JP5312600B2 - Slurry pump and slurry pump operating method - Google Patents
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Description
本発明は、タンクや水槽などに貯留された汚泥や半固形または懸濁した結晶等の固形物を含むスラリー(懸濁液)を汲み上げるスラリーポンプおよびスラリーポンプの運転方法に関する。 The present invention relates to a slurry pump for pumping slurry (suspension) containing sludge, semi-solid or suspended solids such as crystals stored in a tank or a water tank, and a method for operating the slurry pump.
近年、コンピュータやテレビなどの家電製品の表示部として、液晶表示パネルが広く用いられている。液晶表示パネルは、一般には薄膜トランジスタ(TFT)アレイ基板とカラーフィルタ(CF)基板とからなる一対のガラス基板が所定の間隔を置いて平行に対向配置され、両基板間に液晶が充填された構成をなしている。 In recent years, liquid crystal display panels have been widely used as display units for home appliances such as computers and televisions. In general, a liquid crystal display panel has a configuration in which a pair of glass substrates, each composed of a thin film transistor (TFT) array substrate and a color filter (CF) substrate, are arranged opposite to each other in parallel at a predetermined interval, and liquid crystal is filled between the substrates. I am doing.
TFTアレイ基板には複数の画素電極がマトリクス状に形成され、CF基板にはほぼ全面に共通電極が形成されており、これら電極間に印加する電圧を変化させることで、液晶を配向制御することができるようになっている。 A plurality of pixel electrodes are formed in a matrix on the TFT array substrate, and a common electrode is formed on almost the entire surface of the CF substrate, and the orientation of the liquid crystal can be controlled by changing the voltage applied between these electrodes. Can be done.
このような液晶表示パネルの製造工程においては、これらTFTアレイ基板およびCF基板に要求される所定の品質基準を満たさないものは、液晶表示パネルに用いることができず、廃棄処分される。 In the manufacturing process of such a liquid crystal display panel, those that do not satisfy the predetermined quality standards required for the TFT array substrate and the CF substrate cannot be used for the liquid crystal display panel and are discarded.
そこで、この廃棄処分されるものからガラス基板上に形成された各種薄膜などを除去をして再生処理し、TFTアレイ基板用またはCF基板用のガラス基板として再び利用するということが行われている。 Therefore, various thin films and the like formed on the glass substrate are removed from the discarded materials and recycled, and reused as a glass substrate for a TFT array substrate or a CF substrate. .
このようなガラス基板の表面に形成された膜を除去する方法としては、研磨により除去する方法がある。従来、このようなガラス基板の表面を研磨する装置として、図4に示されるような基板研磨機30が用いられている。図4(a)は基板研磨機30の要部の側面図であり、図4(b)はその上面図である。
As a method of removing the film formed on the surface of such a glass substrate, there is a method of removing by polishing. Conventionally, as a device for polishing the surface of such a glass substrate, a
図示されるように、基板研磨機30は上下に対向して配置された上定盤31,31と下定盤32を備えている。円形状を有した上定盤31の下面には、両面粘着シートを介して研磨布34が貼り付けられており、上定盤31の上面に配置されたノズル35から供給された砥液Sが上定盤31の内部を流下して、研磨布34に供給されるようになっている。
