JP5298692B2 - Organic electroluminescence light source device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL light source device suppressed in change of color due to an observation angle. <P>SOLUTION: This organic electroluminescent light source device is provided with an organic electroluminescent light emitting element, and a selective reflection layer. The organic electroluminescent light source device is characterized in that the organic electroluminescent light emitting element includes an organic luminescent layer having two or more emission intensity peaks; and the selective reflection layer includes a peak wavelength of at least one of the emission intensity peaks in a selective reflection band of transmitted light in its front direction. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス(以下「有機EL」と略す場合がある。)光源装置に関する。   The present invention relates to an organic electroluminescence (hereinafter sometimes abbreviated as “organic EL”) light source device.

複数層の電極間に有機発光層を設け、電気的に発光を得る有機EL素子は、液晶セルに代わる表示素子としての利用の他に、その高発光効率、低電圧駆動、軽量、低コスト等の特徴を生かした、平面型照明、液晶表示装置用バックライト等の面光源としての利用も検討されている。   An organic EL device that provides an organic light emitting layer between multiple layers of electrodes to obtain light emission is used as a display device instead of a liquid crystal cell, as well as its high luminous efficiency, low voltage drive, light weight, low cost, etc. Utilization of the above features is also being considered for use as a planar light source such as a flat illumination and a backlight for a liquid crystal display device.

有機EL素子を面光源として利用する場合、その光取り出し効率を高めることが課題となる。すなわち、有機EL素子の発光層自体は発光効率が高いものの、それが素子を構成する積層構造を透過して出光するまでの間に、層中における干渉等により光量が低減してしまうので、そのような光の損失を可能な限り低減することが求められる。   When an organic EL element is used as a surface light source, it is a problem to increase the light extraction efficiency. That is, although the light emitting layer itself of the organic EL element has high luminous efficiency, the light amount is reduced by interference in the layer until it emits light through the laminated structure constituting the element. Such light loss is required to be reduced as much as possible.

光取り出し効率を高めるための方法として、例えば特許文献1には、素子の正面方向(0°)の輝度を抑制し、角度50〜70°の輝度を増加させることで、全体的な輝度を高めることが開示されている。   As a method for increasing the light extraction efficiency, for example, in Patent Document 1, the luminance in the front direction (0 °) of the element is suppressed and the luminance at an angle of 50 to 70 ° is increased, thereby increasing the overall luminance. It is disclosed.

ところで、有機EL素子を面光源に用いる場合、光取り出し効率の向上に加えて、観察角度による色味の変化を低減することが、さらなる課題となる。即ち、面光源を正面方向から観察した場合と、斜め方向から観察する場合とで、その光スペクトルが変化すると、観察角度による色味の変化が発生し、光源として好ましくない。   By the way, when using an organic EL element for a surface light source, in addition to the improvement of light extraction efficiency, it becomes a further subject to reduce the change of the tint by an observation angle. That is, when the light spectrum changes between when the surface light source is observed from the front direction and when observed from the oblique direction, a change in color depending on the observation angle occurs, which is not preferable as a light source.

特開2004−296423号公報JP 2004-296423 A

本発明の目的は、観察角度による色味の変化が抑制された有機EL光源装置を提供することにある。   An object of the present invention is to provide an organic EL light source device in which a change in color depending on an observation angle is suppressed.

上記課題を解決するために本願発明者らは検討を行った結果、有機EL光源装置に、特定の光学的特性を有する選択反射層を設けることにより、上記課題を解決しうることを見出し、本願発明を解決するに至った。
したがって、本発明によれば、下記〔1〕〜〔7〕が提供される。
As a result of studies conducted by the inventors of the present invention in order to solve the above problems, it has been found that the above problems can be solved by providing a selective reflection layer having specific optical characteristics in the organic EL light source device. The invention has been solved.
Therefore, according to the present invention, the following [1] to [7] are provided.

〔1〕 有機エレクトロルミネッセンス発光素子と、選択反射層とを備える有機エレクトロルミネッセンス光源装置であって、前記有機エレクトロルミネッセンス発光素子が2つ以上の発光強度ピークをもつ有機発光層を有し、前記選択反射層が、その正面方向の透過光の選択反射帯域に、前記発光強度ピークの少なくとも1つのピーク波長を含むことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス光源装置。
〔2〕 前記有機エレクトロルミネッセンス光源装置であって、さらに光散乱層を備えることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス光源装置。
〔3〕 前記有機エレクトロルミネッセンス光源装置であって、さらに凹凸構造層を備えることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス光源装置。
〔4〕 前記有機エレクトロルミネッセンス光源装置であって、前記選択反射層が、波長575nmの正面方向の透過率T Y,N、波長575nmの極角60°方向の透過率の平均値T Y,60、波長480nmの正面方向の透過率T B,N、及び波長480nmの極角60°方向の透過率の平均値T B,60が式〔1〕の関係を満たすことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス光源装置。
(T Y,60/T Y,N)>(T B,60/T B,N) 式〔1〕
〔5〕 前記有機エレクトロルミネッセンス光源装置であって、前記選択反射層が、正面方向の透過光の選択反射帯域として、波長500nm〜650nmの範囲内に1つ以上の選択反射帯域を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス光源装置。
〔6〕 前記有機エレクトロルミネッセンス光源装置であって、前記選択反射層が、極角60°方向の透過光の選択反射帯域として、波長400nm〜550nmの範囲内に1つ以上の選択反射帯域を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス光源装置。
〔7〕 前記有機エレクトロルミネッセンス光源装置であって、前記有機エレクトロルミネッセンス発光素子が、波長550nm〜600nmの範囲に発光強度ピークを有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス光源装置。
[1] An organic electroluminescence light source device comprising an organic electroluminescence light emitting element and a selective reflection layer, wherein the organic electroluminescence light emitting element has an organic light emitting layer having two or more emission intensity peaks, and the selection The organic electroluminescence light source device, wherein the reflective layer includes at least one peak wavelength of the emission intensity peak in a selective reflection band of transmitted light in the front direction.
[2] The organic electroluminescence light source device, further comprising a light scattering layer.
[3] The organic electroluminescence light source device, further comprising an uneven structure layer.
[4] The organic electroluminescence light source device, wherein the selective reflection layer has a transmittance T F Y, N in a front direction at a wavelength of 575 nm and an average value T F Y in a transmittance at a polar angle of 60 ° at a wavelength of 575 nm. , 60 , the transmittance T F B, N in the front direction at a wavelength of 480 nm, and the average value T F B, 60 of the transmittance in the polar angle 60 ° direction at a wavelength of 480 nm satisfy the relationship of formula [1]. Organic electroluminescence light source device.
(T F Y, 60 / T F Y, N)> (T F B, 60 / T F B, N) formula (1)
[5] The organic electroluminescence light source device, wherein the selective reflection layer has one or more selective reflection bands in a wavelength range of 500 nm to 650 nm as a selective reflection band of transmitted light in a front direction. An organic electroluminescence light source device.
[6] The organic electroluminescence light source device, wherein the selective reflection layer has one or more selective reflection bands in a wavelength range of 400 nm to 550 nm as a selective reflection band of transmitted light in a polar angle of 60 ° direction. An organic electroluminescence light source device.
[7] The organic electroluminescence light source device, wherein the organic electroluminescence light emitting element has a light emission intensity peak in a wavelength range of 550 nm to 600 nm.

本発明の光源装置は、観察角度による色味の変化が少ないため、液晶表示装置のバックライト、照明装置などの光源として有用である。   The light source device of the present invention is useful as a light source for a backlight of a liquid crystal display device, an illuminating device, and the like because there is little change in color depending on the viewing angle.

以下、本発明の好ましい実施形態を、図面を参照して説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

(第1実施形態)
図1は、本発明の有機EL光源装置の第1の実施形態の層構成を示す断面図である。図1において、装置100は、基板101と、基板101の入光面(図中の下面)に設けられた発光素子120と、基板101の出光面(図中の上面)に設けられた積層体130とを備え、当該装置の上側の面109が出光面である。積層体130は、基板101側から順に選択反射層131及び基材フィルム132を備える。発光素子120は、基板101側から順に、透明電極111、発光層121及び反射電極112を備える。
(First embodiment)
FIG. 1 is a cross-sectional view showing the layer configuration of the first embodiment of the organic EL light source device of the present invention. In FIG. 1, an apparatus 100 includes a substrate 101, a light emitting element 120 provided on a light incident surface (lower surface in the drawing) of the substrate 101, and a laminate provided on a light emitting surface (upper surface in the drawing) of the substrate 101. 130, and the upper surface 109 of the device is a light exit surface. The laminated body 130 includes a selective reflection layer 131 and a base film 132 in order from the substrate 101 side. The light emitting element 120 includes a transparent electrode 111, a light emitting layer 121, and a reflective electrode 112 in order from the substrate 101 side.

基板101としては、ガラス基板、石英ガラス、プラスチック基板などの、有機EL発光素子の基板として通常用いうる基板を採用することができる。   As the substrate 101, a substrate that can be normally used as a substrate of an organic EL light emitting element, such as a glass substrate, quartz glass, or a plastic substrate, can be employed.

発光素子120を構成する発光層121としては、特に限定されず既知のものを適宜選択することができるが、光源としての用途に適合すべく、一種の層単独又は複数種類の層の組み合わせにより、後述する所定のピーク波長を含む光を発光するものとすることができる。透明電極111及び反射電極112も、特に限定されず既知のものを適宜選択することができる。また、電極間に、発光層に加えてホール注入層、ホール輸送層、電子輸送層、電子注入層及びガスバリア層等の他の層をさらに有することもできる。   The light-emitting layer 121 constituting the light-emitting element 120 is not particularly limited and can be appropriately selected from known ones. However, in order to suit the use as a light source, a single layer or a combination of a plurality of layers can be used. It can emit light including a predetermined peak wavelength described later. The transparent electrode 111 and the reflective electrode 112 are not particularly limited, and known ones can be appropriately selected. Further, other layers such as a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and a gas barrier layer can be further provided between the electrodes in addition to the light emitting layer.

発光素子の具体的な層構成としては、陽極/正孔輸送層/発光層/陰極の構成、陽極/正孔輸送層/発光層/電子注入層/陰極の構成、陽極/正孔注入層/発光層/陰極の構成、陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極の構成、陽極/正孔輸送層/発光層/電子注入層/等電位面形成層/正孔輸送層/発光層/電子注入層/陰極の構成,陽極/正孔輸送層/発光層/電子注入層/電荷発生層/正孔輸送層/発光層/電子注入層/陰極の構成などが挙げられる。本発明の有機EL光源装置における発光素子は、一層以上の発光層を陽極と陰極との間に有するものとすることができるが、発光層として、複数の発光色が異なる層の積層体、あるいはある色素の層に異なる色素がドーピングされた混合層を有していてもよい。各層の材料は特に限定されるものではない。例えば発光材料にはポリパラフェニレンビニレン系・ポリフルオレン系・ポリビニルカルバゾール系などがあげられる。また正孔注入層や正孔輸送層にはフタロシアニン系・アリールアミン系・ポリチオフェン系、電子注入層や電子輸送層にはアルミ錯体・フッ化リチウムなどがあげられる。また、透電位面形成層、あるいは電荷発生層としては、ITO、IZO、SnOなどの透明電極、あるいはAg,Alなどの金属薄膜があげられる。 Specific layer configurations of the light-emitting element include anode / hole transport layer / light-emitting layer / cathode configuration, anode / hole transport layer / light-emitting layer / electron injection layer / cathode configuration, anode / hole injection layer / Composition of light emitting layer / cathode, anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / electron injection layer / cathode composition, anode / hole transport layer / light emitting layer / electron injection layer / equipotential Structure of surface forming layer / hole transport layer / light emitting layer / electron injection layer / cathode, anode / hole transport layer / light emitting layer / electron injection layer / charge generation layer / hole transport layer / light emitting layer / electron injection layer / Examples include the configuration of the cathode. The light-emitting element in the organic EL light source device of the present invention can have one or more light-emitting layers between the anode and the cathode, and as the light-emitting layer, a laminate of a plurality of layers having different emission colors, or A certain dye layer may have a mixed layer doped with different dyes. The material of each layer is not particularly limited. Examples of the light emitting material include polyparaphenylene vinylene, polyfluorene, and polyvinyl carbazole. Examples of the hole injection layer and the hole transport layer include phthalocyanine-based, arylamine-based, and polythiophene-based materials, and examples of the electron injection layer and the electron transport layer include aluminum complex and lithium fluoride. As the magnetic potential surface forming layer or the charge generation layer, ITO, IZO, the transparent electrode such as SnO 2, or Ag, a metal thin film such as Al and the like.

透明電極111、発光層121、反射電極112及び発光素子を構成するその他の任意の層は、基板101上にこれらを順次積層することにより設けることができる。   The transparent electrode 111, the light emitting layer 121, the reflective electrode 112, and other arbitrary layers constituting the light emitting element can be provided by sequentially laminating them on the substrate 101.

本発明において、発光層121は、2つ以上の発光強度ピークをもつ。好ましくは、2つ以上の発光強度ピークのうち1つ以上が、波長500nm〜650nmの範囲であるものとすることができる。
このような発光強度ピークを有する発光層のスペクトルの例を、図3に示す。図3に示すスペクトルでは、波長480nm及び575nmに2つのピークを有する。
このような2つ以上の発光強度ピークは、発光層を、上に述べたように複数の発光色が異なる層の積層体、あるいはある色素の層に異なる色素がドーピングされた混合層とすることにより得ることができる。
In the present invention, the light emitting layer 121 has two or more light emission intensity peaks. Preferably, one or more of the two or more emission intensity peaks may be in a wavelength range of 500 nm to 650 nm.
An example of the spectrum of the light emitting layer having such a light emission intensity peak is shown in FIG. The spectrum shown in FIG. 3 has two peaks at wavelengths of 480 nm and 575 nm.
For such two or more emission intensity peaks, as described above, the light emitting layer should be a laminate of a plurality of layers having different emission colors, or a mixed layer in which a certain dye layer is doped with a different dye. Can be obtained.

次に、基板101上の、選択反射層131について説明する。本発明において選択反射層とは、ある範囲の波長帯域において、特定の偏光を透過させ、その他の偏光を反射もしくは吸収する性質を有する層であり、選択反射帯域とは、選択反射層がそのような性質を有する波長帯域をいう。   Next, the selective reflection layer 131 on the substrate 101 will be described. In the present invention, the selective reflection layer is a layer having a property of transmitting specific polarized light and reflecting or absorbing other polarized light in a certain range of wavelength bands. This refers to a wavelength band having various properties.

