JP5334475B2 - Label for in-mold molding and molded body with label - Google Patents

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Description

本発明は、インモールド成形用ラベルと、それを用いたインモールド成形用ラベル付きインモールド成形体に関する。より具体的には、基層とヒートシール層とを含む積層樹脂フィルムよりなるインモールド用ラベルにおいて、該ヒートシール層に特定の表面処理を行うことによって、種々広範な熱可塑性樹脂原料よりなるブロー成形体に対しても一様に高い接着力を実現できるインモールド用ラベルと、それを用いたラベル付きインモールド成形体に関する。   The present invention relates to an in-mold molding label and an in-mold molded body with an in-mold molding label using the same. More specifically, in an in-mold label made of a laminated resin film including a base layer and a heat seal layer, blow molding made of a wide variety of thermoplastic resin raw materials is performed by performing a specific surface treatment on the heat seal layer. The present invention relates to an in-mold label that can achieve a uniform high adhesive force to a body, and an in-mold molded body with a label using the same.

溶融した熱可塑性樹脂を筒状に押し出してパリソンとし、これを金属型内で空気圧により膨らませて、金型の形状に賦形するブロー成形の技術が良く知られている。この際、同金型内にラベルやブランクを固定し、樹脂の賦形に併せて溶融樹脂にラベルを貼着して、ラベルが一体となった成形体を得る技術も良く知られており、この様な金型内ラベルを「インモールドラベル」(In−Mold Label,IML)或いは「インモールド成形用ラベル」と呼んでいる。
樹脂成形体の耐水性、対薬品性、耐久性といった特徴に併せて、同じく耐水性、対薬品性、耐久性等が必要な用途に供し得るインモールド成形用ラベルの開発が従来から行われている。例えば、ポリオレフィン樹脂からなる延伸または無延伸の透明フィルムや、ポリオレフィン樹脂に無機微細粉末や有機フィラーを配合した延伸または無延伸の白色フィルム(合成紙)等、更にはこれらの片面に、各種のヒートシール層をフィルム製造の過程で共押し出ししたもの(特許文献1)、ヒートシール性樹脂フィルムを貼合またはラミネートしたもの、各種の塗工設備を用いてヒートシール性樹脂を表面にコートしたもの(特許文献2)等が提案され、一部で実用化されている。
Blow molding techniques are well known in which molten thermoplastic resin is extruded into a cylindrical shape to form a parison, which is inflated by air pressure in a metal mold and shaped into a mold shape. At this time, a technique for obtaining a molded body in which the label is integrated is well known by fixing a label or a blank in the mold and sticking the label to the molten resin together with the shaping of the resin. Such an in-mold label is called an “in-mold label” (In-Mold Label, IML) or an “in-mold molding label”.
In-mold molding labels that can be used for applications that also require water resistance, chemical resistance, durability, etc., have been developed in the past, in addition to the characteristics of resin molded products such as water resistance, chemical resistance, and durability. Yes. For example, stretched or unstretched transparent film made of polyolefin resin, stretched or unstretched white film (synthetic paper) in which inorganic fine powder or organic filler is blended with polyolefin resin, and various types of heat on one side. Co-extruded seal layer in the course of film production (Patent Document 1), heat-sealing resin film bonded or laminated, heat-sealing resin coated on the surface using various coating equipment ( Patent Document 2) and the like have been proposed, and some have been put into practical use.

これら従来のインモールド成形用ラベルは、インモールド成形時に成形体とラベルの間に空気を閉じこめてフクレを生じることがないよう、ラベル製造過程においてヒートシール層面にエンボス加工したり(特許文献1)、予めエンボス加工されたフィルムを貼合またはラミネートしたり、塗工の際に台形型の凹凸パターンを設けるなど、ラベルのヒートシール層に凹凸を付与して成形体とラベルとの間に外部に連通する隙間を設けて空気を逃がす工夫がなされている。また、これら空気を逃がすための凹凸パターンを表面に形成しない場合は、ラベル自体を貫通する細孔を開けて空気を逃がす方法(特許文献3)、ラベル表面に基材内に連通する微細な開口部を設けたフィルムを用い、これに水性ヒートシール性樹脂コートを施す方法(特許文献4)などが提案されている。   These conventional in-mold molding labels are embossed on the surface of the heat seal layer during the label manufacturing process so that air is not trapped between the molded body and the label during in-mold molding (Patent Document 1). Applying unevenness to the heat seal layer of the label, such as pasting or laminating a pre-embossed film, or providing a trapezoidal uneven pattern during coating, etc. There is a device to allow air to escape by providing a communicating gap. In addition, when the concave / convex pattern for escaping these air is not formed on the surface, a method of opening the pores penetrating the label itself to release the air (Patent Document 3), a fine opening communicating with the label surface in the substrate There has been proposed a method (Patent Document 4) of applying a water-based heat-sealable resin coat to a film provided with a portion.

これらのうち、各種の塗工設備を用いてヒートシール性樹脂を表面にコートする従来法は、広範な熱可塑性樹脂原料よりなる成形体に対して高い接着力を発揮するよう、ヒートシール性樹脂組成を選択することができる。しかしながら、予めエンボス加工などを行った基材フィルムの表面にヒートシール性樹脂をコートするもの(特許文献5)では、基材フィルムの溶媒吸収性が低いために塗工剤の大半が基材フィルムにつけたエンボスの凹部に集まってしまい、コート表面にエンボス形状を再現しにくくなる問題があった。溶媒吸水性の無いフィルムを使用する場合は、ホットメルト型樹脂や溶剤系ヒートシール樹脂の塗工料を高粘度の状態で、グラビア塗工機により塗工して彫刻ロールセルの台形パターンを基材表面につける方法も採用されている。しかし、この場合は高粘度でのコートが必須であるため生産性低下による製造コストの上昇や、有機溶媒を用いることによる火災や環境汚染の問題があった。   Of these, the conventional method of coating the surface with a heat-sealable resin using various coating equipment is a heat-sealable resin that exhibits high adhesive strength to molded products made from a wide range of thermoplastic resin raw materials. The composition can be selected. However, in the case where a heat-sealable resin is coated on the surface of a base film that has been previously embossed (Patent Document 5), since the solvent absorption of the base film is low, most of the coating agent is a base film. There is a problem that it is difficult to reproduce the embossed shape on the surface of the coat. When using a film that does not absorb solvent, apply a hot melt resin or solvent heat seal resin coating with a high-viscosity coating using a gravure coating machine to create a trapezoidal pattern for the engraving roll cell on the substrate surface. The method of attaching to is also adopted. However, in this case, a high-viscosity coating is indispensable, resulting in an increase in production cost due to a decrease in productivity and a problem of fire and environmental pollution due to the use of an organic solvent.

さらに、表面に微細な開口部を設けたフィルムに水性ヒートシール性樹脂を塗工する方法では、ラベル付き成形体の耐水性が弱く、成形体を水性液体に漬けた際のラベルと成形体との接着力、特に洗剤(界面活性剤溶液)に漬けた際の接着力が顕著に低下し、剥がれやすいという問題があった。
最も簡便なインモールド成形用ラベルの製造方法である、基材フィルムの製造過程で共押し出しまたはラミネートによりヒートシール層を設け、これにエンボス加工を施す従来法では、耐水性、対薬品性、耐久性に優れたラベルを供し得る。しかしながら、ヒートシール性樹脂を押出機にて溶融押出して使用するため、樹脂の耐熱性、機器腐食性、溶融時の粘度特性から自ずと使用可能な樹脂が制限され、主として、融点温度が60〜130℃のポリオレフィン系樹脂が用いられている。これらの樹脂からは同じく非極性のポリオレフィンよりなる成形体には高い接着力で密着するラベルが製造できても、ポリエチレンテレフタレートのような極性樹脂には高い接着力で密着するラベルを製造することができなかった。
Furthermore, in the method of applying an aqueous heat-sealable resin to a film having a fine opening on the surface, the water resistance of the labeled molded article is weak, and the label and molded article when the molded article is immersed in an aqueous liquid In particular, the adhesive strength when immersed in a detergent (surfactant solution) is remarkably reduced, and it is easy to peel off.
In the conventional method of providing the heat seal layer by co-extrusion or laminating during the production process of the base film, which is the simplest method for producing the label for in-mold molding, and embossing it, water resistance, chemical resistance, durability A label excellent in properties can be provided. However, since the heat-sealable resin is melt-extruded in an extruder and used, the resin that can be used is naturally limited due to the heat resistance of the resin, the equipment corrosivity, and the viscosity characteristics at the time of melting, and the melting point temperature is mainly 60 to 130. Polyolefin resin at 0 ° C. is used. From these resins, it is possible to produce labels that adhere with high adhesive strength to molded articles made of nonpolar polyolefin, but to produce labels that adhere with high adhesive strength to polar resins such as polyethylene terephthalate. could not.

本発明者らは、基材フィルムの製造過程で共押し出しまたはラミネートによりヒートシール層を設け、これにエンボス加工を施す従来技術を基に、該ヒートシール層表面を化学的に修飾する処理を施すことで、耐水性、対薬品性、耐久性に優れ、且つ非極性樹脂のみならず極性樹脂の成形体にも適用可能なインモールド成形用ラベルを得るべく鋭意研究を行った。これら樹脂フィルムへのプラズマ処理については、塗工前、印刷前、および他の溶融樹脂との積層前に、親水性向上、密着性向上の目的で実施されている。しかしながら、一般的にポリオレフィン系フィルムの濡れ向上等を目的に行われるコロナ酸化処理をヒートシール層に施しては、元々良好であった非極性のポリオレフィン系樹脂よりなる成形体への接着力が著しく損なわれることが判明した。上記のコロナ処理以外のプラズマ処理には、低圧下にて反応性ガスを微量封入し処理する方法、大気圧下にてアルゴン、ヘリウム等の高価な希ガスに反応性ガスを微量混入し処理する方法、または窒素ガスに水蒸気を混入し処理する方法(特許文献6)などが報告されている。しかしいずれの方法によっても、処理環境圧力や封入ガスの管理が複雑になるといった問題を避けることができない。従って樹脂フィルムへの処理方法として上記のものは余り一般的ではなく、当業者であろうと容易に可否の試みができるほど普及していないのが実情である。   The inventors of the present invention provide a heat sealing layer by co-extrusion or laminating in the production process of the base film, and performs a process of chemically modifying the surface of the heat sealing layer based on the conventional technique of embossing the heat sealing layer. Therefore, intensive research was conducted to obtain an in-mold molding label that is excellent in water resistance, chemical resistance, and durability, and that can be applied not only to nonpolar resins but also to molded products of polar resins. The plasma treatment of these resin films is performed for the purpose of improving hydrophilicity and adhesion before coating, before printing, and before lamination with other molten resins. However, the corona oxidation treatment, which is generally performed for the purpose of improving the wetting of polyolefin film, is applied to the heat seal layer, and the adhesion to the molded body made of non-polar polyolefin resin, which was originally good, is remarkable. It was found to be damaged. For plasma treatment other than the corona treatment described above, a method of enclosing a minute amount of reactive gas under low pressure, and processing by mixing a minute amount of reactive gas into an expensive rare gas such as argon or helium under atmospheric pressure. A method or a method of mixing water vapor with nitrogen gas (Patent Document 6) has been reported. However, any of these methods cannot avoid the problem of complicated management of the processing environment pressure and the enclosed gas. Accordingly, the above-described methods for treating resin films are not so common, and the fact is that they are not so widespread that a person skilled in the art can easily try to accept or reject them.

