JP5334703B2 - 磁気検出装置及び磁気検出装置のテスト方法 - Google Patents

磁気検出装置及び磁気検出装置のテスト方法 Download PDF

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Description

本発明は、高分解能磁気エンコーダ等に用いられる磁気検出装置及びそのテスト方法に関する。
図18は、従来の高分解能磁気エンコーダに使用される磁気検出装置(磁気センサ)の信号処理回路図及び出力波形図である。
図18(a)に示すように、複数の磁気検出素子R50〜R61によりブリッジ回路が構成されている。このうち、複数の磁気検出素子R50〜R55が直列に接続され、複数の磁気検出素子R50〜R55を同数ずつに分ける中間点からの出力電圧が差動増幅器(差動アンプ)1に入力される。また複数の磁気検出素子R56〜R61が直列に接続され、複数の磁気検出素子R56〜R61を同数ずつに分ける中間点からの出力電圧が差動増幅器1に入力される。
また図18(b)に示す波形図aは、差動増幅器1からの出力波形を示す。図18(a)に示すように差動増幅器1の出力側には二股に分かれて夫々、コンパレータ2、3に接続される。図18(b)の波形図bに示すように、コンパレータ2では閾値電圧VTHよりも高い出力電圧に対してパルス信号が出力され、図18(b)の波形図cに示すように、コンパレータ3では、閾値電圧VTLよりも低い出力電圧に対してパルス信号が出力される。
そして、図18(a)に示すように、コンパレータ2,3の出力側には、OR回路4が接続される。OR回路4では、コンパレータ2にて生成されたパルス信号と、コンパレータ3にて生成されたパルス信号とが合成され、図18(b)の波形図dに示すパルス信号が得られる。
しかしながら図18(a)に示す従来の回路構成では、ブリッジやコンパレータの製造ばらつき等により出力電圧にオフセットが生じている場合、オフセット量を簡単に知ることができない問題があった。そして、オフセットにより誤動作が生じやくなった。
外部磁界を全ての磁気検出素子R50〜R61に均一印加した状態、あるいは前記外部磁界を取り除いた状態では、図18(b)に示す基準電圧V0となる。このとき、相当に大きなオフセットが存在して、基準電圧V0が閾値電圧VTH,(−VTL)を越えてHigh信号が出力されれば、不良品であると判別できるが、オフセットが存在しても、Low信号が出力されれば、オフセットの存在を判別できず、ましてやどの程度のオフセット量があるのか簡単に知ることができない。
特許文献1,2には磁気センサに関する発明が開示されている。しかしながらこれら特許文献にはいずれも上記したオフセットを知るためのテスト方法及びオフセットを簡単に知ることができる回路構成に関する発明は開示されていない。特許文献2に記載された発明では、オフセット電圧のばらつきを従来課題とし、オフセット電圧を制御する回路構成に関する発明が開示されている。しかしながら特許文献2では、元々存在するオフセットが許容範囲内に収まっているか否かを測定するテスト方法に関するものではないし、また特許文献2に記載された発明では回路構成が複雑化する問題もある。
特開平4−133221号公報 特開平9−5413号公報
そこで本発明は上記従来の課題を解決するためのものであり、特に、出力のオフセットが許容所定内であるか否かを簡単に検出することが出来る磁気検出装置及び磁気検出装置のテスト方法を提供することを目的とする。
本発明における磁気検出装置は、
外部磁界に対して電気特性が変化する磁気検出素子が複数設けられてブリッジ回路が構成されており、
前記ブリッジ回路の各直列回路の中間位置には夫々、前記磁気検出素子により構成される検出部とは別に抵抗部が接続され、各検出部と各抵抗部の間が出力部となっており、
各抵抗部に対しテスト用抵抗部が並列接続され、あるいは、前記テスト用抵抗部が回路的に切り離された状態とされており、
前記ブリッジ回路を構成する第1の直列回路には、第1の検出部及び第2の検出部を構成する各磁気検出素子が直列に接続されており、前記第1の検出部は入力端子に接続され、前記第2の検出部はグランド端子に接続され、前記第1の検出部と前記第2の検出部の間には第1の抵抗部が接続されており、前記第1の検出部と前記第1の抵抗部の間に第1の出力部が、前記第2の検出部と前記第1の抵抗部の間に第2出力部が設けられており、
