JP5304537B2 - Non-contact IC label - Google Patents

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Description

本発明は、光学的な視覚効果を呈する光学変化デバイスを備え、外部のデータ読取装置との間で、非接触でデータの送受信をすることができる非接触ICラベルに関する。   The present invention relates to a non-contact IC label that includes an optical change device that exhibits an optical visual effect and that can send and receive data to and from an external data reader without contact.

従来、小売店やレンタル店等における商品管理に、ICチップとアンテナとを備えた非接触ICラベルが使用されてきた。これは、管理すべき商品に非接触ICラベルを取り付け、専用のデータ読み書き装置でICチップに格納されたデータを読み書きし、商品の出入庫管理、在庫管理、貸し出し管理等を行うものである。ICチップを備えている為、商品コードだけでなく、入荷日、担当者等の豊富な情報を商品と一体で記録管理することができる。   Conventionally, non-contact IC labels equipped with IC chips and antennas have been used for merchandise management in retail stores and rental stores. In this method, a non-contact IC label is attached to a product to be managed, and data stored in an IC chip is read and written by a dedicated data read / write device, and product entry / exit management, inventory management, lending management, and the like are performed. Since the IC chip is provided, not only the product code but also a wealth of information such as arrival date and person in charge can be recorded and managed together with the product.

非接触型ICラベルには、短距離通信用、長距離通信用があるが、物品管理等においては、静電結合や電磁誘導を用いた短距離通信用の非接触型ICラベルに比べ、通信距離が1〜2mと長いマイクロ波を用いた非接触ICラベルが有利である。   Non-contact type IC labels include short-distance communication and long-distance communication. However, in article management, etc., compared to non-contact type IC labels for short-distance communication using electrostatic coupling or electromagnetic induction, A non-contact IC label using a microwave having a long distance of 1 to 2 m is advantageous.

また、非接触ICラベルが普及するにつれ、非接触ICラベルに光学変化デバイス(optical variable device:以下、「OVD」と称する。)を組み合わせることが行われている。OVDとは、光の干渉を用いて立体画像や特殊な装飾画像を表現できるホログラムや回折格子、光学特性の異なる薄膜を重ねることにより見る角度により色の変化を生じる多層薄膜の総称である。これらOVDは立体画像や色の変化といった独特な印象を与えるため、優れた装飾効果を有しており、各種包装材や絵本、カタログ等の一般的な印刷物に利用されている。非接触ICラベルに対しては、OVDは高度な製造技術を要することから偽造防止手段として使用され、同様な意味でクレジットカード、有価証券、証明書類等にも利用されている。   In addition, as non-contact IC labels become widespread, an optical variable device (hereinafter referred to as “OVD”) is combined with the non-contact IC label. OVD is a general term for multilayer thin films that change color depending on the viewing angle by overlapping holograms, diffraction gratings, and thin films with different optical characteristics that can express stereoscopic images and special decorative images using light interference. Since these OVDs give a unique impression such as a three-dimensional image and a color change, they have an excellent decorative effect, and are used for general printed materials such as various packaging materials, picture books, catalogs and the like. For non-contact IC labels, OVD is used as an anti-counterfeiting means because it requires advanced manufacturing techniques, and is also used for credit cards, securities, certificates and the like in the same sense.

上述の非接触ICラベルのデータ読み書き機能とOVDの偽造防止機能や装飾効果を組み合わせることによって、より高レベルの偽造防止効果を実現したり、偽造防止効果又は装飾効果と商品管理機能を併せ持つラベルを構成したりすることができる等の利点がある。
一例として、ホログラム加工を施した金属薄膜の一部をエッチング、レーザ照射などにより除去し残った導電性金属部分をアンテナパターンとした非接触型データ送受信体が提案されている(例えば、下記特許文献1参照)。
By combining the data read / write function of the above-mentioned non-contact IC label with the anti-counterfeiting function and decoration effect of OVD, a label having a higher level of anti-counterfeiting effect, or a combination of anti-counterfeiting effect or decoration effect and product management function There is an advantage that it can be configured.
As an example, a non-contact type data transmitter / receiver has been proposed in which a part of a metal thin film subjected to hologram processing is removed by etching, laser irradiation, etc., and the remaining conductive metal part is an antenna pattern (for example, the following patent document) 1).

