JP5305223B2 - Method for stripping insulated conductors - Google Patents

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Description

本発明は絶縁導線の被覆剥離方法に関し、特にレーザ光を用いた絶縁導線の被覆剥離方法に関する。   The present invention relates to a method for stripping an insulated conductor, and more particularly to a method for stripping an insulated conductor using a laser beam.

従来から電子機器には導線として絶縁導線が用いられている。この絶縁導線は、一例として、芯線として銅線を使用すると共に芯線を覆う絶縁被覆としてポリウレタン被覆を使用している。ポリウレタン被覆は高耐熱性を備えないため、ポリウレタン被覆を使用した導線を電子機器の電極に継線する場合には、予め被覆を剥離させることなく、継線時の熱により継線と同時に被覆を剥離していた。   Conventionally, an insulated conductor is used as a conductor in an electronic device. As an example, this insulated conducting wire uses a copper wire as a core wire and a polyurethane coating as an insulating coating covering the core wire. Polyurethane coating does not have high heat resistance, so when connecting conductors using polyurethane coating to the electrodes of electronic equipment, the coating should be applied simultaneously with the connection by heat at the time of connection without peeling off the coating beforehand. It was peeling.

また、絶縁導線が使用された電子機器の種類によっては、導線に高耐久性、具体的には高耐熱性が要求されることがあり、この場合に絶縁被覆としてポリアミドイミドが使用される場合がある。ポリアミドイミドは、融点がポリウレタンに比較して高いため、継線時の熱によりポリアミドイミド被覆を剥離させることは容易ではない。よって、継線前に被覆を剥離する必要があり、回転刃等により機械的に剥離する方法や、特許文献1に示すように、レーザにより被覆を溶融させて剥離する方法が提案されていた。
特表2007−516083号公報
In addition, depending on the type of electronic equipment in which the insulated conductor is used, the conductor may be required to have high durability, specifically, high heat resistance. In this case, polyamideimide may be used as the insulation coating. is there. Since polyamide imide has a higher melting point than polyurethane, it is not easy to peel the polyamide imide coating by heat at the time of connection. Therefore, it is necessary to peel the coating before connecting, and a method of mechanically peeling with a rotary blade or the like, and a method of melting and peeling the coating with a laser as shown in Patent Document 1, have been proposed.
Special table 2007-516083

上述のポリアミドイミドが被覆された絶縁導線はコイル部品等に巻回されるため、柔軟・弾力性を要求され、故に被覆も柔軟・弾力性を備えている。これに対してレーザを用いた従来の被覆剥離方法では、被覆を破断して剥離させることはできるが、柔軟・弾力性を備えている被覆のため、すべてが破断せずに芯線上に残存する場合があった。この状態で継線を行うと継線箇所に被覆が巻き込まれ、継線不良が発生していた。そこで本発明は、継線箇所から確実に被覆を除去する被覆剥離方法を提供することを目的とする。   Since the above-described insulated conductor coated with polyamideimide is wound around a coil component or the like, it is required to have flexibility and elasticity, and thus the coating also has flexibility and elasticity. On the other hand, with the conventional coating peeling method using a laser, the coating can be broken and peeled off. However, because the coating has flexibility and elasticity, everything remains on the core without breaking. There was a case. When the connection is performed in this state, a covering is caught in the connection portion, and a connection failure occurs. Then, an object of this invention is to provide the coating peeling method which removes a coating | cover reliably from a connection location.

上記課題を解決するために本発明は、芯線と、芯線を覆う被覆とから構成される絶縁導線の被覆を剥離する剥離方法であって、絶縁導線を加熱するか紫外線を照射して該被膜の融点より低く且つ該被膜が脆化する温度にて被覆を脆化させる脆化工程と、絶縁導線の脆化した被覆に短パルスレーザを照射し、芯線と被覆との界面に気泡を発生させ、気泡を膨張させて脆化した被覆を破裂し飛散させて芯線表面から除去する被覆剥離工程と、を備えた絶縁導線の被覆剥離方法を提供する。 In order to solve the above-described problems, the present invention provides a peeling method for peeling a coating of an insulated conductor composed of a core wire and a coating covering the core wire, and heating the insulated conductor or irradiating ultraviolet rays to the coating. An embrittlement step of embrittlement of the coating at a temperature lower than the melting point and the coating becomes brittle, and irradiating the embrittled coating of the insulated conductor with a short pulse laser to generate bubbles at the interface between the core wire and the coating, And a coating stripping step of rupturing and scattering the coating embrittled by expanding bubbles and removing the coating from the surface of the core wire.

このような方法によると、加熱または紫外線照射により被覆が脆くなるため、脆性破壊されやすくなる。この状態でレーザを照射し界面に気泡を発生させ被覆を剥離させると、脆い被覆であるため、容易に細分化されて破断・飛散し、芯線の表面から被覆を確実に除去することができる。   According to such a method, since the coating becomes brittle by heating or ultraviolet irradiation, brittle fracture is likely to occur. In this state, when the laser is irradiated to generate bubbles at the interface and the coating is peeled off, the coating is brittle. Therefore, the coating can be easily subdivided, broken and scattered, and the coating can be reliably removed from the surface of the core wire.

上記方法では、脆化工程において、被覆剥離したい箇所のみ脆化させる選択脆化工程を含むことが好ましい。   In the above method, it is preferable that the embrittlement step includes a selective embrittlement step of embrittlement only at a portion where the coating is to be peeled off.

この様な方法によると、被覆剥離したい箇所のみ確実に被覆を芯線表面から排除し、それ以外の箇所では芯線を被覆された状態に保つことができる。   According to such a method, it is possible to reliably remove the coating from the surface of the core wire only at a portion where the coating is to be peeled off, and to keep the core wire covered at other portions.