As shown in the drawing, the
また、下定盤32は、ガラス基板Wとほぼ同じ大きさの長方形状を有した多孔質セラミックからなる部材で、この下定盤32の下部に接続された図示しない真空ポンプによる真空引きにより、ガラス基板Wを下定盤32表面で吸着固定することができるようになっている。
The
そして、上定盤31が加圧されて、上定盤31の研磨布34と下定盤32との間にガラス基板Wを挟み込んで、砥液Sを研磨布34に供給しつつ、上定盤31および下定盤32を回転させながら矢印36で示される方向に反復移動することで研磨加工が行われる。
Then, the
この場合、ノズル35から供給される研磨用の砥液Sとしては、粉末状のアルミナや酸化セリウムなどからなる砥粒(研磨材)が例えばアルカリ溶液や水に分散された懸濁液(スラリー)が用いられている。
In this case, as the polishing abrasive liquid S supplied from the
図5は、上述した基板研磨機30に砥液Sを供給する砥液供給装置を示している。図示されるように砥液供給装置40は、砥液Sが貯留された砥液貯留タンク41と、この砥液貯留タンク41内の砥液Sを吸い上げて基板研磨機30に供給するスラリーポンプ42を備えている。
FIG. 5 shows an abrasive liquid supply device for supplying the abrasive liquid S to the
スラリーポンプ42は、いわゆる遠心式の立軸ポンプと呼ばれるもので、ポンプ設置用の架台としての砥液貯留タンク41の上壁に取り付けられた台板9に、中空の吊下管4が固定されている。この吊下管4の下端には、インペラケーシング5が取り付けられている。
The
インペラケーシング5は、下方に開口する砥液吸引口5aと上方に開口する砥液吐出口5bとを有しており、その内部に遠心式のインペラ(流体に圧力を加えるための羽根をもつ回転体)6が配設されている。インペラ6は、インペラケーシング5内でその吸込部6aが砥液吸引口5aに面し、吐出羽根6bが砥液吐出口5bに向くように配置されて、水平面内で回転するようになっている。
The
また、台板9上にはモータ7が取り付けられ、モータ7の回転軸7aに軸継手10を介して上端が連結された主軸8が吊下管4の内部に配設されている。主軸8の下端は、インペラケーシング5内のインペラ6に連結されている。
A
図2は底板5cを外したインペラケーシング5を下方から見たときの図を示している。インペラケーシング5内には、インペラ6が配設される空間である渦巻室5dとこの渦巻室5dから側方に向かって延びる吐出通路5eが形成されている。底板5cに開口された砥液吸引口5aは、渦巻室5dの中央に連通している。また、吐出通路5eの先端に砥液吐出口5bが連通されており、この砥液吐出口5bには吐出管12が連結されている。
FIG. 2 shows a view when the
このような形状を有するインペラケーシング5内でインペラ6がモータ7の駆動により回転されると、渦巻室5dでは遠心力によって中央部の圧力が下がり、これに伴って底板5cの砥液吸引口5aから砥液Sが吸い込まれる。吸い込まれた砥液Sは、インペラケーシング5の渦巻室5dにおいて、複数枚の吐出羽根6bを有したインペラ6の回転により昇圧され、吐出通路5eへと導かれ砥液吐出口5bから吐出管12へと送り出されるようになっている。尚、本発明に関連する先行技術文献としては下記特許文献が挙げられる。
When the
しかしながら、このような構成を有するスラリーポンプ42を運転しない間に、インペラケーシング5内の砥液Sが滞留により固形化し、これがインペラ6に固着してしまい、インペラ6の回転を拘束してしまうことが発生していた。例えば、砥液濃度(スラリー濃度)が10重量パーセント程度である場合、スラリーポンプ42を一時間ほど停止しただけでこのような固着が発生していた。
However, while the
このような状態でスラリーポンプ42を運転すると、いわゆるサーマルトリップと呼ばれるモータ7に過度な負荷がかかって過熱して損傷してしまうことを防止する為に設けられた保護回路が作動してしまう。
When the
このような場合、モータケーシング11内に作業者がマイナスドライバーなどの治具を差し込んでモータ7の回転軸7aを手動で回してインペラケーシング5内のインペラ6を回転させて固形化してしまった砥液Sをほぐしてインペラ6の拘束を解除し、更には、作動したサーマルトリップをリセットさせてから、スラリーポンプ42を運転する作業が必要であり、この作業が繁雑で問題になっていた。
In such a case, the operator inserts a jig such as a flat-blade screwdriver into the
そこで、本発明が解決しようとする課題は、スラリーポンプを運転しない間に、インペラケーシング内の砥液が固形化してインペラの回転が拘束されてしまうことを防止することが可能なスラリーポンプおよスラリーポンプの運転方法を提供することである。 Therefore, the problem to be solved by the present invention is a slurry pump and a slurry pump capable of preventing the abrasive liquid in the impeller casing from solidifying and restraining the rotation of the impeller while the slurry pump is not operated. It is to provide a method for operating a slurry pump.