また、ホログラム加工を施したパターン状金属薄膜と、この金属薄膜上に絶縁層を介してICチップとICチップに接続されたアンテナ層(接続層)を設け、アンテナ層(接続層)と金属薄膜を容量結合で電気的に接続することでアンテナ層と金属薄膜が共同して一つのアンテナとして機能し良好な通信が可能となるRFID情報媒体が提案されている(例えば、特許文献2参照)
ところで、非接触ICラベルが貼られる被接着体には光透過性を持つ材料でできたものもあり、例えば透明プラスチック製品であればCD/DVDの中心部、透明ガラス製品であれば酒類のボトルなどに貼られて使用される場合がある。これらの被接着体に非接触ICラベルが貼られた場合、透明な被接着体側から非接触ICラベルの接着面であるラベルの裏面側が見えてしまうこととなり、すなわちラベルの裏面側にある接続層およびICチップ等が見えてしまうことになる。
Also, a patterned metal thin film subjected to hologram processing and an IC chip and an antenna layer (connection layer) connected to the IC chip via an insulating layer are provided on the metal thin film, and the antenna layer (connection layer) and the metal thin film are provided. An RFID information medium has been proposed in which the antenna layer and the metal thin film function together as one antenna by electrically connecting the two by capacitive coupling, thereby enabling good communication (for example, see Patent Document 2).
By the way, some adherends to which non-contact IC labels are attached are made of a light-transmitting material. For example, in the case of a transparent plastic product, the center of a CD / DVD, and in the case of a transparent glass product, a bottle of alcoholic beverages. There are cases where it is affixed and used. When a non-contact IC label is affixed to these adherends, the back side of the label, which is the adhesive surface of the non-contact IC label, can be seen from the transparent adherend side, that is, the connection layer on the back side of the label In addition, the IC chip and the like will be visible.

また、前述の特許文献2のRFID情報媒体においては、ホログラム側から見た場合、アン
テナ層(接続層)自体もパターン状金属薄膜層の隙間から見えてしまい、反対側から見た場合にもアンテナ層(接続層)が視認されてしまう。さらに、アンテナ層(接続層)は、銀ペーストインキなどでできており、その色は灰色系である。またその上面に実装されるICチップの色は黒色系である。灰色系のアンテナ層の上に黒色系のICチップが実装されているため、視覚的にICチップが目立ってしまう状況にある。
Further, in the RFID information medium of the above-mentioned Patent Document 2, when viewed from the hologram side, the antenna layer (connection layer) itself is also visible from the gap between the patterned metal thin film layers, and the antenna layer is also viewed from the opposite side. A layer (connection layer) is visually recognized. Furthermore, the antenna layer (connection layer) is made of silver paste ink or the like, and its color is gray. The color of the IC chip mounted on the upper surface is black. Since the black IC chip is mounted on the gray antenna layer, the IC chip is visually noticeable.

アンテナ層(接続層)やチップが視認されてしまうとデザイン性が損なわれるという問題がある。また、ICチップが容易に見える構造であると、不正にICチップ部分を指や爪などで押したり、硬いもので押したり叩くことで、ICチップを破損させたり接続層から外して通信を不能とすることが問題となっていた。   When the antenna layer (connection layer) or the chip is visually recognized, there is a problem that the design is impaired. In addition, if the IC chip is easily visible, the IC chip can be broken or removed from the connection layer by illegally pressing the IC chip part with a finger or nail, or by pushing or hitting it with a hard object. It was a problem.

特開2002−42088号公報JP 2002-42088 A WO2008/038672号公報WO2008 / 038672 Publication

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、非接触ICラベルが透明プラスチック製品、透明ガラス製品などの被接着体に貼られた場合に、透明な被接着体側から、非接触ICラベルの裏面側にある接続層およびICチップが見えないようにする技術を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and when a non-contact IC label is attached to an adherend such as a transparent plastic product or a transparent glass product, the non-contact IC label is formed from the transparent adherend side. It is an object of the present invention to provide a technique for preventing the connection layer and the IC chip on the back side of the substrate from being seen.