本発明の被覆剥離方法によれば、継線箇所において確実に被覆を除去することができる。   According to the coating peeling method of this invention, a coating | cover can be reliably removed in a connection location.

本発明の実施の形態による絶縁導線の被覆剥離方法について図1から図11を参照しながら説明する。図1に示されるレーザ剥離機1は、レーザ発振器2と、エキスパンダ3と、マスク4と、転写レンズ5と、ダイクロイックミラー6と、保持台7と、観察装置8とから主に構成されている。   A method for coating and stripping an insulated conductor according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. A laser peeling machine 1 shown in FIG. 1 mainly includes a laser oscillator 2, an expander 3, a mask 4, a transfer lens 5, a dichroic mirror 6, a holding table 7, and an observation device 8. Yes.

レーザ発振器2は、パルスレーザを照射するYAGレーザ照射装置であり、照射されるパルスレーザの波長が1064nm、パルス幅が100nsec以下であって好ましくは40nsec以下、周波数が20Hz、照射エネルギー量が230mJ/cm±10%程度となる装置である。 The laser oscillator 2 is a YAG laser irradiation apparatus that irradiates a pulse laser, and the wavelength of the irradiated pulse laser is 1064 nm, the pulse width is 100 nsec or less, preferably 40 nsec or less, the frequency is 20 Hz, and the irradiation energy amount is 230 mJ /. It is an apparatus that has a cm 2 ± 10%.

エキスパンダ3は、レーザ発振器2から照射されるレーザ光の光路上に配置されており、内部に凸レンズと凹レンズとを備えて一方からレーザ光が入力されて他方から出力する際に、レーザ光の光束径を縮小して出力する装置である。   The expander 3 is disposed on the optical path of the laser light emitted from the laser oscillator 2. The expander 3 includes a convex lens and a concave lens inside. When the laser light is input from one side and output from the other side, the expander 3 It is a device that outputs a light beam with a reduced diameter.

マスク4はガラスを基材として構成されており、エキスパンダ3を通過したレーザ光の光路上に配置されている。またマスク4は透明な箇所であってレーザ光が透過可能な透過領域4Aと、透過領域4A周縁部分である透過領域周縁部4Bとを備えている。透過領域周縁部4Bは、ブラスト加工等により磨りガラスとなっているため、透過領域周縁部4Bに照射されたレーザ光は散乱して、透過領域4Aに照射されたレーザ光のみマスクを透過可能となっている。また透過領域4Aは、後述の照射領域D(図6)と対応するよう、光路方向と直交する断面が略長方形に構成されている。   The mask 4 is made of glass as a base material, and is arranged on the optical path of the laser light that has passed through the expander 3. Further, the mask 4 includes a transparent region 4A that is a transparent portion and can transmit laser light, and a transmission region peripheral portion 4B that is a peripheral portion of the transmission region 4A. Since the transmissive region peripheral portion 4B is polished glass by blasting or the like, the laser light irradiated to the transmissive region peripheral portion 4B is scattered, and only the laser light irradiated to the transmissive region 4A can be transmitted through the mask. It has become. Further, the transmission region 4A has a substantially rectangular cross section orthogonal to the optical path direction so as to correspond to an irradiation region D (FIG. 6) described later.

マスク4を通過したレーザ光の光路上には、ダイクロイックミラー6が配置されレーザ光を約90度の角度で反射して、転写レンズ5に導光している。またダイクロイックミラー6は、特定の波長(本実施の形態のダイクロイックミラー6については、1064nm付近の波長)のみを反射する特徴を備えているため、通常の可視光は透過可能である。   A dichroic mirror 6 is disposed on the optical path of the laser light that has passed through the mask 4 to reflect the laser light at an angle of about 90 degrees and guide it to the transfer lens 5. Further, since the dichroic mirror 6 has a feature of reflecting only a specific wavelength (for the dichroic mirror 6 of the present embodiment, a wavelength near 1064 nm), normal visible light can be transmitted.

ダイクロイックミラー6で反射されたレーザ光は転写レンズ5を通過する。転写レンズ5は凸レンズから構成されており、入射されたレーザ光を保持台7上方位置で収束可能としている。また転写レンズ5はその光路方向(以下Z軸方向)に移動可能となっており、故に焦点位置もZ軸方向に移動可能となっている。   The laser light reflected by the dichroic mirror 6 passes through the transfer lens 5. The transfer lens 5 is composed of a convex lens, and allows incident laser light to converge at a position above the holding table 7. Further, the transfer lens 5 can move in the optical path direction (hereinafter referred to as Z-axis direction), and therefore the focal position can also move in the Z-axis direction.

保持台7は、レーザ光が照射されるコイル部品10を保持するパレット71と、パレット71を図示せぬ吸着機構により担持すると共に、Z軸方向と直交するX軸方向及びY軸方向に移動可能なX−Yステージ72とから主に構成されている。またパレット71の上方位置には、エアを噴射するエアブロー73が設けられ、X−Yステージ72の下方には集塵機74が配置されている。   The holding table 7 holds the pallet 71 that holds the coil component 10 irradiated with the laser beam, and the pallet 71 by a suction mechanism (not shown), and is movable in the X-axis direction and the Y-axis direction orthogonal to the Z-axis direction. The XY stage 72 is mainly configured. An air blow 73 for injecting air is provided above the pallet 71, and a dust collector 74 is disposed below the XY stage 72.

パレット71に保持されているコイル部品10は、差動信号インターフェースに用いられるコモンモードフィルタであり、その寸法は、長手方向で4mm程度であり、図3に示されるように、ドラムタイプのコア11と、二本の被覆導線12と、電極である金属端子13、13とより構成されている。コア11は、フェライト等の磁性粉体から圧縮、焼結等の過程を経て成形されている。   The coil component 10 held on the pallet 71 is a common mode filter used for a differential signal interface, and has a dimension of about 4 mm in the longitudinal direction. As shown in FIG. And two coated conductors 12 and metal terminals 13 and 13 as electrodes. The core 11 is molded from a magnetic powder such as ferrite through processes such as compression and sintering.

