JP5321077B2 - Optical waveguide and optical waveguide module - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光導波路および光導波路モジュールに関する。 The present invention relates to an optical waveguide and an optical waveguide module.
従来、通信等の分野において、フィルム状の光導波路が使用されることがある。たとえば、発光素子と、光コネクタとをフィルム状の光導波路にて接続する。 Conventionally, in the field of communication and the like, a film-like optical waveguide is sometimes used. For example, the light emitting element and the optical connector are connected by a film-like optical waveguide.
このような光導波路においては、発光素子や、受光素子等外部の素子との間において、光の伝搬を行う際に、光の伝搬損失を低減させることが求められている。しかしながら、従来の光導波路では、このような要望に応えることが困難である。 In such an optical waveguide, it is required to reduce light propagation loss when light is propagated between light emitting elements and external elements such as light receiving elements. However, it is difficult for conventional optical waveguides to meet such demands.
本発明は、発光素子や、受光素子等の外部の素子との間における光の伝搬損失を低減させることができる光導波路および光導波路モジュールを提供することである。 An object of the present invention is to provide an optical waveguide and an optical waveguide module capable of reducing a propagation loss of light between a light emitting element and an external element such as a light receiving element.
本発明者が検討した結果、コア層の厚みを端部と中心部とで異なるものとすることで、発光素子や、受光素子等の外部の素子との間での光の伝搬損失を低減できることがわかった。なお、従来は、基板上にクラッド層を構成する組成物を塗布するとともに、この組成物上にコア層を構成する組成物を塗布し、クラッド層、コア層を積層させて光導波路を製造している(特許文献1参照)。そのため、従来の光導波路では、コア層の厚みが均一なものとなり、コア層の厚みを端部と中心部とで異なるものとすることはできない。 As a result of the study by the present inventors, it is possible to reduce the propagation loss of light between the light emitting element and the external element such as the light receiving element by making the thickness of the core layer different between the end and the center I understood. Conventionally, an optical waveguide is manufactured by applying a composition constituting a cladding layer on a substrate, applying a composition constituting a core layer on the composition, and laminating the cladding layer and the core layer. (See Patent Document 1). Therefore, in the conventional optical waveguide, the thickness of the core layer is uniform, and the thickness of the core layer cannot be different between the end portion and the central portion.
本発明によれば、上部クラッド層および下部クラッド層と、前記上部クラッド層と、前記下部クラッド層とに挟まれたコア層とを備え、所定方向に沿って延在する光導波路において、当該光導波路は、前記上部クラッド層、前記コア層および前記下部クラッド層が形成された感光性樹脂フィルムを備え、前記上部クラッド層、前記下部クラッド層または前記コア層は前記感光性樹脂フィルムに光を照射することによって形成されたものであり、当該光導波路の前記延在方向と交差する一端面が、前記上部クラッド層側から前記下部クラッド層側に向かって傾斜する傾斜面とされ、前記コア層の延在方向中心部における厚みと、前記コア層の端部のうち、前記傾斜面側の一方の端部の厚みとが異なっており、前記上部クラッド層および前記下部クラッド層は、前記感光性樹脂フィルムのフィルム面に対して光を照射した照射領域および光が照射されていない未照射領域のうちのいずれか一方の領域であり、前記コア層は前記感光性樹脂フィルムのフィルム面に対して光を照射した照射領域および光が照射されていない未照射領域のうちのいずれか他方の領域であり、前記上部クラッド層の光導波路延在方向に沿った側面、前記コア層の光導波路延在方向に沿った側面および前記下部クラッド層の光導波路延在方向に沿った側面が前記感光性フィルムのフィルム面を構成している光導波路が提供される。
According to the present invention, the upper cladding layer and lower cladding layer, said upper cladding layer, wherein a lower clad layer and the core sandwiched between layers, in the optical waveguide extending along the predetermined direction, the light guide The waveguide includes a photosensitive resin film in which the upper cladding layer, the core layer, and the lower cladding layer are formed, and the upper cladding layer, the lower cladding layer, or the core layer irradiates the photosensitive resin film with light. The one end surface intersecting with the extending direction of the optical waveguide is an inclined surface inclined from the upper cladding layer side toward the lower cladding layer side, and the thickness in the extending direction center of the end portion of the core layer is different to the thickness of one end portion of the inclined surface side, before Symbol upper cladding layer and the lower Rudd layer is one area one of the non-irradiated region irradiated region and the light is irradiated with light to the film plane of said photosensitive resin film is not irradiated, the core layer is the photosensitive resin is any other region of the non-irradiated region irradiated region and the light is irradiated with light to the film plane of the film is not irradiated, the upper cladding layer optical waveguide extending direction along the side surface of the There is provided an optical waveguide in which a side surface along the optical waveguide extending direction of the core layer and a side surface along the optical waveguide extending direction of the lower cladding layer constitute the film surface of the photosensitive film.
この発明によれば、コア層の厚みを、端部と中心部とで異なるものとすることで、発光素子や、受光素子等の外部の素子との間での光の伝搬損失を低減できる。
たとえば、コア層の端部の厚みを中心部よりも薄くし、端部側に受光素子を配置すれば、コア層内を伝搬する光を絞り込んで、受光素子に確実に入射させることができる。
一方、コア層の端部の厚みを中心部よりも厚くし、端部側に発光素子を配置すれば、発光素子から発生する光をコア層内に確実に導くことが可能となる。そして、コア層内において、光を絞り込んで伝搬することができる。
According to the present invention, by making the thickness of the core layer different between the end portion and the central portion, it is possible to reduce the light propagation loss between the light emitting element and the external element such as the light receiving element.
For example, if the thickness of the end portion of the core layer is made thinner than the center portion and the light receiving element is disposed on the end side, the light propagating in the core layer can be narrowed down and reliably incident on the light receiving element.
On the other hand, if the thickness of the end portion of the core layer is made thicker than the center portion and the light emitting element is arranged on the end side, light generated from the light emitting element can be reliably guided into the core layer. In the core layer, light can be narrowed and propagated.
さらに、たとえば、コア層の端部の厚みを厚くして、下部クラッド層を貫通するような形状とすれば、外部の光素子と、コア層間の光の伝搬をより確実に行うことができる。 Furthermore, for example, if the thickness of the end of the core layer is increased so as to penetrate the lower cladding layer, light can be more reliably propagated between the external optical element and the core layer.
また、本発明によれば、発光素子と、受光素子と、前記発光素子および前記受光素子を接続する光導波路とを備え、前記光導波路が、上述した光導波路である光導波路モジュールも提供できる。 In addition, according to the present invention, it is possible to provide an optical waveguide module that includes a light emitting element, a light receiving element, and an optical waveguide connecting the light emitting element and the light receiving element, and the optical waveguide is the above-described optical waveguide.
本発明によれば、発光素子や、受光素子等外部の素子との間において、光の伝搬を行う際に、光の伝搬損失を低減させることができる光導波路および光導波路モジュールが提供される。 According to the present invention, there are provided an optical waveguide and an optical waveguide module capable of reducing the propagation loss of light when light is propagated between external elements such as a light emitting element and a light receiving element.
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。尚、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。
(第一実施形態)
(光導波路)
はじめに、図1を参照し、本実施形態の光導波路3の概要について説明する。
本実施形態の光導波路3は、上部クラッド層33および下部クラッド層31と、上部クラッド層33と、下部クラッド層31とに挟まれたコア層32とを備え、所定方向に沿って延在するものである。
光導波路3は、延在方向と交差する一対の端面(フィルム端面)が傾斜面となっている。この傾斜面は、上部クラッド層33の端面、コア層32の端面、下部クラッド層31の端面で構成され、上部クラッド層33側から、下部クラッド層31側に向かって外側に傾斜している。この傾斜面と、コア層32内の光軸(光導波路3の延在方向に沿った軸)とがなす角度は約45度である。
また、コア層32の延在方向中心部の厚みと、コア層32の端部の厚みとが異なっている。さらに、この光導波路3は可とう性を有したフィルムである。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In all the drawings, the same reference numerals are given to the same components, and the description will be omitted as appropriate.
(First embodiment)
(Optical waveguide)
First, the outline of the
The
In the
Further, the thickness of the central portion of the
次に、本実施形態の光導波路3について詳細に説明する。
図1に示すように、光導波路3は、フィルム面側からみて一方向に延在する上部クラッド層33と、上部クラッド層33とともに一方向に延在するコア層32と、コア層32とともに一方向に延在する下部クラッド層31を有する。フィルム面側からみて、上部クラッド層33、コア層32、下部クラッド層31が積層された構造となっている。
下部クラッド層31は一方向に延在するとともに、その厚み(光導波路3の高さ方向に沿った厚み)は、一方の端部から他方の端部に向かって厚くなっている。
同様に、上部クラッド層33は一方向に延在するとともに、その厚み(光導波路3の高さ方向に沿った厚み)は、一方の端部から他方の端部に向かって厚くなっている。
一方、コア層32では、コア層32の延在方向中心部における厚み(光導波路3の高さ方向に沿った厚み)と、端部の厚みとが異なっている。具体的には、本実施形態では、コア層32の厚みは、一方の端部側から、他方の端部側に向かって徐々に薄くなっている。すなわち、コア層32は正面側(フィルム表面側)から見て、その厚みが漸次変化し、一方の端部側から、他方の端部側に向かって厚みが連続的に薄くなっている。コア層32の上面、下面は、コア層32の一方の端部側から他方の側に向かって傾斜した傾斜面で構成される。
Next, the
As shown in FIG. 1, the
The
Similarly, the
On the other hand, in the
ここで、下部クラッド層31の下面から上部クラッド層33の上面までの高さ方向に沿った厚みAと、光導波路3の高さ方向と直交するとともに延在方向と直交する光導波路3の幅寸法Bとの比であるA/Bは2以上であることが好ましい。
なかでも、A/Bは、光導波路3の製造性の観点から、5以上であることが好ましく、また、A/Bは、10以下であることが好ましい。
なお、幅寸法Bは、光導波路3のフィルム厚みに該当する。
Here, the thickness A along the height direction from the lower surface of the
Among these, A / B is preferably 5 or more from the viewpoint of manufacturability of the
The width dimension B corresponds to the film thickness of the
(光導波路3の製造方法)
次に、図2〜図4を参照して、光導波路3の製造方法について説明する。
はじめに、図2に示すように、フィルム34を用意する。
このフィルム34は、表面側からみて、クラッド層341とコア層342とが、交互に配置されたものである。クラッド層341と、コア層342はそれぞれ複数づつ形成されている。コア層342は、光導波路3のコア層32となるものであり、クラッド層341は、光導波路3の上部クラッド層33、下部クラッド層31となるものである。
フィルム34の厚みは、50〜500μm程度であり、この厚みが、光導波路3の幅寸法Bに該当することとなる。
(Manufacturing method of the optical waveguide 3)
Next, a method for manufacturing the
First, as shown in FIG. 2, a
The
The thickness of the
ここで、このようなフィルム34の製造方法について一例をあげて説明する。
はじめに、フィルム34の原料となる組成物を作製する。
この組成物は、感光性樹脂組成物であり、たとえば(A)環状オレフィン樹脂と、(B)(A)とは屈折率が異なり、かつ、環状エーテル基を有するモノマーおよび環状エーテル基を有するオリゴマーのうち少なくともいずれか一方と、(C)光酸発生剤と、を備える。
(A)環状オレフィン樹脂
(A)の環状オレフィン樹脂は、感光性樹脂組成物のフィルム成形性を確保するために添加されるものであり、ベースポリマーとなるものである。
ここで、環状オレフィン樹脂は、無置換のものであってもよいし、水素が他の基により置換されたものであってもよい。環状オレフィン樹脂としては、たとえばノルボルネン系樹脂や、ベンゾシクロブテン系樹脂である。
なかでも、耐熱性、透明性等の観点からノルボルネン系樹脂を使用することが好ましい。
Here, an example is given and demonstrated about the manufacturing method of such a
First, a composition as a raw material for the
This composition is a photosensitive resin composition, for example, (A) a cyclic olefin resin and (B) a monomer having a cyclic ether group and an oligomer having a cyclic ether group that have a refractive index different from that of (A). And (C) a photoacid generator.
(A) Cyclic olefin resin The cyclic olefin resin of (A) is added in order to ensure the film moldability of the photosensitive resin composition, and serves as a base polymer.
Here, the cyclic olefin resin may be unsubstituted, or hydrogen may be substituted with another group. Examples of the cyclic olefin resin include norbornene resins and benzocyclobutene resins.
Especially, it is preferable to use norbornene-type resin from viewpoints, such as heat resistance and transparency.