上記課題を解決するため本発明は、貯留されたスラリーを汲み上げるスラリーポンプであって、スラリー中に浸漬される吊下管と、前記吊下管の下端に接続されると共にスラリー吸引口とスラリー吐出口を有するインペラケーシングと、前記インペラケーシング内部に配設されたインペラと、その上端がモータの回転軸に連結されると共に前記吊下管内を貫通しその下端が前記インペラに連結された主軸とを備え、前記スラリー吐出口に接続された吐出管にエア配管が接続されると共に該吐出管を介して前記インペラケーシング内にエアが供給されて内部のスラリーが排出されるようにしたことを要旨とするものである。 In order to solve the above-described problems, the present invention provides a slurry pump for pumping a stored slurry, which is connected to a suspension pipe immersed in the slurry, a lower end of the suspension pipe, and a slurry suction port and a slurry discharge port. An impeller casing having an outlet; an impeller disposed inside the impeller casing; and a main shaft having an upper end connected to a rotating shaft of a motor and penetrating the suspension pipe and having a lower end connected to the impeller. And an air pipe is connected to a discharge pipe connected to the slurry discharge port, and air is supplied into the impeller casing through the discharge pipe to discharge internal slurry. To do.
この場合、前記吐出管に接続されたエア配管にエア抜き弁が設けられている構成にすると良い。また、前記吊下管にエア配管が接続されて該吊下管内部にエアが供給されるようにした構成にすると良い。更に、前記吊下管に接続されたエア配管にエア抜き弁が設けられている構成にすると良い。 In this case, an air vent valve is preferably provided in the air pipe connected to the discharge pipe. Further, it is preferable that an air pipe is connected to the suspension pipe so that air is supplied into the suspension pipe. Furthermore, it is preferable that the air piping connected to the suspension pipe is provided with an air vent valve.
また、上記課題を解決するため本発明は、貯留されたスラリー中に浸漬される吊下管と、前記吊下管の下端に接続されると共にスラリー吸引口とスラリー吐出口を有するインペラケーシングと、前記インペラケーシング内部に配設されたインペラと、その上端がモータの回転軸に連結されると共に前記吊下管内を貫通しその下端が前記インペラに連結された主軸と、前記砥液吐出口に接続された吐出管を介して前記インペラケーシング内部にエアが供給されるように該吐出管に接続されたエア配管とを備えたスラリーポンプの運転方法であって、前記インペラの回転が停止されると、前記エア配管および前記吐出管を介して前記インペラケーシング内部にエアが供給されて内部のスラリーが排出されるようにしたことを要旨とするものである。 To solve the above problems, the present invention provides a suspension pipe immersed in the stored slurry, an impeller casing connected to the lower end of the suspension pipe and having a slurry suction port and a slurry discharge port, The impeller disposed inside the impeller casing, the upper end of which is connected to the rotating shaft of the motor and penetrates the suspension pipe, and the lower end of the impeller is connected to the impeller, and is connected to the abrasive discharge port. A slurry pump having an air pipe connected to the discharge pipe so that air is supplied into the impeller casing via the discharge pipe, and the impeller is stopped rotating. The gist of the invention is that air is supplied into the impeller casing through the air pipe and the discharge pipe to discharge the slurry inside.
この場合、前記吐出管に接続されたエア配管にエア抜き弁が設けられていると共に、前記インペラの回転が始動する前に前記エア抜き弁が開栓されるようにした構成にすると良い。 In this case, the air piping connected to the discharge pipe may be provided with an air bleeding valve, and the air bleeding valve may be opened before the impeller starts rotating.
また、前記吊下管内部にエアが供給されるように該吊下管に接続されたエア配管を備えると共に、前記インペラの回転が停止されると、前記エア配管を介して前記吊下管内部にエアが供給されるようにした構成にすると良い。 And an air pipe connected to the suspension pipe so that air is supplied into the suspension pipe, and the rotation of the impeller is stopped when the impeller is stopped. It is preferable to adopt a configuration in which air is supplied.
更に、前記吊下管に接続されたエア配管にエア抜き弁が設けられていると共に、前記インペラの回転が始動する前に前記エア抜き弁が開栓されるようにした構成にすると良い。 Furthermore, it is preferable that an air vent valve is provided in the air pipe connected to the suspension pipe, and the air vent valve is opened before the impeller starts rotating.