本発明において、選択反射層は、その正面方向の透過光の選択反射帯域に、前記発光強度ピークの少なくとも1つのピーク波長を含む。図3に示した発光素子のスペクトルとの関係において例を述べると、選択反射層は、その正面方向の透過光の選択反射帯域に、波長480nm又は575nmのうち少なくとも一方の波長を含むものとすることができる。   In the present invention, the selective reflection layer includes at least one peak wavelength of the emission intensity peak in the selective reflection band of transmitted light in the front direction. When an example is described in relation to the spectrum of the light emitting element shown in FIG. 3, the selective reflection layer may include at least one of the wavelengths 480 nm and 575 nm in the selective reflection band of the transmitted light in the front direction. it can.

ここで選択反射帯域とは、可視光域380〜780nm中における最大透過率をa[%]、最小透過率をb[%]とするとき、透過率(λ)[%]について:
{a−透過率(λ)}/{a−b}≧0.3
を満たす波長域とする。
Here, the selective reflection band refers to the transmittance (λ) [%] when the maximum transmittance in the visible light range of 380 to 780 nm is a [%] and the minimum transmittance is b [%]:
{A-transmittance (λ)} / {ab} ≧ 0.3
The wavelength range that satisfies

好ましくは、選択反射層は、波長575nmの正面方向の透過率T Y,N、波長575nmの極角60°方向の透過率の平均値T Y,60、波長480nmの正面方向の透過率T B,N、及び波長480nmの極角60°方向の透過率の平均値T B,60が式〔1〕の関係を満たすものとすることができる。選択反射層がこのような選択反射帯域を有することにより、観察角度による色味の変化を低減することができる。
(T Y,60/T Y,N)>(T B,60/T B,N) 式〔1〕
Preferably, the selective reflection layer has a transmittance T F Y, N in the front direction at a wavelength of 575 nm, an average value T F Y, 60 of a transmittance in the polar angle 60 ° direction at a wavelength of 575 nm, and a transmittance in the front direction at a wavelength of 480 nm. T F B, N and the average value T F B, 60 of the transmittance in the polar angle 60 ° direction with a wavelength of 480 nm may satisfy the relationship of the formula [1]. Since the selective reflection layer has such a selective reflection band, it is possible to reduce the change in color depending on the observation angle.
(T F Y, 60 / T F Y, N)> (T F B, 60 / T F B, N) formula (1)

また好ましくは、選択反射層は、正面方向の透過光の選択反射帯域として、波長500nm〜650nmの範囲内に1つ以上の選択反射帯域を有する。さらに、好ましくは、選択反射層は、極角60°方向、すなわち正面方向と60°の角度をなす方向の透過光の選択反射帯域として、波長400nm〜600nmの範囲内に1つ以上の選択反射帯域を有する。   Preferably, the selective reflection layer has one or more selective reflection bands in a wavelength range of 500 nm to 650 nm as a selective reflection band of transmitted light in the front direction. Furthermore, it is preferable that the selective reflection layer has one or more selective reflections within a wavelength range of 400 nm to 600 nm as a selective reflection band of transmitted light in a polar angle direction of 60 °, that is, a direction that forms an angle of 60 ° with the front direction. Has a band.

図3に示した発光素子のスペクトルとの関係において、上に述べた選択反射帯域を有する選択反射特性の例を図2に示す。図2において、角度0°すなわち正面方向の透過光の選択反射特性においては、波長575nmにおいて最大の吸収を有し、正面方向の透過光の選択反射帯域は525nm以上かつ635nm以下である。そして透過光の角度が増加するにつれて最大吸収波長が短波長側にシフトし、それにより前記式〔1〕を満たし、さらに極角60°方向において、最大吸収波長が490nmとなり、選択反射帯域が580nm以下となっている。   FIG. 2 shows an example of the selective reflection characteristic having the selective reflection band described above in relation to the spectrum of the light emitting element shown in FIG. In FIG. 2, the selective reflection characteristic of transmitted light in an angle of 0 °, that is, in the front direction, has maximum absorption at a wavelength of 575 nm, and the selective reflection band of transmitted light in the front direction is not less than 525 nm and not more than 635 nm. As the angle of the transmitted light increases, the maximum absorption wavelength shifts to the short wavelength side, thereby satisfying the above equation [1], and further in the polar angle 60 ° direction, the maximum absorption wavelength is 490 nm, and the selective reflection band is 580 nm. It is as follows.

図2に示す選択反射特性を有する選択反射層の例において、透過光の入射角度と反射率との関係を測定すると、例えば図6及び図7に示す関係が得られる。図6は波長480nmの青色光について、図7は波長575nmの黄色光についての測定結果である。青色光については図6に示す通り、反射率は入射角度が増加するにつれて上昇するが、黄色光については図7に示す通り、選択反射層の選択反射帯域のシフトにより、入射角度の増加につれて反射率が一旦低下してから増加するという特性が発現する。   In the example of the selective reflection layer having the selective reflection characteristic shown in FIG. 2, when the relationship between the incident angle of the transmitted light and the reflectance is measured, for example, the relationship shown in FIGS. 6 and 7 is obtained. FIG. 6 shows measurement results for blue light having a wavelength of 480 nm, and FIG. 7 shows measurement results for yellow light having a wavelength of 575 nm. As shown in FIG. 6, for blue light, the reflectivity increases as the incident angle increases. For yellow light, as shown in FIG. 7, the reflectivity increases as the incident angle increases due to the shift of the selective reflection band of the selective reflection layer. The characteristic that the rate increases once decreases and then appears.

かかる選択反射特性を有する選択反射層による、観察角度による色味の変化の抑制の例を、図4及び図5に示す。図5は、図1に示す本発明の有機EL光源装置であって、発光素子(電極111、電極112及び発光層121)として図3に示すスペクトラムを有する素子を用い、選択反射層131として、図2、図6及び図7に示す選択反射特性を有する選択反射層を用いた場合の、出光面109から出射する波長480nmの青色光及び波長575nmの黄色光の配光分布を示すグラフである。一方、図4は、基板101から出射する青色光及び黄色光の配光分布を、選択反射層131及び基材フィルム132を設けずに観察した際の配光分布を示すグラフである。これらのグラフに示される通り、基板101から出射する光は、青色光と黄色光で配光分布に乖離があるのに対し、選択反射層131を透過して出光面109から出射する光は、かかる乖離が縮小している。   Examples of suppression of a change in color depending on the observation angle by the selective reflection layer having such selective reflection characteristics are shown in FIGS. FIG. 5 shows the organic EL light source device of the present invention shown in FIG. 1, in which the elements having the spectrum shown in FIG. 3 are used as the light emitting elements (electrode 111, electrode 112 and light emitting layer 121), and as the selective reflection layer 131, 8 is a graph showing a light distribution of blue light having a wavelength of 480 nm and yellow light having a wavelength of 575 nm emitted from the light exit surface 109 when the selective reflection layer having the selective reflection characteristics shown in FIGS. 2, 6, and 7 is used. . On the other hand, FIG. 4 is a graph showing the light distribution when the blue and yellow light distributions emitted from the substrate 101 are observed without the selective reflection layer 131 and the base film 132. As shown in these graphs, the light emitted from the substrate 101 has a difference in light distribution between blue light and yellow light, whereas the light emitted from the light exit surface 109 through the selective reflection layer 131 is: Such divergence is shrinking.

本発明の有機EL光源装置において、発光層121は、透明電極111及び反射電極112に電圧が印加されることにより発光する。生じた光の一部は直接透明電極111を透過し、他の一部は反射電極112で反射してから透明電極111を透過する。透明電極111を透過した光は、基板101、選択反射層131及び基材フィルム132を透過して出光する。また、発光層121〜基板101までの間の界面において図中下向きに反射した光は、反射電極112又は他の界面で反射してから出光する。このようなさまざまな経路で出光する光が存在するため、光の干渉が発生する。干渉による光の増減は、波長に応じて異なり、その結果として、光の波長によって、観察角度と輝度との関係が異なり、観察角度による色味の変化をもたらす。このような光を、上に述べた特定の選択反射特性を有する選択反射層131をさらに透過させることにより、観察角度による色味の変化を低減させることができる。   In the organic EL light source device of the present invention, the light emitting layer 121 emits light when a voltage is applied to the transparent electrode 111 and the reflective electrode 112. Part of the generated light is directly transmitted through the transparent electrode 111, and the other part is reflected by the reflective electrode 112 and then transmitted through the transparent electrode 111. The light that has passed through the transparent electrode 111 passes through the substrate 101, the selective reflection layer 131, and the base film 132 and is emitted. Further, light reflected downward in the drawing at the interface between the light emitting layer 121 and the substrate 101 is emitted after being reflected at the reflective electrode 112 or another interface. Since there is light emitted through such various paths, light interference occurs. The increase / decrease in light due to interference differs depending on the wavelength, and as a result, the relationship between the observation angle and the luminance differs depending on the wavelength of the light, resulting in a change in color depending on the observation angle. By further transmitting such light through the selective reflection layer 131 having the specific selective reflection characteristics described above, it is possible to reduce a change in color depending on the observation angle.

本発明に用いる選択反射層は、上記選択反射帯域を有する限りにおいて、如何なる材質のものを用いてもよく、また如何なる原理の選択反射をするものであってもよいが、好ましい選択反射層の例として、円偏光分離シートを含むものが挙げられる。   As long as the selective reflection layer used in the present invention has the above selective reflection band, any material may be used, and any selective reflection of any principle may be performed. Examples include those containing a circularly polarized light separating sheet.

選択反射層が円偏光分離シートを有する場合、かかる選択反射層は、選択反射帯域において、特定の円偏光のみを透過しその他の光(他の円偏光、直線偏光等)を反射するものとなる。   When the selective reflection layer has a circularly polarized light separating sheet, the selective reflection layer transmits only specific circularly polarized light and reflects other light (other circularly polarized light, linearly polarized light, etc.) in the selective reflection band. .

前記円偏光分離シートの例としては、コレステリック液晶相を呈しうる組成物(コレステリック液晶組成物)を透明樹脂基材に塗布して液晶層を得、次いで少なくとも1回の、光照射及び/又は加温処理により硬化してなる円偏光分離シートを挙げることができる。   As an example of the circularly polarized light separating sheet, a composition capable of exhibiting a cholesteric liquid crystal phase (cholesteric liquid crystal composition) is applied to a transparent resin substrate to obtain a liquid crystal layer, and then at least one light irradiation and / or addition is performed. Examples thereof include a circularly polarized light separating sheet that is cured by heat treatment.

前記コレステリック液晶組成物としては、棒状液晶性化合物であって、それ自体または他の物質と共に硬化しうるものを含む組成物を用いることができる。具体的には例えば、Δn値が0.10以上であって、1分子中に少なくとも2つ以上の反応性基を有する棒状液晶化合物を挙げることができる。
より具体的には、前記棒状液晶性化合物としては、式(1A)で表される化合物を挙げることができる。
3−C3−D3−C5−M−C6−D4−C4−R4 式(1A)
(式中、R3及びR4は反応性基であり、それぞれ独立して(メタ)アクリル基、(チオ)エポキシ基、オキセタン基、チエタニル基、アジリジニル基、ピロール基、ビニル基、アリル基、フマレート基、シンナモイル基、オキサゾリン基、メルカプト基、イソ(チオ)シアネート基、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、及びアルコキシシリル基からなる群より選択される基を表す。D3及びD4は単結合、炭素原子数1〜20個の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、及び炭素原子数1〜20個の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレンオキサイド基からなる群より選択される基を表す。C3〜C6は単結合、−O−、−S−、−S−S−、−CO−、−CS−、−OCO−、−CH2−、−OCH2−、−C=N−N=C−、−NHCO−、−OCOO−、−CH2COO−、及び−CH2OCO−からなる群より選択される基を表す。Mはメソゲン基を表し、具体的には、非置換又は置換基を有していてもよい、アゾメチン類、アゾキシ類、フェニル類、ビフェニル類、ターフェニル類、ナフタレン類、アントラセン類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類、アルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類の群から選択された2〜4個の骨格を、−O−、−S−、−S−S−、−CO−、−CS−、−OCO−、−CH2−、−OCH2−、−C=N−N=C−、−NHCO−、−OCOO−、−CH2COO−、及び−CH2OCO−等の結合基によって結合されて形成される。)
前記、メソゲン基Mが有しうる置換基としては、ハロゲン原子、置換基を有してもよい炭素数1〜10のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、−O−R5、−O−C(=O)−R5、−C(=O)−O−R5、−O−C(=O)−O−R5、−NR5−C(=O)−R5、−C(=O)−NR5、または−O−C(=O)−NR5を表す。ここで、R5及びRは、水素原子又は炭素数1〜10のアルキル基を表し、アルキル基である場合、当該アルキル基には、−O−、−S−、−O−C(=O)−、−C(=O)−O−、−O−C(=O)−O−、−NR6−C(=O)−、−C(=O)−NR6−、−NR6−、または−C(=O)−が介在していてもよい(ただし、−O−および−S−がそれぞれ2以上隣接して介在する場合を除く。)。ここで、R6は、水素原子または炭素数1〜6のアルキル基を表す。前記「置換基を有してもよい炭素数1〜10個のアルキル基」における置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、炭素原子数1〜6個のアルコキシ基、炭素原子数2〜8個のアルコキシアルコキシ基、炭素原子数3〜15個のアルコキシアルコキシアルコキシ基、炭素原子数2〜7個のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜7個のアルキルカルボニルオキシ基、炭素原子数2〜7個のアルコキシカルボニルオキシ基等が挙げられる。
本発明において、該棒状液晶性化合物は非対称構造であることが好ましい。ここで非対称構造とは、一般式(1A)において、メソゲン基Mを中心としてR3−C3−D3−C5−と−C6−D4−C4−R4が異なる構造のことをいう。該棒状液晶性化合物として、非対称構造のものを用いることにより、配向均一性をより高めることができる。
As the cholesteric liquid crystal composition, a composition containing a rod-like liquid crystal compound that can be cured by itself or with other substances can be used. Specifically, for example, a rod-like liquid crystal compound having a Δn value of 0.10 or more and having at least two reactive groups in one molecule can be given.
More specifically, examples of the rod-like liquid crystal compound include a compound represented by the formula (1A).
R 3 -C 3 -D 3 -C 5 -M-C 6 -D 4 -C 4 -R 4 Formula (1A)
(Wherein R 3 and R 4 are reactive groups, each independently (meth) acryl group, (thio) epoxy group, oxetane group, thietanyl group, aziridinyl group, pyrrole group, vinyl group, allyl group, D 3 and D 4 are groups selected from the group consisting of fumarate group, cinnamoyl group, oxazoline group, mercapto group, iso (thio) cyanate group, amino group, hydroxyl group, carboxyl group, and alkoxysilyl group. A group selected from the group consisting of a bond, a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and a linear or branched alkylene oxide group having 1 to 20 carbon atoms; C 3 to C 6 are a single bond, —O—, —S—, —S—S—, —CO—, —CS—, —OCO—, —CH 2 —, —OCH 2 —, —C═. N—N═C—, —NHCO— , -OCOO -, - CH 2 COO- , and .M represents a group selected from the group consisting of -CH 2 OCO- represents a mesogenic group, specifically, have a unsubstituted or substituted group Azomethines, azoxys, phenyls, biphenyls, terphenyls, naphthalenes, anthracenes, benzoic acid esters, cyclohexanecarboxylic acid phenyl esters, cyanophenylcyclohexanes, cyano-substituted phenylpyrimidines, alkoxy-substituted Two to four skeletons selected from the group of phenylpyrimidines, phenyldioxanes, tolanes, and alkenylcyclohexylbenzonitriles are converted to —O—, —S—, —S—S—, —CO—, —CS. -, - OCO -, - CH 2 -, - OCH 2 -, - C = N-N = C -, - NHCO -, - OCOO -, - C 2 COO-, and is formed are joined by a linking group of -CH 2 OCO-, and the like.)
Examples of the substituent that the mesogenic group M may have include a halogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cyano group, a nitro group, —O—R 5 , —O—C. (═O) —R 5 , —C (═O) —O—R 5 , —O—C (═O) —O—R 5 , —NR 5 —C (═O) —R 5 , —C ( = O) -NR < 5 > R < 7 > or -O-C (= O) -NR < 5 > R < 7 >. Wherein, R 5 and R 7 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, when it is alkyl group, and the alkyl group, -O -, - S -, - O-C (= O) —, —C (═O) —O—, —O—C (═O) —O—, —NR 6 —C (═O) —, —C (═O) —NR 6 —, —NR 6- or -C (= O)-may be present (except when two or more of -O- and -S- are present adjacent to each other). Wherein, R 6 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Examples of the substituent in the “optionally substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms” include a halogen atom, a hydroxyl group, a carboxyl group, a cyano group, an amino group, and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. Group, alkoxyalkoxy group having 2 to 8 carbon atoms, alkoxyalkoxyalkoxy group having 3 to 15 carbon atoms, alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, alkylcarbonyloxy having 2 to 7 carbon atoms Group, an alkoxycarbonyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, and the like.
In the present invention, the rod-like liquid crystalline compound preferably has an asymmetric structure. Here, the asymmetric structure is a structure in which R 3 -C 3 -D 3 -C 5 -and -C 6 -D 4 -C 4 -R 4 are different in the general formula (1A) with the mesogenic group M as the center. Say. By using a rod-like liquid crystal compound having an asymmetric structure, alignment uniformity can be further improved.