ノルボルネン系樹脂としては、例えば、
(1)ノルボルネン型モノマーを付加(共)重合して得られるノルボルネン型モノマーの付加(共)重合体、
(2)ノルボルネン型モノマーとエチレンやα−オレフィン類との付加共重合体、
(3)ノルボルネン型モノマーと非共役ジエン、および必要に応じて他のモノマーとの付加共重合体のような付加重合体、
(4)ノルボルネン型モノマーの開環(共)重合体、および必要に応じて該(共)重合体を水素添加した樹脂、
(5)ノルボルネン型モノマーとエチレンやα−オレフィン類との開環共重合体、および必要に応じて該(共)重合体を水素添加した樹脂、
(6)ノルボルネン型モノマーと非共役ジエン、または他のモノマーとの開環共重合体、および必要に応じて該(共)重合体を水素添加したポリマーのような開環重合体が挙げられる。これらの重合体としては、ランダム共重合体、ブロック共重合体、交互共重合体等が挙げられる。
As norbornene resin, for example,
(1) addition (co) polymer of norbornene type monomer obtained by addition (co) polymerization of norbornene type monomer,
(2) an addition copolymer of a norbornene monomer and ethylene or α-olefins,
(3) an addition polymer such as an addition copolymer of a norbornene-type monomer and a non-conjugated diene and, if necessary, another monomer;
(4) a ring-opening (co) polymer of a norbornene-type monomer, and a resin obtained by hydrogenating the (co) polymer if necessary,
(5) a ring-opening copolymer of a norbornene-type monomer and ethylene or α-olefins, and a resin obtained by hydrogenating the (co) polymer if necessary,
(6) Ring-opening copolymers such as norbornene-type monomers and non-conjugated dienes, or other monomers, and polymers obtained by hydrogenating the (co) polymers as necessary. Examples of these polymers include random copolymers, block copolymers, and alternating copolymers.
これらのノルボルネン系樹脂は、例えば、開環メタセシス重合(ROMP)、ROMPと水素化反応との組み合わせ、ラジカルまたはカチオンによる重合、カチオン性パラジウム重合開始剤を用いた重合、これ以外の重合開始剤(例えば、ニッケルや他の遷移金属の重合開始剤)を用いた重合等、公知のすべての重合方法で得ることができる。 These norbornene resins include, for example, ring-opening metathesis polymerization (ROMP), combination of ROMP and hydrogenation reaction, polymerization by radical or cation, polymerization using cationic palladium polymerization initiator, other polymerization initiators ( For example, it can be obtained by any known polymerization method such as polymerization using a polymerization initiator of nickel or another transition metal).
これらの中でも、ノルボルネン系樹脂としては、付加(共)重合体が好ましい。付加(共)重合体は、透明性、耐熱性および可撓性に富むことからも好ましい。
なかでも、ノルボルネン系樹脂は、重合性基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位や、アリール基を含む置換基を有するノルボンネンの繰り返し単位を含むものが好ましい。
Among these, as the norbornene-based resin, an addition (co) polymer is preferable. Addition (co) polymers are also preferred because they are rich in transparency, heat resistance and flexibility.
Among these, the norbornene-based resin preferably includes a norbornene repeating unit having a substituent containing a polymerizable group and a norbornene repeating unit having a substituent containing an aryl group.
重合性基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位としては、エポキシ基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位、(メタ)アクリル基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位、および、アルコキシシリル基を含む置換基を有するノルボルネンの繰り返し単位がのうちの少なくとも1種が好適である。これらの重合性基は、各種重合性基の中でも、反応性が高いことから好ましい。 As the repeating unit of norbornene having a substituent containing a polymerizable group, the repeating unit of norbornene having a substituent containing an epoxy group, the repeating unit of norbornene having a substituent containing a (meth) acryl group, and an alkoxysilyl group At least one of the repeating units of norbornene having a substituent containing is preferable. These polymerizable groups are preferable because of their high reactivity among various polymerizable groups.
また、このような重合性基を含むノルボルネンの繰り返し単位を、2種以上含むものを用いれば、可撓性と耐熱性の両立を図ることが出来る。 Moreover, if the thing containing 2 or more types of norbornene repeating units containing such a polymeric group is used, both flexibility and heat resistance can be achieved.
一方、アリール基を含む置換基を有するノルボンネンの繰り返し単位を含むことにより、アリール基は、疎水性が極めて高いため、吸水による寸法変化等をより確実に防止することができる。 On the other hand, by including a norbornene repeating unit having a substituent containing an aryl group, the aryl group has extremely high hydrophobicity, so that dimensional change due to water absorption can be prevented more reliably.
さらに、ノルボルネン系ポリマーは、アルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むものが好ましい。なお、アルキル基は、直鎖状または分岐状のいずれであってもよい。 Furthermore, the norbornene-based polymer preferably contains an alkylnorbornene repeating unit. The alkyl group may be linear or branched.
アルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むことにより、ノルボルネン系ポリマーは、柔軟性が高くなるため、高いフレキシビリティ(可撓性)を付与することができる。 By including the repeating unit of alkyl norbornene, the norbornene-based polymer has high flexibility, and thus can provide high flexibility (flexibility).
また、アルキルノルボルネンの繰り返し単位を含むノルボルネン系ポリマーは、特定の波長領域(特に、850nm付近の波長領域)の光に対する透過率が優れることからも好ましい。 A norbornene-based polymer containing an alkylnorbornene repeating unit is also preferable because of its excellent transmittance with respect to light in a specific wavelength region (particularly, a wavelength region near 850 nm).
以上のようなノルボルネン系樹脂は、脱離性基を有するものであることが好ましい。ここで、脱離性基とは、酸の作用により離脱するものである。
具体的には、分子構造中に、−O−構造、−Si−アリール構造および−O−Si−構造のうちの少なくとも1つを有するものが好ましい。かかる酸離脱性基は、カチオンの作用により比較的容易に離脱する。
具体的には、以下のようなノルボルネン系樹脂を使用することが好ましい。(1)に示される化合物はたとえば、ヘキシルノルボルネン(HxNB)と、ジフェニルメチルノルボルネン メトキシシランとをNi触媒下で反応させることで得ることができる。
The norbornene-based resin as described above preferably has a leaving group. Here, the leaving group is a group that is released by the action of an acid.
Specifically, those having at least one of an —O— structure, an —Si—aryl structure, and an —O—Si— structure in the molecular structure are preferable. Such an acid leaving group is released relatively easily by the action of a cation.
Specifically, it is preferable to use the following norbornene resin. The compound represented by (1) can be obtained, for example, by reacting hexylnorbornene (HxNB) with diphenylmethylnorbornene methoxysilane under a Ni catalyst.
(R7は、炭素数1〜10のアルキル基を表し、iは、0〜3の整数を表し、p5/q5が20以下である) (R7 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, i is an integer of 0~3, p 5 / q 5 is 20 or less)
((B)環状エーテル基を有するモノマー、環状エーテル基を有するオリゴマー)
次に、(B)の成分について説明する。
(B)は、環状エーテル基を有するモノマーおよび環状エーテル基を有するオリゴマーのうち少なくともいずれか一方である。この成分(B)は、(A)の樹脂と屈折率が異なり、かつ、(A)の樹脂と相溶性のあるものであればよい。成分(B)と、(A)の樹脂との屈折率差は、0.01以上であることが好ましい。
なお、成分(B)の屈折率は、(A)の樹脂よりも高いものであってもよいが、成分(B)は、(A)の樹脂よりも屈折率が低いことが好ましい。
((B) Monomer having a cyclic ether group, oligomer having a cyclic ether group)
Next, the component (B) will be described.
(B) is at least one of a monomer having a cyclic ether group and an oligomer having a cyclic ether group. The component (B) may be any component that has a refractive index different from that of the resin (A) and is compatible with the resin (A). The refractive index difference between the component (B) and the resin (A) is preferably 0.01 or more.
The refractive index of the component (B) may be higher than that of the resin (A), but the component (B) preferably has a lower refractive index than that of the resin (A).
(B)の環状エーテル基を有するモノマー、環状エーテル基を有するオリゴマーは、酸の存在下において開環により重合するものである。モノマー、オリゴマーの拡散性を考慮すると、このモノマーの分子量(重量平均分子量)、オリゴマーの分子量(重量平均分子量)は、それぞれ100以上、400以下であることが好ましい。
(B)は、たとえば、オキセタニル基あるいは、エポキシ基を有する。このような環状エーテル基は、酸により開環しやすいため、好ましい。
The monomer having a cyclic ether group (B) and the oligomer having a cyclic ether group are polymerized by ring-opening in the presence of an acid. Considering the diffusibility of the monomer and oligomer, the molecular weight (weight average molecular weight) of the monomer and the molecular weight (weight average molecular weight) of the oligomer are preferably 100 or more and 400 or less, respectively.
(B) has, for example, an oxetanyl group or an epoxy group. Such a cyclic ether group is preferable because it is easily opened by an acid.
オキセタニル基を有するモノマー、オキセタニル基を有するオリゴマーとしては、たとえば、式(2)や、式(3)が使用できる。これらを使用することで波長850nm近傍での透明性に優れ、可撓性と耐熱性の両立が可能という利点がある。また、これらを単独でも混合して用いても差し支えない。式(2)や、式(3)としては、東亜合成製、DOX、CAS#18934−00−4、東亜合成製 CHOX、CAS#483303−25−9等がある。 As the monomer having an oxetanyl group and the oligomer having an oxetanyl group, for example, Formula (2) or Formula (3) can be used. By using these, there is an advantage that transparency is excellent in the vicinity of a wavelength of 850 nm and that both flexibility and heat resistance are possible. These may be used alone or in combination. Examples of the formula (2) and the formula (3) include Toa Gosei Co., Ltd., DOX, CAS # 18934-00-4, Toa Gosei Co., Ltd. CHOX, CAS # 483303-25-9, and the like.
また、エポキシ基を有するモノマー、エポキシ基を有するオリゴマーとしては、たとえば、以下のようなものがあげられる。このエポキシ基を有するモノマー、オリゴマーは、酸の存在下において開環により重合するものである。
エポキシ基を有するモノマー、エポキシ基を有するオリゴマーとしては、エポキシノルボルネン(プロメラス社製 EpNB)、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(東レ・ダウコーニング・シリコーン社製 Z−6040)、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン(東京化成製 E0327)を使用することができる。
さらに、3、4-エポキシシクロヘキセニルメチル-3'、4'-エポキシシクロヘキセンカルボキシレート(ダイセル化学社製 セロキサイド2021P)や、1,2-エポキシ-4-ビニルシクロヘキサン(ダイセル化学社製 セロキサイド2000)、1,2:8,9ジエポキシリモネン(ダイセル化学社製 セロキサイド3000)を使用することができる。
この(B)成分は、(A)成分100重量部に対し1重量部以上、50重量部以下であることが好ましい。なかでも2重量部以上、20重量部以下が好ましい。これにより、コア/クラッド間の屈折率変調を可能にし、可撓性と耐熱性との両立が図れるという効果がある。
Examples of the monomer having an epoxy group and the oligomer having an epoxy group include the following. The monomer and oligomer having an epoxy group are polymerized by ring-opening in the presence of an acid.
As an epoxy group-containing monomer and an epoxy group-containing oligomer, epoxy norbornene (ProNB's EpNB), γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (Toray Dow Corning Silicone's Z-6040), 2- (3 , 4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane (E0327 manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) can be used.
Furthermore, 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexenecarboxylate (Delcel Chemical Co., Celoxide 2021P), 1,2-epoxy-4-vinylcyclohexane (Daicel Chemical Co., Celoxide 2000), 1,2: 8,9 diepoxy limonene (Delcel Chemical Co., Celoxide 3000) can be used.
The component (B) is preferably 1 part by weight or more and 50 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the component (A). Of these, 2 parts by weight or more and 20 parts by weight or less are preferable. Thereby, the refractive index modulation between the core and the clad is possible, and there is an effect that both flexibility and heat resistance can be achieved.
((C)光酸発生剤)
光酸発生剤 としては、光のエネルギーを吸収してブレンステッド酸あるいはルイス酸を生成するものであれば良く、例えば、トリフェニルスルフォニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリス(4−t−ブチルフェニル)スルホニウム−トリフルオロメタンスルホネートなどのスルホニウム塩類、p−ニトロフェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェートなどのジアゾニウム塩類、アンモニウム塩類、ホスホニウム塩類、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、(トリキュミル)ヨードニウム−テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートなどのヨードニウム塩類、キノンジアジド類、ビス(フェニルスルホニル)ジアゾメタンなどのジアゾメタン類、1−フェニル−1−(4−メチルフェニル)スルホニルオキシ−1−ベンゾイルメタン、N−ヒドロキシナフタルイミド−トリフルオロメタンサルホネートなどのスルホン酸エステル類、ジフェニルジスルホンなどのジスルホン類、トリス(2,4,6−トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3.4−メチレンジオキシフェニル)−4,6−ビス−(トリクロロメチル)−s−トリアジンなどのトリアジン類などの化合物を挙げることができる。これらの光酸発生剤 は、単独、または複数を組み合わせて使用することができる。
((C) Photoacid generator)
Any photoacid generator may be used as long as it absorbs light energy to generate Bronsted acid or Lewis acid. For example, triphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate, tris (4-t-butylphenyl) sulfonium- Sulfonium salts such as trifluoromethanesulfonate, diazonium salts such as p-nitrophenyldiazonium hexafluorophosphate, ammonium salts, phosphonium salts, diphenyliodonium trifluoromethanesulfonate, iodonium salts such as (triccumyl) iodonium-tetrakis (pentafluorophenyl) borate, Quinonediazides, diazomethanes such as bis (phenylsulfonyl) diazomethane, 1-phenyl-1- (4-methylphenyl) sulfonyl Sulfonic esters such as oxy-1-benzoylmethane and N-hydroxynaphthalimide-trifluoromethanesulfonate, disulfones such as diphenyldisulfone, tris (2,4,6-trichloromethyl) -s-triazine, 2- ( And compounds such as triazines such as 3.4-methylenedioxyphenyl) -4,6-bis- (trichloromethyl) -s-triazine. These photoacid generators can be used alone or in combination.
