洗浄装置では，水の洗浄力を高める効率が優れているとはいえなかった。 This cleaning device includes a water activation tank filled with granular ceramics (for example, tourmaline) and a water supply device having a delivery port. And in order to wash | clean a target object, the water which passed the water activation tank is discharge | released toward a target object from the delivery port of a water supply apparatus. Here, the quality of water is improved by passing water through the water activation tank, and the water becomes active water. By doing in this way, in this washing | cleaning apparatus, the cleaning power when wash | cleaning a target object can be improved.
However, in the above cleaning apparatus, just because water contacts the granular ceramics, not all of it becomes active water. Therefore, it cannot be said that the above-described cleaning apparatus is excellent in the efficiency of increasing the cleaning power of water.

ところで，上述したような洗浄装置では，水に代えてコート液を用いることで，対象物の表面に当該コート液による被膜を形成すること（コーティング）が可能である。しかしながら，対象物を洗浄した後にコーティングを行うためには，水からコート液に切り替える切り替え作業を伴うこととなる。そのため，洗浄装置を用いた場合，コーティングの作業性は優れているとはいえなかった。特に，水と混合可能なコート液（例えば水で希釈可能なコート液）を用いてコーティングを行う場合，水を用いるにも関わらず，上記切り替え作業を行わなければならないという問題がある。 By the way, in the cleaning apparatus as described above, it is possible to form a coating with the coating liquid on the surface of the object (coating) by using a coating liquid instead of water. However, in order to perform coating after washing the object, a switching operation for switching from water to a coating liquid is required. Therefore, when using a cleaning device, the workability of the coating was not excellent. In particular, when coating is performed using a coating liquid that can be mixed with water (for example, a coating liquid that can be diluted with water), there is a problem that the above switching operation must be performed despite the use of water.

特許第３７８６２４９号明細書Japanese Patent No. 3786249 Specification

そこで，本発明は，対象物の洗浄を行う際に用いる水の洗浄力を効率的に高めることができるとともに，コーティング（対象物への被膜形成）を行う際の作業効率を高めることができる洗浄及び被膜形成装置，並びに洗浄及び被膜形成方法等を提供することを目的とする。 Accordingly, the present invention can efficiently increase the cleaning power of water used when cleaning an object, and can improve the working efficiency when performing coating (forming a film on the object). It is another object of the present invention to provide a film forming apparatus, a cleaning and film forming method, and the like.

なお，本発明の他の課題及び目的は，以下の記載を参酌することにより明らかとなる。 In addition, the other subject and objective of this invention become clear by considering the following description.

本発明の第１の側面は，洗浄及び被膜形成装置に関する。この洗浄及び被膜形成装置は，コート液を収容するコート槽（１）と，コート槽（１）と接続され，コート槽（１）からコート液を受け取ることができる混合加電槽（２）と，混合加電槽（２）と接続され，混合加電槽（２）へ水を供給できる水供給装置（３）と，混合加電槽（２）の送出口と接続された放出装置（４）とを有する。また，コート槽（１）と混合加電槽（２）との間には，混合加電槽（２）へ供給されるコート液の量を調整する第１の弁（５）が設けられている。上記混合加電槽（２）は，槽内の液体を混合し，混合した液体に電気を通すためのものである。これにより，対象物の洗浄を行う際に用いる水の洗浄力を効率的に高めることができる。 The first aspect of the present invention relates to a cleaning and film forming apparatus. The cleaning and coating film forming apparatus includes a coating tank (1) for storing a coating liquid, a mixed charging tank (2) connected to the coating tank (1) and capable of receiving the coating liquid from the coating tank (1). The water supply device (3) connected to the mixed charging tank (2) and capable of supplying water to the mixed charging tank (2), and the discharge device (4) connected to the outlet of the mixed charging tank (2) ). In addition, a first valve (5) for adjusting the amount of the coating liquid supplied to the mixed charging tank (2) is provided between the coating tank (1) and the mixed charging tank (2). Yes. The mixed charging tank (2) is for mixing the liquid in the tank and conducting electricity to the mixed liquid. Thereby, the cleaning power of the water used when cleaning the object can be efficiently increased.

そして，洗浄及び被膜形成装置において，対象物を洗浄する場合には，まず，第１の弁（５）が閉とされて，コート槽（１）から混合加電槽（２）へコート液が供給されないようにされる。その後，混合加電槽（２）内の液体が，放出装置（４）から放出される。これにより，対象物を洗浄することができる。 In the cleaning and coating film forming apparatus, when the object is cleaned, first, the first valve (5) is closed, and the coating liquid is transferred from the coating tank (1) to the mixing and charging tank (2). It is made not to be supplied. Thereafter, the liquid in the mixed charging tank (2) is discharged from the discharge device (4). Thereby, an object can be washed.

一方，洗浄及び被膜形成装置において，対象物に被膜を形成する場合には，まず，第１の弁（５）が開とされて，コート槽（１）から混合加電槽（２）へコート液が供給されるようにされる。その後，水供給装置（３）からの水とコート液とが混合加電槽（２）において混合され，通電されて放出装置（４）から放出される。これにより，コート液による被膜を対象物に形成することができる。このようにすることで，洗浄とコーティングとで切り替え作業が容易である。したがって，コーティング（対象物への被膜形成）を行う際の作業効率を高めることができる。 On the other hand, in the cleaning and film forming apparatus, when a film is formed on an object, first, the first valve (5) is opened and the coating tank (1) is coated to the mixed charging tank (2). Liquid is supplied. Thereafter, the water and the coating liquid from the water supply device (3) are mixed in the mixing heating tank (2), energized and discharged from the discharge device (4). Thereby, the film by a coating liquid can be formed in a target object. This makes it easy to switch between cleaning and coating. Therefore, it is possible to increase the work efficiency when performing coating (formation of a film on an object).

