JP2003167223A - Tool for conveying substrate and method of manufacturing electric display device using the same - Google Patents

Tool for conveying substrate and method of manufacturing electric display device using the same

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JP2003167223A
JP2003167223A JP2001365168A JP2001365168A JP2003167223A JP 2003167223 A JP2003167223 A JP 2003167223A JP 2001365168 A JP2001365168 A JP 2001365168A JP 2001365168 A JP2001365168 A JP 2001365168A JP 2003167223 A JP2003167223 A JP 2003167223A
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JP
Japan
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substrate
support
work
work substrate
suction
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Application number
JP2001365168A
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Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Takagi
昌広 高木
Yasuhiro Niihara
康弘 新原
Yoichi Nishi
陽一 西
Yoshihide Koyama
佳英 小山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a tool for conveying work substrates which can maintain high dimensional accuracy of the substrates in spite of the heat treatment to be repeated in respective treating process steps after charging of the work substrates. <P>SOLUTION: This tool has a support 11 which has rigidity to prevent the deformation by an external environmental change during process stage conveyance and supports the work substrates 1 on its front surface, a plurality of through-holes 11a for vacuum suction for attracting and supporting the substrates 1 on the support 11 and silicone rubber 12 for supporting the substrates 1 by tacky adhesive force at all times to the support 11. The tacky adhesive force of the silicone rubber 12 is so set as not to hinder the expansion and contraction of the substrates 1 by the external environmental change during the process stage conveyance. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、薄板状のガラス基
板やプラスチック基板等を用いた電気表示装置の製造に
用いられるワーク基板の基板搬送用治具及びこれを用い
た電気表示装置の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a jig for conveying a work substrate used for manufacturing an electric display device using a thin glass substrate or a plastic substrate, and a method for manufacturing an electric display device using the same. Regarding

【0002】[0002]

【従来の技術】電気表示装置、特に液晶表示装置用のガ
ラス基板に於いて、厚みが0.55mm、0.4mmの薄型
基板が実用化されているが、それより薄いガラス基板
は、割れ易い等の問題があり生産性が悪く、製品の信頼
性にも課題があった。そこで、割れにくいプラスチック
基板を用いた液晶表示装置についての開発が進められて
いる。
2. Description of the Related Art Thin glass substrates having a thickness of 0.55 mm and 0.4 mm have been put into practical use as glass substrates for electric display devices, particularly liquid crystal display devices, but glass substrates thinner than that are easily broken. However, the productivity was poor and the reliability of the product was a problem. Therefore, development of a liquid crystal display device using a plastic substrate that is hard to break is underway.

【0003】しかしながら、プラスチック基板の場合、
剛性が低い為、基板の撓みが大きく、また、加熱工程に
おける基板の著しい反り、線膨張係数の大きさに起因す
るワーク基板の膨張、収縮等の変形が生じやすい。それ
故、プラスチック基板における液晶表示素子の製造は、
ガラス基板を用いる場合に比べ、非常に困難である。
However, in the case of a plastic substrate,
Since the rigidity is low, the substrate is largely bent, and the substrate is significantly warped in the heating step, and the work substrate is likely to be deformed such as expansion and contraction due to the large linear expansion coefficient. Therefore, the manufacture of liquid crystal display elements on plastic substrates is
This is much more difficult than when using a glass substrate.

【0004】ガラス基板用液晶セル製造工程の各製造装
置には、真空吸着台を用いるものが多い。また、製図装
置のローダーやアンローダー、さらには、搬送系におい
て、基板の向きを整列させるための自動ピン当てによる
整列機構が多く備わっている。
A vacuum suction table is often used in each manufacturing apparatus in the manufacturing process of liquid crystal cells for glass substrates. Further, in the loader and unloader of the drafting apparatus, and in the transfer system, many alignment mechanisms by automatic pin application for aligning the orientation of the substrates are provided.

【0005】そこで、プラスチック基板をそのままガラ
ス基板用液晶セル工程に流すと、ガラス基板にはほとん
ど見られない基板の反りにより、装置の真空吸着台で基
板を吸着できずに、工程エラ−により停止してしまうと
いう問題が生じる。
Therefore, when the plastic substrate is flowed as it is to the liquid crystal cell process for the glass substrate, the substrate cannot be adsorbed by the vacuum adsorption table of the apparatus due to the warp of the substrate which is hardly seen in the glass substrate, and the process is stopped due to the process error. The problem arises that

【0006】また、プラスチック基板をそのままガラス
基板用液晶製造工程に流すと、自動ピン当てによる基板
整列機構部において、プラスチック基板は、整列ピンの
圧力に負けてうねりを発生し、うまく整列できず、最悪
の場合、装置上から脱落してしまい、やはりエラーによ
って製造工程が停止してしまうという問題が生じる。
Further, when the plastic substrate is directly passed through the liquid crystal manufacturing process for glass substrates, the plastic substrate loses the pressure of the alignment pin in the substrate alignment mechanism portion by the automatic pin contact, and the plastic substrate cannot be aligned well. In the worst case, there is a problem that the manufacturing process is stopped due to an error because it is dropped from the device.

【0007】さらに、プラスチック基板の重量は、ガラ
ス基板の約半分と軽い為、搬送系、特にコロを利用した
搬送系において、プラスチック基板がコロを乗り上げて
搬送系上から脱落してしまう危険性を無視できない。
Furthermore, since the weight of the plastic substrate is about half that of the glass substrate, there is a risk that the plastic substrate may ride on the rollers and fall off from the transportation system in a transportation system, especially a transportation system using rollers. I can't ignore it.

【0008】また、プラスチック基板の重量が軽い為に
ガラス基板では機能していた重量感知型のセンサー、例
えば振り子型スイッチ等が機能せずに工程が停止してし
まうという問題が生じる。
Further, since the weight of the plastic substrate is light, there is a problem that the weight-sensitive type sensor, which has been functioning on the glass substrate, such as a pendulum type switch, does not function and the process is stopped.

【0009】さらに、プラスチック基板はガラスに比べ
てかなり柔らかく、通常のガラス用カセットに収納しよ
うとしても、自重による撓みによって挿入が困難であ
る。また、カセットに納まったとしても隣り合ったプラ
スチック基板同士が撓みや反りにより接触する恐れが有
る。
Further, since the plastic substrate is considerably softer than glass, it is difficult to insert the plastic substrate due to its own weight due to its bending even if it is stored in an ordinary glass cassette. Further, even if the plastic substrates are accommodated in the cassette, the adjacent plastic substrates may come into contact with each other due to bending or warping.

【0010】ここで述べられるワーク基板とは、本発明
の説明図である図3に示すように、多数個の液晶セル3
1の取り扱いが行なえる程度の大きな板状ガラス基板も
しくはプラスチック基板の事であり、この基板上に複数
個分の電極パターンを配し、この基板上に配向膜等を形
成後、対向基板を貼り合わせ、分断により複数個の液晶
表示装置が製造されることとなる。
The work substrate described here means a large number of liquid crystal cells 3 as shown in FIG. 3 which is an explanatory view of the present invention.
1 is a large plate-shaped glass substrate or plastic substrate that can be handled, and a plurality of electrode patterns are arranged on this substrate, an alignment film is formed on this substrate, and then a counter substrate is attached. By combining and dividing, a plurality of liquid crystal display devices will be manufactured.

【0011】そこで、上記のプラスチック基板の種々の
問題点を解消するために、従来では、剛性が無く撓み易
いワーク基板を、額縁状の枠に固定するか、あるいは、
接着剤によりガラス板に固定するなどして、工程搬送や
処理を行っていた。
Therefore, in order to solve the various problems of the plastic substrate described above, conventionally, a work substrate which has no rigidity and is flexible is fixed to a frame-shaped frame, or
The process was conveyed and processed by fixing it to the glass plate with an adhesive.

【0012】また、特開平8−86993号公報(文献
1)では、前述の額縁状の枠に固定した場合に起こるワ
ーク基板の額縁内部の撓みや、接着剤を用いることによ
る異物・工程数の増加といった不具合を解決するため
に、ワーク基板を支持体上のシリコーン等の粘着材によ
り貼付固定し、工程搬送を行って液晶表示素子を製造す
る方法が提案されている。
Further, in Japanese Unexamined Patent Publication No. 8-86993 (Reference 1), the bending of the inside of the frame of the work substrate that occurs when the frame is fixed to the frame-like frame described above, and the foreign matter and the number of steps due to the use of an adhesive In order to solve the problem of increase, a method has been proposed in which a work substrate is attached and fixed by an adhesive material such as silicone on a support, and the process conveyance is performed to manufacture a liquid crystal display element.

【0013】ここでは、プラスチック基板の持つ剛性の
弱さ、つまりワーク基板の撓みについてそれを解決する
ことに重点がおかれており、粘着剤により貼り付けられ
たワーク基板の熱膨張等の応力は、粘着剤や粘着剤と支
持体の間に形成された中間層によって緩和されるように
なっている。
Here, emphasis is placed on solving the weakness of the rigidity of the plastic substrate, that is, the bending of the work substrate, and stress such as thermal expansion of the work substrate attached by the adhesive is The pressure-sensitive adhesive or the intermediate layer formed between the pressure-sensitive adhesive and the support is designed to be relaxed.