本発明において、前記棒状液晶性化合物は、そのΔn値が0.10以上であることが好ましい。Δn値が0.30以上の化合物を用いると、紫外線吸収スペクトルの長波長側の吸収端が可視域に及ぶ場合があるが、該スペクトルの吸収端が可視域に及んでも所望する光学的性能に悪影響を及ぼさない限り、使用可能である。このような高いΔn値を有することにより、高い光学的性能(例えば、円偏光分離特性)を有する円偏光分離シートを与えることができる。   In the present invention, the rod-like liquid crystalline compound preferably has a Δn value of 0.10 or more. When a compound having an Δn value of 0.30 or more is used, the absorption edge on the long wavelength side of the ultraviolet absorption spectrum may extend to the visible range, but desired optical performance even when the absorption edge of the spectrum extends to the visible range. It can be used as long as it does not adversely affect By having such a high Δn value, a circularly polarized light separating sheet having high optical performance (for example, circularly polarized light separating characteristics) can be provided.

本発明において、前記棒状液晶性化合物は、1分子中に少なくとも2つ以上の反応性基を有することが好ましい。前記反応性基としては、具体的にはエポキシ基、チオエポキシ基、オキセタン基、チエタニル基、アジリジニル基、ピロール基、フマレート基、シンナモイル基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、オキサゾリン基、メルカプト基、ビニル基、アリル基、メタクリル基、及びアクリル基が挙げられる。これらの反応性基を有することにより、コレステリック液晶組成物を硬化させた際に、安定した硬化物を得ることができる。   In the present invention, the rod-like liquid crystal compound preferably has at least two reactive groups in one molecule. Specific examples of the reactive group include an epoxy group, a thioepoxy group, an oxetane group, a thietanyl group, an aziridinyl group, a pyrrole group, a fumarate group, a cinnamoyl group, an isocyanate group, an isothiocyanate group, an amino group, a hydroxyl group, and a carboxyl group. , Alkoxysilyl groups, oxazoline groups, mercapto groups, vinyl groups, allyl groups, methacryl groups, and acrylic groups. By having these reactive groups, a stable cured product can be obtained when the cholesteric liquid crystal composition is cured.

本発明において、コレステリック液晶組成物は、硬化後の膜強度向上や耐久性向上のために、任意に架橋剤を含有することができる。当該架橋剤としては、液晶組成物を塗布した液晶層の硬化時に同時に反応したり、硬化後に熱処理を行って反応を促進したり、又は湿気により自然に反応が進行して液晶層の架橋密度を高めることができ、かつ配向均一性を悪化させないものを適宜選択し用いることができ、紫外線、熱、湿気等で硬化するものが好適に使用できる。架橋剤の具体例としては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、2−(2−ビニロキシエトキシ)エチルアクリレート等の多官能アクリレート化合物;グリシジル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル等のエポキシ化合物;2,2−ビスヒドロキシメチルブタノール−トリス[3−(1−アジリジニル)プロピオネート]、4,4−ビス(エチレンイミノカルボニルアミノ)ジフェニルメタン、トリメチロールプロパン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート等のアジリジン化合物;ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートから誘導されるイソシアヌレート型イソシアネート、ビウレット型イソシアネート、アダクト型イソシアネート等のイソシアネート化合物;オキサゾリン基を側鎖に有するポリオキサゾリン化合物;ビニルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N−(1,3−ジメチルブチリデン)−3−(トリエトキシシリル)−1−プロパンアミン等のアルコキシシラン化合物;が挙げられる。また、該架橋剤の反応性に応じて公知の触媒を用いることができ、膜強度や耐久性向上に加えて生産性を向上させることができる。
前記架橋剤の配合割合は、コレステリック液晶組成物を硬化して得られる硬化膜中に0.1〜15重量%となるようにすることが好ましい。該架橋剤の配合割合が0.1重量%より少ないと架橋密度向上の効果が得られず、逆に15重量%より多いと液晶層の安定性を低下させてしまうため好ましくない。
In the present invention, the cholesteric liquid crystal composition can optionally contain a crosslinking agent in order to improve the film strength and durability after curing. As the cross-linking agent, it reacts simultaneously when the liquid crystal layer coated with the liquid crystal composition is cured, or heat treatment is performed after curing to accelerate the reaction, or the reaction proceeds spontaneously by moisture to increase the cross-linking density of the liquid crystal layer. Those that can be enhanced and that do not deteriorate the alignment uniformity can be appropriately selected and used, and those that are cured by ultraviolet rays, heat, moisture, etc. can be suitably used. Specific examples of the crosslinking agent include, for example, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 2- (2-vinyl Polyfunctional acrylate compounds such as loxyethoxy) ethyl acrylate; epoxy compounds such as glycidyl (meth) acrylate, ethylene glycol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, pentaerythritol tetraglycidyl ether; 2,2-bishydroxymethylbutanol-tris [ 3- (1-aziridinyl) propionate], 4,4-bis (ethyleneiminocarbonylamino) diphenylmethane, trimethylolpropane-tri-β-aziridinini Aziridine compounds such as lupropionate; Isocyanurate type isocyanates derived from hexamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isocyanurate type isocyanates, biuret type isocyanates, adduct type isocyanates; polyoxazoline compounds having an oxazoline group in the side chain; vinyltrimethoxysilane; N- (2-aminoethyl) 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, N- (1 , 3-dimethylbutylidene) -3- (triethoxysilyl) -1-propanamine and the like alkoxysilane compounds. Moreover, a well-known catalyst can be used according to the reactivity of this crosslinking agent, and productivity can be improved in addition to an improvement in film strength and durability.
The blending ratio of the crosslinking agent is preferably 0.1 to 15% by weight in a cured film obtained by curing the cholesteric liquid crystal composition. When the blending ratio of the crosslinking agent is less than 0.1% by weight, the effect of improving the crosslinking density cannot be obtained. Conversely, when the blending ratio is more than 15% by weight, the stability of the liquid crystal layer is lowered, which is not preferable.

本発明において、コレステリック液晶組成物は、任意に光開始剤を含有することができる。当該光開始剤としては、紫外線又は可視光線によってラジカル又は酸を発生させる公知の化合物が使用できる。具体的には、ベンゾイン、ベンジルメチルケタール、ベンゾフェノン、ビアセチル、アセトフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンジルイソブチルエーテル、テトラメチルチウラムモノ(ジ)スルフィド、2,2−アゾビスイソブチロニトリル、2,2−アゾビス−2,4−ジメチルバレロニトリル、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−tert−ブチルパーオキサイド、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、メチルベンゾイルフォーメート、2,2−ジエトキシアセトフェノン、β−アイオノン、β−ブロモスチレン、ジアゾアミノベンゼン、α−アミルシンナックアルデヒド、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、2−クロロベンゾフェノン、pp’−ジクロロベンゾフェノン、pp’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインn−プロピルエーテル、ベンゾインn−ブチルエーテル、ジフェニルスルフィド、ビス(2,6−メトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、アントラセンベンゾフェノン、α−クロロアントラキノン、ジフェニルジスルフィド、ヘキサクロルブタジエン、ペンタクロルブタジエン、オクタクロロブテン、1−クロルメチルナフタリン、1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−2−(o−ベンゾイルオキシム)]や1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]エタノン1−(o−アセチルオキシム)、(4−メチルフェニル)[4−(2−メチルプロピル)フェニル]ヨードニウムヘキサフルオロフォスフェート、3−メチル−2−ブチニルテトラメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル−(p−フェニルチオフェニル)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。また、所望する物性に応じて2種以上の化合物を混合することができ、必要に応じて公知の光増感剤や重合促進剤としての三級アミン化合物を添加して硬化性をコントロールすることもできる。
該光開始剤の配合割合はコレステリック液晶組成物中0.03〜7重量%であることが好ましい。該光開始剤の配合量が0.03重量%より少ないと重合度が低くなってしまい膜強度が低下してしまう場合があるため好ましくない。逆に7重量%より多いと、液晶の配向を阻害してしまい液晶相が不安定になってしまう場合があるため好ましくない。
In the present invention, the cholesteric liquid crystal composition can optionally contain a photoinitiator. As the photoinitiator, known compounds that generate radicals or acids by ultraviolet rays or visible rays can be used. Specifically, benzoin, benzylmethyl ketal, benzophenone, biacetyl, acetophenone, Michler's ketone, benzyl, benzylisobutyl ether, tetramethylthiuram mono (di) sulfide, 2,2-azobisisobutyronitrile, 2,2-azobis -2,4-dimethylvaleronitrile, benzoyl peroxide, di-tert-butyl peroxide, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 1- (4 -Isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, methylbenzoyl formate, 2,2-dieto Cyacetophenone, β-ionone, β-bromostyrene, diazoaminobenzene, α-amylcinnac aldehyde, p-dimethylaminoacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, 2-chlorobenzophenone, pp′-dichlorobenzophenone, pp ′ -Bisdiethylaminobenzophenone, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin n-propyl ether, benzoin n-butyl ether, diphenyl sulfide, bis (2,6-methoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenyl-phosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, 2-methyl-1 [ 4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, anthracenebenzophenone, α-chloroanthraquinone , Diphenyl disulfide, hexachlorobutadiene, pentachlorobutadiene, octachlorobutene, 1-chloromethylnaphthalene, 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio) -2- (o-benzoyloxime)] and 1- [9-Ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] ethanone 1- (o-acetyloxime), (4-methylphenyl) [4- (2-methylpropyl) phenyl] iodonium Hexafluorophosphate, 3-methyl-2-butynyltetramethylsulfonate Arm hexafluoroantimonate, diphenyl - (p-phenylthiophenyl) sulfonium hexafluoroantimonate, and the like. In addition, two or more compounds can be mixed depending on the desired physical properties, and if necessary, a known photosensitizer or a tertiary amine compound as a polymerization accelerator is added to control curability. You can also.
The blending ratio of the photoinitiator is preferably 0.03 to 7% by weight in the cholesteric liquid crystal composition. When the blending amount of the photoinitiator is less than 0.03% by weight, the degree of polymerization is lowered and the film strength may be lowered. On the other hand, if it is more than 7% by weight, the alignment of the liquid crystal is inhibited and the liquid crystal phase may become unstable.

本発明において、コレステリック液晶組成物は、任意に界面活性剤を含有することができる。当該界面活性剤としては、配向を阻害しないものを適宜選択して使用することができる。当該界面活性剤としては、具体的には、疎水基部分にシロキサン、フッ化アルキル基を含有するノニオン系界面活性剤が好適に使用でき、1分子中に2個以上の疎水基部分を持つオリゴマーが特に好適である。これらの界面活性剤は、OMNOVA社PolyFoxのPF−151N、PF−636、PF−6320、PF−656、PF−6520、PF−3320、PF−651、PF−652、ネオス社フタージェントのFTX−209F、FTX−208G、FTX−204D、セイミケミカル社サーフロンのKH−40等を用いることができる。界面活性剤の配合割合はコレステリック液晶組成物を硬化して得られる硬化膜中0.05重量%〜3重量%となるようにすることが好ましい。該界面活性剤の配合割合が0.05重量%より少ないと空気界面における配向規制力が低下して配向欠陥が生じる場合があるため好ましくない。逆に3重量%より多い場合には、過剰の界面活性剤が液晶分子間に入り込み、配向均一性を低下させる場合があるため好ましくない。   In the present invention, the cholesteric liquid crystal composition can optionally contain a surfactant. As the surfactant, those not inhibiting the orientation can be appropriately selected and used. As the surfactant, specifically, a nonionic surfactant containing siloxane or fluorinated alkyl group in the hydrophobic group portion can be preferably used, and an oligomer having two or more hydrophobic group portions in one molecule. Is particularly preferred. These surfactants are PF-151N, PF-636, PF-6320, PF-656, PF-6520, PF-3320, PF-651, PF-652 from PolyFox, OMNOVA, FTX- from Neos 209F, FTX-208G, FTX-204D, Seimi Chemical's Surflon KH-40, and the like can be used. The blending ratio of the surfactant is preferably 0.05% by weight to 3% by weight in the cured film obtained by curing the cholesteric liquid crystal composition. When the blending ratio of the surfactant is less than 0.05% by weight, the orientation regulating force at the air interface is lowered and an orientation defect may occur, which is not preferable. On the other hand, when the amount is more than 3% by weight, it is not preferable because an excessive surfactant may enter between liquid crystal molecules and lower the alignment uniformity.