コア11は長手方向に直交する断面が略長方形の巻芯部11Aと、巻芯部11Aの長手方向両端に設けられ、略同一形状の一対の鍔部11B、11Bより構成される。鍔部11B、11Bについては略同一形状であるため、特に明記しない限り片側のみで説明する。   The core 11 includes a winding core portion 11A having a substantially rectangular cross section perpendicular to the longitudinal direction, and a pair of flange portions 11B and 11B having substantially the same shape, provided at both ends in the longitudinal direction of the winding core portion 11A. Since the flanges 11B and 11B have substantially the same shape, only one side will be described unless otherwise specified.

鍔部11Bは、巻芯部11Aと連結する部分である主胴部11Cと、主胴部11Cよりそれぞれ反対方向に延出されている一対の副胴部11D、11Dとから構成されている。   The flange portion 11B includes a main body portion 11C that is a portion connected to the winding core portion 11A, and a pair of sub body portions 11D and 11D that extend in opposite directions from the main body portion 11C.

副胴部11D、11Dには、それぞれ金属端子13、13が装着されている。この一対の副胴部11D、11D及び金属端子13、13は、主胴部11Cを挟んで対称に構成されているため、以下一方の副胴部11D及び金属端子13のみについて説明する。   Metal terminals 13 and 13 are attached to the sub trunk portions 11D and 11D, respectively. Since the pair of sub-body parts 11D and 11D and the metal terminals 13 and 13 are symmetrically configured with the main body part 11C interposed therebetween, only the one sub-body part 11D and the metal terminal 13 will be described below.

金属端子13、13は、基部13B(図4)の両端より延出される一対の脚部13A及び脚部13Cより略コの字形状に形成されている。この金属端子13は、脚部13A及び脚部13Cで、副胴部11Dを狭持して、副胴部11Dに装着される。   The metal terminals 13 and 13 are formed in a substantially U shape from a pair of leg portions 13A and 13C extending from both ends of the base portion 13B (FIG. 4). The metal terminal 13 is attached to the sub trunk portion 11D with the leg portion 13A and the leg portion 13C sandwiching the sub trunk portion 11D.

脚部13Aの延出方向側辺からは、切片13Dが延出されている。切片13Dの脚部13A自由端側には固定部13Fが設けられ、脚部13A固定基端側には溶融部13Eが設けられている。また脚部13Cはコイル部品10を図示せぬ基板に実装する際に、基板上の電極と電気的に接合される実装箇所となる。   A section 13D extends from the side in the extending direction of the leg 13A. A fixing portion 13F is provided on the free end side of the leg portion 13A of the section 13D, and a melting portion 13E is provided on the fixing base end side of the leg portion 13A. Further, the leg portion 13 </ b> C serves as a mounting portion that is electrically joined to an electrode on the substrate when the coil component 10 is mounted on a substrate (not shown).

巻芯部11Aに巻回される二本の被覆導線12は、図4に示されるように、それぞれ銅線である芯線12Aとポリアミドイミドからなる絶縁被覆12Bとから構成される。被覆導線12は、外径が約90μm、芯線径が約70μmである。この被覆導線12の両端部には継線箇所12Cが規定されており、この継線箇所12Cが後述の剥離箇所となる。絶縁被覆12Bは常温下においては、柔軟性及び弾力性を備えており、被覆導線12を巻芯部11Aに巻回する際に、好適に巻芯部11Aに追従することができる。また絶縁被覆12Bを融点近くの温度まで加熱すると、絶縁被覆12Bは硬化して脆くなる(脆化)ため、加熱前に比べて破断し易くなる。よってこの脆化した状態において絶縁被覆12Bに衝撃を加えると、絶縁被覆12Bは容易に破断して細分化される。   As shown in FIG. 4, the two covered conductive wires 12 wound around the winding core portion 11 </ b> A are each composed of a core wire 12 </ b> A that is a copper wire and an insulating coating 12 </ b> B made of polyamideimide. The coated conducting wire 12 has an outer diameter of about 90 μm and a core wire diameter of about 70 μm. A connecting point 12C is defined at both ends of the coated conducting wire 12, and the connecting point 12C becomes a peeling point described later. The insulation coating 12B has flexibility and elasticity at room temperature, and can suitably follow the core portion 11A when the coated conductor 12 is wound around the core portion 11A. When the insulating coating 12B is heated to a temperature close to the melting point, the insulating coating 12B hardens and becomes brittle (embrittlement), so that it is more likely to break than before heating. Therefore, when an impact is applied to the insulating coating 12B in this embrittled state, the insulating coating 12B is easily broken and subdivided.