本発明に係るスラリーポンプおよびスラリーポンプの運転方法によれば、スラリーポンプが運転されない間、つまりインペラケーシング内のインペラが回転しない間に、スラリー吐出口に接続された吐出管にエア配管が接続されると共に該吐出管を介してインペラケーシング内にエアが供給されるので、通常はインペラケーシング内で滞留することにより固形化してしまう砥液などのスラリーが、インペラケーシング内に供給されたエアによるバブリングによって排出または攪拌されることになる。したがって、このようなエアバブリングによる排出または攪拌によってスラリーの固形化が抑制されるので、インペラの回転が拘束されてしまうことが防止される。 According to the slurry pump and the method of operating the slurry pump according to the present invention, the air pipe is connected to the discharge pipe connected to the slurry discharge port while the slurry pump is not operated, that is, while the impeller in the impeller casing does not rotate. Since air is supplied into the impeller casing through the discharge pipe, slurry such as abrasive liquid that normally solidifies by staying in the impeller casing is bubbled by the air supplied into the impeller casing. Will be discharged or stirred. Therefore, since the solidification of the slurry is suppressed by the discharge or stirring by such air bubbling, it is possible to prevent the impeller from being restricted from rotating.
この場合、前記吐出管に接続されたエア配管にエア抜き弁が設けられている構成にすれば、エアバブリングされていたインペラケーシング内部のエアをスラリーポンプの運転始動前に除去することができるので、エアがみによるスラリーの汲み上げ不良(吐出不良)を防止することができる。 In this case, if an air vent valve is provided in the air pipe connected to the discharge pipe, the air inside the impeller casing that has been air bubbled can be removed before the slurry pump starts operating. In addition, it is possible to prevent poor pumping of the slurry (defective discharge) due to air contamination.
また、前記吊下管にエア配管が接続されて該吊下管内部にエアが供給されるようにした構成にすれば、吐出管からインペラケーシング内部に供給されたエアによるバブリングの影響によって吊下管内部をスラリーが上昇することが吊下管内部に供給されたエアの圧力によって抑制されるので、例えば、吊下管内部に設けられたモータの回転軸を軸支する軸受け部等がスラリーによって浸水してしまうことが防止される。 Further, if an air pipe is connected to the suspension pipe so that air is supplied into the suspension pipe, the suspension pipe is suspended by the influence of bubbling due to the air supplied from the discharge pipe to the inside of the impeller casing. Since the slurry rising inside the pipe is suppressed by the pressure of the air supplied to the inside of the suspension pipe, for example, the bearing portion that supports the rotation shaft of the motor provided inside the suspension pipe is made of the slurry. Inundation is prevented.
更に、前記吊下管に接続されたエア配管にエア抜き弁が設けられている構成にすれば、エアバブリングされていたインペラケーシング内部のエアをスラリーポンプの運転始動前に除去することができるので、エアがみによるスラリーの汲み上げ不良(吐出不良)を防止することができる。 Furthermore, if the air piping connected to the suspension pipe is provided with an air vent valve, the air inside the impeller casing that has been air bubbled can be removed before the slurry pump starts operating. In addition, it is possible to prevent poor pumping of the slurry (defective discharge) due to air contamination.