前記ブリッジ回路を構成する第2の直列回路には、前記第1の検出部とともに抵抗変化する第4の検出部及び前記第2の検出部とともに抵抗変化する第3の検出部が設けられ、前記第3の検出部及び前記第4の検出部を構成する各磁気検出素子が直列に接続されており、前記第3の検出部は前記入力端子に接続され、前記第4の検出部はグランド端子に接続され、第3の検出部と前記第4の検出部の間には第2の抵抗部が接続されており、前記第3の検出部と前記第2の抵抗部の間に第3の出力部が、前記第4の検出部と前記第2の抵抗部の間に第4の出力部が設けられており、
前記第1の出力部と前記第4の出力部とが第1のコンパレータに接続され、前記第2の出力部と前記第3の出力部とが第2のコンパレータに接続されていることを特徴とするものである。このように出力部に直接、コンパレータを接続できるので、コンパクトな回路構成に出来る。
本発明では、前記第1の抵抗部及び前記第2の抵抗部を、複数の前記磁気検出素子を直列接続した構造にできる。あるいは、前記第1の抵抗部及び前記第2の抵抗部を、複数の前記磁気検出素子を並列接続した構造にできる。
本発明によれば、出力のオフセット量が許容範囲内であるか否かを簡単に検出することが出来る。
本実施形態の磁気検出装置の回路構成図、 出力電圧とオフセットとの関係を示す模式図、 図2の(a)〜(e)の各状態に対する、テスト用抵抗部RTSTの抵抗値と出力信号との関係を示す模式図、 テスト用抵抗部RTSTの抵抗値と閾値電圧VTHとの関係を示す一例、 本実施形態におけるテスト用抵抗部RTSTの構成図、 別の実施形態におけるテスト用抵抗部RTSTの構成図、 別の実施形態におけるテスト用抵抗部RTSTの構成図、 別の実施形態におけるテスト用抵抗部RTSTの構成図、 別の実施形態におけるテスト用抵抗部RTSTの構成図、 別の実施形態におけるテスト用抵抗部RTSTの構成図、 本実施形態における高分解能磁気エンコーダの平面図、 図11に示す高分解能磁気エンコーダの断面図、 図1に示す本実施形態の磁気検出装置の配置構成図及び磁石との関係を示す模式図、 第2実施形態の磁気検出装置の回路構成図、 図14に示す第2実施形態の磁気検出装置の配置構成図、 第3実施形態の磁気検出装置の回路構成図、 図16に示す第3実施形態の磁気検出装置の配置構成図、 従来の高分解能磁気エンコーダに使用される磁気検出装置(磁気センサ)の信号処理回路図及び出力波形図、
図1は、本実施形態の磁気検出装置の回路構成図、図2は、出力電圧とオフセットとの関係を示す模式図、図3は、図2の(a)〜(e)の各状態に対する、テスト用抵抗部RTSTの抵抗値と出力信号との関係を示す模式図、図4は、テスト用抵抗部RTSTの抵抗値と閾値電圧VTHとの関係を示す一例、図5〜図10は、テスト用抵抗部RTSTの各構成図、図11は、本実施形態における高分解能磁気エンコーダの平面図、図12は、図11に示す高分解能磁気エンコーダの断面図、図13は、第1実施形態の磁気検出装置の配置構成図及び磁石との関係を示す模式図である。
図1に示すように、磁気検出装置(磁気センサ)20には複数の磁気検出素子R11〜R22が設けられる。各磁気検出素子は例えばGMR素子(巨大磁気抵抗効果素子)であり、反強磁性層/固定磁性層/非磁性層/フリー磁性層の基本積層構成を備える。
また図1に示すように、入力端子Vddと第1の出力部a1との間には、磁気検出素子R11,R12,R13が直列に接続されて第1の検出部21が形成されている。また、図1に示すように、グランド端子GNDと第2の出力部a2との間には、磁気検出素子R14,R15,R16が直列に接続されて第2の検出部22が形成されている。
また、図1に示すように、入力端子Vddと第3の出力部a3との間には、磁気検出素子R17,R18,R19が直列に接続されて第3の検出部23が形成されている。また、図1に示すように、グランド端子GNDと第4の出力部a4との間には、磁気検出素子R20,R21,R22が直列に接続されて第4の検出部24が形成されている。
各磁気検出素子R11〜R22は同じ層構成で且つ同じ平面形状を備えて形成され、各磁気検出素子R11〜R22の抵抗値は略同一となっている。また各磁気検出素子R11〜R22は抵抗値を大きくするためにミアンダ形状で形成されていることが好適である。