ダイクロイックミラー6に関して転写レンズ5の反対側には、観察装置8が配置されている。観察装置8は、ミラー81と、補正レンズ82と、CCDカメラレンズ83と、リアコンバータレンズ84と、CCDカメラ85と、画像処理装置86と、モニタ87と、照明88とから構成されている。ミラー81は、転写レンズ5からダイクロイックミラー6へと向かう直線上(Z軸上)に位置し、その鏡面がZ軸と約45度を成すように配置されている。CCDカメラ85は、CCDカメラ85からミラー81へと向かう直線がZ軸と直交し、CCDカメラ85からミラー81へと向かう直線とミラー81の鏡面とが約45度を成すように配置されている。ダイクロイックミラー6では可視光を透過するため、レーザ光が照射されているコイル部品10の、転写レンズ5及びダイクロイックミラー6を介してミラー81に写っている状態をCCDカメラ85で撮影することができる。補正レンズ82は、CCDカメラ85とミラー81との間に配置されて、収差を補正している。CCDカメラレンズ83は、CCDカメラに像を結ぶためのレンズであり、リアコンバータレンズ84は倍率変更に係るレンズである。画像処理装置86は、CCDカメラ85で撮影した画像を処理してモニタ87に表示する装置であり、照明88は可視光線をコイル部品10に照射して視認しやすくしている。   An observation device 8 is disposed on the opposite side of the transfer lens 5 with respect to the dichroic mirror 6. The observation device 8 includes a mirror 81, a correction lens 82, a CCD camera lens 83, a rear converter lens 84, a CCD camera 85, an image processing device 86, a monitor 87, and an illumination 88. The mirror 81 is positioned on a straight line (on the Z axis) from the transfer lens 5 to the dichroic mirror 6 and is disposed such that its mirror surface forms about 45 degrees with the Z axis. The CCD camera 85 is arranged such that a straight line from the CCD camera 85 to the mirror 81 is orthogonal to the Z axis, and a straight line from the CCD camera 85 to the mirror 81 and the mirror surface of the mirror 81 form about 45 degrees. . Since the dichroic mirror 6 transmits visible light, a state in which the coil component 10 irradiated with the laser light is reflected on the mirror 81 via the transfer lens 5 and the dichroic mirror 6 can be photographed by the CCD camera 85. . The correction lens 82 is disposed between the CCD camera 85 and the mirror 81 to correct aberrations. The CCD camera lens 83 is a lens for forming an image on the CCD camera, and the rear converter lens 84 is a lens for changing the magnification. The image processing device 86 is a device that processes an image captured by the CCD camera 85 and displays the image on the monitor 87, and the illumination 88 irradiates the coil component 10 with visible light so that it can be easily viewed.

またレーザ剥離機1は、図2に示されるように、演算装置であるCPU91と、CPU91で行う処理を記憶しているメモリ92とを備えている。CPU91により、レーザ発振器2から照射されるレーザ光を制御すると共に、X−Yステージ72の移動量を制御する搬送系制御部93、エアブロー73及び集塵機74の動作を制御するエアブロー集塵制御部94、転写レンズ5のz軸方向の移動を制御する駆動系制御部95、及び照明88を制御する照明制御部96を備えて各制御を行っている。   As shown in FIG. 2, the laser peeling machine 1 includes a CPU 91 that is an arithmetic device and a memory 92 that stores processing performed by the CPU 91. The CPU 91 controls the laser light emitted from the laser oscillator 2 and controls the operation of the transport system controller 93, the air blow 73, and the dust collector 74 that controls the amount of movement of the XY stage 72. A drive system controller 95 that controls the movement of the transfer lens 5 in the z-axis direction and an illumination controller 96 that controls the illumination 88 are provided to perform each control.

図5に示されるフロー図に基づき、レーザ剥離機1で被覆導線12の絶縁被覆12Bを剥離する被覆剥離工程について説明する。先ずS01のステップで、図6に示されるように、被覆導線12が固定部13Fにより脚部13A上に保持された状態で、コイル部品10を図示せぬ炉内に配置して加熱する(脆化工程)。この時の加熱温度は絶縁被覆12Bの融点より低く、かつ絶縁被覆12Bが脆化する温度とする。   Based on the flowchart shown in FIG. 5, a coating peeling process for peeling the insulating coating 12 </ b> B of the coated conducting wire 12 with the laser peeling machine 1 will be described. First, in step S01, as shown in FIG. 6, with the covered conductor 12 held on the leg portion 13A by the fixing portion 13F, the coil component 10 is placed in a furnace (not shown) and heated (brittle). Process). The heating temperature at this time is lower than the melting point of the insulating coating 12B and is a temperature at which the insulating coating 12B becomes brittle.

加熱後にS02のステップで、図6に示されるように、コイル部品10をパレット71に固定し、この固定したパレット71をX−Yステージ72上に載置する。そしてS03のステップに進み、レーザ剥離機1を起動させるべく図示せぬスタートスイッチをONにする。図示せぬスタートスイッチをONにしたことにより、パレット71がX−Yステージ72上に吸着されて固定される(S04)。この状態でのX−Yステージ72の位置を供給位置と規定する。その後にS05へと進み、搬送系制御部93によりX−Yステージ72を移動させて照射位置に照射領域D(図6)であるコイル部品10の副胴部11D部分を配置する。X−Yステージ72の移動が完了したのをモニタ87で確認した後に(S06)、S07へ進んで、レーザ発振器2からレーザ光を照射し、絶縁被覆12Bを加熱する(被覆剥離工程)。   After the heating, in step S02, the coil component 10 is fixed to the pallet 71 and the fixed pallet 71 is placed on the XY stage 72 as shown in FIG. In step S03, a start switch (not shown) is turned on to start the laser peeling machine 1. By turning on a start switch (not shown), the pallet 71 is attracted and fixed on the XY stage 72 (S04). The position of the XY stage 72 in this state is defined as the supply position. Thereafter, the process proceeds to S05, and the XY stage 72 is moved by the transport system control unit 93, and the sub trunk portion 11D portion of the coil component 10 that is the irradiation region D (FIG. 6) is arranged at the irradiation position. After confirming that the movement of the XY stage 72 is completed on the monitor 87 (S06), the process proceeds to S07, where the laser oscillator 2 irradiates the laser beam and heats the insulating coating 12B (coating peeling step).

