JP5115057B2 - Film-shaped optical waveguide and photosensitive resin composition for film-shaped optical waveguide - Google Patents

Film-shaped optical waveguide and photosensitive resin composition for film-shaped optical waveguide Download PDF

Info

Publication number
JP5115057B2
JP5115057B2 JP2007172621A JP2007172621A JP5115057B2 JP 5115057 B2 JP5115057 B2 JP 5115057B2 JP 2007172621 A JP2007172621 A JP 2007172621A JP 2007172621 A JP2007172621 A JP 2007172621A JP 5115057 B2 JP5115057 B2 JP 5115057B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
meth
acrylate
component
film
optical waveguide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2007172621A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2009009060A (en
Inventor
幸勇 前田
祐一 江利山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JSR Corp
Original Assignee
JSR Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JSR Corp filed Critical JSR Corp
Priority to JP2007172621A priority Critical patent/JP5115057B2/en
Publication of JP2009009060A publication Critical patent/JP2009009060A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5115057B2 publication Critical patent/JP5115057B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、フィルム状光導波路、及び該フィルム状光導波路の材料として用いるための感光性樹脂組成物に関する。   The present invention relates to a film-shaped optical waveguide and a photosensitive resin composition for use as a material for the film-shaped optical waveguide.

マルチメディア時代を迎え、光通信システムやコンピュータにおける情報処理の大容量化及び高速化の要求から、光の伝送媒体として光導波路が注目されている。従来の光導波路としては、石英系光導波路が代表的であった。しかし、石英系光導波路は、製造時に石英膜の堆積のために高温での長時間の処理が必要であるなど、製造時間が長いこと、光導波路のパターン形成には、光レジストを用いる工程と、危険性の高いガスを用いてエッチングする工程が含まれ、かつ、それらの工程に特殊な装置を必要とするなど、多数の複雑な工程及び特殊な装置を要すること、及び、歩留まりが低いこと等の問題がある。
これらの問題を改善するため、光導波路の工程数の削減、製造時間の短縮化、歩留まりの増大等の生産性の向上を目的に、コア部分とクラッド層の材料として液状の硬化性組成物を用いるポリマー系光導波路が、近年提案されている（例えば、特許文献１）。
ポリマー系光導波路によると、従来の石英系光導波路に比べて、簡易な製造工程で、歩止まりを増大させることができる。しかし、ポリマー系光導波路は、光通信等で用いられる波長６５０〜１６００ｎｍの領域における伝送特性（導波路損失）、耐熱性等が不十分であり、また、硬化収縮率が大きいことによる基板からの剥離、及び形状精度の低さといった問題があり、光導波路に求められる諸特性を全て満足するものではなかった。
光導波路の諸特性を向上させるために、例えば、（Ａ）ラジカル重合性官能基を有するポリマーであって、数平均分子量を上記ラジカル重合性官能基のモル数で除した値が３，０００以上であるポリマー、（Ｂ）特定の式で表される構造を有する（メタ）アクリレート、及び（Ｃ）ラジカル性光重合開始剤を含有することを特徴とする光導波路用感光性樹脂組成物が提案されている（特許文献２）。 In the multimedia era, optical waveguides are attracting attention as optical transmission media because of the demand for large capacity and high speed information processing in optical communication systems and computers. A typical example of a conventional optical waveguide is a silica-based optical waveguide. However, silica-based optical waveguides require a long process time at a high temperature for the deposition of a quartz film at the time of manufacture. Etching with a high-risk gas is included, and special processes are required for these processes. Many complicated processes and special apparatuses are required, and the yield is low. There are problems such as.
In order to improve these problems, a liquid curable composition is used as a material for the core portion and the cladding layer for the purpose of improving productivity such as reduction in the number of steps of the optical waveguide, shortening of manufacturing time, and increase in yield. A polymer-based optical waveguide to be used has recently been proposed (for example, Patent Document 1).
According to the polymer-based optical waveguide, the yield can be increased with a simple manufacturing process as compared with the conventional silica-based optical waveguide. However, the polymer-based optical waveguide has insufficient transmission characteristics (waveguide loss), heat resistance, and the like in a wavelength range of 650 to 1600 nm used in optical communication and the like. There are problems such as peeling and low shape accuracy, and not all the characteristics required for the optical waveguide are satisfied.
In order to improve various properties of the optical waveguide, for example, (A) a polymer having a radical polymerizable functional group, wherein the value obtained by dividing the number average molecular weight by the number of moles of the radical polymerizable functional group is 3,000 or more. A photosensitive resin composition for an optical waveguide, comprising: (B) a (meth) acrylate having a structure represented by a specific formula; and (C) a radical photopolymerization initiator. (Patent Document 2).

特開平６−２７３６３１号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-273631 特開２００５−５５７１７号公報JP 2005-55717 A

特許文献２の技術によると、高い屈折率及び低い導波路損失を有し、硬化収縮率が小さいために基材からの剥離を生じることがなく、さらにパターニング性にも優れた光導波路を形成することができる。しかし、特許文献２の光導波路は、フィルム状の形態で屈曲させると、破断やクラックを生じるという点で、改善の余地があった。
そこで、本発明は、高い屈折率及び優れた伝送特性（低い導波路損失）を有し、硬化収縮率が低く、パターニング性に優れる等の光導波路に要求される諸特性を維持しながら、さらに、優れた屈曲耐久性をも有するフィルム状光導波路を提供することを目的とする。 According to the technique of Patent Document 2, an optical waveguide having a high refractive index and a low waveguide loss, and having no curing shrinkage, does not cause peeling from the base material, and has excellent patternability. be able to. However, the optical waveguide of Patent Document 2 has room for improvement in that it breaks or cracks when bent in a film form.
Therefore, the present invention maintains various characteristics required for an optical waveguide, such as having a high refractive index and excellent transmission characteristics (low waveguide loss), a low curing shrinkage ratio, and excellent patternability. Another object of the present invention is to provide a film-like optical waveguide having excellent bending durability.

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、（Ａ）特定の構造を有する（メタ）アクリレート、（Ｂ）ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、及び（Ｃ）ラジカル性光重合開始剤、を特定の配合割合で含有する感光性樹脂組成物を用いてコア部及びクラッド部のいずれか又は両方を形成すれば、屈折率、伝送特性、硬化収縮率、及びパターニング性等に加えて、屈曲耐久性にも優れたフィルム状光導波路を形成することができることを見出し、本発明を完成した。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has (A) (meth) acrylate having a specific structure, (B) urethane (meth) acrylate oligomer, and (C) radical photopolymerization initiator. In addition to the refractive index, transmission characteristics, curing shrinkage, patterning properties, etc., if either or both of the core part and the clad part are formed using a photosensitive resin composition containing a specific blending ratio , The present inventors have found that a film-like optical waveguide having excellent bending durability can be formed, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明は、以下の［１］〜［４］を提供するものである。
［１］ コア部及びクラッド部を有するフィルム状光導波路であって、上記コア部及び上記クラッド部のいずれか又は両方が、（Ａ）下記式（１）で表される構造を有する（メタ）アクリレート及び／又は下記式（２）で表される構造を有する（メタ）アクリレート、（Ｂ）ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、及び（Ｃ）ラジカル性光重合開始剤、を含有し、成分（Ａ）の配合割合が、組成物全量を１００質量％として、５３．４〜８０質量％であり、成分（Ｂ）の配合割合が、組成物全量を１００質量％として、７〜４０質量％で、かつ、成分（Ａ）〜成分（Ｃ）の合計量を１００質量部として、１５〜５０質量部である感光性樹脂組成物の硬化物からなることを特徴とするフィルム状光導波路。

Figure 0005115057
（式中、Ｒは−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−、−（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ）ｎ−、または−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ−；Ｘは−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ２−、−Ｏ−または−ＳＯ２−；Ｙは水素原子またはハロゲン原子を表す。ただし、ｎは０〜４の整数を表す。）
Figure 0005115057
 （式中、Ｒは−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎ−、−（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ）ｎ−、または−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ−；Ｙは水素原子、ハロゲン原子、Ｐｈ−Ｃ（ＣＨ３）２−、Ｐｈ−、または炭素数１〜２０のアルキル基を表す。ただし、ｎは０〜４の整数、Ｐｈはフェニル基を表す。）
［２］ 成分（Ｂ）が、（ａ）ポリオール化合物、（ｂ）ポリイソシアネート化合物、及び（ｃ）水酸基含有（メタ）アクリレートの反応生成物、及び／又は、（ｂ）ポリイソシアネート化合物と（ｃ）水酸基含有（メタ）アクリレートとの反応生成物、を含有する前記［１］に記載のフィルム状光導波路。
［３］ 成分（Ｂ）の数平均分子量が１００〜１５，０００である前記［１］または［２］に記載のフィルム状光導波路。
［４］ （Ａ）下記式（１）で表される構造を有する（メタ）アクリレート及び／又は下記式（２）で表される構造を有する（メタ）アクリレート、（Ｂ）ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、及び（Ｃ）ラジカル性光重合開始剤、を含有し、成分（Ａ）の配合割合が、組成物全量を１００質量％として、５３．４〜８０質量％であり、成分（Ｂ）の配合割合が、組成物全量を１００質量％として、７〜４０質量％で、かつ、成分（Ａ）〜成分（Ｃ）の合計量を１００質量部として、１５〜５０質量部であることを特徴とするフィルム状光導波路用感光性樹脂組成物。
Figure 0005115057
 （式中、Ｒは−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−、または−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−；Ｘは−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ２−、−Ｏ−または−ＳＯ２−；Ｙは水素原子またはハロゲン原子を表す。ただし、ｎは０〜４の整数を表す。）
Figure 0005115057
 （式中、Ｒは−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−、または−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−；Ｙは水素原子、ハロゲン原子、Ｐｈ−Ｃ（ＣＨ３）２−、Ｐｈ−、または炭素数１〜２０のアルキル基を表す。ただし、ｎは０〜４の整数、Ｐｈはフェニル基を表す。） That is, the present invention provides the following [1] to [ 4 ].
[1] A film-shaped optical waveguide having a core part and a clad part, wherein either or both of the core part and the clad part have a structure represented by (A) the following formula (1) (meta) Containing (meth) acrylate having a structure represented by acrylate and / or the following formula (2), (B) urethane (meth) acrylate oligomer, and (C) radical photopolymerization initiator , component (A) The blending ratio of the composition is 53.4 to 80% by weight with the total amount of the composition being 100% by weight, the blending ratio of the component (B) is 7 to 40% by weight with the total amount of the composition being 100% by weight, and A film-like optical waveguide comprising a cured product of a photosensitive resin composition having a total amount of components (A) to (C) of 100 parts by mass and 15 to 50 parts by mass .
Figure 0005115057
 Wherein R is — (CH 2 CH 2 O) n —, — (CH 2 CH (CH 3 ) O) n —, or —CH 2 CH (OH) CH 2 O—; X is —C (CH 3 ) 2 —, —CH 2 —, —O— or —SO 2 —; Y represents a hydrogen atom or a halogen atom, where n represents an integer of 0 to 4.)
Figure 0005115057
 (Wherein R represents — (CH 2 CH 2 O) n —, — (CH 2 CH (CH 3 ) O) n —, or —CH 2 CH (OH) CH 2 O—; Y represents a hydrogen atom, halogen) Atom, Ph—C (CH 3 ) 2 —, Ph—, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, where n is an integer of 0 to 4 and Ph represents a phenyl group.
[2] Component (B) is a reaction product of (a) a polyol compound, (b) a polyisocyanate compound, and (c) a hydroxyl group-containing (meth) acrylate, and / or (b) a polyisocyanate compound and (c The film-shaped optical waveguide according to [1] above, containing a reaction product with a hydroxyl group-containing (meth) acrylate.
[3] The film-shaped optical waveguide according to [1] or [2], wherein the component (B) has a number average molecular weight of 100 to 15,000.
[ 4 ] (A) (meth) acrylate having a structure represented by the following formula (1) and / or (meth) acrylate having a structure represented by the following formula (2), (B) urethane (meth) acrylate An oligomer and (C) a radical photopolymerization initiator, and the blending ratio of the component (A) is 53.4 to 80% by mass, with the total amount of the composition being 100% by mass, of the component (B) The blending ratio is 7 to 40% by mass with the total amount of the composition being 100% by mass, and 15 to 50 parts by mass with the total amount of the components (A) to (C) being 100 parts by mass. A photosensitive resin composition for a film-like optical waveguide.
Figure 0005115057
 (In the formula, R is —CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH (CH 3 ) —, or —CH 2 CH (OH) CH 2 —; X is —C (CH 3 ) 2 —, —CH 2 — , —O— or —SO 2 —; Y represents a hydrogen atom or a halogen atom, where n represents an integer of 0 to 4.
Figure 0005115057
 (In the formula, R represents —CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH (CH 3 ) —, or —CH 2 CH (OH) CH 2 —; Y represents a hydrogen atom, a halogen atom, or Ph—C (CH 3 ). 2- , Ph-, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, where n is an integer of 0 to 4 and Ph represents a phenyl group.

本発明のフィルム状光導波路は、高い屈折率及び優れた伝送特性（低い導波路損失）を有し、硬化収縮率が低く、パターニング性に優れる等の光導波路に要求される諸特性を維持しながら、さらに、屈曲耐久性にも優れる。   The film-like optical waveguide of the present invention maintains various properties required for an optical waveguide, such as having a high refractive index and excellent transmission characteristics (low waveguide loss), a low curing shrinkage rate, and excellent patternability. However, it is also excellent in bending durability.

まず、本発明のフィルム状光導波路の材料として用いられる感光性樹脂組成物（以下、本発明の感光性樹脂組成物ともいう。）について説明する。
本発明の感光性樹脂組成物は、成分（Ａ）〜成分（Ｃ）、及び、必要に応じて配合される他の任意成分を含む。
以下、各成分ごとに詳細に説明する。 First, the photosensitive resin composition (hereinafter also referred to as the photosensitive resin composition of the present invention) used as a material for the film-shaped optical waveguide of the present invention will be described.
The photosensitive resin composition of this invention contains the component (A) -component (C) and the other arbitrary component mix | blended as needed.
Hereinafter, each component will be described in detail.