以下に、本発明に係るスラリーポンプおよびスラリーポンプの運転方法の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。 Embodiments of a slurry pump and a method for operating the slurry pump according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
図1はスラリーポンプを備えた砥液供給装置の概略構成を示した図である。図示されるように、砥液供給装置1は、図4で説明した基板研磨機30に供給される懸濁液(スラリー)である砥液Sが貯留された砥液貯留タンク2と、この砥液貯留タンク2内の砥液Sを吸い込んで吐出するスラリーポンプ3を備えている。
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of an abrasive liquid supply device provided with a slurry pump. As shown in the figure, the abrasive liquid supply device 1 includes an abrasive
砥液貯留タンク2には、貯留された砥液Sの液面を検知する図示しない液面センサが内部に設けられており、スラリーポンプ3の吐出によって液面が所定位置まで低下した場合には、同じく図示しないポンプによって砥液Sが補充されるようになっている。
The abrasive
スラリーポンプ3は遠心式の立軸ポンプの構造を有しており、砥液貯留タンク2の上面に取り付けられている。
The
このスラリーポンプ3は、中空の吊下管4と、この吊下管4の下端に接続されるインペラケーシング5と、このインペラケーシング5内部に配設されたインペラ6と、その上端がモータ7の回転軸7aに連結されると共に吊下管4内を貫通しその下端がインペラ6に連結された主軸8とを備えている。
The
吊下管4は、ポンプ設置用の架台としての砥液貯留タンク2の上壁2aに取り付けられた台板9に固定されている。
The suspension pipe 4 is fixed to a
台板9上にはモータ7が取り付けられ、モータ7の回転軸7aに軸継手10を介して上端が連結された主軸8が吊下管4の内部に配設されている。主軸8の下端は、インペラケーシング5内のインペラ6に連結されている。尚、モータ7は、モータケーシング11に収容されており、このモータケーシング11が台板9上に固定されている。
A
インペラケーシング5は、下方に開口する砥液吸引口5aと上方に開口する砥液吐出口5bとを有しており、その内部に遠心式のインペラ(流体に圧力を加えるための羽根をもつ回転体)6が配設されている。
The
図2にも示されるように、インペラ6は、吸込部6aとは反対側の面、つまり円形の主板6cと、この主板6cの下面に主軸8を中心にして放射状に設けられた複数枚の吐出羽根6bとを有している。この場合、インペラケーシング5内でその吸込部6aが砥液吸引口5aに面し、吐出羽根6bが砥液吐出口5bに向くように配置されて、水平面内で回転するようになっている。
As shown in FIG. 2, the
インペラケーシング5内には、インペラ6が配設される空間である渦巻室5dとこの渦巻室5dから側方に向かって延びる吐出通路5eが形成されている。この場合、底板5cに開口された砥液吸引口5aは、渦巻室5dの中央に連通している。
In the
また、吐出通路5eの先端に砥液吐出口5bが連通されており、この砥液吐出口5bには吐出管12が連結されている。渦巻室5dと吐出通路5eの接続部分、つまり渦巻室5dの巻き始めから吐出通路5eへ至る部分には、水切り部5fが形成されている。
A polishing
このようなインペラケーシング5内でインペラ6がモータ7の駆動により回転されると、渦巻室5dでは遠心力によって中央部の圧力が下がり、これに伴って底板5cの砥液吸引口5aから砥液Sが吸い込まれる。吸い込まれた砥液Sは、インペラケーシング5の渦巻室5dでインペラ6の回転により昇圧され、吐出通路5eへと導かれ砥液吐出口5bから吐出管12へと送り出されるようになっている。
When the
吐出管12の途中部位には、閉栓・開栓動作が可能な吐出用電磁弁15が設けられており、この吐出用電磁弁15を開栓し、スラリーポンプ3を運転することで、吐出管12を介して図4に示される基板研磨機30のノズル35に砥液Sが供給されるようになっている。
In the middle of the
インペラケーシング5の砥液吐出口5bと吐出用電磁弁15との間の吐出管12の途中部位にはエア配管16が接続されており、吐出管12の内部に圧縮エアを供給することができるようになっている。このエア配管16は、開栓・閉栓動作が可能なエア供給用電磁弁17を介して圧縮エア供給源23に接続されている。また、エア供給用電磁弁17と吐出管12との接続部との間のエア配管16の途中部位には同じく開栓・閉栓動作が可能なエア抜き用電磁弁18が設けられている。
An
更に、吐出管12とエア配管16の接続部分には、開栓・閉栓動作が可能な液侵入防止用電磁弁19が設けられて吐出管12からエア配管16に砥液Sが侵入しないよう閉栓することができるようになっており、エア配管16に砥液Sが侵入して固形化してエア配管16が詰まってしまってエアを供給することができなくなることが防止されている。
Further, a liquid intrusion prevention
