JP5310982B2 - Metal mask holder - Google Patents
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Description
本発明は、有機EL等の平面型ディスプレイ装置の製造に使用されるメタルマスクを製作する工程における、特に検査と搬送に適した保持具に関する。 The present invention relates to a holder particularly suitable for inspection and conveyance in a process of manufacturing a metal mask used for manufacturing a flat display device such as an organic EL.
近年、平面型ディスプレイ装置が多く使われるようになってきたが、中でも超薄型、低消費電力、高速応答性を含む高画質等を目的とした有機ELディスプレイが期待されている。有機ELディスプレイ用のパネルの製造には各種の方法が提案されているが、中でも基板表面に有機材料をパターン蒸着する方式が以前から行われている。(例えば特許文献1参照)
上記工程で使用されるメタルマスクを製作する場合、有機ELディスプレイ用のパネルの製造に使用されるメタルマスクは特に微細なパターンを必要とするものが多く、通常は金属板をフォトエッチング法で加工する。加工後のメタルマスクの強度は非常に弱く、僅かな外圧でも曲がった状態となる。検査方法としては、目視による外観検査と測長機を用いた寸法検査が行われるが、いずれの場合もメタルマスクの外周方向に適当な力を加え、引っ張った状態を実現して検査する必要がある。従来は人手でメタルマスクを引っ張って検査したが、微細なスリット状のパターンの場合は、力が不足するとスリット状の金属帯が捩れたり、スリットの目開きが生じ、力が過剰であると変形が生じるなど、再現性の良い安定状態を保持することは難しかった。 When manufacturing a metal mask used in the above process, many metal masks used for manufacturing an organic EL display panel require a particularly fine pattern, and usually a metal plate is processed by a photoetching method. To do. The strength of the metal mask after processing is very weak, and it becomes bent even with a slight external pressure. As an inspection method, visual appearance inspection and dimensional inspection using a length measuring machine are performed. In either case, it is necessary to apply an appropriate force in the outer peripheral direction of the metal mask to realize a pulled state and inspect it. is there. Conventionally, inspection was performed by manually pulling the metal mask. However, in the case of a fine slit-shaped pattern, if the force is insufficient, the slit-shaped metal band is twisted or the slits are cleaved, and deformation occurs if the force is excessive. It was difficult to maintain a stable state with good reproducibility.
また、加工後にメタルマスクを搬送するにあたっても、上記検査の場合と同様に僅かな外圧により変形され易い。 Also, when the metal mask is transported after processing, it is easily deformed by a slight external pressure as in the case of the above inspection.
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであり、その課題とするところは、上記メタルマスクの製作工程において、特に微細なスリット状のパターンが整列して加工された場合に検査を精確に実施することであり、また、搬送時の変形トラブルを防ぐことであって、そのための手段として、最適な保持具を提供することである。 The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and the problem is that in the manufacturing process of the metal mask, particularly when fine slit-like patterns are aligned and processed. In order to prevent the deformation trouble at the time of conveyance, it is to provide an optimal holder as means for that.
請求項1に記載の発明は、板厚30〜100μmのスリット状のパターンが整列して加工されたメタルマスクを保持する検査用または搬送用のためのメタルマスク用保持具であって、枠体と、該枠体の互いに対向する辺の1辺にはメタルマスクを挟持する手段を有し、対向する他の1辺には、メタルマスクを挟持する手段と、前記挟持手段と枠体を接続する、メタルマスク面と平行な外周方向に張力を与えるための張着手段とを有し、メタルマスク面と平行な外周方向に与える張力が異なる2方向となるように、前記枠体の他の一対の互いに対向する辺の1辺にはメタルマスクを挟持する手段を有し、対向する他の1辺にはメタルマスクを挟持する手段とメタルマスク面と平行な外周方向に張力を与え、かつ、前記挟持手段と枠体を接続するための張着手段とを有することを特徴とするメタルマスク用保持具である。 According to one aspect of the present invention, a holder for a metal mask for inspection or for transporting holding the metal mask slit-like pattern having a thickness of 30~100μm were processed in alignment, the frame connecting the comprises means for clamping the metal mask to each other one side of the opposing sides of the frame body, in addition to the one side facing the means for clamping the metal mask, the clamping means and the frame A tensioning means for applying tension in the outer circumferential direction parallel to the metal mask surface, and the other of the frame body so that the tension applied in the outer circumferential direction parallel to the metal mask surface is in two different directions. One side of the pair of sides facing each other has means for holding the metal mask, and the other side facing each other is given tension in the outer peripheral direction parallel to the means for holding the metal mask and the metal mask surface , and , to connect the clamping means and the frame A holder for a metal mask and having a Zhang fastening means of the fit.