上記課題を達成するための請求項1に係る発明は、ラベル基材上に、OVDとして機能する機能層と、パターン化された導電層と該導電層上に位置し、デメタライズ処理を施すことによって前記導電層を所望の形状に形成して意匠性を高めるマスク層と、第一の隠蔽層と、前記導電層と静電容量的に結合するパターン化された接続層と、前記接続層に跨って電気的に接続するICチップと、第二の隠蔽層と、がこの順に積層されてなり、前記第一の隠蔽層は、前記接続層及び前記ICチップが平面視に見えなくなるように少なくとも前記接続層及び前記ICチップを覆うように形成されており、前記第二の隠蔽層が接着層を兼ねており、前記接続層及び前記ICチップが非接触ICラベルの裏面側から見えなくなるように全面に形成されていることを特徴とする非接触ICラベルとしたものである。 The invention according to claim 1 for achieving the above object is characterized in that a functional layer functioning as an OVD , a patterned conductive layer, and a conductive layer are disposed on the label base material and subjected to a demetallization process. A mask layer for improving the design by forming the conductive layer in a desired shape, a first concealing layer, a patterned connection layer capacitively coupled to the conductive layer, and straddling the connection layer And an IC chip electrically connected to each other and a second concealing layer are laminated in this order, and the first concealing layer includes at least the concealment layer and the IC chip so that the connection layer and the IC chip cannot be seen in plan view. It is formed so as to cover the connection layer and the IC chip, the second concealment layer also serves as an adhesive layer, and the connection layer and the IC chip are not visible from the back side of the non-contact IC label. Formed in This is a non-contact IC label characterized by the above.

また、請求項2に係る発明は、ラベル基材上に、OVDとして機能する機能層と、パターン化された導電層と該導電層上に位置す、デメタライズ処理を施すことによって前記導電層を所望の形状に形成して意匠性を高めるマスク層と、第一の隠蔽層と、前記導電層と静電容量的に結合するパターン化された接続層と、前記接続層に跨って電気的に接続するICチップと、第二の隠蔽層と、接着層と、がこの順に積層されてなり、前記第一の隠蔽層は、前記接続層及び前記ICチップが平面視に見えなくなるように非接触ICラベルの少なくとも前記接続層及び前記ICチップを覆うように形成されており、前記第二の隠蔽層が前記接続層及び前記ICチップが非接触ICラベルの裏面側から見えなくなるように少なくとも該接続層とICチップを覆うように部分的に形成されていることを特徴とする非接触ICラベルとしたものである。 In the invention according to claim 2, the conductive layer is desired by performing a demetallization treatment on the functional layer functioning as OVD , the patterned conductive layer and the conductive layer on the label base material. A mask layer that is formed into a shape to enhance design , a first concealing layer, a patterned connection layer that capacitively couples to the conductive layer, and an electrical connection across the connection layer An IC chip, a second concealing layer, and an adhesive layer are laminated in this order, and the first concealing layer is a non-contact IC so that the connection layer and the IC chip cannot be seen in plan view. It is formed so as to cover at least the connection layer and the IC chip of a label, and the second concealing layer is at least the connection layer so that the connection layer and the IC chip cannot be seen from the back side of the non-contact IC label. And IC chip This is a non-contact IC label characterized in that it is partially formed so as to cover the tape.

また、請求項3に係る発明は、前記第一の隠蔽層と第二の隠蔽層の色相が同色または同系色であることを特徴とする請求項1または2に記載の非接触ICラベルとしたものである。   The invention according to claim 3 provides the non-contact IC label according to claim 1 or 2, wherein the hues of the first and second concealing layers are the same color or similar colors. Is.

本発明になる非接触ICラベルは、当該非接触ICラベルが透明プラスチック製品、透明ガラス製品などの被接着体に貼られた場合でも、透明な被接着体側から非接触ICラベルの裏面側にある接続層およびICチップが視認できない。だから、意匠性やデザイン性が損なわれることがなく、ICチップ部位周辺に不要な圧力を受けたりすることがない。   The non-contact IC label according to the present invention is located on the back side of the non-contact IC label from the transparent adherend side even when the non-contact IC label is attached to the adherend such as a transparent plastic product or transparent glass product. The connection layer and IC chip are not visible. Therefore, designability and designability are not impaired, and unnecessary pressure is not applied around the IC chip portion.