以上により複数の磁気検出素子R11〜R22を有するブリッジ回路27が構成される。図1に示すように、ブリッジ回路27の第1の直列回路28には第1の検出部21及び第2の検出部22を構成する各磁気検出素子R11〜R16が直列に接続されており、これら磁気検出素子R11〜R16を同数に分ける中間点に2つの出力部a1,a2が設けられる。そして本実施形態では図1に示すように、第1の出力部a1と第2の出力部a2の間に第1の抵抗部25が接続されている。また図1に示すように、ブリッジ回路27の第2の直列回路29には第3の検出部23及び第4の検出部24を構成する各磁気検出素子R17〜R22が直列に接続されており、これら磁気検出素子R17〜R22を同数に分ける中間点に2つの出力部a3,a4が設けられる。そして本実施形態では図1に示すように、第3の出力部a3と第4の出力部a4の間に第2の抵抗部26が接続されている。
この実施形態では、第1の抵抗部25及び第2の抵抗部26は固定抵抗(磁石11からの外部磁界により抵抗変化しない)である。
そして本実施形態では、図1に示すように、第1の出力部a1と第4の出力部a4とが第1のコンパレータ30に直接、接続されている。また図1に示すように、第2の出力部a2と第3の出力部a3とが第2のコンパレータ31に直接、接続されている。コンパレータ30,31には標準的なオペアンプを使用できる。
図1に示すように、第1のコンパレータ30の出力側と第2のコンパレータ31の出力側はOR回路32に接続されている。
また図1に示すように、第1の抵抗部25及び第2の抵抗部26には夫々、テスト用抵抗部33,34が並列接続されている。
図2には、図1に示す回路構成を有する磁気検出装置20を磁気エンコーダに組み込んだときの磁気エンコーダの動作時出力が示されている。図2に示すように、基準電圧V0を上回る上側出力電圧と、基準電圧V0を下回る下側出力電圧とが複数個ずつ交互に現れる。
外部磁界を全ての磁気検出素子R11〜R22に均一印加した状態、あるいは前記外部磁界を取り除いた状態では、全ての磁気検出素子R11〜R22が設計上、同一抵抗となり、図2に示す基準電圧V0を示す。
図2に示す閾値電圧VTH,VTLは、システムとしての閾値であり、コンパレータ30,31自体の閾値は実質的に0Vであるため、ブリッジ回路27の抵抗とブリッジ電源電圧により決定される。ここで閾値電圧VTH,(−VTL)は、{RFIX/(6・RGMR)}Vddで近似される。RFIXは第1,第2の抵抗部25,26の抵抗値であり、RGMRは各磁気検出素子R11〜R22の抵抗値である。
ブリッジ回路27の各直列回路28,29の中間位置に接続された第1,第2の抵抗部25,26は、双極出力の上側パルスと下側パルスを作るための閾値を発生させるためのものであり、出力電圧が閾値電圧VTHを上回ると上側パルスが作られ、出力電圧が閾値電圧VTLを下回ると下側パルスが作られ、これらパルスはいずれもHighレベルの信号として出力される。
図2に示すように、出力電圧にオフセットがない図2(c)の状態が理想的である。図2(c)では、基準電圧V0及び閾値電圧VTH間の距離と、基準電圧V0及び閾値電圧VTL間の距離は等しくなっている。
ところが製造ばらつき等によって、各磁気検出素子R11〜R22の抵抗値RGMRが等しくない場合や、コンパレータ30,31に入力オフセットが存在すると、図2(c)の状態から出力電圧にオフセットが生じて、例えば、図2(a)(b)(d)(e)のいずれかの状態になる。図2(a)(e)はオフセットが大きい状態を示し、図2(b)(d)はオフセットが小さい状態を示している。
本実施形態では、磁気検出装置20をオフセットの観点から出力テストし、オフセット量が許容範囲内にあるか否かを選別できるように図1に示す回路構成としたのである。
すなわち図1に示すように、各直列回路28,29の中間位置にシステムとしての閾値発生のための第1,第2の抵抗部25,26を設け、さらにテスト用抵抗部33,34を前記第1,第2の抵抗部25,26に並列に接続した。
これにより閾値電圧VTH,(−VTL)は、{RT/(6・RGMR)}Vddで近似される。ここでRTは、(RFIX//RTST)であり、RTSTは、テスト用抵抗部33,34の抵抗値を指す。なお、厳密には、上記式において{RT/(6・RGMR+RT)}となるが、RGMRがRTに比べて極めて大きいとして近似している。また、//は並列を意味している。