レーザ発振器2から照射されたレーザ光はエキスパンダ3に入射し、そのレーザ光の光束が縮小されて、その縮小されたレーザ光がマスク4の透過領域4A付近に照射される。この時にエキスパンダ3におけるレーザ光の縮小率は、縮小されたレーザ光の断面内に少なくとも透過領域4Aが入る程度の面積となるような縮小率とすることが好ましい。このような縮小率とすることにより、透過領域4Aを透過するレーザ光の単位面積当たりのエネルギー量を高めることができる。   The laser light emitted from the laser oscillator 2 enters the expander 3, the light flux of the laser light is reduced, and the reduced laser light is irradiated near the transmission region 4 A of the mask 4. At this time, the reduction rate of the laser light in the expander 3 is preferably set to such a reduction rate that the area is such that at least the transmission region 4A enters the cross section of the reduced laser light. By setting it as such a reduction rate, the energy amount per unit area of the laser beam which permeate | transmits the transmissive area | region 4A can be raised.

マスク4に照射されたレーザ光は、照射領域D(図6)に対応した光路方向と直交する断面が略長方形となる部分のみマスク4を透過する。この時に透過領域4A以外の照射位置となる透過領域周縁部4Bでは、レーザ光を散乱してレーザ光がマスク4を透過することを防止している。レーザ光はエキスパンダ3によりその光束が縮小されているため、単位面積当たりのエネルギーは、レーザ発振器2から照射された時より大きくなっている。しかし、マスク4に照射されるレーザ光のエネルギーは、パレット71上の照射位置近傍における収束されたレーザ光のエネルギーより遙かに小さいため、透過領域周縁部4Bがレーザ光により劣化することが抑制され、マスク4の長寿命化を図ることができる。   The laser light applied to the mask 4 passes through the mask 4 only in a portion where the cross section orthogonal to the optical path direction corresponding to the irradiation region D (FIG. 6) is substantially rectangular. At this time, the transmissive region peripheral portion 4B, which is an irradiation position other than the transmissive region 4A, scatters the laser light and prevents the laser light from passing through the mask 4. Since the luminous flux of the laser light is reduced by the expander 3, the energy per unit area is larger than when irradiated from the laser oscillator 2. However, since the energy of the laser light applied to the mask 4 is much smaller than the energy of the converged laser light in the vicinity of the irradiation position on the pallet 71, it is possible to prevent the transmission region peripheral edge 4B from being deteriorated by the laser light. Thus, the life of the mask 4 can be extended.

マスク4を透過したレーザ光は、ダイクロイックミラー6により直角に反射されて転写レンズ5へと照射される。転写レンズ5では、レーザ光の単位面積当たりのエネルギー量を増加させるためにレーザ光を収束させて照射領域へ照射する。この場合に、照射領域の大きさは、マスク4での光束径をφb、照射領域の光束径をφd、マスク4から転写レンズ5までの距離:f0、転写レンズ5から照射領域までの距離:f1とした場合に、φb=f0÷f1×φdの式で算出される。従って、駆動系制御部95により転写レンズ5をZ軸方向に移動し、好適な照射領域となるように予め調整しておく。尚、X−Yステージ72自体をZ軸方向に動かすことも想定されるが、X−Yステージ72は、既にX軸方向、Y軸方向に移動可能な機構を備えているため、更にZ軸方向に動かす機能を備えるとその構成が複雑になり、移動に係る精度の維持が難しくなる。故に転写レンズ5をZ軸方向に移動させる構成を採ることにより、複雑な構成を採る必要が無くなり、X・Y・Z軸方向の制御を高精度に行うことが可能となっている。   The laser light that has passed through the mask 4 is reflected at a right angle by the dichroic mirror 6 and irradiated onto the transfer lens 5. The transfer lens 5 converges the laser light and irradiates the irradiation area in order to increase the amount of energy per unit area of the laser light. In this case, the size of the irradiation area is as follows. The beam diameter at the mask 4 is φb, the beam diameter at the irradiation area is φd, the distance from the mask 4 to the transfer lens 5 is f0, and the distance from the transfer lens 5 to the irradiation area is: When f1, it is calculated by the formula φb = f0 ÷ f1 × φd. Therefore, the transfer lens 5 is moved in the Z-axis direction by the drive system control unit 95 and adjusted in advance so that a suitable irradiation region is obtained. Although it is assumed that the XY stage 72 itself is moved in the Z-axis direction, the XY stage 72 is already provided with a mechanism that can move in the X-axis direction and the Y-axis direction. If the function of moving in the direction is provided, the configuration becomes complicated, and it becomes difficult to maintain the accuracy of movement. Therefore, by adopting a configuration in which the transfer lens 5 is moved in the Z-axis direction, it is not necessary to adopt a complicated configuration, and control in the X, Y, and Z-axis directions can be performed with high accuracy.

転写レンズ5を透過して収束されたレーザ光が照射領域へ照射される。この場合にレーザ光は絶縁被覆12Bを透過して芯線12Aの表面に照射されるため、芯線12Aの表面がレーザ光のエネルギーを吸収し、絶縁被覆12Bと芯線12Aとの間の界面12aが急激に温度上昇する。この温度上昇(常温から1000℃以上への温度変化)が極短時間で起こるため、界面12aの絶縁被覆12Bを構成するポリアミドイミドが化学変化し、溶融することなくガス化する。よって図7(b)に示すように、界面12aに無数の気泡12bが発生する。   A laser beam that has been transmitted through the transfer lens 5 and converged is irradiated onto the irradiation region. In this case, since the laser light passes through the insulating coating 12B and is irradiated onto the surface of the core wire 12A, the surface of the core wire 12A absorbs the energy of the laser light, and the interface 12a between the insulating coating 12B and the core wire 12A suddenly changes. The temperature rises. Since this temperature rise (temperature change from room temperature to 1000 ° C. or more) occurs in an extremely short time, the polyamideimide constituting the insulating coating 12B of the interface 12a chemically changes and gasifies without melting. Therefore, as shown in FIG. 7B, countless bubbles 12b are generated at the interface 12a.