［成分（Ａ）］
成分（Ａ）は、下記式（１）で表される構造を有する（メタ）アクリレート、及び／又は、下記式（２）で表される構造を有する（メタ）アクリレートである。下記式（１）、（２）で表される構造以外の構造を有する（メタ）アクリレートを用いた場合には、硬化物の物性、特に光導波路の用途で必要な所定の屈折率を得ることが困難となるほか、耐熱性に問題を生ずるおそれがある。

Figure 0005115057
（式中、Ｒは−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−、または−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−；Ｘは−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ２−、−Ｏ−または−ＳＯ２−；Ｙは水素原子またはハロゲン原子を表す。ただし、ｎは０〜４の整数を表す。）
Figure 0005115057
 （式中、Ｒは−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−、または−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−；Ｙは水素原子、ハロゲン原子、Ｐｈ−Ｃ（ＣＨ３）２−、Ｐｈ−、または炭素数１〜２０のアルキル基を表す。ただし、ｎは０〜４の整数、Ｐｈはフェニル基を表す。） [Component (A)]
Component (A) is (meth) acrylate having a structure represented by the following formula (1) and / or (meth) acrylate having a structure represented by the following formula (2). When (meth) acrylate having a structure other than the structures represented by the following formulas (1) and (2) is used, the physical properties of the cured product, particularly the predetermined refractive index required for the use of the optical waveguide is obtained. May become difficult and may cause problems in heat resistance.
Figure 0005115057
 (In the formula, R is —CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH (CH 3 ) —, or —CH 2 CH (OH) CH 2 —; X is —C (CH 3 ) 2 —, —CH 2 — , —O— or —SO 2 —; Y represents a hydrogen atom or a halogen atom, where n represents an integer of 0 to 4.
Figure 0005115057
 (In the formula, R represents —CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH (CH 3 ) —, or —CH 2 CH (OH) CH 2 —; Y represents a hydrogen atom, a halogen atom, or Ph—C (CH 3 ). 2- , Ph-, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, where n is an integer of 0 to 4 and Ph represents a phenyl group.

これらのうち、耐熱性の向上の観点からは、式（１）で表される構造を有するジ（メタ）アクリレートが好ましい。
式（１）で表される構造を有するジ（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、エチレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＦジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールＦエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。 Among these, from the viewpoint of improving heat resistance, di (meth) acrylate having a structure represented by the formula (1) is preferable.
Specific examples of the di (meth) acrylate having the structure represented by the formula (1) include, for example, ethylene oxide-added bisphenol A (meth) acrylate, ethylene oxide-added tetrabromobisphenol A (meth) acrylate, propylene oxide Addition bisphenol A (meth) acrylic acid ester, propylene oxide addition tetrabromobisphenol A (meth) acrylic acid ester, bisphenol A epoxy (meth) obtained by epoxy ring-opening reaction of bisphenol A diglycidyl ether and (meth) acrylic acid Tetrabromobisphenol A epoxy (meth) acrylate, bisphenol F obtained by epoxy ring-opening reaction of acrylate, tetrabromobisphenol A diglycidyl ether and (meth) acrylic acid Bisphenol F epoxy (meth) acrylate obtained by epoxy ring-opening reaction between glycidyl ether and (meth) acrylic acid, tetrabromobisphenol obtained by epoxy ring-opening reaction between tetrabromobisphenol F diglycidyl ether and (meth) acrylic acid F epoxy (meth) acrylate etc. are mentioned.

中でも、エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、エチレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールＡ（メタ）アクリル酸エステル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート等は、特に好ましく用いられる。   Among them, ethylene oxide-added bisphenol A (meth) acrylic acid ester, ethylene oxide-added tetrabromobisphenol A (meth) acrylic acid ester, bisphenol A epoxy obtained by epoxy ring-opening reaction of bisphenol A diglycidyl ether and (meth) acrylic acid ( Particularly preferred are (meth) acrylates, tetrabromobisphenol A epoxy (meth) acrylates, and the like.

式（１）で表される構造を有するジ（メタ）アクリレートの市販品としては、例えば、ビスコート＃７００、＃５４０（以上、大阪有機化学工業社製）、アロニックスＭ−２０８、Ｍ−２１０（以上、東亞合成社製）、ＮＫエステルＢＰＥ−１００、ＢＰＥ−２００、ＢＰＥ−５００、Ａ−ＢＰＥ−４（以上、新中村化学社製）、ライトエステルＢＰ−４ＥＡ、ＢＰ−４ＰＡ、エポキシエステル３００２Ｍ、３００２Ａ、３０００Ｍ、３０００Ａ（以上、共栄社化学社製）、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−５５１、Ｒ−７１２（以上、日本化薬社製）、ＢＰＥ−４、ＢＰＥ−１０、ＢＲ−４２Ｍ（以上、第一工業製薬社製）、リポキシＶＲ−７７、ＶＲ−６０、ＶＲ−９０、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０６、ＳＰ−１５０７、ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５６３（以上、昭和高分子社製）、ネオポールＶ７７９、ネオポールＶ７７９ＭＡ（日本ユピカ社製）等が挙げられる。   Examples of commercially available di (meth) acrylate having a structure represented by the formula (1) include, for example, Biscote # 700, # 540 (above, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), Aronix M-208, M-210 ( Above, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), NK ester BPE-100, BPE-200, BPE-500, A-BPE-4 (above, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), light ester BP-4EA, BP-4PA, epoxy ester 3002M , 3002A, 3000M, 3000A (above, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), KAYARAD R-551, R-712 (above, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), BPE-4, BPE-10, BR-42M (above, Daiichi Kogyo) Manufactured by Pharmaceutical Co., Ltd., Lipoxy VR-77, VR-60, VR-90, SP-1506, SP-1506, SP-1507, SP-1509, SP 1563 (manufactured by Showa High Polymer Co., Ltd.), NEOPOL V779, NEOPOL V779MA (manufactured by Japan U-PICA Co., Ltd.), and the like.

式（２）で表される構造を有するモノ（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシ−２−メチルエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、４−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、３−（２−フェニルフェニル）−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、エチレンオキシドを反応させたｐ−クミルフェノールの（メタ）アクリレート、２−ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、４−ブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４−ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，６−ジブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。   Specific examples of the mono (meth) acrylate having a structure represented by the formula (2) include, for example, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxy-2-methylethyl (meth) acrylate, phenoxyethoxyethyl (meth) acrylate, 3-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-phenylphenoxyethyl (meth) acrylate, 4-phenylphenoxyethyl (meth) acrylate, 3- (2-phenylphenyl) -2-hydroxypropyl (meth) acrylate P-cumylphenol reacted with ethylene oxide, (meth) acrylate, 2-bromophenoxyethyl (meth) acrylate, 4-bromophenoxyethyl (meth) acrylate, 2,4-dibromophenoxyethyl (meth) acrylate , 2,6-dibromo phenoxyethyl (meth) acrylate, 2,4,6-bromophenyl (meth) acrylate, 2,4,6-tribromophenoxyethyl (meth) acrylate.

中でも、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、エチレンオキシドを反応させたｐ−クミルフェノールの（メタ）アクリレート、２，４，６−トリブロモフェノキシエチル（メタ）アクリレート等は、特に好ましく用いられる。   Among them, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxyethoxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylate of p-cumylphenol reacted with ethylene oxide, 2,4,6-tribromophenoxyethyl (meth) acrylate, Particularly preferably used.

式（２）で表される構造を有するモノ（メタ）アクリレートの市販品としては、例えば、アロニックスＭ１１３、Ｍ１１０、Ｍ１０１、Ｍ１０２、Ｍ５７００、ＴＯ−１３１７（以上、東亞合成社製）、ビスコート＃１９２、＃１９３、＃２２０、３ＢＭ（以上、大阪有機化学工業社製）、ＮＫエステルＡＭＰ−１０Ｇ、ＡＭＰ−２０Ｇ（以上、新中村化学工業社製）、ライトアクリレートＰＯ−Ａ、Ｐ−２００Ａ、エポキシエステルＭ−６００Ａ（以上、共栄社化学社製）、ＰＨＥ、ＣＥＡ、ＰＨＥ−２、ＢＲ−３０、ＢＲ−３１、ＢＲ−３１Ｍ、ＢＲ−３２（以上、第一工業製薬社製）等が挙げられる。   Examples of commercially available mono (meth) acrylates having a structure represented by the formula (2) include, for example, Aronix M113, M110, M101, M102, M5700, TO-1317 (above, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), and Biscote # 192. # 193, # 220, 3BM (Osaka Organic Chemical Co., Ltd.), NK Ester AMP-10G, AMP-20G (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.), Light Acrylate PO-A, P-200A, Epoxy Ester M-600A (above, Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), PHE, CEA, PHE-2, BR-30, BR-31, BR-31M, BR-32 (above, Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) .

本発明の感光性樹脂組成物中の成分（Ａ）の配合割合は、組成物全量を１００質量％として、５３．４質量％以上である。該配合割合が５質量％以上であると、本発明の組成物を光導波路のコア部の材料として用いた場合に、より高い屈折率及びより低い導波路損失を得ることができる。
成分（Ａ）の配合割合の上限値は、８０質量％、好ましくは７０質量％である。該配合割合が８０質量％を超えると、フィルム状光導波路の形状が悪化したり、長期信頼性に問題が生じることがある等の欠点がある。 The compounding ratio of the component (A) in the photosensitive resin composition of the present invention is 53.4 % by mass or more with the total amount of the composition being 100% by mass. When the blending ratio is 5% by mass or more, a higher refractive index and a lower waveguide loss can be obtained when the composition of the present invention is used as a material for a core portion of an optical waveguide.
The upper limit of the mixing ratio of component (A), 80 wt%, preferably from 70% by mass. When the blending ratio exceeds 80% by mass, there are disadvantages such as the shape of the film-like optical waveguide is deteriorated and a problem occurs in long-term reliability.

［成分（Ｂ）］
成分（Ｂ）は、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーである。成分（Ｂ）として用いられるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、例えば、（ａ）ポリオール化合物、（ｂ）ポリイソシアネート化合物、及び（ｃ）水酸基含有（メタ）アクリレートの反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー（以下、成分（Ｂ−１）ともいう。）や、（ｂ）ポリイソシアネート化合物と（ｃ）水酸基含有（メタ）アクリレートとの反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー（以下、成分（Ｂ−２）ともいう。）が挙げられる。
まず、成分（Ｂ−１）の製造に用いられる（ａ）ポリオール化合物、（ｂ）ポリイソシアネート化合物、（ｃ）水酸基含有（メタ）アクリレート、の各々について説明する。 [Component (B)]
Component (B) is a urethane (meth) acrylate oligomer. Examples of the urethane (meth) acrylate oligomer used as the component (B) include urethane (meta) which is a reaction product of (a) a polyol compound, (b) a polyisocyanate compound, and (c) a hydroxyl group-containing (meth) acrylate. ) Acrylate oligomer (hereinafter also referred to as component (B-1)) and (b) urethane (meth) acrylate oligomer (hereinafter referred to as a reaction product of polyisocyanate compound and (c) hydroxyl group-containing (meth) acrylate). Component (B-2)).
First, each of (a) polyol compound, (b) polyisocyanate compound, and (c) hydroxyl group-containing (meth) acrylate used for the production of component (B-1) will be described.

［（ａ）ポリオール化合物］
（ａ）ポリオール化合物としては、脂肪族ポリエーテルポリオール、脂環族ポリエーテルポリオール、芳香族ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリカプロラクトンポリオール等が挙げられる。
脂肪族ポリエーテルポリオールとしては、例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、３−メチルテトラヒドロフラン、置換テトラヒドロフラン、オキセタン、置換オキセタン、テトラヒドロピラン及びオキセバンから選ばれる少なくとも１種の化合物を開環（共）重合することにより得られるもの等が挙げられる。これらの具体例としては、ポリエチレングリコール、１，２−ポリプロピレングリコール、１，３−ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、１，２−ポリブチレングリコール、ポリイソブチレングリコール、プロピレンオキサイドとテトラヒドロフランの共重合体ポリオール、エチレンオキサイドとテトラヒドロフランの共重合体ポリオール、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドの共重合体ポリオール、テトラヒドロフランと３−メチルテトラヒドロフランの共重合体ポリオール、エチレンオキサイドと１，２−ブチレンオキサイドの共重合体ポリオール等が挙げられる。
脂環族ポリエーテルポリオールとしては、例えば、水添ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールＡのブチレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールＦのエチレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールＦのプロピレンオキサイド付加ジオール、水添ビスフェノールＦのブチレンオキサイド付加ジオール、ジシクロペンタジエンのジメチロール化合物、トリシクロデカンジメタノール等が挙げられる。 [(A) Polyol compound]
(A) As a polyol compound, aliphatic polyether polyol, alicyclic polyether polyol, aromatic polyether polyol, polyester polyol, polycarbonate polyol, polycaprolactone polyol, etc. are mentioned.
Examples of the aliphatic polyether polyol include at least one selected from ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide, tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, 3-methyltetrahydrofuran, substituted tetrahydrofuran, oxetane, substituted oxetane, tetrahydropyran, and oxeban. Examples thereof include those obtained by ring-opening (co) polymerizing a compound. Specific examples thereof include polyethylene glycol, 1,2-polypropylene glycol, 1,3-polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, 1,2-polybutylene glycol, polyisobutylene glycol, copolymer polyol of propylene oxide and tetrahydrofuran. Copolymer polyols of ethylene oxide and tetrahydrofuran, copolymer polyols of ethylene oxide and propylene oxide, copolymer polyols of tetrahydrofuran and 3-methyltetrahydrofuran, copolymer polyols of ethylene oxide and 1,2-butylene oxide, etc. Can be mentioned.
Examples of the alicyclic polyether polyol include hydrogenated bisphenol A ethylene oxide addition diol, hydrogenated bisphenol A propylene oxide addition diol, hydrogenated bisphenol A butylene oxide addition diol, and hydrogenated bisphenol F ethylene oxide addition diol. And propylene oxide addition diol of hydrogenated bisphenol F, butylene oxide addition diol of hydrogenated bisphenol F, dimethylol compound of dicyclopentadiene, tricyclodecane dimethanol and the like.