本発明において、コレステリック液晶組成物は、必要に応じてさらに他の任意成分を含有することができる。当該他の任意成分としては、カイラル剤、溶媒、ポットライフ向上のための重合禁止剤、耐久性向上のための酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定化剤等を挙げることができる。これらの任意成分は、所望する光学的性能を低下させない範囲で添加できる。   In the present invention, the cholesteric liquid crystal composition can further contain other optional components as necessary. Examples of the other optional components include a chiral agent, a solvent, a polymerization inhibitor for improving pot life, an antioxidant for improving durability, an ultraviolet absorber, and a light stabilizer. These optional components can be added as long as the desired optical performance is not deteriorated.

コレステリック液晶組成物の製造方法は、特に限定されず、上記必須成分及び任意成分を混合することにより製造することができる。   The manufacturing method of a cholesteric liquid crystal composition is not specifically limited, It can manufacture by mixing the said essential component and arbitrary components.

本発明において、前記コレステリック液晶組成物を用いて選択反射層を形成する方法としては、前記コレステリック液晶組成物を基材フィルム132に塗布して液晶層を得、次いで少なくとも1回の、光照射及び/又は加温処理により硬化する方法が挙げられる。   In the present invention, as a method of forming the selective reflection layer using the cholesteric liquid crystal composition, the cholesteric liquid crystal composition is applied to the base film 132 to obtain a liquid crystal layer, and then at least one time of light irradiation and And / or a method of curing by heating treatment.

基材フィルム132の材質は特に限定されず1mm厚で全光透過率80%以上の基材を使用することができる。具体的には、脂環式オレフィンポリマー、ポリエチレンやポリプロピレンなどの鎖状オレフィンポリマー、トリアセチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアリレート、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、変性アクリルポリマー、エポキシ樹脂、ポリスチレン、アクリル樹脂などの合成樹脂からなる単層又は積層のフィルムが挙げられる。これらの中でも、脂環式オレフィンポリマー又は鎖状オレフィンポリマーが好ましく、透明性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などの観点から、脂環式オレフィンポリマーが特に好ましい。   The material of the substrate film 132 is not particularly limited, and a substrate having a thickness of 1 mm and a total light transmittance of 80% or more can be used. Specifically, alicyclic olefin polymers, chain olefin polymers such as polyethylene and polypropylene, triacetyl cellulose, polyvinyl alcohol, polyimide, polyarylate, polyester, polycarbonate, polysulfone, polyethersulfone, modified acrylic polymer, epoxy resin, Examples thereof include a single layer or laminated film made of a synthetic resin such as polystyrene or acrylic resin. Among these, an alicyclic olefin polymer or a chain olefin polymer is preferable, and an alicyclic olefin polymer is particularly preferable from the viewpoint of transparency, low hygroscopicity, dimensional stability, lightness, and the like.

前記基材フィルムは、必要に応じて、配向膜を有することができる。配向膜を有することにより、その上に塗布されたコレステリック液晶組成物を所望の方向に配向させることができる。配向膜は、基材表面上に、必要に応じてコロナ放電処理等を施した後、セルロース、シランカップリング剤、ポリイミド、ポリアミド、ポリビニルアルコール、エポキシアクリレート、シラノールオリゴマー、ポリアクリロニトリル、フェノール樹脂、ポリオキサゾール、環化ポリイソプレンなどを水又は溶剤に溶解させた溶液等を、リバースグラビアコーティング、ダイレクトグラビアコーティング、ダイコーティング、バーコーティング等の公知の方法を用いて塗布し、乾燥させ、その後乾燥塗膜にラビング処理を施すことにより形成することができる。配向膜の厚さは、所望する液晶層の配向均一性が得られる膜厚であればよく、0.001〜5μmであることが好ましく、0.01〜2μmであることがさらに好ましい。   The said base film can have an orientation film as needed. By having the alignment film, the cholesteric liquid crystal composition applied thereon can be aligned in a desired direction. The alignment film is subjected to corona discharge treatment, if necessary, on the substrate surface, followed by cellulose, silane coupling agent, polyimide, polyamide, polyvinyl alcohol, epoxy acrylate, silanol oligomer, polyacrylonitrile, phenol resin, poly A solution in which oxazole, cyclized polyisoprene or the like is dissolved in water or a solvent is applied using a known method such as reverse gravure coating, direct gravure coating, die coating, bar coating, and the like, and then dried. It can be formed by subjecting to rubbing treatment. The thickness of the alignment film may be any film thickness that provides the desired alignment uniformity of the liquid crystal layer, and is preferably 0.001 to 5 μm, and more preferably 0.01 to 2 μm.

前記基材フィルムへの液晶組成物の塗布は、リバースグラビアコーティング、ダイレクトグラビアコーティング、ダイコーティング、バーコーティング等の公知の方法により行うことができる。液晶組成物の塗布層の厚さは、後述する所望の液晶層乾燥膜厚が得られるよう、適宜調整することができる。   Application | coating of the liquid-crystal composition to the said base film can be performed by well-known methods, such as reverse gravure coating, direct gravure coating, die coating, and bar coating. The thickness of the coating layer of the liquid crystal composition can be appropriately adjusted so that a desired liquid crystal layer dry film thickness described later can be obtained.

前記塗布により得られた塗布層を硬化する前に、必要に応じて、配向処理を施すことができる。配向処理は、例えば塗布層を50〜150℃で0.5〜10分間加温することにより行うことができる。当該配向処理を施すことにより、コレステリック液晶層を良好に配向させることができる。   Before curing the coating layer obtained by the coating, an orientation treatment can be performed as necessary. The alignment treatment can be performed, for example, by heating the coating layer at 50 to 150 ° C. for 0.5 to 10 minutes. By performing the alignment treatment, the cholesteric liquid crystal layer can be aligned well.

必要に応じて配向処理を施した後、コレステリック液晶組成物を硬化させることにより、コレステリック液晶組成物の硬化物である硬化液晶層を得ることができる。前記硬化の工程は、1回以上の光照射と加温処理との組み合わせにより行うことができる。加温条件は、具体的には例えば、温度40〜200℃、好ましくは50〜200℃、さらに好ましくは50〜140℃、時間は1秒〜3分、好ましくは5〜120秒とすることができる。本発明において光照射に用いる光とは、可視光のみならず紫外線及びその他の電磁波をも含む。光照射は、具体的には例えば波長200〜500nmの光を0.01秒〜3分照射することにより行うことができる。また、例えば0.01〜50mJ/cm2の微弱な紫外線照射と加温とを複数回交互に繰り返し、反射帯域の広い円偏光分離シートとすることもできる。上記の微弱な紫外線照射等による反射帯域の拡張を行った後に、50〜10,000mJ/cm2といった比較的強い紫外線を照射し、液晶性化合物を完全に重合させ、硬化液晶層とすることができる。上記の反射帯域の拡張及び強い紫外線の照射は、空気下で行ってもよく、又はその工程の一部又は全部を、酸素濃度を制御した雰囲気(例えば、窒素雰囲気下)中で行うこともできる。 A cured liquid crystal layer that is a cured product of the cholesteric liquid crystal composition can be obtained by curing the cholesteric liquid crystal composition after performing an alignment treatment as necessary. The curing step can be performed by a combination of one or more light irradiations and a heating treatment. Specifically, the heating conditions are, for example, a temperature of 40 to 200 ° C., preferably 50 to 200 ° C., more preferably 50 to 140 ° C., and a time of 1 second to 3 minutes, preferably 5 to 120 seconds. it can. The light used for light irradiation in the present invention includes not only visible light but also ultraviolet rays and other electromagnetic waves. Specifically, the light irradiation can be performed by, for example, irradiating light having a wavelength of 200 to 500 nm for 0.01 second to 3 minutes. Further, for example, a weakly irradiated ultraviolet ray of 0.01 to 50 mJ / cm 2 and heating may be alternately repeated several times to obtain a circularly polarized light separating sheet having a wide reflection band. After extending the reflection band by the above-mentioned weak ultraviolet irradiation, etc., a relatively strong ultraviolet ray of 50 to 10,000 mJ / cm 2 is irradiated to completely polymerize the liquid crystalline compound to form a cured liquid crystal layer. it can. The expansion of the reflection band and the irradiation with strong ultraviolet rays may be performed in the air, or a part or all of the process may be performed in an atmosphere in which the oxygen concentration is controlled (for example, in a nitrogen atmosphere). .

本発明において、透明樹脂基材上へのコレステリック液晶組成物の塗布及び硬化の工程は、1回に限られず、塗布及び硬化を複数回繰り返し2層以上の硬化液晶層を形成することもできる。   In the present invention, the step of applying and curing the cholesteric liquid crystal composition on the transparent resin substrate is not limited to one time, and two or more cured liquid crystal layers can be formed by repeating the application and curing a plurality of times.

前記選択反射層において、硬化液晶層の乾燥膜厚は好ましくは0.5μm〜10.0μm、より好ましくは1.0μm〜5.0μmとすることができる。前記硬化液晶層の乾燥膜厚が0.5μmより薄いと反射率が低下してしまい、逆に10.0μmより厚いと、硬化液晶層に対して斜め方向から観察した時に着色してしまうため、それぞれ好ましくない。なお、前記乾燥膜厚は、硬化液晶層が2以上の層である場合は、各層の膜厚の合計を、硬化液晶層が1層である場合にはその膜厚をさす。   In the selective reflection layer, a dry film thickness of the cured liquid crystal layer is preferably 0.5 μm to 10.0 μm, more preferably 1.0 μm to 5.0 μm. If the dried film thickness of the cured liquid crystal layer is thinner than 0.5 μm, the reflectivity decreases, and conversely if it is thicker than 10.0 μm, the cured liquid crystal layer is colored when observed from an oblique direction, Each is not preferred. The dry film thickness refers to the total film thickness of each layer when the cured liquid crystal layer is two or more layers, and the film thickness when the cured liquid crystal layer is one layer.

上記の工程によって、基材フィルム132及びその上に設けられた選択反射層131を有する積層構造が得られる。これを、基板101上に貼付することにより、図1に示す基板101、選択反射層131及び基材フィルム132の構造を得ることができる。好ましくは、基板101の一面に透明電極111、発光層121及び反射電極112等からなる発光素子120を設けた後、基板101の反対側の面に基材フィルム132及び選択反射層131を有する積層体を貼付することができる。   By the above process, a laminated structure having the base film 132 and the selective reflection layer 131 provided thereon is obtained. By sticking this on the substrate 101, the structure of the substrate 101, the selective reflection layer 131 and the base film 132 shown in FIG. 1 can be obtained. Preferably, the light-emitting element 120 including the transparent electrode 111, the light-emitting layer 121, the reflective electrode 112, and the like is provided on one surface of the substrate 101, and then the base film 132 and the selective reflection layer 131 are provided on the opposite surface of the substrate 101. The body can be affixed.

(第2実施形態)
図8は、本発明の有機EL光源装置の第2の実施形態の層構成を示す断面図である。図8において、装置800は、基板101と選択反射層131との間に、拡散層841を有する点で、第1の実施形態と異なっている。
(Second Embodiment)
FIG. 8 is a cross-sectional view showing the layer configuration of the second embodiment of the organic EL light source device of the present invention. In FIG. 8, an apparatus 800 is different from the first embodiment in that a diffusion layer 841 is provided between the substrate 101 and the selective reflection layer 131.

かかる拡散層841としては:
拡散層(イ):バインダーとしての樹脂にフィラーとしての粒子を分散させたもの、及び
拡散層(ロ):微細な凹凸を有するフィルム
等を用いることができる。
Such a diffusion layer 841 includes:
Diffusion layer (b): a resin in which particles as fillers are dispersed in a resin as a binder, and diffusion layer (b): a film having fine irregularities can be used.

(拡散層(イ))
拡散層として、前記拡散層(イ)(バインダー及びフィラーからなる拡散層)を用いる場合において、バインダーの樹脂としては、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン、プロピレン−エチレン共重合体、ポリスチレン、芳香族ビニル系単量体と低級アルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルとの共重合体、ポリエチレンテレフタレート、テレフタル酸−エチレングリコール−シクロヘキサンジメタノール共重合体、ポリカーボネート、脂環式構造を有する樹脂等を用いることができる。
(Diffusion layer (I))
In the case of using the diffusion layer (a) (a diffusion layer composed of a binder and a filler) as the diffusion layer, the binder resin includes an epoxy resin, a silicone resin, an acrylic resin, polyethylene, a propylene-ethylene copolymer, polystyrene, Copolymer of aromatic vinyl monomer and (meth) acrylic acid alkyl ester having lower alkyl group, polyethylene terephthalate, terephthalic acid-ethylene glycol-cyclohexanedimethanol copolymer, polycarbonate, alicyclic structure Resin or the like can be used.

前記フィラーの材料は特に限定されず、無機、および有機のフィラーを適宜選択して用いることができる。
無機フィラーとしては、ガラス、酸化ケイ素、水酸化アルミニウム、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸バリウム、マグネシウムシリケート等からなるもの;有機フィラーとしては、フッ素樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、ポリエチレン樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アクリロニトリル、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリアミド、ポリシロキサン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、またはこれらの架橋物等からなるものが挙げられる。
The filler material is not particularly limited, and inorganic and organic fillers can be appropriately selected and used.
Inorganic fillers include glass, silicon oxide, aluminum hydroxide, aluminum oxide, titanium oxide, zinc oxide, barium sulfate, magnesium silicate, etc .; organic fillers include fluororesin, polystyrene resin, acrylic resin, polycarbonate resin, Examples thereof include silicone resin, polyethylene resin, ethylene-vinyl acetate copolymer, acrylonitrile, polyurethane, polyvinyl chloride, polyacrylonitrile, polyamide, polysiloxane resin, melamine resin, benzoguanamine resin, or a cross-linked product thereof.

フィラーの形状としては、特に限定されず、球状、楕円体状、立方体状、針状、棒状、紡錘形状、板状、鱗片状、繊維状などが挙げられるが、中でも光の拡散方向を等方的にできる点で球状、もしくは球状に近い楕円体状が好ましい。   The shape of the filler is not particularly limited, and examples thereof include a spherical shape, an ellipsoidal shape, a cubic shape, a needle shape, a rod shape, a spindle shape, a plate shape, a scale shape, and a fiber shape. Spherical or nearly ellipsoidal shape is preferable in that it can be achieved.

フィラーの大きさは、好ましくは直径0.2μm〜50μm、より好ましくは0.5μm〜10μmである。尚、ここでいう直径は、完全な球状ではない場合は、同一体積の球の直径で代用される。針状のような一方向に著しく寸法の異なるフィラーの場合は、その方向に垂直な断面の断面積と同一面積の円の直径で代用する。   The size of the filler is preferably 0.2 μm to 50 μm in diameter, more preferably 0.5 μm to 10 μm. In addition, when the diameter here is not a perfect sphere, the diameter of the sphere of the same volume is substituted. In the case of a filler having a significantly different size in one direction such as a needle shape, a diameter of a circle having the same area as the cross-sectional area of the cross section perpendicular to the direction is substituted.