【0014】また、特開2001−117063号公報
(文献2)では、基板搬送工程において、ガラス等の補
助板に樹脂基板を重ねて固定し液晶セル製造工程に投入
すること、さらに、補助板と樹脂基板をテープまたは脱
着可能な圧入ピンで樹脂基板の周囲を仮固定し、補助板
を介して樹脂基板を真空吸着するための貫通孔が補助板
に設けられていることが記載されている。
Further, in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2001-117063 (reference 2), in a substrate transporting step, a resin substrate is superposed and fixed on an auxiliary plate such as glass and is put into a liquid crystal cell manufacturing process. It is described that the periphery of the resin substrate is temporarily fixed with a tape or a removable press-fitting pin, and the auxiliary plate is provided with a through hole for vacuum suction of the resin substrate via the auxiliary plate.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、多くの
場合これらの搬送用治具ないし補助板を用いる厚みの薄
いワーク基板では、熱や湿度といった外的な環境変化に
対して、基板自体が敏感であり、基板寸法が伸縮といっ
た現象を起こしやすい。
However, in many cases, in the case of a thin work substrate using these transfer jigs or auxiliary plates, the substrate itself is sensitive to external environmental changes such as heat and humidity. Yes, the size of the board tends to expand and contract.

【0016】特に、寸法精度が求められる電極配線パタ
ーン形成時におけるフォトプロセスにおいては、露光時
の温度が寸法精度へ大きな影響を与え、このことが、液
晶表示装置における基板同士の貼り合わせ工程におい
て、嵌合が合わなくなるといった不具合が生じることと
なる。
Particularly, in the photo process in forming the electrode wiring pattern, which requires dimensional accuracy, the temperature during exposure has a great influence on the dimensional accuracy, which causes a problem in the process of bonding the substrates to each other in the liquid crystal display device. There will be a problem that the fitting will not match.

【0017】また、カラーフィルタを形成する場合にお
いては、R、G、B、BKの4色を電着方式で重ね合わ
せる場合、ワーク基板へレジストを塗布後、1色毎にパ
ターン露光、焼成、レジスト現像、焼成、色素電着、焼
成を繰返し行なう必要があり、プラスチック基板等の伸
縮が激しいワーク基板の使用において、所定のパターニ
ング精度を得ることは、極めて難しい。
In the case of forming a color filter, when four colors of R, G, B, and BK are superposed by an electrodeposition method, a resist is applied to a work substrate, and then pattern exposure and baking are performed for each color. It is necessary to repeatedly perform resist development, baking, dye electrodeposition, and baking, and it is extremely difficult to obtain a predetermined patterning accuracy in the use of a work substrate such as a plastic substrate which is greatly expanded and contracted.

【0018】例えば、上記文献1では、シリコーンシー
トを用いてプラスチック基板を固定し、搬送する方法が
提案されているが、この場合、ワーク基板は、搬送用治
具に常時固定されているために、ワーク基板の熱による
温度伸縮が妨げられ、露光時の温度に対して追従できな
いため設計値より大きくなったり小さくなったりして、
設計通りのパターンが形成されないこととなる。
For example, in Document 1 above, a method of fixing a plastic substrate by using a silicone sheet and carrying it is proposed. In this case, however, the work substrate is always fixed to the carrying jig, so Since the temperature of the work board is prevented from expanding and contracting due to heat, it cannot follow the temperature during exposure, so it may become larger or smaller than the design value
The pattern as designed is not formed.

【0019】さらに、上記文献1では、ワーク基板とシ
リコーンシートとの密着度の関係から、密着度の低いと
ころは基板の応力が勝るために伸縮し、密着度の高いと
ころは固定されるため、設計値に対して変形した形、も
しくは歪んだ形でパターンが形成されることも可能性が
ある。
Further, in the above-mentioned document 1, from the relationship of the degree of adhesion between the work substrate and the silicone sheet, the place where the degree of adhesion is low expands and contracts because the stress of the substrate prevails, and the place where the degree of adhesion is high is fixed. The pattern may be formed in a deformed shape or a distorted shape with respect to the design value.

【0020】また、上記文献2では、搬送用補助板とし
て、補助板に貫通孔を設け、ワーク基板の4辺もしくは
4角を固定する方法を提案しているが、この場合もワー
ク基板の伸縮が、4辺固定のテープないし4角の圧入ピ
ンによって妨げられており、この場合においてもワーク
基板を固定しているテープ部分もしくは圧入ピン部分以
外が基板伸縮を生じ、パターン露光時、設計値に対して
変形もしくは歪む可能性が有る。
Further, in the above-mentioned document 2, a method is proposed in which a through hole is provided in the auxiliary plate as an auxiliary plate for conveyance, and four sides or four corners of the work substrate are fixed, but also in this case, the work substrate expands and contracts. Are blocked by the tapes fixed on four sides or the press-fitting pins of the four corners. Even in this case, the parts other than the tape part or the press-fitting pin parts that fix the work substrate cause the expansion and contraction of the substrate. On the other hand, it may be deformed or distorted.

【0021】さらに、テープにて固定するのは、ワーク
基板の表面を粘着材で汚染する可能性があるため、品質
上課題が残る。また、インライン設備の処理途中でテー
プを剥がす、ピンを抜き取る等、このような搬送用補助
板は、繰返し使用する場合が多いことから歩留まりや作
業性の面で問題が生じ易い。
Further, fixing with a tape may contaminate the surface of the work substrate with an adhesive material, so that a quality problem remains. In addition, since such a transportation auxiliary plate is often used repeatedly such as peeling off the tape or pulling out a pin during the processing of the in-line facility, problems easily occur in terms of yield and workability.

【0022】本発明は、上記の各問題点を解決するもの
であって、その目的は、ガラスと同様のプロセス処理で
搬送が可能であり、かつ、ワーク基板投入から各膜処理
工程で繰返される熱処理にかかわらず高い寸法精度が維
持でき、安定な工程搬送性を行なうことが可能な基板搬
送用治具及びこれを用いた電気表示装置の製造方法を提
供することにある。
The present invention solves each of the problems described above, and the object thereof is that it can be transported by the same process treatment as that of glass, and is repeated in each film treatment process from the introduction of a work substrate. It is an object of the present invention to provide a substrate transfer jig that can maintain high dimensional accuracy regardless of heat treatment and can perform stable process transferability, and a method of manufacturing an electric display device using the same.

【0023】[0023]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明の基板搬送用治具は、ワーク基板を支持し
て工程搬送される基板搬送用治具において、工程搬送時
に外的な環境変化によって変形しない剛性を有し、且
つ、表面にワーク基板を支持する支持体と、上記ワーク
基板を、上記支持体に吸着支持するための吸着支持手段
と、上記ワーク基板を、上記支持体に粘着力で常時支持
するための粘着支持手段とを有し、上記粘着支持手段の
粘着力は、工程搬送時の外的な環境変化によって上記ワ
ーク基板が伸縮するのを妨げない粘着力であることを特
徴としている。
In order to solve the above problems, a substrate carrying jig of the present invention is a substrate carrying jig for carrying a process substrate while supporting a work substrate. Support having a rigidity that does not deform due to various environmental changes and supporting a work substrate on the surface, suction support means for suction-supporting the work substrate on the support, and the work substrate supporting the work substrate. It has an adhesive support means for always supporting the body with an adhesive force, and the adhesive force of the adhesive support means is an adhesive force that does not prevent the work substrate from expanding and contracting due to an external environmental change during process transportation. It is characterized by being.

【0024】上記の構成によれば、ワーク基板は、工程
搬送時に粘着支持手段によって常に支持体に支持されて
いるので、工程搬送中にワーク基板が支持体から脱落す
るのを防止することができる。また、ワーク基板は、工
程搬送時に外的な環境変化によって変形しない剛性を有
する支持体に支持されるようになっているので、この支
持体に吸着支持手段によって吸着支持されることによ
り、製造工程中の加熱等の外的な環境変化による反りや
歪みを防止することができる。
According to the above construction, since the work substrate is always supported by the support by the adhesive supporting means during the process transfer, it is possible to prevent the work substrate from falling off the support during the process transfer. . In addition, since the work substrate is supported by a support having a rigidity that does not deform due to an external environmental change during the process conveyance, the work substrate is suction-supported by the suction-supporting means, so that the manufacturing process is performed. It is possible to prevent warpage and distortion due to external environmental changes such as heating inside.

【0025】従って、ワーク基板がプラスチック等の剛
性の低い基板であっても、剛性の高い支持体に支持され
ることで、ガラスと同様のプロセス処理での搬送が可能
である。
Therefore, even if the work substrate is a substrate having low rigidity such as plastic, it can be transported in the same process as that of glass by being supported by the support having high rigidity.

【0026】しかも、ワーク基板が支持体に対して粘着
支持手段によって支持される粘着力は、工程搬送時の外
的な環境変化によって上記ワーク基板が伸縮するのを妨
げない粘着力であるので、工程搬送時に外的な環境変化
(加熱・冷却等)によってワーク基板の伸縮が激しい場
合であっても、ワーク基板は伸びや縮みに対してフレキ
シブルに対応できる。つまり、プラスチック基板等の伸
縮が激しいワーク基板であっても、支持体に支持されて
いるワーク基板の伸縮の自由度を高めることができるの
で、工程搬送時におけるワーク基板の歪みや、うねりが
抑えられる。
Moreover, since the adhesive force of the work substrate supported by the adhesive support means to the support is an adhesive force that does not prevent the work substrate from expanding and contracting due to an external environmental change during the process conveyance. Even when the work substrate expands and contracts significantly due to external environmental changes (heating, cooling, etc.) during process transfer, the work substrate can flexibly cope with expansion and contraction. In other words, even if the work substrate is a plastic substrate or the like that expands and contracts significantly, it is possible to increase the flexibility of expansion and contraction of the work substrate supported by the support body, so that distortion and undulation of the work substrate during process transfer can be suppressed. To be

【0027】例えば、電気表示装置としてカラー液晶表
示装置を製造する場合に使用されるワーク基板では、カ
ラーフィルタを形成する必要があるため、該ワーク基板
には、R、G、B、BKの4色の色素が電着方式で重ね
合わせられる。この電着方式では、ワーク基上にレジス
トを塗布した後、1色毎にパターン露光、焼成、レジス
ト現像、焼成、色素電着、焼成を繰返し行う必要がある
ので、プラスチック基板等の伸縮が激しいワーク基板で
は、支持体に支持された状態で伸縮の自由度が低けれ
ば、ワーク基板自身が歪んでしまい露光時の所望するパ
ターニング精度を得ることは極めて難しい。
For example, in a work substrate used when manufacturing a color liquid crystal display device as an electric display device, it is necessary to form a color filter, and therefore, R, G, B, and BK are formed on the work substrate. Color pigments are superposed by electrodeposition. In this electrodeposition method, it is necessary to repeat pattern exposure, firing, resist development, firing, dye electrodeposition, and firing for each color after applying a resist on the work substrate, so that expansion and contraction of the plastic substrate or the like is severe. If the work substrate has a low degree of freedom of expansion and contraction while being supported by a support, the work substrate itself is distorted, and it is extremely difficult to obtain the desired patterning accuracy during exposure.

