JP5274905B2 - 静電偏向器及びそれを用いた荷電粒子ビーム装置 - Google Patents
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電子ビーム照射により発生した2次電子や反射電子は電子検出器9により検出され、検出された電子強度信号は増幅器10により増幅されて制御演算装置11に送られる。
荷電粒子ビームを発生する荷電粒子源と、該荷電粒子ビームを集束して試料上に照射する
レンズと前記荷電粒子ビームを試料上で走査するため、荷電粒子ビーム通路を挟んで対向
配置される電極対からなる静電偏向器とを備えた荷電粒子ビーム装置において、
前記静電偏向器の1段を構成する電極対が荷電粒子ビームの光軸方向に沿って3分割以上
の奇数個の電極対群に分割され、
前記電極対群は、前記荷電粒子ビームの光軸に沿って中央に位置する中央電極対と、前記
中央電極対を挟んで配置された2つの電極対をひとつの組とする組が前記電極対群の個数
に応じて1つ又は複数形成される対称配置電極対とからなり、
前記ひとつの組の対称配置電極対を構成する前記2つの対称配置電極対の内面は、前記中央電極対の点対称の中心に対して対称となる形状を持ち且つ対称となる距離に配置され、前記中央電極対と、前記対称配置電極対の各組の中から1つ又は複数組選択する選択手段と、前記選択された電極対に所定の偏向電圧を与える電圧印加手段とを備えたことを特徴とする。
前記選択手段は、荷電粒子ビームを前記試料上で走査する際の走査倍率又は走査幅に応じて選択する電極対を決めるようにしたことを特徴とする。
前記選択された電極対に与える電圧値は、単一の電源から供給され、各電極対において同一となるようになされていることを特徴とする。
前記選択手段は、前記選択された電極対以外の電極対は荷電粒子ビームを偏向しないように設定することを特徴とする。
前記分割された電極対の隣り合う配置された電極対同士は、各々の隣接する電極対の口径が略連続的に変化するように、隣り合う電極対の少なくとも一方の電極対にテーパー形状部が設けられていることを特徴とする。
前記選択手段は、前記静電偏向器の1段による最も高い偏向感度が所望されるときは、前記分割された電極対の全てに同じ偏向電圧を与えるようにしたことを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記載の荷電粒子ビーム装置。
前記選択手段は、前記静電偏向器の1段による最も低い偏向感度が所望されるときは、前記分割された電極対のうちの前記中央電極対のみに偏向電圧を与え、その他の電極対は全て接地電位とするようにしたことを特徴とする。
前記選択手段は、前記静電偏向器の1段による最も高い偏向感度を与えるモードから、前記中央電極対から最も遠い距離に配置されている前記2つの電極対をひとつの組とする対称配置電極対から順次接地電圧に切り換えることにより、前記静電偏向器の偏向感度を複数段階に切り換えるようにしたことを特徴とする。
前記分割された電極対の長さと口径を適当な値に設定することにより、前記切り換えに伴い偏向感度が略等比級数的に変化するように構成されていることを特徴とする。
前記選択手段は、前記静電偏向器の1段による最も低い偏向感度が所望されるときは、前記分割された電極対のうちの前記中央電極対から最も遠い距離に配置されている前記2つの電極対をひとつの組とする対称配置電極対のみに偏向電圧を与え、その他の電極対は全て接地電位とするようにしたことを特徴とする。
荷電粒子ビームを集束して試料上に照射し、試料表面の観察や試料の加工を行なう荷電粒
子ビーム装置に用いられる静電偏向器であって、前記荷電粒子ビームを試料上で走査するための荷電粒子ビーム通路を挟んで対向配置される電極対からなる静電偏向器において、
前記静電偏向器の1段を構成する電極対が荷電粒子ビームの光軸方向に沿って3分割以上
の奇数個の電極対群に分割され、
前記電極対群は、前記荷電粒子ビームの光軸に沿って中央に位置する中央電極対と、前記
中央電極対を挟んで配置された2つの電極対をひとつの組とする組が前記電極対群の個数
に応じて1つ又は複数形成される対称配置電極対とからなり、
前記ひとつの組の対称配置電極対を構成する前記2つの対称配置電極対の内面は、前記中央電極対の点対称の中心に対して対称となる形状を持ち且つ対称となる距離に配置され、前記中央電極対と前記対称配置電極対の組の中から所定の偏向電圧を与える電極対を選択することにより前記静電偏向器の偏向感度を切り換えるようにしたこと特徴とする。
図1は本発明の一実施の形態例として、4極子静電偏向器20の1段分に適用した例を示す図である。図1(a)は荷電粒子ビームの入射方向から見た上視図である。図1(b)は、上視図のX軸(又はY軸でも同じ)における荷電粒子ビームの光軸(Z軸)に沿った縦断面図である。4極子静電偏向器20の1段分の全長はL、上下両端の電極対の口径はdであり、中央の電極対22の長さはLc、口径はdcである。