本発明のメタルマスク用保持具によれば、メタルマスクを適正かつ均一な張力で平板状に保持するため、特に微細なスリット状のパターンが整列して加工されたメタルマスクに対して、検査を精確に実施することができる。すなわち、外観検査における捩れ、目開き、変形を防ぎ、測長精度も向上する。また、搬送時の変形トラブルを防ぐことができる。検査・搬送のいずれの工程においても、対象物を強固な枠体に均一な張力で固定するため、対象物全体を強固な平板であるかのごとく取り扱うことができ、すなわち、検査装置や搬送装置に特別な配慮を必要とせず、人手で行う場合も格別の配慮無しに検査や搬送を実施することが可能となる。さらに、上記の結果として、メタルマスクの品質向上に寄与し、有機EL等の平面型ディスプレイ装置の製造歩留まりを高めることができる。 According to the metal mask holder of the present invention, in order to hold the metal mask in a flat plate shape with appropriate and uniform tension, an inspection is performed particularly on a metal mask in which fine slit-shaped patterns are aligned and processed. It can be carried out accurately. That is, twisting, opening, and deformation are prevented in the appearance inspection, and the length measurement accuracy is improved. Further, deformation troubles during conveyance can be prevented. In both inspection and transport processes, the object is fixed to a strong frame with uniform tension, so the entire object can be handled as if it were a solid flat plate. Therefore, it is possible to carry out inspection and transportation without special consideration even when it is performed manually. Furthermore, as a result of the above, it is possible to contribute to the improvement of the quality of the metal mask and to increase the production yield of a flat display device such as an organic EL.
初めに、メタルマスクの製造工程に従って簡単に説明する。パネルのサイズにもよるが、複数パネル分を多面付けしたメタルマスクのシートを製作する。金属板の材料としては、インバー材などの板厚30〜100μm程度のものが使われる。感光性の耐酸レジストを用いた塗布、露光、現像を主要な工程とするフォトリソグラフィー工程によりレジストのパターニングを行った後、塩化第二鉄液をエッチング液として窓開き部分の金属エッチング、およびアルカリ溶液を剥膜液としてレジストの剥膜を行う。微細なパターンの例としては、厚さ50μm、スリット状のパターンで線幅40μm、線間隔180μmでスリット長70mm、スリット列幅100mm、を1単位として、12面付けした多面付けメタルマスクが作られる。必要に応じて全体を分割断裁したものを検査工程に運ぶが、ここで、本発明になるメタルマスク用保持具を使用する。以下、図面に従って説明する。 First, a brief description will be given according to the metal mask manufacturing process. Depending on the size of the panel, a metal mask sheet with multiple panels will be produced. As the material of the metal plate, an invar material or the like with a plate thickness of about 30 to 100 μm is used. After patterning the resist by a photolithography process with the main processes of application, exposure, and development using a photosensitive acid-resistant resist, ferric chloride solution is used as the etchant to etch the metal at the window opening, and an alkaline solution The resist is stripped using as a stripping solution. As an example of a fine pattern, a 12-sided multi-sided metal mask is formed with a thickness of 50 μm, a slit-like pattern having a line width of 40 μm, a line interval of 180 μm, a slit length of 70 mm, and a slit row width of 100 mm as one unit. . If necessary, the entire cut part is transferred to the inspection process. Here, the metal mask holder according to the present invention is used. Hereinafter, it demonstrates according to drawing.