光酸発生剤 の含有量は、(A)成分100重量部に対し0.01重量部以上、0.3重量部以下であることが好ましい。なかでも、0.02重量部以上、0.2重量部以下が好ましい。これにより、反応性の向上という効果がある。 The content of the photoacid generator is preferably 0.01 parts by weight or more and 0.3 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the component (A). Especially, 0.02 weight part or more and 0.2 weight part or less are preferable. Thereby, there exists an effect of a reactive improvement.
感光性樹脂組成物は、以上の(A)、(B)、(C)の成分に加えて、増感剤等の添加剤を含有していてもよい。
増感剤は、光に対する光酸発生剤の感度を増大して、光酸発生剤の活性化(反応または分解)に要する時間やエネルギーを減少させる機能や、光酸発生剤の活性化に適する波長に光の波長を変化させる機能を有するものである。
このような増感剤としては、光酸発生剤の感度や増感剤の吸収のピーク波長に応じて適宜選択され、特に限定されないが、たとえば、9,10−ジブトキシアントラセン(CAS番号第76275−14−4番)のようなアントラセン類、キサントン類、アントラキノン類、フェナントレン類、クリセン類、ベンツピレン類、フルオラセン類(fluoranthenes)、ルブレン類、ピレン類、インダンスリーン類、チオキサンテン−9−オン類(thioxanthen-9-ones)が挙げられ、これらを単独または混合物として用いられる。
The photosensitive resin composition may contain additives such as a sensitizer in addition to the above components (A), (B), and (C).
The sensitizer increases the sensitivity of the photoacid generator to light and is suitable for reducing the time and energy required for activation (reaction or decomposition) of the photoacid generator and for activating the photoacid generator. It has a function of changing the wavelength of light to a wavelength.
Such a sensitizer is appropriately selected according to the sensitivity of the photoacid generator and the peak wavelength of absorption of the sensitizer, and is not particularly limited. For example, 9,10-dibutoxyanthracene (CAS No. 76275) is selected. -14-4) anthracenes, xanthones, anthraquinones, phenanthrenes, chrysene, benzpyrenes, fluoranthenes, rubrenes, pyrenes, indanthrines, thioxanthen-9-one (Thioxanthen-9-ones) are used alone or as a mixture.
増感剤の具体例としては、2−イソプロピル−9H−チオキサンテン−9−オン、4−イソプロピル−9H−チオキサンテン−9−オン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、フェノチアジン(phenothiazine)またはこれらの混合物が挙げられる。
増感剤の含有量は、感光性樹脂組成物中で、0.01重量%以上であるのが好ましく、0.5重量%以上であるのがより好ましく、1重量%以上であるのがさらに好ましい。なお、上限値は、5重量%以下であるのが好ましい。
Specific examples of the sensitizer include 2-isopropyl-9H-thioxanthen-9-one, 4-isopropyl-9H-thioxanthen-9-one, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, phenothiazine, and these Of the mixture.
The content of the sensitizer in the photosensitive resin composition is preferably 0.01% by weight or more, more preferably 0.5% by weight or more, and further preferably 1% by weight or more. preferable. In addition, it is preferable that an upper limit is 5 weight% or less.
次に、以上のような感光性樹脂組成物を使用してフィルム34を製造する方法について説明する。
ここでは、成分(B)が、(A)環状オレフィン樹脂よりも屈折率が低い感光性樹脂組成物を使用する。
Next, a method for producing the
Here, the photosensitive resin composition whose component (B) has a refractive index lower than (A) cyclic olefin resin is used.
はじめに、図3(A)に示すように、感光性樹脂組成物を、溶媒に溶かしてワニス20を構成し、このワニス20を基材S上に塗布する。
感光性樹脂組成物をワニス状に調整する溶媒としては、たとえば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2−ジメトキシエタン(DME)、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン(THF)、テトラヒドロピラン(THP)、アニソール、ジエチレングリコールジメチルエーテル(ジグリム)、ジエチレングリコールエチルエーテル(カルビトール)などのエーテル系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、フェニルセロソルブなどのセロソルブ系溶媒、ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、トルエン、キシレン、ベンゼン、メシチレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ピリジン、ピラジン、フラン、ピロール、チオフェン、メチルピロリドンなどの芳香族複素環化合物系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMA)などのアミド系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタンなどのハロゲン化合物系溶媒、酢酸エチル、酢酸メチル、ギ酸エチルなどのエステル系溶媒、ジメチルスルホキシド(DMSO)、スルホランなどの硫黄化合物系溶媒の各種有機溶媒、または、これらを含む混合溶媒が挙げられる。
First, as shown in FIG. 3A, the photosensitive resin composition is dissolved in a solvent to form the
Examples of the solvent for adjusting the photosensitive resin composition to varnish include, for example, diethyl ether, diisopropyl ether, 1,2-dimethoxyethane (DME), 1,4-dioxane, tetrahydrofuran (THF), tetrahydropyran (THP), Ether solvents such as anisole, diethylene glycol dimethyl ether (diglyme), diethylene glycol ethyl ether (carbitol), cellosolv solvents such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, phenyl cellosolve, aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, pentane, heptane, cyclohexane , Toluene, xylene, benzene, mesitylene and other aromatic hydrocarbon solvents, pyridine, pyrazine, furan, pyrrole, thiophene, methylpyrrolidone and other aromatic heterocyclic compounds Amide solvents such as N, N-dimethylformamide (DMF) and N, N-dimethylacetamide (DMA), halogen compound solvents such as dichloromethane, chloroform and 1,2-dichloroethane, ethyl acetate, methyl acetate, ethyl formate, etc. Ester solvents, various organic solvents such as sulfur compound solvents such as dimethyl sulfoxide (DMSO) and sulfolane, or mixed solvents containing them.
次に、基材S上にワニス20を塗布した後、乾燥させて、溶媒を蒸発(脱溶媒)させる。これにより、図3(B)に示すように、ワニス20は、光導波路形成用のフィルム340Aとなる。
ここで、ワニス20を塗布する方法としては、たとえば、ドクターブレード法、スピンコート法、ディッピング法、テーブルコート法、スプレー法、アプリケーター法、カーテンコート法、ダイコート法の方法が挙げられるが、これらに限定されるわけではない。
Next, after apply | coating the
Here, examples of the method for applying the
次に、フィルム340Aに対し、選択的に光(たとえば、紫外線)を照射する。
図4(A)に示すように、フィルム340Aの上方に開口が形成されたマスクMを配置する。このマスクMの開口を介して、フィルム340Aに対し、光を照射する。
フィルム340Aのうち、光が照射された領域では、光酸発生剤から酸が発生することとなる。発生した酸により、成分(B)が重合する。
光が照射されていない領域では、光酸発生剤から酸が発生しないため、成分(B)は重合しない。照射部分では、成分(B)が重合しポリマーとなるため、成分(B)量が少なくなる。これにより、未照射部分の成分(B)が照射部分に拡散し、これにより、照射部分と未照射部分とで屈折率差が生じる。
ここで、成分(B)が、環状オレフィン樹脂よりも屈折率が低い場合には、未照射部分の成分(B)が照射部分に拡散することで、未照射部分の屈折率が高くなるとともに、照射部分の屈折率は低くなる。
なお、成分(B)が重合したポリマーと、環状エーテル基を有するモノマーとの屈折率差は、0以上、0.001以下程度であり、屈折率は略同じであると考えられる。
Next, light (for example, ultraviolet rays) is selectively applied to the
As shown in FIG. 4A, a mask M in which an opening is formed is disposed above the
In the film 340 </ b> A, in the region irradiated with light, an acid is generated from the photoacid generator. The component (B) is polymerized by the generated acid.
In the region not irradiated with light, no acid is generated from the photoacid generator, so that component (B) is not polymerized. In the irradiated part, since the component (B) is polymerized to become a polymer, the amount of the component (B) is reduced. Thereby, the component (B) of an unirradiated part diffuses to an irradiated part, and thereby a refractive index difference occurs between the irradiated part and the unirradiated part.
Here, when the component (B) has a lower refractive index than the cyclic olefin resin, the component (B) of the unirradiated part diffuses into the irradiated part, and the refractive index of the unirradiated part increases. The refractive index of the irradiated part is lowered.
In addition, the refractive index difference between the polymer obtained by polymerizing the component (B) and the monomer having a cyclic ether group is about 0 or more and 0.001 or less, and the refractive indexes are considered to be substantially the same.
さらに、(A)として、脱離性基を有する環状オレフィン樹脂を使用している場合には、以下の作用が生じる。
光を照射した部分では、光酸発生剤から発生した酸により、環状オレフィン樹脂の脱離性基が脱離することとなる。−Si−アリール構造、−Si−ジフェニル構造および−O−Si−ジフェニル構造等の脱離性基の場合、離脱により樹脂の屈折率が低下することとなる。そのため、照射部分の屈折率は低下することとなる。
Further, when a cyclic olefin resin having a leaving group is used as (A), the following action occurs.
In the portion irradiated with light, the leaving group of the cyclic olefin resin is eliminated by the acid generated from the photoacid generator. In the case of a leaving group such as a -Si-aryl structure, a -Si-diphenyl structure, and a -O-Si-diphenyl structure, the refractive index of the resin decreases due to the leaving. For this reason, the refractive index of the irradiated portion is lowered.
このように本実施形態の感光性樹脂組成物を使用した場合には、光酸発生剤から発生する酸により、成分(B)の重合を開始させることが可能である。 Thus, when the photosensitive resin composition of this embodiment is used, it is possible to start superposition | polymerization of a component (B) with the acid generate | occur | produced from a photo-acid generator.
次に、フィルム340Aを加熱する。この加熱工程において、光を照射した照射部分の成分(B)がさらに重合する。一方で、この加熱工程において、未照射部分の成分(B)は揮発することとなる。これにより、未照射部分では、成分(B)が少なくなり、環状オレフィン樹脂に近い屈折率となる。
Next, the
このフィルム340Aにおいては、図4(B)に示すように、光が照射された領域がクラッド層341となり、未照射領域がコア層342となる。コア層342の屈折率は、前記クラッド層341の屈折率よりも高く、コア層342における前記(B)由来の構造体濃度と、クラッド層341における前記(B)由来の構造体濃度とが異なる。具体的には、コア層342における(B)由来の構造体濃度は、クラッド層341における(B)由来の構造体濃度より低い。
クラッド層341は、コア層342よりも屈折率が低く、クラッド層341と、コア層342との屈折率差は、たとえば、0.01以上となる。
以上の工程により、フィルム34が得られることとなる。
なお、光が照射された領域がコア層となり、未照射領域がクラッド層となるような材料を使用してフィルム340Aを形成してもよい。
In this film 340 </ b> A, as shown in FIG. 4B, the region irradiated with light becomes the
The
The
Note that the film 340 </ b> A may be formed using a material in which a region irradiated with light becomes a core layer and a non-irradiated region becomes a cladding layer.