脂肪族ポリエーテルポリオール及び脂環族ポリエーテルポリオールの市販品としては、ユニセーフＤＣ１１００、ユニセーフＤＣ１８００、ユニセーフＤＣＢ１１００、ユニセーフＤＣＢ１８００（以上、日本油脂社製）；ＰＰＴＧ４０００、ＰＰＴＧ２０００、ＰＰＴＧ１０００、ＰＴＧ２０００、ＰＴＧ３０００、ＰＴＧ６５０、ＰＴＧＬ２０００、ＰＴＧＬ１０００（以上、保土谷化学社製）；ＥＸＥＮＯＬ４０２０、ＥＸＥＮＯＬ３０２０、ＥＸＥＮＯＬ２０２０、ＥＸＥＮＯＬ１０２０（以上、旭硝子社製）；ＰＢＧ３０００、ＰＢＧ２０００、ＰＢＧ１０００、Ｚ３００１（以上、第一工業製薬社製）；ＡＣＣＬＡＩＭ ２２００、３２０１、４２００、６３００、８２００（以上、住化バイエルウレタン社製）；ＮＰＭＬ−２００２、３００２、４００２、８００２（以上、旭硝子社製）等が挙げられる。   As commercial products of aliphatic polyether polyol and alicyclic polyether polyol, Unisafe DC1100, Unisafe DC1800, Unisafe DCB1100, Unisafe DCB1800 (above, manufactured by NOF Corporation); PPTG4000, PPTG2000, PPTG1000, PTG2000, PTG3000, PTG650, PTGL2000, PTGL1000 (above, manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.); EXENOL4020, EXENOL3020, EXENOL2020, EXENOL1020 (above, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.); 4200, 6300, 8200 (above, manufactured by Sumika Bayer Urethane Co., Ltd.); NPML-2 02,3002,4002,8002 (above, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), and the like.

芳香族ポリエーテルポリオールとしては、例えば、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールＡのブチレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールＦのエチレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールＦのプロピレンオキサイド付加ジオール、ビスフェノールＦのブチレンオキサイド付加ジオール、ハイドロキノンのアルキレンオキサイド付加ジオール、ナフトキノンのアルキレンオキサイド付加ジオール等が挙げられる。芳香族ポリエーテルポリオールの市販品としては、ユニオールＤＡ４００、ＤＡ７００、ＤＡ１０００、ＤＢ４００、ＤＢ５３０、ＤＢ８００（以上、日本油脂社製）等が挙げられる。
ポリエステルポリオールとしては、例えば、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール等の多価アルコールと、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、フマール酸、アジピン酸、セバシン酸等の多塩基酸とを反応して得られるポリエステルポリオール等が挙げられる。市販品としては、クラポールＰ−２０１０、Ｐ−２０２０、Ｐ−２０３０、Ｐ−２０５０、Ｐ−３０５０、Ｐ−４０５０、Ｐ−１０１０、Ｐ３０１０、Ｐ４０１０、Ｎ−２０１０、ＰＭＩＰＡ、ＰＫＡ−Ａ、ＰＫＡ−Ａ２、ＰＮＡ−２０００（以上、クラレ社製）等が挙げられる。 Examples of the aromatic polyether polyol include bisphenol A ethylene oxide addition diol, bisphenol A propylene oxide addition diol, bisphenol A butylene oxide addition diol, bisphenol F ethylene oxide addition diol, bisphenol F propylene oxide addition diol, Examples include butylphenol addition diol of bisphenol F, alkylene oxide addition diol of hydroquinone, alkylene oxide addition diol of naphthoquinone, and the like. As a commercial item of aromatic polyether polyol, UNIOL DA400, DA700, DA1000, DB400, DB530, DB800 (above, manufactured by NOF Corporation) and the like can be mentioned.
Examples of the polyester polyol include ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, polypropylene glycol, tetramethylene glycol, polytetramethylene glycol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, 1,4-cyclohexanedimethanol, and 3-methyl. Polyhydric alcohols such as -1,5-pentanediol, 1,9-nonanediol, 2-methyl-1,8-octanediol, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, maleic acid, fumaric acid, adipic acid, Examples include polyester polyols obtained by reacting polybasic acids such as sebacic acid. Commercially available products include Kurapol P-2010, P-2020, P-2030, P-2050, P-3050, P-4050, P-1010, P3010, P4010, N-2010, PMIPA, PKA-A, PKA- A2, PNA-2000 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) and the like.

ポリカーボネートポリオールとしては、例えば、１，６−ヘキサン、１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール等の多価アルコールからなるポリカーボネートポリオール等が挙げられる。市販品としてはＤＮ−９８０、９８１、９８２、９８３（以上、日本ポリウレタン社製）；ＰＬＡＣＣＥＬ−ＣＤ２０５、ＣＤ−９８３、ＣＤ２２０、ＣＤ２２０ＰＬ（以上、ダイセル化学工業社製）；Ｔ−５６５１、Ｔ−５６５２（以上、旭化成社製）；クラレポリオールＣ−２０１５Ｎ、Ｃ−１０９０、Ｃ−２０５０、Ｃ−２０９０、Ｃ−３０９０、Ｃ−５０９０（以上、クラレ社製）；ＰＣ−８０００（米国ＰＰＧ社製）等が挙げられる。
ポリカプロラクトンポリオールとしては、ε−カプロラクトンと、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、１，２−ポリブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，４−ブタンジオール等のジオールとを反応させて得られるポリカプロラクトンジオール等が挙げられる。市販品としては、ＰＬＡＣＣＣＥＬ２０５、２０５ＡＬ、２１２、２１２ＡＬ、２２０、２２０ＡＬ（以上、ダイセル化学工業社製）等が挙げられる。
本発明で使用しうる他のポリオール化合物としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ポリβ−メチル−δ−バレロラクトン、ヒドロキシ末端ポリブタジエン、ヒドロキシ末端水添ポリブタジエン、ひまし油変性ポリオール、ポリジメチルシロキサンの末端ジオール化合物、ポリジメチルシロキサンカルビトール変性ポリオール等が挙げられる。
上記のポリオール化合物のうち、ポリエーテルポリオールが好ましく、アルキレンオキシ構造を有する脂肪族ポリエーテルポリオールがより好ましい。具体的には、ポリプロピレングリコール、エチレンオキサイド／プロピレンオキサイド共重合ジオール、エチレンオキサイド／１，２−ブチレンオキサイド共重合ジオール、プロピレンオキサイド／テトラヒドロフラン共重合ジオールがより好ましく、エチレンオキサイド／１，２−ブチレンオキサイド共重合ジオールが特に好ましい。
（ａ）ポリオール化合物は、単独で使用しても２種以上を併用してもよい。 Examples of the polycarbonate polyol include polycarbonate polyols composed of polyhydric alcohols such as 1,6-hexane, 1,5-pentanediol, 1,9-nonanediol, and 3-methyl-1,5-pentanediol. . As commercial products, DN-980, 981, 982, 983 (manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.); PLACEL-CD205, CD-983, CD220, CD220PL (manufactured by Daicel Chemical Industries); T-5651, T-5562 (Above, manufactured by Asahi Kasei); Kuraray polyol C-2015N, C-1090, C-2050, C-2090, C-3090, C-5090 (above, manufactured by Kuraray); PC-8000 (manufactured by PPG, USA) Etc.
As polycaprolactone polyol, ε-caprolactone, ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, polypropylene glycol, tetramethylene glycol, polytetramethylene glycol, 1,2-polybutylene glycol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol Polycaprolactone diol obtained by reacting with diols such as 1,4-cyclohexanedimethanol and 1,4-butanediol. As a commercial item, PLACC CEL205,205AL, 212,212AL, 220,220AL (above, Daicel Chemical Industries Ltd. make) etc. are mentioned.
Other polyol compounds that can be used in the present invention include ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, 1,4-cyclohexanedi Examples include methanol, poly β-methyl-δ-valerolactone, hydroxy-terminated polybutadiene, hydroxy-terminated hydrogenated polybutadiene, castor oil-modified polyol, polydimethylsiloxane-terminated diol compound, and polydimethylsiloxane carbitol-modified polyol.
Of the above polyol compounds, polyether polyols are preferable, and aliphatic polyether polyols having an alkyleneoxy structure are more preferable. Specifically, polypropylene glycol, ethylene oxide / propylene oxide copolymer diol, ethylene oxide / 1,2-butylene oxide copolymer diol, and propylene oxide / tetrahydrofuran copolymer diol are more preferable, and ethylene oxide / 1,2-butylene oxide. A copolymerized diol is particularly preferred.
(A) A polyol compound may be used independently or may use 2 or more types together.

（ａ）ポリオール化合物の数平均分子量は、好ましくは１００〜１５，０００、さらに好ましくは２００〜１４，０００、最も好ましくは３００〜１２，０００である。（ａ）ポリオール化合物の数平均分子量が１００未満であると、組成物の硬化物の常温及び低温におけるヤング率が上昇して、十分な屈曲耐久性を有するフィルム状光導波路を得ることができない。一方、数平均分子量が１５，０００を超えると、組成物の粘度が上昇し、塗布性が悪化することがある。   (A) The number average molecular weight of the polyol compound is preferably 100 to 15,000, more preferably 200 to 14,000, and most preferably 300 to 12,000. (A) When the number average molecular weight of the polyol compound is less than 100, the Young's modulus at room temperature and low temperature of the cured product of the composition is increased, and a film-like optical waveguide having sufficient bending durability cannot be obtained. On the other hand, when the number average molecular weight exceeds 15,000, the viscosity of the composition increases, and the applicability may deteriorate.

［（ｂ）ポリイソシアネート化合物］
（ｂ）ポリイソシアネート化合物としては、例えば、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、１，３−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリレンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３，３’−ジメチル−４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、３，３’−ジメチルフェニレンジイソシアネート、４，４’−ビフェニレンジイソシアネート、１，６−ヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス（４−シクロヘキシルイソシアネート）、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、１，４−ヘキサメチレンジイソシアネート、ビス（２−イソシアネートエチル）フマレート、６−イソプロピル−１，３−フェニルジイソシアネート、４−ジフェニルプロパンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート等が挙げられる。中でも、水添キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等が好ましい。
（ｂ）ポリイソシアネート化合物は、単独で使用しても２種以上を併用してもよい。 [(B) Polyisocyanate compound]
(B) Examples of the polyisocyanate compound include 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 1,4-xylylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, 3,3′-dimethyl-4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, 3,3′-dimethylphenylene diisocyanate, 4,4′-biphenylene diisocyanate, 1,6-hexane diisocyanate, isophorone diisocyanate, methylene bis (4-cyclohexyl isocyanate), 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 1,4-hexamethylene diisocyanate Examples include socyanate, bis (2-isocyanatoethyl) fumarate, 6-isopropyl-1,3-phenyl diisocyanate, 4-diphenylpropane diisocyanate, lysine diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, and tetramethylxylylene diisocyanate. It is done. Of these, hydrogenated xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate and the like are preferable.
(B) A polyisocyanate compound may be used independently or may use 2 or more types together.

［（ｃ）水酸基含有（メタ）アクリレート］
（ｃ）水酸基含有（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリロイルホスフェート、４−ヒドロキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールモノ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が挙げられる。さらにアルキルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、グリシジル（メタ）アクリレート等のグリシジル基含有化合物と（メタ）アクリル酸との付加反応により得られる化合物が挙げられる。中でも、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等は、好ましく用いられる。
（ｃ）水酸基含有（メタ）アクリレートは、単独で使用しても２種以上を併用してもよい。 [(C) Hydroxyl group-containing (meth) acrylate]
(C) Examples of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 2-hydroxy-3-phenyloxy. Propyl (meth) acrylate, 1,4-butanediol mono (meth) acrylate, 2-hydroxyalkyl (meth) acryloyl phosphate, 4-hydroxycyclohexyl (meth) acrylate, 1,6-hexanediol mono (meth) acrylate, neo Pentyl glycol mono (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, trimethylolethane di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol pen (Meth) acrylate. Furthermore, the compound obtained by addition reaction of glycidyl group containing compounds, such as alkyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, and glycidyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic acid is mentioned. Of these, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and the like are preferably used.
(C) The hydroxyl group-containing (meth) acrylate may be used alone or in combination of two or more.

上記ウレタン（メタ）アクリレートは、以下の製法１〜製法４のいずれかの方法で製造される。
製法１：ポリオール化合物、ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有（メタ）アクリレートを一括して仕込んで反応させる方法。
製法２：ポリオール化合物及びポリイソシアネート化合物を反応させ、次いで水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させる方法。
製法３：ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させ、次いでポリオール化合物を反応させる方法。
製法４：ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有（メタ）アクリレートを反応させ、次いでポリオール化合物を反応させ、最後にまた水酸基含有（メタ）アクリレート化合物を反応させる方法。
上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを構成する各原料の配合割合は、例えば、（ｃ）水酸基含有（メタ）アクリレート１モルに対して、（ａ）ポリオール化合物０．５〜２モル、（ｂ）ポリイソシアネート化合物１〜２．５モルである。 The urethane (meth) acrylate is produced by any one of the following production methods 1 to 4.
Production method 1: A method in which a polyol compound, a polyisocyanate compound and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate are charged and reacted together.
Production method 2: A method in which a polyol compound and a polyisocyanate compound are reacted and then a hydroxyl group-containing (meth) acrylate is reacted.
Production method 3: A method in which a polyisocyanate compound and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate are reacted, and then a polyol compound is reacted.
Production Method 4: A method in which a polyisocyanate compound and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate are reacted, then a polyol compound is reacted, and finally, a hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound is reacted again.
The blending ratio of each raw material constituting the urethane (meth) acrylate oligomer is, for example, (a) 0.5 to 2 mol of a polyol compound and (b) poly for 1 mol of (c) hydroxyl group-containing (meth) acrylate. It is 1-2.5 mol of isocyanate compounds.