また，本発明の好ましい側面では，上記コート液が，珪酸ソーダ溶液を含む。これにより，コーティングを確実に行うことができる。また，珪酸ソーダ溶液は，水で希釈可能であるので，洗浄処理に用いる水を用いて希釈することができる。 In a preferred aspect of the present invention, the coating solution contains a sodium silicate solution. Thereby, coating can be performed reliably. Further, since the sodium silicate solution can be diluted with water, it can be diluted with water used for the cleaning treatment.

また，本発明の好ましい側面では，水供給装置（３）と混合加電槽（２）との間に，第２の弁（１０）が設けられている。これにより，混合加電槽（２）へ供給する水の量を調整することができる。 Moreover, in the preferable aspect of this invention, the 2nd valve (10) is provided between the water supply apparatus (3) and the mixing electrical charging tank (2). Thereby, the quantity of the water supplied to a mixing heating tank (2) can be adjusted.

また，本発明の好ましい側面では，上記洗浄及び被膜形成装置が，混合加電槽（２）と接続され，混合加電槽（２）へ水蒸気を供給できる蒸気発生装置（１１）をさらに含んでいる。これにより，混合加電槽（２）内の液体を水蒸気で加熱することができる。そのため，環境負荷が小さい。 Further, in a preferred aspect of the present invention, the cleaning and film forming apparatus further includes a steam generator (11) connected to the mixed charging tank (2) and capable of supplying water vapor to the mixed charging tank (2). Yes. Thereby, the liquid in a mixing heating tank (2) can be heated with water vapor | steam. Therefore, the environmental load is small.

また，本発明の好ましい側面では，上記洗浄及び被膜形成装置が，水供給装置（３）と混合加電槽（２）との間に設けられたろ過装置（１２）をさらに有している。ここで，そのろ過装置（１２）は，多孔質物質を含んでいる。これにより，ろ過装置（１２）は，水供給装置（３）が混合加電槽（２）へ供給する水をろ過すること（つまり，浄化すること）ができる。 Moreover, in the preferable aspect of this invention, the said washing | cleaning and film formation apparatus further has the filtration apparatus (12) provided between the water supply apparatus (3) and the mixing heating tank (2). Here, the filtration device (12) contains a porous material. Thereby, the filtration device (12) can filter (that is, purify) the water supplied to the mixed charging tank (2) by the water supply device (3).

また，本発明の好ましい側面では，上記洗浄及び被膜形成装置が，水供給装置（３）と混合加電槽（２）との間に設けられたミネラル成分付与装置（１３）をさらに有している。このミネラル成分付与装置（１３）は，水が接する部位に，ガラス成分又はミネラル成分を有するセラミックスを有するものである。そして，ガラス成分又はミネラル成分を有するセラミックスに水が接することにより，水にガラス成分又はミネラル成分が溶出する。その結果，水の洗浄力を高めることができる。 Moreover, in the preferable aspect of this invention, the said washing | cleaning and film formation apparatus further has the mineral component provision apparatus (13) provided between the water supply apparatus (3) and the mixing heating tank (2). Yes. This mineral component provision apparatus (13) has the ceramic which has a glass component or a mineral component in the site | part which water contacts. And when glass contacts with ceramics having a glass component or mineral component, the glass component or mineral component elutes in the water. As a result, the water detergency can be increased.

また，本発明の好ましい側面では，上記洗浄及び被膜形成装置が，ミネラル成分付与装置（１３）を通過した水の総量又はミネラル成分付与装置（１３）を通過する水の総量を計算する通水管理装置をさらに有する。これにより，ミネラル成分付与装置（１３）のセラミックスの交換時期を容易に把握することができる。 Further, in a preferred aspect of the present invention, the cleaning and coating film forming device calculates the total amount of water that has passed through the mineral component applying device (13) or the total amount of water that has passed through the mineral component applying device (13). It further has an apparatus. Thereby, the replacement | exchange time of the ceramics of a mineral component provision apparatus (13) can be grasped | ascertained easily.

また，本発明の別の側面は，洗浄及び被膜形成方法に関する。この洗浄及び被膜形成方法では，上記洗浄及び被膜形成装置が用いられる。そして，対象物に対して洗浄処理を施す場合には，まず，第１の弁（５）を閉として，前記コート槽（１）から混合加電槽（２）へコート液が供給されないようにする。その後，混合加電槽（２）内の液体が，放出装置（４）から放出される。一方，対象物に対して被膜形成処理を施す場合には，まず，第１の弁（５）を開として，コート槽（１）から混合加電槽（２）へコート液を供給する。その後，水供給装置（３）からの水とコート液とを混合加電槽（２）において混合し，通電して放出装置（４）から放出する。この側面によっても，上述した側面と同等の効果を奏することができる。 Another aspect of the present invention relates to a cleaning and film forming method. In this cleaning and film forming method, the above-described cleaning and film forming apparatus is used. When the object is cleaned, first, the first valve (5) is closed so that the coating liquid is not supplied from the coating tank (1) to the mixed charging tank (2). To do. Thereafter, the liquid in the mixed charging tank (2) is discharged from the discharge device (4). On the other hand, when the film formation process is performed on the object, first, the first valve (5) is opened, and the coating liquid is supplied from the coating tank (1) to the mixed heating tank (2). Thereafter, water and the coating liquid from the water supply device (3) are mixed in the mixing and heating tank (2), energized and discharged from the discharging device (4). Also by this side surface, the same effect as the above-described side surface can be obtained.

本発明によれば，対象物の洗浄を行う際に用いる水の洗浄力を効率的に高めることができるとともに，コーティング（対象物への被膜形成）を行う際の作業効率を高めることができる洗浄及び被膜形成装置，並びに洗浄及び被膜形成方法等を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, while being able to improve the cleaning power of the water used when wash | cleaning a target object efficiently, the work efficiency at the time of coating (formation of a film to a target object) can be improved. And a film forming apparatus, a cleaning and film forming method, and the like.