次に、フィルム34をダイシングして、光導波路3を得る。
たとえば、図2の点線に示すように、ダイシングブレードにより、クラッド層341をクラッド層341の延在方向に沿って切断し(工程1)、さらに、クラッド層341およびコア層342の延在方向に対し45度で交差するように、複数のクラッド層341および複数のコア層342を切断する(工程2)。
工程2により、光導波路3の一方の端面に傾斜面が形成されることとなる。
その後、光導波路3の他方の端面の傾斜面を形成するために、ダイシングブレードにより、切断されたフィルムの他方の端部を切断する(工程3)。工程3においては、工程2と同様に、クラッド層341およびコア層342の延在方向に対し45度で交差するように、複数のクラッド層341および複数のコア層342を切断すればよい。
ここで、図5に示すように、工程1から工程3のダイシングに使用するダイシングブレードDは、円板状(円柱状)であり、刃先が平坦である。刃先と、フィルム34表面とが平行に配置される。このダイシングブレードは、刃先がV字状になっていない。
また、工程1と工程2を実施する順番に特に規定はなく、工程1を行った後、工程2を実施してもよく、工程2を実施した後、工程1を実施してもよい。
その後、切断したフィルム34を基材Sから剥がし、光導波路3とする。
なお、光導波路3を製造する際には、図2の傾斜した点線で示すように、フィルム34をダイシングして一方の傾斜面を形成し、その後、フィルム34をさらにダイシングして光導波路の他方の傾斜面を形成してもよい。この場合には、導波路の長さが異なる複数の光導波路3を得ることができる。また、図2の傾斜した点線で示すように、フィルム34をダイシングして一方の傾斜面を形成したのち、フィルム34を剥がし、ダイシングされた部分を並べなおして、再度ダイシングし、一度にまとめて複数の光導波路3の他方の傾斜面を形成してもよい。このようにすることで導波路の長さが等しい複数の光導波路3を得ることができる。
Next, the
For example, as shown by a dotted line in FIG. 2, the
By
Then, in order to form the inclined surface of the other end surface of the
Here, as shown in FIG. 5, the dicing blade D used for the dicing in the
Moreover, there is no restriction | limiting in particular in the order which implements the
Thereafter, the
When manufacturing the
なお、本実施形態では、フィルム34の材料として、上述したような感光性樹脂組成物を使用したが、これに限られるものではない。
たとえば、特開2006−323318号公報に開示されているような、他の組成の感光性樹脂組成物を使用してもよい。この感光性樹脂組成物は、ポリマーと、添加剤(少なくともモノマー、助触媒および触媒前駆体を含む)とで構成される光誘発熱現像性材料(PITDM)を含有し、光の照射および加熱により、ポリマー中において、モノマーの反応が生じる材料を使用する。
ポリマーとしては、前述したようなノルボルネン系樹脂が使用できる。
モノマーは、光照射により、照射領域において反応して反応物を形成し、この反応物の存在により、照射領域と、光の未照射領域とにおいて、屈折率差を生じさせ得るような化合物である。ノルボルネン系モノマー、アクリル酸(メタクリル酸)系モノマー、エポキシ系モノマー、スチレン系モノマーが挙げられる。
In the present embodiment, the photosensitive resin composition as described above is used as the material of the
For example, you may use the photosensitive resin composition of another composition which is disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-323318. This photosensitive resin composition contains a light-induced heat-developable material (PITDM) composed of a polymer and an additive (including at least a monomer, a promoter and a catalyst precursor), and is irradiated with light and heated. In the polymer, a material that causes a monomer reaction is used.
As the polymer, the norbornene-based resin as described above can be used.
A monomer is a compound that reacts in an irradiated region by light irradiation to form a reactant, and the presence of this reactant can cause a difference in refractive index between the irradiated region and an unirradiated region of light. . Examples include norbornene monomers, acrylic acid (methacrylic acid) monomers, epoxy monomers, and styrene monomers.
触媒前駆体は、前記のモノマーの反応(たとえば、重合反応、架橋反応)を開始させ得る物質であり、光照射により活性化した助触媒の作用により、活性化温度が変化する物質である。
この触媒前駆体(プロカタリスト:procatalyst)としては、光照射に伴って活性化温度が変化(上昇または低下)するものであれば、いかなる化合物を用いてもよいが、特に、光の照射に伴って活性化温度が低下するものが好ましい。これにより、比較的低温による加熱処理でコア層を形成することができ、他の層に不要な熱が加わって、光導波路の特性(光伝送性能)が低下するのを防止することができる。
The catalyst precursor is a substance capable of initiating the above-described monomer reaction (for example, polymerization reaction, crosslinking reaction), and is a substance whose activation temperature is changed by the action of a promoter activated by light irradiation.
As the catalyst precursor (procatalyst), any compound may be used as long as the activation temperature changes (increases or decreases) with light irradiation, but particularly with light irradiation. Those having a lower activation temperature are preferred. As a result, the core layer can be formed by heat treatment at a relatively low temperature, and it is possible to prevent deterioration of the characteristics (optical transmission performance) of the optical waveguide due to unnecessary heat being applied to the other layers.
また、活性化温度が低下した状態(活性潜在状態)において、触媒前駆体としては、その活性化温度が本来の活性化温度よりも10〜80℃程度(好ましくは、10〜50℃程度)低くなるものが好ましい。これにより、コア層とクラッド層との間の屈折率差を確実に生じさせることができる。 In the state where the activation temperature is lowered (active latent state), the catalyst precursor has an activation temperature lower by about 10 to 80 ° C. (preferably about 10 to 50 ° C.) than the original activation temperature. Is preferred. Thereby, the refractive index difference between the core layer and the clad layer can be surely generated.
かかる触媒前駆体としては、Pd(OAc)2(P(i−Pr)3)2およびPd(OAc)2(P(Cy)3)2のうちの少なくとも一方を含む(主とする)ものが好適である。
なお、以下では、Pd(OAc)2(P(i−Pr)3)2を「Pd545」と、また、Pd(OAc)2(P(Cy)3)2を「Pd785」と略すことがある。
Acは、アセテートであり、Prはプロピルであり、Cyはシクロヘキシルを示す。
Such a catalyst precursor includes (mainly) one containing at least one of Pd (OAc) 2 (P (i-Pr) 3 ) 2 and Pd (OAc) 2 (P (Cy) 3 ) 2. Is preferred.
Hereinafter, Pd (OAc) 2 (P (i-Pr) 3 ) 2 may be abbreviated as “Pd545”, and Pd (OAc) 2 (P (Cy) 3 ) 2 may be abbreviated as “Pd785”. .
Ac is acetate, Pr is propyl, and Cy represents cyclohexyl.
助触媒は、光の照射によって活性化して、前記の触媒前駆体(プロカタリスト)の活性化温度(モノマーに反応を生じさせる温度)を変化させ得る物質である。この助触媒(コカタリスト:cocatalyst)としては、光の照射により、その分子構造が変化(反応または分解)して活性化する化合物であれば、いかなるものでも用いることができるが、特定波長の光の照射によって分解し、プロトンや他の陽イオンのカチオンと、触媒前駆体の脱離基に置換し得る弱配位アニオン(WCA)とを発生する化合物(光開始剤)を含む(主とする)ものが好適に用いられる。 The cocatalyst is a substance that can be activated by irradiation with light to change the activation temperature of the catalyst precursor (procatalyst) (the temperature at which the monomer reacts). As this cocatalyst (cocatalyst), any compound can be used as long as its molecular structure is changed (reacted or decomposed) by light irradiation and activated. Containing a compound (photoinitiator) that decomposes upon irradiation with a proton and generates a cation of a proton or other cation and a weakly coordinating anion (WCA) that can be substituted for the leaving group of the catalyst precursor (mainly) ) Are preferably used.
弱配位アニオンとしては、たとえば、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸イオン(FABA−)、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン(SbF6 −)が挙げられる。 Examples of the weakly coordinating anion include tetrakis (pentafluorophenyl) borate ion (FABA − ) and hexafluoroantimonate ion (SbF 6 − ).
この助触媒(光酸発生剤または光塩基発生剤)としては、たとえば、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸塩やヘキサフルオロアンチモン酸塩の他、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ガリウム酸塩、アルミン酸塩類、アンチモン酸塩類、他のホウ酸塩類、ガリウム酸塩類、カルボラン類、ハロカルボラン類が挙げられる。 Examples of the promoter (photoacid generator or photobase generator) include tetrakis (pentafluorophenyl) borate and hexafluoroantimonate, tetrakis (pentafluorophenyl) gallate, and aluminates. , Antimonates, other borates, gallates, carboranes, halocarboranes.
さらに、フィルム34の材料としては、特開2005−70556号公報、特開2006−22317号公報、特開2006−152016号公報、特開2007−31555号公報に開示された感光性樹脂組成物使用することができる。具体的には、エポキシ樹脂と、光硬化開始剤とを含むものである。
また、特開2004−12635号公報、特開2004−333883号公報、特開2006−299066号公報に開示されたポリシラン化合物を含む組成物を使用することができる。たとえば、ポリシラン化合物と、二重結合含有シリコーン化合物と、有機過酸化物とを含有する組成物を使用することができる。この組成物においては、シリコーン化合物として二重結合含有シリコーン化合物が含まれている。光を照射して照射領域をクラッド層とし、未照射領域をコア層とする。このとき、照射領域においては、ポリシランのSi−Si結合が切断され、Si−O−Si結合が形成して屈折率が低下するとともに、二重結合による付加重合反応が生じる。これにより、コア層とクラッド層の屈折率差が生じる。
Furthermore, as a material of the
Moreover, the composition containing the polysilane compound disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-12635, Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-333883, and Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-299066 can be used. For example, a composition containing a polysilane compound, a double bond-containing silicone compound, and an organic peroxide can be used. In this composition, a double bond-containing silicone compound is included as a silicone compound. Light is irradiated to make the irradiated region a cladding layer and the unirradiated region a core layer. At this time, in the irradiated region, the Si—Si bond of polysilane is cut to form a Si—O—Si bond, the refractive index is lowered, and an addition polymerization reaction due to a double bond occurs. As a result, a difference in refractive index between the core layer and the cladding layer occurs.
(光導波路モジュール)
以上のような製造方法にて得られた光導波路3は、図6に示すように、光導波路モジュール2として使用することができる。
図6(A)は、光導波路モジュール2の断面図であり、図6(B)は、光導波路モジュール2の平面図である。図6(C)は、光導波路モジュール2の支持部材23を示す平面図である。
この光導波路モジュール2は、発光素子21と、受光素子22と、発光素子21および受光素子22を接続する光導波路3と、一対の支持部材23とを備える。
発光素子21は、面発光素子である。
支持部材23は、発光素子21または受光素子22を収容するとともに、光導波路3を支持するものである。
支持部材23は、上面が開口した、直方体の箱形形状であり、発光素子21または受光素子22が設置される底面部231と、この底面部231の各辺に立設された側壁部(壁部)232とを有する。
一対の支持部材23は所定の距離をあけて対向配置されている。一方の支持部材23の側壁部232のうち、他方の支持部材23の側壁部232と対向する側壁部232の上端部にはスリット232Aが形成されている。同様に他方の支持部材23の側壁部232のうち、一方の支持部材23の側壁部232と対向する側壁部232の上端部にはスリット232Aが形成されている。
このスリット232Aに光導波路3の端部、具体的には、下部クラッド層31の端部が嵌め込まれることとなる。
支持部材23に支持された光導波路3の端部先端は、発光素子21の発光領域または受光素子22の受光領域の真上に位置することとなる。
なお、光導波路3の端部のうち、コア層32の厚みが厚い方の端部が発光素子21上に配置され、コア層32の厚みが薄い方の端部が受光素子22上に設置される。
(Optical waveguide module)
The
FIG. 6A is a cross-sectional view of the
The
The
The
The
The pair of
The end of the
The tip of the end of the
Of the end portions of the
発光素子21にて生じた光は、下部クラッド層31を通り、傾斜面にて反射されてコア層32中を伝播することとなる。その後、光は、光導波路3の他方の傾斜面で反射されて、屈曲し、下部クラッド層31を介して受光素子22に入射する。
The light generated in the
このような光導波路モジュール2は、光学機器等の内部に設置されることとなる。このとき、図1や図6(A)に示したように、光導波路1の上部クラッド層33が下部クラッド層31側にたわまないように設置してもよく、また、図7(A)の側面図に示すように、光導波路3の上部クラッド層33を下部クラッド層31側に屈曲させて設置してもよい。設置スペースに十分な高さが確保できないような場合には、光導波路3の上部クラッド層33を下部クラッド層31側に屈曲させて設置させることが可能である。図7(A)は、光導波路3を傾斜面側から見た側面図である。
また、図7(B)の模式図に示すように、光導波路3を、たとえば、平面U字型に湾曲させて配置してもよい。光導波路3の一対の端部を対向するように、光導波路3を湾曲させて配置する。図7(B)は、光導波路3を上部クラッド層33側から見た平面図である。
なお、支持部材23の原料としては、セラミックスや、有機材料等を使用することができる。
Such an
Further, as shown in the schematic diagram of FIG. 7B, the
In addition, as a raw material of the
次に、本実施形態の作用効果について説明する。
コア層32の厚みを、端部と中心部とで異なるものとすることで、光の伝搬損失を低減できる。本実施形態のように、コア層32の端部の厚みを中心部よりも厚くし、端部側に発光素子21を配置すれば、発光素子21から広がるようにして発生する光をコア層32内に確実に導くことが可能となる。
一方、コア層32の端部の厚みを中心部よりも薄くし、端部側に受光素子22を配置すれば、コア層32内を伝搬する光を絞り込んで、受光素子に入射させることができる。
また、本実施形態では、コア層32は正面側(フィルム表面側)から見て、その厚みが漸次変化し、一方の端部側から、他方の端部側に向かって厚みが連続的に薄くなっている。これにより、コア層32内での光の乱反射等を防止でき、光の伝搬損失を低減できる。
Next, the effect of this embodiment is demonstrated.