特開平02−084319号公報Japanese Patent Laid-Open No. 02-084319 特開平02−122914号公報Japanese Patent Laid-Open No. 02-122914 特開平02−108516号公報Japanese Patent Laid-Open No. 02-108516 特開2004−255864号公報JP 2004-255864 A 特開平05−249895号公報JP 05-249895 A 特開2003−155364号公報JP 2003-155364 A

本発明は、特定のプラズマ処理をラベルのヒートシール層に施すことによって、耐水性、対薬品性、耐久性に優れ、且つ非極性樹脂のみならず極性樹脂であるポリエチレンテレフタレートなどの成形体に対しても接着力の優れたインモールド成形用ラベル、及びそのインモールド成形用ラベルが貼着されたインモールド成形体を提供することを目的とするものである。   By applying a specific plasma treatment to the heat seal layer of the label, the present invention is excellent in water resistance, chemical resistance and durability, and for molded articles such as polyethylene terephthalate which is a polar resin as well as a nonpolar resin. However, an object of the present invention is to provide an in-mold molding label having excellent adhesive force and an in-mold molded body to which the in-mold molding label is attached.

本発明者らは、更に鋭意研究を行った結果、ヒートシール層と基層とを含む積層樹脂フィルムからなるインモールド成形用ラベルのヒートシール層に、大気圧近傍の圧力下にてプラズマ放電処理を施すことによって、従前の塗工設備を用いてヒートシール性樹脂を表面にコートする従来法や極性樹脂をヒートシール性樹脂に用いて共押出またはラミネートによりヒートシール層を設ける試みにおける生産時の諸問題が無く、耐水性、対薬品性、耐久性に優れ、なお且つ、高密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、またはポリエチレンテレフタレートの共重合体よりなる群より選ばれる1以上の熱可塑性樹脂よりなるブロー成形体に対して、優れた接着性を発揮するインモールド成形用ラベルを提供し得ることを見出し本発明を完成した。   As a result of further diligent research, the inventors conducted plasma discharge treatment on the heat seal layer of the in-mold molding label composed of a laminated resin film including a heat seal layer and a base layer under a pressure near atmospheric pressure. By applying the conventional coating equipment, various methods during production in the conventional method of coating the surface with a heat-sealable resin and attempts to provide a heat-sealable layer by coextrusion or lamination using a polar resin as the heat-sealable resin One or more thermoplastics selected from the group consisting of high-density polyethylene, low-density polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, or a copolymer of polyethylene terephthalate, having no problems and excellent in water resistance, chemical resistance, and durability. In-mold molding label that exhibits excellent adhesion to blow molded articles made of resin And it completed the present invention found that to be able to provide.

すなわち本発明は、以下のとおりの構成を有するインモールド成形用ラベル、およびインモールド成形用ラベル付き樹脂成型品に係るものである。
(1)高密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、またはポリエチレンテレフタレートの共重合体、よりなる群より選ばれる1以上の熱可塑性樹脂よりなるブロー成形体に用いるインモールド成形用ラベルであって、該インモールド成形用ラベルが少なくともヒートシール層と基層とを含む積層樹脂フィルムからなり、該ヒートシール層が以下の要件を満足することを特徴とするインモールド成形用ラベル。
1)空気及び窒素ガスから選ばれるガスを導入し、大気圧近傍の圧力下にてプラズマ処理が施され、成形後の該インモールド成形用ラベルと該ブロー成形体との接着力がドライ、耐水密着、対油密着のいずれにおいても200〜500g/15mmの範囲である、
2)表面粗さが、三次元中心面平均粗さ(SRa)として1〜10μmである、
3)融点60〜130℃の熱可塑性樹脂よりなる、
That is, the present invention relates to an in-mold molding label having the following configuration and a resin molded product with an in-mold molding label.
(1) A label for in-mold molding used for a blow molded article made of one or more thermoplastic resins selected from the group consisting of high-density polyethylene, low-density polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, or a copolymer of polyethylene terephthalate. The in-mold molding label is formed of a laminated resin film including at least a heat-seal layer and a base layer, and the heat-seal layer satisfies the following requirements.
1) A gas selected from air and nitrogen gas is introduced, plasma treatment is performed under a pressure near atmospheric pressure, and the adhesive force between the in-mold molding label after molding and the blow-molded body is dry, water-resistant In both adhesion and oil adhesion, the range is 200 to 500 g / 15 mm.
2) Surface roughness is 1-10 micrometers as three-dimensional center plane average roughness (SRa).
3) A thermoplastic resin having a melting point of 60 to 130 ° C.

ここで、
(2)該プラズマ処理が、固体誘電体に覆われた一対の対向する電極を用い、この電極間に大気圧近傍の圧力下にてガスを満たした上で、この電極に高周波パルス状電圧を加えてガス中にプラズマを発生させ、この電極間にインモールド成形用ラベルを通過させることでヒートシール層の活性化処理を行なうものであることが好ましく、または
(3)該プラズマ処理が、少なくとも一方が固体誘電体に覆われた一対の対向する電極を用い、この電極間に大気圧近傍の圧力下にてガスを満たした上で、この電極に高周波電圧を加えてガス中にプラズマを発生させ、該プラズマガスを電極間より外に位置するインモールド成形用ラベルのヒートシール層へ電極より吹き出させて、ヒートシール層の活性化処理を行なうものであることが好ましい。
(4)該プラズマ処理において使用されるガスは、窒素ガスであることが好ましい。
here,
(2) The plasma treatment uses a pair of opposing electrodes covered with a solid dielectric, and a gas is filled between the electrodes under a pressure near atmospheric pressure, and then a high frequency pulse voltage is applied to the electrodes. In addition, it is preferable that the heat seal layer is activated by generating plasma in the gas and passing an in-mold molding label between the electrodes, or (3) the plasma treatment is at least A pair of opposing electrodes, one of which is covered with a solid dielectric, is filled with gas under a pressure close to atmospheric pressure, and a high-frequency voltage is applied to the electrodes to generate plasma in the gas. The plasma gas is preferably blown from the electrodes to the heat seal layer of the in-mold molding label located outside the space between the electrodes, and the heat seal layer is activated.
(4) The gas used in the plasma treatment is preferably nitrogen gas.

本発明のインモールド成形用ラベルは常圧窒素ガス下でプラズマ処理することにより、
(5)該ヒートシール層の表面から深さ10nmまでの原子構成比が、該プラズマ処理を施すことによって、ESCAを用いた1S軌道スペクトルのピーク面積より求めた窒素
原子数及び炭素原子数の比(N/C)として0.02〜0.07の範囲であることが好ましく、更にインモールド成形時に成形体とラベルの間に空気を閉じこめてフクレを生じることがないよう、
(6)特にヒートシール層を構成する熱可塑性樹脂がポリオレフィン系樹脂よりなることがより好ましい。
The label for in-mold molding of the present invention is subjected to plasma treatment under normal pressure nitrogen gas,
(5) The atomic composition ratio from the surface of the heat seal layer to a depth of 10 nm is the ratio of the number of nitrogen atoms and the number of carbon atoms determined from the peak area of the 1S orbital spectrum using ESCA by performing the plasma treatment. (N / C) is preferably in the range of 0.02 to 0.07, and further, air is not trapped between the molded body and the label during in-mold molding,
(6) It is more preferable that the thermoplastic resin constituting the heat seal layer is made of a polyolefin resin.

(7)該基層は、ポリオレフィン系樹脂を含むことが好ましく、更には、
(8)無機微細粉末および有機フィラーの少なくとも1つを含み、且つこれを核として形成された空孔を含むことが好ましい。
(9)該ブロー成形用ラベル付きブロー成形体は、界面活性剤溶液に24時間浸漬した後の該インモールド成形用ラベルと該ブロー成形体との接着力が150〜300g/15mmに維持されていることが好ましく、また本発明は、
(10)上記のインモールド成形用ラベルを、高密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、またはポリエチレンテレフタレートの共重合体よりなる群より選ばれる1以上の熱可塑性樹脂よりなるブロー成形体に貼着してなるラベル付き樹脂成形体を含むものである。
(7) The base layer preferably contains a polyolefin-based resin.
(8) It is preferable that it contains at least one of an inorganic fine powder and an organic filler, and contains pores formed using this as a nucleus.
(9) In the blow molded article with a label for blow molding, the adhesive force between the in-mold molding label and the blow molded article after being immersed in a surfactant solution for 24 hours is maintained at 150 to 300 g / 15 mm. It is preferable that the present invention
(10) The above-mentioned in-mold molding label is formed into a blow molded article made of one or more thermoplastic resins selected from the group consisting of high density polyethylene, low density polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, or polyethylene terephthalate copolymer. It includes a resin molded body with a label formed by sticking.

本発明のインモールド成形用ラベルは、非極性樹脂の成形体のみならずポリエチレンテレフタレートのような極性樹脂の成形体に対しても優れた接着力を有し、例え本発明のインモールド成形用ラベル付きのブロー成形品を界面活性剤溶液中に漬け込んでもラベルは容易には剥がれない、という顕著な効果を奏するものである。   The in-mold molding label of the present invention has an excellent adhesive force not only for a non-polar resin molded body but also for a polar resin molded body such as polyethylene terephthalate. Even if the attached blow molded article is dipped in the surfactant solution, the label is not easily peeled off.

以下に、本発明のヒートシール層表面処理インモールド成形用ラベル及び当該ラベル付きブロー成形体について詳細に説明する。
なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
(1)基層
本発明のインモールド成形用ラベルを構成する積層樹脂フィルムにおいて、基層とはラベルの支持体として、ラベルに強度や印刷適性、耐水性、耐薬品性、場合により不透明性等を付与するものである。またラベルの成形に際してはヒートシール層を支持して成形しやすくするものである。
Below, the heat seal layer surface treatment in-mold molding label of the present invention and the blow-molded body with the label will be described in detail.
In the present specification, a numerical range represented by using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
(1) Base layer In the laminated resin film constituting the in-mold molding label of the present invention, the base layer provides the label with strength, printability, water resistance, chemical resistance, and in some cases opaqueness as a label support. To do. In forming the label, the heat seal layer is supported to facilitate the forming.

基層は、熱可塑性樹脂を含むものである。基層に使用する熱可塑性樹脂としては、ポリプロピレン系樹脂、あるいは高密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン等のポリエチレン系樹脂、ポリメチル−1−ペンテン、エチレン−環状オレフィン共重合体等のポリオレフィン系樹脂、ナイロン−6、ナイロン−6,6、ナイロン−6,10、ナイロン−6,12等のポリアミド系樹脂、ポリエチレンテレフタレートやその共重合体、ポリエチレンナフタレート、脂肪族ポリエステル等の熱可塑性ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート、アタクティックポリスチレン、シンジオタクティックポリスチレン、ポリフェニレンサルファイド等の熱可塑性樹脂が挙げられる。これらは2種以上混合して用いることもできる。   The base layer includes a thermoplastic resin. Examples of the thermoplastic resin used for the base layer include polypropylene resins, polyethylene resins such as high density polyethylene, medium density polyethylene, and low density polyethylene, and polyolefin resins such as polymethyl-1-pentene and ethylene-cycloolefin copolymers. , Nylon-6, nylon-6,6, nylon-6,10, nylon-6,12 and other polyamide resins, polyethylene terephthalate and copolymers thereof, polyethylene naphthalate, aliphatic polyester and other thermoplastic polyester resins And thermoplastic resins such as polycarbonate, atactic polystyrene, syndiotactic polystyrene, polyphenylene sulfide, and the like. These may be used in combination of two or more.