フィラーの屈折率は、バインダー樹脂の屈折率と異なることが好ましく、屈折率差が0.05以上であることがより好ましい。   The refractive index of the filler is preferably different from the refractive index of the binder resin, and the refractive index difference is more preferably 0.05 or more.

フィラーは、単独の素材、大きさ、屈折率等の性質ものを用いてもよく、また、2種類以上のフィラーを混合して用いても良い。また、フィラーとして2種類以上の素材からなるものを用いてもよい。   The filler may be a single material, size, refractive index or other properties, or a mixture of two or more fillers. Moreover, you may use what consists of 2 or more types of raw materials as a filler.

バインダー及びフィラーからなる拡散層におけるフィラーの含有量は、バインダー100重量部に対して、好ましくは0.1〜20重量部、より好ましくは1〜10重量部である。   The content of the filler in the diffusion layer composed of the binder and the filler is preferably 0.1 to 20 parts by weight, more preferably 1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder.

拡散層(イ)に含まれるフィラーの平均粒径dと、拡散層の厚みlの比は、好ましくは0.05≦d/l≦0.6、特に好ましくは、0.07≦d/l≦0.3である。0.05未満であると、フィラーの粒径が小さすぎるか、層の膜厚が厚すぎるため、前者であれば必要な散乱特性が得られないおそれが、後者では拡散層が不要な位相差を発生させるおそれがあり、0.6を超えると、拡散層と他の層との接着力が不足し拡散層が剥離するおそれがある。拡散層(イ)の厚さは 0.02〜3.0mmとすることができる。   The ratio between the average particle diameter d of the filler contained in the diffusion layer (a) and the thickness l of the diffusion layer is preferably 0.05 ≦ d / l ≦ 0.6, particularly preferably 0.07 ≦ d / l. ≦ 0.3. If it is less than 0.05, the particle size of the filler is too small or the layer thickness is too thick, so that the required scattering characteristics may not be obtained if the former, but the latter does not require a diffusion layer. If it exceeds 0.6, the adhesive force between the diffusion layer and other layers may be insufficient, and the diffusion layer may peel off. The thickness of the diffusion layer (A) can be 0.02 to 3.0 mm.

(拡散層(ロ))
一方、拡散層として、前記拡散層(ロ)(微細な凹凸を有するフィルム)を用いる場合において、かかるフィルムは、拡散層フィルム基材の一方の表面に薄膜を成膜して積層体を得る工程と、前記積層体を面内の少なくとも一つの軸方向に収縮させて前記薄膜を褶曲させる工程とを含む製造方法を用いて製造することが出来る。
(Diffusion layer (b))
On the other hand, in the case where the diffusion layer (b) (a film having fine irregularities) is used as the diffusion layer, the film is a step of obtaining a laminate by forming a thin film on one surface of the diffusion layer film substrate. And a step of shrinking the laminated body in at least one axial direction to bend the thin film.

(拡散層(ロ):拡散層フィルム基材)
拡散層の製造に用いる拡散層フィルム基材は、薄膜を積層させた後に、面内の少なくとも一つの軸方向に収縮させることができるものであれば特に限定されない。例えば、拡散層フィルム基材自身が加熱等の手段によって収縮するものであってもよいし、一軸延伸させたときに延伸方向に直交する方向に収縮するものであっても良い。
(Diffusion layer (b): Diffusion layer film substrate)
The diffusion layer film substrate used for the production of the diffusion layer is not particularly limited as long as it can be contracted in at least one axial direction in the plane after the thin films are laminated. For example, the diffusion layer film substrate itself may be shrunk by a means such as heating, or may be shrunk in a direction orthogonal to the stretching direction when uniaxially stretched.

拡散層フィルム基材の収縮前の平均厚さは、ハンドリングの観点から通常5〜1000μm、好ましくは20〜200μmである。   The average thickness before shrinkage of the diffusion layer film substrate is usually 5 to 1000 μm, preferably 20 to 200 μm from the viewpoint of handling.

拡散層フィルム基材は、通常、樹脂や、ゴムもしくはエラストマーで形成されている。樹脂としては、スチレン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、有機酸ビニルエステル樹脂、ビニルエーテル樹脂、ハロゲン含有樹脂、オレフィン樹脂、脂環式構造を有する樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹脂、ポリスルホン樹脂(例えば、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン等)、ポリフェニレンエーテル樹脂(例えば、2,6−キシレノールの重合体等)、セルロース誘導体(例えば、セルロースエステル類、セルロースカーバメートル類、セルロースエーテル類等)、シリコーン樹脂(例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン等)などが挙げられる。   The diffusion layer film substrate is usually made of resin, rubber or elastomer. As the resin, styrene resin, acrylic resin, methacrylic resin, organic acid vinyl ester resin, vinyl ether resin, halogen-containing resin, olefin resin, resin having alicyclic structure, polycarbonate resin, polyester resin, polyamide resin, thermoplastic polyurethane resin , Polysulfone resins (eg, polyethersulfone, polysulfone, etc.), polyphenylene ether resins (eg, polymers of 2,6-xylenol), cellulose derivatives (eg, cellulose esters, cellulose carbameters, cellulose ethers, etc.) And silicone resins (for example, polydimethylsiloxane, polymethylphenylsiloxane, etc.).

なお、脂環式構造を有する樹脂としては、前述したものと同様のものを挙げることができるが、例えば、特開平05−310845号公報や米国特許第5179171号公報に記載されている環状オレフィンランダム共重合体、特開平05−97978号公報や米国特許第5202388号公報に記載されている水素添加重合体、特開平11−124429号公報や国際公開99/20676号に記載されている熱可塑性ジシクロペンタジエン系開環重合体及びその水素添加物などが挙げられる。   Examples of the resin having an alicyclic structure include the same ones as described above. For example, a cyclic olefin random described in JP-A No. 05-310845 and US Pat. No. 5,179,171. Copolymers, hydrogenated polymers described in JP-A-05-97978 and US Pat. No. 5,202,388, thermoplastic dithers described in JP-A-11-124429 and WO99 / 20676 And cyclopentadiene ring-opening polymers and hydrogenated products thereof.

またゴムもしくはエラストマーとしては、ポリブタジエン、ポリイソプレンなどのジエンゴム、スチレン−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴムなどが挙げられる。拡散層フィルム基材の材料は、これらのうち、製造が容易な点から熱可塑性樹脂が好ましい。   Examples of rubber or elastomer include diene rubber such as polybutadiene and polyisoprene, styrene-butadiene copolymer, acrylonitrile-butadiene copolymer, acrylic rubber, urethane rubber, and silicone rubber. Among these, the material of the diffusion layer film base material is preferably a thermoplastic resin from the viewpoint of easy production.

拡散層フィルム基材を構成する熱可塑性樹脂は、特に限定されないが、加工の容易さの観点からガラス転移温度が60〜200℃であるものが好ましく、100〜180℃であるものがより好ましい。なお、ガラス転移温度は示差走査熱量分析(DSC)により測定することができる。   The thermoplastic resin constituting the diffusion layer film substrate is not particularly limited, but preferably has a glass transition temperature of 60 to 200 ° C, more preferably 100 to 180 ° C from the viewpoint of ease of processing. The glass transition temperature can be measured by differential scanning calorimetry (DSC).

また、拡散層フィルム基材を構成する熱可塑性樹脂は、ポリスチレン換算の重量平均分子量が、好ましくは5,000〜500,000、より好ましくは8,000〜200,000、特に好ましくは10,000〜100,000である。重量平均分子量がこの範囲にあることにより成形加工性が良好となり、機械的強度を向上させることが出来る。この重量平均分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーにより測定することができる。   The thermoplastic resin constituting the diffusion layer film substrate preferably has a polystyrene equivalent weight average molecular weight of 5,000 to 500,000, more preferably 8,000 to 200,000, and particularly preferably 10,000. ~ 100,000. When the weight average molecular weight is within this range, molding processability is improved and mechanical strength can be improved. This weight average molecular weight can be measured by gel permeation chromatography.

拡散層フィルム基材を構成する樹脂や、ゴムもしくはエラストマーは、顔料や染料の如き着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤、塩素捕捉剤、難燃剤、結晶化核剤、ブロッキング防止剤、防曇剤、離型剤、有機又は無機の充填剤、中和剤、滑剤、分解剤、金属不活性化剤、汚染防止剤、抗菌剤、拡散粒子、熱可塑性エラストマーその他の配合剤が適宜配合されたものであっても良い。   Resin, rubber or elastomer constituting the diffusion layer film base is a colorant such as pigment or dye, fluorescent whitening agent, dispersant, thermal stabilizer, light stabilizer, ultraviolet absorber, antistatic agent, antioxidant Agent, chlorine scavenger, flame retardant, crystallization nucleating agent, antiblocking agent, antifogging agent, mold release agent, organic or inorganic filler, neutralizing agent, lubricant, decomposition agent, metal deactivator, contamination prevention Agents, antibacterial agents, diffusing particles, thermoplastic elastomers and other compounding agents may be appropriately blended.

拡散層フィルム基材は、その製法によって特に制限されない。拡散層フィルム基材の原反は、前述の樹脂等を公知のフィルム成形法で形成することなどによって得られる。拡散層フィルム成形法としては、キャスト成形法、押出成形法、インフレーション成形法などが挙げられる。   The diffusion layer film substrate is not particularly limited by the production method. The raw material of the diffusion layer film substrate can be obtained by forming the above-described resin or the like by a known film forming method. Examples of the diffusion layer film forming method include a cast forming method, an extrusion forming method, and an inflation forming method.

加熱等の手段によってそれ自身が収縮する拡散層フィルム基材は、通常、面内で分子配向していることが好ましい。本来、分子は原子間結合角に応じた低いエネルギー配置状態になろうとする。分子が面内で規則的に並んだ状態は分子の結合状態に歪を含んでおり、高エネルギーの配置状態といえる。この高エネルギーの配置状態になっている拡散層フィルム基材を加熱などしたときに、分子が低エネルギーの配置状態に戻ろうとし、拡散層フィルム基材全体が収縮するのである。分子配向の状態は、公知の方法で測定することが出来、例えば、自動複屈折計KOBRA21ADHを用いて測定することもできる。   In general, the diffusion layer film base material that shrinks itself by means of heating or the like is preferably molecularly oriented in the plane. Originally, a molecule tends to be in a low energy arrangement state corresponding to an interatomic bond angle. The state in which molecules are regularly arranged in a plane includes distortion in the bonding state of the molecules, and can be said to be a high energy arrangement state. When the diffusion layer film base material in the high energy arrangement state is heated, the molecules try to return to the low energy arrangement state, and the entire diffusion layer film base material contracts. The state of molecular orientation can be measured by a known method, for example, using an automatic birefringence meter KOBRA21ADH.

加熱等の手段によってそれ自身が収縮する拡散層フィルム基材は、例えば、前述の樹脂等を公知の成形法で原反フィルムに形成し、該原反フィルムを延伸することによって得ることができる。また、延伸処理の代わりに、磁場や電場をかけて又はラビング処理して分子を配向させ収縮性を示すフィルム基材とすることができる。ゴム又はエラストマーを公知の成形法で弾性フィルムに形成し、該弾性フィルムを面内方向に引っ張った状態にすることで、弾性による復元力を利用した収縮性を示すフィルム基材とすることが出来る。さらに硬化性樹脂からなるフィルムをあらかじめ溶剤などで膨潤させ、該膨潤フィルムが乾燥するときに生じる収縮を利用してフィルム基材とすることができる。これらのうち、原反フィルムを延伸することによって得られる収縮性を示すフィルム基材が好ましい。   The diffusion layer film base material that itself shrinks by means of heating or the like can be obtained, for example, by forming the above-described resin or the like on a raw film by a known molding method and stretching the raw film. Moreover, it can be set as the film base material which orients a molecule | numerator by applying a magnetic field, an electric field, or a rubbing process instead of an extending | stretching process, and shows a contractility. By forming rubber or elastomer on an elastic film by a known molding method and pulling the elastic film in the in-plane direction, it is possible to obtain a film base material that exhibits shrinkage utilizing resilience due to elasticity. . Furthermore, a film made of a curable resin can be swollen with a solvent or the like in advance, and a film substrate can be formed by utilizing the shrinkage that occurs when the swollen film dries. Among these, the film base material which shows the contractility obtained by extending | stretching a raw film is preferable.

原反フィルムを延伸することによって得られる収縮性を示す拡散層フィルム基材は、その延伸方法によって特に制限されず、一軸延伸法、二軸延伸法のいずれで延伸したものであっても良い。二軸延伸の場合は、通常、フィルム面内の二つの方向に収縮することになる。延伸処理する方法としては、ロール側の周速の差を利用して縦方向に一軸延伸する方法;テンター延伸機を用いて横方向に一軸延伸する方法等の一軸延伸法;固定するクリップの間隔を開いての縦方向の延伸と同時に、ガイドレールの広がり角度により横方向に延伸する同時二軸延伸法や、ロール間の周速の差を利用して縦方向に延伸した後、その両端部をクリップ把持してテンター延伸機を用いて横方向に延伸する逐次二軸延伸法等の二軸延伸法;などが挙げられる。   The diffusion layer film base material exhibiting shrinkage obtained by stretching the raw film is not particularly limited by the stretching method, and may be stretched by either a uniaxial stretching method or a biaxial stretching method. In the case of biaxial stretching, it usually shrinks in two directions within the film plane. Stretching methods include a method of uniaxial stretching in the longitudinal direction using the difference in peripheral speed on the roll side; a uniaxial stretching method such as a method of uniaxial stretching in the transverse direction using a tenter stretching machine; At the same time as stretching in the longitudinal direction using the guide rail, the biaxial stretching method that stretches in the transverse direction depending on the spread angle of the guide rail, and the longitudinal direction using the difference in the peripheral speed between the rolls, and both ends thereof And a biaxial stretching method such as a sequential biaxial stretching method in which the film is gripped and stretched in the transverse direction using a tenter stretching machine.

主たる収縮方向の収縮率が大幅に高くなると、主たる収縮方向に直交する方向に伸びが生じることがあり、その伸びによって凹凸形状に亀裂が生じることがある。この収縮時の亀裂発生を抑制することができるという観点から、(i)延伸時の縦方向の収縮を好ましくは20%以下、より好ましくは15%以下に抑えて横方向に一軸延伸する(横一軸延伸法)か、(II)縦方向および横方向に二軸延伸する(二軸延伸法)ことが好ましい。   When the shrinkage rate in the main shrinkage direction is significantly increased, elongation may occur in a direction perpendicular to the main shrinkage direction, and the elongation may cause cracks in the uneven shape. From the viewpoint of suppressing the occurrence of cracks during shrinkage, (i) uniaxially stretching in the transverse direction is preferably performed with the longitudinal shrinkage during stretching preferably controlled to 20% or less, more preferably 15% or less (transverse) Uniaxial stretching method) or (II) biaxial stretching in the longitudinal and lateral directions (biaxial stretching method) is preferred.