成分（Ｂ）として、（ｂ）ポリイソシアネート化合物と（ｃ）水酸基含有（メタ）アクリレートとの反応物であるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー（成分（Ｂ−２））を用いる場合、（ｂ）ポリイソシアネート化合物及び（ｃ）水酸基含有（メタ）アクリレートの例としては、それぞれ、成分（Ｂ−１）で用いる前記（ｂ）ポリイソシアネート化合物及び（ｃ）水酸基含有（メタ）アクリレートと同様のものが挙げられる。
成分（Ｂ−２）を構成する各原料の配合割合は、例えば、（ｃ）水酸基含有（メタ）アクリレート１モルに対して、（ｂ）ポリイソシアネート化合物０．３〜０．５モルである。 When using a urethane (meth) acrylate oligomer (component (B-2)) which is a reaction product of (b) a polyisocyanate compound and (c) a hydroxyl group-containing (meth) acrylate as the component (B), Examples of the isocyanate compound and (c) hydroxyl group-containing (meth) acrylate include those similar to the (b) polyisocyanate compound and (c) hydroxyl group-containing (meth) acrylate used in component (B-1), respectively. It is done.
The mixing ratio of each raw material constituting the component (B-2) is, for example, 0.3 to 0.5 mol of (b) polyisocyanate compound with respect to 1 mol of (c) hydroxyl group-containing (meth) acrylate.

成分（Ｂ）としては、ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。
成分（Ｂ）は、屈曲耐久性の観点から、成分（Ｂ−１）を含むことが好ましい。
成分（Ｂ）中の成分（Ｂ−１）の質量割合は、好ましくは５０質量％以上、より好ましくは６０質量％以上である。
成分（Ｂ）は、塗布性の観点から、成分（Ｂ−２）を含むことが好ましい。
成分（Ｂ）中の成分（Ｂ−２）の質量割合は、好ましくは５〜５０質量％、より好ましくは５〜４０質量％である。
成分（Ｂ）の数平均分子量は、好ましくは１００〜１５，０００、より好ましくは３００〜１２，０００である。該値が１００未満では、組成物の硬化物が脆くなり、十分な屈曲耐久性を有するフィルム状光導波路を形成することが困難となる。一方、該値が１５，０００を超えると、組成物の粘度が高くなり、取り扱いが難しくなる。
本発明の感光性樹脂組成物中の成分（Ｂ）の配合割合は、組成物の全量を１００質量％として、７〜４０質量％である。該配合割合が５質量％未満では、組成物の硬化物のヤング率が上昇し、十分な屈曲耐久性を有するフィルム状光導波路を形成することが困難となる。一方、該配合割合が５０質量％を超えると、組成物の粘度が大きくなり、均一な厚みを有する硬化膜を形成することが困難となる。
また、本発明の感光性樹脂組成物において、成分（Ｂ）の配合割合は、成分（Ａ）〜成分（Ｃ）の合計量を１００質量部として、１５〜５０質量部である。成分（Ｂ）の配合割合を上記の範囲内とすることにより、十分な屈曲耐久性を有するフィルム状光導波路を形成することができる。 As a component (B), a urethane (meth) acrylate oligomer may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
The component (B) preferably contains the component (B-1) from the viewpoint of bending durability.
The mass ratio of the component (B-1) in the component (B) is preferably 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more.
The component (B) preferably contains the component (B-2) from the viewpoint of applicability.
The mass ratio of the component (B-2) in the component (B) is preferably 5 to 50 mass%, more preferably 5 to 40 mass%.
The number average molecular weight of the component (B) is preferably 100 to 15,000, more preferably 300 to 12,000. When the value is less than 100, the cured product of the composition becomes brittle, and it becomes difficult to form a film-shaped optical waveguide having sufficient bending durability. On the other hand, when the value exceeds 15,000, the viscosity of the composition becomes high and handling becomes difficult.
The mixing ratio of the components in the photosensitive resin composition of the present invention (B) is 100% by mass of the total amount of the composition is 7 to 40 mass%. When the blending ratio is less than 5% by mass, the Young's modulus of the cured product of the composition is increased, and it becomes difficult to form a film-shaped optical waveguide having sufficient bending durability. On the other hand, when the blending ratio exceeds 50% by mass, the viscosity of the composition increases, and it becomes difficult to form a cured film having a uniform thickness.
Further, in the photosensitive resin composition of the present invention, the blending ratio of the component (B), 100 parts by weight of the total amount of the components (A) ~ Component (C), 15 to 50 parts by weight. By setting the blending ratio of component (B) within the above range, a film-like optical waveguide having sufficient bending durability can be formed.

［成分（Ｃ）］
本発明の感光性樹脂組成物に用いられる成分（Ｃ）は、ラジカル性光重合開始剤である。
成分（Ｃ）の具体例としては、例えば、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、べンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４'−ジメトキシベンゾフェノン、４，４'−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド等が挙げられる。 [Component (C)]
Component (C) used in the photosensitive resin composition of the present invention is a radical photopolymerization initiator.
Specific examples of component (C) include, for example, acetophenone, acetophenone benzyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, xanthone, fluorenone, benzaldehyde, fluorene, anthraquinone, triphenyl. Amine, carbazole, 3-methylacetophenone, 4-chlorobenzophenone, 4,4'-dimethoxybenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, Michler's ketone, benzoin propyl ether, benzoin ethyl ether, benzyldimethyl ketal, 1- (4-isopropyl Phenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, thioxanthone, diethylthio Sandone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, Examples thereof include bis- (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide.

成分（Ｃ）の市販品としては、例えば、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４、３６９、６５１、５００、８１９、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１１８５０、ＣＧ２４−６１、Ｄａｒｏｃｕｒｌ１１６、１１７３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、ＬｕｃｉｒｉｎＬＲ８７２８（ＢＡＳＦ社製）、ユベクリルＰ３６（ＵＣＢ社製）等が挙げられる。
なお、成分（Ｃ）は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。 Examples of commercially available components (C) include Irgacure 184, 369, 651, 500, 819, 907, 784, 2959, CGI 1700, CGI 1750, CGI 11850, CG 24-61, Darocur 116, 1173 (above, Ciba Specialty Chemicals) Manufactured), Lucirin LR8728 (manufactured by BASF), Ubekrill P36 (manufactured by UCB) and the like.
In addition, a component (C) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

本発明の感光性樹脂組成物中の成分（Ｃ）の配合割合は、組成物の全量を１００質量％として、通常、０．０１〜１０質量％、好ましくは０．５〜７質量％である。該配合割合を１０質量％以下とすることによって、硬化特性、伝送特性、パターニング性、取り扱い性等を良好にすることができる。また、該配合割合を０．０１質量％以上とすることによって、パターニング性、硬化物の力学特性等を良好にし、また、硬化速度の低下を防止することができる。   The blending ratio of the component (C) in the photosensitive resin composition of the present invention is usually 0.01 to 10% by mass, preferably 0.5 to 7% by mass, with the total amount of the composition being 100% by mass. . By setting the blending ratio to 10% by mass or less, curing characteristics, transmission characteristics, patterning properties, handling properties, and the like can be improved. Moreover, by setting the blending ratio to 0.01% by mass or more, patterning properties, mechanical properties of the cured product, and the like can be improved, and a decrease in the curing rate can be prevented.

本発明の感光性樹脂組成物は、さらに、ラジカル重合性官能基を有するポリマーであって、数平均分子量をラジカル重合性官能基のモル数で除した値が３，０００以上であるポリマー（以下、成分（Ｄ）ともいう。）を含むことができる。
成分（Ｄ）中のラジカル重合性官能基としては、付加重合、環化重合、異性化重合、開環重合、重付加、縮合できる官能基のいずれであってもよい。好ましくは、付加重合または開環重合できる官能基であり、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、ビニルエーテルなどの不飽和二重結合を有するものや、オキシラン、オキセタン、オキソラン、チイラン、シクロヘキセンオキシド等の環状反応性基を有するもの等が挙げられる。より好ましくは（メタ）アクリロイル基である。なお、ラジカル重合性官能基は、（Ｄ）成分のポリマーの化学構造中の末端にあることが好ましい。
成分（Ｄ）のポリマー構造としては、特に限定されないが、成分（Ｄ）のガラス転移温度（Ｔｇ）が５０℃以上であることが、フィルム状光導波路の耐熱性の向上の点で好ましい。Ｔｇが５０℃以上であるポリマーの中でも、下記式（３）、（４）に示すようなポリスチレンやポリメチルメタクリレートを主構造とするポリマーが、耐熱性及び透明性（低損失）の向上の観点から特に好ましい。 The photosensitive resin composition of the present invention is further a polymer having a radical polymerizable functional group, wherein a value obtained by dividing the number average molecular weight by the number of moles of the radical polymerizable functional group is 3,000 or more (hereinafter referred to as “polymer”). , Component (D)).
The radically polymerizable functional group in component (D) may be any of functional groups capable of addition polymerization, cyclopolymerization, isomerization polymerization, ring-opening polymerization, polyaddition, and condensation. Preferred are functional groups capable of addition polymerization or ring-opening polymerization, such as those having an unsaturated double bond such as (meth) acryloyl group, vinyl group, vinyl ether, oxirane, oxetane, oxolane, thiirane, cyclohexene oxide, etc. And those having a cyclic reactive group. More preferred is a (meth) acryloyl group. In addition, it is preferable that a radically polymerizable functional group exists in the terminal in the chemical structure of the polymer of (D) component.
Although it does not specifically limit as a polymer structure of a component (D), It is preferable at the point of the heat resistant improvement of a film-form optical waveguide that the glass transition temperature (Tg) of a component (D) is 50 degreeC or more. Among polymers having a Tg of 50 ° C. or higher, polymers having a main structure of polystyrene or polymethyl methacrylate as shown in the following formulas (3) and (4) are improved in heat resistance and transparency (low loss). Is particularly preferred.

Figure 0005115057
（式中、Ｒは水素原子またはメチル基；ｎは２８以上の整数を表す。）
Figure 0005115057
 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基；ｎは３０以上の整数を表す。）
Figure 0005115057
 (In the formula, R represents a hydrogen atom or a methyl group; n represents an integer of 28 or more.)
Figure 0005115057
 (In the formula, R represents a hydrogen atom or a methyl group; n represents an integer of 30 or more.)

成分（Ｄ）（ポリマー）の数平均分子量は、好ましくは３，０００以上である。数平均分子量が３，０００未満であると、目的とする光導波路の形状が得られないことがある。
成分（Ｄ）（ポリマー）の数平均分子量の上限値は、特に限定されないが、好ましくは、５０，０００以下である。数平均分子量が５０，０００を超えると、樹脂組成物への溶解性が低下し、均一な樹脂組成物を得ることが困難になることがある。
成分（Ｄ）（ポリマー）中のラジカル重合性官能基の含有量は、当該ポリマーの数平均分子量を当該ラジカル重合性官能基のモル数で除した値が、３，０００以上、好ましくは５，０００以上となる量である。該値が３，０００未満であると、光硬化した硬化物の硬化収縮が大きくなり、光導波路の形状の精度が低下することがある。
成分（Ｄ）の市販品としては、ＡＡ−６、ＡＳ−６（以上、東亞合成社製）等が挙げられる。
なお、成分（Ｄ）は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。 The number average molecular weight of component (D) (polymer) is preferably 3,000 or more. If the number average molecular weight is less than 3,000, the desired shape of the optical waveguide may not be obtained.
Although the upper limit of the number average molecular weight of a component (D) (polymer) is not specifically limited, Preferably, it is 50,000 or less. When the number average molecular weight exceeds 50,000, the solubility in the resin composition is lowered, and it may be difficult to obtain a uniform resin composition.
The content of the radical polymerizable functional group in the component (D) (polymer) is a value obtained by dividing the number average molecular weight of the polymer by the number of moles of the radical polymerizable functional group, and is 3,000 or more, preferably 5, It is the quantity which becomes 000 or more. When the value is less than 3,000, the curing shrinkage of the photocured cured product is increased, and the accuracy of the shape of the optical waveguide may be lowered.
As a commercial item of a component (D), AA-6, AS-6 (above, Toagosei Co., Ltd. product) etc. are mentioned.
In addition, a component (D) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

本発明の感光性樹脂組成物中の成分（Ｄ）の配合割合は、組成物の全量を１００質量％として、０〜４０質量％、好ましくは０〜３０質量％である。該配合割合が４０質量％を超えると、組成物の粘度が増加して、塗工性に問題が生ずることがある。   The compounding ratio of the component (D) in the photosensitive resin composition of the present invention is 0 to 40% by mass, preferably 0 to 30% by mass, where the total amount of the composition is 100% by mass. If the blending ratio exceeds 40% by mass, the viscosity of the composition may increase, which may cause problems in coating properties.

本発明の感光性樹脂組成物は、（メタ）アクリロイル基またはビニル基を含有する、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｄ）と異なる不飽和モノマー（以下、成分（Ｅ）ともいう。）を含有することができる。このような不飽和モノマー（成分（Ｅ））としては、単官能不飽和モノマー、多官能不飽和モノマーが挙げられる。   The photosensitive resin composition of the present invention contains a (meth) acryloyl group or a vinyl group, and is an unsaturated monomer different from components (A), (B), and (D) (hereinafter also referred to as component (E)). Can be contained. Examples of such unsaturated monomers (component (E)) include monofunctional unsaturated monomers and polyfunctional unsaturated monomers.