図１は，本発明の洗浄及び被膜形成装置の構成を概略的に示す図である。FIG. 1 is a diagram schematically showing the configuration of the cleaning and film forming apparatus of the present invention. 図２は，図１に示す洗浄及び被膜形成装置において，第２の弁，ろ過装置，及びミネラル成分付与装置が設けられていない場合の構成を概略的に示す図である。FIG. 2 is a diagram schematically showing a configuration in the case where the second valve, the filtering device, and the mineral component applying device are not provided in the cleaning and film forming device shown in FIG. 1.

以下，図面を用いて本発明を実施するための形態を説明する。しかしながら，以下説明する形態はある例であって，当業者にとって自明な範囲で適宜修正することができる。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. However, the form described below is an example, and can be appropriately modified within a range obvious to those skilled in the art.

図１は，本発明の洗浄及び被膜形成装置の構成を概略的に示す図である。 FIG. 1 is a diagram schematically showing the configuration of the cleaning and film forming apparatus of the present invention.

図１に示す洗浄及び被膜形成装置１００は，コート槽１と，混合加電槽２と，水供給装置３と，放出装置４とを有している。洗浄及び被膜形成装置１００は，対象物に対して洗浄処理を施したり，対象物に対してコーティング処理（コート液による被膜形成）を施したりするためのものである。 A cleaning and coating film forming apparatus 100 shown in FIG. The cleaning and film forming apparatus 100 is for performing a cleaning process on an object and a coating process (forming a film with a coating liquid) on the object.

コート槽１は，コート液を収容するためのものである。コート液は，コーティングの際に用いられる液体である。そして，コート液は，水と混合可能なもの，特には，水で希釈可能な液体であることが好ましい。そのようなコート液としては，珪酸ソーダ溶液（水ガラス溶液）を挙げることができる。珪酸ソーダ溶液は，好ましくは，珪酸ナトリウムのホウ酸溶液であり，より好ましくは，珪酸ナトリウム１重量部に対してホウ酸が３．５重量部である。 The coating tank 1 is for containing a coating liquid. The coating liquid is a liquid used for coating. The coating liquid is preferably a liquid that can be mixed with water, particularly a liquid that can be diluted with water. An example of such a coating liquid is a sodium silicate solution (water glass solution). The sodium silicate solution is preferably a boric acid solution of sodium silicate, more preferably 3.5 parts by weight of boric acid per 1 part by weight of sodium silicate.

混合加電槽２は，コート槽１と接続されている。すなわち，混合加電槽２は，コート槽１からコート液を受け取ることができるように構成されている。ここで，コート槽１と混合加電槽２との間には，図１に示すように，第１の弁５が設けられている。この第１の弁５は，通過する液体の量を調整するためのものであり，本態様では，コート槽１から混合加電槽２へ供給されるコート液の量を調整するために使用される。 The mixed charging tank 2 is connected to the coating tank 1. That is, the mixed charging tank 2 is configured to receive the coating liquid from the coating tank 1. Here, a first valve 5 is provided between the coating tank 1 and the mixed charging tank 2 as shown in FIG. The first valve 5 is for adjusting the amount of liquid passing therethrough. In this embodiment, the first valve 5 is used for adjusting the amount of the coating liquid supplied from the coating tank 1 to the mixed heating tank 2. The

また，混合加電槽２は，槽内の液体を混合する混合手段と，槽内の液体に電気を通すための加電手段とを含んでいる。したがって，混合加電槽２は，槽内の液体を混合しながら，その液体に電気を通すこと（通電）ができるように構成されている。 The mixed charging tank 2 includes mixing means for mixing the liquid in the tank and charging means for conducting electricity to the liquid in the tank. Therefore, the mixing and charging tank 2 is configured so that electricity can be passed through the liquid while the liquid in the tank is mixed.

水供給装置３は，水を供給するためのものであり，混合加電槽２と接続されている。これにより，水供給装置３は，混合加電槽２へ水を供給できるようになっている。水供給装置３が供給する水は，上水道を流れる飲料水であってもよいし，工業用水であってもよいし，地下水であってもよい。 The water supply device 3 is for supplying water and is connected to the mixed charging tank 2. Thereby, the water supply device 3 can supply water to the mixed charging tank 2. The water supplied by the water supply device 3 may be drinking water flowing through the water supply, industrial water, or groundwater.

放出装置４は，送出口（ノズル）を有するとともに，当該送出口から液体を放出するための放出手段を有している。そして，この放出手段（４）は，図１に示すように，混合加電槽２と接続されている。これにより，混合加電槽２内の液体を外部（対象物）に向かって放出することができるようになっている。本態様では，送出口の外形は，扇形をなしている。したがって，水は，送出口から広範囲にわたって放出されることとなる。このため，飛散防止のための邪魔板を用いる必要をなくすことができ，施工効率を高めることができる。また，好ましくは，放出装置４は，液体の放出及びその停止，さらには単位時間当たりの放出量を制御可能に構成されている。この場合には，放出手段（４）に滞留した液体が混合加電槽２を循環するように，復路となる流路を別途設けることがより好ましい。 The discharge device 4 has a discharge port (nozzle) and discharge means for discharging liquid from the discharge port. And this discharge | release means (4) is connected with the mixing electric charging tank 2, as shown in FIG. Thereby, the liquid in the mixing electric charging tank 2 can be discharge | released toward the exterior (object). In this embodiment, the outer shape of the delivery port has a fan shape. Therefore, water is discharged over a wide area from the outlet. For this reason, the necessity to use a baffle plate for preventing scattering can be eliminated, and the construction efficiency can be improved. Preferably, the discharge device 4 is configured to be able to control the discharge and stoppage of the liquid and the discharge amount per unit time. In this case, it is more preferable to separately provide a flow path serving as a return path so that the liquid staying in the discharge means (4) circulates in the mixed charging tank 2.