吊下管4内の軸継手10の下方には、ボールベアリングなどの軸受部13が設けられており、主軸8が回転自在に支持されている。また、軸受部13の下方には、グランドパッキンやメカニカルシールなどの軸封機構としての封止シール部14が設けられており、この封止シール部14より下方の吊下管4内部の気密性が保たれるようになっている。
A bearing
このような封止シール部14を設けることで、この封止シール部14より下方の位置に接続されたエア配管20から供給されたエアが、吊下管4内部を下方へと流れていくようになっている。
By providing such a
この場合、吊下管4の下端には側方に開口した開口部4aが形成されて砥液Sが排出可能になっているので、インペラケーシング5の上面の開口部5gを介して吊下管4内部を砥液Sが上昇して、封止シール部14や軸受部13が砥液Sによって浸水してしまうことが防止されている。
In this case, the lower end of the suspension pipe 4 is formed with an
尚、封止シール部14は、吊下管4内部を上ってくる砥液Sの湯気や湿気が、軸受部13に到達しないようにする機能も有しており、このような湯気や湿気によって軸受部13が腐蝕したりグリース等の潤滑剤の劣化が早まったりすることが防止されている。
The sealing
エア配管20は、吊下管4の内部に圧縮エアを供給できるように接続されている。この場合、エア配管20は、吊下管4内部に設けられた封止シール部14と吊下管4の下端の開口部4aとの間の途中部位に接続されている。
The
エア配管20は、開栓・閉栓動作が可能なエア供給用電磁弁21を介して圧縮エア供給源23に接続されている。また、エア供給用電磁弁21と吊下管4のとの接続部との間のエア配管20の途中部位には同じく開栓・閉栓動作が可能なエア抜き用電磁弁22が設けられている。
The
このような砥液供給装置1は、制御部24を備えており、上述したモータ7の回転・停止動作や各電磁弁15,17,18,19,21,22の開栓・閉栓動作を制御することが可能になっている。
Such an abrasive fluid supply device 1 includes a
次に、このような砥液供給装置1が備えるスラリーポンプ3の運転の手順について説明する。
Next, the operation procedure of the
先ず、砥液貯留タンク2内の砥液Sを基板研磨機30に供給する場合は、図1に示されるように、制御部24は吐出用電磁弁15を開栓動作させ、モータ7を回転駆動する。モータ7の回転駆動によりインペラケーシング5内のインペラ6が回転されると、砥液Sは砥液吸引口5aから渦巻室5dに吸い込まれ、吐出通路5eを経て砥液吐出口5bから吐出管12へと送り込まれて、基板研磨機30に供給されてガラス基板Wの研磨加工に供される。
First, when the abrasive liquid S in the abrasive
このとき、制御部24は、エア配管16に設けられたエア供給用電磁弁17、エア抜き用電磁弁18、液侵入防止用電磁弁19およびエア配管20に設けられたエア供給用電磁弁21、エア抜き用電磁弁22を閉栓状態に制御する。
At this time, the
次に、基板研磨機30への砥液Sの供給を停止する場合は、図3に示されるように、制御部24はモータ7の回転を停止させ、吐出用電磁弁15を閉栓させる。そして、制御部24は、エア配管16のエア抜き用電磁弁18は閉栓状態のままエア供給用電磁弁17および液侵入防止用電磁弁19を開栓させると共に、エア配管20のエア抜き用電磁弁22は閉栓状態のままエア供給用電磁弁21を開栓させる。
Next, when the supply of the polishing liquid S to the
エア配管16のエア供給用電磁弁17および液侵入防止用電磁弁19が開栓されると、吐出管12内部にエアが供給される。吐出管12内部に供給されたエアは、吐出用電磁弁15が閉栓されているので上方には流れず吐出管12内部を下方へと流れ、砥液吐出口5bを介してインペラケーシング5内に送り込まれる。
When the air
砥液吐出口5bからからインペラケーシング5内部に送り込まれたエアは、インペラケーシング5内部に滞留している砥液Sの中でバブル状(泡状)になり、このバブル状になったエアが、インペラ6の主軸8との連結部分や主板6c、吐出羽根6bの周囲を移動しつつ、砥液吸引口5aから溢れ出て排出されると共に、開口部5gを経て吊下管4の下端の開口部4aより溢れ出て排出されることになる。
The air sent into the
このように吐出管12内部に供給されたエアが、インペラケーシング5内部へと送り込まれることにより、インペラケーシング5内部で滞留している砥液Sには、この送り込まれたエアがバブル状(泡状)になって、インペラ6の周囲を移動することになる。このときのバブル状のエアの移動により砥液Sが排出または攪拌されるので、インペラ6の周囲の砥液Sの滞留が抑制され、その結果、砥液Sが固形化してインペラ6に固着することが防止される。
The air supplied into the
これによりスラリーポンプ3を運転しない間に、インペラケーシング5内の砥液Sが滞留により固形化し、これがインペラ6に固着してしまい、インペラ6の回転を拘束してしまうことが防止されることになる。
As a result, the abrasive liquid S in the
また、エア配管20のエア供給用電磁弁21が開栓されると、吊下管4内部にエアが供給される。吊下管4内部に供給されたエアは、封止シール部14があるため上方には流れず吊下管4内部を下方へと流れる。