本発明になる非接触ICラベルの上面視図であって、導電層のパターンのみ表示したものである。It is a top view of the non-contact IC label which becomes this invention, Comprising: Only the pattern of a conductive layer is displayed. 本発明になる非接触ICラベルの実施の一例を図1のA−A線における断面視の図として表現したものである。An example of implementation of the non-contact IC label according to the present invention is expressed as a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 本発明になる非接触ICラベルの別の実施の一例を図1のA−A線における断面視の図として表現したものである。An example of another embodiment of the non-contact IC label according to the present invention is expressed as a cross-sectional view taken along line AA in FIG.

以下、本発明の実施形態の非接触ICラベル(以下、単に「ICラベル」と記す)について、図1から図3を参照して説明する。   A non-contact IC label (hereinafter simply referred to as “IC label”) according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.

図1は、ICラベル1の上面視の図である。図2は図1のA−A線における断面視図である。   FIG. 1 is a top view of the IC label 1. 2 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG.

ラベル基材2は、機能層7と導電層3が視認できるような透明の樹脂等からなる。具体的には、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリ塩化ビニル(PVC)、アクリロニトリル、ブタジエン、スチレン共重合合成樹脂(ABS)等の樹脂等からなる透明なシート状の材料を好適に採用することができる。なお、ラベル基材2は、下方の機能層7と導電層3が視認できれば、必ずしも無色でなくてもよく、透明性を有する有色の材料で形成されてもよい。   The label substrate 2 is made of a transparent resin or the like that allows the functional layer 7 and the conductive layer 3 to be visually recognized. Specifically, for example, a transparent sheet-like material made of a resin such as polyethylene terephthalate (PET), polyvinyl chloride (PVC), acrylonitrile, butadiene, styrene copolymer synthetic resin (ABS), or the like is preferably used. it can. The label substrate 2 may not necessarily be colorless as long as the lower functional layer 7 and the conductive layer 3 are visible, and may be formed of a colored material having transparency.

ラベル基材2の導電層3に対向する面には、OVDとして機能する機能層7が形成されている。機能層7は、立体画像が表現されたり、見る角度によって色が変化するレリーフ型や体積型のホログラム、複数種類の回折格子が画素として配置された回折格子画像、カラーシフトを生じるセラミクスや金属材料の薄膜積層体等が、適宜選択されて公知の方法により形成されている。これらの中では、量産性やコストを考慮すると、レリーフ型ホログラム(回折格子)や多層薄膜方式のものが好ましい。   A functional layer 7 that functions as OVD is formed on the surface of the label substrate 2 facing the conductive layer 3. The functional layer 7 is a relief type or volume type hologram in which a three-dimensional image is expressed or a color changes depending on the viewing angle, a diffraction grating image in which a plurality of types of diffraction gratings are arranged as pixels, a ceramic or metal material that causes color shift These thin film laminates are appropriately selected and formed by a known method. Among these, in consideration of mass productivity and cost, a relief hologram (diffraction grating) or a multilayer thin film type is preferable.

導電層3は、アルミ等の金属を機能層7上に蒸着することによって蒸着膜として形成されている。導電層3は、ポリアミドイミド等からなる所望の形状のマスク層(絶縁層)8で被覆し、デメタライズ処理を施すことによって、所望の形状に形成して意匠性を高めることができる。本実施形態のICラベル1においては、図1に示すように、一例として導電層3は蝶のデザインに形成されている。   The conductive layer 3 is formed as a deposited film by depositing a metal such as aluminum on the functional layer 7. The conductive layer 3 can be formed into a desired shape by covering with a mask layer (insulating layer) 8 having a desired shape made of polyamideimide or the like and subjected to a demetallization process, thereby improving the design. In the IC label 1 of this embodiment, as shown in FIG. 1, the conductive layer 3 is formed in a butterfly design as an example.