また，放出装置４の放出手段の例は，ポンプ（エンジン）である。ポンプは，例えば，吐出圧が４ＭＰａ以上であり，かつ噴出能力が１分間当たり１２リットル以上である。これにより，施工効率を高めることができる。なお，ポンプの吐出圧及び噴出能力は，洗浄やコーティングの対象物の大きさなどによって選択される。なお，放出手段を設けずに，混合加電槽２内の液体の圧力によってノズルから自然に放出されるようにしてもよい。 An example of the discharge means of the discharge device 4 is a pump (engine). For example, the pump has a discharge pressure of 4 MPa or more and a jetting capacity of 12 liters or more per minute. Thereby, construction efficiency can be improved. The pump discharge pressure and jetting capacity are selected depending on the size of the object to be cleaned and coated. In addition, you may make it discharge | release naturally from a nozzle with the pressure of the liquid in the mixing electrical charging tank 2, without providing a discharge means.

また，洗浄及び被膜形成装置１００は，さらに，第２の弁１０を含んでいる。この第２の弁１０は，通過する液体の量を調整するためのものであり，図１に示すように，水供給装置３と混合加電槽２との間に設けられている。そのため，第２の弁１０は，混合加電槽２へ供給される水の量を調整するために使用される。 Further, the cleaning and film forming apparatus 100 further includes a second valve 10. The second valve 10 is for adjusting the amount of liquid passing therethrough, and is provided between the water supply device 3 and the mixed charging tank 2 as shown in FIG. Therefore, the second valve 10 is used to adjust the amount of water supplied to the mixed charging tank 2.

また，洗浄及び被膜形成装置１００は，さらに，蒸気発生装置１１を含んでいる。この蒸気発生装置１１は，水蒸気を生成するためのものであり，本態様では，図１に示すように，混合加電槽２と接続されている。そのため，蒸気発生装置１１は，混合加電槽２へ水蒸気を供給できるようになっている。そして，この水蒸気は，混合加電槽２の熱源として用いられる。熱源として，水蒸気を用いることにより，石油資源などを用いた場合に比べて環境負荷を小さくすることができる。放出好ましくは，蒸気発生装置１１は，放出装置４のポンプ上に載置可能に構成されている。これは，通常，ポンプは重量物であり，安定していることと，蒸気発生装置１１は高温になることを考慮したためである。これにより，ポンプの転倒をより確実に防止することができるとともに，高温になる蒸気発生装置１１が作業員の足下に置かれる事態をなくすことができる。その結果，安全性を高めることができるとともに，ポンプや蒸気発生装置１１の転倒等に起因した故障を防止することができる。 The cleaning and film forming apparatus 100 further includes a steam generator 11. This steam generator 11 is for generating water vapor, and in this embodiment, it is connected to the mixed charging tank 2 as shown in FIG. Therefore, the steam generator 11 can supply water vapor to the mixed charging tank 2. The steam is used as a heat source for the mixed charging tank 2. By using steam as a heat source, the environmental load can be reduced compared to the case of using petroleum resources. Release Preferably, the steam generator 11 is configured to be placed on the pump of the discharge device 4. This is because the pump is usually heavy and stable, and the steam generator 11 is considered to be hot. As a result, the pump can be prevented from falling over more reliably, and the situation in which the steam generator 11 that is at a high temperature is placed under the feet of the operator can be eliminated. As a result, it is possible to improve safety and to prevent a failure caused by a fall of the pump or the steam generator 11 or the like.

また，洗浄及び被膜形成装置１００は，さらに，ろ過装置１２を有している。このろ過装置１２は，多孔質物質を含んでいる。多孔質物質は，例えば，大きさが１μｍ程度の空隙流路を有している。そのような多孔質物質としては，活性炭や椰子ガラを挙げることができる。そして，この多孔質物質は，具体的には，ろ過装置１２内において，液体の流路上に配置される。これにより，通過する液体に溶存している不純物（例えば塩素成分）などを多孔質物質表面に吸着させたり，その液体に含まれている固形不純物を多孔質物質内の空隙流路内に残したりすることができる。すなわち，ろ過装置１２は，通過する液体を浄化することができるように構成されている。本態様では，ろ過装置１２は，図１に示すように，水供給装置３と混合加電槽２との間に設けられている。なお，図１に示す例では，ろ過装置１２は，水供給装置３と第２の弁１０との間に設けられているが，第２の弁１０と混合加電槽２との間に設けられていてもよい。これにより，ろ過装置１２は，水供給装置３が混合加電槽２へ供給する水をろ過することができるようになっている。なお，ろ過装置１２は，水を浄化することができればいかなるものであってもよく，例えば，通過する液体に含まれている不純物を吸着する電磁手段を含むものであってもよいし，通過する液体に溶存している不純物を固体として析出させた後フィルタリングするものであってもよい。 Further, the cleaning and film forming apparatus 100 further includes a filtration device 12. The filtration device 12 contains a porous material. The porous material has a void channel having a size of about 1 μm, for example. Examples of such a porous material include activated carbon and coconut shells. The porous substance is specifically disposed on the liquid flow path in the filtration device 12. As a result, impurities (for example, chlorine component) dissolved in the passing liquid are adsorbed on the surface of the porous material, or solid impurities contained in the liquid are left in the void channel in the porous material. can do. That is, the filtration device 12 is configured so as to purify the liquid that passes therethrough. In this embodiment, the filtration device 12 is provided between the water supply device 3 and the mixed charging tank 2 as shown in FIG. In the example shown in FIG. 1, the filtration device 12 is provided between the water supply device 3 and the second valve 10, but is provided between the second valve 10 and the mixed charging tank 2. It may be done. Thereby, the filtration apparatus 12 can filter the water which the water supply apparatus 3 supplies to the mixing electrical charging tank 2 here. The filtering device 12 may be any device as long as it can purify water. For example, the filtering device 12 may include or pass electromagnetic means that adsorbs impurities contained in the liquid that passes through. Filtering may be performed after the impurities dissolved in the liquid are deposited as solids.