レーザ光が照射された箇所の温度上昇により、図7(c)に示すように気泡12bが界面12aに沿って急激に体積膨張し、連続的に芯線12A表面から絶縁被覆12Bを剥離していく。気泡12bの体積膨張が進むと、絶縁被覆12Bが体積膨張に係る応力に耐えられなくなり、図7(d)に示すように、絶縁被覆12Bの気泡12bを覆う箇所が破裂する。この気泡12b発生〜膨張〜破裂までの過程は極短時間で行われるため、絶縁被覆12Bの気泡12bを覆う箇所の破裂は衝撃を伴う。この衝撃により脆化した絶縁被覆12Bは、細分化された状態で破断する。絶縁被覆12Bが細分化されて破断することにより、絶縁被覆12Bの照射領域D境界部分で剥離されない箇所(照射領域D外)と剥離される箇所(照射領域D)とが明確な状態で、絶縁被覆12Bが芯線12A表面より飛散し剥離する。即ち、照射領域D外の絶縁被覆12Bに付着した状態で照射領域Dの絶縁被覆12Bが剥離することが無く、照射領域D外の絶縁被覆12Bから確実に切り離された状態で照射領域Dの絶縁被覆12Bが剥離する。これにより、照射領域Dの絶縁被覆12Bは剥離した後に芯線12A上から確実に除去され、確実に照射領域Dで芯線12Aを露出させることができる。   As shown in FIG. 7C, the bubbles 12b rapidly expand in volume along the interface 12a due to the temperature rise at the location irradiated with the laser beam, and the insulating coating 12B is continuously peeled from the surface of the core wire 12A. . As the volume expansion of the bubble 12b proceeds, the insulating coating 12B cannot withstand the stress associated with the volume expansion, and the portion covering the bubble 12b of the insulating coating 12B ruptures as shown in FIG. Since the process from generation of bubble 12b to expansion to burst is performed in an extremely short time, the burst of the portion covering the bubble 12b of the insulating coating 12B is accompanied by an impact. The insulating coating 12B embrittled by this impact breaks in a fragmented state. When the insulating coating 12B is subdivided and fractured, the insulating coating 12B is insulated in a state where a portion that is not peeled off at the boundary of the irradiation region D (outside the irradiation region D) and a portion that is peeled off (the irradiation region D) are clear. The coating 12B is scattered from the surface of the core wire 12A and peeled off. That is, the insulation coating 12B in the irradiation region D does not peel off while attached to the insulation coating 12B outside the irradiation region D, and the insulation of the irradiation region D is securely separated from the insulation coating 12B outside the irradiation region D. The coating 12B peels off. As a result, the insulation coating 12B in the irradiation region D is reliably removed from the core wire 12A after being peeled off, and the core wire 12A can be reliably exposed in the irradiation region D.

飛散して除去された絶縁被覆12Bは、エアブロー73で吹き飛ばされて集塵機74で吸い取られる。よってコイル部品10上に飛散した絶縁被覆12Bが残留することが抑制され、後に行われる継線工程において継線不良が生じ難くなっている。そして、図7(e)に示すように、継線箇所12Cの絶縁被覆12Bが全て除去され、図8に示されるように芯線12A表面が露出してレーザ光による剥離が完了する。この時に、レーザ光は、照射領域Dのみにしか照射されないため、照射領域D外にある被覆導線12や、コア11に不要なレーザ光が照射されることが抑制される。従って照射領域D外がレーザ光で加熱されることが無く、コイル部品10の破損を防止することができる。   The insulating coating 12 </ b> B removed by scattering is blown off by the air blow 73 and sucked by the dust collector 74. Therefore, it is suppressed that the insulation coating 12B scattered on the coil component 10 remains, and it is difficult for a poor connection to occur in the subsequent connecting step. Then, as shown in FIG. 7 (e), all the insulation coating 12B of the connecting portion 12C is removed, and the surface of the core wire 12A is exposed as shown in FIG. At this time, since the laser light is irradiated only to the irradiation region D, it is possible to suppress unnecessary laser light from being irradiated to the coated conductive wire 12 and the core 11 outside the irradiation region D. Accordingly, the outside of the irradiation region D is not heated by the laser beam, and the coil component 10 can be prevented from being damaged.

以上の工程が終了した後に、S08のステップに進み、未だ被覆剥離が完了していない被覆導線があるのならば(S08:NO)、S09へ進んで、X−Yステージ72が移動して未だ被覆剥離が完了していない被覆導線の被覆剥離を行うべくS05へと戻る。全ての被覆導線の被覆剥離が完了している場合ならば(S08:YES)、S10へと進んで、X−Yステージ72を供給位置へと戻す。その後パレット71の吸着を停止し(S11)、パレット71及びパレット71上のコイル部品10を取り出して(S12)、被覆剥離工程が終了する。   After the above steps are completed, the process proceeds to step S08, and if there is a coated conductor that has not yet been stripped (S08: NO), the process proceeds to S09, and the XY stage 72 has moved and is still The process returns to S05 to perform the coating peeling of the coated conductor that has not been stripped. If the coating peeling of all the coated conductors has been completed (S08: YES), the process proceeds to S10, and the XY stage 72 is returned to the supply position. Thereafter, the suction of the pallet 71 is stopped (S11), the pallet 71 and the coil component 10 on the pallet 71 are taken out (S12), and the coating peeling process is completed.