導電層3は、接続層4を介してICチップ6と静電容量的に接続されて、ICチップ6のアンテナとして非接触通信を可能にするとともに、反射層として機能するため、機能層7が発揮する視覚効果を高める。特に、機能層7がレリーフホログラムや回折格子等の場合は、これらの回折効果が高められ、より鮮明にホログラム画像、回折格子画像が認識できるようになる効果がある。   The conductive layer 3 is capacitively connected to the IC chip 6 via the connection layer 4 to enable non-contact communication as an antenna of the IC chip 6 and functions as a reflective layer. Increase visual effects. In particular, when the functional layer 7 is a relief hologram, a diffraction grating or the like, these diffraction effects are enhanced, and there is an effect that a hologram image and a diffraction grating image can be recognized more clearly.

マスク層8の下面及びラベル基材2の下面にはICラベル1を上面から見たとき(平面視)に接続層4及びICチップ6を可視光下で視認不能にするための隠蔽層5が設けられている。   On the lower surface of the mask layer 8 and the lower surface of the label substrate 2, there is a concealing layer 5 for making the connection layer 4 and the IC chip 6 invisible under visible light when the IC label 1 is viewed from above (plan view). Is provided.

第一の隠蔽層5は、後述するように導電層3と接続層4が静電容量結合可能となるように、非導電性材料で形成されている。本実施形態においては、非導電性インキを印刷することによって第一の隠蔽層5が形成されている。
非導電性インキの材料としては、導電性を有さない各種インキを用いることができる。特に、エポキシ硬化型樹脂やウレタン系樹脂を含むインキなどを用いた場合、耐熱性が優れることから、チップ実装時の加熱・加圧によるラベル基材の収縮を抑えることができ好ましい。印刷法としてはスクリーン印刷法など各種公知の印刷方法を用いることができる。
The first hiding layer 5 is formed of a non-conductive material so that the conductive layer 3 and the connection layer 4 can be capacitively coupled as will be described later. In this embodiment, the 1st concealment layer 5 is formed by printing nonelectroconductive ink.
As the material for the non-conductive ink, various inks having no conductivity can be used. In particular, when an ink containing an epoxy curable resin or a urethane resin is used, the heat resistance is excellent, so that the shrinkage of the label base material due to heating and pressurization during chip mounting can be suppressed. As the printing method, various known printing methods such as a screen printing method can be used.

第一の隠蔽層5は、接続層4及びICチップ6が平面視において見えなくなるようなものを用いる。例えば、所定の波長の可視光線を反射して特定の色彩を呈するものでも良いし、すべての波長の可視光線を吸収するような黒色のものでもよい。さらに、すべての波長の可視光線を反射するものでもよい。
また、第一の隠蔽層5は少なくとも接続層4及びICチップを覆うように形成してもよいが、全面に形成してもよい。全面に形成することにより、基材側から見たときに、導電性を設けていない部分全域が隠蔽層で隠蔽でき、よりICチップの位置がわかりづらくなるため好ましい。
The first concealing layer 5 is such that the connection layer 4 and the IC chip 6 are not visible in plan view. For example, it may reflect visible light of a predetermined wavelength to exhibit a specific color, or may be black that absorbs visible light of all wavelengths. Further, visible light having all wavelengths may be reflected.
The first concealing layer 5 may be formed so as to cover at least the connection layer 4 and the IC chip, but may be formed on the entire surface. By forming it over the entire surface, it is preferable because the entire region where the conductivity is not provided can be concealed by the concealing layer when viewed from the substrate side, and the position of the IC chip becomes more difficult to understand.

すべての波長の可視光線を反射するものは外観が鏡面状となり、可視光下においては導電層3と区別できなくなる。接続層4及びICチップ6の上面を導電層3で完全に覆ってしまうと、ICチップ6の非接触通信ができなくなるが、鏡面上の隠蔽層を用いることで、視覚的には接続層4及びICチップ6の上面を導電層3で完全に覆っているように見えるが、接続層4及びICチップ6の上面は非導電性の隠蔽層しか存在しないため、通信は可能となる。   Those that reflect visible light of all wavelengths have a mirror-like appearance, and cannot be distinguished from the conductive layer 3 under visible light. If the upper surfaces of the connection layer 4 and the IC chip 6 are completely covered with the conductive layer 3, non-contact communication of the IC chip 6 cannot be performed. However, by using the concealing layer on the mirror surface, the connection layer 4 is visually recognized. Although it seems that the upper surface of the IC chip 6 is completely covered with the conductive layer 3, the upper surface of the connection layer 4 and the IC chip 6 has only a non-conductive concealing layer, so that communication is possible.