また，洗浄及び被膜形成装置１００は，さらに，ミネラル成分付与装置１３を有している。このミネラル成分付与装置１３は，セラミックスを含んでいる。このセラミックスは，例えばガラス成分（例えば，ホウ珪酸ナトリウム）又はミネラル成分を含有している。ミネラル成分は，好ましくは，マグネシウム，カルシウム，ナトリウム，及びカリウムから選択された少なくとも１つである。また，好ましくは，セラミックスは，粒状又は粉状態であり，ミネラル成分付与装置１３を通過する液体（例えば，水）に接する表面積が広くなるようになっている。本態様では，ミネラル成分付与装置１３は，図１に示すように，水供給装置３と混合加電槽２との間，具体的には，水供給装置３と上記第２の弁１０との間に設けられている。これにより，ミネラル成分付与装置１３のセラミックスは，水に接することとなり，その結果，セラミックスが含有しているガラス成分又はミネラル成分が水に溶出することとなる。 Further, the cleaning and film forming apparatus 100 further includes a mineral component applying apparatus 13. The mineral component applying device 13 includes ceramics. This ceramic contains, for example, a glass component (for example, sodium borosilicate) or a mineral component. The mineral component is preferably at least one selected from magnesium, calcium, sodium, and potassium. Preferably, the ceramic is in a granular or powder state, and the surface area in contact with the liquid (for example, water) passing through the mineral component applying device 13 is increased. In this aspect, as shown in FIG. 1, the mineral component applying device 13 is provided between the water supply device 3 and the mixed charging tank 2, specifically, between the water supply device 3 and the second valve 10. It is provided in between. Thereby, the ceramic of the mineral component provision apparatus 13 will contact water, and as a result, the glass component or mineral component which the ceramic contains will elute to water.

また，洗浄及び被膜形成装置１００は，さらに，通水管理装置を有している（図示せず）。この通水管理装置は，例えば，通過する液体の量を時間の変化とともに記録するためのものであり，さらに，その記録に基づいて，所定時間に通過した液体の総量を計算することが可能に構成されている。そして，この通水管理装置を，ミネラル成分付与装置１３と第２の弁１０との間に設置することにより，通水管理装置は，記録に基づいて，ミネラル成分付与装置１３を通過した水（ガラス成分又はミネラル成分が溶出した水）の総量を計算することが可能である。なお，この通水管理装置を，第２の弁１０上，又は，第２の弁１０と混合加電槽２との間に設置してもよい。この場合，通水管理装置は，記録に基づいて，混合加電槽２に供給される水の総量を計算することが可能である。又は，通水管理装置を，水供給装置３とミネラル成分付与装置１３との間に設置してもよい。この場合，通水管理装置は，記録に基づいて，ミネラル成分付与装置１３を通過することとなる水の総量（つまり，ミネラル成分付与装置１３に供給される水の総量）に供給される液体の総量を計算することが可能である。 Further, the cleaning and film forming apparatus 100 further includes a water flow management device (not shown). This water flow management device is, for example, for recording the amount of liquid that passes through with changes in time, and based on the record, it is possible to calculate the total amount of liquid that has passed through a predetermined time. It is configured. And this water flow management apparatus is installed between the mineral component provision apparatus 13 and the 2nd valve 10, and the water flow management apparatus is the water which passed the mineral component provision apparatus 13 based on the record ( It is possible to calculate the total amount of water from which glass components or mineral components are eluted. The water flow management device may be installed on the second valve 10 or between the second valve 10 and the mixed charging tank 2. In this case, the water flow management device can calculate the total amount of water supplied to the mixed charging tank 2 based on the record. Or you may install a water flow management apparatus between the water supply apparatus 3 and the mineral component provision apparatus 13. FIG. In this case, the water flow management device, based on the records, supplies the total amount of water that will pass through the mineral component applying device 13 (that is, the total amount of water supplied to the mineral component applying device 13). It is possible to calculate the total amount.

そして，上述した洗浄及び被膜形成装置１００の構成要素（水供給装置３を除く）は，それぞれ１つの部品をなしており，作業現場にて組み立て可能に構成されている。すなわち，洗浄及び被膜形成装置１００は，運搬容易に構成されている。また，各構成要素には，逆止弁などが設けられており，逆流を防止できるように構成されていることが好ましい。また，洗浄及び被膜形成装置１００は，放出装置４を含んでいなくてもよい。この場合，洗浄及び被膜形成装置１００は，液体を混合する混合装置として機能させることが可能であり，具体的には，混合加電槽２において，コート槽１からのコート液と，水供給装置３からの水とを任意の割合で混合させることが可能である。 The above-described components of the cleaning and coating film forming apparatus 100 (except for the water supply apparatus 3) each constitute one part and can be assembled at the work site. That is, the cleaning and film forming apparatus 100 is configured to be easily transported. Each component is preferably provided with a check valve or the like so that backflow can be prevented. Further, the cleaning and film forming apparatus 100 may not include the discharge device 4. In this case, the cleaning and coating film forming apparatus 100 can function as a mixing apparatus that mixes liquids. Specifically, in the mixing and charging tank 2, the coating liquid and the water supply apparatus from the coating tank 1 are used. It is possible to mix water from 3 in any proportion.

次に，洗浄及び被膜形成装置１００の動作について説明する。先に説明したとおり，洗浄及び被膜形成装置１００は，対象物に対して洗浄処理を施したり，対象物に対してコーティング処理（コート液による被膜形成）を施したりすることが可能である。 Next, the operation of the cleaning and film forming apparatus 100 will be described. As described above, the cleaning and film forming apparatus 100 can perform a cleaning process on an object or a coating process (film formation with a coating liquid) on the object.