延伸に用いる装置として、例えば、縦一軸延伸機、テンター延伸機、バブル延伸機、ローラ延伸機などが挙げられる。   Examples of the apparatus used for stretching include a longitudinal uniaxial stretching machine, a tenter stretching machine, a bubble stretching machine, and a roller stretching machine.

延伸時の温度は、拡散層フィルム基材を構成する材料のガラス転移温度をTgとしたときに、好ましくは(Tg−30℃)と(Tg+60℃)の間、より好ましくは(Tg−10℃)と(Tg+50℃)の間の温度から選択される。延伸倍率は、使用するフィルムの引っ張り特性に応じて、所望する凹凸の寸法になるように適宜選択すればよい。   The temperature during stretching is preferably between (Tg-30 ° C) and (Tg + 60 ° C), more preferably (Tg-10 ° C), where Tg is the glass transition temperature of the material constituting the diffusion layer film substrate. ) And (Tg + 50 ° C.). What is necessary is just to select a draw ratio suitably so that it may become the dimension of the unevenness | corrugation desired according to the tension | pulling characteristic of the film to be used.

高い凹凸を得たい場合には、薄膜の膜質や厚さにもよるが、概ね延伸倍率を高く設定する。低い凹凸を得たい場合には、延伸倍率を低く設定する。例えば、主たる延伸方向の延伸倍率は、通常1.01〜30倍であり、好ましくは1.01〜10倍、より好ましくは1.05〜5倍である。前記延伸倍率が1.01倍より小さい場合には、凹凸形状が発生しないおそれがあり、30倍より大きい場合には、フィルム強度が低下するおそれがある。このため、延伸倍率は、前記好適な範囲とすることができる。   When it is desired to obtain high irregularities, the stretch ratio is generally set high although it depends on the film quality and thickness of the thin film. In order to obtain low unevenness, the draw ratio is set low. For example, the draw ratio in the main drawing direction is usually 1.01 to 30 times, preferably 1.01 to 10 times, and more preferably 1.05 to 5 times. When the draw ratio is less than 1.01, the concavo-convex shape may not occur, and when it is more than 30 times, the film strength may be reduced. For this reason, a draw ratio can be made into the said suitable range.

(拡散層(ロ):薄膜)
前記薄膜の収縮前の平均厚さは、1nm〜50μmであることが好ましい。薄膜の厚さは、透過電子顕微鏡にて、薄膜の垂直断面を写真撮影し、該写真像から厚さの平均値を求める。
(Diffusion layer (b): Thin film)
The average thickness of the thin film before shrinkage is preferably 1 nm to 50 μm. As for the thickness of the thin film, a vertical section of the thin film is photographed with a transmission electron microscope, and an average value of the thickness is obtained from the photograph image.

薄膜としては、無機薄膜及び有機薄膜がある。本発明に用いる無機薄膜は無機物質からなるものである。薄膜を構成する無機物質としては、金属;金属酸化物や金属窒化物などの金属化合物;非金属;非金属酸化物などの非金属化合物などが挙げられ、具体的には、アルミニウム、珪素、マグネシウム、パラジウム、白金、亜鉛、錫、ニッケル、銀、銅、金、アンチモン、イットリウム、インジウム、ステンレス鋼、クロム、チタン、タンタル、ジルコニウム、ニオブ、ランタン、セリウムなどの金属もしくは非金属;またはこれらの酸化物や窒化物;又はそれらの混合物が挙げられる。   Thin films include inorganic thin films and organic thin films. The inorganic thin film used in the present invention is made of an inorganic substance. Examples of the inorganic substance constituting the thin film include metals; metal compounds such as metal oxides and metal nitrides; nonmetals; nonmetal compounds such as nonmetal oxides. Specifically, aluminum, silicon, magnesium Metal, nonmetal such as palladium, platinum, zinc, tin, nickel, silver, copper, gold, antimony, yttrium, indium, stainless steel, chromium, titanium, tantalum, zirconium, niobium, lanthanum, cerium; or their oxidation And nitrides; or mixtures thereof.

無機薄膜の平均厚さは、1nm〜5μmであることが好ましい。1nmより薄すぎると凹凸形状が形成しづらくなり、5μmより厚すぎると収縮時に無機薄膜層にクラックが発生しやすくなる。無機薄膜を用いると、凸部頂点間の平均距離が50nm〜10μmの微細な凹凸形状が容易に得られる。   The average thickness of the inorganic thin film is preferably 1 nm to 5 μm. If the thickness is less than 1 nm, it is difficult to form a concavo-convex shape. If the thickness is more than 5 μm, cracks are likely to occur in the inorganic thin film layer during shrinkage. When an inorganic thin film is used, a fine concavo-convex shape having an average distance between the convex vertices of 50 nm to 10 μm can be easily obtained.

無機薄膜を形成する方法は、特に制限されず、真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング、CVD(化学蒸着)等の蒸着法;スピンコート法、デイツビング法、ロールコート法、スプレー法、ベーパー法、グラビアコータやブレードコータなどのコータ法、スクリーン印刷法、インクジェット法等の塗布法;無電解めっき法、電解めっき法などが挙げられる。   The method for forming the inorganic thin film is not particularly limited, and vapor deposition methods such as vacuum deposition, ion plating, sputtering, CVD (chemical vapor deposition); spin coating method, dating method, roll coating method, spray method, vapor method, gravure Examples thereof include coating methods such as a coater and a blade coater, coating methods such as a screen printing method and an ink jet method; an electroless plating method and an electrolytic plating method.

有機薄膜としては、収縮によって薄膜が褶曲構造をとるものであれば特に制限されない。有機薄膜は、拡散層フィルム基材を収縮させる温度条件下での収縮率が、拡散層フィルム基材の収縮率より小さいものであることが好ましい。有機薄膜の平均厚さは、100nm〜50μmであることが好ましい。100nmより薄すぎると凹凸形状が形成しづらくなり、50μmより厚すぎると凹凸の制御が難しくなるため好ましくない。有機薄膜を用いると、凸部頂点間の平均距離が500nm〜50μmの微細な凹凸形状が容易に得られる。   The organic thin film is not particularly limited as long as the thin film has a curved structure due to shrinkage. The organic thin film preferably has a shrinkage rate under a temperature condition for shrinking the diffusion layer film substrate smaller than that of the diffusion layer film substrate. The average thickness of the organic thin film is preferably 100 nm to 50 μm. If the thickness is less than 100 nm, it is difficult to form the uneven shape, and if it is more than 50 μm, it is difficult to control the unevenness, which is not preferable. When an organic thin film is used, a fine concavo-convex shape having an average distance between vertices of convex portions of 500 nm to 50 μm can be easily obtained.

有機薄膜としては熱可塑性樹脂からなるものと、硬化性樹脂からなるものとが挙げられる。   Examples of the organic thin film include those made of a thermoplastic resin and those made of a curable resin.

熱可塑性樹脂としては、前記拡散層フィルム基材に用いることができるものとして例示したものと同様のものを挙げることができる。また、薄膜は、前記拡散層フィルム基材に用いる樹脂同様に配合剤を含んでいてもよい。   As a thermoplastic resin, the thing similar to what was illustrated as what can be used for the said diffusion layer film base material can be mentioned. Moreover, the thin film may contain the compounding agent like resin used for the said diffusion layer film base material.

熱可塑性樹脂からなる有機薄膜の形成方法としては、(1)拡散層フィルム基材を構成する樹脂と、薄膜を構成する樹脂とを共押出する方法;(2)熱可塑性樹脂を薄膜に成形し、これを拡散層フィルム基材に貼り合わせる方法;(3)拡散層フィルム基材の表面に熱可塑性樹詣を含有する溶液を塗布し乾燥する方法等が挙げられる。   As a method for forming an organic thin film made of a thermoplastic resin, (1) a method of co-extruding a resin constituting a diffusion layer film substrate and a resin constituting a thin film; (2) molding a thermoplastic resin into a thin film (3) A method of applying a solution containing thermoplastic resin on the surface of the diffusion layer film substrate and drying it.

硬化性樹脂としては、熱硬化性のものと、エネルギー線硬化性のものとがある。なお、エネルギー線とは、可視光線、紫外線、電子線などのことをいう。   The curable resin includes a thermosetting resin and an energy beam curable resin. The energy rays refer to visible light, ultraviolet rays, electron beams, and the like.

熱硬化性樹脂の具体例としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。   Specific examples of the thermosetting resin include phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, melamine urea co-condensation resin, silicon resin, Examples thereof include polysiloxane resins.

エネルギー線硬化性樹脂としては特に限定されないが、例えば、ラジカル重合性不飽和基(例えば、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、スチリル基、ビニル基等)および/またはカチオン重合性基(エポキシ基、チオエポキシ基、ビニルオキシ基、オキセタニル基等)の官能基を有する樹脂で、具体的には、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリプタジェン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等が挙げられる。   The energy ray curable resin is not particularly limited. For example, the radical polymerizable unsaturated group (for example, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, vinyloxy group, styryl group, vinyl group, etc.) and / or cationic polymerizable group (epoxy) Group, thioepoxy group, vinyloxy group, oxetanyl group, etc.), specifically, relatively low molecular weight polyester resin, polyether resin, acrylic resin, methacrylic resin, epoxy resin, urethane resin, alkyd Examples thereof include resins, spiroacetal resins, polyptagene resins, polythiol polyene resins, and the like.

エネルギー線として紫外線や可視光線を用いる場合には、硬化性樹脂の中に光重合開始剤、光増感剤などを含ませる。光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン類等が挙げられる。光増感剤としてn−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等が挙げられる。   When ultraviolet rays or visible rays are used as energy rays, a photopolymerization initiator, a photosensitizer, or the like is included in the curable resin. Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, Michler benzoylbenzoate, α-amyloxime ester, tetramethylthiuram monosulfide, thioxanthones, and the like. Examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, and tri-n-butylphosphine.

硬化性樹脂からなる薄膜には、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等の配合剤が含まれていてもよい。   The thin film made of a curable resin may contain compounding agents such as a curing agent such as a crosslinking agent and a polymerization initiator, a polymerization accelerator, a solvent, and a viscosity modifier.

硬化性樹脂からなる有機薄膜の形成方法は、特に限定されない。硬化性樹脂からなる有機薄膜は、例えば、拡散層フィルム基材面に硬化性樹脂の組成物を塗布し、硬化することによって得られる。硬化性樹脂薄膜を形成する際、拡散層フィルム基材のガラス転移温度T1より5℃以上低い温度で熱処理することが望ましい。薄膜形成の際に高い温度がかかると、拡散層フィルム基材がアニールされ、設計どおりに収縮しなくなるおそれがある。有機薄膜としては、微細な凹凸形状の制御が容易な場合があるため、硬化性樹脂薄膜を用いることが好ましい。   The formation method of the organic thin film which consists of curable resin is not specifically limited. The organic thin film which consists of curable resin is obtained by apply | coating the composition of curable resin to the diffusion layer film base-material surface, and hardening, for example. When forming the curable resin thin film, it is desirable to heat-treat at a temperature lower by 5 ° C. or more than the glass transition temperature T1 of the diffusion layer film substrate. If a high temperature is applied during the formation of the thin film, the diffusion layer film substrate is annealed and may not shrink as designed. As the organic thin film, it is preferable to use a curable resin thin film because the fine uneven shape may be easily controlled.

(拡散層(ロ):褶曲誘起構造)
この製造方法においては、拡散層フィルム基材表面に薄膜を形成する前に、薄膜の褶曲を引き起こさせるための構造(褶曲誘起構造)を拡散層フィルム基材の表面に形成すること、または拡散層フィルム基材表面に薄膜を形成した後で且つ該基材を収縮させる前に、該薄膜の褶曲を引き起こさせるための構造(褶曲誘起構造)を薄膜に形成することを含むことが、凹凸形状(条列)の凸部(凸条または凹条)の頂点間の距離の均一性を向上させたい場合には、好ましい。該構造は、基材が収縮したときに薄膜の褶曲を引き起こさせる構造であれば特に限定されず、例えば、ラビング処理やその他の方法で表面に付けた傷、インクジェットプリンターや印刷機等で載せたインク印、エンボス加工やインプリントなどで付与した凹凸などが挙げられる。褶曲誘起構造は一定間隔の位置に形成されることが好ましい。褶曲誘起構造の間隔は、所望する凹凸形状の凸部頂点間の距離とは直接に関係無いので、所望の凹凸形状の凸部頂点間の距離よりも狭くても、広くても良いが、凹凸形状の凸部頂点間の所望距離の0.05倍〜100倍の褶曲誘起構造の間隔にすることが好ましい。
(Diffusion layer (b): fold-induced structure)
In this production method, before forming a thin film on the surface of the diffusion layer film substrate, a structure for causing the bending of the thin film (folding induction structure) is formed on the surface of the diffusion layer film substrate, or the diffusion layer Forming a structure (curvature inducing structure) for causing bending of the thin film on the thin film after forming the thin film on the surface of the film base and before shrinking the base; This is preferable in the case where it is desired to improve the uniformity of the distance between the apexes of the convex portion (strip or ridge). The structure is not particularly limited as long as it causes a bending of the thin film when the base material contracts. For example, the structure is scratched on the surface by rubbing or other methods, and is mounted by an inkjet printer or a printing machine. Examples include irregularities provided by ink stamping, embossing, imprinting, and the like. It is preferable that the bending induction structure is formed at a constant interval. The interval between the fold-inducing structures is not directly related to the distance between the desired convex and concave convex vertices, and may be narrower or wider than the desired convex and concave convex distance. It is preferable that the distance between the bending induction structures is 0.05 to 100 times the desired distance between the convex vertices of the shape.

次に、前記薄膜を表面に形成した拡散層フィルム基材を収縮させ、薄膜を褶曲させる。拡散層フィルム基材を収縮させる方法は、拡散層フィルム基材の種類に応じて適宜選択すればよい。   Next, the diffusion layer film base material on which the thin film is formed is contracted to bend the thin film. The method for shrinking the diffusion layer film substrate may be appropriately selected according to the type of the diffusion layer film substrate.

拡散層フィルム基材の収縮率は、拡散層フィルム基材の収縮によって薄膜が褶曲したときに薄膜等に亀裂などが生じないようにするために、主たる収縮方向の収縮率ΔL、および主たる収縮方向に直交する方向の収縮率ΔMが、式〔7〕および式〔8〕を満たすことが好ましい。
なお、ΔLおよびΔMは式〔5〕および式〔6〕でそれぞれ定義される。
The shrinkage rate of the diffusion layer film base is such that when the thin film is bent due to shrinkage of the diffusion layer film base, the shrinkage ΔL in the main shrinkage direction and the main shrinkage direction in order to prevent the thin film and the like from being cracked. It is preferable that the contraction rate ΔM in the direction orthogonal to the equation [7] and [8].
ΔL and ΔM are defined by equations [5] and [6], respectively.

