JP2009032463A - Light-emitting element - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light-emitting element with high luminance and excellent durability. <P>SOLUTION: A light-control film comprises a film obtained by forming a thin film on at least one surface of a transparent base material to obtain a laminated body and by contracting the laminated body in at least one in-plane axial direction to bend the thin film to have a plurality of rib-like convex lens parts on at least one of the surfaces, wherein tip parts of the rib-like convex lens parts take on a upward convex curved face, and a ratio (length/width) of a length to a width of each rib of the rib-like convex lens parts is 5 or more. A light-emitting element is obtained by installing the light-control film at a light-irradiating side of an organic EL element. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は発光素子に関する。さらに詳細には、本発明は輝度が高く、耐久性に優れる発光素子に関する。   The present invention relates to a light emitting device. More specifically, the present invention relates to a light emitting device having high luminance and excellent durability.

有機EL素子は、セグメント表示装置、ドットマトリックス表示装置、液晶表示装置等の表示装置の光源としての応用が期待されている。有機エレクトロルミネッセンス(EL)素子の例としては、陽極となる正孔注入電極と陰極となる電子注入電極との間に正孔輸送層と発光材料層とが形成された構造(SH−A構造)のもの、正孔注入電極と電子注入電極との間に発光材料層と電子輸送層とが形成された構造(SH−B構造)のもの、又は正孔注入電極と電子注入電極との間に、正孔輸送層と発光材料層と電子輸送層とが形成された構造(DH構造)のものがある。   Organic EL elements are expected to be applied as light sources for display devices such as segment display devices, dot matrix display devices, and liquid crystal display devices. As an example of an organic electroluminescence (EL) element, a structure in which a hole transport layer and a light emitting material layer are formed between a hole injection electrode serving as an anode and an electron injection electrode serving as a cathode (SH-A structure) A structure in which a light emitting material layer and an electron transport layer are formed between a hole injection electrode and an electron injection electrode (SH-B structure), or between a hole injection electrode and an electron injection electrode There is a structure in which a hole transport layer, a light emitting material layer, and an electron transport layer are formed (DH structure).

いずれの構造の場合でも、有機EL素子は正孔注入電極(陽極)から注入された正孔と電子注入電極(陰極)から注入された電子が、発光材料層と正孔(または電子)輸送層の界面、および発光材料層内で再結合して発光するという原理で作動する。従って、発光機構が衝突勃起型発光である無機EL素子と比べて、有機EL素子は低電圧で発光が可能といった特長を持っており、これからの発光素子として非常に有望である。   Regardless of the structure, the organic EL element has a light emitting material layer and a hole (or electron) transport layer in which holes injected from a hole injection electrode (anode) and electrons injected from an electron injection electrode (cathode) are used. It operates on the principle that light is emitted by recombination within the interface and the light emitting material layer. Therefore, compared with an inorganic EL element whose light emission mechanism is collision erection type light emission, the organic EL element has a feature that it can emit light at a low voltage, and is very promising as a light emitting element in the future.

図1に典型的な有機EL素子の構成例を示す。図1に示す有機EL素子は、透明基板110、下部電極層111、発光材料層112、上部電極層113、封止層114とから構成されている。従来の有機EL素子は、発光材料層112で発光した光を透明基板110側から出光させる方式(ボトムエミッション方式)であったが、透明基板側には薄膜トランジスタが設置されるため、出光面積が小さくなる。そこで最近では、発光材料層112から見て透明基板110の反対側から出光させる方式(トップエミッション方式)が、十分な出光面積を得ることができるということで、注目されている。   FIG. 1 shows a configuration example of a typical organic EL element. The organic EL element shown in FIG. 1 includes a transparent substrate 110, a lower electrode layer 111, a light emitting material layer 112, an upper electrode layer 113, and a sealing layer 114. The conventional organic EL element has a method of emitting light emitted from the light emitting material layer 112 from the transparent substrate 110 side (bottom emission method). However, since a thin film transistor is installed on the transparent substrate side, the light emission area is small. Become. Therefore, recently, a method of emitting light from the opposite side of the transparent substrate 110 when viewed from the light emitting material layer 112 (top emission method) has been attracting attention because a sufficient light emission area can be obtained.

有機EL素子を用いた発光素子の輝度は、電流量に比例して大きくなる。しかしながら電流量を高めると消費電力が大きくなることに加え、有機EL素子に経時的な特性劣化を招き、有機EL素子の寿命を短くする。発光材料層で発光した光を効率的に外に取り出すことができれば、低電流量でも高輝度にすることができる。   The luminance of a light emitting element using an organic EL element increases in proportion to the amount of current. However, when the amount of current is increased, the power consumption increases, and the characteristics of the organic EL element are deteriorated over time, thereby shortening the life of the organic EL element. If light emitted from the light-emitting material layer can be efficiently extracted outside, high luminance can be achieved even with a low current amount.

光の取り出し効率を高めるために、例えば、特許文献1には、有機エレクトロルミネッセンス素子からなる光源と、前記光源からの光を集光する反射部材と、光を取り出すための光拡散フィルムとを有する照明装置が提案されている。この光拡散フィルムは、ガラス基板の屈折率とほぼ等しい屈折率を有する材料からなる母材中に、これらとは屈折率の異なる微小なビーズを散在させて形成されている。しかしながら、粒子や繊維を配合した光拡散フィルムは、入射した光を各方位に無差別に均一に拡散する特性を有するため、正面輝度を低くする結果となる。また、特許文献2または3には、有機EL素子からなる発光部と、プリズムが所定ピッチで形成されたプリズムシートとを備えるEL装置が記載されている。しかしながら、プリズムシートは、プリズムの傾斜面によって光を集光するので、プリズム面に摩擦などで傷が付いたときに輝度が低くなってしまう。   In order to increase the light extraction efficiency, for example, Patent Document 1 includes a light source composed of an organic electroluminescence element, a reflection member that condenses light from the light source, and a light diffusion film for extracting light. Lighting devices have been proposed. This light diffusion film is formed by interspersing fine beads having a refractive index different from those in a base material made of a material having a refractive index substantially equal to the refractive index of the glass substrate. However, the light diffusing film containing particles and fibers has a characteristic of uniformly diffusing incident light in each direction indiscriminately, resulting in a reduction in front luminance. Patent Document 2 or 3 describes an EL device that includes a light emitting unit made of an organic EL element and a prism sheet in which prisms are formed at a predetermined pitch. However, since the prism sheet collects light by the inclined surface of the prism, the brightness is lowered when the prism surface is scratched by friction or the like.

特開2007−13913号公報JP 2007-13913 A 特開2007−5277号公報JP 2007-5277 A 特開2004−265851号公報JP 2004-265851 A

本発明の目的は、輝度が高く、耐久性に優れる発光素子を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a light-emitting element having high luminance and excellent durability.

本発明者らは、前記課題を解決すべく検討した結果、少なくとも一方の表面に、畝の長さと幅との比(長さ/幅)が5以上で且つ畝の頂が上に凸の曲面をなしている複数の畝状凸レンズ部を有する調光フィルムを、有機エレクトロルミネッセンス素子の出光側に設けることにより、輝度が高く、耐久性に優れる発光素子が得られることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。   As a result of studying to solve the above problems, the present inventors have found that at least one surface has a ratio of length to width of the ridge (length / width) of 5 or more and a ridge having a convex top. Based on this finding, it is found that a light-emitting element having high luminance and excellent durability can be obtained by providing a light-controlling film having a plurality of ridge-shaped convex lens portions on the light-emitting side of an organic electroluminescence element. The present invention has been completed.

すなわち、本発明は、以下の態様を含む。
(1) 少なくとも一方の表面に、畝の長さと幅との比(長さ/幅)が5以上で且つ畝の頂が上に凸の曲面を成している複数の畝状凸レンズ部を有する調光フィルムを、有機エレクトロルミネッセンス素子の出光側に設けてなる発光素子。
(2) 前記調光フィルムは、畝状凸レンズ部間の間隔の平均値Xpが0.2〜40μmであり、且つ 畝状凸レンズ部間の間隔の標準偏差σpがXpに対してσp/Xp=0.1〜0.9である、前記の発光素子。
(3) 前記調光フィルムは、全光線透過率が70%以上で、且つヘイズが70%以上である、前記の発光素子。
(4) 前記調光フィルムは、前記畝状凸レンズ部の上に積層され且つ前記畝状凸レンズ部の形状に対応するように褶曲している薄膜層をさらに含み、該薄膜層の表面が前記畝状凸レンズ部の形状の浮き出しで起伏している前記の発光素子。
(5) 前記調光フィルムは、該薄膜層の起伏面に前記畝状凸レンズ部の頂点間平均距離よりも短い頂点間平均距離で離間する複数のミクロ突起を有する前記の発光素子。
(6) 有機エレクトロルミネッセンス素子が、基板、下部電極層、発光材料層、上部電極層及び封止層が順次積層されてなるものである、前記の発光素子。
That is, the present invention includes the following aspects.
(1) At least one surface has a plurality of ridge-like convex lens portions in which the ratio of the ridge length to the width (length / width) is 5 or more and the top of the ridge forms a convex curved surface. A light emitting device comprising a light control film on a light output side of an organic electroluminescence device.
(2) As for the said light control film, the average value Xp of the space | interval between ridge-like convex lens parts is 0.2-40 micrometers, and the standard deviation (sigma) p of the space | interval between ridge-like convex lens parts is (sigma) p / Xp = The said light emitting element which is 0.1-0.9.
(3) The light-emitting device, wherein the light control film has a total light transmittance of 70% or more and a haze of 70% or more.
(4) The light control film further includes a thin film layer that is laminated on the bowl-like convex lens part and is bent so as to correspond to the shape of the bowl-like convex lens part, and a surface of the thin film layer is the bowl The light emitting device as described above, which is undulated by the raised shape of the convex lens portion.
(5) The light-emitting element, wherein the light control film has a plurality of micro protrusions spaced apart by an average distance between vertices shorter than an average distance between vertices of the hook-shaped convex lens portion on the undulating surface of the thin film layer.
(6) The said light emitting element in which an organic electroluminescent element is a thing formed by laminating | stacking a board | substrate, a lower electrode layer, a luminescent material layer, an upper electrode layer, and a sealing layer one by one.

本発明の発光素子は、高い輝度の光を、広い角度で出光することができる。また、長時間の発光後でも、輝度の低下が少なく、耐久性に優れ、長寿命である。本発明の発光素子は、セグメント表示装置、ドットマトリックス表示装置、液晶表示装置等の表示装置の光源として有用である。   The light-emitting element of the present invention can emit light with high luminance at a wide angle. Further, even after long-time light emission, there is little decrease in luminance, excellent durability, and long life. The light-emitting element of the present invention is useful as a light source for display devices such as segment display devices, dot matrix display devices, and liquid crystal display devices.

有機EL素子の典型的構造例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the typical structural example of an organic EL element. 実施例1の調光フィルムの起伏面の表面走査型電子顕微鏡写真像を示す図The figure which shows the surface scanning electron micrograph image of the uneven surface of the light control film of Example 1 実施例1の調光フィルムの垂直断面像を示す図The figure which shows the vertical cross section image of the light control film of Example 1 実施例2の調光フィルムの起伏面の表面走査型電子顕微鏡写真像を示す図The figure which shows the surface scanning electron micrograph image of the uneven surface of the light control film of Example 2 実施例3の調光フィルムの起伏面の表面走査型電子顕微鏡写真像を示す図The figure which shows the surface scanning electron micrograph image of the uneven surface of the light control film of Example 3 実施例4の調光フィルムの起伏面の表面走査型電子顕微鏡写真像を示す図The figure which shows the surface scanning electron micrograph image of the uneven surface of the light control film of Example 4 実施例4の調光フィルムの垂直断面像を示す図The figure which shows the vertical cross-section image of the light control film of Example 4 調光フィルムの構造例の断面模式図Cross-sectional schematic diagram of structural example of light control film 調光フィルムの構造例の断面模式図Cross-sectional schematic diagram of structural example of light control film ボトムエミッション方式の発光素子の構成例を示す図Diagram showing a configuration example of a bottom emission type light emitting element

符号の説明Explanation of symbols

1,11:基層(フィルム基材)
2,12:光学機能層(光学機能膜)
100:調光フィルム
110:基板
111:下部電極層(陽極)
112:発光材料層
113:上部電極層(陰極)
114:封止層
1,11: Base layer (film substrate)
2, 12: Optical functional layer (optical functional film)
100: Light control film 110: Substrate 111: Lower electrode layer (anode)
112: Luminescent material layer 113: Upper electrode layer (cathode)
114: Sealing layer

本発明の発光素子は、少なくとも一方の表面に畝の長さと幅との比(長さ/幅)が5以上で且つ畝の頂が上に凸の曲面を成している複数の畝状凸レンズ部を有する調光フィルムを、有機エレクトロルミネッセンス素子の出光側に設けてなるものである。   The light emitting device of the present invention has a plurality of ridge-like convex lenses in which the ratio (length / width) of the ridge length to the width is 5 or more on at least one surface and the top of the ridge has a convex curved surface upward The light control film which has a part is provided in the light emission side of an organic electroluminescent element.

〔調光フィルム〕
本発明に用いられる調光フィルムは、少なくとも一方の表面に複数の畝状凸レンズ部を有するものである。
[Light control film]
The light control film used in the present invention has a plurality of ridge-like convex lens portions on at least one surface.

畝状凸レンズ部は、図2または図4〜6に示すように、細長い畝によって構成されている。畝の長さと幅との比(長さ/幅)は5以上である。なお、畝の長さは稜線の長さであり、幅は畝の高さの1/2の高さにおける幅である。
また、畝の頂は上に凸の曲面を成している。従って、畝の頂の垂直断面は、半円状、半楕円状、放物線状などのような上に凸の曲線形状となっている。
畝状凸レンズ部の頂点の曲率半径は、隣接する畝状凸レンズ部相互において異なっていることが好ましい。畝状凸レンズ部頂点の曲率半径の平均値Xrが、好ましくは0.1μm以上、より好ましくは0.5〜60μmである。該曲率半径の標準偏差σrは、Xrに対して(σr/Xr=)0.05〜0.8であることが好ましく、0.1〜0.6であることがより好ましい。なお、本発明における標準偏差は、標本標準偏差である。Xrおよびσr/Xrがこの範囲内にあると、各畝状凸レンズ部の集光方向の分布が適度な広がりとなるので、視野角度の拡大と輝度向上とのバランスが良好となる。
さらに、畝状凸レンズ部の高さと畝状凸レンズ部間の間隔との比(=高さ/間隔 =アスペクト比)の平均値は、好ましくは0.1〜4.0、より好ましくは0.5〜2.0である。なお、頂点の曲率半径は電子顕微鏡等で、頂部の構造を画像処理等でフィッテングして求めることができる。
As shown in FIG. 2 or FIGS. 4 to 6, the hook-shaped convex lens portion is constituted by an elongated hook. The ratio (length / width) between the length and width of the ridge is 5 or more. The length of the ridge is the length of the ridgeline, and the width is a width at a height that is ½ of the height of the ridge.
In addition, the top of the ridge has an upwardly convex curved surface. Therefore, the vertical cross section of the top of the ridge has an upwardly convex curved shape such as a semicircular shape, a semielliptical shape, and a parabolic shape.
It is preferable that the radius of curvature of the apex of the saddle-like convex lens portion is different between adjacent saddle-like convex lens portions. The average value Xr of the radius of curvature of the apex of the bowl-shaped convex lens portion is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.5 to 60 μm. The standard deviation σr of the radius of curvature is preferably (σr / Xr =) 0.05 to 0.8 and more preferably 0.1 to 0.6 with respect to Xr. The standard deviation in the present invention is a sample standard deviation. When Xr and σr / Xr are within this range, the distribution of the light converging direction of each ridge-shaped convex lens portion is moderately widened, so that the balance between the expansion of the viewing angle and the luminance improvement is good.
Furthermore, the average value of the ratio (= height / interval = aspect ratio) of the height of the saddle-like convex lens portion and the interval between the saddle-like convex lens portions is preferably 0.1 to 4.0, more preferably 0.5. ~ 2.0. The radius of curvature of the apex can be obtained by fitting the top structure by image processing or the like with an electron microscope or the like.

畝状凸レンズ部間の間隔の平均値Xpは、好ましくは0.2〜40μm、より好ましくは1.0〜30μmである。また、畝状凸レンズ部間の間隔の標準偏差σpは、Xpに対して(σp/Xp=)0.1〜0.9であることが好ましく、0.2〜0.7であることがより好ましい。Xpおよびσp/Xpがこの範囲内にあると、集光性による輝度向上と、光拡散性による視野角度拡大とのバランスが良好となる。なお、畝状凸レンズ部間の間隔は頂点間距離である。畝状凸レンズ部は、図5に示すように畝の延びる方向がランダムに向いたものであってもよいし、図2に示すように畝の延びる方向が一の方向に揃って向いたものであってもよい。   The average value Xp of the interval between the ridge-like convex lens portions is preferably 0.2 to 40 μm, more preferably 1.0 to 30 μm. Further, the standard deviation σp of the interval between the ridge-like convex lens portions is preferably (σp / Xp =) 0.1 to 0.9, more preferably 0.2 to 0.7, with respect to Xp. preferable. When Xp and σp / Xp are within this range, the balance between the luminance improvement due to the light condensing property and the expansion of the viewing angle due to the light diffusibility becomes good. In addition, the space | interval between saddle-shaped convex lens parts is a distance between vertices. As shown in FIG. 5, the hook-shaped convex lens portion may be one in which the direction in which the eyelids extend is randomly oriented, or the direction in which the eyelids extend is aligned in one direction as shown in FIG. There may be.

畝状凸レンズ部が図2または図4のように一の方向に揃って向いている場合、入射した光の拡散方向に異方性(異方拡散性)を付与することができる。なお、異方拡散性は、コリメート光のような平行光を調光フィルムに入射し、周期性のある方向およびそれに直交する方向に透過してきた光の出射角度と輝度との関係を調べることにより測定できる。フィルムの異方拡散性は所望の特性に応じて適宜選択でき、畝状凸レンズ部の規則性を変化させることにより異方拡散性を調整できる。例えば、入射した光の異方拡散性を強くしたい場合、図2等に示すような規則性の高い状態にすればよい。なお、畝状凸レンズ部の側面(裾面)は、フィルム主面に対して垂直な面であってもよいし、オーバーハング(逆テーパー構造)になっていてもよいし、緩やかな傾斜面になっていてもよい。   When the hook-like convex lens portions are aligned in one direction as shown in FIG. 2 or FIG. 4, anisotropy (anisotropic diffusion) can be imparted to the diffusion direction of the incident light. In addition, anisotropic diffusivity is obtained by investigating the relationship between the brightness and the emission angle of light that has passed through a light control film and parallel light such as collimated light and transmitted in a direction having a periodicity and a direction perpendicular thereto. It can be measured. The anisotropic diffusivity of the film can be appropriately selected according to desired characteristics, and the anisotropic diffusivity can be adjusted by changing the regularity of the ridge-like convex lens portion. For example, when it is desired to increase the anisotropic diffusibility of the incident light, a highly regular state as shown in FIG. In addition, the side surface (bottom surface) of the bowl-shaped convex lens portion may be a surface perpendicular to the main surface of the film, may have an overhang (reverse taper structure), or may have a gently inclined surface. It may be.

また、前記畝状凸レンズ部はフィルム表面の隆起または陥没で形成されている。すなわち、本発明における畝状凸レンズ部は、平らな基材フィルムの表面に樹脂等を付着させて形成させた凸部とは本質的に異なる。   The saddle-like convex lens portion is formed by a bulge or depression on the film surface. That is, the saddle-like convex lens portion in the present invention is essentially different from the convex portion formed by attaching resin or the like to the surface of a flat base film.

前記の畝状凸レンズ部を有するフィルムは、通常、樹脂や、ゴム若しくはエラストマーで形成されている。
前記樹脂としては、スチレン系樹脂、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、有機酸ビニルエステル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、オレフィン系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹脂、ポリスルホン系樹脂(例えば、ポリエーテルスルホン、ポリスルホンなど)、ポリフェニレンエーテル系樹脂(例えば、2,6−キシレノールの重合体など)、セルロース誘導体(例えば、セルロースエステル類、セルロースカーバメート類、セルロースエーテル類など)、シリコーン樹脂(例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサンなど)などが挙げられる。
The film having the ridge-like convex lens portion is usually made of resin, rubber or elastomer.
Examples of the resin include styrene resin, acrylic resin, methacrylic resin, organic acid vinyl ester resin, vinyl ether resin, halogen-containing resin, olefin resin, alicyclic olefin resin, polycarbonate resin, and polyester resin. , Polyamide resins, thermoplastic polyurethane resins, polysulfone resins (eg, polyethersulfone, polysulfone, etc.), polyphenylene ether resins (eg, polymers of 2,6-xylenol), cellulose derivatives (eg, cellulose esters) , Cellulose carbamates, cellulose ethers, etc.), silicone resins (eg, polydimethylsiloxane, polymethylphenylsiloxane, etc.).

なお、脂環式オレフィン系樹脂としては、特開平05−310845号公報や米国特許第5179171号公報に記載されている環状オレフィンランダム共重合体、特開平05−97978号公報や米国特許第5202388号公報に記載されている水素添加重合体、特開平11−124429号公報や国際公開99/20676号公報に記載されている熱可塑性ジシクロペンタジエン系開環重合体及びその水素添加物等が挙げられる。   Examples of the alicyclic olefin-based resin include cyclic olefin random copolymers described in JP-A No. 05-310845 and US Pat. No. 5,179,171, JP-A No. 05-97978 and US Pat. No. 5,202,388. Examples thereof include hydrogenated polymers described in the publication, thermoplastic dicyclopentadiene-based ring-opening polymers described in JP-A-11-124429 and WO99 / 20676, and hydrogenated products thereof. .

また前記ゴム/エラストマーとしては、ポリブタジエン、ポリイソプレンなどのジエン系ゴム、スチレン−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴムなどが挙げられる。これらのうちフィルムの製造が容易な点から熱可塑性樹脂が好ましい。   Examples of the rubber / elastomer include diene rubbers such as polybutadiene and polyisoprene, styrene-butadiene copolymer, acrylonitrile-butadiene copolymer, acrylic rubber, urethane rubber, and silicone rubber. Of these, a thermoplastic resin is preferred from the viewpoint of easy film production.

畝状凸レンズ部を有するフィルムに好ましく用いられる熱可塑性樹脂は、特に限定されないが、加工の容易さの観点からガラス転移温度が60〜200℃であるものが好ましく、100〜180℃であるものがより好ましい。なお、ガラス転移温度は示差走査熱量分析(DSC)により測定することができる。   The thermoplastic resin preferably used for the film having a ridge-like convex lens portion is not particularly limited, but a glass transition temperature of 60 to 200 ° C. is preferable and 100 to 180 ° C. from the viewpoint of ease of processing. More preferred. The glass transition temperature can be measured by differential scanning calorimetry (DSC).

また、前記熱可塑性樹脂は、ポリスチレン換算の重量平均分子量が、好ましくは5,000〜500,000、より好ましくは8,000〜200,000、特に好ましくは10,000〜100,000である。重量平均分子量がこの範囲にあることにより成形加工性が良好となり、機械的強度を向上させることができる。この重量平均分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーにより測定することができる。   The thermoplastic resin has a polystyrene-equivalent weight average molecular weight of preferably 5,000 to 500,000, more preferably 8,000 to 200,000, and particularly preferably 10,000 to 100,000. When the weight average molecular weight is within this range, molding processability is improved and mechanical strength can be improved. This weight average molecular weight can be measured by gel permeation chromatography.

畝状凸レンズ部を有するフィルムを構成する樹脂や、ゴム又はエラストマーは、顔料や染料のごとき着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤、塩素捕捉剤、難燃剤、結晶化核剤、ブロッキング防止剤、防曇剤、離型剤、有機又は無機の充填剤、中和剤、滑剤、分解剤、金属不活性化剤、汚染防止剤、蛍光増白剤、抗菌剤、光拡散粒子、熱可塑性エラストマーその他の配合剤が適宜配合されたものであってもよい。   Resin, rubber, or elastomer constituting a film having a ridge-like convex lens part is a colorant such as a pigment or dye, a fluorescent brightener, a dispersant, a heat stabilizer, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, an antistatic agent, Antioxidants, chlorine scavengers, flame retardants, crystallization nucleating agents, antiblocking agents, antifogging agents, mold release agents, organic or inorganic fillers, neutralizing agents, lubricants, decomposition agents, metal deactivators, Contaminants, fluorescent brighteners, antibacterial agents, light diffusing particles, thermoplastic elastomers and other compounding agents may be appropriately blended.

本発明に用いられる調光フィルムは、フィルム表面の畝状凸レンズ部の上に積層され且つ前記畝状凸レンズ部の形状に対応するように褶曲している薄膜層をさらに含むことが好ましい。
前記薄膜層は有機物質または無機物質で形成されている。
薄膜層を構成する無機物質としては、金属酸化物や金属窒化物などの金属化合物、非金属酸化物や非金属窒化物などの非金属化合物などが挙げられ、具体的には、アルミニウム、珪素、マグネシウム、パラジウム、白金、亜鉛、錫、ニッケル、銀、銅、金、アンチモン、イットリウム、インジウム、ステンレス鋼、クロム、チタン、タンタル、ジルコニウム、ニオブ、ランタン、セリウム、等の金属若しくは非金属;またはこれらの酸化物や窒化物;又はそれらの混合物が挙げられる。これらのうち、可視光を透過する無機物質を選択することが好ましく、その具体的な例としてITO、In23、SnO2、SiO2、CuI、TiO2、ZrO2等が挙げられる。これらのうち、薄膜の柔軟性という観点からSiO2が好ましい。
It is preferable that the light control film used in the present invention further includes a thin film layer that is laminated on the ridge-like convex lens portion on the film surface and is bent so as to correspond to the shape of the ridge-like convex lens portion.
The thin film layer is formed of an organic material or an inorganic material.
Examples of the inorganic substance constituting the thin film layer include metal compounds such as metal oxides and metal nitrides, and nonmetal compounds such as nonmetal oxides and nonmetal nitrides. Specifically, aluminum, silicon, Metals or non-metals such as magnesium, palladium, platinum, zinc, tin, nickel, silver, copper, gold, antimony, yttrium, indium, stainless steel, chromium, titanium, tantalum, zirconium, niobium, lanthanum, cerium, etc .; or these Or oxides or nitrides thereof, or a mixture thereof. Among these, it is preferable to select an inorganic substance that transmits visible light. Specific examples thereof include ITO, In 2 O 3 , SnO 2 , SiO 2 , CuI, TiO 2 , and ZrO 2 . Of these, SiO 2 is preferable from the viewpoint of the flexibility of the thin film.

前記無機薄膜の平均厚さは、1nm〜500nmであることが好ましい。1nmより薄すぎると畝状凸レンズ部が形成しづらくなり、500nmより厚すぎると薄膜にクラックが発生しやすくなる。無機薄膜を用いると、平均間隔Xpが100nm〜1000nmの微細な畝状凸レンズ部が容易に得られる。   The average thickness of the inorganic thin film is preferably 1 nm to 500 nm. If the thickness is less than 1 nm, it is difficult to form the hook-shaped convex lens portion, and if the thickness is more than 500 nm, the thin film tends to crack. When an inorganic thin film is used, a fine ridge-shaped convex lens portion having an average interval Xp of 100 nm to 1000 nm can be easily obtained.

薄膜層を構成する有機物質としては、熱可塑性樹脂、硬化性樹脂などが挙げられる。
熱可塑性樹脂としては、前記畝状凸レンズ部を有するフィルムに用いることができるものとして例示したものと同様のものを挙げることができる。また、有機薄膜には、前記畝状凸レンズ部を有するフィルムに用いる樹脂同様に配合剤を含んでいてもよい。
Examples of the organic substance constituting the thin film layer include thermoplastic resins and curable resins.
As a thermoplastic resin, the thing similar to what was illustrated as what can be used for the film which has the said saddle-like convex lens part can be mentioned. The organic thin film may contain a compounding agent as in the case of the resin used for the film having the ridge-like convex lens portion.

本発明においては、前記畝状凸レンズ部を有するフィルムが熱可塑性樹脂1からなるものであり、前記有機薄膜が熱可塑性樹脂2からなる場合、熱可塑性樹脂2のガラス転移温度は、熱可塑性樹脂1のガラス転移温度よりも20℃以上高いことが好ましい。なお、ガラス転移温度は示差走査熱量分析(DSC)により測定することができる。   In the present invention, when the film having the ridge-like convex lens portion is made of the thermoplastic resin 1 and the organic thin film is made of the thermoplastic resin 2, the glass transition temperature of the thermoplastic resin 2 is the thermoplastic resin 1. It is preferably 20 ° C. or higher than the glass transition temperature. The glass transition temperature can be measured by differential scanning calorimetry (DSC).

前記硬化性樹脂としては、熱硬化性のものと、エネルギー線硬化性のものとがある。なお、エネルギー線とは、可視光線、紫外線、電子線、などのことをいう。   The curable resin includes a thermosetting resin and an energy beam curable resin. In addition, an energy ray means visible light, an ultraviolet-ray, an electron beam, etc.

前記熱硬化性樹脂の具体例としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。   Specific examples of the thermosetting resin include phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, melamine-urea cocondensation resin, silicon Examples thereof include resins and polysiloxane resins.

前記エネルギー線硬化型樹脂としては特に限定されないが、例えば、ラジカル重合性不飽和基及び/又はカチオン重合性基を有する低分子量化合物、又は樹脂等が挙げられ、所望の特性によって適宜選択できる。なお、ラジカル重合性不飽和基及び/又はカチオン重合性基は、1分子中に2以上含んでいてもよい。   Although it does not specifically limit as said energy beam curable resin, For example, the low molecular weight compound or resin etc. which have a radically polymerizable unsaturated group and / or a cation polymerizable group are mentioned, It can select suitably by a desired characteristic. In addition, the radically polymerizable unsaturated group and / or the cation polymerizable group may contain two or more in one molecule.

前記ラジカル重合性不飽和基を有する低分子量化合物としては、エチレン、プロピレン等のα−オレフィン;ブタジエン、イソプレン等の共役ジエン化合物;スチレン、α−メチルスチレン、t−ブチルスチレン、ジビニルベンゼン、ビニルナフタレン、4−ビニルピリジン等のラジカル反応性芳香族化合物;アクリル酸、メタクリル酸、フマール酸、マレイン酸、エンド−ビシクロ[2.2.1]−5−ヘプテン−2,8−ジカルボン酸(エンディック酸)、テトラヒドロフタル酸、イタコン酸、シトラコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸等の不飽和カルボン酸;アクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライド、マイイン酸クロライド等の前記不飽和カルボン酸のハライド;アクリルアミド、メタクリルアミド、マレイミド等の、前記不飽和カルボン酸のアミド若しくはイミド誘導体;無水マレイン酸、無水エンディック酸、無水シトラコン酸等の前記不飽和カルボン酸の無水物;マレイン酸モノメチル、マレイン酸ジメチル、(メタ)アクリル酸アミド、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、アリル(メク)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フエノキシエチル(メタ)アクリレート、へキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントソ(メタ)アクリレート、プロピオン酸・ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピオン酸・ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールへキサ(メタ)アクリレート等の前記不飽和カルボン酸のエステル誘導体; ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシトリエトキシシラン等のラジカル反応不飽和基を有するシラン化合物;等が挙げられる。   Examples of the low molecular weight compound having a radical polymerizable unsaturated group include α-olefins such as ethylene and propylene; conjugated diene compounds such as butadiene and isoprene; styrene, α-methylstyrene, t-butylstyrene, divinylbenzene, and vinylnaphthalene. Radical-reactive aromatic compounds such as 4-vinylpyridine; acrylic acid, methacrylic acid, fumaric acid, maleic acid, endo-bicyclo [2.2.1] -5-heptene-2,8-dicarboxylic acid (endic Acid), tetrahydrophthalic acid, itaconic acid, citraconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid and other unsaturated carboxylic acids; acrylic acid chloride, methacrylic acid chloride, myic acid chloride and other unsaturated carboxylic acid halides; acrylamide, methacrylamide , Maleimide, etc. Amide or imide derivative of saturated carboxylic acid; anhydride of the unsaturated carboxylic acid such as maleic anhydride, endic acid anhydride, citraconic anhydride; monomethyl maleate, dimethyl maleate, (meth) acrylic acid amide, methyl (meta ) Acrylate, ethyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (Meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, hexane All di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethylol di (meth) acrylate, trimethylol propantoso (meth) acrylate, propionic acid / dipentaerythritol tri ( Ester derivatives of unsaturated carboxylic acids such as (meth) acrylate, propionic acid / dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate; vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, Radical reaction unsaturated groups such as p-styryltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloxytriethoxysilane, etc. And the like.

前記カチオン重合性基を有する低分子化合物としては、ジシクロペンタジエンジオキサイド、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテル、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシル)メチル−3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アセタール、エチレングリコールのビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)エーテル、エチレングリコールの3,4−エポキシシクロヘキサンカルボン酸ジエステル等の脂環式エポキシ基を含有する化合物;エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、ジグリセリンテトラグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、スピログリコールジグリシジルエーテル等のグリシジル基を含有するエポキシ化合物;3−エチル−3−メトキシメチルオキセタン、3−エチル−3−エトキシメチルオキセタン、3−エチル−3−ブトキシメチルオキセタン、3−エチル−3−アリルオキシメチルオキセタン、3−メチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、3−エチル−3−(2’−ヒドロキシエチル)オキシメチルオキセタン、3−エチル−3−(2’−ヒドロキシ−3’−フェノキシプロピル)オキシメチルオキセタン、3−エチル−3−(2’−ヒドロキシ−3’−ブトキシプロピル)オキシメチルオキセタン、3−エチル−3−[2’−(2”−エトキシエチル)オキシメチル]オキセタン等のオキセタン環を含有する化合物;等が挙げられる。   Examples of the low molecular weight compound having a cationic polymerizable group include dicyclopentadiene dioxide, (3,4-epoxycyclohexyl) methyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, bis (2,3-epoxycyclopentyl) ether, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate, (3,4-epoxy-6-methylcyclohexyl) methyl-3,4-epoxy-6-methyl Cyclohexane carboxylate, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) acetal, bis (3,4-epoxycyclohexyl) ether of ethylene glycol, 3,4-epoxycyclohexanecarboxylic acid diester of ethylene glycol, etc. Compounds containing xyl groups; ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1, Epoxy compounds containing a glycidyl group such as 6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, diglycerin tetraglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, spiroglycol diglycidyl ether; 3-ethyl-3-methoxymethyloxetane 3-ethyl-3-ethoxymethyloxetane, 3-ethyl-3-butoxymethyloxetane, 3-ethyl-3 Allyloxymethyloxetane, 3-methyl-3-hydroxymethyloxetane, 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 3-ethyl-3- (2′-hydroxyethyl) oxymethyloxetane, 3-ethyl-3- (2 '-Hydroxy-3'-phenoxypropyl) oxymethyloxetane, 3-ethyl-3- (2'-hydroxy-3'-butoxypropyl) oxymethyloxetane, 3-ethyl-3- [2'-(2 "- Compounds containing an oxetane ring such as ethoxyethyl) oxymethyl] oxetane; and the like.

前記ラジカル重合性不飽和基又はカチオン重合性基を有する樹脂としては、低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等の側鎖にラジカル重合性不飽和基又はカチオン重合性基を有する樹脂が挙げられる。   Examples of the resin having a radical polymerizable unsaturated group or a cationic polymerizable group include low molecular weight polyester resins, polyether resins, acrylic resins, methacrylic resins, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, Examples thereof include resins having a radically polymerizable unsaturated group or a cationically polymerizable group in the side chain such as a polythiol polyene resin.

エネルギー線として紫外線や可視光線を用いる場合には、硬化性樹脂の中に光重合開始剤、光増感剤などを含ませる。光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン類等が挙げられる。光増感剤としてn−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等が挙げられる。   When ultraviolet rays or visible rays are used as energy rays, a photopolymerization initiator, a photosensitizer, or the like is included in the curable resin. Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, Michler benzoylbenzoate, α-amyloxime ester, tetramethylthiuram monosulfide, thioxanthones, and the like. Examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, and tri-n-butylphosphine.

硬化性樹脂からなる薄膜層には、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等の配合剤が含まれていてもよい。
有機薄膜としては、微細な畝状凸レンズ部のアスペクト比の制御が容易な場合があるため、硬化性樹脂薄膜を用いることが好ましい。
The thin film layer made of a curable resin may contain compounding agents such as a curing agent such as a crosslinking agent and a polymerization initiator, a polymerization accelerator, a solvent, and a viscosity modifier.
As the organic thin film, a curable resin thin film is preferably used because the aspect ratio of the fine bowl-shaped convex lens portion may be easily controlled.

有機薄膜の平均厚さは、100nm〜20μmであることが好ましい。100nmより薄すぎると畝状凸レンズ部が形成しづらくなり、20μmより厚すぎるとアスペクト比の制御が難しくなる。なお、有機薄膜を用いると、畝状凸レンズ部頂点間の平均距離が500nm〜40μmの微細な畝状凸レンズ部が容易に得られる。   The average thickness of the organic thin film is preferably 100 nm to 20 μm. If the thickness is less than 100 nm, it is difficult to form the hook-shaped convex lens portion, and if it is more than 20 μm, it is difficult to control the aspect ratio. When an organic thin film is used, a fine ridge-like convex lens portion having an average distance between the apexes of the ridge-like convex lens portions of 500 nm to 40 μm can be easily obtained.

薄膜層の平均厚さは、調光フィルム上の畝状凸レンズ部の高さに対して、10%〜100%であることが好ましい。薄膜層の平均厚さの割合が10%より薄い場合には、耐擦傷性が損なわれる可能性があり、逆に100%より厚い場合には、過酷な条件で使用した場合、そりが出る可能性がある。   The average thickness of the thin film layer is preferably 10% to 100% with respect to the height of the ridge-like convex lens portion on the light control film. If the ratio of the average thickness of the thin film layer is less than 10%, the scratch resistance may be impaired. Conversely, if it is thicker than 100%, warpage may occur when used under severe conditions. There is sex.

薄膜層の厚さの変動係数は20%以下であることが好ましい。薄膜層の厚さの変動係数が20%より大きい場合には、薄膜層の厚さ分布が大きくなり、そりの原因となる場合がある。なお、薄膜層の厚さは、以下のようにして計測できる。調光フィルムを周期性が強い方向で垂直に切断し超薄切片を得、透過電子顕微鏡にて超薄切片を写真撮影する。撮影した画像から薄膜層の厚さを、凸部頂点および凹部底点のそれぞれ少なくとも15点以上で計測し、それら計測値から、平均値、標準偏差、変動係数を算出する。調光フィルムの周期性が強い方向は、調光フィルム表面の走査型電子顕微鏡写真像を2次元フーリエ変換して得られる空間周波数のパワースペクトル分布から空間周波数の強度が強い2点を抽出し、この2点で結ばれる直線の方向である。例えば、畝の延びる方向が一の方向に揃って並んでいる畝状凸レンズでは、畝の延びる方向に直交する方向が、周期性の強い方向である。   The variation coefficient of the thickness of the thin film layer is preferably 20% or less. When the variation coefficient of the thickness of the thin film layer is larger than 20%, the thickness distribution of the thin film layer becomes large, which may cause warpage. The thickness of the thin film layer can be measured as follows. The light control film is cut perpendicularly in the direction of strong periodicity to obtain an ultrathin section, and the ultrathin section is photographed with a transmission electron microscope. From the photographed image, the thickness of the thin film layer is measured at at least 15 points each of the convex top and the concave bottom, and an average value, standard deviation, and coefficient of variation are calculated from these measured values. In the direction where the periodicity of the light control film is strong, two points with high spatial frequency intensity are extracted from the power spectrum distribution of the spatial frequency obtained by two-dimensional Fourier transform of the scanning electron micrograph image on the surface of the light control film, The direction of the straight line connected by these two points. For example, in a saddle-shaped convex lens in which the direction in which the eyelids extend is aligned in one direction, the direction orthogonal to the direction in which the eyelids extend is a direction with strong periodicity.

薄膜層は、前記畝状凸レンズ部の上に積層され且つ前記畝状凸レンズ部の形状に対応するように褶曲している。図8及び図9は、本発明に用いられる調光フィルムの垂直断面を示す模式図である。調光フィルムの表面の畝状凸レンズ部に対応して、薄膜が褶曲し、薄膜層の表面は畝状凸レンズ部の形状が浮き出し、起伏している。浮き出しによる起伏が小さくなると畝状凸レンズ部の集光性が弱くなる傾向がある。   The thin film layer is laminated on the saddle-like convex lens portion and is bent so as to correspond to the shape of the saddle-like convex lens portion. 8 and 9 are schematic views showing a vertical cross section of the light control film used in the present invention. The thin film is bent corresponding to the ridge-like convex lens portion on the surface of the light control film, and the shape of the ridge-like convex lens portion is raised and undulated on the surface of the thin film layer. When the undulation due to the relief becomes small, the light condensing property of the bowl-shaped convex lens portion tends to be weak.

本発明に用いられる好ましい調光フィルムは、図7のように、薄膜層の起伏面に前記畝状凸レンズ部の頂点間平均距離よりも短い頂点間平均距離で離間する複数のミクロ突起を有する。該ミクロ突起によって偏光分離を行うことができるようにするために、該ミクロ突起は、その頂点間平均距離が好ましくは0.2〜0.8μmである。ミクロ突起の垂直断面の高さ/幅の比は好ましくは1.0〜4.0である。   The preferable light control film used for this invention has a some micro processus | protrusion spaced apart by the average distance between vertices shorter than the average distance between vertices of the said saddle-like convex lens part on the undulating surface of a thin film layer like FIG. In order to allow polarization separation by the microprotrusions, the microprotrusions preferably have an average distance between vertices of 0.2 to 0.8 μm. The height / width ratio of the vertical cross section of the microprotrusions is preferably 1.0 to 4.0.

また、ミクロ突起は、その形状によって特に制限されない。例えば、凸条、円錐、円錐台、角錘、または角錘台などが挙げられる。本発明においては偏光分離能が高いと言う観点から、ミクロ突起は、一の方向に揃って延びたストライプ状の凸条であることが好ましい。特に、畝状凸レンズ部の畝の延びる方向とミクロ凸条の延びる方向とが略平行になっていることが好ましい(図7)。
ミクロ突起の頂には、偏光分離能を高めるために、吸光性材料からなる膜が積層されていてもよい。吸光性材料としては、導電性のものが好ましく、具体的には、アルミニウム、インジウム、マグネシウム、ロジウム、スズ等の金属が挙げられる。成膜の方法は特に制限されず、例えば、湿式メッキ法、乾式メッキ法などが挙げられる。このミクロ突起の頂上の吸光性材料の膜によってワイヤグリッド偏光子を構成することができる。
Further, the microprotrusions are not particularly limited by the shape thereof. For example, a ridge, a cone, a truncated cone, a pyramid, or a truncated pyramid can be used. In the present invention, from the viewpoint of high polarization separation ability, the microprotrusions are preferably striped ridges extending in one direction. In particular, it is preferable that the direction in which the ridges of the ridge-shaped convex lens portion extend and the direction in which the micro ridges extend are substantially parallel (FIG. 7).
A film made of a light-absorbing material may be laminated on the top of the microprotrusions in order to increase the polarization separation ability. The light-absorbing material is preferably a conductive material, and specific examples include metals such as aluminum, indium, magnesium, rhodium and tin. The film forming method is not particularly limited, and examples thereof include a wet plating method and a dry plating method. A wire grid polarizer can be constituted by a film of light-absorbing material on the top of the microprotrusions.

本発明に用いられる調光フィルムは、ヘイズが70%以上であることが好ましく、75%以上であることが特に好ましい。また、本発明に用いられる調光フィルムは、全光線透過率が70%以上であることが好ましく、80%以上であることが特に好ましい。調光フィルムの光学特性を前記範囲にすることにより、調光フィルムとして好適に使用することができる。   The light control film used in the present invention preferably has a haze of 70% or more, particularly preferably 75% or more. The light control film used in the present invention preferably has a total light transmittance of 70% or more, particularly preferably 80% or more. By setting the optical characteristics of the light control film in the above range, it can be suitably used as a light control film.

〔調光フィルムの製造方法〕
本発明に用いられる調光フィルムの製造方法は、平板状の透明基材の少なくとも一方の表面に薄膜を形成して積層体を得る工程、及び該積層体を面内の少なくとも一つの軸方向に収縮させて薄膜を褶曲させる工程を含むものである。
[Manufacturing method of light control film]
The method for producing a light control film used in the present invention comprises a step of forming a thin film on at least one surface of a flat transparent substrate to obtain a laminate, and the laminate in at least one axial direction in the plane. It includes a step of bending and shrinking the thin film.

(透明基材)
調光フィルムの製造に用いる透明基材は、薄膜を積層させた後に、面内の少なくとも一つの軸方向に収縮させることができるものであれば特に限定されない。例えば、透明基材自身が加熱などの手段によって収縮するものであってもよいし、一軸延伸させたときに延伸方向に直交する方向が収縮するものであってもよい。
(Transparent substrate)
The transparent base material used for manufacturing the light control film is not particularly limited as long as it can be contracted in at least one axial direction in the plane after the thin films are laminated. For example, the transparent base material itself may be shrunk by means such as heating, or the direction perpendicular to the stretching direction may be shrunk when uniaxially stretched.

透明基材の収縮前の平均厚さは、ハンドリングの観点から通常5μm〜1mm、好ましくは20〜500μmである。透明基材は、通常、樹脂や、ゴム若しくはエラストマーで形成されている。樹脂や、ゴム若しくはエラストマーとしては、前記畝状凸レンズ部を有するフィルムを構成するものとして例示したものと同様のものを挙げることができる。また、前記畝状凸レンズ部を有するフィルムを構成する樹脂同様に配合剤を含んでいてもよい。   The average thickness before shrinkage of the transparent substrate is usually 5 μm to 1 mm, preferably 20 to 500 μm from the viewpoint of handling. The transparent substrate is usually made of resin, rubber or elastomer. Examples of the resin, rubber, or elastomer include the same as those exemplified as those constituting the film having the ridge-like convex lens portion. Moreover, the compounding agent may be included like resin which comprises the film which has the said saddle-like convex lens part.

透明基材は、その製法によって特に制限されない。透明基材の原反は、前述の樹脂等を公知のフィルム成形法で成形することによって得られる。フィルム成形法としては、キャスト成形法、押出成形法、インフレーション成形法などが挙げられる。   The transparent substrate is not particularly limited by the production method. The raw fabric of the transparent substrate can be obtained by molding the above-described resin or the like by a known film molding method. Examples of the film forming method include a cast forming method, an extrusion forming method, and an inflation forming method.

加熱などの手段によってそれ自身が収縮する透明基材は、通常、面内で分子配向していることが好ましい。分子配向の状態は、公知の方法で測定することができ、例えば、自動複屈折計(KOBRA 21ADH)を用いて測定することができる。   In general, it is preferable that the transparent base material that shrinks itself by means of heating or the like is molecularly oriented in the plane. The state of molecular orientation can be measured by a known method, for example, using an automatic birefringence meter (KOBRA 21ADH).

加熱などの手段によってそれ自身が収縮する透明基材は、例えば、前述の樹脂等を公知の成形法で原反フィルムに形成し、該原反フィルムを延伸することによって得ることができる。また、延伸処理の代わりに、磁場や電場を掛けて又はラビング処理して分子を配向させ収縮性を示す透明基材とすることができる。ゴム又はエラストマーを公知の成形法で弾性フィルムに形成し、該弾性フィルムを面内方向に引っ張った状態にすることで、弾性による復元力を利用した収縮性を示す透明基材とすることができる。さらに硬化性樹脂からなるフィルムをあらかじめ溶剤等で膨潤させ、該膨潤フィルムが乾燥する時に生じる収縮を利用して本発明に用いる透明基材とすることができる。これらのうち、原反フィルムを延伸することによって得られる収縮性を示す透明基材が好ましい。   A transparent base material that itself shrinks by means of heating or the like can be obtained, for example, by forming the above-described resin or the like on a raw film by a known molding method and stretching the raw film. Moreover, it can be set as the transparent base material which orients a molecule | numerator by applying a magnetic field or an electric field, or rubbing instead of extending | stretching, and shows shrinkage | contraction property. By forming rubber or elastomer on an elastic film by a known molding method and pulling the elastic film in the in-plane direction, it is possible to obtain a transparent base material that exhibits shrinkage utilizing resilience due to elasticity. . Furthermore, a film made of a curable resin can be swollen with a solvent or the like in advance, and a transparent substrate used in the present invention can be obtained by utilizing the shrinkage that occurs when the swollen film dries. Among these, a transparent base material exhibiting shrinkage obtained by stretching a raw film is preferable.

原反フィルムを延伸することによって得られる収縮性を示す透明基材は、その延伸方法によって特に制限されず、一軸延伸法、二軸延伸法のいずれで延伸したものであってもよい。二軸延伸の場合は、通常、フィルム面内の二つの方向に収縮することになる。
延伸処理する方法としては、ロール側の周速の差を利用して縦方向に一軸延伸する方法や、テンター延伸機を用いて横方向に一軸延伸する方法等の一軸延伸法;固定するクリップの間隔を開いての縦方向の延伸と同時に、ガイドレールの広がり角度により横方向に延伸する同時二軸延伸法や、ロール間の周速の差を利用して縦方向に延伸した後、その両端部をクリップ把持してテンター延伸機を用いて横方向に延伸する逐次二軸延伸法などの二軸延伸法;横又は縦方向に左右異なる速度の送り力若しくは引張り力又は引取り力を付加できるようにしたテンター延伸機を用いてフィルムの幅方向に対して任意の角度θの方向に連続的に斜め延伸する方法;などが挙げられる。
延伸に用いる装置として、例えば、縦一軸延伸機、テンター延伸機、バブル延伸機、ローラー延伸機等が挙げられる。
The transparent base material exhibiting shrinkage obtained by stretching the raw film is not particularly limited by the stretching method, and may be stretched by either a uniaxial stretching method or a biaxial stretching method. In the case of biaxial stretching, it usually shrinks in two directions within the film plane.
Examples of the stretching method include uniaxial stretching methods such as a method of uniaxial stretching in the longitudinal direction using the difference in peripheral speed on the roll side, a method of uniaxial stretching in the transverse direction using a tenter stretching machine; At the same time as stretching in the longitudinal direction with a gap between them, and simultaneously stretching in the longitudinal direction using the simultaneous biaxial stretching method that stretches in the transverse direction according to the spread angle of the guide rail and the difference in peripheral speed between the rolls, both ends thereof A biaxial stretching method such as a sequential biaxial stretching method in which a part is clipped and stretched in the lateral direction using a tenter stretching machine; feed force, pulling force or pulling force at different speeds can be applied in the lateral or longitudinal direction. And a method of continuously and obliquely stretching in the direction of an arbitrary angle θ with respect to the width direction of the film using the tenter stretching machine.
Examples of the apparatus used for stretching include a longitudinal uniaxial stretching machine, a tenter stretching machine, a bubble stretching machine, and a roller stretching machine.

主たる収縮方向の収縮率が大幅に高くなると、主たる収縮方向に直交する方向に伸びが生じることがあり、その伸びによって薄膜表面に亀裂が生じることがある。この収縮時の亀裂発生を抑制することができるという観点から、(i)延伸時の縦方向の収縮を好ましくは20%以下、より好ましくは15%以下に抑えて横方向に一軸延伸する(横一軸延伸法)か、(ii)縦方向及び横方向に二軸延伸するの(二軸延伸法)が好ましい。   When the shrinkage rate in the main shrinkage direction is significantly increased, elongation may occur in a direction perpendicular to the main shrinkage direction, and the elongation may cause cracks on the thin film surface. From the viewpoint of suppressing the occurrence of cracks during shrinkage, (i) uniaxially stretching in the transverse direction is preferably performed with the longitudinal shrinkage during stretching preferably controlled to 20% or less, more preferably 15% or less (transverse) (Uniaxial stretching method) or (ii) biaxial stretching in the machine direction and transverse direction (biaxial stretching method) is preferred.

延伸時の温度は、透明基材を構成する材料のガラス転移温度をTgとしたときに、好ましくは(Tg−30℃)と(Tg+60℃)の間、より好ましくは(Tg−10℃)と(Tg+50℃)の間の温度から選択される。
延伸倍率は、使用する透明基材の引張り特性に応じて、所望する畝状凸レンズ部のアスペクト比になるように適宜選択すればよい。
The temperature during stretching is preferably between (Tg-30 ° C) and (Tg + 60 ° C), more preferably (Tg-10 ° C), where Tg is the glass transition temperature of the material constituting the transparent substrate. It is selected from temperatures between (Tg + 50 ° C.).
What is necessary is just to select a draw ratio suitably so that it may become a desired aspect ratio of the saddle-like convex lens part according to the tensile characteristic of the transparent base material to be used.

高アスペクト比の畝状凸レンズ部を得たい場合には、薄膜の膜質や厚さにもよるが、おおむね延伸倍率を高く設定する。低アスペクト比の畝状凸レンズ部を得たい場合には、延伸倍率を低く設定する。具体的には、主たる延伸方向の延伸倍率を、通常1.01〜30倍、より好ましくは1.01〜10倍、より好ましくは1.05〜5倍にする。主たる延伸方向の延伸倍率が1.01倍より小さい倍率では、畝状凸レンズ部が発生せず、30倍より大きい倍率では、フィルム強度が低下する恐れがある。   When it is desired to obtain a high-aspect ratio saddle-shaped convex lens portion, although depending on the film quality and thickness of the thin film, the stretch ratio is generally set high. In order to obtain a ridge-like convex lens portion having a low aspect ratio, the draw ratio is set low. Specifically, the draw ratio in the main drawing direction is usually 1.01 to 30 times, more preferably 1.01 to 10 times, and more preferably 1.05 to 5 times. When the draw ratio in the main draw direction is less than 1.01, the ridge-like convex lens portion does not occur, and when the draw ratio is more than 30 times, the film strength may decrease.

(薄膜)
次に、透明基材の少なくとも一方の表面に薄膜を形成する。薄膜の収縮率は、透明基材を収縮させる条件下において、透明基材の収縮率の20%以下であることが好ましく、10%以下であることがさらに好ましい。薄膜の収縮率が大きすぎると微細な畝状凸レンズ部が形成しない場合がある。
(Thin film)
Next, a thin film is formed on at least one surface of the transparent substrate. The shrinkage rate of the thin film is preferably 20% or less of the shrinkage rate of the transparent base material, and more preferably 10% or less, under the conditions for shrinking the transparent base material. If the shrinkage rate of the thin film is too large, a fine bowl-shaped convex lens part may not be formed.

薄膜の収縮前の平均厚さは、1nm〜20μmであることが好ましい。薄膜の厚さは、電子顕微鏡にて、薄膜の垂直断面を写真撮影し、該写真像から厚さの平均値を求める。
薄膜としては、前述のごとく、無機薄膜及び有機薄膜がある。
The average thickness of the thin film before shrinkage is preferably 1 nm to 20 μm. The thickness of the thin film is obtained by photographing a vertical section of the thin film with an electron microscope and obtaining an average value of the thickness from the photograph image.
As described above, the thin film includes an inorganic thin film and an organic thin film.

無機薄膜の材料としては前述の無機薄膜で例示したものと同様のものが挙げられる。
無機薄膜を形成する方法は、特に制限されず、真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング、CVD(化学蒸着)等の蒸着法;スピンコート法、ディッピング法、ロールコート法、スプレー法、ベーパー法、グラビアコータやブレードコータなどのコータ法、スクリーン印刷法、インクジェット法等の塗布法;無電解めっき法、電解めっき法などが挙げられる。
Examples of the material for the inorganic thin film include the same materials as those exemplified above for the inorganic thin film.
The method for forming the inorganic thin film is not particularly limited, and vapor deposition methods such as vacuum deposition, ion plating, sputtering, CVD (chemical vapor deposition); spin coating method, dipping method, roll coating method, spray method, vapor method, gravure Examples thereof include coating methods such as a coater and a blade coater, coating methods such as a screen printing method and an ink jet method; an electroless plating method and an electrolytic plating method.

有機薄膜の材料としては前述の有機薄膜で例示したものと同様のものが挙げられる。なお、有機薄膜には前述した配合剤を含んでいてもよい。
熱可塑性樹脂からなる有機薄膜の形成方法としては、(1)透明基材を構成する樹脂と、薄膜を構成する樹脂とを共押出する方法;(2)熱可塑性樹脂を薄膜に成形し、これを透明基材に貼り合わせる方法;(3)透明基材の表面に熱可塑性樹脂を含有する溶液を塗布し乾燥する方法等が挙げられる。
Examples of the material for the organic thin film include the same materials as those exemplified for the organic thin film. In addition, the organic thin film may contain the compounding agent mentioned above.
As a method for forming an organic thin film made of a thermoplastic resin, (1) a method of co-extruding a resin constituting a transparent substrate and a resin constituting a thin film; (2) forming a thermoplastic resin into a thin film; (3) The method of apply | coating the solution containing a thermoplastic resin to the surface of a transparent substrate, and drying etc. are mentioned.

硬化性樹脂からなる有機薄膜の形成方法は、特に限定されない。硬化性樹脂からなる有機薄膜は、例えば、透明基材面に硬化性樹脂の組成物を塗布し、硬化することによって得られる。なお、前記硬化性樹脂の組成物には作業性を良好にする観点から溶剤を含んでいても良い。硬化性樹脂薄膜を形成する際、透明基材のガラス転移温度より5℃以上低い温度で熱処理することが望ましい。薄膜形成の際に高い温度がかかると、透明基材がアニールされ、設計どおりに収縮しなくなるおそれがある。   The formation method of the organic thin film which consists of curable resin is not specifically limited. An organic thin film made of a curable resin is obtained, for example, by applying a curable resin composition on a transparent substrate surface and curing it. The curable resin composition may contain a solvent from the viewpoint of improving workability. When forming the curable resin thin film, it is desirable to perform heat treatment at a temperature lower by 5 ° C. or more than the glass transition temperature of the transparent substrate. If a high temperature is applied during thin film formation, the transparent substrate may be annealed and may not shrink as designed.

(褶曲誘起構造)
調光フィルムの製造において、透明基材表面に薄膜を形成する前に、薄膜の褶曲を引き起こさせるための構造(褶曲誘起構造)を透明基材の表面に形成してもよいし、また透明基材表面に薄膜を形成した後で且つ該基材を収縮させる前に、該薄膜の褶曲を引き起こさせるための構造(褶曲誘起構造)を薄膜に形成してもよい。
(Folding induction structure)
In the production of a light control film, before forming a thin film on the surface of the transparent substrate, a structure (curvature inducing structure) for causing the bending of the thin film may be formed on the surface of the transparent substrate. After the thin film is formed on the material surface and before the base material is contracted, a structure (curvature inducing structure) for causing the thin film to bend may be formed on the thin film.

該構造は、基材が収縮したときに薄膜の褶曲を引き起こさせる構造であれば特に限定されず、例えば、ラビング処理やその他の方法で表面に付けた傷、インクジェットプリンターや印刷機等で載せたインク印、エンボス加工やインプリントなどで付与した凹凸などが挙げられる。
褶曲誘起構造は一定間隔の位置に形成されることが好ましい。褶曲誘起構造の間隔は、所望する畝状凸レンズ部の頂点間の距離とは直接に関係無いので、所望の畝状凸レンズ部の頂点間の距離よりも狭くても、広くても良いが、畝状凸レンズ部の頂点間の所望距離の0.05倍〜100倍の褶曲誘起構造の間隔にすることが好ましい。
The structure is not particularly limited as long as it causes a bending of the thin film when the base material contracts. For example, the structure is scratched on the surface by rubbing or other methods, and is mounted by an inkjet printer or a printing machine. Examples include irregularities provided by ink stamping, embossing, imprinting, and the like.
It is preferable that the bending induction structure is formed at a constant interval. The interval of the bending induction structure is not directly related to the distance between the vertices of the desired ridge-like convex lens portion, and may be narrower or wider than the distance between the vertices of the desired ridge-like convex lens portion. It is preferable that the distance between the fold-inducing structures is 0.05 to 100 times the desired distance between the apexes of the convex lens portion.

調光フィルムの製造方法においては、次に前記薄膜を表面に形成した透明基材を収縮させ、薄膜を褶曲させる。透明基材を収縮させる方法は、透明基材の種類に応じて適宜選択すればよい。   In the manufacturing method of a light control film, the transparent base material which formed the said thin film on the surface is contracted next, and a thin film is bent. What is necessary is just to select suitably the method of shrinking a transparent base material according to the kind of transparent base material.

透明基材の収縮率は、透明基材の収縮によって薄膜が褶曲したときに薄膜等に亀裂などが生じないようにするために、主たる収縮方向の収縮率ΔL、および主たる収縮方向に直交する方向の収縮率ΔMが、式〔3〕および式〔4〕を満たすことが好ましい。なお、ΔL及びΔMは式〔1〕及び式〔2〕でそれぞれ定義される。   The shrinkage rate of the transparent base material is such that the shrinkage rate ΔL in the main shrinkage direction and the direction orthogonal to the main shrinkage direction so that the thin film or the like does not crack when the thin film is bent by the shrinkage of the transparent base material. It is preferable that the shrinkage ratio ΔM of the above satisfies the formula [3] and the formula [4]. ΔL and ΔM are defined by Equation [1] and Equation [2], respectively.

式〔1〕:ΔL=(L0−L1)/L0×100 (L0:主たる収縮方向の収縮前の長さ、L1:主たる収縮方向の収縮後の長さ)
式〔2〕:ΔM=(M0−M1)/M0×100 (M0:主たる収縮方向に直交する方向の収縮前の長さ、M1:主たる収縮方向に直交する方向の収縮後の長さ)
式〔3〕:ΔL>0
式〔4〕:−(ΔL×0.3)≦ΔM≦ΔL
Formula [1]: ΔL = (L 0 −L 1 ) / L 0 × 100 (L 0 : length before contraction in the main contraction direction, L 1 : length after contraction in the main contraction direction)
Formula [2]: ΔM = (M 0 −M 1 ) / M 0 × 100 (M 0 : length before contraction in the direction orthogonal to the main contraction direction, M 1 : after contraction in the direction orthogonal to the main contraction direction Length)
Formula [3]: ΔL> 0
Formula [4]: − (ΔL × 0.3) ≦ ΔM ≦ ΔL

微細畝状凸レンズ部の異方性を強くしたい場合、すなわち、畝状凸レンズ部を面内でストライプ状に細長く延びた構造にしたい場合には、式〔3〕及び式〔5〕を満たすことが好ましい。
式〔5〕:−(ΔL×0.2)≦ΔM≦(ΔL×0.2)
それにより、得られる調光フィルムの異方拡散性を強くすることができる。
When it is desired to increase the anisotropy of the fine ridge-like convex lens portion, that is, when it is desired to make the ridge-like convex lens portion elongated in a stripe shape in the plane, the expressions [3] and [5] are satisfied. preferable.
Formula [5]: − (ΔL × 0.2) ≦ ΔM ≦ (ΔL × 0.2)
Thereby, the anisotropic diffusibility of the light control film obtained can be strengthened.

このように収縮条件を変更するだけで、調光フィルムの、畝状凸レンズ部頂点間距離、アスペクト比等を任意に調整できる。   As described above, the distance between the apexes of the ridge-like convex lens portions, the aspect ratio, and the like of the light control film can be arbitrarily adjusted simply by changing the contraction conditions.

なお、主たる収縮方向は、収縮する度合い(収縮率)が最も大きい方向である。例えば、熱可塑性樹脂からなるフィルムを延伸して得られた透明基材は加熱によって収縮する。フィルムの延伸を一軸方向にだけ行った場合には、通常、該延伸方向が主たる収縮方向になる。また二軸方向に延伸を行った場合には、通常、延伸した二つの方向のうち延伸倍率の大きい方向が主たる収縮方向になる。   The main shrinkage direction is the direction in which the degree of shrinkage (shrinkage rate) is the largest. For example, a transparent substrate obtained by stretching a film made of a thermoplastic resin shrinks by heating. When the film is stretched only in a uniaxial direction, the stretching direction is usually the main shrinking direction. Moreover, when extending | stretching to a biaxial direction, a direction with a large extending | stretching ratio becomes a main shrinking direction among two extended directions normally.

熱可塑性樹脂からなるフィルムを一軸延伸した時に延伸方向に直交する方向にフィルムが収縮する。この延伸時の収縮を利用した透明基材では、延伸方向に直交する方向が主たる収縮方向である。なお、主たる収縮方向に直交する方向の収縮率ΔMの値がマイナスのときは、収縮処理においてフィルムが伸びたことを表す。主たる収縮方向にフィルムが収縮したときに、主たる収縮方向に直交する方向の伸びが大きくなりすぎると薄膜に亀裂が生じやすくなる。このようなことから、主たる収縮方向に直交する方向の収縮率は、1%〜90%であることが好ましく、1%〜50%であることがより好ましい。   When a film made of a thermoplastic resin is uniaxially stretched, the film shrinks in a direction orthogonal to the stretching direction. In the transparent substrate using the shrinkage at the time of stretching, the direction perpendicular to the stretching direction is the main shrinking direction. In addition, when the value of the shrinkage rate ΔM in the direction orthogonal to the main shrinkage direction is negative, it indicates that the film has been stretched in the shrinkage treatment. When the film shrinks in the main shrinking direction, if the elongation in the direction perpendicular to the main shrinking direction becomes too large, the thin film tends to crack. For this reason, the shrinkage rate in the direction orthogonal to the main shrinkage direction is preferably 1% to 90%, and more preferably 1% to 50%.

褶曲の度合いの変化によって畝状凸レンズ部の頂点の曲率半径が変化する。褶曲の度合いは、薄膜及びフィルム基材の収縮率と、薄膜及びフィルム基材の厚さと、並びに薄膜及びフィルム基材の密着度合いによって変わる。
ある所定の厚さのフィルム基材や薄膜を如何に精密に均一に作成したとしても、薄膜及びフィルム基材の収縮率、薄膜及びフィルム基材の厚さ、並びに薄膜及びフィルム基材の密着度には、統計的確率で分布が生じる。この収縮率や厚さ等の統計的確率による分布によって、褶曲の度合いに統計的確率で分布が生じる。調光フィルムの製造方法は、この統計的確率で生じる分布を利用して、畝状凸レンズ部の頂点の曲率半径を隣合う畝状凸レンズ部相互に異ならしめたものである。
畝状凸レンズ部の頂点の曲率半径は、基材フィルム及び薄膜の材質、厚さ等の材料構成、及び薄膜層の成膜、基材フィルムの延伸、収縮等の製造条件に大きく依存している。例えば、σr/Xrを小さくするためには、前記材料構成及び製造条件の変動(例えば、厚さムラや延伸ムラ)を小さくすれば良く、逆にσr/Xrを大きくするためには、前記変動を大きくすれば良い。つまり、前記材料構成及び製造条件を調整することにより、Xr、σr/Xrを制御することが可能となる。
The radius of curvature of the apex of the saddle-shaped convex lens portion changes depending on the degree of curvature. The degree of bending varies depending on the shrinkage rate of the thin film and the film substrate, the thickness of the thin film and the film substrate, and the degree of adhesion between the thin film and the film substrate.
No matter how precisely and uniformly a film substrate or thin film having a predetermined thickness is produced, the shrinkage rate of the thin film and the film substrate, the thickness of the thin film and the film substrate, and the adhesion between the thin film and the film substrate Produces a distribution with statistical probability. By the distribution based on the statistical probability such as the shrinkage rate and the thickness, the distribution is generated with the statistical probability in the degree of folding. The manufacturing method of a light control film uses the distribution which arises with this statistical probability, and makes the curvature radius of the vertex of a saddle-like convex lens part different from adjacent saddle-like convex lens parts.
The radius of curvature of the apex of the saddle-like convex lens portion greatly depends on the material composition of the base film and the thin film, the material configuration such as the thickness, and the manufacturing conditions such as film formation of the thin film layer, stretching and contraction of the base film. . For example, in order to reduce σr / Xr, it is only necessary to reduce fluctuations in the material configuration and manufacturing conditions (for example, unevenness in thickness and unevenness in stretching), and conversely, in order to increase σr / Xr, the fluctuations described above. Should be increased. That is, Xr and σr / Xr can be controlled by adjusting the material configuration and manufacturing conditions.

畝状凸レンズ部間の距離、バラツキは、薄膜の材質、厚さ等の材料構成、及び基材フィルムの延伸、収縮等の製造条件に大きく依存している。例えば、Xpを小さくするためには、無機薄膜を用いる、若しくは薄膜の厚さを薄くすれば良く、逆にXpを大きくするためには、有機薄膜を用いる、若しくは薄膜の厚さを厚くすれば良い。また、σp/Xpを小さくするためには、基材フィルムの収縮の一軸性を高く(例えば、延伸倍率の異なる二軸延伸で、延伸倍率の差を大きくする)し、前記褶曲誘起構造を用いればよく、逆にσp/Xpを大きくするためには、基材フィルムの収縮の一軸性を低く(例えば、延伸倍率の異なる二軸延伸で、延伸倍率の差を小さくする)すれば良い。つまり、前記材料構成及び製造条件を調整することにより、Xp、σp/Xpを制御することが可能となる。   The distance and variation between the ridge-like convex lens portions largely depend on the material conditions such as the material and thickness of the thin film, and the production conditions such as stretching and shrinking of the base film. For example, in order to reduce Xp, an inorganic thin film may be used or the thickness of the thin film may be reduced. Conversely, in order to increase Xp, an organic thin film may be used or the thickness of the thin film may be increased. good. In order to reduce σp / Xp, the uniaxiality of the shrinkage of the base film is increased (for example, the difference in stretch ratio is increased by biaxial stretching with different stretch ratios), and the bending induction structure is used. Conversely, in order to increase σp / Xp, the uniaxiality of the shrinkage of the base film may be lowered (for example, the difference in the draw ratio is reduced by biaxial stretching with different draw ratios). That is, Xp and σp / Xp can be controlled by adjusting the material configuration and manufacturing conditions.

〔有機EL素子〕
本発明に用いられる有機EL素子は、下部電極層、発光材料層および上部電極層を最小構成単位として有するものであれば、有機EL素子の構造によって特に制限されない。典型的な有機EL素子は、基板、下部電極層、発光材料層、上部電極層、封止層とがこの順に積層されてなるものである。基板と封止層は下部電極層、発光材料層および上部電極層を支持し、保護するための部分である。
[Organic EL device]
The organic EL element used in the present invention is not particularly limited by the structure of the organic EL element as long as it has a lower electrode layer, a light emitting material layer, and an upper electrode layer as minimum constituent units. A typical organic EL element is formed by laminating a substrate, a lower electrode layer, a light emitting material layer, an upper electrode layer, and a sealing layer in this order. The substrate and the sealing layer are portions for supporting and protecting the lower electrode layer, the light emitting material layer, and the upper electrode layer.

有機EL素子に用いる基板としては、400〜700nmの可視領域の光の透過率が、50%以上で、平滑であり、かつ電極や該素子の各層を形成する際に変質しないものであるのが好ましい。このような基板としては、ガラス板、高分子フィルム等が挙げられる。基板の平均厚さは、通常30μm〜3mmで好ましくは50〜300μmである。   As a substrate used for an organic EL element, the light transmittance in the visible region of 400 to 700 nm is 50% or more, is smooth, and does not change in quality when the electrode or each layer of the element is formed. preferable. Examples of such a substrate include a glass plate and a polymer film. The average thickness of the substrate is usually 30 μm to 3 mm, preferably 50 to 300 μm.

有機EL素子に用いる上部電極層を構成する材料は、特に制限されず、例えば、導電性の金属酸化物や半透明の金属またはその積層体が挙げられる。具体的には、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、およびそれらの複合体であるインジウム・スズ・オキサイド(ITO)、インジウム・亜鉛・オキサイド等からなる透明導電性物質(NESAなど)や、金、白金、銀、銅等が用いられ、中でもITO、インジウム・亜鉛・オキサイド、酸化スズが好ましい。   The material which comprises the upper electrode layer used for an organic EL element is not restrict | limited in particular, For example, a conductive metal oxide, a translucent metal, or its laminated body is mentioned. Specifically, indium oxide, zinc oxide, tin oxide, and composites thereof, such as indium tin oxide (ITO), transparent conductive materials such as indium zinc oxide, etc. (NESA etc.), gold, Platinum, silver, copper and the like are used, and among them, ITO, indium / zinc / oxide, and tin oxide are preferable.

上部電極層の平均厚さは、光の透過性と電気伝導度とを考慮して、適宜選択することができるが、通常10nm〜10μmであり、好ましくは100〜500nmである。
本発明の発光素子においては、上部電極層が透明又は半透明であることが、発光の取出し効率がよく好都合である。上部電極層の作成方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、金属薄膜を熱圧着するラミネート法が挙げられる。
The average thickness of the upper electrode layer can be appropriately selected in consideration of light transmittance and electrical conductivity, but is usually 10 nm to 10 μm, preferably 100 to 500 nm.
In the light emitting device of the present invention, it is convenient that the upper electrode layer is transparent or translucent because the emission efficiency of light emission is good. Examples of the method for forming the upper electrode layer include a vacuum deposition method, a sputtering method, and a laminating method in which a metal thin film is thermocompression bonded.

有機EL素子に用いる発光材料層を構成する材料は、特に制限はなく、有機EL素子における発光材料として公知のものを用いることができる。このような発光材料としては、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系などの蛍光増白剤や、金属キレート化オキシノイド化合物、スチリルベンゼン系化合物、ジスチリルピラジン誘導体、芳香族ジメチリジン化合物などが挙げられる。
発光材料層の平均厚さは、用いる材料によって最適値が異なり、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように選択すればよいが、通常は1nm〜1μmであり、好ましくは2nm〜500nmである。
本発明の発光素子においては、発光材料層に2種類以上の発光材料を混合して使用してもよく、2層以上の発光材料層が積層されていてもよい。発光材料層の作成方法としては、真空蒸着法、キャスト法などが挙げられる。
There is no restriction | limiting in particular in the material which comprises the light emitting material layer used for an organic EL element, A well-known thing can be used as a light emitting material in an organic EL element. Examples of such luminescent materials include fluorescent brighteners such as benzothiazole, benzimidazole, and benzoxazole, metal chelated oxinoid compounds, styrylbenzene compounds, distyrylpyrazine derivatives, and aromatic dimethylidine compounds. It is done.
The average thickness of the light-emitting material layer varies depending on the material used, and may be selected so that the drive voltage and the light emission efficiency are appropriate. Usually, the thickness is 1 nm to 1 μm, preferably 2 nm to 500 nm. is there.
In the light emitting device of the present invention, two or more kinds of light emitting materials may be mixed and used in the light emitting material layer, or two or more light emitting material layers may be laminated. Examples of the method for forming the light emitting material layer include a vacuum deposition method and a casting method.

有機EL素子に用いる下部電極層を構成する材料としては、仕事関数の小さい材料が好ましく、発光材料層から下部電極層側に向かう発光光を反射させ、封止層側に向かわせるため鏡面体であることがさらに好ましい。具体的には、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、スカンジウム、バナジウム、亜鉛、イットリウム、インジウム、セリウム、サマリウム、ユーロピウム、テルビウム、イッテルビウムなどの金属、およびこれらから選ばれる2つ以上の金属の合金、若しくはこれらから選ばれる1つ以上の金属と、金、銀、白金、銅、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、及び錫の中から選ばれる1つ以上の金属との合金、グラファイト若しくはグラファイト層間化合物等が用いられる。合金の具体例としては、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金、インジウム−銀合金、リチウム−アルミニウム合金、リチウム−マグネシウム合金、リチウム−インジウム合金、カルシウム−アルミニウム合金などが挙げられる。下部電極層は2層以上の積層構造としてもよい。下部電極層の作成方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、メッキ法などが挙げられる。
下部電極層の平均厚さは、電気伝導度や耐久性を考慮して、適宜選択することができるが、通常10nm〜10μm、好ましくは100〜500nmである。
As a material constituting the lower electrode layer used in the organic EL element, a material having a small work function is preferable. In order to reflect emitted light from the light emitting material layer toward the lower electrode layer and to direct toward the sealing layer, a mirror body is used. More preferably it is. Specifically, metals such as lithium, sodium, potassium, rubidium, cesium, beryllium, magnesium, calcium, strontium, barium, aluminum, scandium, vanadium, zinc, yttrium, indium, cerium, samarium, europium, terbium, ytterbium, And an alloy of two or more metals selected from these, or one or more metals selected from these, and selected from gold, silver, platinum, copper, manganese, titanium, cobalt, nickel, tungsten, and tin An alloy with one or more metals, graphite, a graphite intercalation compound, or the like is used. Specific examples of the alloy include magnesium-silver alloy, magnesium-indium alloy, magnesium-aluminum alloy, indium-silver alloy, lithium-aluminum alloy, lithium-magnesium alloy, lithium-indium alloy, and calcium-aluminum alloy. . The lower electrode layer may have a laminated structure of two or more layers. Examples of the method for forming the lower electrode layer include a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, and a plating method.
The average thickness of the lower electrode layer can be appropriately selected in consideration of electric conductivity and durability, but is usually 10 nm to 10 μm, preferably 100 to 500 nm.

封止層は、好ましくは水蒸気バリア性に優れるフィルムで形成される。封止層を構成する材料は、水蒸気透過率の低い材料から選択される。例えば、シクロオレフィンポリマー;パーフルオロオレフィンなどのフッ素樹脂、樹脂膜とシリコン窒化酸化物膜との積層構造体;Si34やダイアモンド様炭素膜;シクロオレフィンポリマー、パーフルオロオレフィンなどの樹脂をターゲットとして用いたCVD膜;フッ素化合物若しくは脂環式構造含有重合体と金属の単体若しくは金属化合物とを原料としてなる有機膜、金属の単体又は金属化合物を原料としてなる無機膜および透明樹脂基材からなる積層体;などが挙げられる。封止層の水蒸気透過率は、好ましくは0.005g/m2・Day以下(25℃、75%RH)であることが好ましい。 The sealing layer is preferably formed of a film having excellent water vapor barrier properties. The material constituting the sealing layer is selected from materials having a low water vapor transmission rate. For example, cycloolefin polymer; fluorine resin such as perfluoroolefin, laminated structure of resin film and silicon nitride oxide film; Si 3 N 4 or diamond-like carbon film; target resin such as cycloolefin polymer and perfluoroolefin CVD film used as: an organic film using a fluorine compound or alicyclic structure-containing polymer and a metal simple substance or a metal compound as a raw material, an inorganic film using a metal simple substance or a metal compound as a raw material, and a transparent resin substrate Laminates; and the like. The water vapor transmission rate of the sealing layer is preferably 0.005 g / m 2 · Day or less (25 ° C., 75% RH).

本発明に用いる有機EL素子は、基板、下部電極層、発光材料層、上部電極層及び封止層のほかに他の層を有していてもよい。
他の層としては、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層が挙げられる。
正孔注入層とは、陽極に隣接して設ける層であり、陽極からの正孔注入効率を改善する機能を有する層をいう。正孔注入層の平均厚さは、通常1nm〜100nm、好ましくは2nm〜50nmである。
The organic EL element used in the present invention may have other layers in addition to the substrate, the lower electrode layer, the light emitting material layer, the upper electrode layer, and the sealing layer.
Examples of the other layers include a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, and an electron injection layer.
The hole injection layer is a layer provided adjacent to the anode and refers to a layer having a function of improving hole injection efficiency from the anode. The average thickness of the hole injection layer is usually 1 nm to 100 nm, preferably 2 nm to 50 nm.

正孔輸送層とは、正孔を輸送する機能を有する層をいう。正孔輸送層の厚さは、用いる材料によって最適値が異なり、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように選択すればよいが、少なくともピンホールが発生しないような厚さが必要であり、あまり厚いと、素子の駆動電圧が高くなり好ましくない。したがって、正孔輸送層の平均厚さは、通常1nm〜1μm、好ましくは2nm〜500nmである。
正孔注入層や正孔輸送層に用いる材料としては、従来有機EL素子における正孔伝達化合物として公知のものが挙げられる。
The hole transport layer refers to a layer having a function of transporting holes. The thickness of the hole transport layer differs depending on the material used and may be selected so that the drive voltage and the light emission efficiency are appropriate, but at least a thickness that does not cause pinholes is required. If the thickness is too thick, the driving voltage of the element increases, which is not preferable. Therefore, the average thickness of the hole transport layer is usually 1 nm to 1 μm, preferably 2 nm to 500 nm.
Examples of materials used for the hole injection layer and the hole transport layer include those conventionally known as hole transport compounds in organic EL devices.

電子輸送層とは、電子を輸送する機能を有する層をいう。
電子輸送層の厚さは、用いる材料によって最適値が異なり、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように選択すればよいが、少なくともピンホールが発生しないような厚さが必要であり、あまり厚いと、素子の駆動電圧が高くなり好ましくない。したがって、電子輸送層の平均厚さは、通常1nm〜1μm、好ましくは2nm〜500nmである。
電子注入層とは、陰極に隣接して設けた層であって、陰極からの電子注入効率を改善する機能を有し、素子の駆動電圧を下げる効果を有するものをいう。
電子注入層の平均厚さは、通常1nm〜100nmであり、好ましくは2nm〜50nmである。
電子輸送層、電子注入層に用いる材料としては、従来有機EL素子における電子伝達化合物として公知のものが挙げられる。
これらその他の層の作成方法としては、スピンコート法、キャスト法、真空蒸着法などが挙げられる。
The electron transport layer refers to a layer having a function of transporting electrons.
The thickness of the electron transport layer varies depending on the material used and may be selected so that the driving voltage and the light emission efficiency are appropriate values, but at least a thickness that does not cause pinholes is required. If the thickness is too thick, the drive voltage of the element becomes high, which is not preferable. Therefore, the average thickness of the electron transport layer is usually 1 nm to 1 μm, preferably 2 nm to 500 nm.
The electron injection layer is a layer provided adjacent to the cathode and has a function of improving the electron injection efficiency from the cathode and has an effect of lowering the driving voltage of the element.
The average thickness of the electron injection layer is usually 1 nm to 100 nm, preferably 2 nm to 50 nm.
Examples of materials used for the electron transport layer and the electron injection layer include those conventionally known as electron transport compounds in organic EL devices.
Examples of methods for forming these other layers include spin coating, casting, and vacuum deposition.

本発明の発光素子は、前記有機EL素子の出光側に、前記調光フィルムを備えるものである。有機EL素子がボトムエミッション方式である場合は、調光フィルムを透明基板側に設ける。有機EL素子がトップエミッション方式である場合は、調光フィルムを封止層側に設ける。前述したように有機EL素子は下部電極層、発光材料層および上部電極層を最小構成単位として有するものであるので、前述した基板または封止層に替えて、前記調光フィルムを用いることができる。前記の調光フィルムを基板または封止層に用いることによって、有機EL素子の層構成を単純にでき、より薄膜にすることができるようになる。調光フィルムを基板または封止層に用いる場合には、畝状凸レンズ部が設けられていない平らな面に下部電極層又は上部電極層が積層されるようにしてもよいし、畝状凸レンズ部側の凹凸面に下部電極層又は上部電極層が積層されるようにしてもよい。   The light emitting device of the present invention comprises the light control film on the light output side of the organic EL device. When the organic EL element is a bottom emission method, a light control film is provided on the transparent substrate side. When the organic EL element is a top emission system, a light control film is provided on the sealing layer side. As described above, since the organic EL element has the lower electrode layer, the light emitting material layer, and the upper electrode layer as the minimum structural units, the light control film can be used in place of the substrate or the sealing layer described above. . By using the light control film as a substrate or a sealing layer, the layer structure of the organic EL element can be simplified and the film can be made thinner. When the light control film is used for the substrate or the sealing layer, the lower electrode layer or the upper electrode layer may be laminated on a flat surface where the ridge-like convex lens portion is not provided, or the ridge-like convex lens portion. The lower electrode layer or the upper electrode layer may be laminated on the uneven surface on the side.

本発明の発光素子は、非発光時において、波長400nm〜800nmの範囲の光線透過率が好ましくは80%以上、特に好ましくは90%以上である。自動車等のフロントガラス等に本発明の発光素子を設けても、非発光時における光線透過率が高いことから、前方視認性が妨げられないという効果を奏するようになる。   The light-emitting element of the present invention has a light transmittance in the wavelength range of 400 nm to 800 nm, preferably 80% or more, particularly preferably 90% or more, when no light is emitted. Even when the light-emitting element of the present invention is provided on a windshield of an automobile or the like, the light transmittance at the time of non-light emission is high, so that the front visibility is not hindered.

本発明の発光素子は、面状光源、セグメント表示装置、ドットマトリックス表示装置、液晶表示装置のバックライトや面状光源等として用いることができる。   The light-emitting element of the present invention can be used as a planar light source, a segment display device, a dot matrix display device, a backlight of a liquid crystal display device, a planar light source, and the like.

本発明の発光素子を備えた面状光源とするためには、面状の陽極(上部電極層)と陰極(下部電極層)を配置すればよい。また、パターン状の発光を得るためには、前記面状の発光素子の表面にパターン状の窓を設けたマスクを設置する方法、非発光部の有機物層を極端に厚く形成し実質的に非発光とする方法、陽極または陰極のいずれか一方、または両方の電極をパターン状に形成する方法がある。これらのいずれかの方法でパターンを形成し、いくつかの電極を独立にOn/Offできるように配置することにより、数字や文字、簡単な記号などを表示できるセグメントタイプの表示素子が得られる。   In order to obtain a planar light source including the light emitting element of the present invention, a planar anode (upper electrode layer) and a cathode (lower electrode layer) may be disposed. In addition, in order to obtain pattern-like light emission, a method of installing a mask provided with a pattern-like window on the surface of the planar light-emitting element, an organic material layer of a non-light-emitting portion is formed extremely thick and substantially non- There are a method of emitting light and a method of forming either one of the anode or the cathode or both electrodes in a pattern. By forming a pattern by any of these methods and arranging several electrodes so that they can be turned on / off independently, a segment type display element capable of displaying numbers, letters, simple symbols, and the like can be obtained.

更に、ドットマトリックス素子とするためには、陽極と陰極をともにストライプ状に形成して直交するように配置すればよい。複数の種類の発光色の異なる重合体を塗り分ける方法や、カラーフィルターまたは蛍光変換フィルターを用いる方法により、部分カラー表示、マルチカラー表示が可能となる。ドットマトリックス素子は、パッシブ駆動でも、アモルファスシリコンや低温ポリシリコンを用いた薄膜トランジスタなどと組み合わせたアクティブ駆動でもよい。これらの表示素子は、コンピュータ、テレビ、携帯端末、携帯電話、カーナビゲーション、ビデオカメラのビューファインダーなどの表示装置として用いることができる。   Further, in order to obtain a dot matrix element, both the anode and the cathode may be formed in a stripe shape and arranged so as to be orthogonal to each other. Partial color display and multi-color display are possible by a method of separately coating a plurality of types of polymers having different emission colors or a method using a color filter or a fluorescence conversion filter. The dot matrix element may be either passive drive or active drive combined with a thin film transistor using amorphous silicon or low-temperature polysilicon. These display elements can be used as display devices for computers, televisions, mobile terminals, mobile phones, car navigation systems, video camera viewfinders, and the like.

前記面状の発光素子は、自発光薄型であり、液晶表示装置のバックライト用の面状光源、あるいは面状の照明用光源として好適に用いることができる。また、フレキシブルな基板を用いれば、曲面状の光源や表示装置としても使用できる。   The planar light emitting element is self-luminous and thin, and can be suitably used as a planar light source for a backlight of a liquid crystal display device or a planar illumination light source. If a flexible substrate is used, it can be used as a curved light source or display device.

以下に実施例、比較例を挙げて、本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples.

(調光フィルム表面の畝状凸レンズ部のサイズ)
電界放出形走査電子顕微鏡(S−4700、日立製作所製)にて、フィルム表面に形成された構造を撮影した。走査電子顕微鏡像を画像解析ソフト(SoftImagingSystem製、AnlySIS)を用いて、2次元高速フーリエ変換し、空間周波数のパワースペクトル分布を求め、周期性を強く示す方向を読み取った。この方向にウルトラミクロトームを用いて切断し、その断面を走査型電子顕微鏡(日立製作所製、S−4700)で写真撮影した。
この断面写真撮影をフィルム幅方向および流れ方向に少なくとも10cm以上離れた3箇所の点で行った。その3箇所での走査型電子顕微鏡写真像から、畝状凸レンズ部頂点間距離を30点計測し、平均値および標準偏差を求めた。曲率半径については、畝状凸レンズ部の頂部分を画像処理にてフィッテングし、30点全ての頂点の曲率半径を測定し、平均値および標準偏差を求めた。また、畝の長さおよび幅も同様に30点測定し平均値を求めた。
(Size of ridge-like convex lens on the light control film surface)
The structure formed on the film surface was photographed with a field emission scanning electron microscope (S-4700, manufactured by Hitachi, Ltd.). The scanning electron microscope image was subjected to two-dimensional fast Fourier transform using image analysis software (Soft Imaging System, AnySIS) to determine the spatial frequency power spectrum distribution, and the direction showing strong periodicity was read. The film was cut in this direction using an ultramicrotome, and the cross section was photographed with a scanning electron microscope (manufactured by Hitachi, Ltd., S-4700).
This cross-sectional photography was performed at three points at least 10 cm apart in the film width direction and the flow direction. From the scanning electron micrograph images at the three locations, the distance between the apexes of the saddle-like convex lens portions was measured at 30 points, and the average value and the standard deviation were obtained. As for the radius of curvature, the apex portion of the saddle-like convex lens portion was fitted by image processing, the radius of curvature of all 30 vertices was measured, and the average value and the standard deviation were obtained. In addition, the length and width of the ridges were similarly measured at 30 points to obtain an average value.

(全光線透過率、ヘイズ)
濁度計(日本電色製 NDH2000型)を使用し、JIS−K−7105に準拠し測定した。
(Total light transmittance, haze)
Using a turbidimeter (NDH2000 model, manufactured by Nippon Denshoku), the measurement was performed according to JIS-K-7105.

製造例1 (延伸倍率1.2の一軸延伸フィルム)
脂環式オレフィンポリマー(ZEONOR1420、ガラス転移温度136℃、日本ゼオン社製)のペレットを、窒素を流通させた熱風乾燥機中にて、100℃で4時間乾燥した。 このペレットを、50mmφのスクリューを備えたTダイ式フィルム溶融押出成形機に供給し、溶融樹脂温度260℃で押出して、幅650mm、厚さ188μmのフィルムを成形し、続いて両端から25mmずつをトリミングして幅600mmの基材フィルムを得た。
Production Example 1 (Uniaxially stretched film with a draw ratio of 1.2)
Pellets of alicyclic olefin polymer (ZEONOR 1420, glass transition temperature 136 ° C., manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) were dried at 100 ° C. for 4 hours in a hot air dryer in which nitrogen was circulated. The pellets are supplied to a T-die film melt extrusion molding machine equipped with a 50 mmφ screw and extruded at a molten resin temperature of 260 ° C. to form a film having a width of 650 mm and a thickness of 188 μm. Trimming was performed to obtain a base film having a width of 600 mm.

幅600mmの基材フィルムの両端をクリップで把持し、テンター延伸機内に導入し、温度150℃でフィルム幅方向に1.2倍、フィルム流れ方向に1.0倍になるように横一軸延伸した。テンター延伸機から出てきたフィルムをクリップから外し、両端を連続的にトリミングして幅700mmの延伸フィルム(1)を得た。   The both ends of a base film having a width of 600 mm were gripped by clips, introduced into a tenter stretching machine, and stretched laterally and uniaxially at a temperature of 150 ° C. so as to be 1.2 times in the film width direction and 1.0 times in the film flow direction. . The film coming out of the tenter stretching machine was removed from the clip, and both ends were continuously trimmed to obtain a stretched film (1) having a width of 700 mm.

製造例2 (延伸倍率2.0の一軸延伸フィルム)
製造例1において、延伸倍率を、フィルム幅方向に2.0倍、フィルム流れ方向に1.0倍に変えた以外は製造例1と同様の方法によって、幅1000mmの延伸フィルム(2)を得た。
Production Example 2 (Uniaxially stretched film with a draw ratio of 2.0)
In Production Example 1, a stretched film (2) having a width of 1000 mm was obtained in the same manner as in Production Example 1, except that the stretching ratio was changed to 2.0 times in the film width direction and 1.0 times in the film flow direction. It was.

製造例3 (二軸延伸フィルム(延伸倍率:横1.6倍、縦1.3倍))
製造例1で得た幅600mmの基材フィルムを、縦一軸延伸装置を用い145℃の温度で縦方向に1.3倍に延伸した。次いで、この縦延伸フィルムをテンター延伸(横一軸延伸)装置に送り150℃で、フィルム幅方向に1.6倍、フィルム流れ方向に1.0倍に延伸し、延伸フィルム(3)を得た。
Production Example 3 (Biaxially stretched film (stretch ratio: 1.6 times width, 1.3 times length))
The base film having a width of 600 mm obtained in Production Example 1 was stretched 1.3 times in the longitudinal direction at a temperature of 145 ° C. using a longitudinal uniaxial stretching apparatus. Subsequently, this longitudinally stretched film was sent to a tenter stretching (lateral uniaxial stretching) apparatus, and stretched 1.6 times in the film width direction and 1.0 times in the film flow direction at 150 ° C. to obtain a stretched film (3). .

製造例4 (紫外線硬化性樹脂)
ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート(NKエステル AD−TMP、新中村化学製)90.0質量部、光開始剤(イルガキュアー907、チバガイギー製)10.0質量部、および酢酸ブチル900.0質量部を混合し、均一になるまで撹拌し、次いで1μmのフィルタで濾過して、紫外線硬化性樹脂溶液を調製した。
Production Example 4 (UV curable resin)
Mixing 90.0 parts by mass of ditrimethylolpropane tetraacrylate (NK ester AD-TMP, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), 10.0 parts by mass of photoinitiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy), and 900.0 parts by mass of butyl acetate The mixture was stirred until uniform and then filtered through a 1 μm filter to prepare an ultraviolet curable resin solution.

製造例5 (有機EL素子)
厚さ1mmのガラス基板の片面側に、ITOセラミックターゲット(In23:SnO2=90重量%:10重量%)を使用しスパッタリング法にて、厚さ100nmのITO膜を形成し、透明電極(陽極)を形成した。フォトレジストを用いて、発光面積が20mm×20mmになるように、ITOをエッチングし、パターンを形成した後、超音波洗浄を行い、低圧紫外線ランプを用いてオゾン洗浄した。次いで、ITO面上に、真空蒸着法により、有機層を次のように順次形成した。
Production Example 5 (Organic EL device)
An ITO ceramic target (In 2 O 3 : SnO 2 = 90% by weight: 10% by weight) is formed on one side of a glass substrate having a thickness of 1 mm by sputtering to form an ITO film having a thickness of 100 nm and transparent. An electrode (anode) was formed. ITO was etched using a photoresist so that the light emitting area was 20 mm × 20 mm, a pattern was formed, ultrasonic cleaning was performed, and ozone cleaning was performed using a low-pressure ultraviolet lamp. Next, organic layers were sequentially formed on the ITO surface by vacuum deposition as follows.

まず、正孔注入層として式(1)で表されるCuPcを、蒸着速度0.3nm/sで、15nmの厚さに形成した。つぎに、正孔輸送性青色発光層として式(2)で表されるTPDを、蒸着速度0.3nm/sで、40nmの厚さに形成した。ついで、正孔ブロック層として式(3)で表されるTAZを、蒸着速度0.3nm/sで、15nmの厚さに形成した。最後に、電子輸送層として式(4)で表されるAlqを、蒸着速度0.3nm/sで、90nmの厚さに形成した。その後、Mgを1nm/s、Agを0.1nm/sの蒸着速度にて共蒸着し、厚さ100nmのMgAgを形成し、MgAgの酸化防止の観点から、MgAgの上にAgを50nm形成して、反射性電極(陰極)とした。真空蒸着装置から取り出し、陰極電極側に紫外線硬化性エポキシ樹脂を滴下し、その上に厚さ1mmのガラスを被せ、十分にエポキシ樹脂が広がった時点で紫外線照射(積算光量150mJ/cm2)行いエポキシ樹脂を硬化させて、有機EL素子を作成した。 First, CuPc represented by the formula (1) as a hole injection layer was formed to a thickness of 15 nm at a deposition rate of 0.3 nm / s. Next, TPD represented by Formula (2) as a hole transporting blue light emitting layer was formed to a thickness of 40 nm at a deposition rate of 0.3 nm / s. Next, TAZ represented by the formula (3) was formed as a hole blocking layer at a deposition rate of 0.3 nm / s to a thickness of 15 nm. Finally, Alq represented by the formula (4) as an electron transport layer was formed to a thickness of 90 nm at a deposition rate of 0.3 nm / s. Thereafter, Mg is co-deposited at a deposition rate of 1 nm / s and Ag is 0.1 nm / s to form MgAg with a thickness of 100 nm. From the viewpoint of preventing MgAg oxidation, 50 nm of Ag is formed on MgAg. Thus, a reflective electrode (cathode) was obtained. Take out from the vacuum evaporation system, drop UV curable epoxy resin on the cathode electrode side, cover it with 1mm thick glass, and irradiate with UV when the epoxy resin spreads sufficiently (integrated light quantity 150mJ / cm 2 ) The epoxy resin was cured to produce an organic EL element.

Figure 2009032463
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実施例1
製造例1で得た延伸フィルム(1)をコロナ放電処理して表面改質した。該フィルムに、製造例4で作製した紫外線硬化性樹脂溶液を、グラビアコーターを用いて、乾燥膜厚が0.4μmになるように塗布し、80℃で5分間乾燥させ、次いで、超高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射(積算光量400mJ/cm2)し、塗膜を硬化させて、積層フィルムを得た。
次いで、積層フィルムを、140℃の温風を循環させた乾燥機を通過させて、積層フィルムを収縮させて、調光フィルム1を得た。
Example 1
The stretched film (1) obtained in Production Example 1 was subjected to corona discharge treatment for surface modification. The UV curable resin solution prepared in Production Example 4 was applied to the film using a gravure coater so that the dry film thickness was 0.4 μm, dried at 80 ° C. for 5 minutes, and then ultrahigh pressure mercury. A laminated film was obtained by irradiating with an ultraviolet ray using a lamp (integrated light quantity: 400 mJ / cm 2 ) and curing the coating film.
Next, the laminated film was passed through a dryer in which hot air at 140 ° C. was circulated, and the laminated film was contracted to obtain a light control film 1.

図2及び図3に示すように、調光フィルム1の表面には複数の畝状凸レンズ部が形成され、紫外線硬化性樹脂で形成された薄膜が畝状凸レンズ部の形状に対応するように褶曲して積層され、薄膜層側表面は畝状凸レンズ部の形状が浮き出し起伏していた。畝状凸レンズ部は、畝の長手方向が一方向にほぼ揃い、畝の短手方向に強い周期性を示すものであった。また、少なくとも一組の隣接する畝状凸レンズ部の頂点の曲率半径が互いに異なっていた。畝の長さと幅の比が5以上であった。   As shown in FIGS. 2 and 3, a plurality of hook-like convex lens portions are formed on the surface of the light control film 1, and a thin film formed of an ultraviolet curable resin is bent so as to correspond to the shape of the hook-like convex lens portions. Thus, the surface of the thin film layer was raised and undulated on the surface of the thin film layer. The ridge-like convex lens portion had a long longitudinal direction of the ridge substantially aligned in one direction and exhibited strong periodicity in the short direction of the ridge. Further, the radii of curvature at the vertices of at least one pair of adjacent saddle-shaped convex lens portions were different from each other. The ratio of the length and width of the ridges was 5 or more.

畝状凸レンズ部の頂点の曲率半径の平均値(Xr)は0.25μm、標準偏差(σr)は0.028μm、σr/Xrは0.112であった。
畝状凸レンズ部の間隔の平均値(Xp)は1.8μm、標準偏差(σp)は0.66μm、σp/Xpは0.367であった。
また、畝状凸レンズ部の平均アスペクト比は0.5であった。調光フィルム1は、全光線透過率が88%、ヘイズが80%であった。
The average value (Xr) of the radius of curvature of the apex of the saddle-like convex lens portion was 0.25 μm, the standard deviation (σr) was 0.028 μm, and σr / Xr was 0.112.
The average value (Xp) of the interval between the saddle-shaped convex lens portions was 1.8 μm, the standard deviation (σp) was 0.66 μm, and σp / Xp was 0.367.
The average aspect ratio of the saddle-like convex lens portion was 0.5. The light control film 1 had a total light transmittance of 88% and a haze of 80%.

調光フィルム1の畝状凸レンズ部の形成されていない平らな面側をコロナ放電処理し、次いで該処理面に、固形分濃度が20%になるようにアクリル系接着剤を酢酸ブチルに溶解させた溶液を、アプリケータを用いて塗布し、50℃の乾燥機内で5分間乾燥させ、厚さ5μmの接着層を積層させた。
図10のごとく、前記有機EL素子のガラス基板側に、上記の接着層を積層させた調光フィルム1を重ねて貼り合わせて、発光素子1を作製した。
発光素子1の陽極層と陰極層の間に5Vの電圧を印加し発光させた。発光素子1からの出光を輝度計(Prometric社製)にて測定した。なお、光取出効率は後述の比較例1を基準としてそれに対する倍率で表した。発光素子1は、発光輝度が240cd/m2、光取り出し効率が2.4倍であった。
次いで、スチールウール#0000を発光素子1の調光フィルム1側に接触させ、荷重0.02MPaをかけた状態で、30往復させた。Prometric社製輝度計による測定で光取り出し効率は2.4倍が維持されていた。また、発光素子1を60℃×85%RH環境下に500時間放置したが、そりなどの変形は全く見られなかった。
The flat surface side of the light control film 1 where the ridge-like convex lens portion is not formed is subjected to corona discharge treatment, and then the acrylic adhesive is dissolved in butyl acetate so that the solid content concentration is 20% on the treated surface. The solution was applied using an applicator, dried in a dryer at 50 ° C. for 5 minutes, and an adhesive layer having a thickness of 5 μm was laminated.
As shown in FIG. 10, the light-emitting element 1 was produced by laminating the light control film 1 on which the adhesive layer was laminated on the glass substrate side of the organic EL element.
A voltage of 5 V was applied between the anode layer and the cathode layer of the light-emitting element 1 to emit light. The light output from the light emitting element 1 was measured with a luminance meter (Prometric). The light extraction efficiency was expressed as a magnification relative to Comparative Example 1 described later. The light-emitting element 1 had an emission luminance of 240 cd / m 2 and a light extraction efficiency of 2.4 times.
Next, steel wool # 0000 was brought into contact with the light control film 1 side of the light-emitting element 1 and reciprocated 30 times in a state where a load of 0.02 MPa was applied. The light extraction efficiency was maintained at 2.4 times as measured by a luminance meter manufactured by Prometric. Further, the light-emitting element 1 was left in an environment of 60 ° C. × 85% RH for 500 hours, but no deformation such as warping was observed.

実施例2
製造例1で得た延伸フィルム(1)を製造例2で得た延伸フィルム(2)に替え、紫外線硬化性樹脂溶液を乾燥膜厚が4.0μmになるように塗布した以外は実施例1と同様の方法によって、調光フィルム2を得た。
図4に示すように調光フィルム2の表面には複数の畝状凸レンズ部が形成され、紫外線硬化性樹脂で形成された薄膜が畝状凸レンズ部の形状に対応するように褶曲して積層され、薄膜層側表面は畝状凸レンズ部の形状が浮き出し起伏していた。畝状凸レンズ部は、畝の長手方向が一方向にほぼ揃い、畝の短手方向に強い周期性を示すものであった。また、少なくとも一組の隣接する畝状凸レンズ部の頂点の曲率半径が互いに異なっていた。畝の長さと幅の比が5以上であった。フィルムの断面形状を測定したところ、畝状凸レンズ部の間隔の平均値(Xp)は38.0μm、標準偏差(σp)は3.90μm、σp/Xpは0.103であった。調光フィルム2は、全光線透過率が79%、ヘイズが77%であった。
Example 2
Example 1 except that the stretched film (1) obtained in Production Example 1 was replaced with the stretched film (2) obtained in Production Example 2 and an ultraviolet curable resin solution was applied so that the dry film thickness was 4.0 μm. The light control film 2 was obtained by the method similar to.
As shown in FIG. 4, a plurality of ridge-like convex lens portions are formed on the surface of the light control film 2, and a thin film formed of an ultraviolet curable resin is bent and laminated so as to correspond to the shape of the ridge-like convex lens portion. On the thin film layer side surface, the shape of the ridge-like convex lens portion was raised and undulated. The ridge-like convex lens portion had a long longitudinal direction of the ridge substantially aligned in one direction and exhibited strong periodicity in the short direction of the ridge. Further, the radii of curvature at the vertices of at least one pair of adjacent saddle-shaped convex lens portions were different from each other. The ratio of the length and width of the ridges was 5 or more. When the cross-sectional shape of the film was measured, the average value (Xp) of the interval between the saddle-shaped convex lens portions was 38.0 μm, the standard deviation (σp) was 3.90 μm, and σp / Xp was 0.103. The light control film 2 had a total light transmittance of 79% and a haze of 77%.

次いで、実施例1と同様にして、調光フィルム2を有機EL素子に積層して発光素子2を作製した。発光素子2は、発光輝度が230cd/m2、光取り出し効率が2.3倍であった。また、実施例1と同様にして、スチールウール耐久性試験、および高温高湿耐久性試験を行った。発光素子2は、各耐久試験においても、光取り出し効率の低下、及びそりなどの変形は全く見られなかった。 Next, in the same manner as in Example 1, the light control film 2 was laminated on the organic EL device to produce the light emitting device 2. The light-emitting element 2 had an emission luminance of 230 cd / m 2 and a light extraction efficiency of 2.3 times. Further, in the same manner as in Example 1, a steel wool durability test and a high temperature and high humidity durability test were conducted. The light-emitting element 2 did not show any reduction in light extraction efficiency and deformation such as warpage in each durability test.

実施例3
製造例1で得た延伸フィルム(1)を製造例3で得た延伸フィルム(3)に替え、紫外線硬化性樹脂溶液を乾燥膜厚を1.7μmになるように塗布した以外は実施例1と同様の方法によって、調光フィルム3を得た。
図5に示すように、調光フィルム3の表面には複数の畝状凸レンズ部が形成され、紫外線硬化性樹脂で形成された薄膜が畝状凸レンズ部の形状に対応するように褶曲して積層され、薄膜層側表面は畝状凸レンズ部の形状が浮き出し起伏していた。畝状凸レンズは、図5のごとく、畝が複雑に曲がり、周期性の強い方向と弱い方向との差が小さいものであった。また、少なくとも一組の隣接する畝状凸レンズ部の頂点の曲率半径が互いに異なっていた。畝の長さと幅との比は5以上であった。
畝状凸レンズ部の間隔の平均値(Xp)は5.4μm、標準偏差(σp)は4.48μm、σp/Xpは0.830であった。また、畝状凸レンズ部の平均アスペクト比は3.7であった。調光フィルム3は、全光線透過率が76%、ヘイズが88%であった。
Example 3
Example 1 except that the stretched film (1) obtained in Production Example 1 was replaced with the stretched film (3) obtained in Production Example 3 and an ultraviolet curable resin solution was applied so that the dry film thickness was 1.7 μm. The light control film 3 was obtained by the method similar to.
As shown in FIG. 5, a plurality of ridge-like convex lens portions are formed on the surface of the light control film 3, and a thin film formed of an ultraviolet curable resin is bent and laminated so as to correspond to the shape of the ridge-like convex lens portions. As a result, the surface of the thin film layer was raised and undulated with the shape of the ridge-like convex lens portion. As shown in FIG. 5, the saddle-shaped convex lens has a complicated bend and has a small difference between a direction with a strong periodicity and a weak direction. Further, the radii of curvature at the vertices of at least one pair of adjacent saddle-shaped convex lens portions were different from each other. The ratio of the heel length to the width was 5 or more.
The average value (Xp) of the interval between the saddle-shaped convex lens portions was 5.4 μm, the standard deviation (σp) was 4.48 μm, and σp / Xp was 0.830. The average aspect ratio of the saddle-like convex lens portion was 3.7. The light control film 3 had a total light transmittance of 76% and a haze of 88%.

次いで、実施例1と同様にして、調光フィルム3を有機EL素子に積層して発光素子3を作製した。発光素子3は、発光輝度が260cd/m2、光取り出し効率が2.6倍であった。また、実施例1と同様にして、スチールウール耐久性試験、および高温高湿耐久性試験を行った。発光素子3は、各耐久試験においても、光取り出し効率の低下、及びそりなどの変形は全く見られなかった。 Next, in the same manner as in Example 1, the light control film 3 was laminated on the organic EL element to produce the light emitting element 3. The light-emitting element 3 had a light emission luminance of 260 cd / m 2 and a light extraction efficiency of 2.6 times. Further, in the same manner as in Example 1, a steel wool durability test and a high temperature and high humidity durability test were conducted. The light emitting element 3 did not show any decrease in light extraction efficiency or deformation such as warpage in each durability test.

実施例4
8mm×8mm×60mmのステンレス鋼製シャンクに、ロウ付けされた0.2mm×1mm×1mmの直方体単結晶ダイヤモンドの、0.2mm×1mmの面全面に、集束イオンビーム加工装置SMI3050(セイコーインスツルメンツ社製)を用いてアルゴンイオンビームで集束イオンビーム加工を行い、長さ1mmの辺に平行な幅100nm、高さ100nmの断面矩形の凸条をピッチ200nmで形成した切削工具を作製した。
Example 4
An 8 mm x 8 mm x 60 mm stainless steel shank brazed 0.2 mm x 1 mm x 1 mm cuboidal single crystal diamond has an entire surface of 0.2 mm x 1 mm with a focused ion beam processing device SMI3050 (Seiko Instruments Inc. And a focused ion beam machining with an argon ion beam was used to produce a cutting tool in which ridges having a width of 100 nm and a height of 100 nm and a rectangular cross section having a width of 100 nm were formed at a pitch of 200 nm.

寸法50mm×50mm、厚さ10mmのステンレス鋼SUS430の板の表面に、厚さ100μmのニッケル−リン無電解メッキを施し、精密微細加工機(ナガセインテグレックス社製、超精密微細加工機NIC200)と上記の切削工具を用いて、ニッケル−リン無電解メッキ面を切削してピッチ200nm、深さ100nm、幅100nmの断面矩形の溝を有する金属モールドを得た。なお。集束イオンビーム加工による切削工具の作製、ニッケル−リン無電解めっき面の切削加工は、温度20.0±0.2℃、振動制御システム(昭和サイエンス社製)により0.5Hz以上の振動変位が10μm以下に管理された恒温低振動室内で行った。   The surface of a stainless steel SUS430 plate having dimensions of 50 mm × 50 mm and a thickness of 10 mm is subjected to nickel-phosphorus electroless plating with a thickness of 100 μm, and a precision micromachining machine (manufactured by Nagase Integrex, ultra-precision micromachining machine NIC200) Using the cutting tool, the nickel-phosphorus electroless plating surface was cut to obtain a metal mold having a groove having a rectangular cross section with a pitch of 200 nm, a depth of 100 nm, and a width of 100 nm. Note that. Cutting tool fabrication by focused ion beam machining and cutting of nickel-phosphorus electroless plating surface are at a temperature of 20.0 ± 0.2 ° C, and vibration displacement of 0.5Hz or more is possible by vibration control system (made by Showa Science). The measurement was performed in a constant temperature and low vibration chamber controlled to 10 μm or less.

延伸フィルム(1)の表面をコロナ放電により改質した。製造例4で得た紫外線硬化性樹脂溶液をグラビアコーターを用いて、延伸フィルム(1)の改質面に乾燥膜厚1.0μmになるように塗布し、80℃で5分間乾燥させた。前記金属モールドの溝の長手方向と延伸フィルム(1)の収縮方向とが直交するように金属モールドを延伸フィルム(1)の塗膜上に押圧積層した。次いで、超高圧水銀ランプで紫外線を積算光量400mJ/cm2で照射し紫外線硬化性樹脂を硬化させ、金属モールドの溝パターンを硬化樹脂層に転写し、金属モールドから剥がし転写フィルムを得た。 The surface of the stretched film (1) was modified by corona discharge. The UV curable resin solution obtained in Production Example 4 was applied to the modified surface of the stretched film (1) so as to have a dry film thickness of 1.0 μm using a gravure coater, and dried at 80 ° C. for 5 minutes. The metal mold was pressed and laminated on the coating film of the stretched film (1) so that the longitudinal direction of the groove of the metal mold and the shrinking direction of the stretched film (1) were orthogonal to each other. Subsequently, ultraviolet rays were irradiated with an ultrahigh pressure mercury lamp at an integrated light quantity of 400 mJ / cm 2 to cure the ultraviolet curable resin, the groove pattern of the metal mold was transferred to the cured resin layer, and peeled off from the metal mold to obtain a transfer film.

得られたフィルムを所定の大きさに切り出し、集束イオンビーム加工観察装置FB−2100(日立製作所社製)に付属のマイクロサンプリング装置を使用してTEM用観察断面を作製し、透過電子顕微鏡H7500(日立製作所社製)にてフィルム断面を観察した。硬化樹脂層に、金属モールドのパターン形状が転写され、幅100nm、高さ100nmの断面矩形の凸条(ミクロ突起)がピッチ200nmで平行に形成されていた。   The obtained film was cut into a predetermined size, a TEM observation cross section was prepared using a micro sampling device attached to the focused ion beam processing observation device FB-2100 (manufactured by Hitachi, Ltd.), and a transmission electron microscope H7500 ( The cross section of the film was observed with Hitachi, Ltd. The pattern shape of the metal mold was transferred to the cured resin layer, and ridges (micro protrusions) having a cross section of a width of 100 nm and a height of 100 nm were formed in parallel at a pitch of 200 nm.

温度140℃の温風を循環させた乾燥機に前記フィルムを入れ、フィルムを収縮させて、調光フィルム4を得た。図6に示すように、延伸フィルム(1)の硬化樹脂層側の面には、ストライプ状に延びた畝が形成されており、この畝に対応するように積層された硬化樹脂層が褶曲しており、基材の畝形状の浮出しによって硬化樹脂層側の表面に起伏が形成されていた。畝(起伏)の頂点間の距離の平均値(Xp)が10.8μm、標準偏差(σp)が3.71μm、σp/Xpが0.344であった。畝の長さ/幅の比は5以上であった。   The film was put into a dryer in which hot air having a temperature of 140 ° C. was circulated, and the film was contracted to obtain a light control film 4. As shown in FIG. 6, the surface of the stretched film (1) on the side of the cured resin layer is formed with wrinkles extending in stripes, and the cured resin layer laminated so as to correspond to the wrinkles is bent. As a result, undulations were formed on the surface of the cured resin layer due to the ridge-shaped protrusion of the base material. The average value (Xp) of the distances between vertices of ridges (undulations) was 10.8 μm, the standard deviation (σp) was 3.71 μm, and σp / Xp was 0.344. The heel length / width ratio was 5 or more.

図7に示すように、硬化樹脂層の表面には、収縮前に転写したパターン(ミクロ突起)が収縮後もそのままの形状(幅100nm、高さ100nm、ピッチ200nmで平行に形成された断面矩形の凸条)で残っていた。断面矩形の凸条の長手方向は、ストライプ状に延びた畝の長手方向と概ね平行になっており、畝の傾斜面に略直交するようになっていた。調光フィルム4は、全光線透過率が74%、ヘイズが75%であった。
次いで、実施例1と同様にして、調光フィルム4を有機EL素子に積層して発光素子4を作製した。発光素子4は、発光輝度が300cd/m2、光取り出し効率が3.0倍であった。また、実施例1と同様にして、スチールウール耐久性試験、および高温高湿耐久性試験を行った。発光素子4はスチールウール耐久性試験において光取り出し効率が2.8倍に、約7%低下したが、高温高湿耐久性試験においてはそりなどの変形は全く見られなかった。
As shown in FIG. 7, on the surface of the cured resin layer, a pattern (micro protrusions) transferred before shrinkage is formed in the same shape (width 100 nm, height 100 nm, pitch 200 nm) in parallel after shrinkage. ). The longitudinal direction of the ridges having a rectangular cross section is substantially parallel to the longitudinal direction of the ridges extending in a stripe shape, and is substantially orthogonal to the inclined surface of the ridges. The light control film 4 had a total light transmittance of 74% and a haze of 75%.
Next, in the same manner as in Example 1, the light control film 4 was laminated on the organic EL element to produce the light emitting element 4. The light-emitting element 4 had a light emission luminance of 300 cd / m 2 and a light extraction efficiency of 3.0 times. Further, in the same manner as in Example 1, a steel wool durability test and a high temperature and high humidity durability test were conducted. In the light emitting element 4, the light extraction efficiency was reduced by about 2.8 times in the steel wool durability test, which was about 7%, but no deformation such as warping was observed in the high temperature and high humidity durability test.

比較例1
製造例1で作製した基材フィルムを、実施例1と同様にして有機EL素子に積層して発光素子0を作製した。発光素子0は、発光輝度が100cd/m2であった。なお、本実施例では発光素子0を基準にして評価した。
Comparative Example 1
The base film produced in Production Example 1 was laminated on the organic EL element in the same manner as in Example 1 to produce Light-Emitting Element 0. The light-emitting element 0 had a light emission luminance of 100 cd / m 2 . In this example, evaluation was performed with the light emitting element 0 as a reference.

比較例2
精密微細加工機(ナガセインテグレックス製、超精密微細加工機NIC200)を使用して、厚さ1mmの脂環式オレフィンポリマー(ZEONOR1420、ガラス転移温度136℃、日本ゼオン製)製の板の面に、上方に頂点を持つ底辺50μm、高さ25μmの四角錐形状のプリズムを複数掘り込み、プリズムシート5を得た。なお、該プリズムパターンは凸部の頂部が尖っており、凸部の長さと幅との比は1である。
次いで、実施例1と同様にして、前記プリズムシート5を有機EL素子に積層して発光素子5を作製した。発光素子5は、発光輝度が300cd/m2、光取り出し効率が3.0倍であった。また、実施例1と同様にして、スチールウール耐久性試験、および高温高湿耐久性試験を行った。発光素子5は、高温高湿耐久性試験においてはそりなどの変形は見られなかったが、スチールウール耐久性試験において光取り出し効率が2.0倍に、約33.3%低下した。
Comparative Example 2
Using a precision micromachining machine (manufactured by Nagase Integrex, ultra-precision micromachining machine NIC200), on the surface of a plate made of an alicyclic olefin polymer (ZEONOR1420, glass transition temperature 136 ° C., Nippon Zeon) with a thickness of 1 mm, Plural square pyramidal prisms having a base of 50 μm and a height of 25 μm with a vertex at the top were dug to obtain a prism sheet 5. In the prism pattern, the top of the convex portion is pointed, and the ratio of the length and width of the convex portion is 1.
Next, in the same manner as in Example 1, the prism sheet 5 was laminated on an organic EL element to produce a light emitting element 5. The light-emitting element 5 had a light emission luminance of 300 cd / m 2 and a light extraction efficiency of 3.0 times. Further, in the same manner as in Example 1, a steel wool durability test and a high temperature and high humidity durability test were conducted. The light-emitting element 5 did not show deformation such as warpage in the high-temperature and high-humidity durability test, but the light extraction efficiency decreased by about 33.3% by 2.0 times in the steel wool durability test.

比較例3
精密微細加工機(ナガセインテグレックス製、超精密微細加工機NIC200)を使用して、厚さ1mmの脂環式オレフィンポリマー(ZEONOR1420、ガラス転移温度136℃、日本ゼオン製)製の板の面に、上方に頂点を持つ幅50μm、高さ25μm、ピッチ50μmの三角柱プリズムを複数掘り込み、転写シートを得た。
転写シートのプリズムパターン面に、製造例4で作製した紫外線硬化性樹脂溶液を塗布し、80℃で5分間乾燥させた。厚さ100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを塗布面に積層し、超高圧水銀ランプを用いて紫外線照射(積算光量400mJ/cm2)を行い紫外線硬化性樹脂を硬化させ、硬化樹脂とPETフィルムとを接着した。転写シートを剥がし、上方に頂点を持つ幅50μm、高さ25μm、ピッチ50μmの三角柱プリズム形状を有するPET製のプリズムシート6を作製した。該プリズムパターンは平らなPETフィルムの上に形成されており、プリズムの凸部の頂が尖っている。
Comparative Example 3
Using a precision micromachining machine (manufactured by Nagase Integrex, ultra-precision micromachining machine NIC200), on the surface of a plate made of an alicyclic olefin polymer (ZEONOR1420, glass transition temperature 136 ° C., Nippon Zeon) with a thickness of 1 mm, A plurality of triangular prisms having a vertex of 50 μm in width, a height of 25 μm, and a pitch of 50 μm were dug to obtain a transfer sheet.
The ultraviolet curable resin solution produced in Production Example 4 was applied to the prism pattern surface of the transfer sheet and dried at 80 ° C. for 5 minutes. A polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 100 μm is laminated on the coated surface, and an ultraviolet ray is irradiated using an ultra-high pressure mercury lamp (accumulated light amount: 400 mJ / cm 2 ) to cure the ultraviolet curable resin. Glued. The transfer sheet was peeled off, and a PET prism sheet 6 having a triangular prism shape with a width of 50 μm, a height of 25 μm, and a pitch of 50 μm with an apex on the upper side was produced. The prism pattern is formed on a flat PET film, and the apex of the convex portion of the prism is sharp.

次いで、実施例1と同様にして、前記プリズムシート6を有機EL素子に積層して発光素子6を作製した。発光素子6は、発光輝度が245cd/m2、光取り出し効率が2.45倍であった。また、実施例1と同様にして、スチールウール耐久性試験、および高温高湿耐久性試験を行った。発光素子6はスチールウール耐久性試験において光取り出し効率が1.9倍に、約22.4%低下した。また高温高湿耐久性試験においてはそりなどの変形は顕著に見られた。 Next, in the same manner as in Example 1, the prism sheet 6 was laminated on an organic EL element to produce a light emitting element 6. The light-emitting element 6 had a light emission luminance of 245 cd / m 2 and a light extraction efficiency of 2.45 times. Further, in the same manner as in Example 1, a steel wool durability test and a high temperature and high humidity durability test were conducted. In the light emitting element 6, in the steel wool durability test, the light extraction efficiency was reduced by 1.9 times, or about 22.4%. In the high-temperature and high-humidity durability test, deformation such as warping was noticeable.

Claims (6)

少なくとも一方の表面に、畝の長さと幅との比(長さ/幅)が5以上で且つ畝の頂が上に凸の曲面を成している複数の畝状凸レンズ部を有する調光フィルムを、
有機エレクトロルミネッセンス素子の出光側に設けてなる発光素子。
A light control film having at least one surface having a plurality of ridge-like convex lens portions in which the ratio (length / width) of the ridges is 5 or more and the top of the ridge forms a convex curved surface The
A light emitting device provided on the light output side of the organic electroluminescence device.
前記調光フィルムは、畝状凸レンズ部間の間隔の平均値Xpが0.2〜40μmであり、且つ
畝状凸レンズ部間の間隔の標準偏差σpがXpに対してσp/Xp=0.1〜0.9である、請求項1に記載の発光素子。
In the light control film, the average value Xp of the interval between the ridge-like convex lens portions is 0.2 to 40 μm, and the standard deviation σp of the interval between the ridge-like convex lens portions is σp / Xp = 0.1 with respect to Xp. The light emitting element of Claim 1 which is -0.9.
前記調光フィルムは、全光線透過率が70%以上で、且つヘイズが70%以上である、請求項1または2のいずれかに記載の発光素子。   3. The light emitting device according to claim 1, wherein the light control film has a total light transmittance of 70% or more and a haze of 70% or more. 前記調光フィルムは、前記畝状凸レンズ部の上に積層され且つ前記畝状凸レンズ部の形状に対応するように褶曲している薄膜層をさらに含み、該薄膜層の表面が前記畝状凸レンズ部の形状の浮き出しで起伏している請求項1〜3のいずれかに記載の発光素子。   The light control film further includes a thin film layer that is laminated on the bowl-shaped convex lens section and is bent so as to correspond to the shape of the bowl-shaped convex lens section, and the surface of the thin film layer is the bowl-shaped convex lens section. The light emitting device according to any one of claims 1 to 3, wherein the light emitting device is undulated by a relief of the shape. 前記調光フィルムは、該薄膜層の起伏面に前記畝状凸レンズ部の頂点間平均距離よりも短い頂点間平均距離で離間する複数のミクロ突起を有する請求項1〜4のいずれかに記載の発光素子。   5. The light control film according to claim 1, wherein the light control film has a plurality of micro protrusions spaced apart by an average distance between vertices shorter than an average distance between vertices of the hook-shaped convex lens portion on the undulating surface of the thin film layer. Light emitting element. 有機エレクトロルミネッセンス素子が、基板、下部電極層、発光材料層、上部電極層及び封止層が順次積層されてなるものである、請求項1〜5のいずれかに記載の発光素子。   The light-emitting element according to claim 1, wherein the organic electroluminescence element is formed by sequentially laminating a substrate, a lower electrode layer, a light-emitting material layer, an upper electrode layer, and a sealing layer.
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