まず，洗浄及び被膜形成装置１００によって対象物を洗浄する場合について説明する。この場合，まず，洗浄及び被膜形成装置１００では，第１の弁５が閉（クローズ）の状態にされるとともに，第２の弁１０が開（オープン）の状態にされる。これにより，コート槽１から混合加電槽２へコート液が供給されないようになるとともに，水供給装置３からの水が混合加電槽２に供給されるようになる。本態様では，水供給装置３から供給された水は，混合加電槽２へ供給されるまでの間に，ミネラル成分付与装置１３によってガラス成分又はミネラル成分が溶出した状態となっており，さらには，ろ過装置１２によって，浄化された状態となっている。 First, a case where an object is cleaned by the cleaning and film forming apparatus 100 will be described. In this case, first, in the cleaning and film forming apparatus 100, the first valve 5 is closed (closed) and the second valve 10 is opened (open). As a result, the coating liquid is not supplied from the coating tank 1 to the mixing and charging tank 2, and the water from the water supply device 3 is supplied to the mixing and charging tank 2. In this embodiment, the water supplied from the water supply device 3 is in a state in which the glass component or mineral component is eluted by the mineral component applying device 13 until the water is supplied to the mixed charging tank 2. Has been purified by the filtration device 12.

続いて，洗浄及び被膜形成装置１００では，混合加電槽２に供給された水が，混合加電槽２内において，混合手段によって混合されながら，加電手段によって通電される。これにより，混合加電槽２内の水は，品質が改善して，活性水となる。この活性水は，具体的には，電界又はその電界に起因する磁力によって，水の構成単位であるクラスターがより微細化されたものである。また，必要に応じて，混合加電槽２に，蒸気発生装置１１から水蒸気を供給する。これにより，混合加電槽２内の水の温度が上昇して，水の活性化を促進することができるとともに，水の洗浄力を高めることができる。 Subsequently, in the cleaning and coating film forming apparatus 100, the water supplied to the mixed charging tank 2 is energized by the charging means while being mixed by the mixing means in the mixed charging tank 2. Thereby, the quality of the water in the mixed charging tank 2 is improved, and becomes active water. Specifically, this active water is a cluster in which the constituent unit of water is further refined by an electric field or a magnetic force resulting from the electric field. Further, steam is supplied from the steam generator 11 to the mixed charging tank 2 as necessary. Thereby, the temperature of the water in the mixing and charging tank 2 rises, the activation of the water can be promoted, and the detergency of the water can be increased.

そして，混合加電槽２内の液体（つまり活性水）は，放出装置４の送出口から放出される。この放出した活性水を，対象物に向けることで，当該対象物を洗浄することができる。 Then, the liquid (that is, active water) in the mixed charging tank 2 is discharged from the outlet of the discharge device 4. The target object can be washed by directing the released active water to the target object.

また，洗浄処理を中断する場合には，第２の弁１０が閉（クローズ）の状態にされる。これにより，混合加電槽２に水が供給されなくなる。また，洗浄処理を終了する場合には，水供給装置３による水の供給を停止する。 Further, when the cleaning process is interrupted, the second valve 10 is closed. As a result, water is not supplied to the mixed charging tank 2. Further, when the cleaning process is finished, the water supply by the water supply device 3 is stopped.

なお，洗浄処理の際に，洗浄に用いる水に，第１の弁５を開（オープン）の状態にすることでコート液としての珪酸ソーダ溶液を混入させてもよい。珪酸ソーダ溶液を混入させることで，水をアルカリ性にすることができ，その結果，水の洗浄力を高めることができる。 In the cleaning process, a sodium silicate solution as a coating solution may be mixed into water used for cleaning by opening the first valve 5. By mixing the sodium silicate solution, the water can be made alkaline, and as a result, the detergency of the water can be increased.

続いて，洗浄及び被膜形成装置１００によって対象物をコーティングする場合について説明する。この場合，まず，洗浄及び被膜形成装置１００では，第１の弁５が開（オープン）の状態にされるとともに，第２の弁１０が閉（クローズ）の状態にされる。これにより，コート槽１から混合加電槽２へコート液が供給されるようになるとともに，水供給装置３からの水が混合加電槽２に供給されないようになる。 Next, a case where an object is coated by the cleaning and film forming apparatus 100 will be described. In this case, first, in the cleaning and film forming apparatus 100, the first valve 5 is opened (opened) and the second valve 10 is closed (closed). As a result, the coating liquid is supplied from the coating tank 1 to the mixing and charging tank 2, and the water from the water supply device 3 is not supplied to the mixing and charging tank 2.

その結果，混合加電槽２には，コート槽１からのコート液が満たされる。混合加電槽２内のコート液は，混合手段によって混合されながら，加電手段によって通電される。これにより，混合加電槽２内のコート液は，品質が改善して，被膜形成に適した状態（活性化状態）となる。また，コート液が水を含有する場合には，その水も，品質が改善して，活性水となる。 As a result, the mixed charging tank 2 is filled with the coating liquid from the coating tank 1. The coating liquid in the mixed charging tank 2 is energized by the charging means while being mixed by the mixing means. As a result, the quality of the coating liquid in the mixed charging tank 2 is improved, and the coating liquid is in a state suitable for film formation (activated state). In addition, when the coating solution contains water, the quality of the water is improved and becomes active water.

そして，混合加電槽２内で活性化状態となったコート液は，放出装置４の送出口から放出される。この放出したコート液を，対象物に向けることで，当該対象物の表面にコート液による被膜を形成すること（コーティング）ができる。 Then, the coating liquid activated in the mixed charging tank 2 is discharged from the outlet of the discharge device 4. By directing the released coating liquid toward the object, a film with the coating liquid can be formed on the surface of the object (coating).

また，コーティング処理を中断又は終了する場合には，第１の弁５が閉（クローズ）の状態にされる。これにより，混合加電槽２にコート液が供給されなくなる。 Further, when the coating process is interrupted or terminated, the first valve 5 is closed. As a result, the coating liquid is not supplied to the mixed charging tank 2.