図1はメタルマスクを取り付けた保持具の実施形態の概要を示す平面説明図である。メタルマスク1はメタルマスクパターン加工部3を一つ以上有し、周辺部にて枠体2と結合する。枠体2は枠体の一辺21,22,23,24から成る。メタルマスクと枠体との結合個所は対向する2辺の一対を少なくとも含むが、図1では二対、4辺の結合個所を示している。結合個所を何対、何処にするかは、メタルマスクパターン加工部を初めとしてメタルマスク全体設計に依存するが、スリットパターンの集合体の場合はスリット方向に張力を与える結合個所を優先する。枠体2はメタルマスク1に較べて充分に強固な材質と形態を有することが必要であるが、取り扱いの容易さも考慮して、できるだけ軽量化することも望ましい。アルミニウム材料も使用に適している。
FIG. 1 is an explanatory plan view showing an outline of an embodiment of a holder to which a metal mask is attached. The
図2はメタルマスクを取り付けた保持具の実施形態の概要を示す断面説明図(図1のX−X'断面説明図)である。結合部の構成の一方は、枠体の一辺21に連なったL字状固定具51を介して挟持手段61が接続し、その先端部がメタルマスク1の一辺を挟み込む。また、結合部の構成の他方は、メタルマスクの対向する1辺を他の挟持手段62が挟み込み、該挟持手段の支点相当部82は、枠体の対向側の一辺22に連なるL字状固定具52に張着手段72を介して接続する。
FIG. 2 is a cross-sectional explanatory diagram (XX ′ cross-sectional explanatory diagram of FIG. 1) showing an outline of an embodiment of a holder to which a metal mask is attached. One of the configurations of the coupling portion is connected to the clamping means 61 via an L-
なお、L字状固定具51,52は枠体と挟持手段または張着手段とを結合するための一手段であって、他の結合方法も可能である。
The L-
張着手段72はメタルマスク1の固定に際して、一定の張力を与え、しかもメタルマスクの辺の各部分で均一になるように工夫する。張着手段72には、いわゆるスプリングやバネ等を使い、メタルマスクの辺全体に均一な張力を与えるために幅を広く取ったり、図示してないが、張着手段72を複数に分けて配置したり、または、張着手段72からの力の伝達が均一になるよう、接続する挟持手段の支点相当部82やL字状固定具52の剛性を大きくする。メタルマスクの辺に与える張力の大きさとしては、0.5〜0.6N/mm程度が適当である。
When the
張着手段としてのスプリングやバネ等は各種可能であり、ゴムの弾性を利用することも可能性がある。枠体22に連なるL字状固定具52と挟持手段62との間で引っ張り状態で接続する張着手段72にあって、各接続個所の機構が特に重要である。スプリングやバネ等の本体には、一般的に入手できる両端フック付き引張コイルバネも使用可能であるが、フックの取り付け方を、取り付け先としてのL字状固定具や挟持手段の具体的性状に合わせて決める。また、保持具全体はできるだけ平面的な板として使用するものであるから、メタルマスク平面と平行にできるだけ平らな構造が最適である。
Various types of springs and springs can be used as the tensioning means, and the elasticity of rubber may be used. In the tension means 72 that connects the L-
挟持手段61,62,63,64は、メタルマスク1を均一な力で確実に挟み込む機構を有し、バネ材を利用することもできるが、両側から板材で挟み込むだけの単純な構成でも可能である。但し、張力が働く部分でもあるので、メタルマスクがずれたり、抜けて外れたりすることの無い挟み込み機構が必要である。
The clamping means 61, 62, 63, 64 have a mechanism for securely clamping the
本発明の実施形態は、上記の説明で述べたとおり、メタルマスクを保持するための保持具であって、枠体と、該枠体の互いに対向する辺の1辺にはメタルマスクを挟持する手段を有し、対向する他の1辺にはメタルマスクを挟持する手段とメタルマスク面と平行な外周方向に張力を与えるための張着手段とを有することを特徴とするメタルマスク用保持具であり、張力を与える方向を1方向としたものである。メタルマスクがピンと張った状態で固定されるには、メタルマスクパターン加工部がスリットパターンの集合体の場合はスリット方向に張力を与えるとともに、前記張力の伝達が均一になるように接続部分の機構を考慮する。 As described in the above description, the embodiment of the present invention is a holder for holding a metal mask, and the metal mask is sandwiched between the frame and one side of the frame facing each other. A holding means for holding the metal mask on the other side opposite to each other and a tensioning means for applying tension in the outer peripheral direction parallel to the metal mask surface. The direction in which tension is applied is one direction. In order to fix the metal mask in a tensioned state, when the metal mask pattern processing part is an assembly of slit patterns, a tension is applied in the slit direction and the mechanism of the connecting portion is made so that the transmission of the tension is uniform. Consider.