単官能不飽和モノマーの具体例としては、例えば、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、ビニルイミダゾール、ビニルピリジン等のビニルモノマー；イソボルニル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、へキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、イソブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、ｔ−オクチル（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、７−アミノ−３，７−ジメチルオクチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、ヒドロキシブチルビルエーテル、ラウリルビニルエーテル、セチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、及び下記式（５）、（６）で表される単官能モノマー等が挙げられる。   Specific examples of the monofunctional unsaturated monomer include, for example, vinyl monomers such as N-vinylpyrrolidone, N-vinylcaprolactam, vinylimidazole, and vinylpyridine; isobornyl (meth) acrylate, bornyl (meth) acrylate, tricyclodecanyl ( (Meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 4-butylcyclohexyl (meth) acrylate, acryloylmorpholine, 2-hydroxyethyl ( (Meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) Acrylate, isopropyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, hexyl (meth) ) Acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, undecyl (meth) ) Acrylate, dodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (Meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, methoxyethylene glycol (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, methoxy Polyethylene glycol (meth) acrylate, methoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, diacetone (meth) acrylamide, isobutoxymethyl (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, t-octyl (meth) acrylamide, dimethylaminoethyl (Meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, 7-amino-3,7-dimethyloctyl (Meth) acrylate, N, N-diethyl (meth) acrylamide, N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, hydroxybutyl building ether, lauryl vinyl ether, cetyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, and the following formula (5), And monofunctional monomers represented by (6).

Figure 0005115057
（式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基；Ｒ２は炭素数２〜８のアルキレン基；ｎは１〜８の整数を表す。）
Figure 0005115057
 （式中、Ｒ１およびＲ３は各々独立して水素原子またはメチル基；Ｒ２は炭素数２〜８のアルキレン基；ｎは１〜８の整数を表す。）
Figure 0005115057
 (Wherein R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group; R 2 represents an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms; n represents an integer of 1 to 8)
Figure 0005115057
 (Wherein R 1 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group; R 2 represents an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms; n represents an integer of 1 to 8)

多官能不飽和モノマーとしては、２官能性の不飽和モノマー、３官能性以上の不飽和モノマーが挙げられる。ここで、２官能性不飽和モノマーとは、（メタ）アクリロイル基及び／又はビニル基を分子中に２つ有する不飽和モノマーであり、その具体例としては、例えば、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート等のアルキルジオールジアクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート等のポリアルキレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンメタノールジアクリレート等が挙げられる。   Examples of the polyfunctional unsaturated monomer include a bifunctional unsaturated monomer and a trifunctional or higher functional unsaturated monomer. Here, the bifunctional unsaturated monomer is an unsaturated monomer having two (meth) acryloyl groups and / or vinyl groups in the molecule, and specific examples thereof include, for example, 1,4-butanediol diene. Polyalkylene glycols such as acrylates, alkyldiol diacrylates such as 1,6-hexanediol diacrylate, 1,9-nonanediol diacrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate Examples include diacrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and tricyclodecane methanol diacrylate.

３官能性以上の不飽和モノマー、すなわち、（メタ）アクリロイル基及び／又はビニル基を３つ以上有する（メタ）アクリレートとしては、例えば、３価以上の多価アルコールの（メタ）アクリレートが挙げられる。該（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル(メタ)アクリレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールポリアクリレート等が挙げられる。
これらの不飽和モノマーは、単独でまたは２種以上を組み合せて用いることができる。 Examples of the trifunctional or higher functional unsaturated monomer, that is, (meth) acrylate having three or more (meth) acryloyl groups and / or vinyl groups include (meth) acrylates of trihydric or higher polyhydric alcohols. . Specific examples of the (meth) acrylate include, for example, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane trioxyethyl (meth) acrylate, and tris (2-acryloyloxyethyl) isocyanate. Examples thereof include nurate and pentaerythritol polyacrylate.
These unsaturated monomers can be used alone or in combination of two or more.

本発明の感光性樹脂組成物には、さらにポリウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエポキシ（メタ）アクリレート等のオリゴマーまたはポリマー、あるいは（メタ）アクリレート以外のビニル基としてビニルエーテルなどの不飽和二重結合を有するもの、オキシラン、オキセタン、オキソラン、チイラン、シクロヘキセンオキシドなどの環状反応性基を有するモノマー、オリゴマー、ポリマーを配合してもよい。   In the photosensitive resin composition of the present invention, an oligomer or polymer such as polyurethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, polyepoxy (meth) acrylate, or vinyl ether other than (meth) acrylate is used. A monomer having a saturated double bond, a monomer, an oligomer or a polymer having a cyclic reactive group such as oxirane, oxetane, oxolane, thiirane and cyclohexene oxide may be blended.

本発明の感光性樹脂組成物には、さらに光増感剤を配合することができる。
光増感剤の具体例としては、例えば、トリエチルアミン、ジエチルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、エタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等が挙げられる。
光増感剤の市販品の具体例としては、例えば、ユベクリルＰ１０２、１０３、１０４、１０５（以上、ＵＣＢ社製）等が挙げられる。 A photosensitizer can be further blended in the photosensitive resin composition of the present invention.
Specific examples of the photosensitizer include, for example, triethylamine, diethylamine, N-methyldiethanolamine, ethanolamine, 4-dimethylaminobenzoic acid, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, and 4-dimethyl. Examples thereof include isoamyl aminobenzoate.
Specific examples of commercially available photosensitizers include, for example, Ubekrill P102, 103, 104, 105 (above, manufactured by UCB).

本発明においては、上述の成分以外にも各種添加剤として、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、溶媒、フィラー、老化防止剤、濡れ性改良剤、離型剤等を必要に応じて配合することができる。   In the present invention, various additives other than the above-mentioned components include, for example, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, silane coupling agents, coating surface improvers, thermal polymerization inhibitors, leveling agents, and surface active agents. An agent, a colorant, a storage stabilizer, a plasticizer, a lubricant, a solvent, a filler, an antiaging agent, a wettability improving agent, a release agent, and the like can be blended as necessary.

ここで、酸化防止剤の市販品としては、例えば、Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０、１０３５、１０７６、１２２２（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、Ａｎｔｉｇｅｎ
Ｐ、３Ｃ、ＦＲ、ＧＡ−８０（住友化学工業社製）等が挙げられる。
紫外線吸収剤の市販品としては、例えば、Ｔｉｎｕｖｉｎ Ｐ、２３４、３２０、３２６、３２７、３２８、３２９、２１３（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、Ｓｅｅｓｏｒｂ１０２、１０３、１１０、５０１、２０２、７１２、７０４（以上、シプロ化成社製）等が挙げられる。 Here, as a commercially available product of the antioxidant, for example, Irganox 1010, 1035, 1076, 1222 (above, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), Antigen
P, 3C, FR, GA-80 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) and the like.
Examples of commercially available ultraviolet absorbers include Tinuvin P, 234, 320, 326, 327, 328, 329, 213 (above, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), Seesorb 102, 103, 110, 501, 202, 712. 704 (above, manufactured by Sipro Kasei Co., Ltd.).

光安定剤の市販品としては、例えば、Ｔｉｎｕｖｉｎ ２９２、１４４、６２２ＬＤ（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、サノールＬＳ７７０（三共社製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ ＴＭ−０６１（住友化学工業社製）等が挙げられる。
シランカップリング剤としては、例えば、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。市販品としては、ＳＨ６０６２、６０３０（以上、東レ・ダウ
コーニング・シリコーン社製）、ＫＢＥ９０３、６０３、４０３（以上、信越化学工業社製）等が挙げられる。 Examples of commercially available light stabilizers include Tinuvin 292, 144, 622LD (above, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), Sanol LS770 (manufactured by Sankyo Co., Ltd.), Sumisorb TM-061 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) Can be mentioned.
Examples of the silane coupling agent include γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, and the like. Examples of commercially available products include SH6062, 6030 (above, manufactured by Toray Dow Corning Silicone), KBE903, 603, 403 (above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and the like.

塗面改良剤としては、例えば、ジメチルシロキサンポリエーテル等のシリコーン添加剤が挙げられる。市販品としては、ＤＣ−５７、ＤＣ−１９０（以上、ダウ
コーニング社製）、ＳＨ−２８ＰＡ、ＳＨ−２９ＰＡ、ＳＨ−３０ＰＡ、ＳＨ−１９０（以上、東レ・ダウ コーニング・シリコーン社製）、ＫＦ３５１、ＫＦ３５２、ＫＦ３５３、ＫＦ３５４（以上、信越化学工業社製）、Ｌ−７００、Ｌ−７００２、Ｌ−７５００、ＦＫ−０２４−９０（以上、日本ユニカー社製）等が挙げられる。
離型剤の市販品としては、プライサーフＡ２０８Ｆ（第一工業製薬社製）等が挙げられる。 Examples of the coating surface improving agent include silicone additives such as dimethylsiloxane polyether. Commercially available products include DC-57, DC-190 (above, manufactured by Dow Corning), SH-28PA, SH-29PA, SH-30PA, SH-190 (above, manufactured by Toray Dow Corning Silicone), KF351. , KF352, KF353, KF354 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), L-700, L-7002, L-7500, FK-024-90 (manufactured by Nihon Unicar Company) and the like.
As a commercial product of a mold release agent, Plysurf A208F (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) etc. are mentioned.

本発明の感光性樹脂組成物は、前記各成分を常法により混合して製造することができる。このようにして調製される本発明の組成物の粘度は、通常、５０〜２０，０００ｃｐ／２５℃、好ましくは１００〜１０，０００ｃｐ／２５℃、より好ましくは２００〜５，０００である。該粘度が高すぎると、基板に樹脂組成物を塗布する際に、塗布ムラやうねりが生じたり、あるいはコア部の形成時に、パターニング性が悪化して目的とする形状が得られない。逆に、粘度が低すぎても、目標とする膜厚が得られにくい上に、パターニング性が悪化することがある。   The photosensitive resin composition of the present invention can be produced by mixing the above components by a conventional method. The viscosity of the composition of the present invention thus prepared is usually 50 to 20,000 cp / 25 ° C., preferably 100 to 10,000 cp / 25 ° C., more preferably 200 to 5,000. If the viscosity is too high, application unevenness and undulation will occur when the resin composition is applied to the substrate, or patterning properties will deteriorate when the core part is formed, and the desired shape will not be obtained. On the other hand, even if the viscosity is too low, it is difficult to obtain the target film thickness and the patterning property may be deteriorated.

光（放射線）によって硬化させて得られる本発明の樹脂組成物の硬化物は、好ましくは、以下の物性を有するものである。
本発明の樹脂組成物の硬化物の硬化収縮率は、９．０％以下であることが好ましく、８．０％以下であることがより好ましい。該硬化収縮率が９．０％よりも大きいと、基板からの剥離等が生じることがある。また、本樹脂組成物をコア部に用いた場合、設計どおりの形状を得られないことがある。
本発明の樹脂組成物の硬化物は、光導波路のコア部の材料として使用した場合、２５℃および波長５８９ｎｍでの屈折率が、１．５３以上であることが好ましく、１．５４以上であることがより好ましい。該屈折率が１．５３未満であると、本発明の樹脂組成物をコア部の材料として用いて光導波路を形成した場合、良好な伝送損失が得られないことがある。 The cured product of the resin composition of the present invention obtained by curing with light (radiation) preferably has the following physical properties.
The cure shrinkage of the cured product of the resin composition of the present invention is preferably 9.0% or less, and more preferably 8.0% or less. When the curing shrinkage rate is greater than 9.0%, peeling from the substrate may occur. Moreover, when this resin composition is used for a core part, the shape as designed may not be obtained.
When the cured product of the resin composition of the present invention is used as a material for a core portion of an optical waveguide, the refractive index at 25 ° C. and a wavelength of 589 nm is preferably 1.53 or more, and is 1.54 or more. It is more preferable. When the refractive index is less than 1.53, when an optical waveguide is formed using the resin composition of the present invention as a material for the core, good transmission loss may not be obtained.

本発明の樹脂組成物の硬化物は、ガラス転移温度が５０℃以上であることが好ましく、８０℃以上であることがより好ましい。該温度が５０℃未満では、光導波路の耐熱性を十分に確保できないことがある。ここで、「ガラス転移温度」は、共振型動的粘弾性測定装置において振動周波数１０Ｈｚでの損失正接が最大値を示す温度として定義される。   The cured product of the resin composition of the present invention preferably has a glass transition temperature of 50 ° C. or higher, and more preferably 80 ° C. or higher. If the temperature is less than 50 ° C., sufficient heat resistance of the optical waveguide may not be ensured. Here, the “glass transition temperature” is defined as the temperature at which the loss tangent at the vibration frequency of 10 Hz shows the maximum value in the resonance type dynamic viscoelasticity measuring apparatus.