これらの中でも、耐薬品性や生産コスト等の観点から、ポリオレフィン系樹脂を用いることが好ましく、ポリプロピレン系樹脂を用いることがより好ましい。
ポリプロピレン系樹脂としては、プロピレンを単独重合させたアイソタクティック重合体またはシンジオタクティック重合体を用いることが好ましい。また、エチレン、1−ブテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、4−メチル−1−ペンテン等のα−オレフィンとプロピレンとを共重合させた様々な立体規則性を有するプロピレンを主成分とする共重合体を使用することもできる。共重合体は2元系でも3元系以上の多元系でもよく、またランダム共重合体でもブロック共重合体でもよい。
Among these, from the viewpoints of chemical resistance and production cost, it is preferable to use a polyolefin resin, and it is more preferable to use a polypropylene resin.
As the polypropylene resin, it is preferable to use an isotactic polymer or a syndiotactic polymer obtained by homopolymerizing propylene. Copolymers mainly composed of propylene having various stereoregularities obtained by copolymerizing propylene with α-olefins such as ethylene, 1-butene, 1-hexene, 1-heptene and 4-methyl-1-pentene. Polymers can also be used. The copolymer may be a binary system or a ternary or higher multi-element system, and may be a random copolymer or a block copolymer.

該基層は、不透明性や軽量化の観点から、熱可塑性樹脂の他に、無機微細粉末および有機フィラーの少なくとも1つを含み、且つこれを核として形成された空孔を含むものであっても良い。
無機微細粉末としては、安定したフィルム延伸や均一な空孔形成の観点から、平均粒径が通常0.01〜15μm、好ましくは0.01〜8μm、さらに好ましくは0.03〜4μmのものを使用することができる。具体的には、炭酸カルシウム、焼成クレイ、シリカ、けいそう土、タルク、酸化チタン、硫酸バリウム、アルミナ等を使用することができる。
The base layer may contain at least one of an inorganic fine powder and an organic filler in addition to the thermoplastic resin from the viewpoint of opacity and weight reduction, and may include pores formed using this as a core. good.
As the inorganic fine powder, those having an average particle diameter of usually 0.01 to 15 μm, preferably 0.01 to 8 μm, more preferably 0.03 to 4 μm from the viewpoint of stable film stretching and uniform pore formation. Can be used. Specifically, calcium carbonate, calcined clay, silica, diatomaceous earth, talc, titanium oxide, barium sulfate, alumina, or the like can be used.

有機フィラーとしては、無機微細粉末同様、分散後の平均粒径が通常0.01〜15μm、好ましくは0.01〜8μm、さらに好ましくは0.03〜4μmのものを使用することができる。有機フィラーとしては、基層の主成分である熱可塑性樹脂とは異なる種類の樹脂を選択することが好ましい。例えば、マトリクス樹脂がポリオレフィン系樹脂である場合、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ナイロン−6、ナイロン−6,6、環状オレフィンの単独重合体や環状オレフィンとエチレンとの共重合体等で融点が120℃〜300℃、ないしはガラス転移温度が120℃〜280℃であるものを使用することができる。基層には、さらに必要により、安定剤、光安定剤、分散剤、滑剤、蛍光増白剤、着色剤等を配合してもよい。   As the organic filler, those having an average particle diameter after dispersion of usually 0.01 to 15 μm, preferably 0.01 to 8 μm, and more preferably 0.03 to 4 μm can be used as in the case of the inorganic fine powder. As the organic filler, it is preferable to select a different type of resin from the thermoplastic resin that is the main component of the base layer. For example, when the matrix resin is a polyolefin resin, the melting point is polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycarbonate, nylon-6, nylon-6,6, a cyclic olefin homopolymer or a copolymer of cyclic olefin and ethylene. Having a glass transition temperature of 120 ° C. to 280 ° C. can be used. If necessary, the base layer may further contain a stabilizer, a light stabilizer, a dispersant, a lubricant, a fluorescent brightener, a colorant, and the like.

基層を構成するフィルムは、空孔形成による軽量化や分子配向による剛度向上の観点から、少なくとも一軸方向に延伸されたものであることが好ましい。基層が複数の層から構成されるときは、少なくともその一層が延伸されていることが好ましい。複数層を延伸する場合は、各層を積層する前に個別に延伸しておいてもよいし、積層した後に延伸してもよい。また、延伸した層を積層後に再び延伸しても差し支えない。さらに、基層にヒートシール層を成形した後に全体を延伸してもよい。   The film constituting the base layer is preferably stretched at least in a uniaxial direction from the viewpoint of weight reduction by pore formation and improvement of rigidity by molecular orientation. When the base layer is composed of a plurality of layers, it is preferable that at least one of the layers is stretched. When extending | stretching a several layer, you may extend | stretch separately before laminating | stacking each layer, and you may extend | stretch after laminating | stacking. Further, the stretched layer may be stretched again after being laminated. Furthermore, you may extend | stretch the whole, after shape | molding a heat seal layer in a base layer.

基層の延伸には、従来公知の種々の方法を使用することができる。例えば、スクリュー型押出機に接続されたTダイやIダイを使用して溶融樹脂をシート状に押し出し成形した後、該シートを、ロール群の周速差を利用したロール間縦延伸法、テンターオーブンを利用した横延伸法、テンターオーブンとリニアモーターの組み合わせによる同時二軸延伸法、該シートをカットした後パンタグラフ型延伸装置を用いた同時二軸延伸法、スクリュー型押出機に接続された円形ダイを使用して溶融樹脂をチューブ状に押し出し成形した後、これに空気を吹き込む同時二軸延伸(インフレーション成形)法などが挙げられる。
延伸の温度は、熱可塑性樹脂が非結晶樹脂の場合は使用するオレフィン系樹脂のガラス転移点以上、結晶性樹脂の場合には、非結晶部分のガラス転移点以上から結晶部の融点以下に設定することができる。具体的には使用する熱可塑性樹脂の融点より2〜60℃低い温度であり、樹脂がプロピレン単独重合体(融点155〜167℃)のときは152〜164℃、高密度ポリエチレン(融点121〜134℃)のときは110〜120℃が好ましい。また、延伸速度は20〜350m/分が好ましい。
Various conventionally known methods can be used for stretching the base layer. For example, after a molten resin is extruded and formed into a sheet using a T die or I die connected to a screw type extruder, the sheet is subjected to a longitudinal stretching method between rolls using a difference in peripheral speed between rolls, a tenter Transverse stretching method using an oven, simultaneous biaxial stretching method using a combination of a tenter oven and a linear motor, simultaneous biaxial stretching method using a pantograph type stretching device after cutting the sheet, and a circle connected to a screw type extruder Examples thereof include a simultaneous biaxial stretching (inflation molding) method in which a molten resin is extruded into a tube shape using a die and then air is blown into the tube.
When the thermoplastic resin is an amorphous resin, the stretching temperature is set to be equal to or higher than the glass transition point of the olefin resin to be used. In the case of a crystalline resin, the stretching temperature is set to be higher than the glass transition point of the amorphous part and lower than the melting point of the crystalline part. can do. Specifically, the temperature is 2 to 60 ° C. lower than the melting point of the thermoplastic resin to be used. When the resin is a propylene homopolymer (melting point 155 to 167 ° C.), 152 to 164 ° C., high density polyethylene (melting point 121 to 134). C.) is preferably 110 to 120 ° C. The stretching speed is preferably 20 to 350 m / min.

(2)ヒートシール層
本発明のインモールド成形用ラベルを構成する積層樹脂フィルムにおいて、ヒートシール層とは、ラベルとブロー成形体とを接合する接着剤の働きをするものであり、常温では固体状であるが、金型内で樹脂成形体を成形する際に溶融した樹脂の熱で活性化し、樹脂成形体と溶融接合して、冷却後は再度固形状となり強固な接着力を発揮しえるものである。該ヒートシール層は、熱可塑性樹脂よりなり、本発明のインモールド成形用ラベルにおいて、上記基層に積層した積層樹脂フィルムの一部として設けられる。より具体的には、積層樹脂フィルムの製造過程において、基層と共押し出し、または基層に溶融ラミネートすることによりフィルムとしてヒートシール層を設ける。
(2) Heat Seal Layer In the laminated resin film constituting the in-mold molding label of the present invention, the heat seal layer functions as an adhesive that joins the label and the blow molded body, and is solid at room temperature. Although it is shaped, it is activated by the heat of the molten resin when molding the resin molded body in the mold, melted and joined with the resin molded body, becomes solid again after cooling, and can exhibit strong adhesive force Is. The heat seal layer is made of a thermoplastic resin, and is provided as a part of the laminated resin film laminated on the base layer in the in-mold molding label of the present invention. More specifically, in the production process of the laminated resin film, a heat seal layer is provided as a film by co-extrusion with the base layer or melt lamination to the base layer.

ヒートシール層を構成する熱可塑性樹脂は、インモールド成形により樹脂成形体を形成する際に加熱によりラベルを樹脂成形体に貼着する機能を有するものであればその種類は特に制限されない。
本発明におけるヒートシール層を構成する熱可塑性樹脂は、DSC測定によりピーク温度として求めた融点が60〜130℃であることが好ましい。60℃未満であると常温でのべた付きによりラベルのスベリ性が悪くなり、ブロッキング等を起こしやすい。その為ラベルを金型へインサートする際に、2枚挿し等のトラブルが多発しやすい。また130℃を超えて大きいとラベルと成形体との接着性が悪くなりやすいため、好ましくない。
The kind of the thermoplastic resin constituting the heat seal layer is not particularly limited as long as it has a function of sticking the label to the resin molded body by heating when forming the resin molded body by in-mold molding.
The thermoplastic resin constituting the heat seal layer in the present invention preferably has a melting point of 60 to 130 ° C. determined as a peak temperature by DSC measurement. If it is lower than 60 ° C., the stickiness of the label deteriorates due to stickiness at room temperature, and blocking or the like is likely to occur. Therefore, when inserting the label into the mold, troubles such as inserting two sheets are likely to occur frequently. On the other hand, if the temperature exceeds 130 ° C., the adhesion between the label and the molded body tends to deteriorate, such being undesirable.

具体的な熱可塑性樹脂の例としては、ポリオレフィン系樹脂である、低密度ないし中密度の高圧法ポリエチレン、直鎖線状ポリエチレン、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・アクリル酸共重合体、エチレン・アクリル酸アルキルエステル共重合体、エチレン・メタクリル酸アルキルエステル共重合体(アルキル基の炭素数は1〜8)、エチレン・メタクリル酸共重合体の金属塩(Zn、Al、Li、K、Naなど)等の融点が60〜130℃のポリエチレン系樹脂などを挙げることができる。これらの樹脂は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を混合して使用してもよい。
ヒートシール層には、ヒートシール層に要求される性能を阻害しない範囲で、他の公知の樹脂用添加剤を任意に添加することができる。そのような添加剤としては、染料、核剤、可塑剤、離型剤、酸化防止剤、アンチブロッキング剤、難燃剤、紫外線吸収剤等を挙げることができる。
Specific examples of thermoplastic resins include polyolefin resins, low density to medium density high pressure polyethylene, linear linear polyethylene, ethylene / vinyl acetate copolymer, ethylene / acrylic acid copolymer, ethylene Acrylic acid alkyl ester copolymer, ethylene / methacrylic acid alkyl ester copolymer (alkyl group having 1 to 8 carbon atoms), ethylene / methacrylic acid copolymer metal salt (Zn, Al, Li, K, Na, etc.) ) And the like having a melting point of 60 to 130 ° C. These resins may be used alone or in combination of two or more.
Other known additives for resin can be arbitrarily added to the heat seal layer as long as the performance required for the heat seal layer is not impaired. Examples of such additives include dyes, nucleating agents, plasticizers, mold release agents, antioxidants, antiblocking agents, flame retardants, and ultraviolet absorbers.