以上詳細に説明したように，本態様に係る洗浄及び被膜形成装置１００によれば，洗浄処理を行う場合とコーティング処理を行う場合との切り替えを，弁の開閉状態を制御するだけで行うことができる。このため，切り替え作業が容易である。したがって，洗浄及び被膜形成装置１００を用いることにより，例えば，対象物に対して洗浄処理を施した後にコーディング処理を施すことが簡便に行うことができる。また，洗浄及び被膜形成装置１００は，混合加電槽２を備えているので，水やコート液を容易に活性化することができる。そして，その活性化の効率は，トルマリンなどのセラミックスを用いた場合（従来技術）よりもはるかに高い。また，洗浄及び被膜形成装置１００にミネラル成分付与装置１３を設けることで，ガラス成分又はミネラル成分を水に溶出させ，さらには，混合加電槽２でガラス成分又はミネラル成分のイオン化を促進することで，洗浄力をより高めることができる。 As described above in detail, according to the cleaning and film forming apparatus 100 according to this aspect, switching between the cleaning process and the coating process can be performed only by controlling the open / close state of the valve. it can. Therefore, switching work is easy. Therefore, by using the cleaning and film forming apparatus 100, for example, it is possible to simply perform the coding process after performing the cleaning process on the object. In addition, since the cleaning and coating film forming apparatus 100 includes the mixed charging tank 2, water and a coating liquid can be easily activated. The activation efficiency is much higher than when using ceramics such as tourmaline (conventional technology). Further, by providing the cleaning and film forming apparatus 100 with the mineral component applying device 13, the glass component or the mineral component is eluted in water, and further, the ionization of the glass component or the mineral component is promoted in the mixed charging tank 2. Therefore, the cleaning power can be further increased.

また，本態様に係る洗浄及び被膜形成装置１００によれば，通水管理装置が設けられているので，ミネラル成分付与装置１３内に配置されたセラミックスやフィルターの交換時期を容易に把握することができる。なお，洗浄及び被膜形成装置１００は，通水管理装置が設けられていなくてもよい。 Further, according to the cleaning and coating film forming apparatus 100 according to this aspect, since the water flow management device is provided, it is possible to easily grasp the replacement time of the ceramics and the filter disposed in the mineral component applying device 13. it can. The cleaning and coating film forming apparatus 100 may not include a water flow management device.

また，本態様に係る洗浄及び被膜形成装置１００によれば，ろ過装置１２が設けられているので，水供給装置３からの水がどのような水であっても使用することができる。なお，洗浄及び被膜形成装置１００は，必ずしも水供給装置３を備えている必要はなく，水供給装置３に接続可能に構成されていればよい。また，水供給装置３からの水が十分に浄化されているものであれば，洗浄及び被膜形成装置１００に，ろ過装置１２が設けられていなくてもよい。 Moreover, according to the washing | cleaning and film formation apparatus 100 which concerns on this aspect, since the filtration apparatus 12 is provided, it can be used whatever the water from the water supply apparatus 3 is. Note that the cleaning and coating film forming apparatus 100 does not necessarily include the water supply device 3, and may be configured to be connectable to the water supply device 3. Moreover, if the water from the water supply device 3 is sufficiently purified, the cleaning and film forming device 100 may not be provided with the filtration device 12.

また，水供給装置３からの水の供給を容易に制御できる場合（例えば，放出装置４の送出口が水供給装置３の近傍にある場合），第２の弁１０を洗浄及び被膜形成装置１００に設けないようにしてもよい。同様に，放出装置４において水の放出を容易に制御できる場合にも，第２の弁１０を洗浄及び被膜形成装置１００に設けないようにしてもよい。ここで，図２には，図１に示す洗浄及び被膜形成装置１００において，第２の弁１０，ろ過装置１２，及びミネラル成分付与装置１３が設けられていない装置の構成が概略的に示されている。 When the supply of water from the water supply device 3 can be easily controlled (for example, when the outlet of the discharge device 4 is in the vicinity of the water supply device 3), the second valve 10 is cleaned and the film forming device 100 is used. May not be provided. Similarly, the second valve 10 may not be provided in the cleaning and film forming apparatus 100 even when the discharge apparatus 4 can easily control the discharge of water. Here, FIG. 2 schematically shows the configuration of the cleaning and coating film forming apparatus 100 shown in FIG. 1 in which the second valve 10, the filtering device 12, and the mineral component applying device 13 are not provided. ing.

ところで，上述したコーティング処理の例では，コート槽１からのコート液のみを用いたが，コート液が水で希釈可能である場合，コート液を水で希釈しながらコーティング処理を行ってもよい。この場合，第２の弁１０が完全に閉（クローズ）の状態とならないように調節することで，コート液を希釈しながらコーティング処理を行うことができる。このため，コーティング処理にかかる作業を非常に簡略化することができる。さらには，コート槽１内にコート液の原液などを収容することができ，コート液を補充することなく，コーティング処理を長い時間に亘って行うことができるため，作業効率を格段に高めることができる。特に好ましくは，コーティング処理中に，第２の弁１０の状態を変化させる。これにより，コート液の希釈度合いを調整することができる。その結果，例えば，対象物の部位によって，形成すべき被膜の厚さを容易に変更することができることとなる。また，この場合においても，必要に応じて，混合加電槽２に，蒸気発生装置１１から水蒸気を供給することが可能である。これにより，混合加電槽２内のコート液及び水の温度が上昇して，コート液及び水の活性化を促進することができるとともに，コート液の乾燥を早期化させることができる。 By the way, in the example of the coating process described above, only the coating liquid from the coating tank 1 is used. However, when the coating liquid can be diluted with water, the coating process may be performed while diluting the coating liquid with water. In this case, the coating process can be performed while diluting the coating liquid by adjusting so that the second valve 10 is not completely closed. For this reason, the work concerning the coating process can be greatly simplified. Furthermore, since the coating solution can be stored in the coating tank 1 and the coating process can be performed for a long time without replenishing the coating solution, the working efficiency can be greatly improved. it can. Particularly preferably, the state of the second valve 10 is changed during the coating process. Thereby, the dilution degree of a coating liquid can be adjusted. As a result, for example, the thickness of the film to be formed can be easily changed depending on the portion of the object. Also in this case, it is possible to supply water vapor from the steam generator 11 to the mixed charging tank 2 as necessary. Thereby, the temperature of the coating liquid and water in the mixed charging tank 2 is increased, and the activation of the coating liquid and water can be promoted, and the drying of the coating liquid can be accelerated.