The propagation loss of light can be reduced by making the thickness of the
On the other hand, if the thickness of the end portion of the
In the present embodiment, the thickness of the
本実施形態では、下部クラッド層31の下面から上部クラッド層33の上面までの高さ方向に沿った厚みAと、光導波路3の高さ方向と直交するとともに光導波路1の延在方向と直交する光導波路1の幅寸法Bとの比であるA/Bを2以上としている。
これにより、種々の設置形態をとることができる。
たとえば、図7(B)に示したように、光導波路3を上部クラッド層側からの平面視において、U字型に湾曲させて配置することが可能となる。これにより、狭い設置スペースにも設置することができ、たとえば、光学機器等のケースの角部に光導波路を設置することができる。
さらに、図7(A)に示すように、光導波路3を屈曲させて設置することが可能となる。
これにより、たとえば、設置スペースの高さ寸法が低い場所であっても、光導波路3を設置することができる。
なお、前述したように、設置場所によっては、光導波路3は、屈曲させずにまっすぐな状態で配置してもよい。
このように、本実施形態によれば、種々の設置形態をとることが可能である光導波路を提供できる。これにより、設置スペースの省スペース化に対応することができる。
さらに、光導波路3の幅寸法Bは、光導波路3のフィルム厚みに該当する寸法であるため、設置スペースの幅が狭くても、設置することが可能である。
In the present embodiment, the thickness A along the height direction from the lower surface of the
Thereby, various installation forms can be taken.
For example, as shown in FIG. 7B, the
Furthermore, as shown in FIG. 7A, the
Thereby, for example, the
As described above, depending on the installation location, the
Thus, according to this embodiment, an optical waveguide that can take various installation forms can be provided. Thereby, it can respond to space saving of installation space.
Furthermore, since the width dimension B of the
さらに、本実施形態では、光導波路3の高さ寸法Aと、光導波路1の幅寸法Bとの比であるA/Bを10以下としている。
これにより、たとえば、図1のように光導波路3を屈曲させずに配置する場合に、光導波路3がたわんでしまうことを防止できる。そのため、光の伝搬損失の発生を確実に抑制することが可能となる。
Furthermore, in this embodiment, A / B, which is the ratio of the height dimension A of the
Thereby, for example, when the
また、本実施形態では、光導波路3を支持するための支持部材23にスリット232Aを形成している。これにより、光導波路3が設置しやすくなる。
特に、光導波路3は、下部クラッド層31の下面から上部クラッド層33の上面までの高さ方向に沿った厚みAと、光導波路3の高さ方向と直交するとともに光導波路3の延在方向と直交する光導波路3の幅寸法Bとの比であるA/Bを2以上としている。
これにより、たとえば、上部クラッド33を把持しながら、スリット232Aに光導波路3を差し込むことができるため、光導波路3を容易に設置することができる。
In this embodiment, the
In particular, the
Thereby, for example, the
さらに、本実施形態では、感光性樹脂組成物を基材S上に塗布し、フィルム34を形成し、このフィルム34に光を選択的に照射することで、コア層、クラッド層を形成している。
フィルム34上に配置するマスクの形状を所望の形状とすることで、コア層の厚み分布を調整できるので、比較的容易に、コア層32の厚みが、端部と中心部とで異なる構造の光導波路3を得ることができる。
Furthermore, in this embodiment, the photosensitive resin composition is applied onto the substrate S to form a
Since the thickness distribution of the core layer can be adjusted by setting the shape of the mask arranged on the
また、特許文献1に開示されているように、従来、光導波路を製造する際には、刃先がV字型のダイシングブレードを使用していた。
V字型の刃先は、摩耗しやすく、刃先の摩耗状態がダイシング面の形状(光導波路の傾斜した端面の形状)に影響を大きく及ぼしていた。これに対し、本実施形態では、刃先が平坦なダイシングブレードを使用するので、このような問題が生じない。
Further, as disclosed in
The V-shaped cutting edge is easily worn, and the worn state of the cutting edge has a great influence on the shape of the dicing surface (the shape of the inclined end surface of the optical waveguide). On the other hand, in this embodiment, since a dicing blade having a flat blade edge is used, such a problem does not occur.
さらに、光導波路を製造する際に、導波路ごとにフィルムをダイシング(個片化)する場合には、刃先が平坦なダイシングブレードを使用する必要がある。そのため、V字の溝を形成するためのダイシングブレードと、導波路ごとにフィルムをダイシング(個片化)するためのダイシングブレードとは異なるものを使用しなければならない。この場合には、ダイシングブレードを交換しなければならないので、手間を要する。
これに対し、本実施形態では、光導波路3の傾斜面を形成するためのダイシングブレードと、各光導波路3ごとにフィルム34をダイシングする(個片化する)ためのダイシングブレードとを同じブレードを使用することができる。そのため、製造に手間を要しない。
Furthermore, when manufacturing an optical waveguide, when dicing a film for each waveguide, it is necessary to use a dicing blade having a flat blade edge. Therefore, a dicing blade for forming a V-shaped groove and a dicing blade for dicing a film for each waveguide must be used. In this case, since the dicing blade must be replaced, it takes time.
On the other hand, in this embodiment, the same blade is used as the dicing blade for forming the inclined surface of the
(第二実施形態)
図8を参照して、本発明の第二実施形態について説明する。
ここでは、光導波路モジュール4の支持部材43の構造が前記実施形態と異なっている。他の点は、前記実施形態と同様である。
この光導波路モジュール4は、発光素子21と、受光素子22と、発光素子21および受光素子22を接続する光導波路3、一対の支持部材43とを備える。
支持部材43は、上面が開口した、直方体の箱形形状であり、発光素子21または受光素子22が設置される底面部431と、この底面部431の各辺に立設された側壁部432(壁部)とを有する。
(Second embodiment)
A second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
Here, the structure of the
The
The
一対の支持部材43は所定の距離をあけて対向配置されている。一方の支持部材43の側壁部のうち、他方の支持部材43の側壁部432と対向する側壁部432の上端部にはスリット432Aが形成されている。同様に他方の支持部材43の側壁部432のうち、一方の支持部材23の側壁部432と対向する側壁部432の上端部にはスリット432Aが形成されている。
このスリット432Aに光導波路3の端部、具体的には、下部クラッド層31の端部が嵌め込まれることとなる。
The pair of
The end of the
また、支持部材43のスリット432Aが形成された側壁部432と対向する側壁部432の上端部には、切り欠き432Bが形成されている。具体的には側壁部432の上端のうち、内側の上端縁に切り欠き432Bが形成されている。この切り欠き432B内には、光導波路3の端部先端が設置され、切り欠き432Bにより、光導波路3の端部先端が当接する当接面が形成される。
Further, a
なお、光導波路3を支持部材43上に設置する際には、光導波路3の端部先端、具体的には下部クラッド層31の先端を厚み方向にそって切断して、前記当接面に当接する平坦面311を形成することが好ましい(図8および図9参照)。
支持部材43に支持された光導波路3の端部は、発光素子21の発光領域または受光素子22の受光領域の真上に位置することとなる。
When the
The end portion of the
このような本実施形態によれば、第一実施形態と同様の効果を奏することができるうえ、以下の効果を奏することができる。 According to such this embodiment, the same effect as 1st embodiment can be produced, and the following effect can be produced.
支持部材43に当接面を形成し、さらに、光導波路3に平坦面311を形成することで、光導波路3が設置しやすくなる。
By forming a contact surface on the
(第三実施形態)
図10を参照して、本発明の第三実施形態について説明する。
本実施形態の光導波路6は、図10(A)に示すように、上部クラッド層63および下部クラッド層61と、前記上部クラッド層63と、前記下部クラッド層61とに挟まれたコア層62とを備え、一方向に沿って延在するものである。光導波路6は可とう性を有したフィルム状である。
光導波路6は、延在方向と交差する一対の端面が傾斜面となっている。この傾斜面は、上部クラッド層63の端面、コア層62の端面、下部クラッド層61の端面で構成され、上部クラッド層63側から、下部クラッド層61側に向かって外側に傾斜している。この傾斜面と、コア層62内の光軸とがなす角度は45度である。
(Third embodiment)
A third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 10A, the
In the
上部クラッド層63、下部クラッド層61それぞれの厚みは、延在方向に沿って均一である。
The thickness of each of the
コア層62は、延在方向中心部における厚みと、端部の厚みとが異なっている。具体的には、コア層62は、各クラッド層61,63に沿って延在するとともに、一方の端部が前記下部クラッド層61側に屈曲している。そして、この一方の端部は、前記下部クラッド層61を貫通して延在している。これにより、コア層62の延在方向中心部における厚みと、コア層62の端部の厚みとが異なるものとなる。ここで、コア層62の端部の厚みとは、コア層の一方の端部におけるコア層下面から、傾斜面のうちコア層62と上部クラッド層63との境界線までの厚みHのことをいう。
コア層62の下部クラッド層61を貫通している部分621(一方の端部)の幅W(前記各クラッド層の延在方向に沿った幅)は、上部クラッド層63側から下部クラッド層61側まで均一である。
また、光導波路の幅Bと、厚みAとの比は前記実施形態と同様である。
The thickness of the
The width W (width along the extending direction of each cladding layer) of the portion 621 (one end portion) of the
Further, the ratio between the width B and the thickness A of the optical waveguide is the same as that in the above embodiment.
なお、図10(A)では、光導波路6の一方の端部を示しているが、他方の端部も同様の構成としてもよく、また、他方の端部側では、第一実施形態のように、コア層が屈曲せずに、各クラッド層61,63に沿って延在するものとしてもよい。
このような構造の光導波路6は、図10(B)に示すようなフィルム64を用いて製造することができる。フィルム64の材料は前記実施形態と同様であり、その製造方法も前記実施形態と同様であるが、マスクの形状をコア層の形状に応じたものとすればよい。
すなわち、フィルム64は、複数のコア層642と、クラッド層641とが交互に配置されたものとなる。そして、コア層642は、クラッド層641とともに延在する第一の領域642Aと、この第一の領域642Aからクラッド層641中に屈曲した第二の領域642Bとを有するものとなる。図10(B)の点線で示すように、第一実施形態と同様のダイシングブレードにてフィルム64を切断することで、光導波路6を得ることができる。
In FIG. 10A, one end of the
The
That is, the
このような光導波路6は、第一実施形態や、第二実施形態で示した支持部材23,43を使用して、光モジュールとして使用することができる。
支持部材43を使用する場合には、光導波路6に前記実施形態の光導波路3と同様の平坦面311を形成することが好ましい。
本実施形態によれば、前記実施形態と同様の効果を奏することができるうえ、以下の効果を奏することができる。
たとえば、コア層62の端部を下部クラッド層61側に屈曲させているので、このコア層62の端部に近接配置された光素子に対し、光を確実に入射させたり、光素子からの光を確実にコア層62内に入射させたりことができる。
Such an
When the
According to this embodiment, the same effects as those of the above-described embodiment can be obtained, and the following effects can be obtained.
For example, since the end portion of the
なお、図10(A)では、コア層62の下部クラッド層61を貫通している部分621(一方の端部)の幅W(前記各クラッド層の延在方向に沿った幅)は、上部クラッド層側から下部クラッド層側まで均一であるとしたが、これに限られるものではない。たとえば、図11(A)に示すように、コア層62の下部クラッド層61を貫通している部分621(一方の端部)の幅W(前記各クラッド層の延在方向に沿った幅)を、下部クラッド上面側から下面側に向かって広くなるものとしてもよい。
これにより、たとえば、コア層62の部分621の下方に発光素子を配置することで、発光素子の光を確実にコア層62内に入射させることができる。
なお、図11(A)では、光導波路の一方の端部を示しているが、他方の端部も同様の構成としてもよく、また、他方の端部側では、第一実施形態のように、コア層が屈曲せずに、各クラッド層に沿って延在するものとしてもよい。
In FIG. 10A, the width W (width along the extending direction of each cladding layer) of the portion 621 (one end portion) of the
Thereby, for example, by arranging the light emitting element below the
In FIG. 11A, one end portion of the optical waveguide is shown, but the other end portion may have the same configuration, and on the other end side, as in the first embodiment. The core layer may extend along each cladding layer without bending.
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
たとえば、コア層の形状を図11(B)に示すような形状としてもよい。図11(B)は、コア層52は、各クラッド層51,53に沿って延在するとともに、一方の端部が前記下部クラッド層51側に屈曲し、前記下部クラッド層51を貫通して延在している。これにより、コア層52の延在方向中心部における厚みと、コア層52の端部の厚みとが異なるものとなる。ここで、コア層52の端部の厚みとは、コア層の一方の端部におけるコア層下面から、傾斜面のうちコア層と上部クラッド層との境界線までの厚みHのことをいう。また、コア層52は、一方の端部側から他方の端部側にむかって厚みがあつくなっている。
より詳細に説明すると、コア層52の前記クラッド層51,53に沿って所定の方向に延在する領域において、一方の端部側に向かって、コア層52の厚みが厚くなっている。より詳細に説明すると、コア層52は、コア層52の厚みが均一な第一の領域521と、この第一の領域521に接続され、端部に向かって厚みが徐々に大きくなる第二の領域522と、第二の領域522に接続され、厚みが均一な第三の領域523とを有する。
第二の領域522は、光導波路5のフィルム面側からみて漸次厚みがあつくなるように形成されている。
第三の領域523は、第一の領域521よりも厚みが厚い。
ただし、コア層52の第一の領域521、第二の領域522、第三の領域523の厚みの中心位置は、略同位置であり、傾斜面はコア層52の光軸に対し45度に傾斜している。
なお、クラッド層51,53は、それぞれ、コア層の広がりに応じて厚みが薄くなっており、光導波路5全体の厚みは、均一である。
It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and modifications, improvements, and the like within the scope that can achieve the object of the present invention are included in the present invention.