被覆剥離工程が終了した後に、露出部分を覆うように溶融部13E(図4)が折り曲げられ、その後に図示せぬレーザ等を用いて、図9に示されるように溶融部13E及び芯線12Aが溶接され、コイル部品10が完成する。この時に継線箇所となる芯線12A上の絶縁被覆12Bは剥離されて確実に取り払われているため、継線箇所に絶縁被覆12Bが巻き込まれることはなく、継線不良を抑制することができる。   After the coating peeling process is completed, the melted portion 13E (FIG. 4) is bent so as to cover the exposed portion, and then the melted portion 13E and the core wire 12A are formed as shown in FIG. The coil component 10 is completed by welding. At this time, since the insulating coating 12B on the core wire 12A, which becomes the connecting portion, is peeled off and securely removed, the insulating coating 12B is not caught in the connecting portion, and the connection failure can be suppressed.

本発明による絶縁導線の被覆剥離装置及び被覆剥離方法は、上述した実施の形態に限定されず、特許請求の範囲に記載した範囲で種々の変形や改良が可能である。例えば、上記実施の形態では、加熱手段としてコイル部品10を図示せぬ炉に入れることにより脆化工程を行っているが、他の加熱手段としてレーザ発振器2から照射されたレーザ光を用いて脆化工程を行っても良い。このときにレーザ発振器2から照射されるレーザ光の出力を弱めると共に転写レンズ5を移動させ、絶縁被覆12Bに好適にレーザ光が当たるように調節することにより、融点より低い温度で絶縁被覆12Bを加熱することができる。またレーザ光により脆化工程を行うに際し、レーザ発振器2のほかに低出力の第二レーザ発振器を用いても良い。この第二レーザ発振器としては、CO2レーザ等の遠赤外波長のレーザ光を照射する発信器が例示される。   The insulated lead coating peeling apparatus and the coating peeling method according to the present invention are not limited to the above-described embodiments, and various modifications and improvements can be made within the scope described in the claims. For example, in the above-described embodiment, the embrittlement process is performed by putting the coil component 10 in a furnace (not shown) as a heating means. However, the other laser is irradiated with the laser light emitted from the laser oscillator 2 as another heating means. A chemical conversion step may be performed. At this time, the output of the laser beam irradiated from the laser oscillator 2 is weakened and the transfer lens 5 is moved so that the laser beam is suitably applied to the insulating coating 12B, thereby adjusting the insulating coating 12B at a temperature lower than the melting point. Can be heated. In addition, when performing the embrittlement process with laser light, a low-power second laser oscillator may be used in addition to the laser oscillator 2. Examples of the second laser oscillator include a transmitter that emits laser light having a far infrared wavelength such as a CO2 laser.

またレーザ発振器に限らず、他の加熱手段としてキセノンランプや、ハロゲンランプ等の熱線を発する機器を用いても良い。これらのランプ等から照射される熱線をレンズで集光することにより、絶縁被覆12Bを加熱して脆化させることができる。
また図10に示されるように、被覆導線12に直接ヒータチップ99等の発熱体を当接させ、その熱により脆化工程を行っても良い。この時にヒータチップ99は、被覆導線12の外形に添った当接面99Aを備えることが好ましい。この様な構成によると、当接面99Aの全体で絶縁被覆12Bを加熱することができ、より好適に脆化工程を行うことができる。また被覆導線12の剥離不要な箇所は加熱されないため、好適に剥離が必要な箇所のみ剥離させることができる。
In addition to the laser oscillator, a device that emits heat rays such as a xenon lamp or a halogen lamp may be used as another heating means. By condensing the heat rays irradiated from these lamps with a lens, the insulating coating 12B can be heated and embrittled.
Further, as shown in FIG. 10, a heating element such as a heater chip 99 may be brought into direct contact with the coated conductor 12, and the embrittlement process may be performed by the heat. At this time, the heater chip 99 preferably includes an abutment surface 99A that follows the outer shape of the coated conductor 12. According to such a configuration, the insulating coating 12B can be heated by the entire contact surface 99A, and the embrittlement process can be performed more suitably. Moreover, since the part which does not require peeling of the covering conducting wire 12 is not heated, only the part which needs to be peeled can be preferably peeled off.

また絶縁被覆12Bとしてポリアミドイミドを用いたが、これに限らず加熱されることにより脆化する素材であるならば、他の素材であっても良い。またUV硬化型の樹脂を用いても良い。この場合には、加熱手段に代えて紫外線を照射することにより、脆化工程を行うことができる。   In addition, although polyamideimide is used as the insulating coating 12B, the material is not limited to this, and other materials may be used as long as the material becomes brittle when heated. Further, a UV curable resin may be used. In this case, the embrittlement process can be performed by irradiating with ultraviolet rays instead of the heating means.

また上述のように、レーザ光や、熱線、及び紫外線を照射する際、図11に示されるように、被覆導線12を挟んで光源の反対側に、反射鏡9を設けても良い。この様な構成によると、一方向からの照射で被覆導線12の略全面を照射することができ、絶縁被覆12Bをより好適に脆化することができる。またレーザ光や、熱線、及び紫外線を照射する際に、図6に示されるように、マスク等により照射領域Dを規定して照射しても良い(選択脆化工程)。この様な構成であれば照射領域D外の被覆導線12が脆化することを抑制することができる。   Further, as described above, when the laser beam, the heat ray, and the ultraviolet ray are irradiated, as shown in FIG. 11, the reflecting mirror 9 may be provided on the opposite side of the light source with the coated conducting wire 12 interposed therebetween. According to such a configuration, it is possible to irradiate substantially the entire surface of the coated conductor 12 by irradiation from one direction, and it is possible to more suitably embrittle the insulating coating 12B. Moreover, when irradiating laser light, heat rays, and ultraviolet rays, as shown in FIG. 6, the irradiation region D may be defined and irradiated by a mask or the like (selective embrittlement step). If it is such a structure, it can suppress that the covering conducting wire 12 outside the irradiation area | region D embrittles.