出力テストは、全ての磁気検出素子R11〜R22に均一な磁場を印加した状態、あるいは、均一磁場を印加後、前記磁場を取り除いた状態として行う。上記したように、これにより全ての磁気検出素子R11〜R22が同じ状態となり、全ての磁気検出素子R11〜R22が設計上、同一抵抗となる。
そして本実施形態では、テスト用抵抗部33,34を第1,第2の抵抗部25,26に並列接続しており、テスト用抵抗部33,34の抵抗値RTSTを小さくしていくと、閾値電圧VTH,(−VTL)は徐々に小さくなっていく。このとき、図3に示すように、オフセットが大きい図2(a)(e)の場合、テスト用抵抗部33,34の抵抗値RTSTが比較的大きい状態でLowレベルからHighレベルの信号が出力されてしまう。さらに、テスト用抵抗部33,34の抵抗値RTSTを小さくしていくと、次にオフセットが大きい図2(b)(d)の状態の場合に、LowレベルからHighレベルの信号が出力され、オフセットがない図2(c)の場合は、テスト用抵抗部33,34の抵抗値RTSTをゼロにしたときに、LowレベルからHighレベルの信号が出力されることになる。
図4は、出力テスト時に、テスト用抵抗部33,34の抵抗値RTSTを変化させたときの閾値電圧VTHの変化を示す一例である。
図4の測定に用いたブリッジ回路27は図1と同じであり、各磁気検出素子R11〜R22の抵抗値RGMRを750Ω、第1,第2の抵抗部25,26の抵抗値RFIXを40Ωとして、閾値電圧VTH(又は−VTL)の抵抗値RTST依存性を求めた。
図4に示すように、テスト用抵抗部33,34の抵抗値RTSTを小さくしていけば、閾値電圧は徐々に低下していくことがわかる。
このため、テスト用抵抗部33,34の抵抗値RTSTを、システム全体のオフセットのスペックに基づいて、ある値に設定し、Lowレベルの信号を出力した場合を良品(合格)とし、Highレベルの信号を出力した場合を不良品(不合格)とすれば、オフセットの観点で、良品・不良品の選別を簡単に行うことが可能である。
ここで閾値電圧VTHが図4に示す抵抗値RTST依存性を有すると仮定すると、システム全体のオフセットのスペックが例えば10mVであれば、テスト用抵抗部33,34の抵抗値RTSTを20Ωに設定することで、Lowレベルの信号を出力する場合は、良品(合格)、Highレベルの信号を出力した場合は、不良品(不合格)と選別できる。
またテスト用抵抗部33,34の抵抗値RTSTを可変できる形態であれば、前記抵抗値RTSTを徐々に小さくしていき、信号がHighレベルからLowレベルとなったときの抵抗値RTSTにより出力のオフセット量を検出することが出来る。
上記した出力テスト終了後、テスト用抵抗部33,34を回路的に切り離す。「回路的に切り離す」とはテスト用抵抗部33,34自体を磁気検出装置20から除去する場合のほか、磁気検出装置20に残しておいても、ブリッジ回路27から電気的に切断された状態を含む。またテスト用抵抗部33,34を回路的に切り離すのは製品化される良品に対してのみ行えばよい。
上記のようにテスト用抵抗部33,34を回路的に切り離すことで、製品化することが出来る。
テスト用抵抗部33,34の構成について説明する。なお以下では第1の抵抗部25と並列接続されるテスト用抵抗部33について説明するが、第2の抵抗部26に並列接続されるテスト用抵抗部34についても同様である。
図5の実施形態では、第1の抵抗部25の両端(各検出部21,22との間の位置)に配線部35,36が設けられ、配線部35,36の先端に幅の広い電極パッド37,38が形成されている。そしてテスト用抵抗部33を構成する外部抵抗39をプローブ44,44を介して電極パッド37,38に接続している。
図5の実施形態では、外部抵抗39の抵抗値RTSTを所定値に設定し、出力テスト終了後、外部抵抗39を電極パッド37,38から取り外す。製品化された磁気検出装置20には図5に示す配線部35,36及び電極パッド37,38が残される。よって製品化された磁気検出装置20にテスト用抵抗部33が無くても、テスト用抵抗部33,34を第1,第2の抵抗部25,26に並列接続して出力テストが施された製品であることを判別することが出来る。
図6の実施形態では、図5の外部抵抗39に代えて、抵抗値RTSTを可変可能な外部抵抗45を接続している。よって図6の実施形態では、抵抗値RTSTを可変させながら出力テストを行うことでオフセット量を測定することが可能である。また図5の実施形態と同様に図6の実施形態では、製品化された磁気検出装置20に図6に示す配線部35,36及び電極パッド37,38が残される。