ヒートシール層は、インモールド成形時のラベルと成形体間の空気巻き込みによるブリスター(フクレ)発生防止のため、JIS−B−0601:2001に基づく三次元中心面平均粗さ(SRa)が1〜10μmの凹凸形状を有することが好ましい。このような凹凸形状を付与するため、必要であればヒートシール層にはエンボス加工をすることができる。エンボス加工は積層樹脂フィルム成形時、もしくは成形後にエンボスロール等に圧着して該ロールパターンを転写することで実施できる。凹凸形状が1μmより小さくてはブロー成形時に成形体とラベルの間に空気が閉じこめられ、ブリスターという外観不良が発生しやすく好ましくない。また10μm以上であると凹凸が基層側の外観にも現われ、印刷時に印刷ムラが発生しやすく好ましくない。本発明の実施例に使用したエンボスロールには正四角錘の頂点を削った形の凸部(頭切ピラミッド形)を等間隔で並べた凹凸形状を賦形しており、逆グラビア型と表記した。   The heat seal layer has a three-dimensional center plane average roughness (SRa) based on JIS-B-0601: 2001 in order to prevent blistering due to air entrainment between the label and the molded body during in-mold molding. It is preferable to have an uneven shape of 10 μm. In order to give such an uneven shape, the heat seal layer can be embossed if necessary. The embossing can be carried out when the laminated resin film is formed or by pressing the embossing roll or the like after the forming and transferring the roll pattern. If the uneven shape is smaller than 1 μm, air is trapped between the molded body and the label at the time of blow molding, and an appearance defect called blister tends to occur, which is not preferable. Further, if it is 10 μm or more, irregularities appear in the appearance on the base layer side, and printing unevenness is likely to occur during printing, which is not preferable. The embossing roll used in the embodiment of the present invention has an uneven shape in which convex portions (head-cut pyramid shapes) formed by cutting off the vertices of a regular square pyramid are arranged at equal intervals. did.

(3)大気圧近傍の圧力下でのプラズマ処理
本発明で実施する大気圧近傍の圧力下でのプラズマ処理は、以下の2種類の方法が適用できる。一つは対向する電極間に発生させたプラズマに被処理基材を通過させることで処理を行う方法であり、ダイレクト方式、或いはプラナー方式などと呼ばれるものである。本明細書では以後、ダイレクト方式と表記する。
もう一つは電極間で発生したプラズマをガス流や電界配置等により、被処理基材に向かって電極から吹き付けることで処理を行う方法であり、リモート方式、ダウンストリーム方式、或いはプラズマジェット方式などと呼ばれているものである。本明細書では以後、リモート方式と表記する。
(3) Plasma treatment under pressure near atmospheric pressure The following two types of methods can be applied to the plasma treatment under pressure near atmospheric pressure, which is carried out in the present invention. One is a method of performing treatment by passing a substrate to be treated through plasma generated between opposed electrodes, and is called a direct method or a planar method. In the present specification, this will be referred to as a direct method hereinafter.
The other is a method in which plasma generated between the electrodes is blown from the electrode toward the substrate to be processed by gas flow or electric field arrangement, such as a remote method, a downstream method, or a plasma jet method. It is what is called. In the present specification, it is hereinafter referred to as a remote method.

ここで、大気圧近傍の圧力下とは、1.333×10〜10.397×10Paの範囲の圧力下を指す。中でも、圧力調整が容易で、装置が簡便になる9.331×10〜10.397×10Paの範囲が好ましい。大気圧(1気圧)は10.133×10Paとする。本発明にて用いるプラズマ処理は、大気圧近傍の圧力下で実施するため、従前のプラズマ処理に比べても作業性や安全性に優れている。
ダイレクト方式のプラズマ処理は、固体誘電体に覆われた一対の対向する電極を用い、被処理基材を当該電極間に配置した状態でこの対向電極間に大気圧近傍の圧力のガスを導入し、一方の電極にパルス状電圧を印加して他方を接地することで、ガス中にプラズマ放電を行い、該基材にプラズマを接触させて処理を行なう方法である。
この場合、本発明で用いられる一対の電極はどちらも平面板状のものでも良く、接地側電極がロール形状で印加側電極がロール曲面に沿う曲面板状のものでも良く、接地側電極が平板状で印加側電極が複数の細線状のものでも良い。
Here, under the pressure near atmospheric pressure refers to under a pressure in the range of 1.333 × 10 4 to 10.9797 × 10 4 Pa. Among these, a range of 9.331 × 10 4 to 10.9797 × 10 4 Pa is preferable because pressure adjustment is easy and the apparatus is simple. The atmospheric pressure (1 atm) is 10.133 × 10 4 Pa. Since the plasma treatment used in the present invention is performed under a pressure near atmospheric pressure, it is excellent in workability and safety as compared with the conventional plasma treatment.
In the direct plasma processing, a pair of opposing electrodes covered with a solid dielectric is used, and a gas having a pressure near atmospheric pressure is introduced between the opposing electrodes with a substrate to be processed disposed between the electrodes. In this method, a pulsed voltage is applied to one electrode and the other is grounded, thereby performing plasma discharge in the gas and bringing the plasma into contact with the substrate.
In this case, both of the pair of electrodes used in the present invention may be flat plate-shaped, the ground-side electrode may be a roll shape, the application-side electrode may be a curved plate shape along the roll curved surface, and the ground-side electrode is a flat plate The application side electrode may have a plurality of fine lines.

上記電極としては、例えば、銅、アルミニウム等の単体金属、ステンレス、真鍮等の合金等、からなるものが挙げられる。また、固体誘電体の材質としては、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレンテレフタレート等のプラスチック、ガラス、二酸化珪素、酸化アルミニウム、二酸化ジルコニウム、二酸化チタン等の金属酸化物、チタン酸バリウム等の複合酸化物(セラミックス)等が挙げられる。電極の間隔は、印加電圧の大きさ、処理ガスの種類にもよるが、1〜20mm程度が好ましい。1mm未満では、間隔内に被処理基材を設置し難くなり、20mmより大きいと均一な放電プラズマを発生し難くなる。   As said electrode, what consists of single metals, such as copper and aluminum, alloys, such as stainless steel and brass, is mentioned, for example. Solid dielectric materials include plastics such as polytetrafluoroethylene and polyethylene terephthalate, glass, metal oxides such as silicon dioxide, aluminum oxide, zirconium dioxide and titanium dioxide, and complex oxides such as barium titanate (ceramics). ) And the like. The distance between the electrodes is preferably about 1 to 20 mm, although it depends on the magnitude of the applied voltage and the type of processing gas. If it is less than 1 mm, it becomes difficult to install the substrate to be treated within the interval, and if it is more than 20 mm, it is difficult to generate uniform discharge plasma.

本プラズマ処理では、対向電極間にはパルス状電圧を印加する。用いるパルス状電圧波形は、インパルス波形、方形波形又は変調波形の何れであっても良い。パルス電圧の立ち上がり時間及び立ち下がり時間は、100μs以下であることが好ましく、特には、50ns〜5μsであることが好ましい。100μsを超過すると、アーク放電に移行し易く、不安定な状態となり、50ns未満とするのは、装置上の制約から実現が困難である。
なお、ここでいう立ち上がり時間とは、電圧(絶対値)が連続して増加する時間、立ち下がり時間とは、電圧(絶対値)が連続して減少する時間を指すものとする。
In this plasma treatment, a pulse voltage is applied between the counter electrodes. The pulsed voltage waveform used may be any of an impulse waveform, a square waveform, and a modulation waveform. The rise time and fall time of the pulse voltage are preferably 100 μs or less, and particularly preferably 50 ns to 5 μs. If it exceeds 100 μs, it is easy to shift to arc discharge, and it becomes unstable, and it is difficult to realize less than 50 ns due to restrictions on the apparatus.
The rise time here refers to the time during which the voltage (absolute value) increases continuously, and the fall time refers to the time during which the voltage (absolute value) decreases continuously.

パルス状電圧の周波数は、0.5〜100kHzであることが好ましい(本明細書では同様の印加電圧を高周波パルス状電圧と表記する。)。該周波数が0.5kHz未満になると、プラズマ密度が低下して処理に時間がかかり、逆に100kHzを超えるとアーク放電に移行し易く、不安定な状態となり、何れも好ましくない。
また、パルス継続時間は1〜1000μsであることが好ましい。該時間が1μs未満であると放電が不安定となり、1000μsを超えるとアーク放電に移行しやすくなる。より好ましくは3〜200μsである。ここで、ひとつのパルス継続時間とは、ON、OFFの繰り返しからなるパルス電圧における、ひとつのパルスの連続するON時間を言う。
The frequency of the pulse voltage is preferably 0.5 to 100 kHz (similar applied voltage is expressed as a high frequency pulse voltage in this specification). If the frequency is less than 0.5 kHz, the plasma density is lowered and processing takes time. Conversely, if the frequency exceeds 100 kHz, arc discharge tends to occur, resulting in an unstable state.
The pulse duration is preferably 1 to 1000 μs. If the time is less than 1 μs, the discharge becomes unstable, and if it exceeds 1000 μs, it tends to shift to arc discharge. More preferably, it is 3 to 200 μs. Here, one pulse continuation time refers to a continuous ON time of one pulse in a pulse voltage composed of repetition of ON and OFF.

本発明のプラズマ処理と従前のコロナ処理との違いは、印加電極に、固体誘電体に覆われた電極を用いて、高周波パルス状電圧を印加することにある。
従前のコロナ処理では、高周波の交流(正弦波、サイン波)電圧を用いてコロナを発生させるが、アーク放電が発生しやすく、被処理基材に均一な処理を施し得る処理強度、すなわち設定電圧、の範囲が狭い。例えば、同コロナ処理において充分な処理効果を得るべく、例えば窒素ガス雰囲気下で被処理基材に窒素原子を導入するべく、電圧を上げても、均一で安定したコロナは生じにくくアーク放電が多く発生して、窒素原子導入効果は低く、また表面欠陥が多くなる。また被処理基材表面に低分子量の酸化物(劣化物)が多く発生して接着性を阻害する要因となることや、被処理基材のマイグレーションにより処理のライフが短いことが問題であった。本プラズマ処理は広範な処理強度で安定したプラズマを発生でき、被処理基材へ均一な活性化処理が可能なものであり、例えば、窒素ガス雰囲気下では高効率に窒素原子を導入することができ、結果としてインモールド成形時に成形体への高い接着力が得られる。
The difference between the plasma treatment of the present invention and the conventional corona treatment is that a high-frequency pulse voltage is applied to the application electrode using an electrode covered with a solid dielectric.
In the conventional corona treatment, a corona is generated using a high-frequency alternating current (sine wave, sine wave) voltage. However, arc discharge is likely to occur, and the treatment strength that can treat the substrate to be treated uniformly, that is, the set voltage. The range of is narrow. For example, in order to obtain a sufficient treatment effect in the corona treatment, for example, to introduce nitrogen atoms into the substrate to be treated under a nitrogen gas atmosphere, even if the voltage is increased, a uniform and stable corona hardly occurs and arc discharge is often caused. The nitrogen atom introduction effect is low, and surface defects increase. In addition, many low molecular weight oxides (degraded products) are generated on the surface of the substrate to be treated, and this causes problems in adhesion, and the treatment life is short due to the migration of the substrate to be treated. . This plasma treatment can generate a stable plasma with a wide range of treatment intensities and enables uniform activation treatment to the substrate to be treated. For example, nitrogen atoms can be introduced with high efficiency in a nitrogen gas atmosphere. As a result, high adhesive strength to the molded body can be obtained during in-mold molding.