本発明の実施の形態に係る被覆剥離装置を表す概念図。The conceptual diagram showing the coating peeling apparatus which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る被覆剥離装置の制御に係るブロック図。The block diagram which concerns on control of the coating peeling apparatus which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る被覆剥離装置で剥離される絶縁導線を備えたコイル部品の平面図。The top view of the coil components provided with the insulated lead wire peeled with the coating peeling apparatus which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る被覆剥離装置で剥離される絶縁導線を備えたコイル部品の部分斜視図。The fragmentary perspective view of the coil component provided with the insulated lead wire peeled with the coating peeling apparatus which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る被覆剥離装置での被覆剥離工程に係るチャート。The chart which concerns on the coating peeling process in the coating peeling apparatus which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る被覆剥離装置で剥離される絶縁導線を備えたコイル部品の部分平面図。The fragmentary top view of the coil component provided with the insulated lead wire peeled with the coating peeling apparatus which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る被覆剥離工程で(a)パルスレーザ照射、(b)気泡発生、(c)気泡膨張、(d)気泡破裂、(e)剥離完了の状態を表す部分断面図。The partial sectional view showing the state of (a) pulse laser irradiation, (b) bubble generation, (c) bubble expansion, (d) bubble rupture, and (e) peeling completion in the coating peeling step according to the embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態に係る被覆剥離装置で剥離される絶縁導線を備えたコイル部品の継線完了前の状態の部分斜視図。The fragmentary perspective view of the state before the completion of the connection of the coil component provided with the insulated lead wire peeled with the coating peeling apparatus which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る被覆剥離装置で剥離される絶縁導線を備えたコイル部品の絶縁導線が継線された状態の部分斜視図。The fragmentary perspective view of the state where the insulation conducting wire of the coil component provided with the insulation conducting wire peeled with the coating peeling apparatus which concerns on embodiment of this invention was connected. 本発明の実施の形態に係る被覆剥離装置の変更例にかかる被覆導線へヒータチップを当接させた状態を示す図。The figure which shows the state which made the heater chip contact | abut to the covering conducting wire concerning the modification of the coating peeling apparatus which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施の形態に係る被覆剥離装置の変更例にかかる被覆導線への照射状態を示す図。The figure which shows the irradiation state to the covering conducting wire concerning the example of a change of the coating peeling apparatus which concerns on embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1・・レーザ剥離機 2・・レーザ発振器 3・・エキスパンダ 4・・マスク
4A・・透過領域 4B・・透過領域周縁部 5・・転写レンズ
6・・ダイクロイックミラー 7・・保持台 8・・観察装置 9・・反射鏡
10・・コイル部品 11・・コア 11A・・巻芯部 11B・・鍔部
11C・・主胴部 11D・・副胴部 12・・被覆導線 12A・・芯線
12B・・絶縁被覆 12C・・継線箇所 12a・・界面 12b・・気泡
13・・金属端子 13A・・脚部 13B・・基部 13C・・脚部
13D・・切片 13E・・溶融部 13F・・固定部 71・・パレット
72・・ステージ 73・・エアブロー 74・・集塵機 81・・ミラー
82・・補正レンズ 83・・カメラレンズ 84・・リアコンバータレンズ
85・・カメラ 86・・画像処理装置 87・・モニタ 88・・照明
91・・CPU 92・・メモリ 93・・搬送系制御部
94・・エアブロー集塵制御部 95・・駆動系制御部 96・・照明制御部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 .... Laser peeling machine 2. Laser oscillator 3. Expander 4. Mask 4A ... Transmission region 4B ... Transmission region peripheral part 5. Transfer lens 6. Dichroic mirror 7 .... Holding stand 8 .... Observation device 9 .. Reflective mirror 10 .. Coil parts 11.. Core 11 A... Core part 11 B .. Collar part 11 C .. Main trunk part 11 D .. Sub trunk part 12 .. Coated conductor 12 A. · Insulation coating 12C · · Connection point 12a · · Interface 12b · · Bubble 13 · · Metal terminal 13A · · Leg portion 13B · · Base 13C · · Leg portion 13D · · 13E · · melting portion 13F · · fixed portion 71..Pallet 72..Stage 73..Air blow 74..Dust collector 81..Mirror 82..Correction lens 83..Camera lens 84..Rear converter lens 85..Camera 86..Image processing 87 ... monitor 88 · Lighting 91 .. CPU 92 · Memory 93 ... conveying system control unit 94 · air blow dust collection controller 95 ... driving system control unit 96 ... illumination control unit

Claims (2)

芯線と、該芯線を覆う被覆とから構成される絶縁導線の被覆を剥離する剥離方法であって、
該絶縁導線を加熱するか紫外線を照射して該被膜の融点より低く且つ該被膜が脆化する温度にて該被覆を脆化させる脆化工程と、
該絶縁導線の脆化した該被覆に短パルスレーザを照射し、該芯線と該被覆との界面に気泡を発生させ、該気泡を膨張させて脆化した該被覆を破裂し飛散させて該芯線表面から除去する被覆剥離工程と、を備えることを特徴とする絶縁導線の被覆剥離方法。
A stripping method for stripping a coating of an insulated conductor composed of a core wire and a coating covering the core wire,
An embrittlement step of embrittlement of the coating at a temperature lower than the melting point of the coating and embrittlement of the coating by heating the insulated conductor or irradiating with ultraviolet rays;
Irradiating the embrittled coating of the insulated wire with a short pulse laser, generating bubbles at the interface between the core wire and the coating, expanding the bubbles, rupturing and scattering the embrittled coating, and And a coating peeling process for removing from the surface.
該脆化工程において、被覆剥離したい箇所のみ脆化させる選択脆化工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の被覆剥離方法。   2. The coating exfoliation method according to claim 1, wherein the embrittlement step includes a selective embrittlement step of embrittlement only at a portion to be exfoliated.
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