図7の実施形態では、テスト用抵抗部33を内部抵抗46として第1の抵抗部25の両側(各検出部21,22との間の位置)に配線部47,48を介して接続形成している。例えば内部抵抗46を抵抗部25と同時に同じ基板上に形成することができる。
そして出力テスト終了後、図7に示す配線部47をレーザ等により切断する。このとき配線部47,48の少なくとも一方を切断すればよい。これにより、テスト用抵抗部33を回路的に切り離して製品化できる。この実施形態では、内部抵抗46や配線部47,48が製品化された磁気検出装置20に残される。
また図8の実施形態では、図7の構成に代えて内部抵抗49を例えばブリッジ回路27とは別のチップ内に配置して図8のように配線部47,48を介して接続し、出力テストをウェハ状態で行った後、ダイシングにより磁気検出装置20をチップ化したときにテスト用抵抗部33を切り離す。
図8の実施形態では、製品化された磁気検出装置20にテスト用抵抗部33(内部抵抗46)が残されていないが、配線部47,48の一部が抵抗部25の両側に残されるので、テスト用抵抗部33,34を第1,第2の抵抗部25,26に並列接続して出力テストが施された製品であると推測できる。
なお図8の形態に限らず他の実施形態においても出力テストをウェハ状態で行うことが好ましい。
図9に示す実施形態では、テスト用抵抗部33を抵抗部50とスイッチング素子51とを有して構成している。そしてスイッチング素子51により抵抗部50をブリッジ回路27に接続して出力テストを行い、出力テスト終了後に、スイッチング素子により抵抗部50を回路的に切り離す。
図9に示す実施形態では、スイッチング素子51にトランジスタを用いている。
あるいは図10に示すようにスイッチング素子(トランジスタ)51自体を抵抗として用い、ゲート電圧にて抵抗値を制御する構成であってもよい。
図9、図10に示す実施形態では、製品化された磁気検出装置20にテスト用抵抗部33としてのスイッチング素子(トランジスタ)が残されるので、テスト用抵抗部33,34を第1,第2の抵抗部25,26に並列接続して出力テストが施された製品であると判別できる。また図9、図10により出力テスト時に用いるプローブ用端子を大幅に削減できる。
製品化された磁気検出装置20は、図11,図12に示す高分解能磁気エンコーダ10に組み込まれる。高分解能磁気エンコーダ10は、回転角度、回転方向又は回転速度等を検出する装置である。高分解能磁気エンコーダ10は、磁石11、磁石11を回転自在に支持する回転体12、回転体12を回転自在に支持する筐体9、及び磁気検出装置20とを有して構成される。
図11に示すように、例えば磁石11はリング状であり、その内面側に回転体12の外周面が固定されている。磁石11の外周面11Aには、N極及びS極からなる複数の磁極が交互に着磁されている。
磁石11と回転体12は、筐体9に設けられた円形状の凹部9A内に配置されている。図12に示すように、筐体9の中心には、貫通孔9aが形成されている。そして回転体12の中心に設けられた回転軸12aが前記貫通孔9aに挿通されている。
磁石11は、回転体12の回転軸12aを軸中心として、凹部9A内で反時計方向ra1、及び時計方向ra2に回転自在に支持されている。
筐体9には、凹部9Aの一部を外周方向に切り欠いた切欠き部9bが形成されている。磁気検出装置20は、切欠き部9b内に固定され、磁石11の外周面11Aと対向している。
図13に示すように磁気検出装置20を構成する各磁気検出素子R11〜R22は、磁石11の回転接線方向(相対移動方向;X方向)に向けて配列されている。図13に示すように、第1の検出部21を構成する磁気検出素子R11,R12,R13と、第2の検出部22を構成する磁気検出素子R14,R15,R16は、相対移動方向(X方向)に向けて交互に配列されている。
また、図13に示すように、第3の検出部23を構成する磁気検出素子R17,R18,R19と、第4の検出部24を構成する磁気検出素子R20,R21,R22は、相対移動方向(X方向)に向けて交互に配列されている。
図13に示すように、第1の検出部21を構成する各磁気検出素子R11〜R13と、第4の検出部24を構成する各磁気検出素子R20〜R22とは、相対移動方向(図示X方向)に対して直交する方向(Y方向)に対向配置されている。