本発明のプラズマ処理にて導入されるガスとしては空気を用いることも可能であるが、インモールド成形用ラベル付き成形体を界面活性剤溶液に浸漬した後のラベルと成形体との接着力、即ち耐洗剤性、をより向上させるために、窒素原子を積極的に被処理基材に導入できる窒素ガスを用いることが本発明の目的上好ましい。また本処理は、ロール形状の被処理基材を連続的に処理することが可能であり、窒素ガスが導入された場合には、被処理基材表面の同伴空気中の微量な酸素により、窒素原子だけでなく酸素原子も被処理基材表面に導入される。
本発明において、窒素ガスを用いてプラズマ処理を施すことによって、多孔質接着層の表面から深さ10nmまでの原子構成比は、ESCAを用いた1S軌道スペクトルのピーク面積より求めた窒素原子数及び炭素原子数の比(N/C)として、0.015〜0.070の範囲であることが好ましい。
Although it is possible to use air as the gas introduced in the plasma treatment of the present invention, the adhesive force between the label and the molded body after immersing the molded body with a label for in-mold molding in a surfactant solution, That is, in order to further improve the detergent resistance, it is preferable for the purpose of the present invention to use nitrogen gas capable of positively introducing nitrogen atoms into the substrate to be treated. In addition, this treatment can continuously process a roll-shaped substrate, and when nitrogen gas is introduced, nitrogen is introduced by a small amount of oxygen in the entrained air on the surface of the substrate. Not only atoms but also oxygen atoms are introduced into the surface of the substrate to be treated.
In the present invention, by performing a plasma treatment using nitrogen gas, the atomic composition ratio from the surface of the porous adhesive layer to a depth of 10 nm is obtained from the number of nitrogen atoms determined from the peak area of the 1S orbital spectrum using ESCA and The ratio of carbon atoms (N / C) is preferably in the range of 0.015 to 0.070.

リモート方式のプラズマ処理は、被処理基材が対向する一対の電極間の外にあるのが特徴である。
電極間の外にあるため、強い電界の影響を受けて被処理基材がダメージを受けることはない。そのため印加エネルギーに応じた高い処理効果が得られる。その装置形状および方法としては、平行に並んでいる板状の電極の平行する2辺が密封されて略筒状となり、密封されていない一端よりガスが導入され、他方の端から被処理基材に向けてプラズマを吹き付ける方法、印加側、接地側の電極がどちらも円筒形状であり、一方が他方の内側に位置し、円筒の端から円筒間にガスが導入され、他方の端から被処理基材に向けてプラズマを吹き付ける方法、または、板状の固体誘電体の中に板状の印加側、接地側の電極が埋め込まれており、この平板に複数の貫通孔が開いており、被処理基材は接地側電極の下方に位置し、印加側よりガスを導入し貫通孔内にてプラズマ化させ、被処理基材に吹き付ける方法などが挙げられるが、これらの中でもより好ましくは、処理面積を大きくできる板状の電極を使用した方式である。
The remote type plasma treatment is characterized in that the substrate to be treated is located between a pair of opposed electrodes.
Since it exists outside between electrodes, the to-be-processed base material is not damaged by the influence of a strong electric field. Therefore, a high processing effect according to the applied energy can be obtained. As the apparatus shape and method, two parallel sides of plate-like electrodes arranged in parallel are sealed to form a substantially cylindrical shape, and gas is introduced from one end that is not sealed, and the substrate to be processed from the other end. The method of spraying plasma toward the surface, both the application side and ground side electrodes are cylindrical, one is positioned inside the other, gas is introduced between the cylinders from the end of the cylinder, and the object is processed from the other end A method of spraying plasma toward the substrate, or a plate-shaped solid dielectric that has a plate-like application side and ground side electrode embedded therein, and a plurality of through holes are opened in the plate, The treatment base material is located below the ground side electrode, and includes a method of introducing gas from the application side to make it plasma in the through hole and spraying it on the treatment base material. Among these, more preferably, the treatment Plate-shaped electrode with large area It is a method that was used.

このリモート方式の固体誘電体は少なくとも一方に被覆されていればよく、電極、固体誘電体の材質は前者のダイレクト方式と同様のものが用いられる。電極間距離は0.1〜50mmであることが好ましい。0.1mm未満であると間隔を置いて電極を設置するのが困難であり、50mmを超えると均一な放電プラズマが発生し難くなる。さらに、電極端部と被処理基材との間隔は、印加電圧、ガスの流速にもよるが、1〜50mmが好ましい。1mm未満であると電極端部より被処理基材へアーク放電が発生し易くなり、50mmを超えると被処理基材表面のプラズマ密度が低くなり処理に時間がかかる。また、同電極に印加する電圧は高周波電圧である。その波形は正弦波形又はサイン波形を有する交流波でも良く、またインパルス波形、方形波形又は変調波形を有するパルス化されたものでもよい。   This remote type solid dielectric is only required to be coated on at least one, and the same materials as those of the former direct type are used for the electrodes and the solid dielectric. The distance between the electrodes is preferably 0.1 to 50 mm. If it is less than 0.1 mm, it is difficult to install electrodes at intervals, and if it exceeds 50 mm, uniform discharge plasma is difficult to be generated. Furthermore, although the space | interval of an electrode edge part and a to-be-processed base material is based also on an applied voltage and the flow rate of gas, 1-50 mm is preferable. If it is less than 1 mm, arc discharge tends to occur from the electrode end to the substrate to be treated. The voltage applied to the electrode is a high frequency voltage. The waveform may be an alternating wave having a sine waveform or a sine waveform, or may be pulsed having an impulse waveform, a square waveform or a modulated waveform.

このリモート方式は電極間で発生したプラズマを被処理基材のある電極外に吹き出させるものであり、導入するガスに幾分か圧を掛けてガス流とし被処理基材側にプラズマを流す方法、またはプラズマを発生させるために電極間に印加した電圧により発生した電界にてプラズマを吹き出させる方法、もしくは両者を組み合わせる方法があるが、好ましくは印加電圧が変更できるガス流による方法である。本プラズマ処理にて導入されるガスもまた空気を用いることが可能であるが、窒素原子を被処理基材に導入できる窒素ガスを用いることが本発明の目的上好ましい。   This remote method blows out the plasma generated between the electrodes to the outside of the electrode with the substrate to be processed, and applies a certain amount of pressure to the gas to be introduced to flow the plasma to the substrate to be processed. Alternatively, there is a method in which plasma is blown out by an electric field generated by a voltage applied between electrodes in order to generate plasma, or a method in which both are combined, but a method using a gas flow in which the applied voltage can be changed is preferable. Although air can also be used as the gas introduced in the plasma treatment, it is preferable for the purpose of the present invention to use nitrogen gas capable of introducing nitrogen atoms into the substrate to be treated.

本発明におけるプラズマ処理には高周波電圧、または高周波パルス状電圧が印加されるが、これらの波形電圧は共に直流電源から変換されるため、被処理基材(ヒートシール層)への表面処理の強さは、この元の直流電源の電力(ワット数)を被処理基材の単位時間当たりの処理面積(処理速度×処理幅)で除した値から求めた処理強度(kJ/m)として求めることができる。該処理強度の最適範囲は各処理方式、被処理基材、クリアランス(ギャップ距離)によって異なるが、被処理基材にアーク放電による傷、熱による変形、収縮等がなければよく、1〜300kJ/mが好ましい。 In the present invention, a high frequency voltage or a high frequency pulsed voltage is applied to the plasma treatment. Since both of these waveform voltages are converted from a direct current power source, the surface treatment to the substrate to be treated (heat seal layer) is strong. The processing strength (kJ / m 2 ) obtained from the value obtained by dividing the power (wattage) of the original DC power source by the processing area (processing speed × processing width) per unit time of the substrate to be processed is obtained. be able to. The optimum range of the treatment strength varies depending on each treatment method, the substrate to be treated, and the clearance (gap distance), but it is sufficient that the substrate to be treated does not have arc damage, thermal deformation, shrinkage, etc., 1 to 300 kJ / m 2 is preferred.

本発明のヒートシール層は、上記のプラズマ処理により、インモールド成形用ラベル付き樹脂成形体とした時のラベルと樹脂成形体との接着力(後述の〔ラベル接着性〕の項における、ドライ、耐水密着、対油密着の接着力)が200〜500gf/15mm、好ましくは250〜500gf/15mm、特に好ましくは350〜500gf/15mmとなるように構成する。接着力が200gf/15mmよりも低いと、ラベル付き樹脂成形体の内容物充填後の搬送中や商品陳列時に与えられた衝撃によりラベルが剥がれることがある。
また、本発明においてラベル付き樹脂成形体を界面活性剤溶液に24時間浸漬した後(後述の〔ラベル接着性〕の項における、対洗剤密着の接着力)のラベルと樹脂成形体との接着力が150〜300g/15mmであることが好ましく、170〜290g/15mmであることがより好ましい。接着力が150gf/15mmよりも低いと、成形体が例えば容器でありボディーソープやシャンプー等の界面活性剤を内容物として使用する際、長期の使用に耐えられずラベルが剥がれることがある。
The heat seal layer of the present invention is formed by the plasma treatment described above, and the adhesive force between the label and the resin molded body when the resin molded body with a label for in-mold molding is formed (in the section of [Label Adhesion] described later, (Adhesive force of water tight adhesion and oil tight adhesion) is 200 to 500 gf / 15 mm, preferably 250 to 500 gf / 15 mm, particularly preferably 350 to 500 gf / 15 mm. If the adhesive force is lower than 200 gf / 15 mm, the label may be peeled off due to an impact applied during transportation after the contents of the resin-molded body with a label are filled or during product display.
Further, in the present invention, the adhesive strength between the label and the resin molded article after the resin molded article with a label is immersed in a surfactant solution for 24 hours (adhesive strength for adhesion to a detergent in the section of [Label Adhesion] described later). Is preferably 150 to 300 g / 15 mm, and more preferably 170 to 290 g / 15 mm. When the adhesive strength is lower than 150 gf / 15 mm, when the molded body is, for example, a container and a surfactant such as a body soap or shampoo is used as a content, the label may be peeled off due to a long-term use.

以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。
以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
The features of the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples.
The materials, amounts used, ratios, processing details, processing procedures, and the like shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be construed as being limited by the specific examples shown below.

(実施例1)
<積層樹脂フィルムの製造>
プロピレン単独重合体(商品名「ノバテックPPMA−8」、融点164℃、日本ポリプロ(株)製)67重量%、高密度ポリエチレン(商品名「ノバテックHDHJ580」、融点134℃、日本ポリエチレン(株)製)10重量%、および平均粒径1.5μmの炭酸カルシウム粉末23重量%よりなる樹脂組成物(C)を、押出機を用いて250℃で溶融混練したのち、ダイよりフィルム状に押し出し、約50℃の温度となるまでフィルムを冷却した。このフィルムを約150℃に再度加熱したのち、ロール群の周速度を利用して縦方向に4倍延伸して、コア層となる一軸延伸フィルムを得た。
Example 1
<Manufacture of laminated resin film>
Propylene homopolymer (trade name “Novatech PPMA-8”, melting point 164 ° C., manufactured by Nippon Polypro Co., Ltd.) 67% by weight, high density polyethylene (trade name “Novatech HDHJ580”, melting point 134 ° C., manufactured by Nippon Polyethylene Co., Ltd.) ) A resin composition (C) comprising 10% by weight and 23% by weight of calcium carbonate powder having an average particle size of 1.5 μm was melt-kneaded at 250 ° C. using an extruder and then extruded into a film from a die. The film was cooled to a temperature of 50 ° C. This film was heated again to about 150 ° C. and then stretched 4 times in the longitudinal direction using the peripheral speed of the roll group to obtain a uniaxially stretched film serving as a core layer.