Further, when the air
このとき、上述した吐出管12からインペラケーシング5内部に供給されたエアによるバブリングの影響によって吊下管4内部を砥液Sが上昇することが吊下管4内部に供給されたエアの圧力によって抑制されるので、吊下管4内部に設けられた封止シール部14や軸受部13が上昇した砥液Sによって浸水してしまうことが防止されている。
At this time, the polishing liquid S rises in the suspension pipe 4 due to the bubbling caused by the air supplied from the
また、このように吊下管4内部にエアを供給することで、吊下管4内部を上ってくる砥液Sの湯気や湿気が、封止シール部14や軸受部13に到達しないように防止することもできるので、このような湯気や湿気によって封止シール部14や軸受部13が腐蝕したりグリース等の潤滑剤の劣化が早まったりすることが防止されている。
In addition, by supplying air into the suspension pipe 4 in this way, steam and moisture of the polishing liquid S that rises inside the suspension pipe 4 do not reach the sealing
次に、図3の状態からスラリーポンプ3の運転を始動する場合について説明する。先ず、制御部24は、エア配管16の開栓されているエア供給用電磁弁17を閉栓させると共に、エア配管20の開栓されているエア供給用電磁弁21を閉栓させる。
Next, a case where the operation of the
これにより、吐出管12を介したインペラケーシング5内へのエアの供給が止まり、インペラケーシング5内部のエアによるバブリングが停止される。また、吐出管12からインペラケーシング5内部に供給されたエアによるバブリングの影響によって吊下管4内部を砥液Sが上昇することを防止するための吊下管4内部へのエアの供給も止まる。
Thereby, supply of the air into the
次に、エア配管16の閉栓されているエア抜き用電磁弁18を開栓させると共に、エア配管20の閉栓されているエア抜き用電磁弁22を開栓させる。エア配管16のエア抜き用電磁弁18が開栓されると、そのエア配管16内部および吐出管12内部が大気解放される。また、エア配管20のエア抜き用電磁弁22が開栓されると、そのエア配管20内部および吊下管4内部が大気解放される。このような吐出管12内部および吊下管4内部の大気解放に伴って、インペラケーシング5内部のエアは、吐出管12内部を介してエア配管16を経てエア抜き用電磁弁18から外部へ、また、吊下管4内部を介してエア配管20を経てエア抜き用電磁弁22から外部へと排出(エア抜き)されることになる。
Next, the air
そして、インペラケーシング5内部のエアが排出されると、制御部24は、エア配管16のエア抜き用電磁弁18および液侵入防止用電磁弁19とエア配管20のエア抜き用電磁弁22をそれぞれ閉栓させる。その後、閉栓されていた吐出管12の吐出用電磁弁15を開栓させると共にモータ7を回転駆動させると、図1に示されるようにスラリーポンプ3による砥液Sの供給が開始されることになる。
When the air inside the
以上説明したスラリーポンプ3によれば、スラリーポンプが運転されない間、つまりインペラケーシング5内のインペラ6が回転しない間に、砥液吐出口5bに接続された吐出管12にエア配管16が接続されると共にその吐出管12を介してインペラケーシング5内にエアが供給されるので、通常はインペラケーシング5内で滞留することにより固形化してしまう砥液Sが、インペラケーシング5内に供給されたエアによるバブリングによって排出または攪拌されることになる。したがって、このようなエアバブリングによる排出または攪拌によって砥液Sの固形化が抑制されるので、インペラ6の回転が拘束されてしまうことが防止される。
According to the
この場合、吐出管12に接続されたエア配管16にエア抜き弁18が設けられているので、エアバブリングされていたインペラケーシング5内部のエアをスラリーポンプ3の運転始動前に除去することができるので、エアがみによる砥液Sの汲み上げ不良(吐出不良)を防止することができる。
In this case, since the
また、吊下管4にもエア配管20が接続されてその吊下管4内部にエアが供給されているので、吐出管12からインペラケーシング5内部に供給されたエアによるバブリングの影響によって吊下管4内部を砥液Sが上昇してしまうことが、吊下管4内部に供給されたエアの圧力によって抑制されるため、吊下管4内部に設けられた封止シール部14や軸受部13が砥液Sによって浸水してしまうことが防止される。また、このように吊下管4内部にエアを供給することで、吊下管4内部を上ってくる砥液Sの湯気や湿気が、封止シール部14や軸受部13に到達しないように防止することもできるので、このような湯気や湿気によって封止シール部14や軸受部13が腐蝕したりグリース等の潤滑剤の劣化が早まったりすることが防止されている。
Further, since the