次に、図面を適宜参照しながら、本発明のフィルム状光導波路の一例を説明する。図１は、本発明のフィルム状光導波路の一例を模式的に示す断面図、図２は、本発明のフィルム状光導波路の製造方法の一例を示すフロー図である。
［１．光導波路の構造］
図１中、フィルム状光導波路２４は、基板１０と、コア部２０と、クラッド部（下部クラッド層１２、及び上部クラッド層２２）とから構成されている。下部クラッド層１２は、基板１０の上面に積層して形成されており、この下部クラッド層１２の上面には、特定の幅を有するコア部２０が形成されている。コア部２０および下部クラッド層１２の上面には、上部クラッド層２２が積層して形成されている。なお、コア部２０は、光導波路２４の外形を形成する下部クラッド層１２および上部クラッド層２２の中に存在する。
コア部２０、下部クラッド層１２、及び上部クラッド層２２のうち少なくとも１つは、本発明の感光性樹脂組成物の硬化物からなる。特に、コア部２０が本発明の感光性樹脂組成物の硬化物からなることが、好ましい。
下部クラッド層、コア部、および上部クラッド層の厚さは、特に限定されないが、例えば、下部クラッド層の厚さが１〜２００μｍ、コア部の厚さが３〜２００μｍ、上部クラッド層の厚さが１〜２００μｍとなるように定められる。コア部の幅は、特に限定されないが、例えば、１〜２００μｍである。
コア部の屈折率は、下部クラッド層および上部クラッド層のいずれの屈折率よりも大きいものであることが必要である。例えば、波長４００〜１，６００ｎｍの光に対して、コア部の屈折率が１．４２０〜１．６５０、下部クラッド層および上部クラッド層の屈折率が１．４００〜１．６４８であり、かつ、コア部の屈折率が、２つのクラッド層のいずれの屈折率よりも少なくとも０．１％大きな値であることが好ましい。 Next, an example of the film-like optical waveguide of the present invention will be described with reference to the drawings as appropriate. FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of the film-shaped optical waveguide of the present invention, and FIG. 2 is a flow diagram showing an example of the method for producing the film-shaped optical waveguide of the present invention.
[1. Structure of optical waveguide]
In FIG. 1, the film-shaped optical waveguide 24 includes a substrate 10, a core portion 20, and cladding portions (the lower cladding layer 12 and the upper cladding layer 22). The lower clad layer 12 is formed by being laminated on the upper surface of the substrate 10, and a core portion 20 having a specific width is formed on the upper surface of the lower clad layer 12. An upper clad layer 22 is laminated on the upper surfaces of the core portion 20 and the lower clad layer 12. The core portion 20 exists in the lower cladding layer 12 and the upper cladding layer 22 that form the outer shape of the optical waveguide 24.
At least one of the core part 20, the lower clad layer 12, and the upper clad layer 22 is made of a cured product of the photosensitive resin composition of the present invention. In particular, it is preferable that the core part 20 consists of the hardened | cured material of the photosensitive resin composition of this invention.
The thicknesses of the lower cladding layer, the core portion, and the upper cladding layer are not particularly limited. For example, the thickness of the lower cladding layer is 1 to 200 μm, the thickness of the core portion is 3 to 200 μm, and the thickness of the upper cladding layer Is determined to be 1 to 200 μm. Although the width | variety of a core part is not specifically limited, For example, it is 1-200 micrometers.
The refractive index of the core portion needs to be larger than any of the refractive indexes of the lower cladding layer and the upper cladding layer. For example, for light with a wavelength of 400 to 1,600 nm, the refractive index of the core portion is 1.420 to 1.650, the refractive indexes of the lower cladding layer and the upper cladding layer are 1.400 to 1.648, and The refractive index of the core part is preferably at least 0.1% larger than the refractive index of any of the two cladding layers.

［２．フィルム状光導波路の製造方法］
フィルム状光導波路２４の製造方法は、下部クラッド層１２を形成する工程と、コア部２０を形成する工程と、上部クラッド層２２を形成する工程を含む。これらの３つの工程のうち、少なくとも１つの工程は、本発明の感光性樹脂組成物を光照射して硬化物を形成する工程である。
なお、フィルム状光導波路を構成する下部クラッド層１２、コア部２０および上部クラッド層２２の各部を形成するための組成物は、各々、便宜上、下層用組成物、コア用組成物および上層用組成物と称する。 [2. Manufacturing method of film-shaped optical waveguide]
The method for manufacturing the film-shaped optical waveguide 24 includes a step of forming the lower clad layer 12, a step of forming the core portion 20, and a step of forming the upper clad layer 22. Among these three steps, at least one step is a step of forming a cured product by irradiating the photosensitive resin composition of the present invention with light.
In addition, the composition for forming each part of the lower clad layer 12, the core part 20, and the upper clad layer 22 which comprises a film-form optical waveguide is respectively the composition for lower layers, the composition for cores, and the composition for upper layers for convenience. It is called a thing.

（１）材料の調製
下層用組成物、コア用組成物および上層用組成物の各々の成分組成は、下部クラッド層１２、コア部２０および上部クラッド層２２の各部の屈折率の関係が、光導波路に要求される条件を満足するように定められる。具体的には、屈折率の差が適宜の大きさとなるような二種または三種の感光性組成物を調製し、このうち、最も高い屈折率の硬化膜を与える感光性組成物をコア用組成物とし、他の感光性組成物を下層用組成物および上層用組成物として用いる。なお、下層用組成物と上層用組成物は、同一の感光性組成物（本発明の組成物）であることが、経済上および製造管理上、好ましい。また、コア用組成物として、本発明の組成物（ただし、下層用組成物および上層用組成物よりも屈折率の高いもの）を用いることが好ましい。 (1) Preparation of material Each component composition of the lower layer composition, the core composition, and the upper layer composition is related to the refractive index of each part of the lower clad layer 12, the core part 20, and the upper clad layer 22, and is optical. It is determined so as to satisfy the conditions required for the waveguide. Specifically, two or three types of photosensitive compositions are prepared so that the difference in refractive index is an appropriate magnitude, and among these, the photosensitive composition that gives the cured film having the highest refractive index is used as the core composition. Other photosensitive compositions are used as the lower layer composition and the upper layer composition. The lower layer composition and the upper layer composition are preferably the same photosensitive composition (the composition of the present invention) in terms of economy and production management. Moreover, it is preferable to use the composition of the present invention (however, the one having a higher refractive index than the lower layer composition and the upper layer composition) as the core composition.

（２）基板の準備
図２中の（ａ）に示すように、フィルム状光導波路を形成するための基材として、平坦な表面を有する基板または１０を用意する。この基板１０の種類としては、特に限定されないが、例えば、シリコンウェハやガラス基板、ＰＥＴフィルム、ポリイミドフィルム等を用いることができる。
（３）下部クラッド層の形成工程
基板１０の表面に、下部クラッド層１２を形成する工程である。具体的には、図２中の（ｂ）に示すように、基板１０の表面に下層用組成物（本発明の組成物）を塗布し、乾燥またはプリベークして下層用薄膜を形成する。この下層用薄膜に光を照射して硬化させ、硬化体である下部クラッド層１２を形成する。なお、下部クラッド層１２の形成工程においては、薄膜の全面に光を照射し、その全体を硬化することが好ましい。
ここで、下層用組成物の塗布方法としては、スピンコート法、ディッピング法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、カーテンコート法、グラビア印刷法、シルクスクリーン法、インクジェット法等のいずれかの方法を用いることができる。このうち、均一な厚さの下層用薄膜が得られることから、スピンコート法を採用することが好ましい。
なお、下部クラッド層の形成工程における塗布方法は、後述のコア部の形成工程や、上部クラッド層の形成工程においても同様である。 (2) Preparation of Substrate As shown in FIG. 2A, a substrate or 10 having a flat surface is prepared as a base material for forming a film-like optical waveguide. Although it does not specifically limit as a kind of this board | substrate 10, For example, a silicon wafer, a glass substrate, PET film, a polyimide film, etc. can be used.
(3) Formation process of lower clad layer In this process, the lower clad layer 12 is formed on the surface of the substrate 10. Specifically, as shown in FIG. 2B, the lower layer composition (the composition of the present invention) is applied to the surface of the substrate 10, and dried or prebaked to form the lower layer thin film. The lower layer thin film is irradiated with light and cured to form a lower cladding layer 12 that is a cured body. In the step of forming the lower clad layer 12, it is preferable to irradiate the entire surface of the thin film with light and harden the whole.
Here, as a coating method of the composition for the lower layer, any of spin coating method, dipping method, spray method, bar coating method, roll coating method, curtain coating method, gravure printing method, silk screen method, ink jet method, etc. The method can be used. Among these, since a thin film for a lower layer having a uniform thickness can be obtained, it is preferable to employ a spin coating method.
The coating method in the lower clad layer forming process is the same in the core part forming process and the upper clad layer forming process, which will be described later.

下部クラッド層を形成する際の光は、特に限定されるものではないが、通常、２００〜４５０ｎｍの紫外〜可視領域の光、好ましくは波長３６５ｎｍの紫外線を含む光が用いられる。波長２００〜４５０ｎｍでの照射は、照度が１〜１０００ｍＷ／ｃｍ2、照射量が０．０１〜５０００ｍＪ／ｃｍ2、好ましくは０．１〜１０００ｍＪ／ｃｍ2となるように行なわれて露光される。 The light for forming the lower clad layer is not particularly limited, but light in the ultraviolet to visible region of 200 to 450 nm, preferably light including ultraviolet light having a wavelength of 365 nm is usually used. Irradiation at wavelengths 200~450nm, the illuminance is 1~1000mW / cm 2, irradiation amount 0.01~5000mJ / cm 2, is preferably carried out such that the 0.1~1000mJ / cm 2 exposure .

照射する光の種類としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線等を用いることができるが、光源の工業的な汎用性から、好ましくは２００〜４００ｎｍ、特に好ましくは３６５ｎｍの波長の紫外線を含む光が好ましい。照射装置としては、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、エキシマランプなどの広い面積を同時に照射するランプ光源と、パルス、連続発光等のレーザー光源のいずれか一方又は両方の光源から、ミラー、レンズ、光ファイバーを用いて収束光を生じさせるものを用いることができる。   Visible light, ultraviolet rays, infrared rays, X-rays, α-rays, β-rays, γ-rays and the like can be used as the type of light to be irradiated, but from the industrial versatility of the light source, preferably 200 to 400 nm, particularly Preferably, light containing ultraviolet rays having a wavelength of 365 nm is preferable. As an irradiation device, for example, from a lamp light source that simultaneously irradiates a wide area such as a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a metal halide lamp, an excimer lamp, and a laser light source such as a pulse, continuous light emission, or both, What produces a converging light using a mirror, a lens, and an optical fiber can be used.

露光後に、塗膜全面が十分硬化するように、さらに加熱処理（ポストベーク）を行うことが好ましい。この加熱条件は、感光性組成物の成分組成等により異なるが、通常、３０〜３００℃、好ましくは５０〜２００℃で、例えば５分間〜７２時間の加熱時間とすればよい。
なお、下部クラッド層の形成工程における光の照射量、種類、および光（紫外線）の照射装置等は、後述するコア部の形成工程や、上部クラッド層の形成工程においても同様である。 It is preferable to further perform heat treatment (post-bake) so that the entire coating film is sufficiently cured after exposure. Although this heating condition changes with component composition etc. of the photosensitive composition, it is 30-300 degreeC normally, Preferably it is 50-200 degreeC, for example, what is necessary is just to be the heating time for 5 minutes-72 hours.
The light irradiation amount, type, and light (ultraviolet) irradiation device in the lower clad layer forming step are the same in the core portion forming step and the upper clad layer forming step, which will be described later.

（４）コア部の形成工程
次に、下部クラッド層１２上に、図２中の（ｃ）に示すように、コア用組成物を塗布し、乾燥（およびプリベーク）させてコア用薄膜１４を形成する。その後、図２中の（ｄ）に示すように、コア用薄膜１４の上面に対して、所定のパターンに従って、例えば所定のラインパターンを有するフォトマスク１８を介して光１６の照射（露光）を行う。これにより、コア用薄膜１４のうち、光が照射された箇所のみが硬化するので、それ以外の未硬化の部分を現像処理して除去することにより、図２中の（ｅ）に示すように、下部クラッド層１２上に、パターニングされた硬化膜からなるコア部２０を形成することができる。
本工程における現像処理の詳細は、次のとおりである。
現像処理は、所定のパターンに従ってパターン露光し、選択的に硬化させた薄膜に対して、硬化部分と未硬化部分との溶解性の差異を利用して、現像液を用いて未硬化部分のみの除去を行なうものである。つまり、パターン露光後、未硬化部分を除去し、かつ、硬化部分を残存させて、結果的にコア部を形成させるものである。 (4) Core Part Formation Step Next, as shown in FIG. 2C, the core composition is applied onto the lower cladding layer 12 and dried (and prebaked) to form the core thin film 14. Form. Thereafter, as shown in FIG. 2D, the upper surface of the core thin film 14 is irradiated (exposed) with light 16 through a photomask 18 having a predetermined line pattern, for example, according to a predetermined pattern. Do. As a result, only the portion irradiated with light in the core thin film 14 is cured, so that other uncured portions are developed and removed, as shown in FIG. On the lower cladding layer 12, the core part 20 made of a patterned cured film can be formed.
The details of the development processing in this step are as follows.
The development process is carried out in accordance with a predetermined pattern, and for the thin film selectively cured, using the difference in solubility between the cured portion and the uncured portion, only the uncured portion is developed using a developer. The removal is performed. That is, after pattern exposure, the uncured portion is removed and the cured portion is left, resulting in the formation of the core portion.

現像処理に用いる現像液としては、有機溶媒、あるいは水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノナンなどのアルカリ類からなるアルカリ水溶液等を用いることができる。
なお、現像液としてアルカリ水溶液を用いる場合、その濃度は、通常０．０５〜２５質量％、好ましくは０．１〜３．０質量％である。また、アルカリ水溶液に、メタノール、エタノールなどの水溶性有機溶媒や界面活性剤などを適当量加えて、現像液として使用することも好ましい。
現像時間は、通常３０〜６００秒間である。現像方法としては、液盛り法、ディッピング法、シャワー現像法などの公知の方法を採用することができる。
現像液として有機溶媒を用いた場合は、そのまま風乾することにより、また、現像液としてアルカリ水溶液を用いた場合は、流水洗浄を例えば３０〜９０秒間行った後、圧縮空気や圧縮窒素等で風乾することによって、有機溶媒または水分が除去されて、パターン状の薄膜が形成される。
パターン状の薄膜（パターニング部）の形成後、このパターニング部をさらに硬化させるために、ホットプレートやオーブンなどの加熱装置を用いて、例えば３０〜２００℃の温度で５〜６００分間ポストベーク処理すれば、硬化体であるコア部２０が形成される。 As the developer used for the development processing, an organic solvent, or sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium silicate, sodium metasilicate, ammonia, ethylamine, n-propylamine, diethylamine, di-n-propylamine, Triethylamine, methyldiethylamine, N-methylpyrrolidone, dimethylethanolamine, triethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, choline, pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7- An alkaline aqueous solution composed of alkalis such as undecene and 1,5-diazabicyclo [4.3.0] -5-nonane can be used.
In addition, when using aqueous alkali solution as a developing solution, the density | concentration is 0.05-25 mass% normally, Preferably it is 0.1-3.0 mass%. Moreover, it is also preferable to add an appropriate amount of a water-soluble organic solvent such as methanol or ethanol, a surfactant or the like to the alkaline aqueous solution and use it as a developer.
The development time is usually 30 to 600 seconds. As a developing method, a known method such as a liquid piling method, a dipping method, or a shower developing method can be employed.
When an organic solvent is used as the developer, it is directly air-dried. When an alkaline aqueous solution is used as the developer, it is washed with running water, for example, for 30 to 90 seconds, and then air-dried with compressed air or compressed nitrogen. By doing so, the organic solvent or moisture is removed, and a patterned thin film is formed.
After the formation of the patterned thin film (patterning portion), in order to further cure the patterning portion, a post baking process is performed using a heating device such as a hot plate or an oven at a temperature of 30 to 200 ° C. for 5 to 600 minutes, for example. In this case, the core part 20 that is a cured body is formed.