また，コート液が水で希釈可能である場合，第１の弁５を完全に閉（クローズ）の状態した状態で，混合加電槽２内に水を供給することで，容易に混合加電槽２内の壁面の洗浄や，放出装置４の送出口までの流体の通路の洗浄を行うこともできる。 Further, when the coating liquid can be diluted with water, it is easy to mix and charge by supplying water into the mixing and charging tank 2 with the first valve 5 completely closed (closed). It is also possible to clean the wall surface in the tank 2 and the fluid passage to the outlet of the discharge device 4.

本発明は，対象物に対して洗浄処理を施す分野や，対象物に対してコーティング処理（被膜形成処理）を施す分野等で好適に利用されうる。 The present invention can be suitably used in the field of performing a cleaning process on an object, the field of performing a coating process (film formation process) on an object, and the like.

１コート槽
２混合加電槽
３水供給装置
４放出装置
５第１の弁
１０第２の弁
１１蒸気発生装置
１２ろ過装置
１３ミネラル成分付与装置
１００洗浄及び被膜形成装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Coat tank 2 Mixed electric charging tank 3 Water supply apparatus 4 Release | release apparatus 5 1st valve 10 2nd valve 11 Steam generating apparatus 12 Filtration apparatus 13 Mineral component provision apparatus 100 Cleaning | cleaning and film formation apparatus

Claims

A coating tank (1) for storing the coating liquid;
A mixed charging tank (2) connected to the coating tank (1) and capable of receiving the coating liquid from the coating tank (1);
A water supply device (3) connected to the mixed charging tank (2) and capable of supplying water to the mixed charging tank (2);
A discharge device (4) connected to the outlet of the mixed charging tank (2);
A first valve (5) provided between the coating tank (1) and the mixed charging tank (2) for adjusting the amount of the coating liquid supplied to the mixed charging tank (2); ,
Have
The mixed charging tank (2) mixes the liquid in the tank and conducts electricity to the mixed liquid.

When cleaning an object,
The first valve (5) is closed so that the coating liquid is not supplied from the coating tank (1) to the mixed charging tank (2),
The liquid in the mixed charging tank (2) is discharged from the discharge device (4), whereby the object can be washed,

When forming a film on an object,
The first valve (5) is opened so that the coating liquid is supplied from the coating tank (1) to the mixed charging tank (2),
Water from the water supply device (3) and the coating liquid are mixed in the mixing and charging tank (2), energized and discharged from the discharge device (4), thereby forming the coating film by the coating liquid. Can be formed into objects,

Cleaning and film forming equipment.

The coating solution includes a sodium silicate solution,
The cleaning and film forming apparatus according to claim 1.

A second valve (10) provided between the water supply device (3) and the mixed charging tank (2), for adjusting the amount of water supplied to the mixed charging tank (2); Including,
The cleaning and film forming apparatus according to claim 1.

A steam generator (11) connected to the mixed charging tank (2) and capable of supplying water vapor to the mixed charging tank (2);
The cleaning and film forming apparatus according to claim 1.

A filtration device (12) provided between the water supply device (3) and the mixed charging tank (2);
The filtration device (12) includes a porous material,
Thereby, the said filtration apparatus (12) can filter the water which the said water supply apparatus (3) supplies to the said mixing heating tank (2).
The cleaning and film forming apparatus according to claim 1.

A mineral component applying device (13) provided between the water supply device (3) and the mixed charging tank (2);
The mineral component imparting device (13) has a glass component or a ceramic having a mineral component at a site in contact with water,
When the glass component or the ceramic having the mineral component is in contact with water, the glass component or the mineral component is eluted in the water.
The cleaning and film forming apparatus according to claim 1.

A water flow management device for calculating the total amount of water that has passed through the mineral component applying device (13) or the total amount of water that has passed through the mineral component applying device (13);
The cleaning and film forming apparatus according to claim 6.

A coating tank (1) for storing the coating liquid;
A mixing and charging tank (2) connected to the coating tank (1) and capable of receiving the coating liquid from the coating tank (1), wherein the liquid in the tank is mixed and the mixed liquid is electrically A mixed charging tank (2) through which
A water supply device (3) connected to the mixed charging tank (2) and capable of supplying water to the mixed charging tank (2);
A discharge device (4) connected to the outlet of the mixed charging tank (2);
A first valve (5) provided between the coating tank (1) and the mixed charging tank (2) for adjusting the amount of the coating liquid supplied to the mixed charging tank (2); ,
A cleaning and film forming method for performing a cleaning process or a film forming process on an object using a cleaning and film forming apparatus having:

When performing the cleaning process on the object,
The first valve (5) is closed so that the coating liquid is not supplied from the coating tank (1) to the mixed charging tank (2),
Discharging the liquid in the mixed charging tank (2) from the discharge device (4);

When performing the film forming process on the object,
Opening the first valve (5), supplying the coating liquid from the coating tank (1) to the mixed charging tank (2),
The water from the water supply device (3) and the coating liquid are mixed in the mixing and heating tank (2), energized and discharged from the discharge device (4).

Cleaning and film formation method.