For example, the core layer may have a shape as shown in FIG. In FIG. 11B, the
More specifically, the
The
The
However, the central positions of the thicknesses of the
The clad layers 51 and 53 each have a thickness that is reduced according to the spread of the core layer, and the entire thickness of the
このような光導波路5では、たとえば、コア層52の一方の端部の下方に発光素子を配置することで、発光素子の光を確実にコア層52内に入射させることができる。
また、コア層52の第一の領域521、第二の領域522、第三の領域523の厚みの中心位置を略同位置とすることで、光軸に対する傾斜面の傾きを正確に45度とすることができる。
このような光導波路5は、第一実施形態や、第二実施形態で示した支持部材23,43を使用して、光モジュールとして使用することができる。支持部材43を使用する場合には、図11(B)で示す光導波路フィルムに光導波路3と同様の平坦面311を形成することが好ましい。
In such an
In addition, by setting the center positions of the thicknesses of the
Such an
さらに、前記各実施形態では、下部クラッド層の下方に発光素子、受光素子を配置したが、これに限られず、光導波路を上下反転させて配置し、光導波路の上部に発光素子、受光素子を配置してもよい。
また、前記各実施形態では、光導波路は、一対の傾斜面を有するものであるとしたが、これに限らず、一対の端面のうち、一方の端面のみが傾斜面となっていてもよい。たとえば、傾斜面が形成された端部側に発光素子を配置し、他方の端面側には、光ファイバ等を接続する場合には、一方の端面のみを傾斜面として配置してもよい。
Further, in each of the above embodiments, the light emitting element and the light receiving element are arranged below the lower cladding layer. However, the present invention is not limited to this, and the light guide is arranged upside down, and the light emitting element and the light receiving element are arranged above the light guide. You may arrange.
In each of the above embodiments, the optical waveguide has a pair of inclined surfaces. However, the present invention is not limited to this, and only one end surface of the pair of end surfaces may be an inclined surface. For example, when the light emitting element is disposed on the end side where the inclined surface is formed and an optical fiber or the like is connected to the other end surface side, only one end surface may be disposed as the inclined surface.
さらに、前記実施形態では、支持部材23,43は、直方体形状としたが、これに限らず、たとえば、上面が開口した円柱形状としてもよい。この場合には、受光素子あるいは発光素子の周囲を囲む壁部を有し、この壁部に、スリットや、切り欠きが形成されていればよい。
切り欠きは、スリットと対向する位置に形成されていることが好ましい。
Furthermore, in the said embodiment, although the supporting
The notch is preferably formed at a position facing the slit.
また、前記各実施形態では、光導波路3,6は、クラッド層として、上部クラッド層33,63、下部クラッド層31,61を有するものとしたが、これに加えて、コア層32,62の側方にクラッド層を有するものとしてもよい。光導波路の設置スペースが十分に確保できる場合には、コア層の側方にそれぞれクラッド層を配置することで、光閉じ込め効果を高めることができる。なお、コア層32、62の側方にクラッド層を有する場合も、光導波路の厚みは、500μm以下であることが好ましい。
さらに、第一実施形態では、コア層32の厚みが一方の端部側から他方の端部側に向かって連続的に薄くなっていたが、これに限らず、コア層32の厚みが段階的に薄くなるような構造としてもよい。たとえば、コア層を、厚みが均一であり、クラッド層とともに延在する第一の領域と、この第一の領域よりも厚みが薄く、かつ、厚みが均一である第二の領域とを備えるような構成としてもよい。
In each of the above embodiments, the
Furthermore, in the first embodiment, the thickness of the
次に、本発明の実施例について説明する。
以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
Next, examples of the present invention will be described.
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated more concretely based on an Example and a comparative example, this invention is not limited to a following example.
(実施例1)
(調製例)
(1)光導波路形成用のフィルムの調製
<ヘキシルノルボルネン(HxNB)/ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン(diPhNB)系コポリマーの合成>
HxNB(CAS番号:第22094−83−3番)(9.63g、0.054モル)、diPhNB(CAS番号:第376634−34−3番)(40.37g、0.126モル)、1−ヘキセン(4.54g、0.054モル)及びトルエン(150g)を、ドライボックス内の500mL容シーラムボトルに入れて混合し、さらにオイルバスにおいて80℃に加熱しながら撹拌して溶液とした。得られた溶液に、(Pd1446)(1.04×10−2g、7.20×10−6モル)及びN,N−ジメチルアニリニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート(略称:DANFABA)(2.30×10−2g、2.88×10−5モル)を、それぞれ濃縮ジクロロメタン溶液(0.1mL)の形態で添加した。添加後の混合物を、マグネチックスターラで80℃において2時間撹拌した。その後、反応混合物(トルエン溶液)をより大きなビーカーに移し変え、これに貧溶媒であるメタノール(1L)を滴下すると、繊維状の白色固形分が沈殿した。沈殿した固形分をろ過して60℃のオーブン内で真空乾燥させたところ、乾燥質量19.0g(収率38%)の生成物が得られた。得られた生成物の分子量をゲル浸透クロマトグラフィー(GPC:THF溶媒、ポリスチレン換算)で測定したところ、質量平均分子量(Mw)は118,000であり、数平均分子量(Mn)は60,000であった。得られた生成物を1H−NMRで測定し、下記構造式で表されるHxNB/diPhNB系コポリマー(x=0.32、y=0.68、n=5)であることを同定した。このコポリマーの屈折率をプリズムカップリング法で測定したところ、波長633nmにおいて、TEモードが1.5695、そしてTMモードが1.5681であった。
Example 1
(Preparation example)
(1) Preparation of film for forming optical waveguide
<Synthesis of hexyl norbornene (HxNB) / diphenylmethylnorbornene methoxysilane (diPhNB) copolymer>
HxNB (CAS number: 22094-83-3) (9.63 g, 0.054 mol), diPhNB (CAS number: 376634-34-3) (40.37 g, 0.126 mol), 1- Hexene (4.54 g, 0.054 mol) and toluene (150 g) were mixed in a 500 mL sealam bottle in a dry box, and further stirred while heating to 80 ° C. in an oil bath to obtain a solution. (Pd1446) (1.04 × 10 −2 g, 7.20 × 10 −6 mol) and N, N-dimethylanilinium tetrakis (pentafluorophenyl) borate (abbreviation: DANFABA) (2 .30 × 10 −2 g, 2.88 × 10 −5 mol) were added in the form of a concentrated dichloromethane solution (0.1 mL), respectively. The mixture after addition was stirred with a magnetic stirrer at 80 ° C. for 2 hours. Thereafter, the reaction mixture (toluene solution) was transferred to a larger beaker, and methanol (1 L) as a poor solvent was added dropwise thereto to precipitate a fibrous white solid. The precipitated solid was filtered and vacuum dried in an oven at 60 ° C. to obtain a product having a dry mass of 19.0 g (yield 38%). When the molecular weight of the obtained product was measured by gel permeation chromatography (GPC: THF solvent, polystyrene conversion), the mass average molecular weight (Mw) was 118,000, and the number average molecular weight (Mn) was 60,000. there were. The obtained product was measured by 1H-NMR and identified to be a HxNB / diPhNB-based copolymer (x = 0.32, y = 0.68, n = 5) represented by the following structural formula. When the refractive index of this copolymer was measured by the prism coupling method, the TE mode was 1.5695 and the TM mode was 1.5681 at a wavelength of 633 nm.
<光導波路形成用ワニスの調製>
イエローライト下、上記HxNB/diPhNB系コポリマーをメシチレンに溶解して10質量%のコポリマー溶液(30g)を調製した。これとは別に、100mL容ガラス瓶に、HxNB(42.03g、0.24モル)及びビス−ノルボルネンメトキシジメチルシラン(SiX、CAS番号:第376609−87−9番)(7.97g、0.026モル)を入れ、さらに2種類の酸化防止剤[Ciba社製Irganox1076(0.5g)及びIrgafos168(0.125g)]を加えてモノマー酸化防止剤溶液を得た。上記のコポリマー溶液30.0gに、上記のモノマー酸化防止剤溶液3.0gと、Pd(PCy3)2(OAc)2(Pd785)(メチレンクロライド0.1mLあたり、4.95×10−4g、6.29×10−7モル)と、吸収極大波長220nmの光酸発生剤[RHODORSIL(登録商標)PHOTOINITIATOR 2074(CAS番号:第178233−72−2番)](メチレンクロライド0.1mLあたり、2.55×10−3g、2.51×10−6モル)とを加えて均一に溶解させた後、細孔径0.2μmのフィルターでろ過して光導波路形成用ワニスを調製した。
<Preparation of varnish for optical waveguide formation>
Under yellow light, the HxNB / diPhNB copolymer was dissolved in mesitylene to prepare a 10% by mass copolymer solution (30 g). Separately, in a 100 mL glass bottle, HxNB (42.03 g, 0.24 mol) and bis-norbornenemethoxydimethylsilane (SiX, CAS number: 376609-87-9) (7.97 g, 0.026 The monomer antioxidant solution was obtained by adding two kinds of antioxidants [Irganox 1076 (0.5 g) and Irgafos 168 (0.125 g), manufactured by Ciba)]. To 30.0 g of the above copolymer solution, 3.0 g of the above monomer antioxidant solution and Pd (PCy 3 ) 2 (OAc) 2 (Pd785) (4.95 × 10 −4 g per 0.1 mL of methylene chloride) 6.29 × 10 −7 mol) and a photoacid generator [RHODORSIL (registered trademark) PHOTOINITIATOR 2074 (CAS number: 178233-72-2)] having an absorption maximum wavelength of 220 nm (per 0.1 mL of methylene chloride, 2.55 × 10 −3 g, 2.51 × 10 −6 mol) was added and dissolved uniformly, and then filtered through a filter having a pore diameter of 0.2 μm to prepare a varnish for forming an optical waveguide.
<光導波路形成用のフィルムの作製>
前記実施形態と同様の方法で、光導波路形成用のフィルムを作製した。厚さ250μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの上に、光導波路形成用ワニス10gを注ぎ、これをドクターブレードでほぼ一定の厚さになるように広げて光導波路形成用ワニスの塗膜を形成させた(乾燥前の厚さ70μm)。得られた塗膜をPETフィルムと共にホットプレート上に配置して50℃で45分間加熱することによりトルエンを蒸発させて厚さ50μmの乾燥塗膜を得た。得られた乾燥塗膜に、クラッド層31,33(図13参照)に対応する開口パターンを有するフォトマスクを通して、高圧水銀ランプ又はメタルハライドランプを用いて波長300nm未満又は365nm以下の紫外光を照射した(照射量500mJ/cm2)。照射後の塗膜をオーブンに入れ、最初に50℃で30分間、続いて85℃で30分間、その後150℃で60分間の加熱処理を施した。最初の50℃で10分間加熱した時点で、塗膜内の導波路パターンを目視で確認することができた。加熱処理後、塗膜をPETフィルムから剥離して光導波路形成用のフィルムを得た(図13参照)。
<Production of film for forming optical waveguide>
A film for forming an optical waveguide was produced in the same manner as in the above embodiment. On a 250 μm thick polyethylene terephthalate (PET) film, 10 g of optical waveguide forming varnish is poured and spread with a doctor blade so as to have a substantially constant thickness to form a coating film of the optical waveguide forming varnish. (Thickness before drying 70 μm). The obtained coating film was placed on a hot plate together with the PET film and heated at 50 ° C. for 45 minutes to evaporate toluene, thereby obtaining a dry coating film having a thickness of 50 μm. The obtained dried coating film was irradiated with ultraviolet light having a wavelength of less than 300 nm or 365 nm or less using a high-pressure mercury lamp or metal halide lamp through a photomask having an opening pattern corresponding to the cladding layers 31 and 33 (see FIG. 13). (Irradiation amount 500 mJ / cm 2 ). The film after irradiation was placed in an oven, and was first subjected to heat treatment at 50 ° C. for 30 minutes, then at 85 ° C. for 30 minutes, and then at 150 ° C. for 60 minutes. At the time of heating for 10 minutes at the first 50 ° C., the waveguide pattern in the coating film could be visually confirmed. After the heat treatment, the coating film was peeled off from the PET film to obtain a film for forming an optical waveguide (see FIG. 13).