【0028】しかしながら、上記の吸着支持手段と粘着
支持手段とによるワーク基板の支持では、該ワーク基板
の加熱による伸縮を妨げないように、支持体に支持され
ているので、支持体に支持された状態でのワーク基板の
伸縮の自由度が高くなっている。この結果、ワーク基板
の伸縮による歪みが生じないようになるので、露光時の
所望するパターニング精度を得ることができる。
However, in the support of the work substrate by the suction support means and the adhesive support means, since it is supported by the support so as not to prevent the work substrate from expanding and contracting due to heating, it is supported by the support. The degree of freedom of expansion and contraction of the work substrate in this state is high. As a result, the distortion due to the expansion and contraction of the work substrate does not occur, so that the desired patterning accuracy at the time of exposure can be obtained.

【0029】以上のことから、ワーク基板投入から各膜
処理工程で繰返される熱処理にかかわらず高い寸法精度
が維持でき、安定な工程搬送性を行なうことが可能とな
るので、該ワーク基板によって製造される電気表示素子
等の製品の歩留りの向上を図ることができる。
From the above, a high dimensional accuracy can be maintained regardless of the heat treatment repeated in each film processing step from the introduction of the work substrate, and stable process transportability can be performed. The yield of products such as electric display devices can be improved.

【0030】上記吸着支持手段として、上記支持体に所
定の割合で、該支持体のワーク基板支持面から反対面に
貫通する貫通孔が複数個設けられていてもよい。
As the suction supporting means, a plurality of through holes may be provided in the support at a predetermined ratio so as to penetrate from the work substrate supporting surface of the support to the opposite surface.

【0031】この場合、支持体に設けられた貫通孔の該
支持体のワーク基板支持面とは反対面側から真空吸引す
ることで、支持体上にワーク基板を密着支持することが
可能となる。さらに、支持体を真空吸引する吸着ステー
ジに載置することで、支持体と該支持体上で支持されて
いるワーク基板とを同時に該吸着ステージに対して同時
に真空吸着され、支持体とワーク基板とを安定して吸着
ステージに固定することができる。
In this case, the work substrate can be closely supported on the support by vacuum suction from the side of the through hole provided in the support opposite to the work substrate supporting surface of the support. . Furthermore, by placing the support on a suction stage for vacuum suction, the support and the work substrate supported on the support are simultaneously vacuum-sucked to the suction stage, and the support and the work substrate are simultaneously sucked. And can be stably fixed to the suction stage.

【0032】また、上記粘着支持手段として、ワーク基
板を支持するための粘着力が、繰返しの使用によっても
ほぼ一定に維持される粘着材が上記支持体のワーク基板
支持面上に設けられていてもよい。
Further, as the above-mentioned adhesive supporting means, an adhesive material is provided on the work substrate supporting surface of the above-mentioned support, in which the adhesive force for supporting the work substrate is maintained substantially constant even after repeated use. Good.

【0033】上記粘着材の特性としては、貼り剥がしが
可能で、剥がし時に基板へ強い応力の影響を与えないこ
と、繰り返し使用可能であることがあげられる。
The characteristics of the pressure-sensitive adhesive material are that it can be peeled off, does not exert a strong stress on the substrate during peeling, and can be repeatedly used.

【0034】したがって、上記の粘着材としては、熱処
理工程を繰り返す点等を考慮して、例えばシリコーンゴ
ムが好適に使用される。
Therefore, for example, silicone rubber is preferably used as the above-mentioned adhesive material in consideration of repeating the heat treatment process.

【0035】上記粘着材の、支持体から露出している部
分の表面積は、7×10-42以上、ワーク基板の支持
体側の表面積の10%以下が好ましい。
The surface area of the portion of the adhesive material exposed from the support is preferably 7 × 10 −4 m 2 or more and 10% or less of the surface area of the work substrate on the support side.

【0036】この場合、粘着材の支持体から露出してい
る部分の表面積が7×10-42であるのは、直径30
mmの面積に相当しており、この面積よりも小さいもの
では、工程搬送時にワーク基板が支持体から剥がれ落ち
る虞が高い。また、上記表面積が、支持するワーク基板
の表面積の10%を越えると、ワーク基板への粘着力が
大きくなり、支持体に支持された状態のワーク基板の伸
縮の自由度が低くなり、露光処理等の影響を受けて歪む
虞が高い。これは、ワーク基板の反り力と粘着物の粘着
力×面積の力の2つの力関係によるものと考えられる。
In this case, the surface area of the portion of the adhesive material exposed from the support is 7 × 10 −4 m 2 and the diameter is 30.
This area corresponds to an area of mm, and if it is smaller than this area, the work substrate is likely to be peeled off from the support during the process transfer. Further, when the surface area exceeds 10% of the surface area of the work substrate to be supported, the adhesive force to the work substrate becomes large, and the work substrate supported by the support has a low degree of freedom of expansion and contraction. There is a high possibility that it will be distorted under the influence of the above. It is considered that this is due to the two force relationships of the warp force of the work substrate and the adhesive force of the sticky substance × the force of the area.

【0037】上記粘着材の、支持体表面からの高さは、
該支持体表面とほぼ同じ高さ以上、100μm以下が好
ましい。
The height of the above adhesive material from the surface of the support is
It is preferable that the height is substantially the same as the surface of the support or more and 100 μm or less.

【0038】この場合、粘着材の支持体表面からの高さ
が100μmよりも高くなれば、ワーク基板と支持体と
の隙間が大きくなり、ワーク基板と支持体との密着性が
維持できなくなる。
In this case, if the height of the adhesive material from the surface of the support is higher than 100 μm, the gap between the work substrate and the support becomes large, and the adhesion between the work substrate and the support cannot be maintained.

【0039】しかも、粘着材の支持体表面からの高さが
100μm以下にすることで、プロキシミティ露光等の
処理を可能にする。
Furthermore, by setting the height of the adhesive material from the surface of the support to 100 μm or less, it is possible to perform processing such as proximity exposure.

【0040】ここで、上記プロキシミティ露光は、感光
材を塗布した基板へマスクを介してUV露光する方式で
いわゆるフォトリソ方式と同じである。
Here, the proximity exposure is a method in which the substrate coated with the photosensitive material is UV-exposed through a mask, and is the same as the so-called photolithography method.

【0041】上記プロキシミティ露光における露光精度
は、マスクと基板間のギャップ差(プロキシミティギャ
ップ)により変化する。すなわち、マスクと基板の距離
が近ければ精度は向上し、距離が離れれば精度は低下す
る。しかしながら、基板上に異物やCF突起といったも
のが存在すればマスクが傷つき、不具合が生じる。この
場合、大きな異物であればクリーナーで除去することが
可能であるが、数十μm程度の異物や突起は除去できな
いので、上述のように、プロキシミティギャップは、余
裕を持って設定される。
The exposure accuracy in the proximity exposure varies depending on the gap difference (proximity gap) between the mask and the substrate. That is, the accuracy improves when the distance between the mask and the substrate is short, and the accuracy decreases when the distance is long. However, if foreign matter or CF protrusions are present on the substrate, the mask will be damaged and a problem will occur. In this case, a large foreign matter can be removed by a cleaner, but a foreign matter and a projection of about several tens of μm cannot be removed, so that the proximity gap is set with a margin as described above.

【0042】したがって、上述のように粘着材の支持体
表面からの高さが100μm以下にすることで、露光精
度と生産の安定を確保することができる。
Therefore, as described above, by setting the height of the adhesive material from the surface of the support to 100 μm or less, it is possible to ensure the exposure accuracy and the stability of production.

【0043】以上のように、本願発明に適用できる露光
は上記のプロキシミティ露光に限定されず、基板表面に
存在する突起部や異物による影響を受けるような露光方
式であれば適用可能である。
As described above, the exposure applicable to the present invention is not limited to the proximity exposure described above, and any exposure method that can be influenced by the projections or foreign matters existing on the substrate surface can be applied.

【0044】上記支持体に設けられた粘着材の近傍に
は、ワーク基板を支持体に載置する際に、上記粘着材に
該ワーク基板が押圧できるように吸引する吸引手段を設
けてもよい。
Suction means may be provided in the vicinity of the adhesive provided on the support so as to allow the adhesive to be pressed against the adhesive when the work substrate is placed on the support. .

【0045】この場合、ワーク基板を支持体に粘着支持
する際には、ガラスからなるワーク基板であれば、ワー
ク基板は自重により粘着材に押圧され粘着支持すること
が可能となるが、プラスチック基板のように自重により
粘着材に押圧できないような場合には、上述のように、
吸引手段でワーク基板を粘着材側に吸引すれば、確実に
ワーク基板を支持体に粘着支持することができる。
In this case, when the work substrate is adhesively supported on the support, if the work substrate is made of glass, the work substrate can be pressed by the adhesive material by its own weight to be adhesively supported. If you cannot press the adhesive due to its own weight, as described above,
When the work substrate is sucked toward the adhesive material by the suction means, the work substrate can be surely adhered to and supported by the support.