接続層4は、銀ペーストインキ等の導電性ペーストを用いて隠蔽層5の下面に公知の方法で印刷されることによって、例えば図1に示すような形状に形成されている。ICチップ6のデータ通信を補助する接続層4を設けて、導電層に直接ICチップ6を接続しないのは導電層3の膜厚が800Åという非常に薄いアルミ蒸着膜(導電層3)で、直接ICチップ6が実装出来ないからである。接続層4の端部は、図1に示すように、平面視において導電層3に重畳するように形成されている。印刷された接続層4の厚みは約5μmであり、ICラベル1の平坦性にはほとんど影響しない。   The connection layer 4 is formed in the shape as shown in FIG. 1, for example, by printing on the lower surface of the masking layer 5 by a known method using a conductive paste such as silver paste ink. The connection layer 4 for assisting the data communication of the IC chip 6 is provided, and the IC chip 6 is not directly connected to the conductive layer by a very thin aluminum vapor deposition film (conductive layer 3) having a thickness of 800 mm. This is because the IC chip 6 cannot be directly mounted. As shown in FIG. 1, the end portion of the connection layer 4 is formed so as to overlap the conductive layer 3 in plan view. The thickness of the printed connection layer 4 is about 5 μm and has little influence on the flatness of the IC label 1.

ICチップ6は、シリコンの単結晶等からなり、図示しないバンプが異方導電性接着剤等を用いて加熱加圧接着し接続層4に電気的に接続され実装されている。導電層3と接続層4とは、両者の間に介在する絶縁性のマスク層8と非導電性インキの隠蔽層5を誘電体として、図2の波線で示した楕円Bの範囲における静電容量結合により電気的に接続されており、ICチップ6が、外部の読取装置と電波方式の非接触データ通信が可能となっている。ICチップ6と外部の読取装置との交信に使用する周波数は、マイクロ波帯(2.45ギガヘルツ)及びUHF波帯(840〜960メガヘルツ)となっている。   The IC chip 6 is made of a single crystal of silicon or the like, and bumps (not shown) are bonded by heating and pressing using an anisotropic conductive adhesive or the like and electrically connected to the connection layer 4. The conductive layer 3 and the connection layer 4 are electrostatic in the range of the ellipse B shown by the wavy line in FIG. 2, using the insulating mask layer 8 and the non-conductive ink concealing layer 5 interposed therebetween as dielectrics. The IC chip 6 is electrically connected by capacitive coupling, and radio wave type non-contact data communication is possible with an external reader. The frequencies used for communication between the IC chip 6 and an external reader are a microwave band (2.45 GHz) and a UHF wave band (840 to 960 MHz).

ICチップ6として、1個1個異なる識別情報(ユニークID、以下、「UID」と称する。)が付されたものが用いられてもよい。UIDは、例えば、数字、英文字、記号等またはこれらの組み合わせからできており、それぞれのICチップのメモリに、対応するUIDが記憶されている。このようなICチップを用いると、UIDを読み取り利用することによって、そのICチップ(又はそのICチップが付いたICラベル)のトレーサビリティを確保することができる。   As the IC chip 6, one with different identification information (unique ID, hereinafter referred to as “UID”) may be used. The UID is made up of, for example, numbers, English letters, symbols, or a combination thereof, and the corresponding UID is stored in the memory of each IC chip. When such an IC chip is used, traceability of the IC chip (or an IC label with the IC chip) can be ensured by reading and using the UID.

ICチップ6と接続層4を含む第一の隠蔽層5の下方全体には、第二の隠蔽層10が設けられており、その接着力によってICラベル1の下面を各種物品等の被接着体に接着することができる。   A second concealing layer 10 is provided on the entire lower part of the first concealing layer 5 including the IC chip 6 and the connection layer 4, and the lower surface of the IC label 1 is adhered to an adherend such as various articles by its adhesive force. Can be glued to.