一方、プロピレン単独重合体(商品名「ノバテックPPMA−3」、日本ポリプロ(株)製)51.5重量%、高密度ポリエチレン(商品名「ノバテックHDHJ580」、日本ポリエチレン(株)製)3.5重量%、平均粒径1.5μmの炭酸カルシウム粉末42重量%、平均粒径0.8μmの酸化チタン粉末3重量%よりなる樹脂組成物(D)を別の押出機を用いて240℃で溶融混練し、これを前記一軸延伸フィルムの片面にダイよりフィルム状に押し出し、積層して、表面層/コア層(D/C)の積層体を得た。   On the other hand, propylene homopolymer (trade name “Novatech PPMA-3”, manufactured by Nippon Polypro Co., Ltd.) 51.5% by weight, high density polyethylene (trade name “Novatech HDHJ580”, manufactured by Nippon Polyethylene Co., Ltd.) 3.5 A resin composition (D) consisting of 42% by weight of calcium carbonate powder having an average particle size of 1.5 μm and 3% by weight of titanium oxide powder having an average particle size of 0.8 μm was melted at 240 ° C. using another extruder. This was kneaded and extruded onto a single side of the uniaxially stretched film in a film form from a die and laminated to obtain a surface layer / core layer (D / C) laminate.

さらに、それぞれ別々の押出機を用い、プロピレン単独重合体(商品名「ノバテックPPMA−3」、日本ポリプロ(株)製)51.5重量%、高密度ポリエチレン(商品名「ノバテックHDHJ580」、日本ポリエチレン(株)製)3.5重量%、平均粒径1.5μmの炭酸カルシウム粉末42重量%および平均粒径0.8μmの酸化チタン粉末3重量%よりなる樹脂組成物(E)と、ヒートシール層として、直鎖線状ポリエチレン(樹脂a)(商品名「ノバテックLLUJ580」、融点123℃、日本ポリエチレン(株)製)80重量%とエチレン・酢酸ビニル共重合体(樹脂b)(融点63℃)20重量%よりなる樹脂組成物(B)を200℃で溶融混練し、一台の共押出ダイに供給してダイ内で積層し、ダイよりそれぞれフィルム状に押し出し、前記積層体(D/C)のコア層側の面にヒートシール層が最外層となるように積層して、表面層/コア層/裏面層/ヒートシール層の四層構造の積層体(D/C/E/B)を得た。得られた積層体のヒートシール層側を金属ロールとゴムロールよりなるエンボスロール(1インチあたり150線、深さ40μm、逆グラビア型)に通し、ヒートシール層(B)側に0.17mm間隔のパターンをエンボス加工した。上記四層構造の積層体においては、表面層/コア層/裏面層(D/C/E)が本発明の基層に該当するものである。このエンボス面の三次元中心面平均粗さ(SRa)は2μmであった。   Furthermore, propylene homopolymer (trade name “Novatech PPMA-3”, manufactured by Nippon Polypro Co., Ltd.) 51.5% by weight, high density polyethylene (trade name “Novatech HDHJ580”, Nippon Polyethylene, respectively) using different extruders. A resin composition (E) comprising 3.5% by weight, 42% by weight of calcium carbonate powder having an average particle size of 1.5 μm and 3% by weight of titanium oxide powder having an average particle size of 0.8 μm, and heat sealing As a layer, linear linear polyethylene (resin a) (trade name “Novatech LLUJ580”, melting point 123 ° C., manufactured by Nippon Polyethylene Co., Ltd.) 80% by weight and ethylene / vinyl acetate copolymer (resin b) (melting point 63 ° C.) 20% by weight of the resin composition (B) is melt-kneaded at 200 ° C., supplied to one coextrusion die, laminated in the die, The laminate (D / C) is laminated so that the heat seal layer is the outermost layer on the surface of the laminate (D / C), and has a four-layer structure of surface layer / core layer / back layer / heat seal layer. A laminate (D / C / E / B) was obtained. The heat-seal layer side of the obtained laminate is passed through an embossing roll (150 wires per inch, depth 40 μm, reverse gravure type) made of a metal roll and a rubber roll, and 0.17 mm intervals are provided on the heat-seal layer (B) side. The pattern was embossed. In the laminate having the four-layer structure, the surface layer / core layer / back surface layer (D / C / E) corresponds to the base layer of the present invention. The embossed surface had a three-dimensional center plane average roughness (SRa) of 2 μm.

この四層構造の積層体をテンターオーブンに導き、155℃に加熱した後、テンターを用いて横方向に5倍延伸し、次いで164℃で熱セット(アニーリング)して、さらに55℃迄冷却し耳部をスリットした後に、表面層(D)側にコロナ放電処理を施した。その際の高周波へ変換前の直流電源の電力量を被処理基材の面積で除した値を処理強度とすると、1.5kJ/mであった。その後、ワインダーにてロール状に巻き取り、実施例1の積層樹脂フィルムとした。 This four-layer laminate is guided to a tenter oven, heated to 155 ° C., stretched 5 times in the transverse direction using a tenter, then heat-set (annealed) at 164 ° C., and further cooled to 55 ° C. After slitting the ear, the corona discharge treatment was applied to the surface layer (D) side. When the value obtained by dividing the amount of power of the DC power source before conversion to a high frequency by the area of the substrate to be processed was defined as the processing strength, it was 1.5 kJ / m 2 . Then, it wound up in roll shape with the winder and was set as the laminated resin film of Example 1.

<プラズマ処理>
上記積層樹脂フィルムに、下記条件の大気圧近傍の圧力下でのダイレクト方式プラズマ処理を施した。
一対の電極はそれぞれ板状で、各々長さ100mm、幅150mm、厚さ20mmとなるようステンレス鋼にて製作し、固体誘電体であるセラミックスで被覆した。この電極内部には冷却用の媒体を流すことのできる空洞が設けられており、放電処理中は冷却媒体を循環圧送して一定温度を保つことが出来るようにした。これらの一対の電極は20mmの距離を保持するように固定した。これらの電極間に被処理基材(積層樹脂フィルム)のヒートシール層側が印加側電極に向くように通し、印加側電極と基材間との距離は10mmとなるように調整した。更に電極間に窒素ガスを10.133×10Pa、100l/minにて導入し、基材ロールを30m/minの速度で巻き取ながら、印加側電極に周波数50kHz、パルス継続時間100μsのパルス電圧を印加して被処理基材のヒートシール層にプラズマ放電処理を施した。パルス化前の直流電源の電力量を被処理基材の面積で除した値を処理強度とすると、同プラズマ処理の強度は12kJ/mであった。
<Plasma treatment>
The above-mentioned laminated resin film was subjected to direct plasma treatment under a pressure in the vicinity of atmospheric pressure under the following conditions.
Each of the pair of electrodes has a plate shape, and is made of stainless steel so as to have a length of 100 mm, a width of 150 mm, and a thickness of 20 mm, and is covered with a ceramic that is a solid dielectric. A cavity through which a cooling medium can flow is provided inside the electrode, and the cooling medium can be circulated and pumped to maintain a constant temperature during the discharge process. These pair of electrodes were fixed so as to maintain a distance of 20 mm. The heat treatment layer side of the substrate to be treated (laminated resin film) was directed to the application side electrode between these electrodes, and the distance between the application side electrode and the substrate was adjusted to 10 mm. Further, nitrogen gas was introduced between the electrodes at 10.133 × 10 4 Pa and 100 l / min, and the base roll was wound at a speed of 30 m / min, and a pulse with a frequency of 50 kHz and a pulse duration of 100 μs was applied to the application side electrode. A plasma discharge treatment was applied to the heat seal layer of the substrate to be treated by applying a voltage. When the value obtained by dividing the amount of power of the direct current power source before pulsing by the area of the substrate to be treated was defined as the treatment intensity, the intensity of the plasma treatment was 12 kJ / m 2 .

<印刷>
このようにして得られたプラズマ処理基材の表面層側の表面に、高速凸版ラベル印刷機((株)志機製)およびUVオフセットインキ(商品名「ベストキュアー」、(株)T&K TOKA社製)を使用し、26.4m/minの速度で、商品名、製造元、販売会社名、キャラクター、バーコード、使用方法等をUVシール4色印刷した。更に離型剤を添加したUVグロスOPニスをコートし、紫外線照射して乾燥させた。
<打抜き加工>
このようにして得られた印刷品を一旦、ロール状からシート状に断裁後、長さ11cm、幅9cmのラベル形状に打抜き、インモールド成形用ラベルを得た。
<Printing>
A high-speed letterpress label printing machine (manufactured by Shiki Co., Ltd.) and UV offset ink (trade name “Best Cure”, manufactured by T & K TOKA Corporation) are formed on the surface of the plasma-treated substrate thus obtained. The product name, manufacturer, sales company name, character, barcode, usage method, etc. were printed at 4 speed with a UV seal at a speed of 26.4 m / min. Further, UV gloss OP varnish to which a release agent was added was coated and dried by irradiation with ultraviolet rays.
<Punching>
The printed product thus obtained was once cut from a roll shape into a sheet shape, and then punched into a label shape having a length of 11 cm and a width of 9 cm to obtain an in-mold forming label.

<貼着−1>
このインモールド成形用ラベルをブロー成形用割型の一方に真空を利用して表面層側が金型と接するように固定した後、高密度ポリエチレン(商品名「ノバテックHDHB330」、融点133℃、日本ポリエチレン(株)製)を220℃で溶融押出しパリソンとし、割型間に導入後に割型を型締めし、0.4MPaの圧空をパリソン内に供給し、パリソンを膨脹させて容器状に賦形すると共にインモールド成形用ラベルと熱融着させた。該金型は10℃に冷却しており、約10秒後、型開きをして内容量1,000mlのラベルを貼着した樹脂製容器(本発明のラベル付きインモールド成形体)を得た。樹脂製容器に貼着したラベルの印刷に退色はなく、ラベルの収縮やブリスターの発生も見られなかった。
<Adhesion-1>
After fixing this in-mold molding label to one of the blow molds using a vacuum so that the surface layer side is in contact with the mold, high-density polyethylene (trade name “NOVATEC HDHB330”, melting point 133 ° C., Nippon Polyethylene (Made by Co., Ltd.) is melt-extruded parison at 220 ° C., and the split mold is clamped after being introduced between the split molds, 0.4 MPa of compressed air is supplied into the parison, and the parison is expanded and shaped into a container. At the same time, it was heat-sealed with an in-mold label. The mold was cooled to 10 ° C., and after about 10 seconds, the mold was opened to obtain a resin container (an in-mold molded article with a label of the present invention) on which a label with an internal volume of 1,000 ml was attached. . There was no fading in the printing of the label attached to the resin container, and no shrinkage of the label or generation of blisters was observed.