【0046】これにより、ワーク基板がプラスチック基
板のような自重によって粘着材に押圧できない場合であ
っても、該ワーク基板を別部材により押圧する必要がな
く、非接触でワーク基板を支持体上に粘着支持させるこ
とができる。
As a result, even if the work substrate cannot be pressed against the adhesive material by its own weight like a plastic substrate, it is not necessary to press the work substrate by another member, and the work substrate can be placed on the support without contact. It can be adhesively supported.

【0047】本発明の電気表示装置の製造方法は、上述
した基板搬送用治具を用いることを前提とし、ワーク基
板の寸法精度が要求される工程では、粘着支持手段に加
えて、吸着支持手段によってワーク基板を支持体に支持
することを特徴としている。
The method of manufacturing the electric display device of the present invention is premised on the use of the above-mentioned jig for transferring the substrate, and in the step where the dimensional accuracy of the work substrate is required, in addition to the adhesive supporting means, the suction supporting means. The work substrate is supported on a support by.

【0048】上記の構成によれば、ワーク基板を支持体
上に常時支持する粘着支持手段に加えて、吸着支持手段
を用いて吸着支持することで、支持体上でワーク基板を
確実に支持することができる。
According to the above construction, the work substrate is surely supported on the support by adsorbing and supporting the work substrate using the suction supporting means in addition to the adhesive supporting means for always supporting the work substrate on the supporting body. be able to.

【0049】このように、上記ワーク基板を支持体上に
吸着支持することで、ワーク基板全体を平坦化すること
が可能となり、露光処理のプロキシギャップを均一化す
る共に、粘着支持手段によって粘着支持することで、ワ
ーク基板の露光雰囲気温度による基板伸縮を妨げること
がないようになる。
As described above, by adsorbing and supporting the work substrate on the support, the whole work substrate can be flattened, the proxy gap of the exposure processing can be made uniform, and the adhesive support means can provide adhesive support. By doing so, the expansion and contraction of the substrate due to the exposure atmosphere temperature of the work substrate will not be hindered.

【0050】したがって、ワーク基板が歪むことによる
電気表示装置の歩留りの低下を防止することができる。
特に、剛性の低いプラスチック基板をワーク基板として
使用した場合の電気表示装置の生産性の向上を図ること
ができる。
Therefore, it is possible to prevent the yield of the electric display device from being lowered due to the distortion of the work substrate.
In particular, the productivity of the electric display device can be improved when a plastic substrate having low rigidity is used as a work substrate.

【0051】[0051]

【発明の実施の形態】本発明の実施の一形態について説
明すれば、以下の通りである。なお、本実施の形態で
は、本発明を電気表示装置として液晶表示装置に適用し
た場合について説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The following will describe one embodiment of the present invention. Note that in this embodiment mode, a case where the present invention is applied to a liquid crystal display device as an electric display device will be described.

【0052】本実施の形態に係る基板搬送用治具は、図
1に示すように、ワーク基板1を載置して支持する支持
体11を備えている。
As shown in FIG. 1, the substrate transfer jig according to the present embodiment includes a support 11 for mounting and supporting the work substrate 1.

【0053】上記支持体11は、ワーク基板1の支持面
から裏面へと貫通する複数の円孔の貫通孔11a…が形
成されている。これら貫通孔11a…は、図1に示すよ
うに、ワーク基板1を支持した状態の支持体11が吸着
ステージ21上に載置されたとき、該吸着ステージ21
からの空気の吸引によって上記ワーク基板1を支持体1
1に吸着させるための吸着孔としての機能を有してい
る。また、吸着ステージ21による吸引が停止される
と、支持体11へのワーク基板1の吸着が解除されるよ
うになっている。
The support 11 is formed with a plurality of through holes 11a ... Circular holes penetrating from the support surface of the work substrate 1 to the back surface. As shown in FIG. 1, these through-holes 11a ... When the support body 11 supporting the work substrate 1 is placed on the suction stage 21, the suction stage 21a.
The work substrate 1 is attached to the support 1 by suction of air from the
1 has a function as an adsorption hole for adsorption. Further, when the suction by the suction stage 21 is stopped, the suction of the work substrate 1 to the support 11 is released.

【0054】つまり、上記貫通孔11aは、支持体11
へのワーク基板1の吸着および解除を可能にする第1固
定手段を構成している。
That is, the through hole 11a is formed by the support 11
The first fixing means is configured to allow the work substrate 1 to be attracted to and released from the work substrate 1.

【0055】また、支持体11は、ワーク基板1の支持
面のほぼ中央に形成された凹部11bに、該ワーク基板
1をこの支持体11上で常時固定可能にする第2固定手
段としてのシリコーンゴム12が埋め込まれている。
Further, the support 11 is a silicone as a second fixing means which can always fix the work substrate 1 on the support 11 in the recess 11b formed in the substantially center of the support surface of the work substrate 1. The rubber 12 is embedded.

【0056】上記支持体11としては、薄板ガラス、プ
ラスチック等のワーク基板1に比べて充分な剛性を有す
る金属板、ガラス板等で構成されるが、本実施の形態で
は、熱歪みに強く、熱伝導性に優れ、ガラスと比重があ
まり変わらない金属であるアルミニウム(Al)を用い
た。
The support 11 is composed of a thin glass plate, a metal plate having a sufficient rigidity as compared with the work substrate 1 such as a plastic plate, a glass plate, etc. Aluminum (Al), which is a metal having excellent thermal conductivity and having a specific gravity not much different from that of glass, was used.

【0057】また、液晶表示装置の製造工程において
は、露光を行なう処理がある為、露光時に治具自体の反
射の影響を無くす為に表面には黒アルマイト処理を施
し、治具である支持体11の厚みは、ワーク基板1の搬
送時の制限高である1.0mm厚とした。
Further, in the manufacturing process of the liquid crystal display device, since there is a treatment for exposing, in order to eliminate the influence of the reflection of the jig itself at the time of exposure, the surface is subjected to black alumite treatment, and the supporting body which is a jig. The thickness of 11 was 1.0 mm, which is the limit height when the work substrate 1 is transported.

【0058】なお、上記支持体11の外形は、ワーク基
板1が300×423×0.3mmの大きさの基板であ
るのに対して、ラインの川幅に合わせた為、370×4
80×1.0mmと大きいサイズになった。
The outer shape of the support 11 is 370 × 4 because the work substrate 1 is a substrate having a size of 300 × 423 × 0.3 mm, and the width of the line is matched.
The size was as large as 80 x 1.0 mm.

【0059】治具(支持体11)の大きさは、ラインの
川幅に合わせて340×480mmとしているが、これ
に限定されず、ラインの川幅により変更可能であり、ま
た、ワーク基板と同等サイズから各ラインの川幅にあわ
せて変更可能である。
The size of the jig (support 11) is 340 × 480 mm according to the width of the line, but it is not limited to this and can be changed according to the width of the line, and the size is the same as the work substrate. Can be changed according to the river width of each line.

【0060】上記基板搬送用治具は、既存製造設備の真
空吸着である吸着ステージ21において、支持体11と
ワーク基板1を同時に吸着する為にワーク基板用吸着孔
として、ステージ吸着口に合わせた、位置、個数、サイ
ズの貫通孔11aが該支持体11に設けている。
In the suction stage 21 which is the vacuum suction of the existing manufacturing equipment, the above-mentioned substrate transfer jig is aligned with the stage suction port as a work substrate suction hole for simultaneously sucking the support 11 and the work substrate 1. The through holes 11 a of the position, the number, and the size are provided in the support 11.

【0061】なお、本実施の形態では、貫通孔11a
は、吸着ステージ21上の吸着孔(図示せず)に対し
て、2/3程の位置に配置している。すなわち、支持体
11自体の吸着用として全貫通孔11aのうち1/3個
を利用し、支持体11を通してワーク基板1の吸着用と
して全貫通孔11aのうち2/3を利用している。
In the present embodiment, the through hole 11a
Are arranged at positions of about 2/3 with respect to the suction holes (not shown) on the suction stage 21. That is, 1/3 of all the through holes 11a are used for suction of the support 11 itself, and 2/3 of all of the through holes 11a are used for suction of the work substrate 1 through the support 11.

【0062】また、上記支持体11には、図2(a)に
示すように、貫通孔11aやシリコーンゴム12の他
に、吸着ステージ21に載置する際の該支持体11の位
置合わせに必要なアライメントマークとエッジ位置マー
クとが設けられている。これらアライメントマークおよ
びエッジ位置マークは、例えば、光を透過する光透過窓
からなり、各マークを透過するように光を照射すること
で、支持体11の吸着ステージ21への位置合わせを精
度よく行なう。
In addition to the through hole 11a and the silicone rubber 12, as shown in FIG. 2 (a), the support 11 is used for positioning the support 11 when it is mounted on the suction stage 21. Necessary alignment marks and edge position marks are provided. These alignment marks and edge position marks are, for example, light transmission windows that transmit light. By irradiating light so as to pass through each mark, the support 11 is accurately aligned with the suction stage 21. .

【0063】上記シリコーンゴム12は、図2(b)に
示すように、支持体11のほぼ中央に形成された凹部1
1bにはめ込まれている。この凹部11bの下方には、
貫通孔11aが設けられており、シリコーンゴム12
は、支持体11が吸着ステージ21上に載置されたと
き、該吸着ステージ21によって凹部11b内に吸着固
定されるようになっている。
As shown in FIG. 2 (b), the silicone rubber 12 has a concave portion 1 formed substantially in the center of the support 11.
It is fitted in 1b. Below the recess 11b,
The through hole 11a is provided, and the silicone rubber 12
When the support 11 is placed on the suction stage 21, the suction stage 21 sucks and fixes the support 11 in the recess 11b.