式〔5〕:ΔL=(L0−L1)/L0×100(L0:主たる収縮方向の収縮前の長さ、L1:主たる収縮方向の収縮後の長さ)
式〔6〕:ΔM=(M0−M1)/M0×100(M0:主たる収縮方向に直交する方向の収縮前の長さ、M1:主たる収縮方向に直交する方向の収縮後の長さ)
式〔7〕:ΔL>0
式〔8〕:−(ΔL×0.3)≦ΔM≦ΔL
微細凹凸形状の異方性を強くしたい場合、すなわち、凹凸形状を面内でストライプ状に細長く伸びた構造にしたい場合には、式〔7〕および式〔9〕を満たすことが好ましい。
Formula [5]: ΔL = (L0−L1) / L0 × 100 (L0: length before contraction in the main contraction direction, L1: length after contraction in the main contraction direction)
Formula [6]: ΔM = (M0−M1) / M0 × 100 (M0: length before contraction in the direction orthogonal to the main contraction direction, M1: length after contraction in the direction orthogonal to the main contraction direction)
Formula [7]: ΔL> 0
Formula [8]: − (ΔL × 0.3) ≦ ΔM ≦ ΔL
When it is desired to increase the anisotropy of the fine concavo-convex shape, that is, when it is desired to make the concavo-convex shape elongated in stripes in the plane, it is preferable to satisfy the equations [7] and [9].

式〔9〕:−(ΔL×0.2)≦ΔM≦(ΔL×0.2)
このように収縮条件を変更するだけで、凸部頂点間距離、凹凸の高さ等を任意に調整できるので条列を有する拡散層の製造に好適である。
Formula [9]: − (ΔL × 0.2) ≦ ΔM ≦ (ΔL × 0.2)
As described above, the distance between the convex vertices, the height of the irregularities, and the like can be arbitrarily adjusted simply by changing the shrinkage conditions, which is suitable for manufacturing a diffusion layer having a row.

なお、主たる収縮方向は、収縮する度合い(収縮率)が最も大きい方向である。例えば、熱可塑性樹脂からなるフィルムを延伸して得られた拡散層フィルム基材は加熱によって収縮する。フィルムの延伸を一軸方向にだけ行った場合には、通常、該延伸方向が主たる収縮方向になる。また二軸方向に延伸を行った場合には、通常、延伸した二つの方向のうち延伸倍率の大きい方向が主たる収縮方向になる。   The main shrinkage direction is the direction in which the degree of shrinkage (shrinkage rate) is the largest. For example, a diffusion layer film substrate obtained by stretching a film made of a thermoplastic resin shrinks by heating. When the film is stretched only in a uniaxial direction, the stretching direction is usually the main shrinking direction. Moreover, when extending | stretching to a biaxial direction, a direction with a large extending | stretching ratio becomes a main shrinking direction among two extended directions normally.

熱可塑性樹脂からなるフィルムを一軸延伸すると、延伸時に延伸方向に直交する方向にフィルムが収縮する。この延伸時の収縮を利用した拡散層フィルム基材では、延伸方向に直交する方向が主たる収縮方向である。なお、主たる収縮方向に直交する方向の収縮率ΔMの値がマイナスのときは、収縮処理においてフィルムが伸びたことを表す。主たる収縮方向にフィルムが収縮したときに、主たる収縮方向に直交する方向の伸びが大きくなりすぎると薄膜に亀裂が生じやすくなる。   When a film made of a thermoplastic resin is uniaxially stretched, the film shrinks in a direction perpendicular to the stretching direction during stretching. In the diffusion layer film substrate using the shrinkage at the time of stretching, the direction perpendicular to the stretching direction is the main shrinking direction. In addition, when the value of the shrinkage rate ΔM in the direction orthogonal to the main shrinkage direction is negative, it indicates that the film has been stretched in the shrinkage treatment. When the film shrinks in the main shrinking direction, if the elongation in the direction perpendicular to the main shrinking direction becomes too large, the thin film tends to crack.

主たる収縮方向に直交する方向の収縮率は、1%〜90%であることが好ましく、1%〜50%であることがより好ましい。   The shrinkage rate in the direction orthogonal to the main shrinkage direction is preferably 1% to 90%, and more preferably 1% to 50%.

拡散層(ロ)の凹凸の高さは、0.3μm以上であることが、良好な拡散及び色味補正の効果が得られるため好ましい。   The height of the unevenness of the diffusion layer (b) is preferably 0.3 μm or more because good diffusion and color correction effects can be obtained.

(第3実施形態及び第4実施形態)
図10及び図11は、本発明の有機EL光源装置の第3の実施形態である有機EL光源装置1100及び第4の実施形態である有機EL光源装置1200の層構成を示す断面図である。
上に述べた第2実施形態の光源装置800では、基板101及び選択反射層131の間に拡散層841を設けたが、第3の実施形態のように、拡散層1141を、光源装置の出光面109上に位置するように構成することもできる。このような装置は、例えば、基板101上に、必要に応じて配向膜(不図示)を設けた後、選択反射層の材料となる前記コレステリック液晶組成物及び拡散層の材料となる前記バインダー及びフィラーの組成物を順次塗布し硬化することによって製造することができる。
また、第4の実施形態のように、基材フィルム1252上に拡散層1241及び選択反射層131を設けた積層物を、接着層1251を介して貼付することにより、これらが装置表面に設けられた有機EL光源装置1200とすることもできる。
(3rd Embodiment and 4th Embodiment)
10 and 11 are cross-sectional views showing the layer structure of an organic EL light source device 1100 that is the third embodiment of the organic EL light source device of the present invention and an organic EL light source device 1200 that is the fourth embodiment.
In the light source device 800 of the second embodiment described above, the diffusion layer 841 is provided between the substrate 101 and the selective reflection layer 131. However, as in the third embodiment, the diffusion layer 1141 is used as the light output of the light source device. It can also be configured to lie on the surface 109. In such an apparatus, for example, an alignment film (not shown) is provided on the substrate 101 as necessary, and then the cholesteric liquid crystal composition as a material of the selective reflection layer and the binder as a material of the diffusion layer and It can be produced by sequentially applying and curing the filler composition.
Further, as in the fourth embodiment, a laminate in which the diffusion layer 1241 and the selective reflection layer 131 are provided on the base film 1252 is pasted via the adhesive layer 1251, so that these are provided on the surface of the apparatus. The organic EL light source device 1200 can also be used.

(第5実施形態)
また、図8を用いて説明すると、本発明の有機EL光源装置の第5の実施形態の層構成は、基板101と選択反射層131との間に、拡散層841に代えて凹凸構造物1361を有している構成であり、この点で図8に示す第2の実施形態と異なっている。
(Fifth embodiment)
8, the layer configuration of the organic EL light source device according to the fifth embodiment of the present invention includes a concavo-convex structure 1361 between the substrate 101 and the selective reflection layer 131 instead of the diffusion layer 841. This point is different from the second embodiment shown in FIG.

ここで、構造物1361の形状は、表面に傾斜角を有する面が2つ以上形成されていれば良く、ウェーブ状、プリズム形状、矩形状、円錐状などが挙げられる。また規則的に配列していても良いし、ランダムな配置であっても良い。   Here, the structure 1361 may have any shape as long as two or more surfaces having an inclination angle are formed on the surface, and examples thereof include a wave shape, a prism shape, a rectangular shape, and a conical shape. Further, they may be regularly arranged or randomly arranged.

本発明の有機EL光源装置の用途は、特に限定されないが、観察角度による色味が少ない利点を生かした、液晶表示装置のバックライト、照明装置などの光源とすることができる。   Although the use of the organic EL light source device of the present invention is not particularly limited, it can be used as a light source for a backlight of a liquid crystal display device, an illumination device, and the like, taking advantage of less tint depending on the viewing angle.

以下、実施例に基づき、本発明についてさらに詳細に説明する。なお、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
<製造例1:円偏光分離シートの調製>
(P1−1:透明樹脂基材フィルムの調製)
脂環式オレフィンポリマーからなるフィルム(株式会社オプテス製、商品名「ゼオノアフィルムZF14−100」)の両面をコロナ放電処理した。5%のポリビニルアルコールの水溶液を当該フィルムの片面に♯2のワイヤーバーを使用して塗布し、塗膜を乾燥し、膜厚0.1μmの配向膜を形成した。次いで当該配向膜をラビング処理し、配向膜を有する透明樹脂基材フィルムを調製した。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples. In addition, this invention is not limited to the following Example.
<Production Example 1: Preparation of circularly polarized light separating sheet>
(P1-1: Preparation of transparent resin base film)
Both surfaces of a film made of an alicyclic olefin polymer (trade name “ZEONOR FILM ZF14-100” manufactured by Optes Co., Ltd.) were subjected to corona discharge treatment. An aqueous solution of 5% polyvinyl alcohol was applied to one side of the film using a # 2 wire bar, and the coating film was dried to form an alignment film having a thickness of 0.1 μm. Next, the alignment film was rubbed to prepare a transparent resin substrate film having the alignment film.

(P1−2:硬化液晶層の形成)
下記の組成で、硬化液晶層を構成するためのコレステリック液晶組成物を調製した。
固形分率40重量%
液晶性化合物(Δn(ne−no)=0.13を有する棒状液晶化合物 95.70重量部
光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製 商品名IRG907)3.1重量部
界面活性剤(セイミケミカル株式会社製、商品名KH−40)0.11重量部
カイラル剤(BASF社製、商品名LC756)4.30重量部
溶媒 メチルエチルケトン 154.82重量部
(P1-2: Formation of cured liquid crystal layer)
A cholesteric liquid crystal composition for constituting a cured liquid crystal layer was prepared with the following composition.
Solid content 40% by weight
Liquid crystalline compound (Δn (ne-no) = 0.13 rod-like liquid crystal compound 95.70 parts by weight Photopolymerization initiator (trade name IRG907 manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 3.1 parts by weight Surfactant (Seimi Chemical Co., Ltd., trade name KH-40) 0.11 parts by weight Chiral agent (BASF, trade name LC756) 4.30 parts by weight Solvent Methyl ethyl ketone 154.82 parts by weight

このコレステリック液晶組成物を♯4のワイヤーバーを使用して、上記(P1−1)で調製した配向膜を有する透明樹脂基材フィルムの、配向膜を有する面に塗布した。塗膜を100℃で5分間乾燥及び配向熟成した。塗膜にさらに紫外線を1.0mJ/cm(UV−A:365nm±5nm)を照射し、100℃で1分間保持し、次いで紫外線を500mJ/cm2照射して塗膜を硬化させて、基材フィルム132上に、配向膜を介し乾燥膜厚2μmの選択反射層131が設けられた円偏光分離シートを作製した。得られた円偏光分離シートの反射スペクトルを分光光度計(日本分光社製JASCO V−550)を用いて測定したところ、図2、図6及び図7に示す通りの選択反射測定を有していた。 This cholesteric liquid crystal composition was applied to the surface having the alignment film of the transparent resin substrate film having the alignment film prepared in (P1-1) using a # 4 wire bar. The coating film was dried at 100 ° C. for 5 minutes and subjected to orientation aging. The coating film was further irradiated with ultraviolet rays of 1.0 mJ / cm 2 (UV-A: 365 nm ± 5 nm), held at 100 ° C. for 1 minute, and then irradiated with ultraviolet rays of 500 mJ / cm 2 to cure the coating film, A circularly polarized light separating sheet in which a selective reflection layer 131 having a dry film thickness of 2 μm was provided on a base film 132 through an alignment film was produced. When the reflection spectrum of the obtained circularly polarized light separating sheet was measured using a spectrophotometer (JASCO V-550 manufactured by JASCO Corporation), it had selective reflection measurement as shown in FIG. 2, FIG. 6 and FIG. It was.

<実施例1>
図1に示す、本発明の第1実施形態の構成を有する有機EL光源装置を製造した。
<Example 1>
An organic EL light source device having the configuration of the first embodiment of the present invention shown in FIG. 1 was manufactured.

(1−1:発光素子の調製)
厚さ1.1mmのガラス製の基板101の一方の面上に、透明電極111、有機発光層121及び反射電極112を含む有機EL発光素子を設けた。
(1-1: Preparation of light-emitting element)
On one surface of a glass substrate 101 having a thickness of 1.1 mm, an organic EL light emitting element including the transparent electrode 111, the organic light emitting layer 121, and the reflective electrode 112 was provided.

この段階で、有機EL発光素子に電流を通電し、基板101から出光する波長480nmの青色光及び波長575nmの黄色光についての配光分布を測定したところ、図4に示す結果を得た。   At this stage, a current was applied to the organic EL light emitting device, and the light distribution of blue light having a wavelength of 480 nm and yellow light having a wavelength of 575 nm emitted from the substrate 101 was measured. The result shown in FIG. 4 was obtained.

(1−2:有機EL光源装置の製造)
さらに、基板101の他の面上に、製造例1で得た円偏光分離シートを、選択反射層131が基板101に面するよう貼付し、図1に示す構成を有する有機EL光源装置を製造した。得られた有機EL発光素子に電流を通電し、出光面109から出光する波長480nmの青色光及び波長575nmの黄色光についての配光分布を測定したところ、図5に示す結果を得た。
(1-2: Manufacture of organic EL light source device)
Further, the circularly polarized light separating sheet obtained in Production Example 1 is pasted on the other surface of the substrate 101 so that the selective reflection layer 131 faces the substrate 101, and the organic EL light source device having the configuration shown in FIG. 1 is manufactured. did. When a current was passed through the obtained organic EL light emitting device and the light distribution of blue light having a wavelength of 480 nm and yellow light having a wavelength of 575 nm emitted from the light exit surface 109 was measured, the results shown in FIG. 5 were obtained.

図4及び図5の結果の対比から明らかな通り、発光素子に加えて円偏光分離シートを備える本発明の有機EL光源装置は、円偏光分離シートを設けていない発光素子に比べて、青色光と黄色光の配光分布の差が小さく、観察角度による色味の変化が少ないことが分かる。   4 and 5, the organic EL light source device of the present invention including the circularly polarized light separating sheet in addition to the light emitting element is more blue light than the light emitting element not provided with the circularly polarized light separating sheet. It can be seen that there is a small difference in light distribution between yellow light and yellow light, and there is little change in color depending on the viewing angle.

<実施例2>
図8に示す、本発明の第2実施形態の構成を有する有機EL光源装置を製造した。
<Example 2>
An organic EL light source device having the configuration of the second embodiment of the present invention shown in FIG. 8 was manufactured.