また図13に示すように、第2の検出部22を構成する各磁気検出素子R14〜R16と、第3の検出部23を構成する各磁気検出素子R17〜R19とは、相対移動方向(図示X方向)に対して直交する方向(Y方向)に対向配置されている。
図13に示すように、磁気検出装置20に設けられた全ての磁気検出素子R11〜R22が、磁石11のN極(又はS極)の1極の範囲内に収まるように配置されている。図13では、各検出部21〜24の夫々において、各検出部21〜24を構成する複数の磁気検出素子間が、λ/3ピッチ(λは磁極幅)であり、第1の検出部21(第3の検出部23)を構成する各磁気検出素子と第2の検出部22(第4の検出部24)を構成する各磁気検出素子間が、λ/6ピッチとなっている。
各磁気検出素子R11〜R22は同じ層構成で且つ同じ平面形状を備えて形成され、また各磁気検出素子R11〜R22は抵抗値を大きくするためにミアンダ形状で形成されていることが好適である。
また図13に示すように、例えばミアンダ状の第1の抵抗部25及び第2の抵抗部26が設けられている。図13は、出力テスト終了後、例えば、図5や図6に示す外部抵抗39,45によるテスト用抵抗部33,34を取り外した状態を示しており、図13に示すように、配線部35,36及び電極パッド37,38が基板上に残された状態となっている。
全ての磁気検出素子R11〜R22の抵抗値が略同一である状態から、磁石11が例えば図13のra1方向に回転し、磁気検出素子R13及び磁気検出素子R20の抵抗値が変化すると、第1の出力部a1及び第2の出力部a2からの出力電圧は磁気検出素子R13の抵抗変化分だけ変化する。また、第3の出力部a3及び第4の出力部a4からの出力電圧は磁気検出素子R20の抵抗変化分だけ変化する。
さらに磁石11が回転移動し、磁気検出素子R13,R20と共に磁気検出素子R14,R19の抵抗値が変化すると、第1の検出部21の合成抵抗値と、第2の検出部22の合成抵抗値とが同等の抵抗値になることで、第1の出力部a1及び第2の出力部a1の出力電圧は、初期状態の電圧にほぼ戻る。同様に、第3の検出部23の合成抵抗値と、第4の検出部24の合成抵抗値とが同等の抵抗値になることで、第3の出力部a3及び第4の出力部a4の出力電圧は、初期状態の電圧にほぼ戻る。
磁石11の回転により上記した出力電圧の変動が繰り返され、各コンパレータ30,31にて生成された出力電圧がシステムとしての閾値電圧VTH,(−VTL)(ここでは、{RFIX/(6・RGMR)}Vddで近似される)を越えたときにHighレベルのパルス波形が生成される。本実施形態の磁気検出装置20を用いることで、λピッチの磁石回転内に複数のパルス信号を得ることが可能な高分解能磁気エンコーダを構成できる。
図14は、第2の実施形態における磁気検出装置のブリッジ回路図、図15は、第2の実施形態の磁気検出装置の配置構成図及び磁石との関係を示す模式図である。
図14に示す実施形態では、第1の検出部21と第2の検出部22の間に接続される第1の抵抗部40は、6個の磁気検出素子R23〜R28が直列接続されてなる構成である。第1の抵抗部40に設けられる磁気検出素子R23〜R28の個数は、第1の検出部21及び第2の検出部22を構成する磁気検出素子R11〜R16の合計数と同じである。また第3の検出部23と第4の検出部24の間に接続される第2の抵抗部41は、6個の磁気検出素子R29〜R34が直列接続されてなる構成である。第2の抵抗部41に設けられる磁気検出素子R29〜R34の個数は、第3の検出部23及び第4の検出部24を構成する磁気検出素子R17〜R22の合計数と同じである。
図15に示すように、第1の抵抗部40を構成する各磁気検出素子R23〜R28は、第1の検出部21及び第2の検出部22を構成する各磁気検出素子R11〜R16と相対移動方向(図示X方向)に対して直交する方向(図示Y方向)に対向配置されている。また図15に示すように第2の抵抗部41を構成する各磁気検出素子R29〜R34は、第3の検出部23及び第4の検出部24を構成する各磁気検出素子R17〜R22と相対移動方向(図示X方向)に対して直交する方向(図示Y方向)に対向配置されている。
検出部21〜24を構成する磁気検出素子R11〜R22、及び、抵抗部40,41を構成する磁気検出素子R23〜R34は、例えば全てGMR素子であり、しかも全てのGMR素子において、固定磁性層の磁化方向が同一方向となっている。