【0064】本実施の形態では、支持体11に対して、
ワーク基板1を固定するに当たり、該支持体11の中央
部1箇所に50mmΦのシリコーンゴム12を埋め込
み、ワーク基板1の裏から固定するようになっている。
このとき、シリコーンゴム12は、支持体11の表面か
ら0〜100μm程突出させ、ワーク基板1表面から接
触することなく貼り付けるようになっている。このた
め、シリコーンゴム12の取り付け部内にある貫通孔1
1aを利用して、支持体11の裏面から吸着ステージ2
1等にて真空引きすることにより、ワーク基板1をシリ
コーンゴム12に接触固定させるようにしている。
In this embodiment, with respect to the support 11,
When the work substrate 1 is fixed, a silicone rubber 12 of 50 mmΦ is embedded in the central portion of the support 11 and fixed from the back of the work substrate 1.
At this time, the silicone rubber 12 is made to protrude from the surface of the support 11 by about 0 to 100 μm and attached without contacting the surface of the work substrate 1. Therefore, the through hole 1 in the mounting portion of the silicone rubber 12
1a is used to suck the suction stage 2 from the back surface of the support body 11.
The work substrate 1 is brought into contact with and fixed to the silicone rubber 12 by pulling a vacuum with 1 or the like.

【0065】この常時固定に利用されるシリコーンゴム
12は、実際使用するワーク基板1の厚みやサイズ、工
程条件により、面積、配置、パターンは異なってくる。
すなわち、ワーク基板1の伸縮を妨げず、且つ熱処理後
のワーク基板1の撓みといった応力でワーク基板1が支
持体11から剥がれない程度にシリコーンゴム12の面
積、配置、パターンを決める必要がある。
The area, arrangement, and pattern of the silicone rubber 12 used for this permanent fixing differ depending on the thickness and size of the work substrate 1 actually used and the process conditions.
That is, it is necessary to determine the area, the arrangement, and the pattern of the silicone rubber 12 so that the work substrate 1 is not peeled off from the support body 11 due to the stress such as the bending of the work substrate 1 after the heat treatment without hindering the expansion and contraction of the work substrate 1.

【0066】本実施の形態では、電気表示装置として液
晶表示装置について述べているので、上記ワーク基板1
は、図3に示すように、板状ガラス基板もしくはプラス
チック基板のことであり、このワーク基板1上に複数個
分の電極パターンからなる液晶セル31を配し、さら
に、表面に配向膜等を形成後、対向基板を貼り合わせ、
分断により複数個の液晶表示装置が製造されることとな
る。
Since the liquid crystal display device is described as the electric display device in the present embodiment, the work substrate 1 described above is used.
As shown in FIG. 3, it means a plate-shaped glass substrate or a plastic substrate, on which a liquid crystal cell 31 consisting of a plurality of electrode patterns is arranged on the work substrate 1, and an alignment film or the like is further formed on the surface. After forming, the opposite substrate is bonded,
A plurality of liquid crystal display devices will be manufactured by the division.

【0067】また、ワーク基板1には、パターニング重
ね合わせ、印刷、貼り合わせ処理における精密位置合わ
せを行なうためにアライメントマークを有することから
アライメントマーク部に光を透過させるための光透過窓
と、基板の端面をエッジセンサーにて検出し、位置決め
する装置に対応することから、透過型の基板エッジ検出
センサーの検出範囲位置に光が透過できるように光透過
窓とが設けられている。
Further, since the work substrate 1 has an alignment mark for performing precision alignment in patterning superposition, printing, and laminating processing, a light transmission window for transmitting light to the alignment mark portion, and the substrate Since it corresponds to a device that detects and positions the end face of the substrate with an edge sensor, a light transmission window is provided so that light can be transmitted to the detection range position of the transmission type substrate edge detection sensor.

【0068】また、上記支持体11では、丸穴形状の貫
通孔11aを複数個配置している例を示しているが、ワ
ーク基板1を搬送するラインの形態によっては、吸着用
の孔を溝状といった形態にした支持体を使用しても問題
はない。
Further, although the support 11 has an example in which a plurality of round hole-shaped through holes 11a are arranged, depending on the form of the line for transporting the work substrate 1, the suction holes may be grooved. There is no problem even if a support having a shape such as a shape is used.

【0069】この場合、前記円形状のシリコーンゴム1
2の代わりに、図4(a)に示すように、支持体41に
は、長方形状のシリコーンゴム42が設けられている。
このシリコーンゴム42の周りには、2つの貫通孔41
aと該貫通孔41aに連通し該シリコーンゴム42を囲
むように吸着溝41bが形成されている。
In this case, the circular silicone rubber 1
Instead of 2, as shown in FIG. 4A, the support 41 is provided with a rectangular silicone rubber 42.
Two through holes 41 are formed around the silicone rubber 42.
An adsorption groove 41b is formed so as to communicate with a and the through hole 41a and surround the silicone rubber 42.

【0070】上記貫通孔41aは、図4(b)に示すよ
うに、支持体41の下方に設置された吸着ステージ21
内に設けられた吸着パッド22に連通しており、該貫通
孔41aを介して支持体41上のワーク基板1(図示せ
ず)を真空引きするようになっている。この場合、貫通
孔41aに連通した吸着溝41bがシリコーンゴム42
の周りに設けられているので、ワーク基板1はシリコー
ンゴム42に対して均等な力で吸着されることになる。
As shown in FIG. 4B, the through hole 41a is provided in the suction stage 21 installed below the support 41.
The work board 1 (not shown) on the support 41 is evacuated through the through hole 41a. In this case, the suction groove 41b communicating with the through hole 41a is
Since it is provided around the work substrate 1, the work substrate 1 is attracted to the silicone rubber 42 with a uniform force.

【0071】ここで、上記構成の基板搬送用治具を用い
た場合と、従来からの基板搬送用治具を用いた場合と
で、電着方式のカラーフィルタ製造工程における、寸法
精度の比較を行った。
Here, the dimensional accuracy in the electrodeposition type color filter manufacturing process is compared between the case of using the substrate carrying jig having the above-described structure and the case of using the conventional substrate carrying jig. went.

【0072】なお、電着方式のカラーフィルタ製造工程
においては、ワーク基板1の投入後、レジストを塗布
し、BK、R、G、Bの4色について1色毎にパターン
露光、焼成、レジスト現像、焼成、色素電着、焼成を繰
返し行なうことにより、カラーフィルタを製造するよう
になっている。
In the electrodeposition type color filter manufacturing process, after the work substrate 1 is charged, a resist is applied, and pattern exposure, baking and resist development are performed for each of the four colors of BK, R, G and B. The color filter is manufactured by repeatedly performing the firing, the electrodeposition of the dye, and the firing.

【0073】ここでは、比較例として、370×480
×0.7mmガラス基板からなる支持体61上にシリコ
ーンゴムをワーク基板1と同サイズの大きさに配したも
の(比較例1:図6(a))と370×480×0.7
mmガラス基板からなる支持体71にシリコーンゴム1
2を使用せず、ワーク基板1の4辺を耐熱テープで固定
したもの(比較例2:図7(a))とを同時に投入し、
おのおのの設計値に対する寸法精度を比較評価した。
Here, as a comparative example, 370 × 480.
Silicone rubber having the same size as the work substrate 1 on a support 61 made of a 0.7 mm glass substrate (Comparative Example 1: FIG. 6A) and 370 × 480 × 0.7.
1 mm silicone glass on the support 71 made of a glass substrate
2 was not used, and a work substrate 1 having four sides fixed with heat-resistant tape (Comparative Example 2: FIG. 7A) was put in at the same time,
The dimensional accuracy of each design value was compared and evaluated.

【0074】この結果は、図5、図6(b)、図7
(b)に示すようになった。
The results are shown in FIG. 5, FIG. 6 (b) and FIG.
As shown in (b).

【0075】すなわち、本実施の形態に係る基板搬送用
治具を使用した場合、図5に示すように、設計値と実測
値とでは殆ど差(全ての計測点において5μm以下の誤
差)が見られなかった。
That is, when the substrate carrying jig according to the present embodiment is used, as shown in FIG. 5, there is almost no difference between the design value and the actual measurement value (error of 5 μm or less at all measurement points). I couldn't do it.

【0076】また、比較例1のようにワーク基板1全体
にシリコーンゴムを設けた例では、図6(b)に示すよ
うに、設計値と実測値との間で5μm以上の差が生じた
箇所が見受けられた。
Further, in the example in which the silicone rubber is provided on the entire work substrate 1 like Comparative Example 1, as shown in FIG. 6B, a difference of 5 μm or more occurred between the design value and the actual measurement value. The spot was found.

【0077】さらに、比較例2のように、シリコーンゴ
ムを設けず、ワーク基板1の4隅だけを耐熱テープで固
定した例では、図7(b)に示すように、設計値と実測
値との間で5μm以上の差が生じた箇所が見受けられ
た。
Further, as in Comparative Example 2, in the example in which the silicone rubber is not provided and only the four corners of the work substrate 1 are fixed with the heat-resistant tape, as shown in FIG. It was found that there was a difference of 5 μm or more between the two.

【0078】以上のように、比較例1(全面固定)また
は比較例2(外周固定)では、設計に対して(図6
(b)、図7(b))のように扇形や鼓形になるが、本
願発明の基板搬送用治具では、ほぼ設計通りの形を再現
し、歪が少ないことが分かった。
As described above, in Comparative Example 1 (fixed on the entire surface) or Comparative Example 2 (fixed on the outer circumference), the design (see FIG.
(B) and FIG. 7 (b)), the shape is fan-shaped or hourglass-shaped, but it was found that the jig for substrate transfer of the present invention reproduced the shape almost as designed and had little distortion.

【0079】なお、熱処理が完了した時点で基板搬送用
治具による処理は終了するが、基板搬送用治具そのもの
は、繰返し使用することが可能であり、シリコーンゴム
の劣化による粘着力の低下が発生しない限り何度でも使
用できる。
Although the treatment by the substrate carrying jig is completed when the heat treatment is completed, the substrate carrying jig itself can be repeatedly used, and the adhesive force is lowered due to the deterioration of the silicone rubber. You can use it as many times as you like unless it occurs.