(2)クラッドフィルム材料の調製
<デシルノルボルネン(DeNB)/メチルグリシジルエーテルノルボルネン(AGENB)系コポリマーの合成>
DeNB(CAS番号:第22094−85−5番)(16.4g、0.07モル)、AGENB(CAS番号:第3188−75−8番)(5.41g、0.03モル)及びトルエン(58.0g)を、ドライボックス内の500mL容シーラムボトルに入れて混合し、さらにオイルバスにおいて80℃に加熱しながら撹拌して溶液とした。この溶液に、(η6−トルエン)Ni(C6F5)2(0.69g、0.0014モル)のトルエン溶液(5g)を添加した。添加後の混合物を、マグネチックスターラで室温において4時間撹拌した。その混合物に、トルエン(87.0g)を加えて激しく撹拌した。その後反応混合物(トルエン溶液)をより大きなビーカーに移し変え、これに貧溶媒であるメタノール(1L)を滴下すると、繊維状の白色固形分が沈殿した。固形分をろ過して集めて60℃のオーブン内で真空乾燥させたところ、乾燥質量17.00g(収率87%)の生成物が得られた。得られた生成物の分子量をGPC(THF溶媒、ポリスチレン換算)で測定したところ、Mwは75,000であり、Mnは30,000であった。得られた生成物を1H−NMRで測定し、下記構造式で表されるDeNB/AGENB系コポリマー(x=0.77、y=0.23、n=10)であることを同定した。このコポリマーの屈折率をプリズムカップリング法で測定したところ、波長633nmにおいて、TEモードが1.5153、そしてTMモードが1.5151であった。
(2) Preparation of clad film material
<Synthesis of Decyl Norbornene (DeNB) / Methyl Glycidyl Ether Norbornene (AGENB) Copolymer>
DeNB (CAS number: 22094-85-5) (16.4 g, 0.07 mol), AGENB (CAS number: 3188-75-8) (5.41 g, 0.03 mol) and toluene ( 58.0 g) was put into a 500 mL sealam bottle in a dry box and mixed, and further stirred while heating to 80 ° C. in an oil bath to obtain a solution. To this solution was added a toluene solution (5 g) of (η 6 -toluene) Ni (C 6 F 5 ) 2 (0.69 g, 0.0014 mol). The mixture after addition was stirred with a magnetic stirrer at room temperature for 4 hours. To the mixture was added toluene (87.0 g) and stirred vigorously. Thereafter, the reaction mixture (toluene solution) was transferred to a larger beaker and methanol (1 L), which is a poor solvent, was added dropwise thereto to precipitate a fibrous white solid. The solid content was collected by filtration and vacuum dried in an oven at 60 ° C. to obtain a product having a dry mass of 17.00 g (yield 87%). When the molecular weight of the obtained product was measured by GPC (THF solvent, polystyrene conversion), Mw was 75,000 and Mn was 30,000. The obtained product was measured by 1H-NMR and identified as a DeNB / AGENB-based copolymer (x = 0.77, y = 0.23, n = 10) represented by the following structural formula. When the refractive index of the copolymer was measured by the prism coupling method, the TE mode was 1.5153 and the TM mode was 1.5151 at a wavelength of 633 nm.
<クラッド層形成用ワニスの調製>
イエローライト下、上記コポリマー10gを脱水トルエンに溶解して20質量%のコポリマー溶液(50g)を調製した。この溶液に、2種類の酸化防止剤[Ciba社製Irganox1076(0.01g)及びIrgafos168(0.0025g)]と吸収極大波長335nmの第2の光酸発生剤(東洋インキ製造社製、商品名「TAG−382」)(0.2g)とを加えて均一に溶解させた後、細孔径0.2μmのフィルターでろ過してクラッド層形成用ワニスを調製した。
<Preparation of varnish for clad layer formation>
Under yellow light, 10 g of the copolymer was dissolved in dehydrated toluene to prepare a 20 mass% copolymer solution (50 g). To this solution, two kinds of antioxidants [Irganox 1076 (0.01 g) and Irgafos 168 (0.0025 g) manufactured by Ciba) and a second photoacid generator having a maximum absorption wavelength of 335 nm (trade name, manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.) “TAG-382”) (0.2 g) was added and dissolved uniformly, and then filtered through a filter having a pore diameter of 0.2 μm to prepare a varnish for forming a cladding layer.
<クラッドフィルム材料の作製>
水平台の上に配置した厚み100μmのPETフィルムの上に、クラッド用ワニス10gを注ぎ、ドクターブレードでほぼ一定の厚さになるように広げてクラッド用ワニスの塗膜を形成させた(乾燥前の厚み:30μm)。この塗膜をPETフィルムと共に乾燥機に入れて50℃で15分間加熱することによりトルエンを蒸発させて厚み20μmの乾燥塗膜を得た。その後、乾燥塗膜をPETフィルムから剥離してクラッドフィルム材料とした。
<Production of clad film material>
10 g of clad varnish was poured onto a 100 μm-thick PET film placed on a horizontal base, and spread with a doctor blade so as to have a substantially constant thickness to form a clad varnish coating (before drying) Thickness: 30 μm). This coating film was put into a dryer together with a PET film and heated at 50 ° C. for 15 minutes to evaporate toluene to obtain a dried coating film having a thickness of 20 μm. Thereafter, the dried coating film was peeled from the PET film to obtain a clad film material.
(3)光導波路の作製
(1)で得た光導波路形成用のフィルム(大きさ:20×20cm)を挟むように、上記クラッドフィルム材料(大きさ:20×20cm)を配置して、3層積層フィルムを得た。得られた3層積層フィルムを、120℃に設定されたラミネータに投入して、0.2MPaの圧力下、5分間熱圧着させた。その後3層積層フィルムを室温・常圧に戻し、これと高圧水銀ランプとの間に300nm以下の波長を遮蔽する波長カットフィルターとして厚み100μmのPETフィルムを配置した。次いで、高圧水銀ランプから波長カットフィルターを通して紫外光を照射した(照射量:100mJ/cm2)。照射後の3層積層体を、放置することなく直ちに(放置時間0分)乾燥機に入れ、150℃で30分間加熱することにより、クラッドフィルム材料を硬化させ(クラッド層化)、(1)で得た光導波路形成用のフィルムと、クラッドフィルム材料との密着力強化を完了させて、厚み90μm(光導波路の幅寸法(フィルム厚み)に該当:B)の積層フィルムを得た。
(3) Production of optical waveguide The clad film material (size: 20 × 20 cm) is disposed so as to sandwich the optical waveguide-forming film (size: 20 × 20 cm) obtained in (1). A layer laminated film was obtained. The obtained three-layer laminated film was put into a laminator set at 120 ° C. and thermocompression bonded under a pressure of 0.2 MPa for 5 minutes. Thereafter, the three-layer laminated film was returned to room temperature and normal pressure, and a PET film having a thickness of 100 μm was disposed between this and the high-pressure mercury lamp as a wavelength cut filter for shielding a wavelength of 300 nm or less. Next, ultraviolet light was irradiated from a high-pressure mercury lamp through a wavelength cut filter (irradiation amount: 100 mJ / cm 2 ). The three-layer laminate after irradiation is immediately put into a dryer without being left (leaving
(評価)
得られた3層積層フィルムダイシングし、下部クラッド層、コア層、上部クラッド層を備えるとともに、コア層の側方に一対のクラッド層を有する光導波路を形成した。この光導波路は、前記実施形態と異なり、端面に傾斜面が形成されておらず、端面にはミラーが形成されていない。
レーザーダイオードから発生させた光を、光ファイバを通してコア層の一端から入力し、他端からの出力を測定し、コア層の長さを数段階の長さにカットして、各長さについて光出力を測定するカットバック法で測定した。各長さのコア層での総光損失は、下記式で表される。
総光損失(dB)=−10log(Pn/P0)
上式中、Pnは、P1、P2、‥Pnの各長さのコア層の他端で測定された出力であり、P0は、光ファイバをコア層の一端に結合する前の光ファイバーの端部における光源の測定出力である。
次に、総光損失は、図12のようにプロットされる。このデータの回帰直線は、下記式によって表される。
y=mx+n
上式中、mは光伝搬損失を示し、nは、結合損失(coupling loss)を示す。実施例1の導波路の伝搬損失は0.07dB/cmであった。
(Evaluation)
The obtained three-layer laminated film dicing was provided with a lower cladding layer, a core layer, and an upper cladding layer, and an optical waveguide having a pair of cladding layers on the sides of the core layer. Unlike this embodiment, this optical waveguide has no inclined surface on the end face and no mirror on the end face.
The light generated from the laser diode is input from one end of the core layer through the optical fiber, the output from the other end is measured, and the length of the core layer is cut into several lengths. It measured by the cutback method which measures an output. The total optical loss in each length of the core layer is expressed by the following formula.
Total optical loss (dB) =-10 log (Pn / P0)
Where Pn is the output measured at the other end of each of the core layers of length P1, P2,... Pn, and P0 is the end of the optical fiber prior to coupling the optical fiber to one end of the core layer. It is the measurement output of the light source in.
Next, the total light loss is plotted as in FIG. The regression line of this data is represented by the following equation.
y = mx + n
In the above equation, m represents a light propagation loss, and n represents a coupling loss. The propagation loss of the waveguide of Example 1 was 0.07 dB / cm.
(加工例)
上記の(3)にて作製した積層フィルムをダイシングフィルムに貼り付け、前記実施形態と同様の方法で、ダイシングを行った。具体的には図13の一点鎖線で示すコア層32中心線に対して45度になるようにダイシングソー(株式会社ディスコ製DAD321、ブレード:株式会社ディスコ製NBC−ZH−226J:刃先が積層フィルムのフィルム面と平行となる平坦面で構成されている)で積層フィルムの両側の切断を行った(図13の直線a−a’、c−c’)。なお、図13では、クラッドフィルム材料は図示していない。コア層32中心に対して平行になるように前記ダイシングソーを使用し、クラッド層の切断を行い(図13の直線a−c、b−d)、短冊状の光導波路3を得た。この光導波路3における導波路幅a−b(厚みA)は180μm、コア層32の一方の端部の厚みh−iは100μm、コア層32の他方の端部の厚みj−kは50μmであった。
また、下部クラッド層31の下面から上部クラッド層33の上面までの高さ方向に沿った厚みAと、当該光導波路3の高さ方向と直交するとともに前記延在方向と直交する当該光導波路の幅寸法であり、当該光導波路3のフィルム厚みに該当する寸法Bとの比であるA/Bは、2であった。
なお、図13では、積層フィルムは、一つのコア層と、このコア層を挟むように配置される一対のクラッド層だけが図示されているが、図2のように、複数のコア層と、クラッド層とが交互に配置された構造となっている。そして、前記実施形態と同様にダイシングにより、複数の光導波路3が得られる構成となっている。
(測定例)
得られた傾斜面付き光導波路3の下部クラッド層31側からレーザーダイオードの光を光ファイバを通して入力し、a−a’で示される傾斜面で反射させた。その後、光はコア層32内を伝播し、c−c’で示される傾斜面で反射した。この反射した光をc’−dの面においてフォトダイオードで強度の測定を行い、下記式で表される総光損失を求めた。
総光損失(dB)=−10log(P1/P0)
上式中、P1は光導波路の光出力側の端部で測定された出力であり、P0は、光ファイバーを光導波路の光入力側の端部に結合する前の光ファイバーの端部における光源の測定出力である。得られた総光損失から直線部分の損失を差し引いて、光導波路の一対の端面(傾斜面)における損失を算出した。実施例1の導波路フィルムの一対の端面(傾斜面)における損失は2dBであり、良好であった。
(Processing example)
The laminated film produced in (3) above was attached to a dicing film, and dicing was performed in the same manner as in the above embodiment. Specifically, a dicing saw (DAD321 manufactured by Disco Corporation, blade: NBC-ZH-226J manufactured by Disco Inc .: the cutting edge is a laminated film so as to be 45 degrees with respect to the center line of the
In addition, the thickness A along the height direction from the lower surface of the
In FIG. 13, the laminated film shows only one core layer and a pair of clad layers arranged so as to sandwich the core layer, but as shown in FIG. 2, a plurality of core layers, The clad layers are alternately arranged. Then, a plurality of
(Measurement example)
The light of the laser diode was input through the optical fiber from the lower
Total optical loss (dB) =-10 log (P1 / P0)
In the above formula, P1 is the output measured at the end of the optical waveguide on the light output side, and P0 is the measurement of the light source at the end of the optical fiber before coupling the optical fiber to the end of the optical waveguide on the light input side. Is the output. The loss at the pair of end faces (inclined surfaces) of the optical waveguide was calculated by subtracting the loss at the straight line portion from the total optical loss obtained. The loss at the pair of end faces (inclined surfaces) of the waveguide film of Example 1 was 2 dB, which was favorable.