図1,図13に示す実施形態での第1の抵抗部25及び第2の抵抗部26は固定抵抗であるため、磁石11の回転により検出部21〜24の抵抗値が変化しても第1,第2の抵抗部25,26の抵抗値RFIXは常に一定である。このため、磁石11の回転により各出力部a1〜a4から基準電圧が出力される際の各出力部a1〜a4における分圧比が変動する結果、各出力部a1〜a4における基準電圧が磁石11の回転に伴ってばらつき、システムとしての閾値電圧VTH,(−VTL)がばらつきやすくなる。
一方、図14,図15に示す実施形態では、第1の抵抗部40及び第2の抵抗部41を複数の磁気検出素子を直列接続した構造としたことで、磁石11の回転により、検知部21〜24とともに第1の抵抗部40及び第2の抵抗部41の抵抗値も変動し、このとき、各出力部a1〜a4から基準電圧が出力される際の各出力部a1〜a4における分圧比の変動を抑制できる。したがって、各出力部a1〜a4における基準電圧が磁石11の回転に伴ってばらつくのを抑制することが出来、システムとしての閾値電圧VTH,(−VTL)のばらつきを小さくできる。よって効果的に動作安定性を向上させることが可能である。
図16は、第3の実施形態における磁気検出装置のブリッジ回路図、図17は、第3の実施形態の磁気検出装置における配置構成図、である。
この実施形態では、第1の検出部21と第2の検出部22の間に接続される第1の抵抗部42は、6個の磁気検出素子R35〜R40が並列接続されてなる構成である。第1の抵抗部42に設けられる磁気検出素子R35〜R40の個数は、第1の検出部21及び第2の検出部22を構成する磁気検出素子R11〜R16の合計数と同じである。また第3の検出部23と第4の検出部24の間に接続される第2の抵抗部43は、6個の磁気検出素子R41〜R46が並列接続されてなる構成である。第2の抵抗部43に設けられる磁気検出素子R41〜R46の個数は、第3の検出部23及び第4の検出部24を構成する磁気検出素子R17〜R22の合計数と同じである。
図17に示すように、第1の抵抗部42を構成する各磁気検出素子R35〜R40は、第1の検出部21及び第2の検出部22を構成する各磁気検出素子R11〜R16と相対移動方向(図示X方向)に対して直交する方向(図示Y方向)に対向配置されている。また図17に示すように第2の抵抗部43を構成する各磁気検出素子R41〜R46は、第3の検出部23及び第4の検出部24を構成する各磁気検出素子R17〜R22と相対移動方向(図示X方向)に対して直交する方向(図示Y方向)に対向配置されている。
検出部21〜24を構成する磁気検出素子R11〜R22、及び、抵抗部42,43を構成する磁気検出素子R35〜R46は、例えば全てGMR素子であり、しかも全てのGMR素子において、固定磁性層の磁化方向が同一方向となっている。
図16,図17のように、第1の抵抗部42及び第2の抵抗部43を複数の磁気検出素子による並列接続の構成にすることで、各出力部における基準電圧のばらつきを、図1及び図13のように固定抵抗とした場合に比べて改善でき、システムとしての閾値電圧VTH,(−VTL)のばらつきを小さくできる。ただし、複数の磁気検出素子を直列接続して抵抗部40,41を構成した図14,図15の構成のほうが、より効果的に、ばらつきを小さく抑えることができる。
また、複数の磁気検出素子R35〜R46を並列接続して各抵抗部42,43を形成した構成は、複数の磁気検出素子R23〜R34を直列接続して各抵抗部40,41を形成した構成に比べて、各磁気検出素子に必要とされる抵抗値を大きくできるため、各磁気検出素子R35〜R46の構成を容易化できる。
また図14及び図16に示す実施形態では、検出部21〜24と同様に各抵抗部40〜43も全て磁気検出素子で構成したことで、各磁気検出素子の抵抗値や温度特性のばらつきを小さくできる。
図15及び図17は、出力テスト終了後、図5や図6に示す外部抵抗39,45によるテスト用抵抗部33,34を取り外した状態を示しており、図15や図17に示すように、配線部35,36及び電極パッド37,38が基板上に残された状態となっている。
本実施形態は、製造ばらつき等により各磁気検出素子R11〜R22の抵抗値RGMRが等しくない場合や、コンパレータの入力オフセットが存在する場合に、容易に出力のオフセットが許容範囲内であるか否かをテストできる磁気検出装置20及び磁気検出装置20のテスト方法に関するものであり、本実施形態では直列回路28,29を構成する各検出部21〜24の間に第1,第2の抵抗部25,26が介在していることを特徴構成の一つとしている。