偏向感度比をR1とおき、
R1=(dc/d)/(Lc/L) (1)
と定義する。
図2は、本発明の他の実施例で、中央の電極対を3分割構成とし全体を5分割した4極子静電偏向器30の構成例を示す。図2(a)は荷電粒子ビームの入射方向から見た上視図である。図2(b)は、上視図のX軸(又はY軸でも同じ)における荷電粒子ビームの光軸(Z軸)に沿った縦断面図である。4極子静電偏向器30の1段分の全長はL、上下両端の口径はdである。
即ち、35は中央電極対、31〜34は対称配置電極対であり、31と32、33と34がそれぞれ1つの組を形成する。
図1の4極子静電偏向器20の場合と同様に、分割された電極対のそれぞれ隣り合う口径を略連続的に近づけるようにテーパー部が設けられている。
また、リレー36を中・低感度モードにすると、リレー端子は「2」に接続され、電極対33、34、35のみに電圧を与えることが可能となる。
R2=(dc/d)/(Lc/L) (2)
と定義する。
例えば、3つの電極対の長さLcを全長Lの約5分の2にとり(Lc/L≒2/5)、電極対22の口径dcを上下の電極対21、23の口径dの2倍程度大きくする(dc/d≒2)と、式(2)から、概ね、R2≒5となる(テーパー部形状により若干値が変化する)。
R3=(dc′/dc)/(Lc′/Lc) (3)
と定義する。
例えば、電極対35の長さLc′を3つの電極対の長さLcの約5分の2にとり(Lc′/Lc≒2/5)、電極対35の口径dc′を上下の電極対33、34の口径dの2倍程度大きくする(dc′/dc≒2)と、式(3)から、概ね、R3≒5となる(テーパー部形状により若干値が変化する)。
図3は、本発明の他のもうひとつの実施例で、4極子静電偏向器40の構成例を示す図である。図3(a)は荷電粒子ビームの入射方向から見た上視図である。図3(b)は、上視図のX軸(又はY軸でも同じ)における荷電粒子ビームの光軸(Z軸)に沿った縦断面図である。4極子静電偏向器40の1段分の全長はL、中央の電極対43の口径はd、上下の電極対41、42の長さはそれぞれLc/2、口径はdcである。
偏向感度比をR4とおき、
R4=(dc/d)/(Lc/L) (1)
と定義する。
1…電子銃(荷電粒子銃)
2…電子ビーム(荷電粒子ビーム)
3…集束レンズ
4…対物レンズ
5…静電偏向器
6…試料
7…試料ステージ
8…偏向電源
9…電子検出器
10…増幅器
11…制御演算装置
12…表示装置
Claims (11)
- 荷電粒子ビームを発生する荷電粒子源と、該荷電粒子ビームを集束して試料上に照射する
レンズと前記荷電粒子ビームを試料上で走査するため、荷電粒子ビーム通路を挟んで対向
配置される電極対からなる静電偏向器とを備えた荷電粒子ビーム装置において、
前記静電偏向器の1段を構成する電極対が荷電粒子ビームの光軸方向に沿って3分割以上
の奇数個の電極対群に分割され、
前記電極対群は、前記荷電粒子ビームの光軸に沿って中央に位置する中央電極対と、前記
中央電極対を挟んで配置された2つの電極対をひとつの組とする組が前記電極対群の個数
に応じて1つ又は複数形成される対称配置電極対とからなり、
前記ひとつの組の対称配置電極対を構成する前記2つの対称配置電極対の内面は、前記中央電極対の点対称の中心に対して対称となる形状を持ち且つ対称となる距離に配置され、前記中央電極対と、前記対称配置電極対の各組の中から1つ又は複数組選択する選択手段と、前記選択された電極対に所定の偏向電圧を与える電圧印加手段とを備えたことを特徴とする荷電粒子ビーム装置。 - 前記選択手段は、荷電粒子ビームを前記試料上で走査する際の走査倍率又は走査幅に応じ
て選択する電極対を決めるようにしたことを特徴とする請求項1に記載の荷電粒子ビーム
装置。 - 前記選択された電極対に与える電圧値は、単一の電源から供給され、各電極対において同
一となるようになされていることを特徴とする請求項1乃至2の何れか1項に記載の荷電
粒子ビーム装置。 - 前記選択手段は、前記選択された電極対以外の電極対は荷電粒子ビームを偏向しないよう
に設定することを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の荷電粒子ビーム装置。 - 前記分割された電極対の隣り合う配置された電極対同士は、各々の隣接する電極対の口径
が略連続的に変化するように、隣り合う電極対の少なくとも一方の電極対にテーパー形状
部が設けられていることを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の荷電粒子ビー
ム装置。 - 前記選択手段は、前記静電偏向器の1段による最も高い偏向感度が所望されるときは、前
記分割された電極対の全てに同じ偏向電圧を与えるようにしたことを特徴とする請求項1
乃至5の何れか1項に記載の荷電粒子ビーム装置。 - 前記選択手段は、前記静電偏向器の1段による最も低い偏向感度が所望されるときは、前
記分割された電極対のうちの前記中央電極対のみに偏向電圧を与え、その他の電極対は全
て接地電位とするようにしたことを特徴とする請求項1乃至6の何れか1項に記載の荷電
粒子ビーム装置。 - 前記選択手段は、前記静電偏向器の1段による最も高い偏向感度を与えるモードから、前
記中央電極対から最も遠い距離に配置されている前記2つの電極対をひとつの組とする対
称配置電極対から順次接地電圧に切り換えることにより、前記静電偏向器の偏向感度を複
数段階に切り換えるようにしたことを特徴とする請求項1乃至7の何れか1項に記載の荷
電粒子ビーム装置。 - 前記分割された電極対の長さと口径を適当な値に設定することにより、前記切り換えに伴
い偏向感度が略等比級数的に変化するように構成されていることを特徴とする請求項1乃
至8の何れか1項に記載の荷電粒子ビーム装置。 - 前記選択手段は、前記静電偏向器の1段による最も低い偏向感度が所望されるときは、前
記分割された電極対のうちの前記中央電極対から最も遠い距離に配置されている前記2つ
の電極対をひとつの組とする対称配置電極対のみに偏向電圧を与え、その他の電極対は全
て接地電位とするようにしたことを特徴とする請求項1乃至6の何れか1項に記載の荷電
粒子ビーム装置。 - 荷電粒子ビームを集束して試料上に照射し、試料表面の観察や試料の加工を行なう荷電粒
子ビーム装置に用いられる静電偏向器であって、前記荷電粒子ビームを試料上で走査するための荷電粒子ビーム通路を挟んで対向配置される電極対からなる静電偏向器において、
前記静電偏向器の1段を構成する電極対が荷電粒子ビームの光軸方向に沿って3分割以上
の奇数個の電極対群に分割され、
前記電極対群は、前記荷電粒子ビームの光軸に沿って中央に位置する中央電極対と、前記
中央電極対を挟んで配置された2つの電極対をひとつの組とする組が前記電極対群の個数
に応じて1つ又は複数形成される対称配置電極対とからなり、
前記ひとつの組の対称配置電極対を構成する前記2つの対称配置電極対の内面は、前記中央電極対の点対称の中心に対して対称となる形状を持ち且つ対称となる距離に配置され、前記中央電極対と前記対称配置電極対の組の中から所定の偏向電圧を与える電極対を選択することにより前記静電偏向器の偏向感度を切り換えるようにしたこと特徴とする静電偏向器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008159980A JP5274905B2 (ja) | 2008-06-19 | 2008-06-19 | 静電偏向器及びそれを用いた荷電粒子ビーム装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2008159980A JP5274905B2 (ja) | 2008-06-19 | 2008-06-19 | 静電偏向器及びそれを用いた荷電粒子ビーム装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010003484A JP2010003484A (ja) | 2010-01-07 |
JP5274905B2 true JP5274905B2 (ja) | 2013-08-28 |
Family
ID=41585051
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008159980A Active JP5274905B2 (ja) | 2008-06-19 | 2008-06-19 | 静電偏向器及びそれを用いた荷電粒子ビーム装置 |
Country Status (1)
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Families Citing this family (1)
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JP2002117796A (ja) * | 2000-10-11 | 2002-04-19 | Jeol Ltd | 荷電粒子ビーム装置および集束イオンビーム装置 |
JP4316394B2 (ja) * | 2004-01-21 | 2009-08-19 | 株式会社東芝 | 荷電ビーム装置 |
JP4807835B2 (ja) * | 2005-12-06 | 2011-11-02 | 株式会社トプコン | 荷電ビーム照射装置、静電偏向器、静電偏向器の製造方法 |
-
2008
- 2008-06-19 JP JP2008159980A patent/JP5274905B2/ja active Active
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JP2010003484A (ja) | 2010-01-07 |
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