第二の隠蔽層10は、上記の接着機能のほかに接続層4およびICチップ6がICラベルの裏面側から見えなくなるようなるようなものを用いる。例えば、所定の波長の可視光線を反射して特定の色彩を呈するものでも良いし、すべての波長の可視光線を吸収するような黒色のものでもよい。さらに、すべての波長の可視光線を反射するものでもよい。   As the second concealing layer 10, a layer that makes the connection layer 4 and the IC chip 6 invisible from the back side of the IC label in addition to the above-mentioned adhesive function is used. For example, it may reflect visible light of a predetermined wavelength to exhibit a specific color, or may be black that absorbs visible light of all wavelengths. Further, visible light having all wavelengths may be reflected.

図2の態様においては、第二の隠蔽層10は接着層を兼ねた隠蔽性接着層を用いている。隠蔽性接着層の接着主材料そのものが可視光を吸収する特性であったり、顔料、染料などのインキを接着材料に含有させて可視光を吸収する特性を得たり、接続層4およびICチップ6が見えなくなればどのような接着材料であってもよい。   In the embodiment of FIG. 2, the second hiding layer 10 uses a hiding adhesive layer that also serves as an adhesive layer. The adhesive main material itself of the concealable adhesive layer has a characteristic of absorbing visible light, or a characteristic of absorbing visible light by incorporating an ink such as a pigment or a dye into the adhesive material, or the connection layer 4 and the IC chip 6. Any adhesive material can be used as long as it becomes invisible.

上記のように構成されたICラベル1は、ラベル基材2の一方の面に機能層7を形成し、機能層7上に金属蒸着膜を形成してマスク層8を用いて導体層3を所望の形状に形成し、さらに第一の隠蔽層5及び接続層4を順番に印刷によって設け、ICチップ6を接続層4に実装し、最後に第二の隠蔽層10を設けることによって製造することができる。第一の隠蔽層5及び接続層4については、例えば、多色スクリーン印刷機で最初に第一の隠蔽層5を印刷し、続いて接続層4を印刷し、その印刷直後に乾燥工程を入れることで効率的に形成できる。   In the IC label 1 configured as described above, the functional layer 7 is formed on one surface of the label substrate 2, the metal vapor deposition film is formed on the functional layer 7, and the conductor layer 3 is formed using the mask layer 8. The first concealment layer 5 and the connection layer 4 are sequentially formed by printing, the IC chip 6 is mounted on the connection layer 4, and finally the second concealment layer 10 is provided. be able to. For the first hiding layer 5 and the connection layer 4, for example, the first hiding layer 5 is first printed by a multicolor screen printing machine, then the connection layer 4 is printed, and a drying step is performed immediately after the printing. Can be formed efficiently.

図3は本発明の別の実施の一例であり、図1のA−A線における断面視の図である。
図3はにおいては、少なくともICチップ及び接続層4を覆うように部分的に第二の隠蔽層9を設け、さらに接着層を設けた構成である。第二の隠蔽層9は第一の隠蔽層5と同様のものを用いることができる。
FIG. 3 is an example of another embodiment of the present invention, and is a cross-sectional view taken along line AA of FIG.
In FIG. 3, the second concealing layer 9 is partially provided so as to cover at least the IC chip and the connection layer 4, and an adhesive layer is further provided. The second hiding layer 9 can be the same as the first hiding layer 5.

また、第二の隠蔽層9は第一の隠蔽層5と同色または同系色となるようなものを用いることが好ましい。例えば色差ΔEab*が3以下であることが好ましい。さらにこの第二の隠蔽層9の追加によって接着層における光吸収の必要がなくなるため、被接着体への接着層11は、ほとんど可視光を吸収しない通常の接着材料を用いることができる。   Moreover, it is preferable to use the second hiding layer 9 having the same color or the same color as the first hiding layer 5. For example, the color difference ΔEab * is preferably 3 or less. Furthermore, since it is not necessary to absorb light in the adhesive layer by adding the second concealing layer 9, a normal adhesive material that hardly absorbs visible light can be used for the adhesive layer 11 to the adherend.

第二の隠蔽層9は、ICチップ6を接続層4に実装したあとに形成する隠蔽層であるため、実装後のICチップ6への割れ、剥がれ等の配慮から、非接触にて層が形成できるインキジェット方式によって下部隠蔽層9を形成している。   Since the second concealing layer 9 is a concealing layer formed after the IC chip 6 is mounted on the connection layer 4, the layer is formed in a non-contact manner in consideration of cracking and peeling off the IC chip 6 after mounting. The lower hiding layer 9 is formed by an ink jet method that can be formed.