(2−1:拡散剤が分散した樹脂基材の製造))
透明樹脂に脂環式構造を有する樹脂(日本ゼオン(株)、ゼオノア)97重量部と、光拡散剤にポリシロキサン系重合体の架橋物からなる微粒子(GE東芝シリコーン(株)、トスパール120)3重量部とを混合し、2軸押出機で混練してストライド状に押し出し、ペレタイザーで切断して光拡散基材用ペレットを製造した。このペレットから、射出成形機を用いて、両面が平滑な、厚み0.7mmの基材を成形した。
(2-1: Production of resin base material in which diffusing agent is dispersed)
97 parts by weight of a resin having an alicyclic structure in a transparent resin (Nippon ZEON Co., Ltd., ZEONOR) and fine particles comprising a cross-linked product of a polysiloxane polymer as a light diffusing agent (GE Toshiba Silicone Co., Ltd., Tospearl 120) 3 parts by weight was mixed, kneaded with a twin screw extruder, extruded into a stride shape, and cut with a pelletizer to produce a light diffusion substrate pellet. From this pellet, a substrate having a thickness of 0.7 mm and smooth on both sides was molded using an injection molding machine.

(2−2:有機EL光源装置の製造)
(製造例1)で得られた円偏光分離シートと上記(2−1)で得られた樹脂基材を、選択反射層131/拡散層841/基板101の順になるように貼付して積層体を調製した。この積層体と、実施例1の工程(1−1)で得たガラス製の基板101/透明電極111/有機発光層121/反射電極112の層構成を有する有機EL発光素子とを貼付し、図8に示す構成を有する有機EL光源装置を製造した。得られた有機EL発光素子に電流を通電し、出光面109から出光する波長480nmの青色光及び波長575nmの黄色光についての配光分布を測定したところ、図9に示す結果を得た。
(2-2: Manufacture of organic EL light source device)
The circularly polarized light separating sheet obtained in (Production Example 1) and the resin base material obtained in (2-1) above are stuck so as to be in the order of selective reflection layer 131 / diffusion layer 841 / substrate 101, and a laminate. Was prepared. The laminated body and the organic EL light-emitting element having the layer structure of the glass substrate 101 / transparent electrode 111 / organic light-emitting layer 121 / reflective electrode 112 obtained in the step (1-1) of Example 1, An organic EL light source device having the configuration shown in FIG. 8 was manufactured. When current was passed through the obtained organic EL light emitting device and the light distribution was measured for blue light having a wavelength of 480 nm and yellow light having a wavelength of 575 nm emitted from the light exit surface 109, the results shown in FIG. 9 were obtained.

図4及び図9の結果の対比から明らかな通り、発光素子及び円偏光分離シートに加えてさらに拡散層を備える本発明の有機EL光源装置は、円偏光分離シートを設けていない発光素子に比べて、青色光と黄色光の配光分布の差が小さく、観察角度による色味の変化が少ないことが分かる。また、図5及び図9の対比から明らかな通り、拡散層を備えることにより、青色光と黄色光の配光分布の差は、拡散層を備えない実施例1の有機EL光源装置よりさらに小さくなっている。   As is clear from the comparison of the results of FIGS. 4 and 9, the organic EL light source device of the present invention having a diffusion layer in addition to the light emitting element and the circularly polarized light separating sheet is compared with the light emitting element not provided with the circularly polarized light separating sheet. Thus, it can be seen that the difference in light distribution between the blue light and the yellow light is small, and the change in color depending on the observation angle is small. Further, as is clear from the comparison between FIG. 5 and FIG. 9, by providing the diffusion layer, the difference in the light distribution between the blue light and the yellow light is further smaller than that of the organic EL light source device of Example 1 that does not include the diffusion layer. It has become.

<実施例3>
(3−1:透明樹脂基材フィルムの調製)
脂環式オレフィン樹脂(日本ゼオン社製、ZEONOR1420、ガラス転移温度136℃)のペレットを、窒素を流通させた熱風乾燥機を用いて、100℃で4時間乾燥した。次いでこのペレットを、50mmφのスクリューを備えたTダイ式フィルム溶融押出成形機を使用して、溶融樹脂温度260℃で押出し成形することにより、幅650mm、厚さ188μmのフィルムを製造し、両端25mmずつをトリミングして幅600mmの脂環式オレフィン樹脂からなる原反フィルムを得た。
<Example 3>
(3-1: Preparation of transparent resin base film)
Pellets of alicyclic olefin resin (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., ZEONOR 1420, glass transition temperature 136 ° C.) were dried at 100 ° C. for 4 hours using a hot air dryer in which nitrogen was circulated. Next, this pellet was extruded at a molten resin temperature of 260 ° C. using a T-die film melt extrusion molding machine equipped with a 50 mmφ screw to produce a film having a width of 650 mm and a thickness of 188 μm. Each was trimmed to obtain a raw film made of an alicyclic olefin resin having a width of 600 mm.

幅600mmの原反フィルムの両端をクリップに把持させて、テンター延伸機内に導入し、温度140℃でフィルム幅方向に1.3倍、フィルム流れ方向に1倍の延伸倍率になるように横一軸延伸し、延伸機から出た延伸フィルムをクリップから外し、両端を連続的にトリミングして幅700mmの基材フィルムを得た。   Both ends of a 600 mm wide raw film are held by clips and introduced into a tenter stretching machine. At a temperature of 140 ° C., the film is uniaxial so that the stretching ratio is 1.3 times in the film width direction and 1 time in the film flow direction. Stretched, the stretched film exiting from the stretching machine was removed from the clip, and both ends were continuously trimmed to obtain a base film having a width of 700 mm.

前記フィルム基材の両面をコロナ放電処理し、5%のポリビニルアルコールの水溶液を当該フィルムの片面に♯2のワイヤーバーを使用して塗布し、塗膜を乾燥し、膜厚0.1μmの配向膜を形成した。次いで当該配向膜をラビング処理し、配向膜を有する透明樹脂基材フィルムを調製した。   Both sides of the film substrate are subjected to corona discharge treatment, a 5% polyvinyl alcohol aqueous solution is applied to one side of the film using a # 2 wire bar, the coating film is dried, and the film has an orientation of 0.1 μm. A film was formed. Next, the alignment film was rubbed to prepare a transparent resin substrate film having the alignment film.

(3−2:凹凸構造をもった円偏光分離シートの調製)
製造例1の工程(P1−2)で調製したものと同一のコレステリック液晶組成物を、♯4のワイヤーバーを使用して、上記(3−1)で調製した配向膜を有する透明樹脂基材フィルムの、配向膜を有する面に塗布した。塗膜を100℃で5分間乾燥及び配向熟成した。塗膜にさらに紫外線を1.0mJ/cm(UV−A:365nm±5nm)を照射し、100℃で1分間保持し、次いで紫外線を500mJ/cm2照射して塗膜を硬化させて、基材フィルム132上に、配向膜を介し乾燥膜厚2μmの選択反射層131が設けられた円偏光分離シートを作製した。
(3-2: Preparation of circularly polarized light separating sheet having concavo-convex structure)
A transparent resin substrate having the alignment film prepared in (3-1) above using the same cholesteric liquid crystal composition as that prepared in the step (P1-2) of Production Example 1 using a # 4 wire bar The film was applied to the surface having an alignment film. The coating film was dried at 100 ° C. for 5 minutes and subjected to orientation aging. The coating film was further irradiated with ultraviolet rays of 1.0 mJ / cm 2 (UV-A: 365 nm ± 5 nm), held at 100 ° C. for 1 minute, and then irradiated with ultraviolet rays of 500 mJ / cm 2 to cure the coating film, A circularly polarized light separating sheet in which a selective reflection layer 131 having a dry film thickness of 2 μm was provided on a base film 132 through an alignment film was produced.

次いで薄膜の表面をフィルム流れ方向にラビング処理した。走査型電子顕微鏡で観察したところ、薄膜の表面にフィルム流れ方向に沿った線状の傷が一様に付いていた。次に該積層フィルムを温度140℃の温風を循環させた温風乾燥機を通過させて、主たる収縮方向の収縮率ΔL=20%で収縮させた。   Next, the surface of the thin film was rubbed in the film flow direction. When observed with a scanning electron microscope, linear scratches along the film flow direction were uniformly attached to the surface of the thin film. Next, the laminated film was passed through a hot air dryer in which hot air having a temperature of 140 ° C. was circulated, and contracted at a contraction rate ΔL = 20% in the main contraction direction.

前記収縮フィルムを、日立製作所製電界放出型走査電子顕微鏡S−4700にて観察したところ、ストライプ状に細長く伸びた微細な凹凸形状が表面に均一に形成されていた。   When the shrink film was observed with a field emission scanning electron microscope S-4700 manufactured by Hitachi, a fine uneven shape elongated in a stripe shape was uniformly formed on the surface.

(3−3:有機EL光源装置の製造)
上記(3−2)で得られた、凹凸構造をもった円偏光分離シートを、有機EL素子に貼付し、有機EL光源装置を製造した。
(3-3: Production of organic EL light source device)
The circularly polarized light separating sheet having the concavo-convex structure obtained in (3-2) above was attached to an organic EL element to produce an organic EL light source device.

本発明の一実施形態に係る有機EL光源装置を概略的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematically the organic electroluminescent light source device which concerns on one Embodiment of this invention. 図1に示す有機EL光源装置における選択反射層の、様々な観察角における透過波長と透過率との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the transmission wavelength and the transmittance | permeability in various observation angles of the selective reflection layer in the organic electroluminescent light source device shown in FIG. 図1に示す有機EL光源装置における、発光素子の発光スペクトラムを示すグラフである。It is a graph which shows the light emission spectrum of the light emitting element in the organic electroluminescent light source device shown in FIG. 図1に示す有機EL光源装置における、基板101から出射する青色光及び黄色光の配光分布を示すグラフである。2 is a graph showing a light distribution of blue light and yellow light emitted from a substrate 101 in the organic EL light source device shown in FIG. 1. 図1に示す有機EL光源装置における、出光面109から出射する青色光及び黄色光の配光分布を示すグラフである。2 is a graph showing a light distribution of blue light and yellow light emitted from a light exit surface 109 in the organic EL light source device shown in FIG. 図1に示す有機EL光源装置における選択反射層の、青色光の入射角度と反射率との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the incident angle of blue light, and a reflectance of the selective reflection layer in the organic electroluminescent light source device shown in FIG. 図1に示す有機EL光源装置における選択反射層の、黄色光の入射角度と反射率との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the incident angle of yellow light and the reflectance of the selective reflection layer in the organic EL light source device shown in FIG. 本発明の別の一実施形態に係る有機EL光源装置を概略的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematically the organic electroluminescent light source device which concerns on another one Embodiment of this invention. 図2に示す有機EL光源装置における、基板101から出射する青色光及び黄色光の配光分布を示すグラフである。3 is a graph showing a light distribution of blue light and yellow light emitted from a substrate 101 in the organic EL light source device shown in FIG. 図2に示す有機EL光源装置における、基材フィルム132から出射する青色光及び黄色光の配光分布を示すグラフである。It is a graph which shows the light distribution of the blue light and the yellow light which radiate | emit from the base film 132 in the organic electroluminescent light source device shown in FIG. 本発明の別の一実施形態に係る有機EL光源装置を概略的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematically the organic electroluminescent light source device which concerns on another one Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

101 基板
111 透明電極
112 反射電極
121 発光層
131 選択反射層
132 基材フィルム
841、1141、1241 拡散層
1251 接着層
1252、1352 基材フィルム
1361 構造物
DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 Substrate 111 Transparent electrode 112 Reflective electrode 121 Light emitting layer 131 Selective reflective layer 132 Base film 841, 1141, 1241 Diffusion layer 1251 Adhesive layer 1252, 1352 Base film 1361 Structure

Claims (6)

有機エレクトロルミネッセンス発光素子と、
この有機エレクトロルミネッセンス発光素子の光出射側に配置される選択反射層と、を備え、
前記有機エレクトロルミネッセンス発光素子が、2つ以上の発光強度ピークをもつ有機発光層を有し、
前記選択反射層が、その正面方向の透過光の選択反射帯域に、前記発光強度ピークの少なくとも1つのピーク波長を含み、
前記選択反射層が、波長575nmの正面方向の透過率T Y,N 、波長575nmの極角60°方向の透過率の平均値T Y,60 、波長480nmの正面方向の透過率T B,N 、及び波長480nmの極角60°方向の透過率の平均値T B,60 が式〔1〕:
(T Y,60 /T Y,N )>(T B,60 /T B,N ) 式〔1〕
の関係を満たすことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス光源装置。
An organic electroluminescence light-emitting element;
A selective reflection layer disposed on the light emission side of the organic electroluminescence light-emitting element,
The organic electroluminescence light-emitting element has an organic light-emitting layer having two or more emission intensity peaks,
The selective reflection layer, the selective reflection bandwidth of the front direction of the transmitted light, viewed contains at least one peak wavelength of the emission intensity peak,
The selective reflection layer has a transmittance T F Y in the front direction of the wavelength 575 nm, N, the average value T F Y polar angle 60 ° direction of the transmission at a wavelength of 575 nm, 60, the front direction of the transmittance at a wavelength of 480 nm T F The average value T F B, 60 of the transmittance in the direction of polar angle 60 ° of B, N and wavelength 480 nm is the formula [1]:
(T F Y, 60 / T F Y, N)> (T F B, 60 / T F B, N) formula (1)
An organic electroluminescence light source device characterized by satisfying the above relationship .
請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス光源装置であって、
さらに光散乱層を備えることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス光源装置。
The organic electroluminescence light source device according to claim 1,
An organic electroluminescence light source device further comprising a light scattering layer.
請求項1又は2に記載の有機エレクトロルミネッセンス光源装置であって、
さらに凹凸構造層を備えることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス光源装置。
The organic electroluminescence light source device according to claim 1 or 2,
Furthermore, an organic electroluminescence light source device comprising an uneven structure layer.
請求項1〜3のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス光源装置であって、  The organic electroluminescence light source device according to any one of claims 1 to 3,
前記選択反射層が、正面方向の透過光の選択反射帯域として、波長500nm〜650nmの範囲内に1つ以上の選択反射帯域を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス光源装置。  The organic electroluminescence light source device, wherein the selective reflection layer has one or more selective reflection bands in a wavelength range of 500 nm to 650 nm as a selective reflection band of transmitted light in a front direction.
請求項1〜4のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス光源装置であって、  It is an organic electroluminescent light source device of any one of Claims 1-4, Comprising:
前記選択反射層が、極角60°方向の透過光の選択反射帯域として、波長400nm〜550nmの範囲内に1つ以上の選択反射帯域を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス光源装置。  The organic electroluminescence light source device, wherein the selective reflection layer has one or more selective reflection bands in a wavelength range of 400 nm to 550 nm as a selective reflection band of transmitted light having a polar angle of 60 °.
請求項1〜5のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス光源装置であって、  It is an organic electroluminescent light source device of any one of Claims 1-5,
前記有機エレクトロルミネッセンス発光素子が、波長550nm〜600nmの範囲に発光強度ピークを有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス光源装置。  The organic electroluminescence light-emitting device, wherein the organic electroluminescence light-emitting element has a light emission intensity peak in a wavelength range of 550 nm to 600 nm.
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