【0080】特記すべき、以下の3点について実施形態
における効果を述べる。
The effects of the embodiment will be described with respect to the following three points that should be noted.

【0081】常時固定のシリコーンゴム(シリコーン
ゴム12)の厚みについて このシリコーンゴム12の厚みは、フォトプロセスにお
ける露光処理に関わる。
Thickness of Silicon Rubber (Silicone Rubber 12) that is Always Fixed The thickness of the silicone rubber 12 is related to the exposure process in the photo process.

【0082】例えば、プロキシミティーギャップ方式の
露光機では、通常、露光ギャップ、すなわち露光マスク
の下面とワーク基板の表面の距離を60μm〜100μm
にしてパターニングが行われる。当然、ワーク基板1を
支持体11に固定する為には、0μmよりも高い高さが
必要である。
For example, in a proximity gap type exposure machine, the exposure gap, that is, the distance between the lower surface of the exposure mask and the surface of the work substrate is usually 60 μm to 100 μm.
Then, patterning is performed. Naturally, in order to fix the work substrate 1 to the support 11, a height higher than 0 μm is required.

【0083】なお、露光ギャップは、狭いほどパターン
の切れは良いが、異物によるマスク汚れが懸念されるた
め、シリコーンゴム12の厚みは、露光マスクの撓み等
を考慮すると、設定ギャップ−60μm程、基板搬送治
具の表面より高く(100μmギャップでは40μm)な
るのが、最適である。
The narrower the exposure gap is, the better the pattern is cut off. However, since the contamination of the mask by the foreign matter is concerned, the thickness of the silicone rubber 12 is set to be about -60 μm in consideration of the bending of the exposure mask. It is optimal that the height is higher than the surface of the substrate transfer jig (40 μm for a 100 μm gap).

【0084】露光用窓について 基板搬送用治具は、ワーク基板1より一回り大きい為、
その中でワーク基板1の位置を正確に決める必要があ
る。位置がばらつくとアライメント時に装置の動作範囲
を超え、エラーが発生したり、搬送時に不良を発生させ
たりする可能性がある。この露光用窓は、ワーク基板1
を基板搬送治具に載せるときに位置を決める位置決め機
構用の孔として利用すると共に、アライメント用の照明
用の窓として利用するものである。すなわち位置決め用
の孔とアライメント用の照明用の窓と兼用するようにな
っている。
Regarding the exposure window, since the substrate transfer jig is one size larger than the work substrate 1,
It is necessary to accurately determine the position of the work substrate 1 among them. If the positions vary, the operating range of the device may be exceeded during alignment, and errors may occur or defects may occur during transport. This exposure window is the work substrate 1
Is used as a hole for a positioning mechanism that determines the position when it is placed on the substrate transfer jig, and is also used as a window for illumination for alignment. That is, it serves as a positioning hole and an illumination window for alignment.

【0085】非接触貼り付けについて 通常、ワーク基板1を支持体11に貼り付ける場合は、
押し圧が必要である。ワーク基板1を支持体11に載せ
るだけで、該ワーク基板1の自重で貼り付けるのが理想
的だが、ワーク基板1は軽い為、この方法は採用できな
い。
About non-contact sticking Normally, when the work substrate 1 is stuck to the support 11,
Pressing force is required. Ideally, the work substrate 1 is simply placed on the support 11 and the work substrate 1 is attached by its own weight. However, since the work substrate 1 is light, this method cannot be adopted.

【0086】そこで、基板搬送治具を通して吸着するこ
とにより、大気圧をかけて貼り付ける。実質は、溝の部
分にしか、圧はかからないのでシリコーンゴムは溝と溝
の間に配置して押さえられる力がかかるように工夫する
必要がある。この方法で、非接触貼り付けが実現でき
る。
Therefore, the substrate is attached by suction through a substrate transfer jig by applying atmospheric pressure. Substantially, pressure is applied only to the groove portions, so it is necessary to devise so that the silicone rubber is placed between the grooves to exert a pressing force. By this method, non-contact sticking can be realized.

【0087】この貼り付け方法のメリットは、ワーク基
板表面を触らない為、ワーク基板表面を汚染することが
無く、良品率の低下を防止できる。
The advantage of this attachment method is that the surface of the work substrate is not touched, so that the surface of the work substrate is not contaminated and a decrease in the yield rate can be prevented.

【0088】以上の説明から、本発明の基板搬送用治具
は、液晶基板表示装置を形成する薄板状で剛性の弱いプ
ラスチック基板に比べ、充分な強度を有する金属、ガラ
ス板等で構成された支持体を備えている。
From the above description, the substrate carrying jig of the present invention is made of a metal, a glass plate or the like having a sufficient strength as compared with a thin plate-like plastic substrate which forms a liquid crystal substrate display device and has low rigidity. It has a support.

【0089】また、基板搬送用治具は製造設備ステージ
等の真空吸着するのに、支持体を通して吸着する為に多
数の吸着孔を有する。そして、ワーク基板を固定する為
のシリコーンゴムが支持体の中央部に埋め込まれてい
る。薄板状の強度の弱いワーク基板は、十分な剛性を持
つ治具にシリコーンゴムにて固定される為、既存の製造
設備の搬送系、処理系を脱落することなく、また、基板
の位置決めも自動で可能であり、パターニングの仕上が
りも良好となる。
Further, the substrate carrying jig has a large number of suction holes for sucking through a support for vacuum suction of a manufacturing equipment stage or the like. Silicone rubber for fixing the work substrate is embedded in the center of the support. A thin work board with low strength is fixed to a jig with sufficient rigidity with silicone rubber, so the transfer system and processing system of the existing manufacturing equipment are not dropped, and board positioning is automatic. And the finished patterning is also good.

【0090】従って、本発明の基板搬送用治具により、
薄板状の剛性の弱いプラスチック基板を剛性のあるガラ
ス基板の如く、既存のガラス基板用の液晶表示装置の製
造ラインに流すことが可能となる。
Therefore, with the substrate transfer jig of the present invention,
It becomes possible to flow a thin plate-like plastic substrate having low rigidity into a manufacturing line of an existing liquid crystal display device for glass substrates like a rigid glass substrate.

【0091】さらに、本願発明では、下記に記載する基
板搬送用治具を採用する。
Further, in the present invention, the substrate carrying jig described below is adopted.

【0092】本発明の基板搬送用治具は、表面に電気表
示装置用のワーク基板を支持固定して工程搬送される基
板用治具であって、前記ワーク基板を吸着・解放可能な
固定手段と、常時固定可能な固定手段を有する基板用治
具において、常時固定部は、ワーク基板を背面から固定
する粘着手段であり、その粘着手段は、ワーク基板の伸
縮を妨げないこと構成である。
The substrate carrying jig of the present invention is a jig for a substrate which is carried and processed by supporting and fixing a work substrate for an electric display device on its surface, and a fixing means capable of adsorbing and releasing the work substrate. In the substrate jig having the fixing means that can be always fixed, the constant fixing portion is an adhesive means for fixing the work substrate from the back surface, and the adhesive means does not hinder the expansion and contraction of the work substrate.

【0093】上記の構成によれば、本発明の基板搬送用
治具は、ワーク基板を背面から治具に固定する手段を2
つ有しており、1つは通常の搬送時は粘着材による常時
固定、ステージ等での処理時には基板搬送用治具に開け
られた吸着孔または溝を通してステージ等より任意の吸
着固定が可能で、これによりワーク基板表面へ影響を与
えずに実施が可能となる。また、ワーク基板が伸縮の自
由度を有することにより、露光によるパターニング時の
寸法に対して精度良く仕上げることが可能となる。
According to the above structure, the jig for transferring a substrate according to the present invention has two means for fixing the work substrate to the jig from the back side.
One is always fixed by an adhesive material during normal transfer, and can be arbitrarily fixed by suction from the stage etc. through suction holes or grooves opened in the jig for substrate transfer during processing on the stage etc. Therefore, it can be performed without affecting the surface of the work substrate. Further, since the work substrate has the flexibility of expansion and contraction, it is possible to finish the dimension with high accuracy in patterning by exposure.

【0094】また、前記解放可能固定手段として真空吸
着方法を用いるため、支持体に所定の割合で寛通孔を複
数個設け、前記常時固定手段として、支持体表面に取り
つけられる基板を保持するための粘着力が、繰返しの使
用によってもほぼ一定に維持される粘着材層が支持体上
に設けられる構成であってもよい。
Further, since a vacuum suction method is used as the releasable fixing means, a plurality of perforation holes are provided in the support at a predetermined ratio, and as the constant fixing means, a substrate attached to the surface of the support is held. The pressure-sensitive adhesive layer may have a structure in which the pressure-sensitive adhesive layer is provided on the support so that the pressure-sensitive adhesive force is maintained substantially constant even after repeated use.

【0095】この場合、解放可能固定手段として、支持
体に複数個の寛通孔を所定の割合で設けることで、工程
上使用される真空吸着ステージ上でにおいて、支持体と
支持体上にあるワーク基板とが同時に真空吸着され、固
定することが可能となる。また、常時固定する粘着材
は、熱処理工程を繰返す点や製造工程において繰返し使
用されることから一定の粘着性を維持できるシリコーン
ゴムのような粘着材が必要となる。
In this case, as the releasable fixing means, by providing a plurality of through holes in the support at a predetermined ratio, the support and the support are on the vacuum suction stage used in the process. The work substrate and the work substrate can be simultaneously vacuum-adsorbed and fixed. Further, as the adhesive material that is constantly fixed, an adhesive material such as silicone rubber that can maintain a certain adhesiveness is required because it is repeatedly used in the heat treatment step and the manufacturing step.