更に、吊下管4に接続されたエア配管20にエア抜き弁22が設けられているので、エアバブリングされていたインペラケーシング5内部のエアをスラリーポンプ3の運転始動前に除去することができるので、エアがみによるスラリーの汲み上げ不良(吐出不良)を防止することができる。
Further, since the
以上、本発明に係るスラリーポンプおよびスラリーポンプの運手方法の一実施形態について説明したが、本発明はこうした実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、種々なる態様で実施できることは勿論である。 As mentioned above, although one embodiment of the slurry pump and the slurry pump handling method according to the present invention has been described, the present invention is not limited to such embodiment, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention. Of course, it can be implemented in the following manner.
例えば、上述した実施の形態では下面に砥液吸引口、上面に砥液吐出口が設けられたインペラケーシングについて説明したが、一方の側面に砥液吸引口、他方の側面に砥液吐出口が設けられたインペラケーシングの構成や、下面に砥液吸引口、側面に砥液吐出口が設けられたインペラケーシングの構成などの種々なる形状を有するインペラケーシングにも本発明を適用することが可能であり、上述した実施の形態には限定されない。 For example, in the above-described embodiment, the impeller casing provided with the abrasive liquid suction port on the lower surface and the abrasive liquid discharge port on the upper surface has been described, but the abrasive liquid suction port is provided on one side surface and the abrasive liquid discharge port is provided on the other side surface. The present invention can also be applied to an impeller casing having various shapes such as a configuration of an impeller casing provided and an impeller casing having a polishing liquid suction port on a lower surface and a polishing liquid discharge port on a side surface. There is no limitation to the above-described embodiment.
また、エア配管に設けられたエア供給用電磁弁とエア抜き用電磁弁は、エアの供給と大気解放の切換動作が一度に可能な電磁弁を用いても良く、上述した実施の形態には限定されず、種々なる弁を用いることが可能である。 The solenoid valve for air supply and the solenoid valve for air release provided in the air pipe may be solenoid valves capable of switching between air supply and atmospheric release at the same time. Without limitation, various valves can be used.
更に、上述した実施の形態では、基板研磨機30に砥液Sを供給するスラリーポンプ3の構成について説明したが、タンクまたは水槽の底部に溜まった汚泥を汲み上げる農業用水用ポンプなどの種々なる懸濁液(スラリー)を汲み上げるポンプに適用可能であり、上述した実施の形態には限定されない。
Further, in the above-described embodiment, the configuration of the
例えば、懸濁液(スラリー)が汚泥である場合も、ポンプを運転しない間に、インペラケーシング内で滞留により固形化してインペラに固着してしまい、インペラ6の回転を拘束してしまう問題があるため、このような汚泥を汲み上げるポンプに本発明に係るスラリーポンプを適用することで、このような問題を解決することができる。
For example, even when the suspension (slurry) is sludge, there is a problem that the
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2006022652A (en) * | 2004-07-06 | 2006-01-26 | Hitachi Kiden Kogyo Ltd | Submerged sand pump |
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