また、本発明の他の実施形態は、前記の実施形態に加えて、メタルマスク面と平行な外周方向に与える張力が異なる2方向となるように、前記枠体の他の一対の互いに対向する辺の1辺にはメタルマスクを挟持する手段を有し、対向する他の1辺にはメタルマスクを挟持する手段とメタルマスク面と平行な外周方向に張力を与えるための張着手段とを有することを特徴とするメタルマスク用保持具であり、張力を2方向に与えるものである。前記張力の伝達が均一になるように接続部分の機構を考慮するのは、この場合も同様である。張力を1方向ではなく異なる2方向にする方が、メタルマスク面内の均一な張りを実現しやすいが、保持具の機構がより複雑になり、また、調整個所も増えるため、パターン形状、サイズ、必要とする平面性、等の諸条件により、選択すればよい。 In addition to the above embodiment, another embodiment of the present invention opposes the other pair of the frame body so that the tension applied in the outer peripheral direction parallel to the metal mask surface is two different directions. One side has a means for sandwiching the metal mask, and the other opposite side has a means for sandwiching the metal mask and a tension means for applying tension in the outer peripheral direction parallel to the metal mask surface. A metal mask holder characterized by having a tension in two directions. In this case as well, the mechanism of the connecting portion is considered so that the transmission of the tension is uniform. Although it is easier to achieve uniform tension in the metal mask surface by using two different tensions instead of one direction, the mechanism of the holder becomes more complicated and the number of adjustment points increases, so the pattern shape and size It may be selected according to various conditions such as required flatness.
また、本発明の他の実施形態は、前記のようにメタルマスクを1方向または2方向に、メタルマスク面と平行な外周方向に張力を与え、メタルマスクを保持具に装着した状態で、メタルマスクの検査を行うものである。 In another embodiment of the present invention, as described above, the metal mask is applied in one or two directions, and the tension is applied in the outer peripheral direction parallel to the metal mask surface, and the metal mask is attached to the holder. The mask is inspected.
また、本発明の他の実施形態は、前記のようにメタルマスクを1方向または2方向に、メタルマスク面と平行な外周方向に張力を与え、メタルマスクを保持具に装着した状態で、メタルマスクを搬送するものである。 In another embodiment of the present invention, as described above, the metal mask is applied in one or two directions, and the tension is applied in the outer peripheral direction parallel to the metal mask surface, and the metal mask is attached to the holder. The mask is conveyed.
前者の検査に関して説明すれば、外観検査においては、上記の装着済みメタルマスクを人手または人の腕の機能を代替する補助器具により観察の容易な環境に設置し、ムラや欠
陥を目視検査する。適度な照明と観察のための角度設定や回転等の動きを伴う観察方法の詳細は、従来の強固な対象物を扱う方法がそのまま適用できる。また、測長検査においても、強固な枠体が外形を規定し、被測長部は平坦に張られた状態であるので、従来の方法をそのまま適用できる。
As for the former inspection, in the appearance inspection, the above-described mounted metal mask is placed in an environment where observation is easy with an auxiliary device that substitutes for the function of a hand or a person's arm, and unevenness and defects are visually inspected. For the details of the observation method with appropriate illumination and angle setting for observation and movement such as rotation, a conventional method for handling a solid object can be applied as it is. Also in the length measurement inspection, the conventional method can be applied as it is because the strong frame body defines the outer shape and the length to be measured is flat.
さらに、後者の搬送に関して説明すれば、上記の装着済みメタルマスクは強固な枠体のために、全体が強固な平板であるかのごとく取り扱うことができるので、手搬送でも自動搬送でも、従来の強固な対象物を扱う方法が殆ど同様に適用できる。 Furthermore, as for the latter transportation, the mounted metal mask can be handled as if it is a solid flat plate because of its strong frame, so that it can be handled by both conventional and automatic transportation. A method of handling a solid object can be applied almost similarly.