【0096】また、上記粘着材は、常時固定の粘着部に
該当するものの総面積が7×10-4から基板の総面
積の10%以下が好ましい。
Further, it is preferable that the total area of the above-mentioned adhesive material, which corresponds to the always-fixed adhesive portion, is 7 × 10 −4 m 2 to 10% or less of the total area of the substrate.

【0097】この場合、パネル工程において、熱工程を
通ることから、ワーク基板と治具を固定する粘着部の領
域が7×10-4(30mmΦの面積)までは、熱工
程を繰返し実施しても、ワーク基板が基板搬送治具から
剥がれることはなかったが、この面積より小さいもので
は、ワーク基板が基板搬送治具から剥がれ落ちた。逆
に、粘着部が基板面積の10%を超えると、粘着部分の
作用が大きく、露光処理でパターンを作成しても粘着部
分がワーク基板の伸縮を妨げて歪んだ形となって形成さ
れる。
In this case, in the panel process, the heat process is repeated until the area of the adhesive portion for fixing the work substrate and the jig reaches 7 × 10 −4 m 2 (area of 30 mmΦ) in the panel process. However, the work substrate did not peel off from the substrate carrying jig, but if the work area was smaller than this area, the work substrate fell off from the substrate carrying jig. On the contrary, when the adhesive portion exceeds 10% of the substrate area, the action of the adhesive portion is large, and even if a pattern is created by exposure processing, the adhesive portion is formed in a distorted shape by preventing expansion and contraction of the work substrate. .

【0098】上記粘着材は、支持体表面の高さを原点と
した時に、その高さが同レベル又は100μm凸以下の
高さが好ましい。
The above-mentioned pressure-sensitive adhesive preferably has the same height or a height of 100 μm or less when the height of the surface of the support is the origin.

【0099】この場合、基板搬送用治具において中央部
に埋め込む粘着材は、プロキシミティ露光等を考慮し、
支持体表面より100μm以下の高さとする事により、
処理が可能になる。また、中央部を固定することによ
り、ワーク基板の伸縮自由度が大きくなり、アライメン
ト処理、寸法精度等が向上する。
In this case, the adhesive material to be embedded in the central part of the jig for transferring the substrate is taken into consideration in the proximity exposure,
By making the height below 100 μm from the surface of the support,
Processing becomes possible. Further, by fixing the central portion, the degree of freedom of expansion and contraction of the work substrate is increased, and the alignment process, dimensional accuracy, etc. are improved.

【0100】上記ワーク基板を常時固定する粘着部に固
定する場合、その部位に支持体を通して設けられた吸着
孔または吸着溝による真空引きにより、ワーク基板を非
接触で支持体に貼りつけてもいよい。
When the work substrate is fixed to the adhesive portion which is always fixed, the work substrate may be attached to the support in a non-contact manner by vacuuming a suction hole or a suction groove provided through the support at that portion. .

【0101】この場合、治具上の粘着材にワーク基板を
固定する方法として、吸着孔を通して真空引きする事に
より、固定でき、非接触で固定する事により、ワーク基
板表面を汚染する事が無い。
In this case, as a method of fixing the work substrate to the adhesive material on the jig, the work substrate can be fixed by drawing a vacuum through the suction holes, and the non-contact fixing does not contaminate the work substrate surface. .

【0102】上記基板搬送用治具を用いた電気表示装置
の製造方法は、露光処理等においてワーク基板の寸法制
度を要求される工程は真空吸着による固定により作業
し、その他の程では常時固定手段を用いた固定をおこな
うことを特徴としている。
In the method of manufacturing an electric display device using the above-mentioned substrate transfer jig, the step of requiring the dimension accuracy of the work substrate in the exposure process or the like is carried out by fixing by vacuum suction, and otherwise the fixing means is always used. It is characterized by fixing using.

【0103】この場合、多数の既存製造設備の真空吸着
において、治具を介してワーク基板を吸着させる為に、
多数の吸着孔を設ける。電極パターン等の形成において
は、この吸着作用により、ワーク基板全体を固定、平坦
化し、露光処理のプロキシギャップを均一化すると共
に、ワーク基板の露光雰囲気温度による基板伸縮を妨げ
ることがない。また、他の工程においては、薄板ワーク
基板は、シリコーンゴムにより充分な剛性を持つ治具に
固定される為、既存の製造設備に於いても基板搬送系、
処理系から脱落、処理異常を発生させることなく、基板
の伸びにフレキシブルに対応できるため、歪み、うねり
の発生も抑えられる。
In this case, in vacuum suction of many existing manufacturing facilities, in order to suck the work substrate through the jig,
Provide a large number of suction holes. In the formation of the electrode pattern and the like, this adsorption action fixes and flattens the entire work substrate, uniformizes the proxy gap in the exposure process, and does not hinder the expansion and contraction of the substrate due to the exposure atmosphere temperature of the work substrate. Further, in other processes, the thin work substrate is fixed to a jig having sufficient rigidity by silicone rubber, so that even in the existing manufacturing equipment, the substrate transfer system,
Since it is possible to flexibly deal with the expansion of the substrate without causing the processing system to fall off or cause processing abnormalities, the occurrence of distortion and undulation can be suppressed.

【0104】[0104]

【発明の効果】以上のように、本発明の基板搬送用治具
は、ワーク基板を支持して工程搬送される基板搬送用治
具において、工程搬送時に外的な環境変化によって変形
しない剛性を有し、且つ、表面にワーク基板を支持する
支持体と、上記ワーク基板を、上記支持体に吸着支持す
るための吸着支持手段と、上記ワーク基板を、上記支持
体に粘着力で常時支持するための粘着支持手段とを有
し、上記粘着支持手段の粘着力を、工程搬送時の外的な
環境変化によって上記ワーク基板が伸縮するのを妨げな
い粘着力とする構成である。
As described above, the substrate carrying jig of the present invention is a substrate carrying jig that carries a process substrate while supporting a work substrate, and has rigidity that does not deform due to an external environmental change during the process carrying. A support that has and supports the work substrate on the surface, a suction support means for suction-supporting the work substrate on the support, and the work substrate is always supported on the support by an adhesive force. Adhesive force of the adhesive support means is set so that the adhesive force of the adhesive support means does not prevent the work substrate from expanding and contracting due to an external environmental change during the process transportation.

【0105】それゆえ、ワーク基板は、工程搬送時に粘
着支持手段によって常に支持体に支持されているので、
工程搬送中にワーク基板が支持体から脱落するのを防止
することができる。また、ワーク基板は、工程搬送時に
外的な環境変化によって変形しない剛性を有する支持体
に支持されるようになっているので、この支持体に吸着
支持手段によって吸着支持されることにより、製造工程
中の加熱等の外的な環境変化による反りや歪みを防止す
ることができる。
Therefore, since the work substrate is always supported by the support by the adhesive support means during the process transfer,
It is possible to prevent the work substrate from falling off the support during the process conveyance. In addition, since the work substrate is supported by a support having a rigidity that does not deform due to an external environmental change during the process conveyance, the work substrate is suction-supported by the suction-supporting means, so that the manufacturing process is performed. It is possible to prevent warpage and distortion due to external environmental changes such as heating inside.

【0106】従って、ワーク基板がプラスチック等の剛
性の低い基板であっても、剛性の高い支持体に支持され
ることで、ガラスと同様のプロセス処理での搬送が可能
である。
Therefore, even if the work substrate is a substrate having low rigidity such as plastic, it can be transported in the same process as that of glass by being supported by the support having high rigidity.

【0107】しかも、ワーク基板が支持体に対して粘着
支持手段によって支持される粘着力は、工程搬送時の外
的な環境変化によって上記ワーク基板が伸縮するのを妨
げない粘着力であるので、工程搬送時に外的な環境変化
(加熱・冷却等)によってワーク基板の伸縮が激しい場
合であっても、ワーク基板は伸びや縮みに対してフレキ
シブルに対応できる。つまり、プラスチック基板等の伸
縮が激しいワーク基板であっても、支持体に支持されて
いるワーク基板の伸縮の自由度を高めることができるの
で、工程搬送時におけるワーク基板の歪みや、うねりが
抑えられる。
Moreover, since the adhesive force with which the work substrate is supported by the adhesive supporting means with respect to the support is an adhesive force which does not prevent the work substrate from expanding and contracting due to an external environmental change during the process conveyance, Even when the work substrate expands and contracts significantly due to external environmental changes (heating, cooling, etc.) during process transfer, the work substrate can flexibly cope with expansion and contraction. In other words, even if the work substrate is a plastic substrate or the like that expands and contracts significantly, it is possible to increase the flexibility of expansion and contraction of the work substrate supported by the support body, so that distortion and undulation of the work substrate during process transfer can be suppressed. To be

【0108】以上のことから、ワーク基板投入から各膜
処理工程で繰返される熱処理にかかわらず高い寸法精度
が維持でき、安定な工程搬送性を行なうことが可能とな
るので、該ワーク基板によって製造される電気表示素子
等の製品の歩留りの向上を図ることができるという効果
を奏する。
From the above, high dimensional accuracy can be maintained and stable process transportability can be achieved regardless of the heat treatment repeated in each film processing step from the introduction of the work substrate. It is possible to improve the yield of products such as electric display devices.

【0109】上記吸着支持手段として、上記支持体に所
定の割合で、該支持体のワーク基板支持面から反対面に
貫通する貫通孔が複数個設けられていてもよい。
As the suction supporting means, a plurality of through holes may be provided in the support at a predetermined ratio so as to penetrate from the work substrate support surface of the support to the opposite surface.