<貼着−2>
また、このインモールド成形用ラベルをブロー成形用割型の一方に真空を利用して表面層側が金型と接するように固定した後、ポリエチレンテレフタレート(商品名「ユニペットRD383」、融点235℃、日本ユニペット(株)製)を260℃で溶融押出しパリソンとし、割型間に導入後に割型を型締めし、0.5MPaの圧空をパリソン内に供給し、パリソンを膨脹させて容器状に賦形すると共にインモールド成形用ラベルと熱融着させた。該型は15℃に冷却しており、約10秒後、型開きをして内容量1,000mlのラベルを貼着した樹脂製容器(本発明のラベル付きインモールド成形体)を得た。樹脂製容器に貼着したラベルの印刷に退色はなく、ラベルの収縮やブリスターの発生も見られなかった。
<Adhesion-2>
In addition, after fixing this in-mold molding label to one of the blow molds using a vacuum so that the surface layer side is in contact with the mold, polyethylene terephthalate (trade name “Unipet RD383”, melting point 235 ° C., Nippon Unipet Co., Ltd.) was melt-extruded at 260 ° C. into a parison. After being introduced between the split molds, the split mold was clamped, 0.5 MPa of compressed air was supplied into the parison, and the parison was expanded into a container shape. It was shaped and heat-sealed with an in-mold label. The mold was cooled to 15 ° C., and after about 10 seconds, the mold was opened to obtain a resin container (an in-mold molded article with a label of the present invention) on which a label with an internal volume of 1,000 ml was attached. There was no fading in the printing of the label attached to the resin container, and no shrinkage of the label or generation of blisters was observed.

(実施例2)
実施例1において、プラズマ処理の処理強度が半分の6kJ/mとなるよう、処理速度を実施例1の2倍の60m/minにしたこと以外は、実施例1と同じく製造してインモールド成形用ラベルおよびラベル付きインモールド成形体を得た。
(実施例3)
実施例1において、プラズマ処理の処理強度が4分の1の3kJ/mとなるよう、処理速度を実施例1の4倍の120m/minにしたこと以外は、実施例1と同じく製造してインモールド成形用ラベルおよびラベル付きインモールド成形体を得た。
(実施例4)
実施例1において、プラズマ処理の窒素ガスの替わりに空気を導入すること以外は実施例1と同じく製造してインモールド成形用ラベルおよびラベル付きインモールド成形体を得た。
(Example 2)
In Example 1, except that the processing speed was set to 60 m / min, twice that of Example 1, so that the plasma processing intensity was 6 kJ / m 2 , which was half that of Example 1, the in-mold was manufactured. A label for molding and an in-mold molded body with a label were obtained.
(Example 3)
In Example 1, it was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the processing speed was set to 120 m / min, which is four times that in Example 1, so that the processing intensity of the plasma processing was ¼, 3 kJ / m 2. Thus, an in-mold molding label and an in-mold molded body with a label were obtained.
Example 4
In Example 1, a label for in-mold molding and an in-mold molded body with a label were obtained in the same manner as in Example 1 except that air was introduced instead of nitrogen gas for plasma treatment.

(実施例5)
実施例1において、プラズマ処理をダイレクト方式からリモート方式に変えるべく、実施例1と同様な電極を用い、電極間距離を1mmに固定し、電極の平方する2辺を密封して筒状にし、被処理基材である積層樹脂フィルムのロールを一対の電極の外に配置し、これらの電極側に被処理基材(積層樹脂フィルム)のヒートシール層側が向くように配置し、電極と被処理基材との距離を3mmに調整した。更に電極間に窒素ガスを10.133×10Pa、300l/minの流量にてロールの接着層側に吹き付けるように導入した。ロールを5m/minの速度で巻き取りながら、高周波変換前の直流電源の電力量が1kwとなるよう電極に高周波電圧を印加し、処理強度80kJ/mのプラズマ処理を施したこと以外は実施例1と同じく製造してインモールド成形用ラベルおよびラベル付きインモールド成形体を得た。
(Example 5)
In Example 1, in order to change the plasma treatment from the direct method to the remote method, the same electrode as in Example 1 was used, the distance between the electrodes was fixed to 1 mm, and the two sides of the electrode squared were sealed into a cylindrical shape, The roll of the laminated resin film, which is the substrate to be treated, is placed outside the pair of electrodes, and the heat seal layer side of the substrate to be treated (laminated resin film) is directed to these electrodes. The distance from the substrate was adjusted to 3 mm. Further, nitrogen gas was introduced between the electrodes at a flow rate of 10.133 × 10 4 Pa and 300 l / min so as to be blown toward the adhesive layer side of the roll. Implemented except that the roll was wound at a speed of 5 m / min, a high-frequency voltage was applied to the electrode so that the amount of power of the DC power supply before high-frequency conversion was 1 kw, and a plasma treatment with a treatment intensity of 80 kJ / m 2 was performed. In the same manner as in Example 1, an in-mold molding label and an in-mold molded body with a label were obtained.

(実施例6)
実施例1において、ヒートシール層のエンボス面の三次元中心面平均粗さ(SRa)が9μmとなるように、エンボスロール(1インチあたり150線、深さ130μm、逆グラビア型)を変更し、エンボス加工を施したこと以外は実施例1と同じく製造してインモールド成形用ラベルおよびラベル付きインモールド成形体を得た。
(Example 6)
In Example 1, the embossing roll (150 lines per inch, depth 130 μm, reverse gravure type) was changed so that the three-dimensional center plane average roughness (SRa) of the embossed surface of the heat seal layer was 9 μm. Except for embossing, the same production as in Example 1 was carried out to obtain an in-mold molding label and a labeled in-mold molding.

(比較例1)
実施例1において、ヒートシール層にプラズマ処理を施していない以外は実施例1と同じく製造してインモールド成形用ラベルおよびラベル付きインモールド成形体を得た。
(比較例2)
実施例1において、ヒートシール層(B)を設けない以外は実施例1と同じく製造してインモールド成形用ラベルおよびラベル付きインモールド成形体を得た。
(Comparative Example 1)
In Example 1, except that the heat-sealing layer was not subjected to plasma treatment, it was produced in the same manner as in Example 1 to obtain an in-mold molded label and a labeled in-mold molded body.
(Comparative Example 2)
In Example 1, except manufacturing a heat seal layer (B), it manufactured like Example 1 and obtained the label for in-mold fabrication, and the in-mold molded article with a label.

(比較例3)
実施例1において、プラズマ処理の替わりに、コロナ放電処理を用いた。同装置の放電電極の周りを囲い、囲いの中に窒素ガスを10.133×10Pa、80l/minの流量にて導入し、ロールを20m/minの速度で巻き取りながら、高周波へ変換前の直流電源の電力量を被処理基材の面積で除した処理強度が3kJ/mとなるように電極に高周波電圧を印加することで、積層樹脂フィルムのヒートシール層へコロナ放電処理を施したこと以外は実施例1と同じく製造してインモールド成形用ラベルおよびラベル付きインモールド成形体を得た。
(Comparative Example 3)
In Example 1, corona discharge treatment was used instead of plasma treatment. The discharge electrode of the device is enclosed, nitrogen gas is introduced into the enclosure at a flow rate of 10.133 × 10 4 Pa and 80 l / min, and the roll is wound at a speed of 20 m / min and converted to high frequency. Corona discharge treatment is applied to the heat seal layer of the laminated resin film by applying a high frequency voltage to the electrodes so that the treatment intensity obtained by dividing the amount of power of the previous DC power source by the area of the substrate to be treated is 3 kJ / m 2. Except having applied, it manufactured similarly to Example 1, and obtained the label for in-mold shaping | molding, and the in-mold molded object with a label.

(比較例4)
実施例1において、エンボスロールによるエンボス加工を施さないこと以外は実施例1と同じく製造して、ヒートシール層のエンボス面の三次元中心面平均粗さ(SRa)が0.5μmのインモールド成形用ラベルおよびラベル付きインモールド成形体を得た。
(比較例5)
実施例1において、ヒートシール層のエンボス面の三次元中心面平均粗さ(SRa)が12μmとなるように、エンボスロール(1インチあたり150線、深さ170μm、逆グラビア型)を変更し、エンボス加工を施したこと以外は実施例1と同じく製造してインモールド成形用ラベルおよびラベル付きインモールド成形体を得た。
(Comparative Example 4)
In Example 1, except that embossing with an embossing roll was not performed, the same production as in Example 1 was performed, and the three-dimensional center plane average roughness (SRa) of the embossed surface of the heat seal layer was 0.5 μm. Labels and in-mold molded articles with labels were obtained.
(Comparative Example 5)
In Example 1, the embossing roll (150 lines per inch, depth 170 μm, reverse gravure type) was changed so that the three-dimensional center plane average roughness (SRa) of the embossed surface of the heat seal layer was 12 μm. Except for embossing, the same production as in Example 1 was carried out to obtain an in-mold molding label and a labeled in-mold molding.

(比較例6)
実施例1において、ヒートシール層に用いる熱可塑性樹脂として、直鎖線状ポリエチレン(樹脂a)(商品名「ノバテックLLUJ580」、融点123℃、日本ポリエチレン(株)製)80重量%とエチレン・酢酸ビニル共重合体(樹脂c)(融点44℃)20重量%よりなる樹脂組成物を使用したこと以外は実施例1と同じく製造してインモールド成形用ラベルおよびラベル付きインモールド成形体を得た。
(Comparative Example 6)
In Example 1, as a thermoplastic resin used for the heat seal layer, linear linear polyethylene (resin a) (trade name “Novatech LLUJ580”, melting point 123 ° C., manufactured by Nippon Polyethylene Co., Ltd.) 80% by weight, ethylene / vinyl acetate A label for in-mold molding and an in-mold molded body with a label were obtained in the same manner as in Example 1 except that a resin composition comprising 20% by weight of copolymer (resin c) (melting point: 44 ° C.) was used.

(比較例7)
実施例1において、ヒートシール層に用いる熱可塑性樹脂として、高密度ポリエチレン(樹脂d)(商品名「ノバテックHDHJ360」、融点132℃、日本ポリエチレン(株)製)80重量%とエチレン・酢酸ビニル共重合体(樹脂b)(融点63℃)20重量%よりなる樹脂組成物を使用したこと以外は実施例1と同じく製造してインモールド成形用ラベルおよびラベル付きインモールド成形体を得た。
(Comparative Example 7)
In Example 1, as a thermoplastic resin used in the heat seal layer, high-density polyethylene (resin d) (trade name “NOVATEC HDHJ360”, melting point: 132 ° C., manufactured by Nippon Polyethylene Co., Ltd.) 80% by weight and ethylene / vinyl acetate A label for in-mold molding and a labeled in-mold molded body were obtained in the same manner as in Example 1 except that a resin composition comprising 20% by weight of polymer (resin b) (melting point 63 ° C.) was used.

〔試験例〕
上記実施例1〜6および比較例1〜7で製造したインモールド成形用ラベルとラベル付きインモールド成形体について、以下の物性の測定と評価を行った。
〔ヒートシール層の三次元中心面平均粗さ(SRa)〕
JIS−B−0601:2001に基づき、インモールド成形用ラベルのヒートシール層の表面の三次元中心面平均粗さ(SRa)を、三次元粗さ測定機(商品名「SE−3AK」、小坂研究所製)および解析装置(商品名「ModelSPA−11」、小坂研究所製)を用いて測定した。結果を表1に示す。
[Test example]
About the label for in-mold shaping | molding manufactured in the said Examples 1-6 and Comparative Examples 1-7 and the in-mold molded object with a label, the following physical property measurement and evaluation were performed.
[Three-dimensional center plane average roughness (SRa) of heat seal layer]
Based on JIS-B-0601: 2001, the three-dimensional center plane average roughness (SRa) of the surface of the heat seal layer of the label for in-mold molding is measured using a three-dimensional roughness measuring machine (trade name “SE-3AK”, Kosaka And a analyzer (trade name “ModelSPA-11”, manufactured by Kosaka Laboratory). The results are shown in Table 1.