なお、本発明は上記の実施形態に限定されるものでなく、非接触ICラベルの内容や目的に応じて適宜その構成や材料等において最適化することができる。   In addition, this invention is not limited to said embodiment, According to the content and the objective of a non-contact IC label, it can optimize suitably in the structure, material, etc.

1、ICラベル
2、ラベル基材
3、導電層
4、接続層
5、第一の隠蔽層
6、ICチップ
7、機能層
8、マスク層(絶縁層)
9、第二の隠蔽層層
10、第二の隠蔽層層
11、接着層
1. IC label 2, label base 3, conductive layer 4, connection layer 5, first concealing layer 6, IC chip 7, functional layer 8, mask layer (insulating layer)
9, second concealing layer 10, second concealing layer 11, adhesive layer

Claims (3)

ラベル基材上に、OVDとして機能する機能層と、パターン化された導電層と該導電層上に位置し、デメタライズ処理を施すことによって前記導電層を所望の形状に形成して意匠性を高めるマスク層と、第一の隠蔽層と、前記導電層と静電容量的に結合するパターン化された接続層と、前記接続層に跨って電気的に接続するICチップと、第二の隠蔽層と、がこの順に積層されてなり、前記第一の隠蔽層は、前記接続層及び前記ICチップが平面視に見えなくなるように少なくとも前記接続層及び前記ICチップを覆うように形成されており、前記第二の隠蔽層が接着層を兼ねており、前記接続層及び前記ICチップが非接触ICラベルの裏面側から見えなくなるように全面に形成されていることを特徴とする非接触ICラベル。 A functional layer functioning as an OVD , a patterned conductive layer, and a conductive layer formed on the conductive layer, on the label base material, are subjected to a demetallization process to form the conductive layer in a desired shape, thereby improving design. A mask layer; a first concealing layer; a patterned connection layer capacitively coupled to the conductive layer; an IC chip electrically connected across the connection layer; and a second concealment layer And the first concealing layer is formed so as to cover at least the connection layer and the IC chip so that the connection layer and the IC chip cannot be seen in a plan view. The non-contact IC label, wherein the second concealing layer also serves as an adhesive layer, and the connection layer and the IC chip are formed on the entire surface so as to be invisible from the back side of the non-contact IC label. ラベル基材上に、OVDとして機能する機能層と、パターン化された導電層と該導電層上に位置す、デメタライズ処理を施すことによって前記導電層を所望の形状に形成して意匠性を高めるマスク層と、第一の隠蔽層と、前記導電層と静電容量的に結合するパターン化された接続層と、前記接続層に跨って電気的に接続するICチップと、第二の隠蔽層と、接着層と、がこの順に積層されてなり、前記第一の隠蔽層は、前記接続層及び前記ICチップが平面視に見えなくなるように非接触ICラベルの少なくとも前記接続層及び前記ICチップを覆うように形成されており、前記第二の隠蔽層が前記接続層及び前記ICチップが非接触ICラベルの裏面側から見えなくなるように少なくとも該接続層とICチップを覆うように部分的に形成されていることを特徴とする非接触ICラベル。 A functional layer functioning as an OVD , a patterned conductive layer, and a demetallization treatment on the conductive layer are formed on the label base material, thereby forming the conductive layer in a desired shape and improving the design. A mask layer; a first concealing layer; a patterned connection layer capacitively coupled to the conductive layer; an IC chip electrically connected across the connection layer; and a second concealment layer And the adhesive layer are laminated in this order, and the first concealment layer includes at least the connection layer and the IC chip of the non-contact IC label so that the connection layer and the IC chip cannot be seen in a plan view. the is formed so as to cover, the second shielding layer is the connecting layer and the IC chip so can not be seen from the back side of the contactless IC label at least the connecting layer and the IC chip partially so as to cover Formed A non-contact IC label characterized by being made. 前記第一の隠蔽層と第二の隠蔽層の色相が同色または同系色であることを特徴とする請求項1または2に記載の非接触ICラベル。   3. The non-contact IC label according to claim 1, wherein hues of the first hiding layer and the second hiding layer are the same color or similar colors. 4.
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