また、本発明のメタルマスク用保持具は、枠体2に囲まれた枠体開口部4を有する形態を実施の形態としているが、枠体開口部は物理的に塞がっても、例えば、透過光照明による検査においては透明板で塞がっているのであれば、不都合は無い。反射光照明による検査や搬送においては、一般に透明であることすら必須では無くなる。強度的に問題無ければ、例えば、透明アクリル板を枠体も兼ねた支持板として使用する形態も容易に考えられる。
Moreover, although the metal mask holder of the present invention has an embodiment in which the
1・・・・・・・メタルマスク
2・・・・・・・枠体
3・・・・・・・メタルマスクパターン加工部
4・・・・・・・枠体開口部
21,22,23,24・・・枠体の一辺
51,52,53,54・・・L字状固定具
61,62,63,64・・・挟持手段
72,74・・・・・・・・・張着手段
81,82・・・・・・・・・挟持手段の支点相当部
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US9776341B2 (en) | 2012-06-08 | 2017-10-03 | Hexcel Composites Sasu | Low density composite materials, their production and use |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011001596A1 (en) * | 2009-07-03 | 2011-01-06 | シャープ株式会社 | Method for forming organic layer, method for producing organic electroluminescence element, organic electroluminescence element, and organic electroluminescence display device |
KR20110027979A (en) | 2009-09-11 | 2011-03-17 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | Mask defect testing apparatus |
JP2013206570A (en) * | 2012-03-27 | 2013-10-07 | Sinto S-Precision Ltd | Metal mask fixing method |
KR101958991B1 (en) * | 2012-05-24 | 2019-03-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | Frame and mask assembly having the same |
CN103668050A (en) * | 2012-09-07 | 2014-03-26 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | Assembling method of mask component |
JP6146638B2 (en) * | 2012-11-05 | 2017-06-14 | 大日本印刷株式会社 | Metal thin plate dimension measuring apparatus and metal thin plate dimension measuring method |
JP6217070B2 (en) * | 2012-11-05 | 2017-10-25 | 大日本印刷株式会社 | Metal thin plate dimension measuring apparatus and metal thin plate dimension measuring method |
JP6016103B2 (en) * | 2012-11-13 | 2016-10-26 | 大日本印刷株式会社 | Metal thin plate dimension measuring apparatus and metal thin plate dimension measuring method |
JP6007740B2 (en) * | 2012-11-13 | 2016-10-12 | 大日本印刷株式会社 | Metal thin plate dimension measuring apparatus and metal thin plate dimension measuring method |
JP6193028B2 (en) * | 2013-07-12 | 2017-09-06 | 新東エスプレシジョン株式会社 | Inspection device |
JP6330284B2 (en) * | 2013-09-30 | 2018-05-30 | 大日本印刷株式会社 | Deposition mask inspection method and deposition mask inspection jig |
JP6354358B2 (en) * | 2014-06-11 | 2018-07-11 | 凸版印刷株式会社 | Metal mask transfer jig and metal mask inspection method |
JP6399119B2 (en) * | 2017-02-14 | 2018-10-03 | 大日本印刷株式会社 | Metal thin plate dimension measuring apparatus and metal thin plate dimension measuring method |
KR102183040B1 (en) * | 2017-09-27 | 2020-11-25 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | Mask arrangement for masking a substrate, apparatus for processing a substrate, and method therefor |
CN111010877A (en) * | 2018-08-06 | 2020-04-14 | 应用材料公司 | Deposition apparatus with mask aligner, mask arrangement for masking substrate and method for masking substrate |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10121241A (en) * | 1996-10-17 | 1998-05-12 | Nec Corp | Vacuum deposition device |
JPH11189862A (en) * | 1997-12-26 | 1999-07-13 | Nippon Paint Co Ltd | Production of organic colored thin film |
JP4590748B2 (en) * | 2001-02-08 | 2010-12-01 | ソニー株式会社 | mask |
JP2003332057A (en) * | 2002-05-16 | 2003-11-21 | Dainippon Printing Co Ltd | Multiple-surfaced mask device for vacuum deposition used in manufacturing organic el element |
JP3996439B2 (en) * | 2002-05-16 | 2007-10-24 | 大日本印刷株式会社 | Vacuum deposition mask device used in organic EL device manufacturing |
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