〔原子数構成数比〕
ESCAスペクトロメーター(商品名「ESCA3200型」、島津製作所製)を用いて、入射X線:Mg−Kα線(1250eV)、X線出力:8kv×30mA(出力240W)、測定環境は真空度:約10E−5Paの条件下で、インモールド成形用ラベルのヒートシール層の表面から深さ10nmまでの表層部の炭素の1S軌道スペクトルから求めたピーク面積、同様に求めた窒素の1S軌道スペクトルから求めたピーク面積を測定した。また、この各元素の検出強度から、窒素原子数と炭素原子数の比(N/C)を求めた。結果を表1に示す。
[Atom composition ratio]
Using an ESCA spectrometer (trade name “ESCA3200 type”, manufactured by Shimadzu Corporation), incident X-ray: Mg—Kα ray (1250 eV), X-ray output: 8 kv × 30 mA (output 240 W), measurement environment is a degree of vacuum: about Under the condition of 10E-5 Pa, the peak area obtained from the 1S orbital spectrum of the carbon of the surface layer part from the surface of the heat seal layer of the in-mold molding label to the depth of 10 nm, similarly obtained from the 1S orbital spectrum of nitrogen obtained. The peak area was measured. Further, the ratio of the number of nitrogen atoms to the number of carbon atoms (N / C) was determined from the detected intensity of each element. The results are shown in Table 1.

〔印刷時のムラ〕
上記印刷を施した後、ヒートシール層の粗さの基層側(表面層側)表面への影響による印刷のムラを目視にて観察して以下の評価を行った。結果を表1に示す。
○:注意深く観察しても全く問題がない。
△:注意深く観察するとムラがわかる。
×:通常の目視でもムラがわかる。
[Unevenness during printing]
After the above printing, the following evaluation was performed by visually observing printing unevenness due to the influence of the roughness of the heat seal layer on the base layer side (surface layer side) surface. The results are shown in Table 1.
○: No problem even if observed carefully.
Δ: Unevenness can be seen by careful observation.
X: Unevenness is found even with normal visual inspection.

〔成形金型へのインサート適性〕
上記貼着−1、貼着−2のそれぞれのプロセスにおいて、各100ショットの中空成形におけるラベルの金型への装着状況を以下に示す基準で評価判定した。結果を表1に示す。
○:全て指定された位置に問題なく装着した。
×:装着時にラベルの落下、ラベルの2枚挿し、ラベル指定位置のズレ等の問題がみられた。
[Adaptability to insert molds]
In each process of the sticking-1 and the sticking-2, the attachment state of the label to the mold in each of the 100 shots of hollow molding was evaluated based on the following criteria. The results are shown in Table 1.
○: All installed at the specified position without any problem.
X: There were problems such as dropping of the label at the time of mounting, insertion of two labels, and displacement of the designated label position.

〔ブリスターの発生有無〕
上記貼着−1、貼着−2のそれぞれのプロセスにおいて、得られた容器各20個の貼着されたラベルのブリスター発生状況を以下に示す基準で判定した。
○:全ての容器のブリスター発生がラベル面積の20%未満。
×:1つでもブリスター発生がラベル面積の20%以上の容器がある。
[Blister occurrence]
In each process of the above-mentioned sticking-1 and sticking-2, the blister generation situation of 20 sticking labels each obtained was judged on the standard shown below.
○: Blister generation in all containers is less than 20% of the label area.
X: There is a container where blister generation is 20% or more of the label area.

〔ラベル接着力〕
ラベルが貼着された容器のラベル部分を15mm幅に4点切り取り、そのまま又は下記の条件で浸漬処理した後、貼着したラベル端部の一部を剥がし、引張試験機(商品名「オートグラフAGS−D形」、島津製作所製)を用いて、ラベル部と容器部を200mm/分の引張速度で引き剥がした際の剥離強度(g)を測定し、その平均値を求めて以下に示す基準で判定した。
◎:200g以上
○:150〜200g未満
△:100〜150g未満
×:100g未満
[Label adhesive strength]
Cut the label part of the container with the label pasted into 15 mm width, and immerse it as it is or under the following conditions, and then peel off a part of the pasted label end. AGS-D type "(manufactured by Shimadzu Corporation) was used to measure the peel strength (g) when the label part and the container part were peeled off at a pulling rate of 200 mm / min, and the average value thereof was determined and shown below. Judged by criteria.
◎: 200 g or more ○: 150 to less than 200 g Δ: 100 to less than 150 g ×: less than 100 g

15mm幅に切り取った同サンプルを、そのまま又は下記の各種液体に室温にて24時間漬け込んだ後、評価に支障がないよう、各種液体を拭き落とし、上記手法で接着性(剥離強度)の確認を行い、上記の基準での評価を実施した。
ドライ :漬け込み無し
耐水密着 :水(蒸留水)
耐油密着 :食用油(商品名「日清べに花油」、日清オイリオグループ(株)製)
耐洗剤密着:食器用洗剤(商品名「チャーミーグリーン」、ライオン(株)製)
The same sample cut to a width of 15 mm is immersed in the following various liquids as they are or at room temperature for 24 hours, and then the various liquids are wiped off so that the evaluation is not hindered, and the adhesion (peel strength) is confirmed by the above method. And evaluated according to the above criteria.
Dry: No pickling Water-resistant adhesion: Water (distilled water)
Oil-resistant adhesion: Edible oil (trade name “Nisshin beni flower oil”, manufactured by Nisshin Oilio Group)
Detergent-resistant adhesion: Detergent for tableware (trade name “Charmy Green”, manufactured by Lion Corporation)

Figure 0005334475
Figure 0005334475

本発明は、インモールド成形用ラベルと、それを用いたインモールド成形用ラベル付きインモールド成形体の技術分野で好適に適用できる。   The present invention can be suitably applied in the technical field of an in-mold molding label and an in-mold molding with an in-mold molding label using the same.

Claims (10)

高密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、またはポリエチレンテレフタレートの共重合体、よりなる群より選ばれる1以上の熱可塑性樹脂よりなるブロー成形体に用いるインモールド成形用ラベルであって、該インモールド成形用ラベルが少なくともヒートシール層と基層とを含む積層樹脂フィルムからなり、該ヒートシール層が以下の要件を満足することを特徴とするインモールド成形用ラベル。
(1)空気及び窒素ガスから選ばれるガスを導入し、大気圧近傍の圧力下にてプラズマ処理が施され、成形後の該インモールド成形用ラベルと該ブロー成形体との接着力がドライ、耐水密着、対油密着のいずれにおいても200〜500g/15mmの範囲である、
(2)表面粗さが、三次元中心面平均粗さ(SRa)として1〜10μmである、
(3)融点60〜130℃の熱可塑性樹脂よりなる。
A label for in-mold molding used for a blow molded article made of one or more thermoplastic resins selected from the group consisting of high density polyethylene, low density polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, or a copolymer of polyethylene terephthalate, An in-mold molding label, wherein the in-mold molding label comprises a laminated resin film including at least a heat seal layer and a base layer, and the heat seal layer satisfies the following requirements.
(1) A gas selected from air and nitrogen gas is introduced, plasma treatment is performed under a pressure near atmospheric pressure, and the adhesive strength between the in-mold molding label after molding and the blow molded body is dry, Both water-resistant adhesion and oil adhesion are in the range of 200 to 500 g / 15 mm.
(2) The surface roughness is 1 to 10 μm as the three-dimensional center plane average roughness (SRa).
(3) It consists of a thermoplastic resin having a melting point of 60 to 130 ° C.
該プラズマ処理が、固体誘電体に覆われた一対の対向する電極を用い、この電極間に大気圧近傍の圧力下にてガスを満たした上で、この電極に高周波パルス状電圧を加えてガス中にプラズマを発生させ、この電極間にインモールド成形用ラベルを通過させることでヒートシール層の活性化処理を行なうものであることを特徴とする請求項1に記載のインモールド成形用ラベル。   The plasma treatment uses a pair of opposed electrodes covered with a solid dielectric, and a gas is filled between the electrodes under a pressure near atmospheric pressure, and then a high frequency pulse voltage is applied to the electrodes to form a gas. The in-mold molding label according to claim 1, wherein the heat-sealing layer is activated by generating plasma therein and passing the in-mold molding label between the electrodes. 該プラズマ処理が、少なくとも一方が固体誘電体に覆われた一対の対向する電極を用い、この電極間に大気圧近傍の圧力下にてガスを満たした上で、この電極に高周波電圧を加えてガス中にプラズマを発生させ、該プラズマガスを電極間より外に位置するインモールド成形用ラベルのヒートシール層へ電極より吹き出させて、ヒートシール層の活性化処理を行なうものであることを特徴とする請求項1に記載のインモールド成形用ラベル。   The plasma treatment uses a pair of opposed electrodes, at least one of which is covered with a solid dielectric, and a gas is filled between the electrodes under a pressure near atmospheric pressure, and then a high frequency voltage is applied to the electrodes. Plasma is generated in the gas, and the plasma gas is blown out from the electrode to the heat seal layer of the in-mold molding label located outside between the electrodes, and the heat seal layer is activated. The label for in-mold molding according to claim 1. 該プラズマ処理において使用されるガスが、窒素ガスであることを特徴とする請求項2又は3のいずれか一項に記載のインモールド成形用ラベル。   The in-mold molding label according to any one of claims 2 and 3, wherein a gas used in the plasma treatment is nitrogen gas. 該ヒートシール層の表面から深さ10nmまでの原子構成比が、該プラズマ処理を施すことによって、ESCAを用いた1S軌道スペクトルのピーク面積より求めた窒素原子数
及び炭素原子数の比(N/C)として0.02〜0.07の範囲であることを特徴とした請求項4に記載のインモールド成形用ラベル。
The atomic composition ratio from the surface of the heat seal layer to a depth of 10 nm is the ratio of the number of nitrogen atoms and the number of carbon atoms determined from the peak area of the 1S orbital spectrum using ESCA (N / The in-mold molding label according to claim 4, wherein C) is in the range of 0.02 to 0.07.
ヒートシール層を構成する熱可塑性樹脂が、ポリオレフィン系樹脂であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載のインモールド成形用ラベル。 The in-mold molding label according to any one of claims 1 to 5, wherein the thermoplastic resin constituting the heat seal layer is a polyolefin resin. 該基層が、ポリオレフィン系樹脂を含むことを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載のインモールド成形用ラベル。   The label for in-mold molding according to any one of claims 1 to 6, wherein the base layer contains a polyolefin-based resin. 該基層が、無機微細粉末および有機フィラーの少なくとも1つを含み、且つこれを核として形成された空孔を含むことを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載のインモールド成形用ラベル。   The in-mold molding according to any one of claims 1 to 7, wherein the base layer includes at least one of an inorganic fine powder and an organic filler, and includes pores formed using the core as a core. For labels. 該インモールド成形用ラベル付きブロー成形体を界面活性剤溶液に24時間浸漬した後の該インモールド成形用ラベルと該ブロー成形体との接着力が、150〜300g/15mmであることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載のインモールド成形用ラベル。   The adhesive strength between the in-mold molding label and the blow-molded body after the blow-molded body with the label for in-mold molding is immersed in a surfactant solution for 24 hours is 150 to 300 g / 15 mm, The label for in-mold molding according to any one of claims 1 to 8. 請求項1〜9のいずれか一項に記載のインモールド成形用ラベルを、高密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、またはポリエチレンテレフタレートの共重合体、よりなる群より選ばれる1以上の熱可塑性樹脂よりなるブロー成形体に貼着してなるラベル付きブロー成形体。   The in-mold molding label according to any one of claims 1 to 9, wherein the one or more selected from the group consisting of high-density polyethylene, low-density polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, or a copolymer of polyethylene terephthalate. A blow molded article with a label formed by sticking to a blow molded article made of a thermoplastic resin.
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