そして前記第1,第2の抵抗部25,26にテスト用抵抗部33,34を並列に接続することで、オフセット量が許容範囲内か否かを簡単にチェックすることができる。出力テスト終了後、テスト用抵抗部33,34を回路的に切り離せば、製品化することができる。製品化された磁気検出装置20には、第1,第2の抵抗部25,26が残されるが、このような構成とすることで、同じコンパレータに接続される第1の出力部a1と第4の出力部a4からの夫々の出力電圧の基準電圧間に、予めブリッジ回路27にて電位差を生じさせることが出来、同様に、同じコンパレータに接続される第2の出力部a2と第3の出力部a3からの夫々の出力電圧の基準電圧間に、予めブリッジ回路27にて電位差を生じさせることが出来、前記電位差に基づいてシステムとしての閾値電圧を規定できる。図1に示すように、本実施形態では、各出力部a1〜a4と各コンパレータ30,31とを直接接続できるため、よりコンパクトで簡単な回路構成に出来る。
検出部21〜24を構成する各磁気検出素子R11〜R22、及び抵抗部40〜43が複数の磁気検出素子にて構成される場合には、各抵抗部40〜43の磁気検出素子としてはAMR素子等も例示できるが、抵抗変化率が大きいGMR素子やTMR素子とすることで、出力電圧を大きくでき、検出精度を向上させることが可能である。
上記した実施形態では磁石11が回転型であるが、例えば磁石11が棒状で直線移動する形態のエンコーダでもよい。また、磁石が固定で、磁気センサが移動する形態にしてもよい。
上記実施形態では、磁気検出装置20を磁気エンコーダ用としたが、磁気エンコーダ以外にも適用可能である。
R11〜R46 磁気検出素子
a1〜a4 出力部
10 磁気エンコーダ
11 磁石
12 回転体
20 磁気検出装置(磁気センサ)
21〜24 検出部
25、26、40、41、42、43 抵抗部
27 ブリッジ回路
28、29 直列回路
30、31 コンパレータ
33、34 テスト用抵抗部
35、36、47、48 配線部
37、38 電極パッド
39、45 外部抵抗
46、49 内部抵抗
51 スイッチング素子

Claims (3)

  1. 外部磁界に対して電気特性が変化する磁気検出素子が複数設けられてブリッジ回路が構成されており、
    前記ブリッジ回路の各直列回路の中間位置には夫々、前記磁気検出素子により構成される検出部とは別に抵抗部が接続され、各検出部と各抵抗部の間が出力部となっており、
    各抵抗部に対しテスト用抵抗部が並列接続され、あるいは、前記テスト用抵抗部が回路的に切り離された状態とされており、
    前記ブリッジ回路を構成する第1の直列回路には、第1の検出部及び第2の検出部を構成する各磁気検出素子が直列に接続されており、前記第1の検出部は入力端子に接続され、前記第2の検出部はグランド端子に接続され、前記第1の検出部と前記第2の検出部の間には第1の抵抗部が接続されており、前記第1の検出部と前記第1の抵抗部の間に第1の出力部が、前記第2の検出部と前記第1の抵抗部の間に第2出力部が設けられており、
    前記ブリッジ回路を構成する第2の直列回路には、前記第1の検出部とともに抵抗変化する第4の検出部及び前記第2の検出部とともに抵抗変化する第3の検出部が設けられ、前記第3の検出部及び前記第4の検出部を構成する各磁気検出素子が直列に接続されており、前記第3の検出部は前記入力端子に接続され、前記第4の検出部はグランド端子に接続され、第3の検出部と前記第4の検出部の間には第2の抵抗部が接続されており、前記第3の検出部と前記第2の抵抗部の間に第3の出力部が、前記第4の検出部と前記第2の抵抗部の間に第4の出力部が設けられており、
    前記第1の出力部と前記第4の出力部とが第1のコンパレータに接続され、前記第2の出力部と前記第3の出力部とが第2のコンパレータに接続されていることを特徴とする磁気検出装置。
  2. 前記第1の抵抗部及び前記第2の抵抗部が、複数の前記磁気検出素子を直列接続した構造とされる請求項1記載の磁気検出素子。
  3. 前記第1の抵抗部及び前記第2の抵抗部が、複数の前記磁気検出素子を並列接続した構造とされる請求項1記載の磁気検出素子。
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