【0110】この場合、支持体に設けられた貫通孔の該
支持体のワーク基板支持面とは反対面側から真空吸引す
ることで、支持体上にワーク基板を密着支持することが
可能となる。さらに、支持体を真空吸引する吸着ステー
ジに載置することで、支持体と該支持体上で支持されて
いるワーク基板とを同時に該吸着ステージに対して同時
に真空吸着され、支持体とワーク基板とを安定して吸着
ステージに固定することができるという効果を奏する。
In this case, the work substrate can be closely supported on the support by vacuum suction from the side of the through hole provided in the support opposite to the work substrate supporting surface of the support. . Furthermore, by placing the support on a suction stage for vacuum suction, the support and the work substrate supported on the support are simultaneously vacuum-sucked to the suction stage, and the support and the work substrate are simultaneously sucked. It is possible to stably fix and to the suction stage.

【0111】本発明の電気表示装置の製造方法は、請求
項1ないし5の何れか1項に記載の基板搬送用治具を用
いることを前提とし、ワーク基板の寸法精度が要求され
る工程では、粘着支持手段に加えて、吸着支持手段によ
ってワーク基板を支持体に支持する構成である。
The method for manufacturing an electric display device of the present invention is premised on the use of the substrate transfer jig according to any one of claims 1 to 5, and is used in a process requiring dimensional accuracy of a work substrate. In addition to the adhesive supporting means, the suction supporting means supports the work substrate on the support.

【0112】それゆえ、ワーク基板を支持体上に常時支
持する粘着支持手段に加えて、吸着支持手段を用いて吸
着支持することで、支持体上でワーク基板を確実に支持
することができる。
Therefore, by adsorbing and supporting the work substrate using the adsorbing and supporting means in addition to the adhesive supporting means for always supporting the work substrate on the supporting body, the work substrate can be reliably supported on the supporting body.

【0113】このように、上記ワーク基板を支持体上に
吸着支持することで、ワーク基板全体を平坦化すること
が可能となり、露光処理のプロキシギャップを均一化す
る共に、粘着支持手段によって粘着支持することで、ワ
ーク基板の露光雰囲気温度による基板伸縮を妨げること
はないようになる。
As described above, by adsorbing and supporting the work substrate on the support, it is possible to flatten the entire work substrate, uniformize the proxy gap of the exposure process, and perform adhesive support by the adhesive support means. By doing so, the expansion and contraction of the substrate due to the exposure atmosphere temperature of the work substrate will not be hindered.

【0114】したがって、ワーク基板が歪むことによる
電気表示装置の歩留り低下を防止することができ、特
に、剛性の低いプラスチック基板をワーク基板として使
用した場合の電気表示装置の生産性の向上を図ることが
できるという効果を奏する。
Therefore, it is possible to prevent the yield of the electric display device from decreasing due to the work substrate being distorted, and particularly to improve the productivity of the electric display device when a plastic substrate having low rigidity is used as the work substrate. There is an effect that can be.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の一形態に係る基板搬送用治具の
概略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a substrate carrying jig according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1に示す基板搬送用治具を構成する支持体を
示し、(a)は平面図、(b)は(a)のAA線矢視断
面図である。
2A and 2B show a support member that constitutes the substrate transfer jig shown in FIG. 1, FIG. 2A is a plan view, and FIG. 2B is a sectional view taken along the line AA of FIG.

【図3】表面に複数の液晶セルを配置した状態のワーク
基板の平面図である。
FIG. 3 is a plan view of a work substrate in which a plurality of liquid crystal cells are arranged on the surface.

【図4】図1に示す基板搬送用治具を構成する支持体の
他の常時固定部材を示し、(a)は平面図、(b)は
(a)のBB線矢視断面図である。
4A and 4B show another constant fixing member of the support member that constitutes the substrate transfer jig shown in FIG. 1, in which FIG. 4A is a plan view and FIG. 4B is a sectional view taken along line BB in FIG. .

【図5】本発明の基板搬送用治具による寸法精度の比較
結果を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a comparison result of dimensional accuracy by the substrate carrying jig of the present invention.

【図6】本発明の基板搬送用治具の比較例を示し、
(a)は比較例の基板搬送用治具の平面図、(b)は寸
法精度の比較結果を示す図である。
FIG. 6 shows a comparative example of the substrate transfer jig of the present invention,
(A) is a top view of the board | substrate conveyance jig of a comparative example, (b) is a figure which shows the comparison result of dimensional accuracy.

【図7】本発明の基板搬送用治具の比較例を示し、
(a)は比較例の基板搬送用治具の平面図、(b)は寸
法精度の比較結果を示す図である。
FIG. 7 shows a comparative example of the jig for substrate transfer of the present invention,
(A) is a top view of the board | substrate conveyance jig of a comparative example, (b) is a figure which shows the comparison result of dimensional accuracy.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ワーク基板 11 支持体 11a 貫通孔(吸着支持手段) 12 シリコーンゴム(粘着支持手段) 21 吸着ステージ 41 支持体 41a 貫通孔(吸着支持手段) 42 シリコーンゴム(粘着支持手段) 1 work board 11 Support 11a Through hole (adsorption supporting means) 12 Silicone rubber (adhesive support means) 21 Adsorption stage 41 Support 41a Through hole (suction support means) 42 Silicone rubber (adhesive support means)

フロントページの続き (72)発明者 西 陽一 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 小山 佳英 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 Fターム(参考) 2H088 FA17 FA18 FA30 HA01 MA20 2H090 JB03 JC19 5F031 CA05 FA02 FA07 FA12 GA08 GA30 PA13 PA18 5G435 AA12 AA17 BB12 CC09 GG12 HH02 HH18 KK05 KK10 LL06 LL07 LL08 Continued front page    (72) Inventor Yoichi Nishi             22-22 Nagaikecho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka             Inside the company (72) Inventor Yoshihide Koyama             22-22 Nagaikecho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka             Inside the company F term (reference) 2H088 FA17 FA18 FA30 HA01 MA20                 2H090 JB03 JC19                 5F031 CA05 FA02 FA07 FA12 GA08                       GA30 PA13 PA18                 5G435 AA12 AA17 BB12 CC09 GG12                       HH02 HH18 KK05 KK10 LL06                       LL07 LL08

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ワーク基板を支持して工程搬送される基板
搬送用治具において、 工程搬送時に外的な環境変化によって変形しない剛性を
有し、且つ、表面にワーク基板を支持する支持体と、 上記ワーク基板を、上記支持体に吸着支持するための吸
着支持手段と、 上記ワーク基板を、上記支持体に粘着力で常時支持する
ための粘着支持手段とを有し、 上記粘着支持手段の粘着力は、工程搬送時の外的な環境
変化によって上記ワーク基板が伸縮するのを妨げない粘
着力であることを特徴とする基板搬送用治具。
1. A substrate carrying jig for carrying a process substrate while supporting a work substrate, having a rigidity that does not deform due to an external environmental change at the time of carrying the process, and a support for supporting the work substrate on the surface. A suction support means for supporting the work substrate by suction on the support, and a sticking support means for constantly supporting the work substrate on the support with an adhesive force. The substrate transfer jig is characterized in that the adhesive force is an adhesive force that does not prevent the work substrate from expanding and contracting due to an external environmental change during process transfer.
【請求項2】上記吸着支持手段として、上記支持体に、
該支持体のワーク基板支持面から反対面に貫通する貫通
孔が複数個設けられていることを特徴とする請求項1記
載の基板搬送用治具。
2. The support as the adsorption supporting means,
2. The jig for transferring a substrate according to claim 1, wherein a plurality of through holes are provided so as to penetrate from the support surface of the support body to the opposite surface thereof.
【請求項3】上記粘着支持手段として、上記支持体のワ
ーク基板支持面側に、ワーク基板を支持するための粘着
力が繰返しの使用によってもほぼ一定に維持される粘着
材が設けられていることを特徴とする請求項1または2
記載の基板搬送用治具。
3. As the adhesive support means, an adhesive material is provided on the work substrate support surface side of the support body so that the adhesive force for supporting the work substrate is maintained substantially constant even after repeated use. Claim 1 or 2 characterized by the above.
The substrate transfer jig described.
【請求項4】上記粘着材は、支持体から露出している部
分の表面積が、7×10-42以上であり、且つ、ワー
ク基板の支持体側の表面積の10%以下であることを特
徴とする請求項3記載の基板搬送用治具。
4. The adhesive material has a surface area of a portion exposed from the support of 7 × 10 −4 m 2 or more and 10% or less of the surface area of the work substrate on the support side. The substrate transfer jig according to claim 3, which is characterized in that.
【請求項5】上記粘着材は、支持体表面からの高さが、
該支持体表面高さ以上、且つ、100μm以下であるこ
とを特徴とする請求項3または4記載の基板搬送用治
具。
5. The height of the pressure-sensitive adhesive material from the surface of the support is
The substrate transfer jig according to claim 3 or 4, wherein the height of the surface of the support is not less than 100 μm and not more than 100 μm.
【請求項6】上記支持体に設けられた粘着材の近傍に
は、ワーク基板を支持体に載置する際に、上記粘着材に
該ワーク基板が接触するように吸引する吸引手段が設け
られていることを特徴とする請求項3ないし5の何れか
1項に記載の基板搬送用治具。
6. A suction means is provided in the vicinity of the adhesive material provided on the support, and when the work substrate is placed on the support, suction means is provided so that the work substrate comes into contact with the adhesive material. The substrate transfer jig according to any one of claims 3 to 5, wherein:
【請求項7】請求項1ないし6の何れか1項に記載の基
板搬送用治具を用いた電気表示装置の製造方法であっ
て、ワーク基板の寸法精度が要求される工程では、粘着
支持手段に加えて、吸着支持手段によってワーク基板を
支持体に支持することを特徴とする電気表示装置の製造
方法。
7. A method of manufacturing an electric display device using the jig for transferring a substrate according to claim 1, wherein an adhesive support is used in a process requiring dimensional accuracy of a work substrate. In addition to the above means, a method for manufacturing an electric display device, characterized in that the work substrate is supported by a support by suction support means.
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