本工程において、所定のパターンに従って光の照射を行う方法としては、光の透過部と非透過部とからなるフォトマスク１８を用いる方法に限られず、例えば、以下に示すａ〜ｃの方法のいずれかを採用してもよい。
ａ．液晶表示装置と同様の原理を利用して、所定のパターンに従って光透過領域と光不透過領域とからなるマスク像を電気光学的に形成する手段を利用する方法。
ｂ．多数の光ファイバーを束ねてなる導光部材を用い、この導光部材における所定のパターンに対応する光ファイバーを介して光を照射する方法。
ｃ．レーザ光、あるいはレンズ、ミラー等の集光性光学系により得られる収束性の光を、走査させながら感光性樹脂組成物に照射する方法。 In this step, the method of irradiating light according to a predetermined pattern is not limited to the method using the photomask 18 composed of a light transmitting portion and a non-transmitting portion, and for example, any of the methods a to c shown below May be adopted.
a. A method using electro-optical means for forming a mask image composed of a light transmitting region and a light non-transmitting region in accordance with a predetermined pattern using the same principle as that of a liquid crystal display device.
b. A method of irradiating light through an optical fiber corresponding to a predetermined pattern in the light guide member using a light guide member formed by bundling a large number of optical fibers.
c. A method of irradiating a photosensitive resin composition while scanning a laser beam or convergent light obtained by a condensing optical system such as a lens or a mirror.

（５）上部クラッド層の形成工程
コア部２０および下部クラッド層１２の表面に、上層用組成物を塗布し、乾燥またはプリベークさせて上層用薄膜を形成する。この上層用薄膜に対し、光を照射して硬化させると、図２中の（ｆ）に示すように上部クラッド層２２が形成される。上部クラッド層２２は、必要に応じて、さらに上述の下部クラッド層の形成工程と同様なポストベークを行なうことが好ましい。ポストベークを行なえば、大きな硬度および優れた耐熱性を有する上部クラッド層２２が得られる。必要に応じて、基板１０を剥離して使用することもできる（図２中の（ｇ））。 (5) Formation process of upper clad layer The upper layer composition is applied to the surfaces of the core part 20 and the lower clad layer 12, and dried or prebaked to form an upper layer thin film. When the upper thin film is cured by irradiation with light, an upper cladding layer 22 is formed as shown in FIG. The upper clad layer 22 is preferably post-baked in the same manner as in the above-described lower clad layer forming step, if necessary. If post-baking is performed, the upper clad layer 22 having large hardness and excellent heat resistance can be obtained. If necessary, the substrate 10 can be peeled off and used ((g) in FIG. 2).

以下、本発明を実験例に基いて具体的に説明する。ただし、本発明は、これらの実験例（実施例）によって限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載の範囲内において種々の実施形態の変更が可能である。
［材料の用意］
成分（Ａ）〜（Ｅ）として、以下の材料を用意した。
［成分（Ａ）］
Ｖｉｓ＃７００：大阪有機化学工業社製ビスコート７００；ビスフェノールＡポリエトキシジアクリレート
ＢＲ−３１：第一工業製薬社製ニューフロンティアＢＲ−３１；トリブロモフェノキシエチルアクリレート
［成分（Ｂ）］
攪拌機を備えた反応容器に、トリレンジイソシアネート２５．２質量部、数平均分子量が８００のポリオキシプロピレンビスフェノールＡエーテル５７．９質量部、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．０１質量部を仕込み、５〜１０℃に冷却した。撹拌しながらジラウリル酸ジ−ｎ−ブチル錫０．０５質量部を加え、温度が３０℃以下に保たれるように調整しながら２時間撹拌した後、５０℃まで昇温しさらに２時間撹拌した。続いて、３０℃まで降温した後、２−ヒドロキシエチルアクリレート１６．８質量部（以上の合計量１００質量部）を滴下し、滴下終了後、室温で１時間反応させ、さらに６５℃まで昇温し２時間反応させた。残留イソシアネートが０．１質量％以下になった時を反応終了とし、化合物Ｂ−１を得た。
同様の方法にて化合物Ｂ−２を得た。
化合物Ｂ−１、Ｂ−２の製造に用いた原料名及び配合量を、表１に示す。 Hereinafter, the present invention will be specifically described based on experimental examples. However, the present invention is not limited to these experimental examples (examples), and various modifications can be made within the scope of the claims.
[Preparation of materials]
The following materials were prepared as components (A) to (E).
[Component (A)]
Vis # 700: Osaka Organic Chemical Co., Ltd. Biscoat 700; Bisphenol A polyethoxydiacrylate BR-31: Daiichi Kogyo Seiyaku New Frontier BR-31; Tribromophenoxyethyl acrylate [Component (B)]
In a reaction vessel equipped with a stirrer, 25.2 parts by mass of tolylene diisocyanate, 57.9 parts by mass of polyoxypropylene bisphenol A ether having a number average molecular weight of 800, 2,6-di-t-butyl-p-cresol 01 parts by mass was charged and cooled to 5 to 10 ° C. While stirring, 0.05 parts by mass of di-n-butyltin dilaurate was added and the mixture was stirred for 2 hours while adjusting the temperature to be kept at 30 ° C. or lower, and then the temperature was raised to 50 ° C. and further stirred for 2 hours. . Subsequently, after the temperature was lowered to 30 ° C., 16.8 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate (total amount of 100 parts by mass above) was added dropwise, and after completion of the addition, the mixture was reacted at room temperature for 1 hour and further heated to 65 ° C. And reacted for 2 hours. The reaction was terminated when the residual isocyanate was 0.1% by mass or less, and Compound B-1 was obtained.
Compound B-2 was obtained in the same manner.
Table 1 shows the raw material names and amounts used for the production of compounds B-1 and B-2.

Figure 0005115057
Figure 0005115057

［成分（Ｃ）］
Ｉｒｇ１８４：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の「Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４」（商品名）；１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
［成分（Ｄ）］
ＡＳ−６：東亞合成社製の「マクロマーＡＳ−６」（商品名）；一般式（３）で表されるポリマー（数平均分子量６，０００、ガラス転移温度１００℃）
［成分（Ｅ）］
アクリロイルモルフォリン：興人社製
ＩＢＸＭＡ：大阪有機化学工業社製の「ＩＢＸＭＡ」（商品名）；イソボルニルメタクリレート [Component (C)]
Irg184: “Irgacure 184” (trade name) manufactured by Ciba Specialty Chemicals; 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone [component (D)]
AS-6: “Macromer AS-6” (trade name) manufactured by Toagosei Co., Ltd .; polymer represented by the general formula (3) (number average molecular weight 6,000, glass transition temperature 100 ° C.)
[Component (E)]
Acryloyl morpholine: IBXMA manufactured by Kojin Co., Ltd .: “IBXMA” (trade name) manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd .; isobornyl methacrylate

［実施例１、２、比較例１、２］
表２に記載の配合割合で、各成分を仕込み、液温を５０〜６０℃に制御しながら１時間攪拌し、液状硬化性組成物を得た。得られた液状硬化性組成物の各種物性を、以下の方法によって評価した。 [Examples 1 and 2, Comparative Examples 1 and 2]
Each component was charged at the blending ratio shown in Table 2, and stirred for 1 hour while controlling the liquid temperature at 50 to 60 ° C. to obtain a liquid curable composition. Various physical properties of the obtained liquid curable composition were evaluated by the following methods.

［屈折率］
アプリケーターを用いて、ＰＥＴフィルム上に樹脂組成物を７０μｍ厚になるように塗布して樹脂組成物層を形成させた後、窒素雰囲気下、コンベア式ＵＶ照射装置を用いて、１．０Ｊ／ｃｍ２の紫外線を樹脂組成物層に照射した。硬化膜をＰＥＴフィルムから剥離し、アッベ屈折計を用いて、２５℃におけるＤ線（５８９ｎｍ）での屈折率を測定した。
［ガラス転移温度］
アプリケーターを用いて、ガラス基板上に樹脂組成物を６０μｍ厚になるように塗布して樹脂組成物層を形成させた後、窒素雰囲気下、コンベア式ＵＶ照射装置を用いて、１．０Ｊ／ｃｍ２の紫外線を樹脂組成物層に照射し、硬化膜を得た。次いで、共振型動的粘弾性測定装置を用いて、振動周波数１０Ｈｚの振動を与えながら、この硬化膜の損失正接の温度依存性を測定した。得られた損失正接の最大値を示す温度をガラス転移温度とした。
［硬化収縮率］
比重瓶を用いて２３℃での樹脂組成物の液密度（Ｄ１）を測定した。続いて、上記作製条件にて厚さ１２０μｍの硬化膜を作製し、２３℃、５０％の恒温恒湿器中で２４時間放置した。その後、２０ｍｍ角の大きさに切り、試験片の重量（Ｗ１）、及び２５℃での蒸留水中での重量（Ｗ２）を測定し、下式：
フィルム密度＝［Ｗ１／（Ｗ１−Ｗ２）］×０．９９７１
からフィルム密度（Ｄ２）を算出した。Ｄ１、Ｄ２を用いて、下式：
硬化収縮率＝［１−（Ｄ１／Ｄ２）］×１００
から硬化収縮率（％）を算出した。 [Refractive index]
Using an applicator, the resin composition was applied on a PET film so as to have a thickness of 70 μm to form a resin composition layer, and then in a nitrogen atmosphere, 1.0 J / cm using a conveyor-type UV irradiation device. The ultraviolet ray of 2 was applied to the resin composition layer. The cured film was peeled off from the PET film, and the refractive index at D line (589 nm) at 25 ° C. was measured using an Abbe refractometer.
[Glass-transition temperature]
Using an applicator, the resin composition was applied to a glass substrate to a thickness of 60 μm to form a resin composition layer, and then, in a nitrogen atmosphere, 1.0 J / cm using a conveyor-type UV irradiation device. A cured film was obtained by irradiating the resin composition layer with ultraviolet ray 2 . Next, the temperature dependence of the loss tangent of the cured film was measured using a resonance type dynamic viscoelasticity measuring apparatus while applying vibration with a vibration frequency of 10 Hz. The temperature at which the maximum loss tangent was obtained was taken as the glass transition temperature.
[Curing shrinkage]
The liquid density (D1) of the resin composition at 23 ° C. was measured using a specific gravity bottle. Subsequently, a cured film having a thickness of 120 μm was produced under the production conditions described above, and left for 24 hours in a constant temperature and humidity chamber at 23 ° C. and 50%. Then, it cut | disconnects to a 20 square mm magnitude | size, the weight (W1) of a test piece, and the weight (W2) in distilled water at 25 degreeC are measured, and the following Formula:
Film density = [W1 / (W1-W2)] × 0.9971
From this, the film density (D2) was calculated. Using D1 and D2, the following formula:
Curing shrinkage = [1- (D1 / D2)] × 100
From the above, the cure shrinkage (%) was calculated.

［パターニング性］
スピンコーターを用いて、回転数および時間を調整しながら、４インチのシリコンウエファ基板上に樹脂組成物を５０μｍ厚になるように塗布して樹脂組成物層を形成させた後、空気雰囲気下、１．０Ｊ／ｃｍ２の紫外線を、５０μｍ幅の分岐のない直線形状を有するフォトマスクを介して、マスクアライナーから樹脂組成物層に照射した。次いで、アセトンを用いて、樹脂組成物層を３分間現像処理した後、７０℃に設定したオーブン中で基板を１０分間加温した。
得られたパターンを光学顕微鏡にて観察し、目的のコア形状（５０μｍ±２μｍ）の範囲内の形状が得られた場合を「○」、形状が変形していたり、５０±２μｍの範囲を外れる形状が得られた場合を「×」とした。
［伝送特性］
スピンコーターを用いて、回転数および時間を調整しながら、４インチのシリコンウエファ基板上にＥｌｅｃｔｒｏ−Ｌｉｔｅ社製ＥＬＣ２５００ｃｌｅａｒ（液屈折率ｎＤ ２５＝１．５２）を５０μｍ厚になるように塗布した後、当該塗布層に、空気雰囲気下、１．０Ｊ／ｃｍ２の紫外線をマスクアライナーから照射した。次いで、スピンコーターを用いて、基板上に樹脂組成物を５０μｍ厚になるように塗布した後、空気雰囲気下、１．０Ｊ／ｃｍ２の紫外線を、５０μｍ幅の分岐のない直線形状を有するフォトマスクを介して当該塗布層に照射した。アセトンを用いて、照射後の塗布層を３分間現像処理した後、７０℃に設定したオーブン中で基板を１０分間加温した。さらに、この基板上にＥｌｅｃｔｒｏ−Ｌｉｔｅ社製ＥＬＣ２５００ｃｌｅａｒを５０μｍ厚になるように再び塗布した後、紫外線を基板に照射して、直線状のコアラインを有するチャネル導波路を得た。
本導波路の端面をへき開にてカットした後、マルチモードファイバ（５０μｍ径）を介して８５０ｎｍの光を挿入し、カットバック法により導波路損失を測定した。カットバックは、導波路長５ｃｍから１ｃｍ刻みに４点測定して行なった。得られた光強度を導波路長に関してプロットし、その傾きから損失値を算出した。得られた損失値が０．５ｄＢ／ｃｍ以下であるときを「○」、それよりも高いときを「×」として評価した。 [Patternability]
Using a spin coater, while adjusting the number of revolutions and time, a resin composition was applied on a 4-inch silicon wafer substrate to a thickness of 50 μm to form a resin composition layer. The resin composition layer was irradiated from the mask aligner with 1.0 J / cm 2 ultraviolet rays through a photomask having a straight line shape with no branching of 50 μm width. Next, the resin composition layer was developed for 3 minutes using acetone, and then the substrate was heated in an oven set at 70 ° C. for 10 minutes.
When the obtained pattern is observed with an optical microscope and the shape within the range of the target core shape (50 μm ± 2 μm) is obtained, “◯”, the shape is deformed or out of the range of 50 ± 2 μm The case where the shape was obtained was designated as “x”.
[Transmission characteristics]
Using a spin coater, ELC 2500clear (liquid refractive index n D 25 = 1.52) manufactured by Electro-Lite was applied to a 4-inch silicon wafer substrate so as to have a thickness of 50 μm while adjusting the rotation speed and time. Thereafter, the coating layer was irradiated with 1.0 J / cm 2 of ultraviolet light from a mask aligner in an air atmosphere. Next, after applying the resin composition to the substrate to a thickness of 50 μm using a spin coater, 1.0 J / cm 2 of ultraviolet light is applied in an air atmosphere to form a photogram having a straight shape with no branching of 50 μm width. The coating layer was irradiated through a mask. After developing the irradiated coating layer for 3 minutes using acetone, the substrate was heated in an oven set at 70 ° C. for 10 minutes. Furthermore, after applying ELC2500clear made by Electro-Lite to a thickness of 50 μm on the substrate, the substrate was irradiated with ultraviolet rays to obtain a channel waveguide having a linear core line.
After the end face of this waveguide was cut by cleavage, light of 850 nm was inserted through a multimode fiber (50 μm diameter), and the waveguide loss was measured by the cutback method. Cutback was performed by measuring four points in steps of 1 cm from a waveguide length of 5 cm. The obtained light intensity was plotted with respect to the waveguide length, and the loss value was calculated from the slope. When the obtained loss value was 0.5 dB / cm or less, “◯” was evaluated, and when the loss value was higher than that, “×” was evaluated.