(実施例2)
実施例1と同様の方法で短冊状の光導波路を得た。ただし、この光導波路における導波路幅a−bは900μm、コア層32の一方の端部の厚みh−iは100μm、コア層32の他方の端部の厚みj−kは50μmであった。他の点は、実施例1と同じである。
また、下部クラッド層31の下面から上部クラッド層33の上面までの高さ方向に沿った厚みAと、当該光導波路3の高さ方向と直交するとともに前記延在方向と直交する当該光導波路3の幅寸法であり、当該光導波路3のフィルム厚みに該当する寸法Bとの比であるA/Bは、10であった。
(Example 2)
A strip-shaped optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 1. However, the waveguide width ab in this optical waveguide was 900 μm, the thickness hi of one end of the
Further, the thickness A along the height direction from the lower surface of the lower
(評価)
実施例1と同様に、レーザーダイオードから発生させた光を、光ファイバを通してコア層の一端から入力し、他端からの出力を測定し、コア層の長さを数段階の長さにカットして、各長さについて光出力を測定するカットバック法でコア層の伝搬損失を測定した。実施例2の光導波路フィルムの伝搬損失は0.07dB/cmであった。
(Evaluation)
As in Example 1, the light generated from the laser diode is input from one end of the core layer through the optical fiber, the output from the other end is measured, and the length of the core layer is cut into several stages. Then, the propagation loss of the core layer was measured by the cutback method for measuring the optical output for each length. The propagation loss of the optical waveguide film of Example 2 was 0.07 dB / cm.
(測定例)
得られた傾斜面付き光導波路3の下部クラッド層31側からレーザーダイオードの光を光ファイバを通して入力し、a−a’で示される傾斜面で反射させた。その後、光はコア層32内を伝播し、c−c’で示される傾斜面で反射した。この反射した光をc’−dの面においてフォトダイオードで強度の測定を行い、下記式で表される総光損失を求めた。
総光損失(dB)=−10log(P1/P0)
上式中、P1は光導波路の光出力側の端部で測定された出力であり、P0は、光ファイバーを光導波路の光入力側の端部に結合する前の光ファイバーの端部における光源の測定出力である。得られた総光損失から直線部分の損失を差し引いて、光導波路の一対の端面(傾斜面)における損失を算出した。実施例1の導波路の一対の端面(傾斜面)における損失は2dBであり、良好であった。
また、実施例1,2の光導波路に対し、発光素子、受光素子を配置した場合、発光素子や、受光素子等外部の素子との間において、光の伝搬を行う際に、光の伝搬損失を確実に低減させることができることがわかった。これにより、実施例1,2の光導波路は非常に優れたものであることが確認された。
(Measurement example)
The light of the laser diode was input through the optical fiber from the lower
Total optical loss (dB) =-10 log (P1 / P0)
In the above formula, P1 is the output measured at the end of the optical waveguide on the light output side, and P0 is the measurement of the light source at the end of the optical fiber before coupling the optical fiber to the end of the optical waveguide on the light input side. Is the output. The loss at the pair of end faces (inclined surfaces) of the optical waveguide was calculated by subtracting the loss at the straight line portion from the total optical loss obtained. The loss at the pair of end faces (inclined surfaces) of the waveguide of Example 1 was 2 dB, which was favorable.
Further, when a light emitting element and a light receiving element are arranged with respect to the optical waveguides of Examples 1 and 2, light propagation loss occurs when light is propagated between the light emitting element and an external element such as the light receiving element. It was found that can be reliably reduced. As a result, it was confirmed that the optical waveguides of Examples 1 and 2 were very excellent.
2 光導波路モジュール
3 光導波路
4 光導波路モジュール
5 光導波路
6 光導波路
20 ワニス
21 発光素子
22 受光素子
23 支持部材
31 下部クラッド層
32 コア層
33 上部クラッド層
34 フィルム
43 支持部材
51,53 クラッド層
52 コア層
61 下部クラッド層
62 コア層
63 上部クラッド層
64 フィルム
231 底面部
232A スリット
232 側壁部
311 平坦面
340A フィルム
341 クラッド層
342 コア層
431 底面部
432A スリット
432B 切欠
432 側壁部
521 第一の領域
522 第二の領域
523 第三の領域
621 部分
641 クラッド層
642 コア層
642A 第一の領域
642B 第二の領域
D ダイシングブレード
M マスク
S 基材
2
Claims (10)
前記上部クラッド層と、前記下部クラッド層とに挟まれたコア層とを備え、所定方向に沿って延在する光導波路において、
当該光導波路は、前記上部クラッド層、前記コア層および前記下部クラッド層が形成された感光性樹脂フィルムを備え、
前記上部クラッド層、前記下部クラッド層または前記コア層は前記感光性樹脂フィルムに光を照射することによって形成されたものであり、
当該光導波路の前記延在方向と交差する一端面が、前記上部クラッド層側から前記下部クラッド層側に向かって傾斜する傾斜面とされ、
前記コア層の延在方向中心部における厚みと、前記コア層の端部のうち、前記傾斜面側の一方の端部の厚みとが異なっており、
前記上部クラッド層および前記下部クラッド層は、前記感光性樹脂フィルムのフィルム面に対して光を照射した照射領域および光が照射されていない未照射領域のうちのいずれか一方の領域であり、前記コア層は前記感光性樹脂フィルムのフィルム面に対して光を照射した照射領域および光が照射されていない未照射領域のうちのいずれか他方の領域であり、
前記上部クラッド層の光導波路延在方向に沿った側面、前記コア層の光導波路延在方向に沿った側面および前記下部クラッド層の光導波路延在方向に沿った側面が前記感光性フィルムのフィルム面を構成している光導波路。 An upper cladding layer and a lower cladding layer;
In the optical waveguide comprising a core layer sandwiched between the upper clad layer and the lower clad layer, and extending along a predetermined direction,
The optical waveguide includes a photosensitive resin film in which the upper cladding layer, the core layer, and the lower cladding layer are formed,
The upper clad layer, the lower clad layer or the core layer is formed by irradiating light to the photosensitive resin film,
One end surface intersecting with the extending direction of the optical waveguide is an inclined surface inclined from the upper cladding layer side toward the lower cladding layer side,
The thickness at the central portion in the extending direction of the core layer is different from the thickness of one end portion on the inclined surface side among the end portions of the core layer ,
Before SL upper cladding layer and said lower clad layer is the one area one of the non-irradiated regions to the irradiated region and the light is irradiated with light to the film plane of said photosensitive resin film is not irradiated, The core layer is the other region of the irradiated region irradiated with light on the film surface of the photosensitive resin film and the unirradiated region not irradiated with light ,
The side surface of the upper cladding layer along the optical waveguide extending direction, the side surface of the core layer along the optical waveguide extending direction, and the side surface of the lower cladding layer along the optical waveguide extending direction are films of the photosensitive film. An optical waveguide that forms a surface.
前記延在方向と交差する一対の端面が、前記上部クラッド層側から前記下部クラッド層側に向かって傾斜する傾斜面とされ、
前記コア層の厚みは、前記コア層の前記一方の端部側から、他方の端部側に向かって薄くなる光導波路。 The optical waveguide according to claim 1,
A pair of end faces intersecting with the extending direction are inclined surfaces inclined from the upper cladding layer side toward the lower cladding layer side,
The thickness of the said core layer is an optical waveguide which becomes thin toward the other edge part side from the said one edge part side of the said core layer.
前記傾斜面は、前記上部クラッド層側から前記下部クラッド層側に向かって外側に傾斜しており、
前記コア層は、前記各クラッド層に沿って延在するとともに、前記一方の端部が前記下部クラッド層側に屈曲し、前記下部クラッド層を貫通して延在している光導波路。 The optical waveguide according to claim 1,
The inclined surface is inclined outward from the upper cladding layer side toward the lower cladding layer side,
The core layer extends along each of the cladding layers, and the one end is bent toward the lower cladding layer and extends through the lower cladding layer.
前記コア層の前記クラッド層に沿って所定の方向に延在する領域において、前記コア層の他方の端部側から、前記一方の端部側に向かって、前記コア層の厚みが厚くなる光導波路。 The optical waveguide according to claim 3,
In the region of the core layer that extends in the predetermined direction along the cladding layer, the optical thickness of the core layer increases from the other end side of the core layer toward the one end side. Waveguide.
前記コア層の前記一方の端部の前記各クラッド層の延在方向に沿った幅は、前記下部クラッド層上面側から下面側に向かって広くなる光導波路。 The optical waveguide according to claim 3,
An optical waveguide in which a width of the one end portion of the core layer along the extending direction of each clad layer increases from the upper surface side of the lower clad layer toward the lower surface side.
当該光導波路はフィルム状である光導波路。 The optical waveguide according to claim 1,
The optical waveguide is a film-shaped optical waveguide.
受光素子と、
前記発光素子および前記受光素子を接続する光導波路とを備え、
前記光導波路が、請求項1乃至6のいずれかに記載の光導波路である光導波路モジュール。 A light emitting element;
A light receiving element;
An optical waveguide connecting the light emitting element and the light receiving element,
An optical waveguide module, wherein the optical waveguide is the optical waveguide according to claim 1.
前記光導波路は、支持部材により支持されて、前記光導波路の一方の端部が前記発光素子の上部に配置されるとともに、他方の端部が前記受光素子の上部に配置され、
前記支持部材には、前記光導波路を嵌め込むスリットが形成されている光導波路モジュール。 The optical waveguide module according to claim 7, wherein
The optical waveguide is supported by a support member, and one end of the optical waveguide is disposed on the light emitting element, and the other end is disposed on the light receiving element.
An optical waveguide module in which a slit for fitting the optical waveguide is formed in the support member.
前記支持部材は、一対の対向配置された壁部を有し、この一対の壁部間に前記発光素子が設置された第一支持部材と、
一対の対向配置された壁部を有し、この一対の壁部間に前記受光素子が設置された第二支持部材とを有し、
前記第一支持部材は、前記光導波路の一方の端部を支持するとともに、前記第二支持部材は、前記光導波路の他方の端部を支持し、
前記第一支持部材の壁部のうち、前記光導波路の端部先端側に配置される一方の壁部には、前記光導波路の端部先端が当接する当接面が形成され、他方の壁部には、前記スリットが形成され、
前記第二支持部材の壁部のうち、前記光導波路の端部先端側に配置される一方の壁部には、前記光導波路の端部先端が当接する当接面が形成され、他方の壁部には、前記スリットが形成されている光導波路モジュール。 The optical waveguide module according to claim 8, wherein
The support member has a pair of opposingly arranged wall portions, and a first support member in which the light emitting element is installed between the pair of wall portions;
A second support member having a pair of opposed wall portions, and the light receiving element is installed between the pair of wall portions;
The first support member supports one end of the optical waveguide, and the second support member supports the other end of the optical waveguide,
Of the wall portions of the first support member, one wall portion disposed on the tip end side of the optical waveguide is formed with a contact surface with which the tip end of the optical waveguide abuts, and the other wall. In the part, the slit is formed,
Of the wall portions of the second support member, one wall portion disposed on the distal end side of the end portion of the optical waveguide is formed with an abutting surface on which the end end portion of the optical waveguide abuts, and the other wall An optical waveguide module in which the slit is formed in the part.
前記光導波路は、前記傾斜面が形成されている端部の先端に、前記第一支持部材の前記当接面あるいは前記第二支持部材の前記当接面に当接する平坦面が形成されている光導波路モジュール。 The optical waveguide module according to claim 9, wherein
The optical waveguide has a flat surface that contacts the contact surface of the first support member or the contact surface of the second support member at the tip of the end where the inclined surface is formed. Optical waveguide module.
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JP2009008931A JP5321077B2 (en) | 2009-01-19 | 2009-01-19 | Optical waveguide and optical waveguide module |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009008931A JP5321077B2 (en) | 2009-01-19 | 2009-01-19 | Optical waveguide and optical waveguide module |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010164896A JP2010164896A (en) | 2010-07-29 |
JP5321077B2 true JP5321077B2 (en) | 2013-10-23 |
Family
ID=42581082
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009008931A Expired - Fee Related JP5321077B2 (en) | 2009-01-19 | 2009-01-19 | Optical waveguide and optical waveguide module |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5321077B2 (en) |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0618739A (en) * | 1992-06-30 | 1994-01-28 | Nitto Denko Corp | Production of waveguide |
JP2000298221A (en) * | 1999-04-15 | 2000-10-24 | Sony Corp | Production of optical waveguide and production of optical transmission and receiving device |
JP3886840B2 (en) * | 2002-04-23 | 2007-02-28 | 三菱電機株式会社 | Optical path conversion device |
JP2004302325A (en) * | 2003-04-01 | 2004-10-28 | Hitachi Cable Ltd | Method of manufacturing photoelectric compound substrate |
JP2007033688A (en) * | 2005-07-25 | 2007-02-08 | Fuji Xerox Co Ltd | Optical waveguide film and optical transmission and reception module |
JP4418508B2 (en) * | 2006-05-12 | 2010-02-17 | 三井化学株式会社 | Opto-electric hybrid film and electronic device storing it |
JP5066926B2 (en) * | 2006-10-17 | 2012-11-07 | 日立化成工業株式会社 | Method for manufacturing flexible optical waveguide |
JP5115057B2 (en) * | 2007-06-29 | 2013-01-09 | Jsr株式会社 | Film-shaped optical waveguide and photosensitive resin composition for film-shaped optical waveguide |
-
2009
- 2009-01-19 JP JP2009008931A patent/JP5321077B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010164896A (en) | 2010-07-29 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120911 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120912 |
|
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |