JP5291801B2 - 収容具、収容具配置方法および測定方法 - Google Patents

Description

本発明は、電磁波（周波数が０．０１［ＴＨｚ］以上１００［ＴＨｚ］以下）（例えば、テラヘルツ波（例えば、周波数が０．０３［ＴＨｚ］以上１０［ＴＨｚ］以下））を使用した断層撮影に関する。

従来より、被測定物の断層情報を得る方法としてコンピュータ断層撮影（Ｃｏｍｐｕｔｅｄ Ｔｏｍｏｇｒａｐｈｙ：ＣＴ）法がある。Ｘ線の発生器と検出器を用いて、この方法を実行することをＸ線ＣＴという。Ｘ線ＣＴによれば、人体の断層情報を非破壊かつ非接触で得ることができる。
しかし、半導体、プラスチック、セラミック、木材および紙など（以下、「原材料」という）から構成される工業製品の内部状態（例えば、欠陥や歪み）を検出することは、Ｘ線ＣＴによれば困難である。Ｘ線が、あらゆる物質に対して透過性が高いためである。
一方、テラヘルツ波は、先に述べた工業製品の原材料をほどよく透過する。このため、テラヘルツ波の発生器と検出器を用いて、ＣＴ法を実行すれば（以下、「テラヘルツ波ＣＴ法」という）工業製品の内部状態を検出できる。テラヘルツ波ＣＴ法については、特許文献１、非特許文献１に記載がある。
米国特許第７１１９３３９号明細書 Ｓ．Ｗａｎｇ ｅｔ ａｌ．，"Ｐｕｌｓｅｄ ｔｅｒａｈｅｒｔｚ ｔｏｍｏｇｒａｐｈｙ，"Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｄ，Ｖｏｌ ３７（２００４）Ｒ１−Ｒ３６

しかしながら、テラヘルツ波ＣＴ法においては、テラヘルツ波が被測定物に対して斜めに入射または出射する場合、テラヘルツ波が屈折してしまい直進しない。ただし、被測定物の周囲の空気の屈折率が１であり、かつテラヘルツ波ＣＴ法の被測定物の屈折率が１より大きいものとする。
第２３図は、従来技術にかかる被測定物の屈折率が１．４、被測定物の周囲の空気の屈折率が１の場合に想定されるテラヘルツ波の光路を示す図である。第２３図を参照して、被測定物（ＤＵＴ：Ｄｅｖｉｃｅ Ｕｎｄｅｒ Ｔｅｓｔ）に左から入射したテラヘルツ波が、被測定物により屈折することがわかる。
テラヘルツ波が直進しないことにより、検出器にテラヘルツ波が到達できず、充分な感度で被測定物の画像を取得できなくなることがある。
また、テラヘルツ波が直進しないことにより、検出されたテラヘルツ波が、被測定物を直進して到達したものではない場合も起こりうる。このため、検出されたテラヘルツ波から被測定物の画像を取得すると、障害陰影および擬似画像などのアーチファクトが画像に現れる可能性がある。
そこで、本発明は、テラヘルツ波を含む電磁波（周波数が０．０１［ＴＨｚ］以上１００［ＴＨｚ］以下）を被測定物に与えて測定する際に、テラヘルツ波を含む電磁波が被測定物により屈折することを抑制することを課題とする。
本発明にかかる第一の収容具は、電磁波測定装置により測定される被測定物の少なくとも一部を収容する第一の収容具であって、前記被測定物の少なくとも一部がその内部に配置される空隙部と、第一平面部分と第二平面部分とを有し、前記第一平面部分と前記第二平面部分との間に前記空隙部が配置され、前記空隙部を包囲する包囲部とを備え、前記包囲部の屈折率をｎ２、前記被測定物の屈折率をｎ１としたときに、ｎ１−０．１≦ｎ２≦ｎ１＋０．１となるようにｎ２を調整でき、前記電磁波測定装置は、前記被測定物に向けて０．０１［ＴＨｚ］以上１００［ＴＨｚ］以下の周波数の電磁波を出力するように構成される。
上記のように構成された、電磁波測定装置により測定される被測定物の少なくとも一部を収容する第一の収容具によれば、空隙部は、前記被測定物の少なくとも一部がその内部に配置される。包囲部は、第一平面部分と第二平面部分とを有し、前記第一平面部分と前記第二平面部分との間に前記空隙部が配置され、前記空隙部を包囲する。前記包囲部の屈折率をｎ２、前記被測定物の屈折率をｎ１としたときに、ｎ１−０．１≦ｎ２≦ｎ１＋０．１となるようにｎ２を調整できる。前記電磁波測定装置は、前記被測定物に向けて０．０１［ＴＨｚ］以上１００［ＴＨｚ］以下の周波数の電磁波を出力する。
なお、本発明にかかる第一の収容具は、前記包囲部の厚さを変化させることにより、前記包囲部の屈折率を変更することができるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第一の収容具は、前記包囲部を圧縮または伸張させることにより、前記包囲部の屈折率を変更することができるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第一の収容具は、前記包囲部が発泡性樹脂からなるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第一の収容具は、前記被測定物が所定の回転軸を中心に回転しながら、前記電磁波を受けており、前記所定の回転軸の方向に、前記包囲部を圧縮または伸張させるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第一の収容具は、前記被測定物が所定の回転軸を中心に回転しながら、前記電磁波を受けており、前記所定の回転軸および前記電磁波の光路に垂直な方向に、前記包囲部を圧縮または伸張させるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第一の収容具は、前記収容具および前記電磁波の光路が所定の回転軸を中心に回転しながら、前記被測定物が前記電磁波を受けており、前記所定の回転軸の方向に、前記包囲部を圧縮または伸張させるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第一の収容具は、前記収容具および前記電磁波の光路が所定の回転軸を中心に回転しながら、前記被測定物が前記電磁波を受けており、前記所定の回転軸および前記電磁波の光路に垂直な方向に、前記包囲部を圧縮または伸張させるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第一の収容具は、前記電磁波の光路と平行な方向に、前記包囲部を圧縮または伸張させるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第一の収容具は、前記空隙部の平面形状の輪郭が、円弧を含むようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第一の収容具は、前記空隙部の平面形状の輪郭の半径が、前記空隙部の高さに応じて変化するようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第一の収容具は、前記包囲部が分割面に沿って分割可能であり、前記分割面が前記空隙部と交差するようにしてもよい。
本発明は、前記被測定物を収容した本発明にかかる第一の収容具における前記包囲部の屈折率を調整する屈折率調整方法であって、前記第一平面部分が、前記電磁波測定装置から前記被測定物に向けて出力された前記電磁波の進行方向に対して、直角に交差するように、前記収容具を配置する工程と、前記第一平面部分に入射する前記電磁波の光路と、前記包囲部および前記被測定物を透過した前記電磁波の光路とが一直線上になるように、前記包囲部の屈折率を調整する工程とを備えた屈折率調整方法である。
本発明は、前記被測定物を収容した本発明にかかる第一の収容具を、前記電磁波測定装置による前記被測定物の測定のために配置する収容具配置方法であって、前記第一平面部分が、前記電磁波測定装置から前記被測定物に向けて出力された前記電磁波の進行方向に対して、直角に交差するように、前記収容具を配置する工程を備えた収容具配置方法である。
本発明は、前記被測定物を収容した本発明にかかる第一の収容具を、前記電磁波測定装置による前記被測定物の測定のために配置する収容具配置方法であって、前記第一平面部分が、前記電磁波測定装置から前記被測定物に向けて出力された前記電磁波の進行方向に対して、０度を超え９０度未満の角度で交差するように、前記収容具を配置する工程を備えた収容具配置方法である。
本発明にかかる第二の収容具は、電磁波測定装置により測定される被測定物の少なくとも一部を収容する第二の収容具であって、前記被測定物の少なくとも一部がその内部に配置される第一空隙部と、第一平面部分と第二平面部分とを有し、前記第一平面部分と前記第二平面部分との間に前記第一空隙部が配置され、前記第一空隙部を包囲する第一包囲部と、を有する複数の第一構成体を備え、前記第一構成体は、所定の間隔だけ隔てられており、前記収容具の平均屈折率をｎ２、前記被測定物の屈折率をｎ１としたときに、ｎ１−０．１≦ｎ２≦ｎ１＋０．１となるようにｎ２を調整でき、前記電磁波測定装置は、前記被測定物に向けて０．０１［ＴＨｚ］以上１００［ＴＨｚ］以下の周波数の電磁波を出力するように構成される。
上記のように構成された、電磁波測定装置により測定される被測定物の少なくとも一部を収容する第二の収容具によれば、複数の第一構成体が、第一空隙部と、第一包囲部とを有する。第一空隙部は、前記被測定物の少なくとも一部がその内部に配置される。第一包囲部は、第一平面部分と第二平面部分とを有し、前記第一平面部分と前記第二平面部分との間に前記第一空隙部が配置され、前記第一空隙部を包囲する。前記第一構成体は、所定の間隔だけ隔てられている。前記収容具の平均屈折率をｎ２、前記被測定物の屈折率をｎ１としたときに、ｎ１−０．１≦ｎ２≦ｎ１＋０．１となるようにｎ２を調整できる。前記電磁波測定装置は、前記被測定物に向けて０．０１［ＴＨｚ］以上１００［ＴＨｚ］以下の周波数の電磁波を出力する。
なお、本発明にかかる第二の収容具は、前記所定の間隔を変化させることにより、前記収容具の平均屈折率を変更することができるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第二の収容具は、前記収容具を圧縮または伸張させることにより、前記所定の間隔を変化させるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第二の収容具は、複数の前記第一構成体の間に配置され、前記第一空隙部の外側に配置された間隔保持部材を備えるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第二の収容具は、複数の前記第一構成体の間に配置された第二構成体を備え、前記第二構成体は、前記被測定物の少なくとも一部がその内部に配置される第二空隙部と、第三平面部分と第四平面部分とを有し、前記第三平面部分と前記第四平面部分との間に前記第二空隙部が配置され、前記第二空隙部を包囲する第二包囲部とを有するようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第二の収容具は、前記所定の間隔は、前記電磁波がブラッグ（Ｂｒａｇｇ）反射を起こさないように定められているようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第二の収容具は、前記所定の間隔の各々が等しいようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第二の収容具は、前記所定の間隔の各々が等しくない場合があるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第二の収容具は、前記被測定物が所定の回転軸を中心に回転しながら、前記電磁波を受けており、前記所定の回転軸の方向に、前記収容具を圧縮または伸張させるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第二の収容具は、前記収容具および前記電磁波の光路が所定の回転軸を中心に回転しながら、前記被測定物が前記電磁波を受けており、前記所定の回転軸の方向に、前記収容具を圧縮または伸張させるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第二の収容具は、前記第一空隙部の平面形状の輪郭が、円弧を含むようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第二の収容具は、前記第一空隙部の平面形状の輪郭の半径が、前記第一空隙部の高さに応じて変化するようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第二の収容具は、前記第一包囲部が分割面に沿って分割可能であり、前記分割面が前記第一空隙部と交差するようにしてもよい。
本発明は、前記被測定物を収容した本発明にかかる第二の収容具の平均屈折率を調整する屈折率調整方法であって、前記第一平面部分の法線方向が、前記電磁波測定装置から前記被測定物に向けて出力された前記電磁波の進行方向と平行になるように、前記収容具を配置する工程と、前記第一平面部分に入射する前記電磁波の光路と、前記収容具および前記被測定物を透過した前記電磁波の光路とが一直線上になるように、前記収容具の平均屈折率を調整する工程と、を備えた屈折率調整方法である。
本発明は、前記被測定物を収容した本発明にかかる第二の収容具を、前記電磁波測定装置による前記被測定物の測定のために配置する収容具配置方法であって、前記第一平面部分の法線方向が、前記電磁波測定装置から前記被測定物に向けて出力された前記電磁波の進行方向と平行になるように、前記収容具を配置する工程を備えた収容具配置方法である。
本発明は、前記被測定物を収容した本発明にかかる第二の収容具を、前記電磁波測定装置による前記被測定物の測定のために配置する収容具配置方法であって、前記第一平面部分の法線方向が、前記電磁波測定装置から前記被測定物に向けて出力された前記電磁波の進行方向に対して、０度を超え９０度未満の角度で交差するように、前記収容具を配置する工程を備えた収容具配置方法である。
本発明にかかる第三の収容具は、電磁波測定装置により測定される被測定物の少なくとも一部を収容する収容具であって、所定の方向に、所定の間隔だけ隔てられた複数の第一構成体を備え、前記収容具の平均屈折率をｎ２、前記被測定物の屈折率をｎ１としたときに、ｎ１−０．１≦ｎ２≦ｎ１＋０．１となるようにｎ２を調整でき、前記電磁波測定装置は、前記被測定物に向けて０．０１［ＴＨｚ］以上１００［ＴＨｚ］以下の周波数の電磁波を出力し、前記収容具を貫通する貫通空隙部の内部に、前記被測定物の少なくとも一部が配置され、前記貫通空隙部の延伸方向と、前記所定の方向とが直交するように構成される。
上記のように構成された、電磁波測定装置により測定される被測定物の少なくとも一部を収容する第三の収容具によれば、複数の第一構成体が、所定の方向に、所定の間隔だけ隔てられている。前記収容具の平均屈折率をｎ２、前記被測定物の屈折率をｎ１としたときに、ｎ１−０．１≦ｎ２≦ｎ１＋０．１となるようにｎ２を調整できる。前記電磁波測定装置は、前記被測定物に向けて０．０１［ＴＨｚ］以上１００［ＴＨｚ］以下の周波数の電磁波を出力する。前記収容具を貫通する貫通空隙部の内部に、前記被測定物の少なくとも一部が配置される。前記貫通空隙部の延伸方向と、前記所定の方向とが直交する。
なお、本発明にかかる第三の収容具は、前記所定の間隔を変化させることにより、前記収容具の平均屈折率を変更することができるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第三の収容具は、前記収容具を圧縮または伸張させることにより、前記所定の間隔を変化させるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第三の収容具は、複数の前記第一構成体の間に配置された間隔保持部材を備えるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第三の収容具は、複数の前記第一構成体の間に配置された第二構成体を備えるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第三の収容具は、前記所定の間隔は、前記電磁波がブラッグ（Ｂｒａｇｇ）反射を起こさないように定められているようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第三の収容具は、前記所定の間隔の各々が等しいようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第三の収容具は、前記所定の間隔の各々が等しくない場合があるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第三の収容具は、前記被測定物が所定の回転軸を中心に回転しながら、前記電磁波を受けており、前記所定の回転軸および前記電磁波の光路に垂直な方向に、前記収容具を圧縮または伸張させるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第三の収容具は、前記収容具および前記電磁波の光路が所定の回転軸を中心に回転しながら、前記被測定物が前記電磁波を受けており、前記所定の回転軸および前記電磁波の光路に垂直な方向に、前記収容具を圧縮または伸張させるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第三の収容具は、前記電磁波の光路と平行な方向に、前記収容具を圧縮または伸張させるようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第三の収容具は、前記貫通空隙部の平面形状の輪郭が、円弧を含むようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第三の収容具は、前記貫通空隙部の平面形状の輪郭の半径が、前記貫通空隙部の高さに応じて変化するようにしてもよい。
なお、本発明にかかる第三の収容具は、前記収容具が分割面に沿って分割可能であり、前記分割面が前記貫通空隙部と交差するようにしてもよい。
本発明は、前記被測定物を収容した本発明にかかる第三の収容具の平均屈折率を調整する屈折率調整方法であって、前記所定の方向が、前記電磁波測定装置から前記被測定物に向けて出力された前記電磁波の進行方向と平行または垂直になるように、前記収容具を配置する工程と、前記収容具に入射する前記電磁波の光路と、前記収容具および前記被測定物を透過した前記電磁波の光路とが一直線上になるように、前記収容具の平均屈折率を調整する工程と、を備えた屈折率調整方法である。
本発明は、前記被測定物を収容した本発明にかかる第三の収容具を、前記電磁波測定装置による前記被測定物の測定のために配置する収容具配置方法であって、前記所定の方向が、前記電磁波測定装置から前記被測定物に向けて出力された前記電磁波の進行方向と平行または垂直になるように、前記収容具を配置する工程を備えた収容具配置方法である。
本発明は、前記被測定物を収容した本発明にかかる第三の収容具を、前記電磁波測定装置による前記被測定物の測定のために配置する収容具配置方法であって、前記所定の方向が、前記電磁波測定装置から前記被測定物に向けて出力された前記電磁波の進行方向に対して、０度を超え９０度未満の角度で交差するように、前記収容具を配置する工程を備えた収容具配置方法である。
本発明は、本発明にかかる収容具に収容された前記被測定物を、前記電磁波測定装置により測定する方法であって、前記電磁波測定装置により、前記電磁波を出力する出力工程と、前記電磁波測定装置により、前記被測定物を透過した前記電磁波を検出する検出工程と、を備え、前記出力工程および前記検出工程が行われている間に、前記収容具および前記被測定物が、前記電磁波の光路に対して水平方向に動く、測定方法である。
本発明は、本発明にかかる収容具に収容された前記被測定物を、前記電磁波測定装置により測定する方法であって、前記電磁波測定装置により、前記電磁波を出力する出力工程と、前記電磁波測定装置により、前記被測定物を透過した前記電磁波を検出する検出工程と、を備え、前記出力工程および前記検出工程が行われている間に、前記電磁波の光路が、前記収容具に対して水平方向に動く、測定方法である。
本発明は、本発明にかかる収容具に収容された前記被測定物を、前記電磁波測定装置により測定する方法であって、前記電磁波測定装置により、前記電磁波を出力する出力工程と、前記電磁波測定装置により、前記被測定物を透過した前記電磁波を検出する検出工程と、を備え、前記出力工程および前記検出工程が行われている間に、前記被測定物が、上下方向に伸びる直線を回転軸として、回転する、測定方法である。
本発明は、本発明にかかる収容具に収容された前記被測定物を、前記電磁波測定装置により測定する方法であって、前記電磁波測定装置により、前記電磁波を出力する出力工程と、前記電磁波測定装置により、前記被測定物を透過した前記電磁波を検出する検出工程と、を備え、前記出力工程および前記検出工程が行われている間に、前記収容具および前記電磁波の光路が、上下方向に伸びる直線を回転軸として、回転する、測定方法である。
本発明は、本発明にかかる収容具に収容された前記被測定物を、前記電磁波測定装置により測定する方法であって、前記電磁波測定装置により、前記電磁波を出力する出力工程と、前記電磁波測定装置により、前記被測定物を透過した前記電磁波を検出する検出工程と、を備え、前記出力工程および前記検出工程が行われている間に、前記収容具および前記電磁波の光路が、前記被測定物に対して、上下方向に動く、測定方法である。
本発明は、本発明にかかる収容具に収容された前記被測定物を、前記電磁波測定装置により測定する方法であって、前記電磁波測定装置により、前記電磁波を出力する出力工程と、前記電磁波測定装置により、前記被測定物を透過した前記電磁波を検出する検出工程と、を備え、前記出力工程および前記検出工程が行われている間に、前記収容具および前記被測定物が、前記電磁波の光路に対して、上下方向に動く、測定方法である。
本発明は、本発明にかかる収容具に収容された前記被測定物を、前記電磁波測定装置により測定する方法であって、前記電磁波測定装置により、前記電磁波を出力する出力工程と、前記電磁波測定装置により、前記被測定物を透過した前記電磁波を検出する検出工程と、を備え、前記出力工程および前記検出工程が行われている間に、前記収容具および前記電磁波の光路に対して、前記被測定物が、上下方向に動く、測定方法である。
本発明は、本発明にかかる収容具に収容された前記被測定物を、前記電磁波測定装置により測定する方法であって、前記電磁波測定装置により、前記電磁波を出力する出力工程と、前記電磁波測定装置により、前記被測定物を透過した前記電磁波を検出する検出工程と、を備え、前記出力工程および前記検出工程が行われている間に、前記収容具および前記被測定物に対して、前記電磁波の光路が、上下方向に動く測定方法である。

第１図は、本発明の第一の実施形態にかかる収容具１０の平面図である。
第２図は、第一の実施形態にかかる上方押さえ部材１６ａおよび下方押さえ部材１６ｂにより、包囲部１２を挟んだときの、収容具１０の平面図（第２図（ａ））、第２図（ａ）のｂ−ｂ断面図（第２図（ｂ））、第２図（ａ）のｃ−ｃ断面図（第２図（ｃ））である。
第３図は、第一の実施形態にかかる包囲部１２の屈折率ｎ２の調整を説明するための図である。
第４図は、本発明の第一の実施形態にかかる収容具１０に被測定物１の少なくとも一部が収容され、収容具１０にテラヘルツ波が照射されたときの平面図である。
第５図は、包囲部１２を圧縮または伸張させるための機構の変形例を示す収容具１０の正面図である。
第６図は、第一の実施形態にかかる包囲部１２を圧縮または伸張させる方向を変更した変形例を示す収容具１０の平面図である。
第７図は、第二の実施形態にかかる収容具１０の平面図（第７図（ａ））、正面図（第７図（ｂ））、最も上の第一構成体１００、ボルト頭部１４ａおよびボルトねじ部１４ｃを図示省略した場合の平面図（第７図（ｃ））である。
第８図は、第二の実施形態にかかる収容具１０を圧縮または伸張させる方向を変更した変形例を示す収容具１０の平面図である。
第９図は、第三の実施形態にかかる収容具１０の平面図（第９図（ａ））、正面図（第９図（ｂ））上方押さえ部材１６ａ、ボルト頭部１４ａおよびボルトねじ部１４ｃを図示省略した場合の平面図（第９図（ｃ））である。
第１０図は、第三の実施形態にかかる収容具１０を圧縮または伸張させる方向を変更した変形例を示す収容具１０の平面図である。
第１１図は、第四の実施形態の動作を説明するための収容具１０およびテラヘルツ波測定装置の平面図である。
第１２図は、第五の実施形態の動作を説明するための収容具１０およびテラヘルツ波測定装置の平面図である。
第１３図は、第六の実施形態の動作を説明するための収容具１０およびテラヘルツ波測定装置の平面図である。
第１４図は、第七の実施形態にかかる収容具１０およびテラヘルツ波測定装置の正面図である。
第１５図は、第八の実施形態にかかる収容具１０およびテラヘルツ波測定装置の正面図である。
第１６図は、第九の実施形態にかかる収容具１０に被測定物１の少なくとも一部が収容され、収容具１０にテラヘルツ波が照射されたときの平面図である。
第１７図は、第十の実施形態にかかる収容具１０に被測定物１の少なくとも一部が収容され、収容具１０にテラヘルツ波が照射されたときの平面図である。
第１８図は、第十一の実施形態にかかる収容具１０に被測定物１が収容されたときの断面図（第１８図（ａ））および平面図（第１８図（ｂ））である。
第１９図は、第二の実施形態にかかる収容具１０の平均屈折率ｎ２の調整を説明するための図である。
第２０図は、第二の実施形態にかかる収容具１０に被測定物１の少なくとも一部が収容され、収容具１０にテラヘルツ波が照射されたときの平面図（第２０図（ａ））、部分正面図（第２０図（ｂ））である。
第２１図は、第三の実施形態にかかる収容具１０の平均屈折率ｎ２の調整を説明するための図である。
第２２図は、第三の実施形態にかかる収容具１０に被測定物１の少なくとも一部が収容され、収容具１０にテラヘルツ波が照射されたときの平面図（第２２図（ａ））、部分正面図（第２２図（ｂ））である。
第２３図は、従来技術にかかる被測定物の屈折率が１．４、被測定物の周囲の空気の屈折率が１の場合に想定されるテラヘルツ波の光路を示す図である。

以下、本発明の実施形態を図面を参照しながら説明する。
第一の実施形態
第１図は、本発明の第一の実施形態にかかる収容具１０の平面図である。第４図は、本発明の第一の実施形態にかかる収容具１０に被測定物１の少なくとも一部が収容され、収容具１０にテラヘルツ波が照射されたときの平面図である。
ただし、第４図において、後述するボルト頭部１４ａ、ボルトねじ部１４ｃおよび上方押さえ部材１６ａを図示省略している。
第４図を参照して、テラヘルツ波測定装置（電磁波測定装置）は、テラヘルツ波出力器２、テラヘルツ波検出器４を有する。テラヘルツ波出力器２は、テラヘルツ波を出力する。テラヘルツ波検出器４は、被測定物１および収容具１０を透過したテラヘルツ波を検出する。
なお、テラヘルツ波測定装置（電磁波測定装置）は、出力および検出する電磁波として、上記のようにテラヘルツ波（周波数が例えば、０．０３［ＴＨｚ］以上１０［ＴＨｚ］以下）を採用している。しかし、テラヘルツ波測定装置（電磁波測定装置）が出力および検出する電磁波は、テラヘルツ波に限らず、周波数が０．０１［ＴＨｚ］以上１００［ＴＨｚ］以下の電磁波であればよい。
収容具１０は、テラヘルツ波測定装置により測定される被測定物１の少なくとも一部を収容する。なお、収容具１０は、被測定物１の一部を収容している場合（第１４図参照）もあれば、被測定物１の全部を収容している場合（第１５図参照）もある。
収容具１０は、空隙部１１、包囲部１２を有する。空隙部１１は、上から見れば、半径ｒの円形の隙間である（第１図参照）。被測定物１の少なくとも一部が空隙部１１の内部に配置される（第４図参照）。
包囲部１２は、第一平面部分Ｓ１と第二平面部分Ｓ２とを有する。なお、第１図および第４図においては、第一平面部分Ｓ１と第二平面部分Ｓ２とは直線として図示されている。これは、第１図および第４図が平面図だからである。実際には、収容具１０は厚みを有しているので（第１４図および第１５図参照）、第一平面部分Ｓ１と第二平面部分Ｓ２とは、直線ではなく平面である。なお、第一平面部分Ｓ１と第二平面部分Ｓ２とは平行である。
なお、包囲部１２の材料は、例えば、発泡性樹脂（発泡ウレタン、発泡ポリエチレン、発泡ゴム等）である。これらの発泡性樹脂の屈折率は１．１以下のものが多い。
また、包囲部１２の四隅に貫通孔１２ａが設けられている。ボルトねじ部１４ｃが貫通孔１２ａを通って、包囲部１２を貫通する。
第一平面部分Ｓ１と第二平面部分Ｓ２との間に空隙部１１が配置されている。包囲部１２は、空隙部１１を包囲する。ここで、被測定物１の屈折率をｎ１とし、包囲部１２の屈折率をｎ２とする。すると、ｎ１−０．１≦ｎ２≦ｎ１＋０．１となるようにｎ２を調整できる。なお、ｎ１＝ｎ２であることが好ましい。また、ｎ１およびｎ２は、収容具１０の周囲の空気の屈折率（例えば、１）と等しくなくてもよい。
包囲部１２の厚さを変化させることにより、包囲部１２の屈折率ｎ２を変更することができる。第一の実施形態においては、包囲部１２を圧縮または伸張させることにより、包囲部１２の屈折率を変更する。具体的には、上方押さえ部材１６ａおよび下方押さえ部材１６ｂにより、包囲部１２を挟むことにより、包囲部１２の屈折率を変更する。
第２図は、第一の実施形態にかかる上方押さえ部材１６ａおよび下方押さえ部材１６ｂにより、包囲部１２を挟んだときの、収容具１０の平面図（第２図（ａ））、第２図（ａ）のｂ−ｂ断面図（第２図（ｂ））、第２図（ａ）のｃ−ｃ断面図（第２図（ｃ））である。
上方押さえ部材１６ａおよび下方押さえ部材１６ｂにも、空隙部１１と同じ直径の孔が開けられており（第２図（ｂ）参照）、その内部に、被測定物１が配置される。
第２図（ｃ）を参照して、包囲部１２の上には上方押さえ部材１６ａが配置されている。包囲部１２の下には下方押さえ部材１６ｂが配置されている。ボルト頭部１４ａは、上方押さえ部材１６ａの上に配置される。ボルトねじ部１４ｃは、ボルト頭部１４ａと一体であり、雄ねじが設けられている。また、上方押さえ部材１６ａと下方押さえ部材１６ｂとに、貫通孔１２ａと連続する貫通孔が開けられている。ボルトねじ部１４ｃは、貫通孔１２ａ（および、上方押さえ部材１６ａと下方押さえ部材１６ｂとに開けられた貫通孔）を通って、包囲部１２、上方押さえ部材１６ａおよび下方押さえ部材１６ｂを貫通する。ナット１４ｂは、下方押さえ部材１６ｂの下面に配置される。ボルトねじ部１４ｃは、ナット１４ｂにねじこまれる。
ここで、ナット１４ｂが回転しないように固定して、ボルト頭部１４ａを回して、（ボルトねじ部１４ｃの）ねじを締めることで、包囲部１２を圧縮させることができる。なお、（ボルトねじ部１４ｃの）ねじを緩めることで、包囲部１２を伸張させることができる。
また、第２図（ｃ）の状態（包囲部１２の高さ＝Ｈ１）における屈折率ｎ２は、以下の式（１）により表される。ただし、Ｈ０は、包囲部１２を圧縮も伸張もさせないときの、包囲部１２の高さである。また、ｎ２ｏは、包囲部１２を圧縮も伸張もさせないときの、包囲部１２の屈折率である。
ｎ２＝１＋（ｎ２ｏ−１）×Ｈ０／Ｈ１ （１）
なお、包囲部１２を圧縮または伸張させる方向は、包囲部１２の高さ方向（Ｚ方向：第１４図および第１５図参照）である。
また、第４図を参照して、第一平面部分Ｓ１が、テラヘルツ波測定装置のテラヘルツ波出力器２から被測定物１に向けて出力されたテラヘルツ波の進行方向に対して、直角に交差する。テラヘルツ波測定装置による被測定物１の測定を行うために、上記のように収容具１０を配置する。
次に、第一の実施形態の動作を説明する。
まず、包囲部１２の屈折率ｎ２の調整を行う。
第３図は、第一の実施形態にかかる包囲部１２の屈折率ｎ２の調整を説明するための図である。ただし、第３図において、ボルト頭部１４ａおよび上方押さえ部材１６ａを図示省略している。
まず、被測定物１の少なくとも一部を、空隙部１１の内部に配置する。そして、第一平面部分Ｓ１が、テラヘルツ波測定装置のテラヘルツ波出力器２から被測定物１に向けて出力されたテラヘルツ波の進行方向に対して、直角に交差するように、収容具１０を配置する。
テラヘルツ波出力器２から出力されたテラヘルツ波は、第一平面部分Ｓ１に垂直に照射される。このため、テラヘルツ波は屈折しないで、直進して、包囲部１２の内部を進行していく。
なお、被測定物１の輪郭と、空隙部１１の平面形状の輪郭との隙間の空気層の厚さは薄いので無視する。
ここで、（被測定物１の屈折率ｎ１）＞（包囲部１２の屈折率ｎ２）の場合は、テラヘルツ波は、空隙部１１と被測定物１との境界で、第３図における上方に屈折する。なお、その後の屈折は無視して、そのときの光路を、第３図に図示している。
また、（被測定物１の屈折率ｎ１）＜（包囲部１２の屈折率ｎ２）の場合は、テラヘルツ波は、空隙部１１と被測定物１との境界で、第３図における下方に屈折する。なお、その後の屈折は無視して、そのときの光路を、第３図に図示している。
（被測定物１の屈折率ｎ１）＝（包囲部１２の屈折率ｎ２）ではない場合は、上記のように、テラヘルツ波が直進し続けないこととなる。
ここで、（被測定物１の屈折率ｎ１）＞（包囲部１２の屈折率ｎ２）の場合は、包囲部１２の屈折率ｎ２を大きくする。例えば、ボルト頭部１４ａを回して、ねじを締めて、包囲部１２を圧縮させる。
また、（被測定物１の屈折率ｎ１）＜（包囲部１２の屈折率ｎ２）の場合は、包囲部１２の屈折率ｎ２を小さくする。例えば、ボルト頭部１４ａを回して、ねじを緩めて、包囲部１２を伸張させる。
このようにして、包囲部１２の屈折率ｎ２を調整すると、やがて、（被測定物１の屈折率ｎ１）＝（包囲部１２の屈折率ｎ２）となる。すると、テラヘルツ波が直進しながら、包囲部１２および被測定物１を透過して、テラヘルツ波検出器４に入射される。この場合、第一平面部分Ｓ１に入射するテラヘルツ波の光路と、包囲部１２および被測定物１を透過したテラヘルツ波の光路とが一直線上になる。このような状態を実現するように、包囲部１２の屈折率を上記のように調整する。
次に、被測定物１の測定を行う。
第４図を参照して、テラヘルツ波測定装置のテラヘルツ波出力器２によりテラヘルツ波が出力される。テラヘルツ波出力器２から出力されたテラヘルツ波は、第一平面部分Ｓ１に垂直に照射される。このため、テラヘルツ波は屈折しないで、直進して、包囲部１２の内部を進行していく。
ここで、被測定物１の輪郭と、空隙部１１の平面形状の輪郭との隙間の空気層の厚さは薄いので無視する。さらに、（被測定物１の屈折率ｎ１）＝（包囲部１２の屈折率ｎ２）となるように、包囲部１２の屈折率ｎ２がすでに調整されているものとする。
すると、包囲部１２の内部を進行していったテラヘルツ波は、被測定物１の内部をも屈折しないで、直進していく。さらに、テラヘルツ波は、被測定物１を透過し、包囲部１２に入射する。さらに、テラヘルツ波は、包囲部１２の内部を直進し、第二平面部分Ｓ２を通過する。結局、テラヘルツ波出力器２から出力されたテラヘルツ波は、そのまま直進しながら、包囲部１２および被測定物１を透過して、テラヘルツ波検出器４に入射される。
テラヘルツ波検出器４は、入射されたテラヘルツ波を検出する。これにより、被測定物１が測定される。例えば、被測定物１は内容物１ａ、１ｂを有する。第４図によれば、テラヘルツ波は内容物１ｂを透過するので、テラヘルツ波の検出結果から内容物１ｂの位置などが判明する。
なお、（被測定物１の屈折率ｎ１）＝（包囲部１２の屈折率ｎ２）として、第一の実施形態の動作を説明したが、ｎ１−０．１≦ｎ２≦ｎ１＋０．１であれば、おおよそ、テラヘルツ波出力器２から出力されたテラヘルツ波が、そのまま直進しながら、包囲部１２および被測定物１を透過していくものとみなすことができる。よって、ｎ１−０．１≦ｎ２≦ｎ１＋０．１となるように、包囲部１２の屈折率ｎ２を調整してもよい。
第一の実施形態によれば、テラヘルツ波を被測定物１に与えて測定する際に、テラヘルツ波が被測定物１により屈折することを抑制できる。
なお、第一の実施形態にかかる収容具１０には色々な変形例が考えられる。
第５図は、包囲部１２を圧縮または伸張させるための機構の変形例を示す収容具１０の正面図である。下方押さえ部材１６ｂの下面に、枠１４ｄが密着させられている。また、枠１４ｄの上方をボルトねじ部１４ｃが貫通する。ただし、枠１４ｄには雌ねじが設けられており、ボルトねじ部１４ｃの雄ねじと適合する。なお、ボルトねじ部１４ｃは上方押さえ部材１６ａを貫通せず、上方押さえ部材１６ａの上面に接する。
これにより、ボルト頭部１４ａを回して、（ボルトねじ部１４ｃの）ねじを締めることで、ボルトねじ部１４ｃが上方押さえ部材１６ａを押して、包囲部１２を圧縮させることができる。逆に、（ボルトねじ部１４ｃの）ねじを緩めることで、包囲部１２を伸張させることができる。
第６図は、第一の実施形態にかかる包囲部１２を圧縮または伸張させる方向を変更した変形例を示す収容具１０の平面図である。これまで説明してきた包囲部１２を圧縮または伸張させる方向は、Ｚ方向であったが、第６図に示すように、Ｙ方向（Ｚ方向と垂直な方向）であってもよい。この場合、テラヘルツ波を入射する方向は、Ｙ方向またはＸ方向である。
第６図に示す場合であって、テラヘルツ波を入射する方向がＹ方向である場合、第一平面部分Ｓ１は上方押さえ部材１６ａに接する包囲部１２の面であり、第二平面部分Ｓ２は下方押さえ部材１６ｂに接する包囲部１２の面である。
第二の実施形態
第二の実施形態にかかる収容具１０は、第一の実施形態における包囲部１２にかえて、第一構成体１００およびスペーサー（間隔保持部材）１８を備えた点が、第一の実施形態にかかる収容具１０と異なる。
第２０図は、第二の実施形態にかかる収容具１０に被測定物１の少なくとも一部が収容され、収容具１０にテラヘルツ波が照射されたときの平面図（第２０図（ａ））、部分正面図（第２０図（ｂ））である。ただし、第２０図（ａ）においては、ボルト頭部１４ａおよびボルトねじ部１４ｃを図示省略する。第２０図（ｂ）は、テラヘルツ波が透過する近傍のみを図示している。なお、第２０図（ａ）は、第４図（ただし、包囲部１２を第一構成体１００に置き換える）とほぼ同様である。なお、テラヘルツ波測定装置（電磁波測定装置）が有するテラヘルツ波出力器２、テラヘルツ波検出器４も第一の実施形態と同様である。テラヘルツ波測定装置（電磁波測定装置）が出力および検出する電磁波の周波数も第一の実施形態と同様である。
第７図は、第二の実施形態にかかる収容具１０の平面図（第７図（ａ））、正面図（第７図（ｂ））、最も上の第一構成体１００、ボルト頭部１４ａおよびボルトねじ部１４ｃを図示省略した場合の平面図（第７図（ｃ））である。第二の実施形態にかかる収容具１０は、第一構成体１００およびスペーサー（間隔保持部材）１８を備える。
第一構成体１００は、複数あり（第７図（ｂ）の例では６枚だが、２枚以上であればよい）、所定の間隔Ｈ３だけ離れている。また、第一構成体１００の厚さはＨ２である。
第一構成体１００が有する第一空隙部１１’、第一包囲部１２’は、第一の実施形態にかかる空隙部１１および包囲部１２と同じ（第１図参照）なので、説明を省略する。ただし、第一構成体１００の材料は、例えば、テフロン（登録商標）等の樹脂（屈折率は１．５程度）、セラミック板（屈折率は２程度）である。
スペーサー（間隔保持部材）１８は、複数の第一構成体１００の間に配置されている。スペーサー１８は弾性を有するものである。
ここで、被測定物１の屈折率をｎ１とし、収容具１０の平均屈折率をｎ２とする。すると、ｎ１−０．１≦ｎ２≦ｎ１＋０．１となるようにｎ２を調整できる。なお、ｎ１＝ｎ２であることが好ましい。また、ｎ１およびｎ２は、収容具１０の周囲の空気の屈折率（例えば、１）と等しくなくてもよい。
所定の間隔Ｈ３を変化させることにより、収容具１０の平均屈折率ｎ２を変更することができる。第二の実施形態においては、収容具１０を圧縮または伸張させることにより、所定の間隔Ｈ３を変化させる。具体的には、ボルト頭部１４ａおよびナット１４ｂにより、複数の第一構成体１００を挟むことにより、所定の間隔Ｈ３を変化させ、収容具１０の平均屈折率を変更する。
第７図（ｂ）を参照して、最も上に配置される第一構成体１００の上にはボルト頭部１４ａが配置されている。最も下に配置される第一構成体１００の下にはナット１４ｂが配置されている。ボルトねじ部１４ｃは、ボルト頭部１４ａと一体であり、雄ねじが設けられている。ボルトねじ部１４ｃは、第一構成体１００（の貫通孔１２’ａ（第１９図、第２０図参照））およびスペーサー１８（の貫通孔１８ａ（第７図（ｃ）参照））を貫通する。ボルトねじ部１４ｃは、ナット１４ｂにねじこまれる。
なお、第７図（ｃ）を参照して、スペーサー１８は、第一構成体１００の四隅に配置されており、第一構成体１００どうしの間は空気であるといえる。また、スペーサー１８は、空隙部１１の外側に配置され、空隙部１１にはみださない程度の大きさである。
ここで、ナット１４ｂが回転しないように固定して、ボルト頭部１４ａを回して、（ボルトねじ部１４ｃの）ねじを締めることで、収容具１０のスペーサー１８を圧縮させ、所定の間隔Ｈ３を短くすることができる。なお、（ボルトねじ部１４ｃの）ねじを緩めることで、収容具１０のスペーサー１８を伸張させ、所定の間隔Ｈ３を長くすることができる。
また、第一構成体１００どうしの間は空気であるといえることから、第７図（ｂ）の状態における収容具１０の平均屈折率ｎ２は、以下の式（２）により表される。ただし、ｎ２’は、第一構成体１００の屈折率である。しかも、所定の間隔Ｈ３の各々は等しいものとする。すなわち、複数の第一構成体１００が等間隔で配置されているものとする。
ｎ２＝１＋（ｎ２’−１）×Ｈ２／（Ｈ２＋Ｈ３） （２）
なお、所定の間隔Ｈ３の各々が等しくない場合があるようにすることも可能である。
また、収容具１０を圧縮または伸張させる方向は、収容具１０の高さ方向（Ｚ方向：第１４図および第１５図参照）である。
また、第一の実施形態と同様に、第２０図を参照して、第一平面部分Ｓ１の法線方向が、テラヘルツ波測定装置のテラヘルツ波出力器２から被測定物１に向けて出力されたテラヘルツ波の進行方向と平行になる。テラヘルツ波測定装置による被測定物１の測定を行うために、上記のように収容具１０を配置する。被測定物１に向けて出力されたテラヘルツ波は、第一構成体１００の第一平面部分Ｓ１に入射されてもよく、第一構成体１００どうしの間の空間に入射されてもよい（第２０図（ｂ）参照）。
テラヘルツ波出力器２から出力されたテラヘルツ波が収容具１０に与えられたとき、このテラヘルツ波の周波数によっては、ブラッグ（Ｂｒａｇｇ）反射が起きることがある。この場合、テラヘルツ波がほとんど収容具１０を透過できないので、ブラッグ反射を避けることが好ましい。
ブラッグ（Ｂｒａｇｇ）反射が起きる（収容具１０に与えられる電磁波の）周波数ｆ_Ｎは、以下の式（３）により表される。ただし、Ｎは１以上の整数、Ｃは光速である。
ｆ_Ｎ＝Ｎ×Ｃ／（２×ｎ２×（Ｈ２＋Ｈ３）） （３）
ここで、収容具１０に与えられたテラヘルツ波の周波数が、周波数ｆ_Ｎの近傍にならないように、所定の間隔Ｈ３を定める。すなわち、所定の間隔Ｈ３は、テラヘルツ波がブラッグ（Ｂｒａｇｇ）反射を起こさないように定められている。
例えば、収容具１０に与えられたテラヘルツ波の周波数よりも、周波数ｆ_１を充分に高くするようにする。ｆ_１＜ｆ_２＜ｆ_３…なので、収容具１０に与えられたテラヘルツ波の周波数は周波数ｆ_Ｎよりも低いことになる。または、収容具１０に与えられたテラヘルツ波の周波数を１．５ｆ_１程度にする。
次に、第二の実施形態の動作を説明する。
まず、収容具１０の平均屈折率ｎ２の調整を行う。
第１９図は、第二の実施形態にかかる収容具１０の平均屈折率ｎ２の調整を説明するための図である。ただし、第１９図において、ボルト頭部１４ａおよびボルトねじ部１４ｃを図示省略している。
収容具１０の平均屈折率ｎ２の調整は、第一の実施形態と同様である（第３図参照）。
まず、被測定物１の少なくとも一部を、空隙部１１の内部に配置する。そして、第一平面部分Ｓ１の法線方向が、テラヘルツ波測定装置のテラヘルツ波出力器２から被測定物１に向けて出力されたテラヘルツ波の進行方向と平行になるように、収容具１０を配置する。
（被測定物１の屈折率ｎ１）＝（収容具１０の平均屈折率ｎ２）ではない場合は、テラヘルツ波は、空隙部１１と被測定物１との境界で、屈折し、直進しない。
ここで、（被測定物１の屈折率ｎ１）＞（収容具１０の平均屈折率ｎ２）の場合は、包囲部１２の屈折率ｎ２を大きくする。例えば、ボルト頭部１４ａを回して、ねじを締めて、収容具１０を圧縮させる。
また、（被測定物１の屈折率ｎ１）＜（収容具１０の平均屈折率ｎ２）の場合は、包囲部１２の屈折率ｎ２を小さくする。例えば、ボルト頭部１４ａを回して、ねじを緩めて、収容具１０を伸張させる。
このようにして、収容具１０の平均屈折率ｎ２を調整すると、やがて、（被測定物１の屈折率ｎ１）＝（収容具１０の平均屈折率ｎ２）となる。すると、テラヘルツ波が直進しながら、収容具１０および被測定物１を透過して、テラヘルツ波検出器４に入射される。この場合、第一平面部分Ｓ１に入射するテラヘルツ波の光路と、収容具１０および被測定物１を透過したテラヘルツ波の光路とが一直線上になる。このような状態を実現するように、収容具１０の屈折率を上記のように調整する。
次に、被測定物１の測定を行う。
第２０図を参照して、被測定物１の測定は、第一の実施形態と同様である（第４図参照）。
第二の実施形態によれば、第一の実施形態と同様な効果を奏する。
なお、第二の実施形態にかかる収容具１０において、第５図に示すような枠１４ｄを用いて収容具１０を圧縮または伸張させることも可能である。
また、収容具１０を圧縮または伸張させる方向を変更することも可能である。第８図は、第二の実施形態にかかる収容具１０を圧縮または伸張させる方向を変更した変形例を示す収容具１０の平面図である。これまで説明してきた収容具１０を圧縮または伸張させる方向は、Ｚ方向であったが、第８図に示すように、Ｙ方向（Ｚ方向と垂直な方向）であってもよい。この場合、テラヘルツ波を入射する方向は、Ｙ方向またはＸ方向である。
所定の方向（Ｙ方向）が、テラヘルツ波を入射する方向（Ｙ方向またはＸ方向）と平行または垂直になるように、収容具１０を配置してから、収容具１０に入射するテラヘルツ波の光路と、収容具１０および被測定物１を透過したテラヘルツ波の光路とが一直線上になるように、収容具１０の圧縮または伸張により、収容具１０の平均屈折率を調整する。
また、所定の方向（Ｙ方向）が、テラヘルツ波を入射する方向（Ｙ方向またはＸ方向）と平行または垂直になるように、収容具１０を配置してから、被測定物１の測定を行うことになる。
第８図に示す変形例においては、第一構成体１００は平らな板状であり、第一構成体１００は第一空隙部１１’を有しない。ただし、第一構成体１００のうちの何枚かがＺ方向に延伸する貫通空隙部１１０により貫通される。この貫通空隙部１１０の延伸方向（Ｚ方向）と、第一構成体１００が積み重なる所定の方向（Ｙ方向）とが直交する。貫通空隙部１１０の内部に、被測定物１の少なくとも一部が配置されることは、これまでの説明と同様である。
なお、スペーサー１８が、第一構成体１００の四隅に配置されるのは、第二の実施形態と同様である（第７図（ｃ）参照）。
第三の実施形態
第三の実施形態にかかる収容具１０は、第二の実施形態におけるスペーサー（間隔保持部材）１８にかえて、第二構成体１３を備えた点が、第二の実施形態にかかる収容具１０と異なる。
第２２図は、第三の実施形態にかかる収容具１０に被測定物１の少なくとも一部が収容され、収容具１０にテラヘルツ波が照射されたときの平面図（第２２図（ａ））、部分正面図（第２２図（ｂ））である。ただし、第２２図（ａ）においては、上方押さえ部材１６ａ、ボルト頭部１４ａおよびボルトねじ部１４ｃを図示省略する。第２２図（ｂ）は、テラヘルツ波が透過する近傍のみを図示している。なお、第２２図（ａ）は、第４図（ただし、包囲部１２を第二構成体１３に置き換える）とほぼ同様である。なお、テラヘルツ波測定装置（電磁波測定装置）が有するテラヘルツ波出力器２、テラヘルツ波検出器４も第一の実施形態と同様である。テラヘルツ波測定装置（電磁波測定装置）が出力および検出する電磁波の周波数も第一の実施形態と同様である。
第一構成体１００は第二の実施形態と同様であり説明を省略する。
第二構成体１３が有する第二空隙部１３１、第二包囲部１３２は、第一の実施形態にかかる空隙部１１および包囲部１２と同様の構成であり、説明を省略する。なお、第二構成体１３の材料は、第一の実施形態にかかる包囲部１２の材料（例えば、発泡性樹脂）と同じものでもよい。ただし、第二包囲部１３２が有する第三平面部分Ｓ１０と第四平面部分Ｓ２０が、第一の実施形態にかかる包囲部１２の第一平面部分Ｓ１と第二平面部分Ｓ２に相当する。
第９図は、第三の実施形態にかかる収容具１０の平面図（第９図（ａ））、正面図（第９図（ｂ））上方押さえ部材１６ａ、ボルト頭部１４ａおよびボルトねじ部１４ｃを図示省略した場合の平面図（第９図（ｃ））である。第三の実施形態にかかる収容具１０は、第一構成体１００および第二構成体１３を備える。
第二構成体１３は、複数の第一構成体１００の間に配置されている。
所定の間隔Ｈ３（＝第二構成体１３の厚さ）を変化させることにより、収容具１０の平均屈折率ｎ２を変更することができる。第三の実施形態においては、収容具１０を圧縮または伸張させることにより、所定の間隔Ｈ３を変化させる。具体的には、上方押さえ部材１６ａおよび下方押さえ部材１６ｂにより、包囲部１２を挟むことにより、所定の間隔Ｈ３を変化させ、収容具１０の屈折率を変更する。
ここで、被測定物１の屈折率をｎ１とし、収容具１０の平均屈折率をｎ２とする。すると、ｎ１−０．１≦ｎ２≦ｎ１＋０．１となるようにｎ２を調整できる。なお、ｎ１＝ｎ２であることが好ましい。また、ｎ１およびｎ２は、収容具１０の周囲の空気の屈折率（例えば、１）と等しくなくてもよい。
第９図（ｂ）を参照して、最も上の第二構成体１３の上には上方押さえ部材１６ａが配置されている。最も下の第二構成体１３の下には下方押さえ部材１６ｂが配置されている。ボルト頭部１４ａは、上方押さえ部材１６ａの上に配置される。ボルトねじ部１４ｃは、ボルト頭部１４ａと一体であり、雄ねじが設けられている。ボルトねじ部１４ｃは、第一構成体１００（の貫通孔１２’ａ）、第二構成体１３（の貫通孔１３２ａ（第２１図、第２２図参照））、上方押さえ部材１６ａおよび下方押さえ部材１６ｂを貫通する。ナット１４ｂは、下方押さえ部材１６ｂの下面に配置される。ボルトねじ部１４ｃは、ナット１４ｂにねじこまれる。
なお、第９図（ｃ）を参照して、第二構成体１３の底面の輪郭は、第一構成体１００の底面の輪郭よりもやや小さい長方形である。
ここで、ナット１４ｂが回転しないように固定して、ボルト頭部１４ａを回して、（ボルトねじ部１４ｃの）ねじを締めることで、収容具１０の第二構成体１３を圧縮させ、所定の間隔Ｈ３を短くすることができる。なお、（ボルトねじ部１４ｃの）ねじを緩めることで、収容具１０の第二構成体１３を伸張させ、所定の間隔Ｈ３を長くすることができる。
また、第９図（ｂ）の状態における収容具１０の平均屈折率ｎ２は、以下の式（４）および式（５）により表される。ただし、ｎ２’は、第一構成体１００の屈折率である。第二構成体１３の屈折率をｎ３とする。しかも、所定の間隔Ｈ３の各々は等しいものとする。すなわち、複数の第一構成体１００が等間隔で配置されているものとする。また、Ｈ４は、第二構成体１３を圧縮も伸張もさせないときの、第二構成体１３の高さである。また、ｎ３ｏは、第二構成体１３を圧縮も伸張もさせないときの、第二構成体１３の屈折率である。
ｎ２＝１＋（（ｎ２’−１）×Ｈ２＋（ｎ３−１）×Ｈ３）／（Ｈ２＋Ｈ３） （４）
＝１＋（（ｎ２’−１）×Ｈ２＋（ｎ３ｏ−１）×Ｈ４）／（Ｈ２＋Ｈ３） （５）
なお、式（１）と同様に、ｎ３ｏとｎ３には、以下の式（６）に示す関係が成立するので、式（４）と式（５）とが等しいといえる。
ｎ３ｏ＝１＋（ｎ３−１）×Ｈ３／Ｈ４ （６）
なお、所定の間隔Ｈ３の各々が等しくない場合があるようにすることも可能である。
また、収容具１０を圧縮または伸張させる方向は、収容具１０の高さ方向（Ｚ方向：第１４図および第１５図参照）である。
また、第一の実施形態と同様に、第２２図を参照して、第一平面部分Ｓ１の法線方向が、テラヘルツ波測定装置のテラヘルツ波出力器２から被測定物１に向けて出力されたテラヘルツ波の進行方向と平行になる。テラヘルツ波測定装置による被測定物１の測定を行うために、上記のように収容具１０を配置する。被測定物１に向けて出力されたテラヘルツ波は、第一構成体１００の第一平面部分Ｓ１に入射されてもよく、第二構成体１３の第一平面部分Ｓ１に入射されてもよい。
テラヘルツ波出力器２から出力されたテラヘルツ波が収容具１０に与えられたとき、このテラヘルツ波の周波数によっては、ブラッグ（Ｂｒａｇｇ）反射が起きることがある。この場合、テラヘルツ波がほとんど収容具１０を透過できないので、ブラッグ反射を避けることが好ましい。
ブラッグ（Ｂｒａｇｇ）反射が起きる（収容具１０に与えられる電磁波の）周波数ｆ_Ｎは、上記の式（３）により表される。
ここで、収容具１０に与えられたテラヘルツ波の周波数が、周波数ｆ_Ｎの近傍にならないように、所定の間隔Ｈ３を定める。すなわち、所定の間隔Ｈ３は、テラヘルツ波がブラッグ（Ｂｒａｇｇ）反射を起こさないように定められている。どのように定めるかは、第二の実施形態と同様である。
次に、第三の実施形態の動作を説明する。
第２１図は、第三の実施形態にかかる収容具１０の平均屈折率ｎ２の調整を説明するための図である。ただし、第２１図において、上方押さえ部材１６ａ、ボルト頭部１４ａおよびボルトねじ部１４ｃを図示省略している。
まず、第２１図を参照して、収容具１０の屈折率ｎ２の調整を行う（第二の実施形態と同様）。
さらに、第２２図を参照して、被測定物１の測定を行う（第二の実施形態と同様）。
第三の実施形態によれば、第二の実施形態と同様な効果を奏する。
しかも、第二の実施形態にかかるスペーサー１８に比べて、第三の実施形態にかかる第二構成体１３の方が、第一構成体１００をより広い面で支えることができる。このため、第三の実施形態によれば、第一構成体１００どうしの間隔を、第一構成体１００の面のどの部分（例えば、やや中央寄りの部分）においても、第二の実施形態によりも、均一になるようにしやすい。
しかも、第三の実施形態によれば、第二構成体１３により収容具１０の強度が高まるため、第二の実施形態の第一構成体１００の厚さよりも、第三の実施形態の第一構成体１００の厚さを薄くできる。すると、ブラッグ（Ｂｒａｇｇ）反射が起きる周波数ｆ_Ｎを大きくすることができる。このため、収容具１０に与えられたテラヘルツ波の周波数よりも、周波数ｆ_１を充分に高くすることが容易となり、測定への悪影響を防止しやすい。
なお、第三の実施形態にかかる収容具１０において、第５図に示すような枠１４ｄを用いて収容具１０を圧縮または伸張させることも可能である。
また、収容具１０を圧縮または伸張させる方向を変更することも可能である。第１０図は、第三の実施形態にかかる収容具１０を圧縮または伸張させる方向を変更した変形例を示す収容具１０の平面図である。これまで説明してきた収容具１０を圧縮または伸張させる方向は、Ｚ方向であったが、第１０図に示すように、Ｙ方向（Ｚ方向と垂直な方向）であってもよい。この場合、テラヘルツ波を入射する方向は、Ｙ方向またはＸ方向である。
所定の方向（Ｙ方向）が、テラヘルツ波を入射する方向（Ｙ方向またはＸ方向）と平行または垂直になるように、収容具１０を配置してから、収容具１０に入射するテラヘルツ波の光路と、収容具１０および被測定物１を透過したテラヘルツ波の光路とが一直線上になるように、収容具１０の圧縮または伸張により、収容具１０の平均屈折率を調整する。
また、所定の方向（Ｙ方向）が、テラヘルツ波を入射する方向（Ｙ方向またはＸ方向）と平行または垂直になるように、収容具１０を配置してから、被測定物１の測定を行うことになる。
第１０図に示す変形例においては、第一構成体１００は平らな板状であり、第二構成体１３は直方体状であり、第一構成体１００および第二構成体１３は空隙部１１を有しない。ただし、第一構成体１００および第二構成体１３のうちの何枚かがＺ方向に延伸する貫通空隙部１１０により貫通される。この貫通空隙部１１０の延伸方向（Ｚ方向）と、第一構成体１００が積み重なる所定の方向（Ｙ方向）とが直交する。貫通空隙部１１０の内部に、被測定物１の少なくとも一部が配置されることは、これまでの説明と同様である。
第四の実施形態
第四の実施形態は、第一、第二および第三の実施形態にかかる収容具１０を使用して水平方向（Ｘ方向）に被測定物１を走査する方法である。
第四の実施形態にかかる収容具１０およびテラヘルツ波測定装置の構成は第一、第二および第三の実施形態と同様であり、説明を省略する。
次に、第四の実施形態の動作を説明する。第１１図は、第四の実施形態の動作を説明するための収容具１０およびテラヘルツ波測定装置の平面図である。ただし、第一の実施形態におけるボルト頭部１４ａ、上方押さえ部材１６ａおよび貫通孔１２ａを図示省略している。第二の実施形態におけるボルト頭部１４ａおよびボルトねじ部１４ｃが通る貫通孔１２’ａを図示省略している。第三の実施形態における上方押さえ部材１６ａ、第二構成体１３、ボルト頭部１４ａおよびボルトねじ部１４ｃが通る貫通孔１２’ａを図示省略している。なお、第二および第三の実施形態にかかる収容具１０を使用して水平方向（Ｘ方向）に被測定物１を走査する場合、第１１図の収容具１０は、第一構成体１００となる。
第１１図（ａ）を参照して、テラヘルツ波測定装置のテラヘルツ波出力器２により、テラヘルツ波が出力される（以下、「出力工程」という）。出力されたテラヘルツ波は、第一、第二および第三の実施形態で説明したように、直進しながら、包囲部１２および被測定物１を透過して、テラヘルツ波測定装置のテラヘルツ波検出器４により検出される（以下、「検出工程」という）。これにより、被測定物１がテラヘルツ波測定装置によって測定される。第１１図（ａ）によれば、テラヘルツ波は内容物１ｂを透過するので、テラヘルツ波の検出結果から内容物１ｂの位置などが判明する。
なお、テラヘルツ波の光路をＰ１、Ｐ２とする。ただし、光路Ｐ１は、テラヘルツ波出力器２から出力され、収容具１０に入射されるまでのテラヘルツ波の光路である。光路Ｐ２は、包囲部１２および被測定物１の内部を透過して、テラヘルツ波検出器４に到達するまでのテラヘルツ波の光路である。
出力工程および検出工程が行われている間に、収容具１０および被測定物１が、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ２に対して水平方向（第１１図における下側）に動く。すると、第１１図（ｂ）に示すように、光路Ｐ２が、内容物１ａと交差する。よって、テラヘルツ波は内容物１ａを透過するので、テラヘルツ波の検出結果から内容物１ａの位置などが判明する。
第四の実施形態によれば、水平方向（Ｘ方向）に被測定物１を走査することができる。これにより、被測定物１を断層測定することができる。
なお、出力工程および検出工程が行われている間に、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ２が、収容具１０および被測定物１に対して水平方向（第１１図における上側）に動くようにしても、同様な効果が得られる。テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ２を動かすためには、テラヘルツ波出力器２およびテラヘルツ波検出器４を動かせばよい。
第五の実施形態
第五の実施形態は、第一、第二および第三の実施形態にかかる収容具１０を使用して、被測定物１を回転させながら被測定物１を走査する方法である。
第五の実施形態にかかる収容具１０およびテラヘルツ波測定装置の構成は第一、第二および第三の実施形態と同様であり、説明を省略する。
次に、第五の実施形態の動作を説明する。第１２図は、第五の実施形態の動作を説明するための収容具１０およびテラヘルツ波測定装置の平面図である。なお、出力工程、検出工程、光路Ｐ１、Ｐ２の定義、第１２図において図示省略しているものは第四の実施形態と同様である。また、第二および第三の実施形態にかかる収容具１０を使用して被測定物１を走査する場合に第１２図の収容具１０が、第一構成体１００となることも第四の実施形態と同様である。
第１２図（ａ）を参照して、出力工程が行われる。出力されたテラヘルツ波は、第一の実施形態で説明したように、直進しながら、包囲部１２および被測定物１を透過する。そして、検出工程が行われる。これにより、被測定物１のある部分が、テラヘルツ波測定装置によって測定される。
出力工程および検出工程が行われている間に、被測定物１が、上下方向（Ｚ方向）に伸びる直線Ａ（第１４図および第１５図を参照）を回転軸として、回転する（直線Ａが実在する部材でなくてもよい）。例えば、被測定物１が反時計回りに回転する。すると、被測定物１は、第１２図（ｂ）に示すような配置となる。被測定物１における光路Ｐ２と交差する部分が、第１２図（ｂ）の場合と第１２図（ａ）の場合とでは異なる。よって、第１２図（ｂ）の場合と第１２図（ａ）の場合とでは、被測定物１の異なる部分を測定できる。
第五の実施形態によれば、被測定物１を回転させながら被測定物１を走査することができる。これにより、被測定物１を断層測定することができる。
なお、第一の実施形態にかかる収容具１０（第２図参照）を使用して被測定物１を走査する場合は、被測定物１が所定の回転軸（Ｚ方向の直線Ａ：第１４図および第１５図を参照）を中心に回転しながら、テラヘルツ波を受けており、Ｚ方向に、包囲部１２を圧縮または伸張させることになる。
また、第一の実施形態の変形例にかかる収容具１０（第６図参照）を使用して被測定物１を走査する場合は、被測定物１が所定の回転軸（Ｚ方向の直線Ａ：第１４図および第１５図を参照）を中心に回転しながら、テラヘルツ波を受けており、Ｙ方向に、包囲部１２を圧縮または伸張させることになる。このＹ方向は、テラヘルツ波を入射する方向であるか（テラヘルツ波を入射する方向がＹ方向である場合）、または、Ｚ方向およびテラヘルツ波の光路に垂直な方向である（テラヘルツ波を入射する方向がＸ方向である場合）。
なお、第二の実施形態にかかる収容具１０（第７図参照）を使用して被測定物１を走査する場合は、被測定物１が所定の回転軸（Ｚ方向の直線Ａ：第１４図および第１５図を参照）を中心に回転しながら、テラヘルツ波を受けており、Ｚ方向に、収容具１０を圧縮または伸張させることになる。
また、第二の実施形態の変形例にかかる収容具１０（第８図参照）を使用して被測定物１を走査する場合は、被測定物１が所定の回転軸（Ｚ方向の直線Ａ：第１４図および第１５図を参照）を中心に回転しながら、テラヘルツ波を受けており、Ｙ方向に、収容具１０を圧縮または伸張させることになる。このＹ方向は、テラヘルツ波を入射する方向であるか（テラヘルツ波を入射する方向がＹ方向である場合）、または、Ｚ方向およびテラヘルツ波の光路に垂直な方向である（テラヘルツ波を入射する方向がＸ方向である場合）。
なお、第三の実施形態にかかる収容具１０（第９図参照）を使用して被測定物１を走査する場合は、被測定物１が所定の回転軸（Ｚ方向の直線Ａ：第１４図および第１５図を参照）を中心に回転しながら、テラヘルツ波を受けており、Ｚ方向に、収容具１０を圧縮または伸張させることになる。
また、第三の実施形態の変形例にかかる収容具１０（第１０図参照）を使用して被測定物１を走査する場合は、被測定物１が所定の回転軸（Ｚ方向の直線Ａ：第１４図および第１５図を参照）を中心に回転しながら、テラヘルツ波を受けており、Ｙ方向に、収容具１０を圧縮または伸張させることになる。このＹ方向は、テラヘルツ波を入射する方向であるか（テラヘルツ波を入射する方向がＹ方向である場合）、または、Ｚ方向およびテラヘルツ波の光路に垂直な方向である（テラヘルツ波を入射する方向がＸ方向である場合）。
第六の実施形態
第六の実施形態は、第一、第二および第三の実施形態にかかる収容具１０を使用して、収容具１０およびテラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ２を回転させながら被測定物１を走査する方法である。
第六の実施形態にかかる収容具１０およびテラヘルツ波測定装置の構成は第一、第二および第三の実施形態と同様であり、説明を省略する。
次に、第六の実施形態の動作を説明する。第１３図は、第六の実施形態の動作を説明するための収容具１０およびテラヘルツ波測定装置の平面図である。なお、出力工程、検出工程、光路Ｐ１、Ｐ２の定義、第１３図において図示省略しているものは第四の実施形態と同様である。また、第二および第三の実施形態にかかる収容具１０を使用して被測定物１を走査する場合に第１３図の収容具１０が、第一構成体１００となることも第四の実施形態と同様である。
第１３図（ａ）を参照して、出力工程が行われる。出力されたテラヘルツ波は、第一の実施形態で説明したように、直進しながら、包囲部１２および被測定物１を透過する。そして、検出工程が行われる。これにより、被測定物１のある部分が、テラヘルツ波測定装置によって測定される。
出力工程および検出工程が行われている間に、収容具１０およびテラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ２が、上下方向（Ｚ方向）に伸びる直線Ａ（第１４図および第１５図を参照）を回転軸として、回転する。例えば、反時計回りに回転する。すると、被測定物１は、第１３図（ｂ）に示すような配置となる。被測定物１における光路Ｐ２と交差する部分が、第１３図（ｂ）の場合と第１３図（ａ）の場合とでは異なる。よって、第１３図（ｂ）の場合と第１３図（ａ）の場合とでは、被測定物１の異なる部分を測定できる。
第六の実施形態によれば、収容具１０およびテラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ２を回転させながら被測定物１を走査することができる。これにより、被測定物１を断層測定することができる。
なお、第一の実施形態にかかる収容具１０（第２図参照）を使用して被測定物１を走査する場合は、収容具１０およびテラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ２が所定の回転軸（Ｚ方向の直線Ａ：第１４図および第１５図を参照）を中心に回転しながら、被測定物１がテラヘルツ波を受けており、Ｚ方向に、包囲部１２を圧縮または伸張させることになる。
また、第一の実施形態の変形例にかかる収容具１０（第６図参照）を使用して被測定物１を走査する場合は、収容具１０およびテラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ２が所定の回転軸（Ｚ方向の直線Ａ：第１４図および第１５図を参照）を中心に回転しながら、被測定物１がテラヘルツ波を受けており、Ｙ方向に、包囲部１２を圧縮または伸張させることになる。このＹ方向は、テラヘルツ波を入射する方向であるか（テラヘルツ波を入射する方向がＹ方向である場合）、または、Ｚ方向およびテラヘルツ波の光路に垂直な方向である（テラヘルツ波を入射する方向がＸ方向である場合）。
なお、第二の実施形態にかかる収容具１０（第７図参照）を使用して被測定物１を走査する場合は、収容具１０およびテラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ２が所定の回転軸（Ｚ方向の直線Ａ：第１４図および第１５図を参照）を中心に回転しながら、被測定物１がテラヘルツ波を受けており、Ｚ方向に、収容具１０を圧縮または伸張させることになる。
また、第二の実施形態の変形例にかかる収容具１０（第８図参照）を使用して被測定物１を走査する場合は、収容具１０およびテラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ２が所定の回転軸（Ｚ方向の直線Ａ：第１４図および第１５図を参照）を中心に回転しながら、被測定物１がテラヘルツ波を受けており、Ｙ方向に、収容具１０を圧縮または伸張させることになる。このＹ方向は、テラヘルツ波を入射する方向であるか（テラヘルツ波を入射する方向がＹ方向である場合）、または、Ｚ方向およびテラヘルツ波の光路に垂直な方向である（テラヘルツ波を入射する方向がＸ方向である場合）。
なお、第三の実施形態にかかる収容具１０（第９図参照）を使用して被測定物１を走査する場合は、収容具１０およびテラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ２が所定の回転軸（Ｚ方向の直線Ａ：第１４図および第１５図を参照）を中心に回転しながら、被測定物１がテラヘルツ波を受けており、Ｚ方向に、収容具１０を圧縮または伸張させることになる。
また、第三の実施形態の変形例にかかる収容具１０（第１０図参照）を使用して被測定物１を走査する場合は、収容具１０およびテラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ２が所定の回転軸（Ｚ方向の直線Ａ：第１４図および第１５図を参照）を中心に回転しながら、被測定物１がテラヘルツ波を受けており、Ｙ方向に、収容具１０を圧縮または伸張させることになる。このＹ方向は、テラヘルツ波を入射する方向であるか（テラヘルツ波を入射する方向がＹ方向である場合）、または、Ｚ方向およびテラヘルツ波の光路に垂直な方向である（テラヘルツ波を入射する方向がＸ方向である場合）。
第七の実施形態
第七の実施形態は、第一、第二および第三の実施形態にかかる収容具１０を使用して、被測定物１を上下方向（Ｚ方向）に走査する方法である。
第１４図は、第七の実施形態にかかる収容具１０およびテラヘルツ波測定装置の正面図である。第七の実施形態にかかる収容具１０およびテラヘルツ波測定装置の構成は第一、第二および第三の実施形態とほぼ同様である。ただし、被測定物１は円筒形であり、被測定物１の一部が、収容具１０の空隙部１１（または貫通空隙部１１０）に収容されている。
ただし、第１４図においては、第一の実施形態におけるボルト頭部１４ａ、ナット１４ｂ、ボルトねじ部１４ｃ、上方押さえ部材１６ａおよび下方押さえ部材１６ｂを図示省略している。第二の実施形態におけるボルト頭部１４ａ、ナット１４ｂおよびボルトねじ部１４ｃを図示省略している。第三の実施形態におけるボルト頭部１４ａ、ナット１４ｂ、ボルトねじ部１４ｃ、上方押さえ部材１６ａおよび下方押さえ部材１６ｂを図示省略している。なお、第二および第三の実施形態にかかる収容具１０を使用して被測定物１を走査する場合、第１４図の包囲部１２は、収容具１０の概観を示す図形（収容具１０の輪郭をおおまかに示すに過ぎず、一つ一つの第一構成体１００等を図示しない）となる。
次に、第七の実施形態の動作を説明する。なお、出力工程、検出工程、光路Ｐ１、Ｐ２の定義は、第四の実施形態と同様である。
第１４図（ａ）を参照して、出力工程が行われる。出力されたテラヘルツ波は、第一の実施形態で説明したように、直進しながら、包囲部１２および被測定物１を透過する。そして、検出工程が行われる。これにより、被測定物１の下方の部分が、テラヘルツ波測定装置によって測定される。
出力工程および検出工程が行われている間に、収容具１０およびテラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ２が、被測定物１に対して上下方向（第１４図における上側）に動く。すると、第１４図（ｂ）に示すように、光路Ｐ２が、被測定物１の上方の部分と交差する。これにより、被測定物１の上方の部分が、テラヘルツ波測定装置によって測定される。なお、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ２を動かすためには、テラヘルツ波出力器２およびテラヘルツ波検出器４を動かせばよい。
第七の実施形態によれば、上下方向（Ｚ方向）に被測定物１を走査することができる。これにより、被測定物１を断層測定することができる。
なお、出力工程および検出工程が行われている間に、収容具１０およびテラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ２に対して、被測定物１が上下方向に動くようにしてもよい。
第八の実施形態
第八の実施形態は、第一、第二および第三の実施形態にかかる収容具１０を使用して、被測定物１を上下方向（Ｚ方向）に走査する方法である。
第１５図は、第八の実施形態にかかる収容具１０およびテラヘルツ波測定装置の正面図である。第八の実施形態にかかる収容具１０およびテラヘルツ波測定装置の構成は第一の実施形態とほぼ同様である。ただし、被測定物１は円筒形であり、被測定物１の全部が、収容具１０の空隙部１１（または貫通空隙部１１０）に収容されている。
ただし、第１５図においては、第一の実施形態におけるボルト頭部１４ａ、ナット１４ｂ、ボルトねじ部１４ｃ、上方押さえ部材１６ａおよび下方押さえ部材１６ｂを図示省略している。第二の実施形態におけるボルト頭部１４ａ、ナット１４ｂおよびボルトねじ部１４ｃを図示省略している。第三の実施形態におけるボルト頭部１４ａ、ナット１４ｂ、ボルトねじ部１４ｃ、上方押さえ部材１６ａおよび下方押さえ部材１６ｂを図示省略している。なお、第二および第三の実施形態にかかる収容具１０を使用して被測定物１を走査する場合、第１５図の包囲部１２は、収容具１０の概観を示す図形（収容具１０の輪郭をおおまかに示すに過ぎず、一つ一つの第一構成体１００等を図示しない）となる。
次に、第八の実施形態の動作を説明する。なお、出力工程、検出工程、光路Ｐ１、Ｐ２の定義は、第四の実施形態と同様である。
第１５図（ａ）を参照して、出力工程が行われる。出力されたテラヘルツ波は、第一の実施形態で説明したように、直進しながら、包囲部１２および被測定物１を透過する。そして、検出工程が行われる。これにより、被測定物１の下方の部分が、テラヘルツ波測定装置によって測定される。
出力工程および検出工程が行われている間に、収容具１０および被測定物１が、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ２に対して上下方向（第１５図における下側）に動く。すると、第１５図（ｂ）に示すように、光路Ｐ２が、被測定物１の上方の部分と交差する。これにより、被測定物１の上方の部分が、テラヘルツ波測定装置によって測定される。
第八の実施形態によれば、上下方向（Ｚ方向）に被測定物１を走査することができる。これにより、被測定物１を断層測定することができる。
なお、出力工程および検出工程が行われている間に、収容具１０および被測定物１に対して、テラヘルツ波の光路Ｐ１、Ｐ２が上下方向に動くようにしてもよい。
第九の実施形態
第九の実施形態は、第一、第二および第三の実施形態にかかる収容具１０のテラヘルツ波測定装置に対する配置法が第一、第二および第三の実施形態と異なる。
第１６図は、第九の実施形態にかかる収容具１０に被測定物１の少なくとも一部が収容され、収容具１０にテラヘルツ波が照射されたときの平面図である。第１６図において図示省略しているものは第四の実施形態と同様である。また、第二および第三の実施形態にかかる収容具１０を使用して被測定物１を走査する場合に第１６図の収容具１０が、第一構成体１００となることも第四の実施形態と同様である。
収容具１０およびテラヘルツ波測定装置の構成は第一、第二および第三の実施形態と同様であり、説明を省略する。
ただし、第１６図を参照して、第一平面部分Ｓ１が、テラヘルツ波測定装置のテラヘルツ波出力器２から被測定物１に向けて出力されたテラヘルツ波の進行方向に対して、０度を超え９０度未満の角度αで交差する。テラヘルツ波測定装置による被測定物１の測定を行うために、上記のように収容具１０を配置する。これは、第一平面部分Ｓ１の法線方向が、テラヘルツ波測定装置のテラヘルツ波出力器２から被測定物１に向けて出力されたテラヘルツ波の進行方向に対して、０度を超え９０度未満の角度（＝９０度−α）で交差するようにされていることとなる。
なお、第二の実施形態の変形例（第８図参照）および第三の実施形態の変形例（第１０図参照）に適用する場合は、所定の方向（Ｙ方向）が、テラヘルツ波測定装置のテラヘルツ波出力器２から被測定物１に向けて出力されたテラヘルツ波の進行方向に対して、０度を超え９０度未満の角度で交差するようにする。
次に、第九の実施形態の動作を説明する。
第１６図を参照して、テラヘルツ波測定装置のテラヘルツ波出力器２によりテラヘルツ波が出力される。テラヘルツ波出力器２から出力されたテラヘルツ波は、第一平面部分Ｓ１に照射される。ここで、テラヘルツ波は屈折してから、包囲部１２の内部を直進していく。
ここで、被測定物１の輪郭と、空隙部１１の平面形状の輪郭との隙間の空気層の厚さは薄いので無視する。さらに、（被測定物１の屈折率ｎ１）＝（包囲部１２の屈折率ｎ２）に、ｎ２が調整されているものとする。
すると、包囲部１２の内部を進行していったテラヘルツ波は、被測定物１の内部をも屈折しないで、直進していく。さらに、テラヘルツ波は、被測定物１を透過し、包囲部１２に入射する。さらに、テラヘルツ波は、包囲部１２の内部を直進し、第二平面部分Ｓ２を通過する。この際、テラヘルツ波は屈折し、テラヘルツ波出力器２から出力されたテラヘルツ波の進行方向と平行な方向に進行し、テラヘルツ波検出器４に入射される。
結局、テラヘルツ波出力器２から出力されたテラヘルツ波は、所定の距離（オフセット）だけ光路が移動して、テラヘルツ波検出器４に入射される。
テラヘルツ波検出器４は、入射されたテラヘルツ波を検出する。これにより、被測定物１が測定される。例えば、被測定物１は内容物１ａ、１ｂを有する。第１６図によれば、テラヘルツ波は内容物１ｂを透過するので、テラヘルツ波の検出結果から内容物１ｂの位置などが判明する。
なお、（被測定物１の屈折率ｎ１）＝（包囲部１２の屈折率ｎ２）として、第九の実施形態の動作を説明したが、ｎ１−０．１≦ｎ２≦ｎ１＋０．１であれば、おおよそ、同様な動作である。
第九の実施形態によれば、テラヘルツ波を被測定物１に与えて測定する際に、テラヘルツ波が被測定物１により屈折することを抑制できる。
しかも、第九の実施形態によれば、テラヘルツ波出力器２から出力されたテラヘルツ波は、所定の距離（オフセット）だけ光路が移動して、テラヘルツ波検出器４に入射される。このため、第九の実施形態は、テラヘルツ波出力器２から出力されたテラヘルツ波の進行方向上に、テラヘルツ波検出器４が無い場合に適している。
第十の実施形態
第十の実施形態は、包囲部１２ａ、１２ｂが分割面Ｄ１、Ｄ２に沿って分割可能である点が第一の実施形態と異なる。なお、第十の実施形態にかかる収容具１０を使用して、第四から第八の実施形態において説明した被測定物１の走査を行うことができる。また、第十の実施形態にかかる収容具１０の配置形態として、第九の実施形態おいて説明した方法（第１６図参照）をとることができる。
第１７図は、第十の実施形態にかかる収容具１０に被測定物１の少なくとも一部が収容され、収容具１０にテラヘルツ波が照射されたときの平面図である。
収容具１０およびテラヘルツ波測定装置の構成は第一の実施形態とほぼ同様である。ただし、収容具１０は、包囲部１２にかえて、包囲部１２ａ、１２ｂを備える。包囲部１２ａ、１２ｂは分割面Ｄ１、Ｄ２に沿って分割可能である。また、分割面Ｄ１、Ｄ２は、空隙部１１と交差する。なお、第１７図に示すように分割面Ｄ１、Ｄ２とは離れていてもよい。また、包囲部１２ａ、１２ｂは、互いに、図示省略した連結手段により連結される。第１７図の場合、空隙部１１の平面形状の輪郭は、左に凸の円弧と、右に凸の円弧を含む。
第十の実施形態の動作は、第一の実施形態の動作と同様であり説明を省略する。
第十の実施形態にかかる収容具１０によれば、包囲部１２ａ、１２ｂは分割面Ｄ１、Ｄ２に沿って分割可能であるため、空隙部１１の内部に被測定物１を収容しやすい。例えば、包囲部１２ａ、１２ｂは分割面Ｄ１、Ｄ２に沿って分割してから、空隙部１１の内部に被測定物１を収容する。その後、包囲部１２ａ、１２ｂを、互いに、図示省略した連結手段により連結すればよい。
なお、第二および第三の実施形態にかかる収容具１０（第７図、第８図、第９図、第１０図参照）を、上記と同様に分割面に沿って分割可能としてもよい。すなわち、第７図の第一包囲部１２’、第８図の収容具１０（例えばＹ方向に分割可能とする）、第９図の第一包囲部１２’、第二包囲部１３２、第１０図の収容具１０（例えばＹ方向に分割可能とする）を分割可能としてもよい。
第十一の実施形態
第十一の実施形態にかかる収容具１０は、被測定物１が複数の円柱からなる場合に対応したものである。なお、第十一の実施形態にかかる収容具１０を使用して、第四から第八の実施形態において説明した被測定物１の走査を行うことができる。また、第十一の実施形態にかかる収容具１０の配置形態として、第九の実施形態おいて説明した方法（第１６図参照）をとることができる。
第１８図は、第十一の実施形態にかかる収容具１０に被測定物１が収容されたときの断面図（第１８図（ａ））および平面図（第１８図（ｂ））である。なお、第１８図（ａ）においては、図示の便宜上、収容具１０と空隙部１１との間の隙間を省略している。
第１８図（ａ）を参照して、被測定物１は三個の円柱からなり、高さに応じて底面の直径が変化している。（最高部の円柱の底面の直径）＞（最低部の円柱の底面の直径）＞（中央部の円柱の底面の直径）となっている。なお、被測定物１は回転体であればよく、例えば楕円体でもよい。ただし、その回転体の中心軸は直線Ａに一致している必要がある。
ここで、空隙部１１の平面形状の輪郭の半径が、空隙部１１の高さに応じて変化している。これにより、被測定物１が、その高さに応じて底面の直径が変化していることに対応している。
第１８図（ｂ）を参照して、包囲部１２ａ、１２ｂは分割面Ｄ１、Ｄ２に沿って分割可能である。また、分割面Ｄ１、Ｄ２は、空隙部１１と交差する（第十の実施形態と同様）。これにより、空隙部１１の内部に被測定物１を収容しやすい。例えば、包囲部１２ａ、１２ｂは分割面Ｄ１、Ｄ２に沿って分割してから、空隙部１１の内部に被測定物１を収容する。その後、包囲部１２ａ、１２ｂを、互いに、図示省略した連結手段により連結すればよい。
なお、第１８図（ｂ）において、テラヘルツ波測定装置のテラヘルツ波出力器２およびテラヘルツ波検出器４の位置および光路Ｐ１、Ｐ２の位置は、第１１図と同様であり、説明を省略する。
なお、第二の実施形態にかかる収容具１０の第一空隙部１１’（第７図参照）の平面形状の輪郭の半径が、第一空隙部１１’の高さに応じて変化しているようにしてもよい。
なお、第二の実施形態の変形例にかかる収容具１０の貫通空隙部１１０（第８図参照）の平面形状の輪郭の半径が、貫通空隙部１１０の高さに応じて変化しているようにしてもよい。
なお、第三の実施形態にかかる収容具１０の第一空隙部１１’、第二空隙部１３１（第９図参照）の平面形状の輪郭の半径が、第一空隙部１１’、第二空隙部１３１の高さに応じて変化しているようにしてもよい。
なお、第三の実施形態の変形例にかかる収容具１０の貫通空隙部１１０（第１０図参照）の平面形状の輪郭の半径が、貫通空隙部１１０の高さに応じて変化しているようにしてもよい。

Claims (46)

1. 電磁波測定装置により測定される被測定物の少なくとも一部を収容する収容具であって、
   前記被測定物の少なくとも一部がその内部に配置される空隙部と、
   第一平面部分と第二平面部分とを有し、前記第一平面部分と前記第二平面部分との間に前記空隙部が配置され、前記空隙部を包囲する包囲部と、
   前記包囲部の屈折率をn2、前記被測定物の屈折率をn1としたときに、
   n1−0.1≦n2≦n1+0.1
   となるようにn2を調整する屈折率調整手段と、
   を備え、
   前記電磁波測定装置は、前記被測定物に向けて0.01[THz]以上100[THz]以下の周波数の電磁波を出力する、
   収容具。
2. 請求項１に記載の収容具であって、
   前記屈折率調整手段が、前記包囲部の厚さを変化させることにより、前記包囲部の屈折率を変更する、
   収容具。
3. 請求項２に記載の収容具であって、
   前記屈折率調整手段が、前記包囲部を圧縮または伸張させることにより、前記包囲部の屈折率を変更する、
   収容具。
4. 請求項３に記載の収容具であって、
   前記包囲部は、発泡性樹脂からなる、
   収容具。
5. 請求項３に記載の収容具であって、
   前記被測定物が所定の回転軸を中心に回転しながら、前記電磁波を受けており、
   前記屈折率調整手段が、前記所定の回転軸の方向に、前記包囲部を圧縮または伸張させる、
   収容具。
6. 請求項３に記載の収容具であって、
   前記被測定物が所定の回転軸を中心に回転しながら、前記電磁波を受けており、
   前記屈折率調整手段が、前記所定の回転軸および前記電磁波の光路に垂直な方向に、前記包囲部を圧縮または伸張させる、
   収容具。
7. 請求項３に記載の収容具であって、
   前記収容具および前記電磁波の光路が所定の回転軸を中心に回転しながら、前記被測定物が前記電磁波を受けており、
   前記屈折率調整手段が、前記所定の回転軸の方向に、前記包囲部を圧縮または伸張させる、
   収容具。
8. 請求項３に記載の収容具であって、
   前記収容具および前記電磁波の光路が所定の回転軸を中心に回転しながら、前記被測定物が前記電磁波を受けており、
   前記屈折率調整手段が、前記所定の回転軸および前記電磁波の光路に垂直な方向に、前記包囲部を圧縮または伸張させる、
   収容具。
9. 請求項３に記載の収容具であって、
   前記屈折率調整手段が、前記電磁波の光路と平行な方向に、前記包囲部を圧縮または伸張させる、
   収容具。
10. 請求項１ないし９のいずれか一項に記載の収容具であって、
    前記空隙部の平面形状の輪郭が、円弧を含む、
    収容具。
11. 請求項１０に記載の収容具であって、
    前記空隙部の平面形状の輪郭の半径が、前記空隙部の高さに応じて変化する、
    収容具。
12. 請求項１ないし９のいずれか一項に記載の収容具であって、
    前記包囲部が分割面に沿って分割可能であり、
    前記分割面が前記空隙部と交差する、
    収容具。
13. 前記被測定物を収容した請求項１ないし１２のいずれか一項に記載の収容具における前記包囲部の屈折率を調整する屈折率調整方法であって、
    前記第一平面部分が、前記電磁波測定装置から前記被測定物に向けて出力された前記電磁波の進行方向に対して、直角に交差するように、前記収容具を配置する工程と、
    前記第一平面部分に入射する前記電磁波の光路と、前記包囲部および前記被測定物を透過した前記電磁波の光路とが一直線上になるように、前記屈折率調整手段により前記包囲部の屈折率を調整する工程と、
    を備えた屈折率調整方法。
14. 前記被測定物を収容した請求項１ないし１２のいずれか一項に記載の収容具を、前記電磁波測定装置による前記被測定物の測定のために配置する収容具配置方法であって、
    前記第一平面部分が、前記電磁波測定装置から前記被測定物に向けて出力された前記電磁波の進行方向に対して、直角に交差するように、前記収容具を配置する工程を備えた収容具配置方法。
15. 前記被測定物を収容した請求項１ないし１２のいずれか一項に記載の収容具を、前記電磁波測定装置による前記被測定物の測定のために配置する収容具配置方法であって、
    前記第一平面部分が、前記電磁波測定装置から前記被測定物に向けて出力された前記電磁波の進行方向に対して、０度を超え９０度未満の角度で交差するように、前記収容具を配置する工程を備えた収容具配置方法。
16. 電磁波測定装置により測定される被測定物の少なくとも一部を収容する収容具であって、
    前記被測定物の少なくとも一部がその内部に配置される第一空隙部と、
    第一平面部分と第二平面部分とを有し、前記第一平面部分と前記第二平面部分との間に前記第一空隙部が配置され、前記第一空隙部を包囲する第一包囲部と、
    を有する複数の第一構成体を備え、
    前記第一構成体は、所定の間隔だけ隔てられており、
    前記収容具は、さらに、
    前記収容具の平均屈折率をn2、前記被測定物の屈折率をn1としたときに、
    n1−0.1≦n2≦n1+0.1
    となるようにn2を調整する屈折率調整手段を備え、
    前記電磁波測定装置は、前記被測定物に向けて0.01[THz]以上100[THz]以下の周波数の電磁波を出力する、
    収容具。
17. 請求項１６に記載の収容具であって、
    前記屈折率調整手段が、前記所定の間隔を変化させることにより、前記収容具の平均屈折率を変更する、
    収容具。
18. 請求項１７に記載の収容具であって、
    前記屈折率調整手段が、前記収容具を圧縮または伸張させることにより、前記所定の間隔を変化させる、
    収容具。
19. 請求項１６に記載の収容具であって、
    複数の前記第一構成体の間に配置され、前記第一空隙部の外側に配置された間隔保持部材、
    を備えた収容具。
20. 請求項１６に記載の収容具であって、
    複数の前記第一構成体の間に配置された第二構成体を備え、
    前記第二構成体は、
    前記被測定物の少なくとも一部がその内部に配置される第二空隙部と、
    第三平面部分と第四平面部分とを有し、前記第三平面部分と前記第四平面部分との間に前記第二空隙部が配置され、前記第二空隙部を包囲する第二包囲部と、
    を有する、
    収容具。
21. 請求項１６に記載の収容具であって、
    前記所定の間隔は、前記電磁波がブラッグ(Bragg)反射を起こさないように定められている、
    収容具。
22. 請求項１６に記載の収容具であって、
    前記所定の間隔の各々が等しい、
    収容具。
23. 請求項１８に記載の収容具であって、
    前記被測定物が所定の回転軸を中心に回転しながら、前記電磁波を受けており、
    前記屈折率調整手段が、前記所定の回転軸の方向に、前記収容具を圧縮または伸張させる、
    収容具。
24. 請求項１８に記載の収容具であって、
    前記収容具および前記電磁波の光路が所定の回転軸を中心に回転しながら、前記被測定物が前記電磁波を受けており、
    前記屈折率調整手段が、前記所定の回転軸の方向に、前記収容具を圧縮または伸張させる、
    収容具。
25. 請求項１６ないし２４のいずれか一項に記載の収容具であって、
    前記第一空隙部の平面形状の輪郭が、円弧を含む、
    収容具。
26. 請求項２５に記載の収容具であって、
    前記第一空隙部の平面形状の輪郭の半径が、前記第一空隙部の高さに応じて変化する、
    収容具。
27. 請求項１６ないし２４のいずれか一項に記載の収容具であって、
    前記第一包囲部が分割面に沿って分割可能であり、
    前記分割面が前記第一空隙部と交差する、
    収容具。
28. 前記被測定物を収容した請求項１６ないし２７のいずれか一項に記載の収容具の平均屈折率を調整する屈折率調整方法であって、
    前記第一平面部分の法線方向が、前記電磁波測定装置から前記被測定物に向けて出力された前記電磁波の進行方向と平行になるように、前記収容具を配置する工程と、
    前記第一平面部分に入射する前記電磁波の光路と、前記収容具および前記被測定物を透過した前記電磁波の光路とが一直線上になるように、前記屈折率調整手段により前記収容具の平均屈折率を調整する工程と、
    を備えた屈折率調整方法。
29. 前記被測定物を収容した請求項１６ないし２７のいずれか一項に記載の収容具を、前記電磁波測定装置による前記被測定物の測定のために配置する収容具配置方法であって、
    前記第一平面部分の法線方向が、前記電磁波測定装置から前記被測定物に向けて出力された前記電磁波の進行方向と平行になるように、前記収容具を配置する工程を備えた収容具配置方法。
30. 前記被測定物を収容した請求項１６ないし２７のいずれか一項に記載の収容具を、前記電磁波測定装置による前記被測定物の測定のために配置する収容具配置方法であって、
    前記第一平面部分の法線方向が、前記電磁波測定装置から前記被測定物に向けて出力された前記電磁波の進行方向に対して、０度を超え９０度未満の角度で交差するように、前記収容具を配置する工程を備えた収容具配置方法。
31. 電磁波測定装置により測定される被測定物の少なくとも一部を収容する収容具であって、
    所定の方向に、所定の間隔だけ隔てられた複数の第一構成体と、
    前記収容具の平均屈折率をn2、前記被測定物の屈折率をn1としたときに、
    n1−0.1≦n2≦n1+0.1
    となるようにn2を調整する屈折率調整手段と、
    を備え、
    前記電磁波測定装置は、前記被測定物に向けて0.01[THz]以上100[THz]以下の周波数の電磁波を出力し、
    前記収容具を貫通する貫通空隙部の内部に、前記被測定物の少なくとも一部が配置され、
    前記貫通空隙部の延伸方向と、前記所定の方向とが直交する、
    収容具。
32. 請求項３１に記載の収容具であって、
    前記屈折率調整手段が、前記所定の間隔を変化させることにより、前記収容具の平均屈折率を変更する、
    収容具。
33. 請求項３２に記載の収容具であって、
    前記屈折率調整手段が、前記収容具を圧縮または伸張させることにより、前記所定の間隔を変化させる、
    収容具。
34. 請求項３１に記載の収容具であって、
    複数の前記第一構成体の間に配置された間隔保持部材、
    を備えた収容具。
35. 請求項３１に記載の収容具であって、
    複数の前記第一構成体の間に配置された第二構成体を備える、
    収容具。
36. 請求項３１に記載の収容具であって、
    前記所定の間隔は、前記電磁波がブラッグ(Bragg)反射を起こさないように定められている、
    収容具。
37. 請求項３１に記載の収容具であって、
    前記所定の間隔の各々が等しい、
    収容具。
38. 請求項３１に記載の収容具であって、
    前記被測定物が所定の回転軸を中心に回転しながら、前記電磁波を受けており、
    前記屈折率調整手段が、前記所定の回転軸および前記電磁波の光路に垂直な方向に、前記収容具を圧縮または伸張させる、
    収容具。
39. 請求項３１に記載の収容具であって、
    前記収容具および前記電磁波の光路が所定の回転軸を中心に回転しながら、前記被測定物が前記電磁波を受けており、
    前記屈折率調整手段が、前記所定の回転軸および前記電磁波の光路に垂直な方向に、前記収容具を圧縮または伸張させる、
    収容具。
40. 請求項３１に記載の収容具であって、
    前記屈折率調整手段が、前記電磁波の光路と平行な方向に、前記収容具を圧縮または伸張させる、
    収容具。
41. 請求項３１ないし４０のいずれか一項に記載の収容具であって、
    前記貫通空隙部の平面形状の輪郭が、円弧を含む、
    収容具。
42. 請求項４１に記載の収容具であって、
    前記貫通空隙部の平面形状の輪郭の半径が、前記貫通空隙部の高さに応じて変化する、
    収容具。
43. 請求項３１ないし４０のいずれか一項に記載の収容具であって、
    前記収容具が分割面に沿って分割可能であり、
    前記分割面が前記貫通空隙部と交差する、
    収容具。
44. 前記被測定物を収容した請求項３１ないし４３のいずれか一項に記載の収容具の平均屈折率を調整する屈折率調整方法であって、
    前記所定の方向が、前記電磁波測定装置から前記被測定物に向けて出力された前記電磁波の進行方向と平行または垂直になるように、前記収容具を配置する工程と、
    前記収容具に入射する前記電磁波の光路と、前記収容具および前記被測定物を透過した前記電磁波の光路とが一直線上になるように、前記屈折率調整手段により前記収容具の平均屈折率を調整する工程と、
    を備えた屈折率調整方法。
45. 前記被測定物を収容した請求項３１ないし４３のいずれか一項に記載の収容具を、前記電磁波測定装置による前記被測定物の測定のために配置する収容具配置方法であって、
    前記所定の方向が、前記電磁波測定装置から前記被測定物に向けて出力された前記電磁波の進行方向と平行または垂直になるように、前記収容具を配置する工程を備えた収容具配置方法。
46. 前記被測定物を収容した請求項３１ないし４３のいずれか一項に記載の収容具を、前記電磁波測定装置による前記被測定物の測定のために配置する収容具配置方法であって、
    前記所定の方向が、前記電磁波測定装置から前記被測定物に向けて出力された前記電磁波の進行方向に対して、０度を超え９０度未満の角度で交差するように、前記収容具を配置する工程を備えた収容具配置方法。

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