［屈曲耐久性］
ＰＥＴフィルム上に樹脂組成物をアプリケーターを用いて７０μｍ厚になるように塗布した後、空気雰囲気下、１．０Ｊ／ｃｍ２の紫外線を照射した。硬化膜をＰＥＴフィルムから剥離し、幅１ｃｍ、長さ１０ｃｍ、厚み７０μｍのフィルムとした。この導波路フィルムを温度２３℃、湿度５０％の条件下で半径２ｍｍの金属棒に巻きつけた時に、クラックまたは破断が発生しない場合を「○」とし、発生する場合を「×」とした。 [Bending durability]
The resin composition was applied onto a PET film so as to have a thickness of 70 μm using an applicator, and then irradiated with 1.0 J / cm 2 of ultraviolet rays in an air atmosphere. The cured film was peeled from the PET film to obtain a film having a width of 1 cm, a length of 10 cm, and a thickness of 70 μm. When this waveguide film was wound around a metal rod having a radius of 2 mm under the conditions of a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50%, the case where no crack or rupture occurred was indicated as “◯”, and the case where it occurred was indicated as “X”.

Figure 0005115057
Figure 0005115057

表２から、本発明の感光性樹脂組成物によると、高い屈折率、優れた伝送特性、低い硬化収縮率、優れたパターニング性を有し、さらには屈曲耐久性にも優れた光導波路を形成し得ることがわかる（実施例１、２）。一方、成分（Ｂ）を含まない比較例１、２では、屈曲耐久性が劣ることがわかる。   From Table 2, according to the photosensitive resin composition of the present invention, an optical waveguide having a high refractive index, excellent transmission characteristics, a low curing shrinkage rate, excellent patterning properties and excellent bending durability is formed. (Examples 1 and 2). On the other hand, it can be seen that Comparative Examples 1 and 2 not containing the component (B) have poor bending durability.

本発明のフィルム状光導波路の一例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically an example of the film-form optical waveguide of this invention. 本発明のフィルム状光導波路の製造方法の一例を示すフロー図である。It is a flowchart which shows an example of the manufacturing method of the film-form optical waveguide of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

１０ 基板
１２ 下部クラッド層
１４ コア用薄膜
１６ 光
１８ フォトマスク
２０ コア部
２２ 上部クラッド層
２４ フィルム状光導波路 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Substrate 12 Lower clad layer 14 Core thin film 16 Light 18 Photomask 20 Core part 22 Upper clad layer 24 Film-like optical waveguide

Claims (4)

コア部及びクラッド部を有するフィルム状光導波路であって、上記コア部及び上記クラッド部のいずれか又は両方が、（Ａ）下記式（１）で表される構造を有する（メタ）アクリレート及び／又は下記式（２）で表される構造を有する（メタ）アクリレート、（Ｂ）ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、及び（Ｃ）ラジカル性光重合開始剤、を含有し、成分（Ａ）の配合割合が、組成物全量を１００質量％として、５３．４〜８０質量％であり、成分（Ｂ）の配合割合が、組成物全量を１００質量％として、７〜４０質量％で、かつ、成分（Ａ）〜成分（Ｃ）の合計量を１００質量部として、１５〜５０質量部である感光性樹脂組成物の硬化物からなることを特徴とするフィルム状光導波路。
Figure 0005115057
 （式中、Ｒは−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−、または−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−；Ｘは−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ２−、−Ｏ−または−ＳＯ２−；Ｙは水素原子またはハロゲン原子を表す。ただし、ｎは０〜４の整数を表す。）
Figure 0005115057
 （式中、Ｒは−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−、または−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−；Ｙは水素原子、ハロゲン原子、Ｐｈ−Ｃ（ＣＨ３）２−、Ｐｈ−、または炭素数１〜２０のアルキル基を表す。ただし、ｎは０〜４の整数、Ｐｈはフェニル基を表す。） A film-shaped optical waveguide having a core part and a clad part, wherein either or both of the core part and the clad part have (A) a (meth) acrylate having a structure represented by the following formula (1) and / or Or (meth) acrylate having a structure represented by the following formula (2), (B) urethane (meth) acrylate oligomer, and (C) radical photopolymerization initiator, and the blending ratio of component (A) However, when the total amount of the composition is 100% by mass, it is 53.4-80% by mass, the blending ratio of the component (B) is 7-40% by mass with the total amount of the composition being 100% by mass, and the component ( A film-shaped optical waveguide comprising a cured product of a photosensitive resin composition having a total amount of A) to component (C) of 100 to 50 parts by mass and 15 to 50 parts by mass .
Figure 0005115057
 (In the formula, R is —CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH (CH 3 ) —, or —CH 2 CH (OH) CH 2 —; X is —C (CH 3 ) 2 —, —CH 2 — , —O— or —SO 2 —; Y represents a hydrogen atom or a halogen atom, where n represents an integer of 0 to 4.
Figure 0005115057
 (In the formula, R represents —CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH (CH 3 ) —, or —CH 2 CH (OH) CH 2 —; Y represents a hydrogen atom, a halogen atom, or Ph—C (CH 3 ). 2- , Ph-, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, where n is an integer of 0 to 4 and Ph represents a phenyl group. 成分（Ｂ）が、（ａ）ポリオール化合物、（ｂ）ポリイソシアネート化合物、及び（ｃ）水酸基含有（メタ）アクリレートの反応生成物、及び／又は、（ｂ）ポリイソシアネート化合物と（ｃ）水酸基含有（メタ）アクリレートとの反応生成物、を含有する請求項１に記載のフィルム状光導波路。   Component (B) is a reaction product of (a) a polyol compound, (b) a polyisocyanate compound, and (c) a hydroxyl group-containing (meth) acrylate, and / or (b) a polyisocyanate compound and (c) a hydroxyl group. The film-form optical waveguide of Claim 1 containing the reaction product with (meth) acrylate. 成分（Ｂ）の数平均分子量が１００〜１５，０００である請求項１または２に記載のフィルム状光導波路。   The film-shaped optical waveguide according to claim 1 or 2, wherein the component (B) has a number average molecular weight of 100 to 15,000. （Ａ）下記式（１）で表される構造を有する（メタ）アクリレート及び／又は下記式（２）で表される構造を有する（メタ）アクリレート、（Ｂ）ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、及び（Ｃ）ラジカル性光重合開始剤、を含有し、成分（Ａ）の配合割合が、組成物全量を１００質量％として、５３．４〜８０質量％であり、成分（Ｂ）の配合割合が、組成物全量を１００質量％として、７〜４０質量％で、かつ、成分（Ａ）〜成分（Ｃ）の合計量を１００質量部として、１５〜５０質量部であることを特徴とするフィルム状光導波路用感光性樹脂組成物。
Figure 0005115057
 （式中、Ｒは−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−、または−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−；Ｘは−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ２−、−Ｏ−または−ＳＯ２−；Ｙは水素原子またはハロゲン原子を表す。ただし、ｎは０〜４の整数を表す。）
Figure 0005115057
 （式中、Ｒは−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−、または−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−；Ｙは水素原子、ハロゲン原子、Ｐｈ−Ｃ（ＣＨ３）２−、Ｐｈ−、または炭素数１〜２０のアルキル基を表す。ただし、ｎは０〜４の整数、Ｐｈはフェニル基を表す。） (A) (meth) acrylate having a structure represented by the following formula (1) and / or (meth) acrylate having a structure represented by the following formula (2), (B) urethane (meth) acrylate oligomer, and (C) a radical photopolymerization initiator, the blending ratio of the component (A) is 53.4 to 80% by weight, with the total amount of the composition being 100% by weight, and the blending ratio of the component (B) is , 100% by mass of the total composition, with 7-40 wt%, and 100 parts by weight of the total amount of the components (a) ~ component (C), characterized in that 15 to 50 parts by weight the film Jo waveguide photosensitive resin composition.
Figure 0005115057
 (In the formula, R is —CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH (CH 3 ) —, or —CH 2 CH (OH) CH 2 —; X is —C (CH 3 ) 2 —, —CH 2 — , —O— or —SO 2 —; Y represents a hydrogen atom or a halogen atom, where n represents an integer of 0 to 4.
Figure 0005115057
 (In the formula, R represents —CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH (CH 3 ) —, or —CH 2 CH (OH) CH 2 —; Y represents a hydrogen atom, a halogen atom, or Ph—C (CH 3 ). 2- , Ph-, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, where n is an integer of 0 to 4 and Ph represents a phenyl group.
JP2007172621A 2007-06-29 2007-06-29 Film-shaped optical waveguide and photosensitive resin composition for film-shaped optical waveguide Expired - Fee Related JP5115057B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007172621A JP5115057B2 (en) 2007-06-29 2007-06-29 Film-shaped optical waveguide and photosensitive resin composition for film-shaped optical waveguide

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007172621A JP5115057B2 (en) 2007-06-29 2007-06-29 Film-shaped optical waveguide and photosensitive resin composition for film-shaped optical waveguide

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009009060A JP2009009060A (en) 2009-01-15
JP5115057B2 true JP5115057B2 (en) 2013-01-09

Family

ID=40324162

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007172621A Expired - Fee Related JP5115057B2 (en) 2007-06-29 2007-06-29 Film-shaped optical waveguide and photosensitive resin composition for film-shaped optical waveguide

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5115057B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5321077B2 (en) * 2009-01-19 2013-10-23 住友ベークライト株式会社 Optical waveguide and optical waveguide module

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3801899B2 (en) * 2001-10-19 2006-07-26 日本化薬株式会社 Resin composition, resin composition for optical waveguide and cured product thereof
JP4222120B2 (en) * 2002-10-07 2009-02-12 Ｊｓｒ株式会社 Photosensitive resin composition for optical waveguide formation and optical waveguide
JP4151508B2 (en) * 2003-08-05 2008-09-17 Ｊｓｒ株式会社 Photosensitive resin composition for optical waveguide and optical waveguide
JP2006058831A (en) * 2004-03-29 2006-03-02 Jsr Corp Photosensitive resin composition for optical waveguide and optical waveguide
JP4840586B2 (en) * 2005-09-29 2011-12-21 Ｊｓｒ株式会社 Photosensitive resin composition for optical waveguide, optical waveguide and method for producing the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP2009009060A (en) 2009-01-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1772754B1 (en) Radiation-sensitive resin composition for optical waveguides, optical waveguide, and method for manufacturing optical waveguide
JP3982377B2 (en) Photocurable resin composition and optical member
US20050256219A1 (en) Photocurable resin composition and optical component
JP4518089B2 (en) Photosensitive resin composition for optical waveguide, dry film, optical waveguide and method for producing the same
JP2001200022A (en) Photocurable resin composition and optical member
JP4840586B2 (en) Photosensitive resin composition for optical waveguide, optical waveguide and method for producing the same
JP2000344845A (en) Photo-setting resin composition and optical member
JP2006058831A (en) Photosensitive resin composition for optical waveguide and optical waveguide
JP4222120B2 (en) Photosensitive resin composition for optical waveguide formation and optical waveguide
JP4385818B2 (en) Photosensitive resin composition and optical waveguide
JP5309992B2 (en) Dry film for forming optical waveguide, optical waveguide and method for producing the same
JP4935648B2 (en) Film optical waveguide
JP5327053B2 (en) Film optical waveguide
JP2009156998A (en) Radiation-curable resin composition for optical member and optical member
JP5115057B2 (en) Film-shaped optical waveguide and photosensitive resin composition for film-shaped optical waveguide
JP2009157125A (en) Film-like optical waveguide
JP4893934B2 (en) Manufacturing method of optical waveguide film
JP4552306B2 (en) Photocurable resin composition and optical member
JP2002220550A (en) Curable resin composition for coating optical fiber and cured product thereof
JP4682955B2 (en) Manufacturing method of optical waveguide
JP2006348198A (en) Photo-curing resin composition and prism lens sheet
JP4360252B2 (en) Photosensitive resin composition for optical waveguide formation, and optical waveguide formed using the same
JP4151508B2 (en) Photosensitive resin composition for optical waveguide and optical waveguide
JP2008164854A (en) Film-like light waveguide
JP2008116971A (en) Optical waveguide

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100127

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110610

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110614

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110811

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120918

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20121001

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151026

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151026

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees