JP5270285B2 - Substrate processing equipment - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体基板、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等(以下、単に「基板」と称する)に対して処理を施す基板処理装置に関するもので、特に、各基板に対して実行される処理の流れを表示する技術に関する The present invention relates to a substrate processing apparatus for processing a semiconductor substrate, a glass substrate for a liquid crystal display device, a glass substrate for a photomask, a substrate for an optical disk (hereinafter simply referred to as “substrate”), The present invention relates to a technique for displaying the flow of processing performed on a substrate
従来より、複数の生産ラインで生産される製品あるいは部品の生産スケジュールを、ガントチャートを使用して表示する技術が知られている(例えば、特許文献1および2)。
Conventionally, a technique for displaying a production schedule of products or parts produced on a plurality of production lines using a Gantt chart is known (for example,
しかし、特許文献1および2のガントチャートからは、各生産ラインでどのような組立処理が実行されているかを把握することができない。また、各生産ラインで実行される組立処理の処理状況を確認する場合、装置のオペレータは、ガントチャートが表示されている画面を別の画面に切り替えて、対象となる組立処理に関する情報を表示させることが必要となる。
However, from the Gantt charts of
したがって、複数の生産ラインのうちのいずれかで、組立処理が正常に実行されず、その生産ラインで不具合が生じた場合において、どの組立処理が正常に実行されなかったかを確認するためには、ガントチャートとは別の画面を表示させ、不具合の原因となった組立処理を特定することが必要となる。すなわち、従来のガントチャートを使用して生産ラインの不具合を特定する場合、オペレータの作業負担が増大するという問題が生ずる。 Therefore, in order to confirm which assembly process has not been executed normally in the case where an assembly process is not normally executed in any of the plurality of production lines and a failure occurs in the production line, It is necessary to display a screen different from the Gantt chart and identify the assembly process that caused the failure. That is, when a malfunction of the production line is specified using the conventional Gantt chart, there arises a problem that an operator's work load increases.
そして、この問題は、複数の処理ユニットにより基板に対して処理を実行する基板処理装置において、不具合の原因となった基板処理工程を特定する場合にも、同様に生ずる。 This problem similarly occurs when a substrate processing process that causes a defect is specified in a substrate processing apparatus that performs processing on a substrate by a plurality of processing units.
そこで、本発明では、複数の処理ユニットにより基板に対して処理を実行する場合において、各基板の処理状況および各処理ユニットにおける処理状況を容易に把握でき基板処理装置を提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus that can easily grasp the processing status of each substrate and the processing status in each processing unit when processing a substrate by a plurality of processing units. .
上記の課題を解決するため、請求項1の発明は、基板処理装置において、基板に対して処理を実行する複数の処理ユニットと、各処理ユニットにおいて基板に実行される処理のスケジュールを、時間軸方向に延びる図形要素として作成する作成部と、基板に実行される処理を構成する工程の計時結果が許容範囲内となるか否かを判定する第1判定部と、前記工程の実行にともなって動作する機器の実行パラメータについて、該実行パラメータの計測結果が、警告範囲内となるか否かを判定する第2判定部と、前記作成部により作成された図形要素を画面に表示する表示部と、記憶部と、を備え、前記図形要素が対応する処理ユニット毎に前記時間方向に沿って配置されるように、各図形要素の配置を決定し、(a)前記作成部は、基板の識別情報を示す第1図形要素と、前記工程のスケジュールを、各工程毎に示す第2図形要素と、を有する前記図形要素を、作成するとともに、前記第1判定部により前記計時結果が許容範囲外となると判定される場合、対応する前記図形要素に第1告知要素を付加し、前記第2判定部により前記計測結果が前記警告範囲内となると判定される場合、対応する前記図形要素に第2告知要素を付加し、(b)前記表示部は、前記作成部において前記告知要素が付加された前記図形要素については、当該告知要素が付加された状態で前記図形要素を表示し、前記作成部において前記告知要素が付加されていない前記図形要素については、単に前記図形要素を表示することを特徴とする。
In order to solve the above-described problems, the invention of
また、請求項2の発明は、基板処理装置において、基板に対して処理を実行する複数の処理ユニットと、各処理ユニットにおいて基板に実行される処理のスケジュールを、時間軸方向に延びる図形要素として作成する作成部と、基板に実行される処理を構成する工程の計時結果が許容範囲内となるか否かを判定する第1判定部と、前記工程の実行にともなって動作する機器の実行パラメータについて、該実行パラメータの計測結果が、異常範囲内となるか否かを判定する第2判定部と、前記作成部により作成された図形要素を画面に表示する表示部と、記憶部と、を備え、前記図形要素が対応する処理ユニット毎に前記時間方向に沿って配置されるように、各図形要素の配置を決定し、(a)前記作成部は、基板の識別情報を示す第1図形要素と、前記工程のスケジュールを、各工程毎に示す第2図形要素と、を有する前記図形要素を、作成するとともに、前記第1判定部により前記計時結果が許容範囲外となると判定される場合、対応する前記図形要素に第1告知要素を付加し、前記第2判定部により前記計測結果が前記異常範囲内となると判定される場合、対応する前記図形要素に第2告知要素を付加し、(b)前記表示部は、前記作成部において前記告知要素が付加された前記図形要素については、当該告知要素が付加された状態で前記図形要素を表示し、前記作成部において前記告知要素が付加されていない前記図形要素については、単に前記図形要素を表示することを特徴とする。 According to a second aspect of the present invention, in the substrate processing apparatus, a plurality of processing units that perform processing on the substrate and a schedule of processing performed on the substrate in each processing unit are represented as graphic elements extending in the time axis direction. A creation unit to create, a first determination unit for judging whether or not a time measurement result of a process constituting a process to be executed on the substrate is within an allowable range, and an execution parameter of a device that operates along with the execution of the process A second determination unit that determines whether the measurement result of the execution parameter falls within the abnormal range, a display unit that displays the graphic element created by the creation unit on a screen, and a storage unit. And determining the arrangement of each graphic element so that the graphic element is arranged along the time direction for each corresponding processing unit, and (a) the creation unit is a first graphic indicating the identification information of the substrate Essential And creating the graphic element having a second graphic element indicating the schedule of the process for each process, and when the first determination unit determines that the timing result is outside the allowable range, A first notification element is added to the corresponding graphic element, and when the second determination unit determines that the measurement result falls within the abnormal range, a second notification element is added to the corresponding graphic element, b) The display unit displays the graphic element with the notification element added to the graphic element to which the notification element has been added in the creation unit, and the notification element is added to the creation unit. For the graphic elements that are not present, the graphic elements are simply displayed .
また、請求項3の発明は、請求項1または請求項2に記載の基板処理装置において、前記作成部は、前記図形要素のうち、少なくとも前記第2図形要素に前記第1告知要素を付加することを特徴とする。 According to a third aspect of the present invention, in the substrate processing apparatus of the first or second aspect, the creating unit adds the first notification element to at least the second graphic element among the graphic elements. It is characterized by that.
また、請求項4の発明は、請求項1または請求項2に記載の基板処理装置において、前記作成部は、前記第1および第2図形要素のそれぞれに前記第1告知要素を付加することを特徴とする。 According to a fourth aspect of the present invention, in the substrate processing apparatus according to the first or second aspect, the creation unit adds the first notification element to each of the first and second graphic elements. Features.
また、請求項5の発明は、請求項3または請求項4に記載の基板処理装置において、前記第1告知要素が付加されている前記第2図形要素が、操作部からの第1指定動作により指定された場合、前記記憶部に記憶されている複数の実行タイミング関連情報から、指定された前記第2図形要素に対応する第1関連情報を抽出する第1抽出部、をさらに備え、前記作成部は、前記第1抽出部により抽出された前記第1関連情報を配置するための第1表示領域を、さらに作成し、前記表示部は、前記第1指定動作に応じて、前記作成部により作成された前記第1表示領域をさらに表示することを特徴とする。 According to a fifth aspect of the present invention, in the substrate processing apparatus according to the third or fourth aspect, the second graphic element to which the first notification element is added is generated by a first designated operation from the operation unit. A first extraction unit that, when specified, extracts first related information corresponding to the specified second graphic element from a plurality of execution timing related information stored in the storage unit; The unit further creates a first display area for arranging the first related information extracted by the first extraction unit, and the display unit performs the creation by the creation unit according to the first designation operation. The created first display area is further displayed.
また、請求項6の発明は、請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の基板処理装置において、前記作成部は、前記図形要素のうち、少なくとも、対応する前記第2図形要素に前記第2告知要素を付加することを特徴とする。
The invention according to claim 6 is the substrate processing apparatus according to any one of
また、請求項7の発明は、請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の基板処理装置において、前記作成部は、前記第1および第2図形要素に前記第2告知要素を付加することを特徴とする。 According to a seventh aspect of the present invention, in the substrate processing apparatus according to any one of the first to fifth aspects, the creation unit adds the second notification element to the first and second graphic elements. It is characterized by.
また、請求項8の発明は、請求項6または請求項7に記載の基板処理装置において、前記第2告知要素が付加されている前記第2図形要素が操作部からの第2指定動作により指定された場合、前記記憶部に記憶されている複数の実行パラメータ関連情報から、指定された前記第2図形要素に対応する第2関連情報を抽出する第2抽出部、をさらに備え、前記作成部は、前記第2抽出部により抽出された前記第2関連情報を配置するための第2表示領域を、さらに作成し、前記表示部は、前記第2指定動作に応じて、前記作成部により作成された前記第2表示領域をさらに表示することを特徴とする。 According to an eighth aspect of the present invention, in the substrate processing apparatus of the sixth or seventh aspect , the second graphic element to which the second notification element is added is designated by a second designated operation from the operation unit. A second extraction unit that extracts second related information corresponding to the designated second graphic element from a plurality of execution parameter related information stored in the storage unit, and the creation unit Further creates a second display area for arranging the second related information extracted by the second extraction unit, and the display unit is created by the creation unit according to the second designation operation The second display area thus displayed is further displayed.
請求項1ないし請求項8に記載の発明によれば、各処理ユニットで実行される基板処理のスケジュールは、時間軸方向に延びる図形要素として表示部に表示される。また、各図形要素は、対応する処理ユニット毎に配置されており、基板の識別情報を示す第1図形要素と、処理を構成する工程のスケジュールを各工程毎に示す第2図形要素と、を有している。そして、工程の計時結果が許容範囲外となると判定される場合、この工程に対応する図形要素に第1告知要素が付加される。さらに、実行パラメータの計測結果が警告範囲内または異常範囲内となる場合、この工程に対応する図形要素に第2告知要素が付加される。 According to the first to eighth aspects of the present invention, the substrate processing schedule executed in each processing unit is displayed on the display unit as a graphic element extending in the time axis direction. Each graphic element is arranged for each corresponding processing unit, and includes a first graphic element indicating the identification information of the substrate and a second graphic element indicating the schedule of the process constituting the process for each process. Have. When it is determined that the time measurement result of the process is out of the allowable range, the first notification element is added to the graphic element corresponding to this process. Further, when the measurement result of the execution parameter falls within the warning range or the abnormal range, the second notification element is added to the graphic element corresponding to this process.
これにより、基板処理装置の使用者は、表示部に表示されている複数の図形要素から、同一の識別情報を有する図形要素を見出すことによって、処理ユニットを跨って処理される基板の処理状況を容易に把握できる。また、基板処理装置の使用者は、処理ユニット毎に配置されている複数の図形要素を確認することによって、各処理ユニットにおける処理状況を容易に把握できる。また、基板処理装置の使用者は、第1告知要素の有無を判断することによって、各工程が設定されたスケジュール通りに正常に実行されたか否かを容易に把握できる。さらに、基板処理装置の使用者は、第2告知要素の有無を判断することによって、各工程が実行パラメータの設定値にしたがって正常に実行されたか否かを容易に把握できる。 Accordingly, the user of the substrate processing apparatus finds the graphic element having the same identification information from the plurality of graphic elements displayed on the display unit, thereby determining the processing status of the substrate processed across the processing units. Easy to grasp. Further, the user of the substrate processing apparatus can easily grasp the processing status in each processing unit by checking a plurality of graphic elements arranged for each processing unit. Further, the user of the substrate processing apparatus can easily grasp whether or not each process has been normally executed according to the set schedule by determining the presence or absence of the first notification element. Further, the user of the substrate processing apparatus can easily grasp whether or not each process has been normally executed according to the set value of the execution parameter by determining the presence or absence of the second notification element.
このように、請求項1ないし請求項8に記載の発明によれば、基板処理装置の使用者は、各基板に対して実行される処理の流れと、各処理ユニットで実行される工程のスケジュールと、を同時に把握できる。さらに、各工程が設定されたスケジュール通りに正常に実行されたか否か、および各工程が実行パラメータの設定値にしたがって正常に実行されたか否かを容易に把握できる。 As described above, according to the first to eighth aspects of the present invention, the user of the substrate processing apparatus can execute the flow of processing performed on each substrate and the schedule of processes performed on each processing unit. At the same time. Furthermore, it is possible to easily grasp whether each process has been normally executed according to the set schedule and whether each process has been normally executed according to the set value of the execution parameter.
特に、請求項5に記載の発明によれば、第1告知要素が付加されている図形要素が指定されると、指定された図形要素に応じた実行タイミング関連情報(第1関連情報)が、抽出され、表示部の画面にさらに表示される。そのため、基板処理装置の使用者は、工程の計時結果が許容範囲外となった工程の詳細な情報を容易に確認できる。
In particular, according to the invention described in
特に、請求項8に記載の発明によれば、第2告知要素が付加されている図形要素が指定されると、指定された図形要素に応じた実行パラメータ関連情報(第2関連情報)が、抽出され、表示部の画面にさらに表示される。そのため、基板処理装置の使用者は、実行パラメータの計測結果が許容範囲外(例えば、警告範囲内または異常範囲内)となった工程の詳細な情報を容易に確認できる。 In particular, according to the invention described in claim 8, when the graphic element to which the second notification element is added is designated, the execution parameter related information (second related information) corresponding to the designated graphic element is: It is extracted and further displayed on the screen of the display unit. Therefore, the user of the substrate processing apparatus can easily confirm detailed information of the process in which the measurement result of the execution parameter is outside the allowable range (for example, within the warning range or the abnormal range).
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態について詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
<1.基板処理装置の全体構成>
図1は、本発明の実施の形態における基板処理装置1の全体構成の一例を示す図である。ここで、基板処理装置1は、いわゆるバッチ式の装置であり、貯留された薬液または純水(以下、「処理液」とも称する)に同一ロットに属する複数の基板を浸漬させることによって、各基板に一括して基板処理を施す。図1に示すように、基板処理装置1は、主として、複数の処理ユニット10(10a、10b)、100と、搬送ロボット15と、制御ユニット80と、表示部85aと、操作部87と、を有している。
<1. Overall configuration of substrate processing apparatus>
FIG. 1 is a diagram showing an example of the overall configuration of a
搬送ロボット15は、複数の基板Wを把持しつつ各処理ユニット10(10a、10b)、100との間で基板Wの受け渡しを実行する搬送機構である。図1に示すように、搬送ロボット15は、各処理ユニット10(10a、10b)、100の上方を、各処理ユニット10(10a、10b)、100の配置方向(矢印AR1方向)に沿って移動する。
The
薬液処理ユニット10(10a、10b)は、単一の処理槽30内で、各種の薬液による薬液処理や純水による水洗処理を実行する多機能処理ユニットである。図1に示すように、薬液処理ユニット10(10a、10b)は、主として、外槽20と、処理槽30と、リフター31と、供給管50と、循環路61と、排液管66、71と、を有している。
The chemical processing unit 10 (10a, 10b) is a multi-functional processing unit that executes chemical processing with various chemicals and washing with pure water in a
なお、図1に示すように、薬液処理ユニット10a、10bは、処理槽30に供給可能な薬液が相違する点(薬液処理ユニット10aは薬液C1、C2を、薬液処理ユニット10bは薬液C3、C4を、それぞれ供給可能)を除いては、同様なハードウェア構成を有している。そこで、以下では、主として、薬液処理ユニット10aについて説明する。
As shown in FIG. 1, the
外槽20は、処理槽30の上端付近を囲繞するように設けられた回収部である。処理槽30の上端部から溢れ出た処理液は、外槽20にて回収される。処理槽30は、薬液C1、C2(薬液処理ユニット10bの場合、薬液C3、C4)、または純水W1を貯留する貯留槽である。これにより、同一ロットに属する複数の基板W(基板群)が、処理槽30内の処理液に浸漬されると、ロット単位で薬液処理または水洗処理が実行される。
The
リフター31は、処理槽30の上方の基板受渡位置と、処理槽30内の処理液に基板Wを浸漬させる浸漬位置と、の間で昇降自在とされた昇降機構である。また、複数(本実施の形態では3本)の保持棒32は、リフター31の下端付近に取り付けられており、紙面鉛直方向に延びる棒状体である。各保持棒32には、複数の保持溝(図示省略)が設けられている。各基板Wの外縁部が対応する保持溝に嵌め込まれることによって、各基板Wは、保持棒32に対して起立姿勢で保持される。
The
したがって、リフター31が基板受渡位置まで上昇させられると、保持棒32と搬送ロボット15との間で基板Wの受け渡しが行われる。一方、保持棒32に基板Wが保持された状態で、リフター31が浸漬位置まで下降させられると、基板Wには薬液処理または水洗処理が実行される。
Therefore, when the
供給管50は、処理槽30の底部側と連通する配管である。供給管50は、バルブ51〜53の開閉状態によって、薬液C1、C2(薬液処理ユニット10bの場合は薬液C3、C4)、および純水W1のいずれかを、選択的に処理槽30内に供給する。例えば、バルブ51が開放され、バルブ52、53が閉鎖されると、処理槽30には薬液C1が供給される。
The
温調部54は、バルブ52および供給管50を介して処理槽30に供給される薬液C2(薬液処理ユニット10bの場合は薬液C4)を所望の液温に温調する。したがって、処理槽30には、所望温度に維持された薬液C2(薬液処理ユニット10bの場合には薬液C4)が供給される。
The
循環路61は、外槽20で回収された処理液を処理槽30に循環供給する配管である。図1に示すように、循環路61の一端部は外槽20の底部側と、他端部は処理槽30の底部側と、それぞれ連通している。また、循環路61には、外槽20側から処理槽30側に向かって、バルブ62、ポンプ63、およびフィルタ64がこの順番に設けられている。
The
排液管66は、外槽20で回収された処理液を排液ドレインに排出する配管である。図1に示すように、排液管66の一端部は循環路61と、他端部は排液ドレイン側と、それぞれ連通している。
The
したがって、本実施の形態では、バルブ62、バルブ67の開閉状態を制御することによって、処理槽30への循環供給と、排液ドレイン側への排出と、を切り替えることができる。例えば、バルブ62が開放され、バルブ67が閉鎖されるとともに、ポンプ63が動作させられると、外槽20で回収された処理液は、循環路61を介して処理槽30内に循環供給される。一方、バルブ62が閉鎖され、バルブ67が開放されると、外槽20で回収された処理液は、排液ドレインに排出される。
Therefore, in the present embodiment, by controlling the open / close state of the
ここで、図1に示すように、循環路61を介して処理槽30に供給される処理液は、フィルタ64を通過する。そのため、循環供給される処理液に含まれるパーティクル等の不純物は、フィルタ64により濾過され、除去される。
Here, as shown in FIG. 1, the processing liquid supplied to the
排液管71は、処理槽30に貯留されている処理液を排液ドレイン側に排出する配管である。バルブ72が開放状態とされると、処理槽30内の処理液は排液ドレイン側に排出される。
The
純水処理ユニット100は、処理槽130内に貯留された純水により水洗処理を実行する水洗ユニットである。図1に示すように、純水処理ユニット100は、主として、外槽120と、処理槽130と、リフター131と、供給管150と、排液管166、171と、を有している。
The pure
外槽120は、処理槽130の上端付近を囲繞するように設けられた回収部である。処理槽130の上端部から溢れ出た純水は、外槽120にて回収される。処理槽130は、純水W1を貯留する純水槽である。同一ロットに属する複数の基板Wが、処理槽130内の純水に浸漬されると、ロット単位で水洗処理が実行される。
The
リフター131は、リフター31と同様に、処理槽130の上方の基板受渡位置と、処理槽130内の純水に基板Wを浸漬させる浸漬位置と、の間で昇降自在とされた昇降機構である。また、複数(本実施の形態では3本)の保持棒132は、リフター131の下端付近に取り付けられており、紙面鉛直方向に延びる棒状体である。保持棒132は、保持棒32と同様に、各基板Wを起立姿勢にて保持する。
Similarly to the
したがって、リフター131が基板受渡位置まで上昇させられると、保持棒132と搬送ロボット15との間で基板Wの受け渡しが行われる。一方、保持棒132に基板Wが保持された状態で、リフター131が浸漬位置まで下降させられると、基板Wには純水による水洗処理が行われる。
Therefore, when the
供給管150は、図1に示すように、処理槽130の底部側と連通する配管である。バルブ153が開放されると、供給管150は、処理槽130内に純水W1を供給する。排液管166は、外槽120で回収された純水を排液ドレインに排出する配管である。図1に示すように、排液管166の一端部は外槽120の底部側と、他端部は排液ドレイン側と、それぞれ連通している。したがって、バルブ167が開放されると、外槽120で回収された純水は、排液ドレインに排出される。排液管171は、処理槽130に貯留されている純水を排液ドレイン側に排出する配管である。したがって、バルブ172が開放状態とされると、処理槽130内の純水は排液ドレイン側に排出される。
As shown in FIG. 1, the
制御ユニット80は、各構成要素の動作制御(例えば、搬送ロボット15の移動制御、リフター31、131の昇降制御、バルブ51〜53、62、67、72、153、167、172の開閉制御、および温調部54による液温制御等)や、データ演算を実現する。なお、制御ユニット80の詳細な構成については後述する。
The
表示部85aは、いわゆる液晶ディスプレイにより構成されており、制御ユニット80から送信される映像信号に基づいて画面内に文字や図形を表示する。操作部87は、いわゆるキーボードやマウスによって構成される入力部である。基板処理装置1の使用者(以下、単に、「使用者」とも呼ぶ)は、表示部85aの表示内容に基づいた入力作業を行うことによって、基板処理装置1に対して所定の動作を実行させることができる。
The
なお、表示部85aとしては、指や専用のペンで画面に触れることにより、画面上の位置を指定することができる「タッチパネル」機能を有するものが使用されても良い。これにより、使用者は、表示部85aに表示された内容に基づき、表示部85aの「タッチパネル」機能を使用した指示を行うことによって、基板処理装置1に対して所定の動作を実行させることができる。この場合、表示部85aは、表示機能だけでなく、操作部と同様な入力機能をも実現でき、入力部としても使用される。
As the
<2.制御ユニットの構成>
図2は、制御ユニット80の構成の一例を示すブロック図である。図2に示すように、制御ユニット80は、主として、RAM81と、ROM82と、大容量記憶部83と、CPU84と、表示処理部85と、入出力部86と、を有している。ここで、RAM81、ROM82、大容量記憶部83、CPU84、表示処理部85、および入出力部86のそれぞれは、信号線88を介して電気的に接続されている。
<2. Configuration of control unit>
FIG. 2 is a block diagram illustrating an example of the configuration of the
RAM(Random Access Memory)81は、揮発性の記憶部であり、例えば、CPU84の演算で使用されるデータが格納されている。ROM(Read Only Memory)82は、いわゆる不揮発性の記憶部であり、例えば、プログラム82aが格納されている。なお、ROM82としては、読み書き自在の不揮発性メモリであるフラッシュメモリが使用されてもよい。
A RAM (Random Access Memory) 81 is a volatile storage unit and stores, for example, data used in the calculation of the
大容量記憶部83は、シリコンディスクドライブやハードディスクドライブ等のようにRAM81と比較して記憶容量の大きな素子により構成された記憶部であり、必要に応じてRAM81との間でデータの授受を行う。また、図2に示すように、大容量記憶部83は、レシピテーブル83a、子レシピテーブル83b、計時結果格納テーブル83c、および実行パラメータ格納テーブル83dの各テーブルを記憶可能とされている。なお、各テーブル83a〜83dの詳細については、後述する。
The large-
CPU(Central Processing Unit)84は、ROM82のプログラム82aに従った動作制御やデータ処理を実行する。また、図2中のCPU84内に記載されているブロック(それぞれ符号84a〜84fが付与されている)に対応する演算機能は、CPU84により実現される。なお、各ブロック84a〜84fに対応する演算機能については後述する。
A CPU (Central Processing Unit) 84 executes operation control and data processing according to the
表示処理部85は、いわゆるビデオコントローラにより構成されており、信号線85bを介して表示部85aと電気的に接続されている。表示処理部85は、描画処理を実行することにより表示部85aの画面に文字や図形等を表示させる。
The
入出力部86は、いわゆるI/Oポート(Input/Output Port)により構成されており、信号線86aを介して制御ユニット80外の機器(例えば、搬送ロボット15、リフター31、温調部54、操作部87等)と電気的に接続されている。したがって、入出力部86は、制御ユニット80と外部機器との間で授受されるデータの入出力に使用される。
The input /
<3.各テーブルのデータ構成>
図3ないし図6は、それぞれレシピテーブル83a、子レシピテーブル83b、計時結果格納テーブル83c、および実行パラメータ格納テーブル83dのデータ構造の一例を示す図である。ここでは、大容量記憶部83に記憶されている各テーブル83a〜83dのデータ構造について説明する。
<3. Data structure of each table>
3 to 6 are diagrams showing examples of data structures of the recipe table 83a, the child recipe table 83b, the timing result storage table 83c, and the execution parameter storage table 83d, respectively. Here, the data structure of each table 83a-83d memorize | stored in the
レシピテーブル83aは、各処理ユニット10(10a、10b)、100で実行される基板処理のスケジュールに関連するデータを、基板処理の実行に先立って予め格納したものである。図3に示すように、レシピテーブル83aは、主として、「レシピNO」、「ユニット名」、「基板識別NO」、「基板識別名」、「開始時刻」、「終了時刻」、および「子レシピNO」の各フィールド(列)を有している。 The recipe table 83a stores in advance data related to the schedule of the substrate processing executed in each processing unit 10 (10a, 10b), 100 prior to the execution of the substrate processing. As shown in FIG. 3, the recipe table 83a mainly includes “recipe NO”, “unit name”, “board identification NO”, “board identification name”, “start time”, “end time”, and “child recipe”. Each field (column) of “NO” is included.
「レシピNO」フィールドには、レシピテーブル83aに登録されている各レコード(各行)を一意に識別するための値が格納されている。すなわち、レシピテーブル83aの各レコードについて、「レシピNO」に格納されている値が検索されることによって、所望の基板処理に対応するレコードが抽出される。 The “recipe NO” field stores a value for uniquely identifying each record (each row) registered in the recipe table 83a. That is, for each record in the recipe table 83a, a value corresponding to a desired substrate process is extracted by searching for a value stored in “recipe NO”.
ここで、「レシピNO」で指定される各基板処理は、1または複数の工程を有している。例えば、「レシピNO」で指定される基板処理が純水処理ユニット100(図1参照)で実行される「水洗処理」の場合、この基板処理には、工程の1つとして「処理槽130に純水を供給する工程」が含まれる。
Here, each substrate processing specified by “recipe NO” has one or a plurality of steps. For example, when the substrate processing specified by “Recipe NO” is “Washing processing” executed in the pure water processing unit 100 (see FIG. 1), this substrate processing includes “into the
「ユニット名」フィールドには、基板処理が実行される処理ユニットの名称が文字列データとして格納されている。また、「基板識別NO」フィールドには、各処理ユニット10(10a、10b)、100で処理されるロットを一意に識別するための値が格納されている。また、「基板識別名」フィールドには、「基板識別NO」で指定される各ロットの名称が文字列データとして格納されている。 In the “unit name” field, the name of the processing unit on which the substrate processing is executed is stored as character string data. In the “substrate identification NO” field, a value for uniquely identifying a lot to be processed by each processing unit 10 (10a, 10b), 100 is stored. In the “substrate identification name” field, the name of each lot designated by “substrate identification NO” is stored as character string data.
「開始時刻」および「終了時刻」フィールドには、「基板識別NO」で指定されるロットが「ユニット名」で指定される処理ユニットで処理される場合において、その処理の開始時刻および終了時刻が格納されている。したがって、各基板処理のスケジュールは、レシピテーブル83aに予め格納された「開始時刻」および「終了時刻」により把握できる。また、「子レシピNO」フィールドには、子レシピテーブル83bの「子レシピNO」フィールドに格納されている値のうち、いずれかの値が格納されている。 In the “start time” and “end time” fields, when the lot specified by “substrate identification NO” is processed by the processing unit specified by “unit name”, the start time and end time of the processing are displayed. Stored. Therefore, the schedule of each substrate processing can be grasped by the “start time” and “end time” stored in advance in the recipe table 83a. In the “child recipe NO” field, one of the values stored in the “child recipe NO” field of the child recipe table 83b is stored.
子レシピテーブル83bは、各基板処理を構成する工程のスケジュールに関連するデータを、基板処理の実行に先立って予め格納したものである。図4に示すように、子レシピテーブル83bは、主として、「子レシピNO」、「子レシピ名」、「開始時刻」、「終了時刻」、「パラメータ名」、「許容下限値」、「許容上限値」、「警告下限値」、「警告上限値」の各フィールドを有している。 The child recipe table 83b stores in advance data related to the schedule of the steps constituting each substrate processing prior to the execution of the substrate processing. As shown in FIG. 4, the child recipe table 83b mainly includes “child recipe NO”, “child recipe name”, “start time”, “end time”, “parameter name”, “allowable lower limit value”, “allowable value”. Each field includes an “upper limit value”, a “warning lower limit value”, and a “warning upper limit value”.
「子レシピNO」フィールドには、子レシピテーブル83bに登録されている各レコードを一意に識別するための値が格納されている。また、「子レシピ名」フィールドには、「子レシピNO」で指定される工程の名称が文字列データとして格納されている。 The “child recipe NO” field stores a value for uniquely identifying each record registered in the child recipe table 83b. In the “child recipe name” field, the name of the process designated by “child recipe NO” is stored as character string data.
「開始時刻」および「終了時刻」フィールドには、「子レシピNO」で指定される工程の開始時刻および終了時刻が格納されている。したがって、各工程のスケジュールは、子レシピテーブル83bに予め格納された「開始時刻」および「終了時刻」により把握できる。 In the “start time” and “end time” fields, the start time and end time of the process designated by “child recipe NO” are stored. Therefore, the schedule of each process can be grasped by the “start time” and “end time” stored in advance in the child recipe table 83b.
「パラメータ名」には、「子レシピNO」で指定される着目工程について、この着目工程の実行にともなって動作する基板処理装置1の構成要素(例えば、バルブ51や温調部54等の機器)の実行パラメータの名称が、文字列データとして格納されている。
In the “parameter name”, the components of the substrate processing apparatus 1 (for example, devices such as the
ここで、実行パラメータとは、基板処理装置1を構成する機器の動作を設定するパラメータである。例えば、温調部54(図1参照)については、「薬液温度」が実行パラメータの1つとして設定される。
Here, the execution parameter is a parameter for setting the operation of the equipment constituting the
「許容下限値」および「許容上限値」フィールドには、「パラメータ名」で指定される実行パラメータの「実測値」について、この「実測値」の許容範囲を規定する下限値および上限値が格納されている。したがって、実行パラメータの「実測値」が許容範囲内(「許容下限値」≦「実測値」≦「許容上限値」)となる場合、この実行パラメータに対応する機器が正常に動作しており、この実行パラメータに対応する工程が正常に実行されていると判断される。 The “allowable lower limit value” and “allowable upper limit value” fields store the lower limit value and upper limit value that define the allowable range of this “actual value” for the “actual value” of the execution parameter specified by “parameter name”. Has been. Therefore, if the “actual value” of the execution parameter is within the allowable range (“allowable lower limit value” ≦ “actual value” ≦ “allowable upper limit value”), the device corresponding to this execution parameter is operating normally, It is determined that the process corresponding to this execution parameter is being executed normally.
「警告下限値」および「警告上限値」フィールドには、「パラメータ名」で指定される実行パラメータの「実測値」について、この「実測値」の警告範囲および異常範囲を規定する値が格納されている。 In the “Warning lower limit value” and “Warning upper limit value” fields, the values that specify the warning range and abnormal range of this “actual value” are stored for the “actual value” of the execution parameter specified by “parameter name”. ing.
ここで、警告範囲は、「許容上限値」<「実測値」≦「警告上限値」、または「警告下限値」≦「実測値」<「許容下限値」のように表される。実行パラメータの「実測値」が警告範囲内となる場合、使用者は、対応する工程が警告状態となっていると判断できる。 Here, the warning range is expressed as “allowable upper limit value” <“actual value” ≦ “warning upper limit value” or “warning lower limit value” ≦ “actual value” <“allowable lower limit value”. When the “actual value” of the execution parameter falls within the warning range, the user can determine that the corresponding process is in the warning state.
そして、使用者は、基板の処理不良が発生していると判断して、この工程を停止させ、この工程の対象となっていたロットを処理ユニットから取り除く作業を行っても良い。一方、警告範囲は後述する異常範囲には含まれないため、使用者は、警告状態となっている工程および以降の工程を続行させても良い。また、使用者は、警告状態となっている工程を続行させる、させない、に関わらず、警告の原因となった機器の調整や交換等のメンテナンス作業を行っても良い。 Then, the user may determine that a substrate processing defect has occurred, stop this process, and perform an operation of removing the lot that was the target of this process from the processing unit. On the other hand, since the warning range is not included in the abnormal range described later, the user may continue the process in the warning state and the subsequent processes. In addition, the user may perform maintenance work such as adjustment or replacement of the device causing the warning regardless of whether or not the process in the warning state is continued.
また、異常範囲は、「警告上限値」<「実測値」、または「実測値」<「警告下限値」のように表される。実行パラメータの「実測値」が異常範囲内となる場合、使用者は、対応する工程で異常が発生していると判断できる。 The abnormal range is represented as “warning upper limit value” <“actual value” or “actual value” <“warning lower limit value”. When the “actual value” of the execution parameter falls within the abnormal range, the user can determine that an abnormality has occurred in the corresponding process.
そして、使用者は、基板の処理不良が発生していると判断して、この工程を停止させ、この工程の対象となっていたロットを処理ユニットから取り除く作業を行っても良い。また、使用者は、異常の原因となった機器の調整や交換等のメンテナンス作業を行っても良い。 Then, the user may determine that a substrate processing defect has occurred, stop this process, and perform an operation of removing the lot that was the target of this process from the processing unit. In addition, the user may perform maintenance work such as adjustment or replacement of the device causing the abnormality.
ここで、上述のように、レシピテーブル83aの「子レシピNO」フィールドには、子レシピテーブル83bの「子レシピNO」フィールドに格納されている値のうちのいずれかの値が格納されており、両テーブル83a、83bの「子レシピNO」フィールドは関連付けられている。 Here, as described above, the “child recipe NO” field of the recipe table 83a stores one of the values stored in the “child recipe NO” field of the child recipe table 83b. The “child recipe NO” fields of both tables 83a and 83b are associated with each other.
したがって、着目基板処理の「レシピNO」が分かると、レシピテーブル83aから着目基板処理に対応するレコードを抽出し、抽出されたレコードから着目基板処理を構成する工程の「子レシピNO」を取得できる。そして、取得された「子レシピNO」と同一値となるレコードを子レシピテーブル83bから抽出することによって、着目基板処理を構成する各工程のスケジュールを取得できる。 Therefore, when the “recipe NO” of the target substrate processing is known, a record corresponding to the target substrate processing is extracted from the recipe table 83a, and the “child recipe NO” of the process constituting the target substrate processing can be acquired from the extracted record. . Then, by extracting a record having the same value as the acquired “child recipe NO” from the child recipe table 83b, it is possible to acquire the schedule of each process constituting the target substrate process.
計時結果格納テーブル83cは、実際に実行された工程の実行タイミングを格納したものである。図5に示すように、計時結果格納テーブル83cは、主として、「実行タイミング格納ID」、「子レシピNO」、「開始時刻」、および「終了時刻」の各フィールドを有している。 The time measurement result storage table 83c stores the execution timing of the actually executed process. As shown in FIG. 5, the time measurement result storage table 83c mainly has fields of “execution timing storage ID”, “child recipe NO”, “start time”, and “end time”.
「実行タイミング格納ID」フィールドには、計時結果格納テーブル83cに登録されている各レコードを一意に識別するための値が格納されている。また、「子レシピNO」フィールドには、子レシピテーブル83bの「子レシピNO」フィールドに格納されている値のうち、いずれかの値が格納されており、両テーブル83b、83cの「子レシピNO」フィールドは、関連付けられている。さらに、「開始時刻」および「終了時刻」フィールドには、対応する工程が実際に開始された時刻、および終了した時刻と、が格納されている。 The “execution timing storage ID” field stores a value for uniquely identifying each record registered in the time measurement result storage table 83c. Further, in the “child recipe NO” field, one of the values stored in the “child recipe NO” field of the child recipe table 83b is stored, and “child recipes” in both tables 83b and 83c are stored. The “NO” field is associated. Further, the “start time” and “end time” fields store the time when the corresponding process is actually started and the time when the corresponding process is ended.
したがって、着目工程の「子レシピNO」が分かると、この「子レシピNO」と同一値となるレコードを計時結果格納テーブル83cから抽出することによって、着目工程の実行タイミング(すなわち、計時結果格納テーブル83cの「開始時刻」および「終了時刻」)を取得できる。 Therefore, when the “child recipe NO” of the process of interest is known, a record having the same value as this “child recipe NO” is extracted from the timing result storage table 83c, thereby executing the execution timing of the process of interest (that is, the timing result storage table). 83c “start time” and “end time”).
実行パラメータ格納テーブル83dは、各工程に対応して設定されている実行パラメータの計測結果(実測値)を格納したものである。図6に示すように、実行パラメータ格納テーブル83dは、主として、「実行パラメータ格納ID」、「子レシピNO」、「時刻」、「パラメータ名」、および「パラメータ値」の各フィールドを有している。 The execution parameter storage table 83d stores measurement results (actual measurement values) of execution parameters set for each process. As shown in FIG. 6, the execution parameter storage table 83d mainly has fields of “execution parameter storage ID”, “child recipe NO”, “time”, “parameter name”, and “parameter value”. Yes.
「実行パラメータ格納ID」フィールドには、実行パラメータ格納テーブル83dに登録されている各レコードを一意に識別するための値が格納されている。また、「子レシピNO」フィールドには、計時結果格納テーブル83cと同様に、子レシピテーブル83bの「子レシピNO」に格納されている値のうち、いずれかの値が格納されており、両テーブル83b、83dの「子レシピNO」フィールドは関連づけられている。 The “execution parameter storage ID” field stores a value for uniquely identifying each record registered in the execution parameter storage table 83d. Similarly to the time measurement result storage table 83c, the “child recipe NO” field stores one of the values stored in the “child recipe NO” of the child recipe table 83b. The “child recipe NO” fields of the tables 83b and 83d are associated with each other.
「時刻」フィールドには、「子レシピNO」で指定される工程において、実行パラメータの計測結果が警告範囲または異常範囲となった時刻が格納されている。また、「パラメータ名」には、警告範囲または異常範囲となった実行パラメータの名称が格納される。さらに、「パラメータ値」には、警告範囲または異常範囲となった実行パラメータの計測結果が格納される。 The “time” field stores the time at which the measurement result of the execution parameter becomes the warning range or the abnormal range in the process specified by “child recipe NO”. Further, the “parameter name” stores the name of the execution parameter that has become the warning range or the abnormal range. Further, the “parameter value” stores the measurement result of the execution parameter that is in the warning range or the abnormal range.
したがって、着目工程の「子レシピNO」が分かると、この「子レシピNO」と同一値となるレコードを実行パラメータ格納テーブル83dから抽出することによって、着目工程が警告状態となったり着目工程で異常が発生した時刻、並びに、警告または異常となった実行パラメータの名称および計測結果を取得できる。 Therefore, when the “child recipe NO” of the target process is known, a record having the same value as this “child recipe NO” is extracted from the execution parameter storage table 83d, so that the target process becomes a warning state or abnormal in the target process. As well as the name and measurement result of the execution parameter that caused the warning or abnormality.
<4.CPUの機能構成>
ここでは、CPU84(図2参照)により実現される演算機能について説明する。なお、図2において、CPU84で実現される演算機能は、CPU84内のブロック84a〜84fとして図示されている。
<4. CPU functional configuration>
Here, an arithmetic function realized by the CPU 84 (see FIG. 2) will be described. In FIG. 2, arithmetic functions realized by the
計時結果格納処理部84aは、各薬液処理ユニット10(10a、10b)、100で各工程が実行される毎に、各工程の計時結果に関する情報を計時結果格納テーブル83cに登録する。
The time measurement result
具体的には、「子レシピNO」で指定される着目工程が実行されると、計時結果格納処理部84aは、計時結果格納テーブル83cに新たなレコードを追加する。そして、計時結果格納処理部84aは、着目工程を一意に識別するための値と、工程が実際に開始および終了された時刻とを、計時結果格納テーブル83cに追加されたレコードの「子レシピNO」、「開始時刻」、および「終了時刻」の各フィールドに格納する。
Specifically, when the process of interest specified by “child recipe NO” is executed, the time measurement result
実行パラメータ格納処理部84bは、着目工程が警告状態となったり、着目工程で異常が発生した場合において、この警告状態または異常発生に関連する情報を実行パラメータ格納テーブル83dに登録する。
The execution parameter
具体的には、着目工程が警告状態となったり、着目工程で異常が発生すると、実行パラメータ格納処理部84bは、実行パラメータ格納テーブル83dに新たなレコードを追加する。そして、実行パラメータ格納処理部84bは、追加されたレコードの「子レシピNO」フィールドに着目工程を一意に識別するための値を、「時刻」フィールドに警告状態となった時刻、または異常が発生した時刻を、「パラメータ名」フィールドに警告状態または異常の原因となった構成要素の実行パラメータの名称を、「パラメータ値」フィールドに「パラメータ名」で指定される実行パラメータの計測結果を、それぞれ格納する。
Specifically, when the target process is in a warning state or an abnormality occurs in the target process, the execution parameter
タイミング判定部84c(第1判定部)は、子レシピテーブル83bに格納されている着目工程のスケジュール(具体的には、子レシピテーブル83bの「開始時刻」および「終了時刻」の値が対応)と、実際に実行した場合における着目工程の計時結果(具体的には、計時結果格納テーブル83cの「開始時刻」および「終了時刻」の値が対応)と、を比較し、各工程の計時結果が許容範囲内となるか否かを判定する。
The
例えば、タイミング判定部84cは、子レシピテーブル83bの「終了時刻」から「開始時刻」を減じた値(所要時間の設定値)と、計時結果格納テーブル83cの「終了時刻」から「開始時刻」を減じた値(所要時間の計時結果)と、をそれぞれ演算する。
For example, the
そして、所要時間の計測結果から設定値を減じた値が許容範囲内となる場合、着目工程が正しいタイミングで実行されているものと判断する。一方、所要時間の計測結果から設定値を減じた値が許容範囲外となる(例えば、所要時間が、不足または超過している)場合、タイミング判定部84cは、着目工程が、子レシピテーブル83bにより規定されているタイミングから離脱しており、正常に実行されていないと判断する。
When the value obtained by subtracting the set value from the measurement result of the required time falls within the allowable range, it is determined that the process of interest is being executed at the correct timing. On the other hand, when the value obtained by subtracting the set value from the measurement result of the required time falls outside the allowable range (for example, the required time is insufficient or exceeded), the
パラメータ判定部84d(第2判定部)は、着目工程の実行にともなって動作する機器の実行パラメータについて、この実行パラメータの計測結果が、警告範囲内となるか否かの判定、および異常範囲内となるか否かの判定、を実行する。この判定は、上述のように、子レシピテーブル83bに格納されている「許容下限値」、「許容上限値」、「警告下限値」、および「警告上限値」に基づいて判定される。
The
例えば、子レシピテーブル83bに登録されているレコードのうち、「子レシピNO」=「1101」となるレコードについて、「パラメータ名」には「薬液温度」が、「許容下限値」には「20」が、「許容上限値」には「30」が、「警告下限値」には「15」が、「警告上限値」には「35」が、それぞれ格納されている。 For example, among the records registered in the child recipe table 83b, for the record where “child recipe NO” = “1101”, “parameter temperature” is “chemical solution temperature” and “allowable lower limit value” is “20”. “30” is stored in “Allowable upper limit value”, “15” is stored in “Warning lower limit value”, and “35” is stored in “Warning upper limit value”.
したがって、「子レシピNO」=「1101」で指定される工程において、「薬液温度」の計測結果が「25」、「32」、および「12」となる場合、計測結果は、それぞれ許容範囲内、警告範囲内、および異常範囲内であると判断される。 Therefore, in the process specified by “child recipe NO” = “1101”, when the measurement result of “chemical solution temperature” is “25”, “32”, and “12”, the measurement result is within the allowable range. In the warning range and in the abnormal range.
ガントチャート作成部84eは、各テーブル83a〜83dに格納されているデータに基づいて、各基板処理および各工程のスケジュールを表示するガントチャート(図7参照)を作成する。なお、ガントチャートの詳細な構成については、後述する。
The Gantt
詳細情報抽出部84fは、操作部87からの入力に従って着目工程が指定されると、実行タイミングに関する情報を取得するために、子レシピテーブル83bおよび計時結果格納テーブル83cに登録されている複数のレコードから、着目工程に対応するレコードを抽出する処理を実行する(第1抽出部に対応)。また、詳細情報抽出部84fは、指定された着目工程の実行パラメータに関する情報を取得するために、子レシピテーブル83bおよび実行パラメータ格納テーブル83dに登録されている複数のレコードから着目工程に対応するレコードを抽出する処理を実行する(第2抽出部に対応)。なお、着目工程の指定は、表示部85aのタッチパネル機能を使用することにより行われてもよい。
The detailed
<5.ガントチャートの構成>
図7は、すべて基板処理および工程が正常に実行されている場合において、表示部85aに表示されるガントチャート85cの一例を示す図である。ここでは、図7を参照しつつ、本実施の形態のガントチャート85cの構成について説明する。
<5. Gantt chart configuration>
FIG. 7 is a diagram illustrating an example of a
ガントチャート85cは、図7に示すように、各処理ユニット10(10a、10b)、100においてロット単位で実行される基板処理のスケジュールを、時間軸ta方向に延びる複数の帯グラフ90(90a〜90e)(図形要素)として、表示部85aの画面に表示したものである。
As shown in FIG. 7, the
各帯グラフ90(90a〜90e)は、対応する処理ユニット毎に、時間軸ta方向に沿って配置される。例えば、同一の薬液処理ユニット10aで実行される基板処理の帯グラフ90a、90bは、図7に示すように、時間軸taに沿った一直線上に配置されている。
Each band graph 90 (90a to 90e) is arranged along the time axis ta for each corresponding processing unit. For example, the
図7に示すように、各帯グラフ90(90a〜90e)は、上段帯グラフ91(91a〜91e)と、下段帯グラフ92(92a〜92h)と、を有している。なお、以下の説明では、帯グラフ90a〜90eを総称して帯グラフ90、上段帯グラフ91a〜91eを総称して上段帯グラフ91、下段帯グラフ92a〜92hを総称して下段帯グラフ92、とも呼ぶ。
As shown in FIG. 7, each band graph 90 (90a to 90e) has an upper band graph 91 (91a to 91e) and a lower band graph 92 (92a to 92h). In the following description, the
上段帯グラフ91(第1図形要素)は、表示部85aの画面上に配置された矩形体であり、レシピテーブル83aから抽出されたレコードに基づいて作成される。すなわち、各上段帯グラフ91の配置および大きさは、レシピテーブル83aの「ユニット名」、「開始時刻」、および「終了時刻」に基づいて定められる。また、上段帯グラフ91上には、レシピテーブル83aの「基板識別名」に格納されている文字列データが、処理対象となるロットの識別情報として表示される。
The upper band graph 91 (first graphic element) is a rectangular body arranged on the screen of the
例えば、「レシピNO」=「1100」のレコード(図3参照)は上段帯グラフ91aに対応する。また、上段帯グラフ91a上には、図7に示すように、レシピテーブル83aの「基板識別名」に格納されている「ロットA1」が表示される。なお、上段帯グラフ91に付与される各ロットの識別情報としては、レシピテーブル83aの「基板識別NO」が使用されてもよい。
For example, a record of “recipe NO” = “1100” (see FIG. 3) corresponds to the
下段帯グラフ92(第2図形要素)は、上段帯グラフ91と同様に、表示部85aの画面上に配置された矩形でり、対応する上段帯グラフ91の直下に配置される。下段帯グラフ92は、レシピテーブル83aおよび子レシピテーブル83bに基づいて作成される。
Similarly to the
すなわち、レシピテーブル83aに登録されているレコードのうち、直上の上段帯グラフ91に対応するレコードから「子レシピNO」が取得される。続いて、取得された「子レシピNO」に対応するレコードが子レシピテーブル83bから抽出される。
That is, among the records registered in the recipe table 83a, “child recipe NO” is acquired from the record corresponding to the upper
そして、下段帯グラフ92の配置および大きさは、直上の上段帯グラフ91に対応するレコードの「ユニット名」と、子レシピテーブル83bから抽出されたレコードの「開始時刻」および「終了時刻」と、に基づいて、定められる。また、下段帯グラフ92上には、子レシピテーブル83bの「子レシピ名」に格納されている文字列が、各工程の識別情報として表示される。
Then, the arrangement and size of the
例えば、「子レシピNO」=「1101」のレコード(図4参照)は上段帯グラフ91aの直下に表示される下段帯グラフ92aに対応する。また、下段帯グラフ92a上には、図7に示すように、子レシピテーブル83bの「子レシピ名」に格納されている「工程A11」が表示される。
For example, a record of “child recipe NO” = “1101” (see FIG. 4) corresponds to the
このように、ガントチャート85cは、各処理ユニット10(10a、10b)、100においてロットで実行される処理のスケジュールを、時間軸ta方向に延びる複数の帯グラフ90として、表示部85aの同一画面内に表示したものである。また、各帯グラフ90は、対応する処理ユニット10(10a、10b)、100毎に、時間軸ta方向に沿って配置されている。さらに、各帯グラフ90は、対応する処理ユニットで基板処理されるロットの識別情報を示す上段帯グラフ91と、基板処理を構成する工程のスケジュールを各工程毎に示す下段帯グラフ92と、を有している。
As described above, the
これにより、使用者は、表示部85aに表示されている複数の帯グラフ90の中から、同一ロットが処理対象となっている帯グラフ90を見出すことによって、処理ユニットを跨って処理されるロットの処理状況(例えば、いつ、どの処理ユニットで、どのような工程が実行されたかということ)を容易に把握できる。また、使用者は、表示部85aに表示されている各帯グラフ90から、各薬液処理ユニット10(10a、10b)、100で実行される工程の実行状況を容易に把握できる。
Thereby, the user finds the
したがって、使用者は、各ロットに対して実行される基板処理の流れと、各処理ユニット10(10a、10b)、100で実行される工程のスケジュールと、を表示部85aの表示から容易に把握できる。
Therefore, the user can easily grasp the flow of the substrate processing executed for each lot and the schedule of the steps executed in each processing unit 10 (10a, 10b), 100 from the display of the
<6.ガントチャートの作成手順>
図8は、着目工程が正常な実行タイミングから離脱している場合、および着目工程の実行パラメータの計測結果が警告または異常範囲内となる場合において、表示部85aに表示されるガントチャート85cの構成の一例を示す図である。ここでは、図8を参照しつつ、ガントチャート85cを構成する各帯グラフ90の作成手順について説明する。
<6. Gantt chart creation procedure>
FIG. 8 shows the configuration of the
まず、基板処理に含まれるすべての工程の実行状況が正常である場合において、帯グラフ90の作成手順を説明する。
First, a procedure for creating the
例えば、「子レシピNO」=「1201」で指定される工程(下段帯グラフ92cに対応)について、子レシピテーブル83bおよび計時結果格納テーブル83cの「開始時刻」および「終了時刻」がそれぞれ同一であり、設定されたスケジュール通りに正常に実行されている。また、実行パラメータ格納テーブル83dにおいて、「子レシピNO」=「1201」で指定される工程の実行パラメータの計測結果は格納されていない。すなわち、「子レシピNO」=「1201」で指定される工程は、実行パラメータの設定値にしたがって正常に実行されている。したがって、「基板識別名」=「ロットA2」となるロットを「ユニット名」=「薬液処理ユニット10a」となる処理ユニットで基板処理する場合において、この基板処理(帯グラフ90bに対応)のすべての工程の実行状況は、正常である。
For example, for the process specified by “child recipe NO” = “1201” (corresponding to the
この場合において、ガントチャート作成部84eは、(1)レシピテーブル83aに登録されており「レシピNO」=「1200」となるレコードの「ユニット名」、「開始時刻」および「終了時刻」と(図3参照)、(2)子レシピテーブル83bに登録されており「子レシピNO」=「1201」となるレコードの「開始時刻」および「終了時刻」(図4参照)に基づいて、上段帯グラフ91bおよび下段帯グラフ92cを作成する。
In this case, the Gantt
例えば、ガントチャート作成部84eは、各帯グラフ90の左方に配置された文字列「薬液処理ユニット10a」と、帯グラフ90bと、が一直線上に配置されるように、上段帯グラフ91bおよび下段帯グラフ92cの高さ方向(時間軸taと垂直な方向)の位置(表示部85aの画面内における座標)を決定する。
For example, the Gantt
また、時間軸ta方向に沿った上段帯グラフ91bおよび下段帯グラフ92cの位置および大きさについて、ガントチャート作成部84eは、両テーブル83a、83bの「開始時刻」および「終了時刻」に基づいて決定する。
Further, regarding the position and size of the
そして、表示処理部85は、ガントチャート作成部84eによって決定された位置および大きさに基づいて、上段帯グラフ91bおよび下段帯グラフ92cを表示部85aの画面内に表示させる。
Then, the
次に、着目工程が正常な実行タイミングから離脱している場合において、帯グラフ90の作成手順を説明する。
Next, a procedure for creating the
例えば、「子レシピNO」=「3201」で指定される工程(下段帯グラフ92hに対応:図8参照)について、子レシピテーブル83bに格納されている「終了時刻」から「開始時刻」を減じた値(所要時間の設定値)と、計時結果格納テーブル83cに格納されている「終了時刻」から「開始時刻」を減じた値(所要時間の計時結果)と、を比較した場合、所要時間の計時結果は設定値より小さい。したがって、所要時間の計時結果から設定値を減じた値が許容範囲外となる場合、タイミング判定部84cは、「子レシピNO」=「3201」で指定される工程が正常な実行タイミングから離脱しており、この工程の所要時間の計測結果が設置値に対して不足していると判断する。
For example, for the process specified by “child recipe NO” = “3201” (corresponding to the
そして、「子レシピNO」=「3201」で指定される工程を含む帯グラフ90eが作成される場合、ガントチャート作成部84eは、(1)レシピテーブル83aに登録されている「レシピNO」=「3200」となるレコード(図3参照)、(2)子レシピテーブル83bに登録されている「子レシピNO」=「3201」となるのレコード(図4参照)に基づいて、上段帯グラフ91eおよび下段帯グラフ92hを作成する。
When the
すなわち、ガントチャート作成部84eは、レシピテーブル83aの「ユニット名」、「開始時刻」、および「終了時刻」と、子レシピテーブル83bの「開始時刻」および「終了時刻」と、に基づいて、上段帯グラフ91eおよび下段帯グラフ92hの位置および大きさを決定する。
That is, the Gantt
また、タイミング判定部84cによって、「子レシピNO」=「3201」で指定される工程の所要時間の計時結果が、設定値に対して不足している(すなわち、許容範囲外となる)と判断されるため、ガントチャート作成部84eは、対応する上段帯グラフ91eおよび下段帯グラフ92hに、工程の所要時間の計測結果が不足していることを告知する要素(第1告知要素)を付加する。そして、告知要素が付加された帯グラフ90eが、表示部85aに表示される。
なお、本実施の形態において、不足を告知する要素としては、右下がり斜線によるハッチングが採用されている。
Further, the
In the present embodiment, hatching with a downward slanting diagonal line is adopted as an element for notifying the shortage.
続いて、着目工程の実行パラメータの計測結果が異常範囲内となる場合において、帯グラフ90の作成手順を説明する。
Next, a procedure for creating the
例えば、パラメータ判定部84dによって、「子レシピNO」=「1102」で指定される工程(下段帯グラフ92bが対応:図8参照)の実行パラメータの計測結果が異常範囲となると判断されると、実行パラメータ格納処理部84bは、帯グラフ90aの作成に先立って、異常範囲となった実行パラメータに関連する情報を実行パラメータ格納テーブル83dに登録する。
For example, when the
その後、「子レシピNO」=「1102」で指定される工程を含む帯グラフ90aが作成される場合、ガントチャート作成部84eは、(1)レシピテーブル83aに登録されており、「レシピNO」=「1100」となるレコード(図3参照)、(2)子レシピテーブル83bに登録されており、「子レシピNO」=「1101」、「1102」となる2つのレコード(図4参照)に基づいて、上段帯グラフ91a、および下段帯グラフ92a、92bを作成する。
Thereafter, when the
すなわち、ガントチャート作成部84eは、帯グラフ90eの場合と同様に、レシピテーブル83aの「ユニット名」、「開始時刻」、および「終了時刻」と、子レシピテーブル83bの「開始時刻」および「終了時刻」と、に基づいて、上段帯グラフ91a、および下段帯グラフ92a、92bの位置および大きさを決定する。
That is, the Gantt
ここで、パラメータ判定部84dは、(3)実行パラメータ格納テーブル83dに登録されており、「実行パラメータ格納ID」=「2101101」となるレコードの「パラメータ値」(図6参照)と、(4)子レシピテーブル83bに登録されており、「子レシピNO」=「1102」となるレコードの「許容下限値」、「許容上限値」、「警告下限値」、および「警告上限値」と、から、「子レシピNO」=「1102」で指定される工程(下段帯グラフ92bが対応)で異常が発生していると判断する。
Here, the
したがって、ガントチャート作成部84eは、パラメータ判定部84dの判定結果に基づいて、対応する上段帯グラフ91aおよび下段帯グラフ92bに、異常発生を告知する要素(第2告知要素)を付加する。そして、告知要素が付加された帯グラフ90aが、表示部85aに表示される。なお、本実施の形態において、異常発生を告知する要素としては、丸内に「×」を表示した告知記号(文字列だけでなく標章も含む)が採用されている。
Therefore, the Gantt
続いて、着目工程が正常な実行タイミングから離脱しており、かつ、着目工程の実行パラメータの計測結果が警告範囲内となる場合において、帯グラフ90の作成手順を説明する。
Next, a procedure for creating the
例えば、パラメータ判定部84dによって、「子レシピNO」=「2102」で指定される工程(下段帯グラフ92eが対応:図8参照)の実行パラメータの計測結果が警告範囲内となると判断されると、実行パラメータ格納処理部84bは、帯グラフ90cの作成に先立って、警告範囲内となった実行パラメータに関連する情報を実行パラメータ格納テーブル83dに登録する。
For example, when the
その後、「子レシピNO」=「2102」で指定される工程を含む帯グラフ90cが作成される場合、ガントチャート作成部84eは、(1)レシピテーブル83aに登録されている「レシピNO」=「2100」となるレコード(図3参照)、(2)子レシピテーブル83bに登録されている「子レシピNO」=「2101」、「2102」となる2つのレコード(図4参照)に基づいて、上段帯グラフ91a、および下段帯グラフ92a、92bを作成する。
Thereafter, when the
すなわち、ガントチャート作成部84eは、帯グラフ90a、90eの場合と同様に、レシピテーブル83aの「ユニット名」、「開始時刻」、および「終了時刻」と、子レシピテーブル83bの「開始時刻」および「終了時刻」と、に基づいて、上段帯グラフ91c、および下段帯グラフ92d、92eの位置および大きさを決定する。
That is, the Gantt
ここで、「子レシピNO」=「2102」で指定される工程(下段帯グラフ92eが対応)について、予め子レシピテーブル83bに格納されている「終了時刻」から「開始時刻」を減じた値と、計時結果格納テーブル83cの「終了時刻」から「開始時刻」を減じた値と、を比較した場合、所要時間の計時結果は設定値より大きい。したがって、所要時間の計時結果から設定値を減じた値が許容範囲外となる場合、タイミング判定部84cは、「子レシピNO」=「2102」で指定される工程が正常な実行タイミングから離脱しており、この工程の所要時間の計時結果が設定値に対して超過していると判断する。
Here, for the process specified by “child recipe NO” = “2102” (corresponding to the
また、パラメータ判定部84dは、(3)実行パラメータ格納テーブル83dに登録されており、「実行パラメータ格納ID」=「2101102」となるレコードの「パラメータ値」(図6参照)と、(4)子レシピテーブル83bに登録されており、「子レシピNO」=「2102」となるレコードの「許容下限値」、「許容上限値」、「警告下限値」、および「警告上限値」と、から、「子レシピNO」=「2102」で指定される工程(下段帯グラフ92eが対応)が警告状態がとなっていると判断する。
Further, the
したがって、ガントチャート作成部84eは、タイミング判定部84cおよびパラメータ判定部84dの判定結果に基づいて、対応する上段帯グラフ91cおよび下段帯グラフ92eに、工程の所要時間の計測結果が超過していることを告知する要素(第1告知要素)と、工程が警告状態となっていることをを告知する要素(第2告知要素)と、を付加する。そして、告知要素が付加された帯グラフ90cが、表示部85aに表示される。
Therefore, the Gantt
なお、本実施の形態において、超過を告知する要素としては、右上がり斜線によるハッチングが採用されている。また、警告状態を告知する要素としては、隅丸三角形内に「!」を表示した告知記号が採用されている。 In the present embodiment, hatching with an upward-sloping diagonal line is adopted as an element for notifying excess. As an element for notifying a warning state, a notification symbol displaying “!” In a rounded triangle is adopted.
このように、着目工程が正常な実行タイミングから離脱(すなわち、所要時間の計時結果が不足もしくは超過)している場合、または、着目工程の実行パラメータの計測結果が警告範囲内、または、異常範囲内となる場合、着目工程に対応する上段帯グラフ91および下段帯グラフ92には、ハッチングや告知記号のような告知要素が付加される。そのため、使用者は、告知要素の有無を判断することによって、各工程の実行状況が正常であるか否かを容易に把握できる。
As described above, when the target process leaves the normal execution timing (that is, the time measurement result of the required time is insufficient or exceeded), or the measurement result of the execution parameter of the target process is within the warning range or the abnormal range. In the case, the notification elements such as hatching and notification symbols are added to the
<7.詳細情報表示領域の作成手順>
図9ないし図11は、着目工程の実行状況を表示する詳細情報表示領域93(93a〜93c)の一例を示す図である。ここでは、図9ないし図11を参照しつつ、ガントチャート85c上に重ねて表示される詳細情報表示領域93(93a〜93b)の作成手順を説明する。
<7. Detailed information display area creation procedure>
9 to 11 are diagrams showing an example of the detailed information display area 93 (93a to 93c) for displaying the execution status of the process of interest. Here, a procedure for creating the detailed information display area 93 (93a to 93b) displayed in an overlapping manner on the
ここで、詳細情報表示領域93a(第2表示領域)は、子レシピテーブル83bおよび実行パラメータ格納テーブル83dに格納された複数の実行パラメータに関連する情報(実行パラメータ関連情報)のうち、指定された工程に対応する情報(第2関連情報)を表示するダイアログボックスである。一方、詳細情報表示領域93b(第1表示領域)は、子レシピテーブル83bおよび計時結果格納テーブル83cに格納された複数の実行タイミングに関連する情報(実行タイミング関連情報)のうち、指定された工程に対応する情報(第1関連情報)を表示するダイアログボックスである。
Here, the detailed
また、以下の説明では、詳細情報表示領域93a、93bを総称して詳細情報表示領域93とも呼ぶ。
In the following description, the detailed
まず、着目工程の実行パラメータの計測結果が異常範囲内となる場合において、この着目工程に対応する詳細情報表示領域93aの作成手順の一例を説明する。
First, an example of a procedure for creating the detailed
図9に示すように、下段帯グラフ92bには、異常発生を告知する告知記号が付加されている。この場合において、使用者が、操作部87を操作し、画面に表示されたポインタPで下段帯グラフ92bを指定すると(第2指定動作)、制御ユニット80には、下段帯グラフ92bに対応する「子レシピNO」(=「1102」)が入力される。
As shown in FIG. 9, a notification symbol for notifying the occurrence of abnormality is added to the
ここで、本実施の形態において、ポインタPの移動は、操作部87のマウスまたはキーボードにより行われてもよいし、その他の入力デバイスにより行われてもよい。
Here, in the present embodiment, the movement of the pointer P may be performed by the mouse or keyboard of the
続いて、詳細情報抽出部84fは、入力された「子レシピNO」と同一となるレコードを、子レシピテーブル83b(図4参照)および実行パラメータ格納テーブル83d(図6参照)から抽出する。これにより、子レシピテーブル83bからは「子レシピNO」=「1102」となるレコードが、実行パラメータ格納テーブル83dからは「実行パラメータ格納ID」=「2101101」となるレコードが、それぞれ抽出される。
Subsequently, the detailed
続いて、ガントチャート作成部84eは、実行パラメータ格納テーブル83dより抽出されたレコードから「時刻」、「パラメータ名」、および「パラメータ値」の各値を、子レシピテーブル83bより抽出されたレコードから「許容下限値」、「許容上限値」、「警告下限値」、および「警告上限値」の各値を、取得する。
Subsequently, the Gantt
続いて、パラメータ判定部84dは、取得された各値に基づいて、告知レベルを判定する。この場合において、取得された「パラメータ値」が異常範囲内となるため、パラメータ判定部84dは、告知レベルが「異常発生」であると判断する。
Subsequently, the
続いて、ガントチャート作成部84eは、子レシピテーブル83bおよび実行パラメータ格納テーブル83dから取得された値と、パラメータ判定部84dの判定結果として取得された告知レベルと、が所定位置に配置されるように、詳細情報表示領域93aを作成する。そして、ガントチャート作成部84eにより作成された詳細情報表示領域93aは、表示処理部85の描画処理により表示部85aに表示される(図9参照)。
Subsequently, the Gantt
次に、着目工程の所要時間が不足している場合において、この着目工程に対応する詳細情報表示領域93bの作成手順の一例を説明する。
Next, an example of a procedure for creating the detailed
図10に示すように、下段帯グラフ92hには、着目工程の所要時間が不足していることを示すハッチングが付加されている。この場合において、使用者が、操作部87を操作し、画面に表示されたポインタPで下段帯グラフ92hを指定すると(第1指定動作)、制御ユニット80には、下段帯グラフ92hに対応する「子レシピNO」(=「3201」)が入力される。
As shown in FIG. 10, hatching indicating that the time required for the process of interest is insufficient is added to the
続いて、詳細情報抽出部84fは、入力された「子レシピNO」と同一となるレコードを、子レシピテーブル83b(図4参照)および計時結果格納テーブル83c(図5参照)から抽出する。これにより、子レシピテーブル83bからは「子レシピNO」=「3201」となるレコードが、計時結果格納テーブル83cからは「実行タイミング格納ID」=「1101108」となるレコードが、それぞれ抽出される。
Subsequently, the detailed
続いて、ガントチャート作成部84eは、子レシピテーブル83bより抽出されたレコードから「開始時刻」および「終了時刻」の各値を、計時結果格納テーブル83cより抽出されたレコードから「開始時刻」および「終了時刻」の各値を、取得する。
Subsequently, the Gantt
また、ガントチャート作成部84eは、子レシピテーブル83bより抽出された「終了時刻」から「開始時刻」を減算して、所要時間の設定値を求める。同様に、ガントチャート作成部84eは、計時結果格納テーブル83cより抽出された「終了時刻」から「開始時刻」を減算して、所要時間の計時結果を求める。
Further, the Gantt
続いて、タイミング判定部84cは、所要時間の設定値および計時結果に基づいて、離脱状況を判定する。この場合において、所要時間の計時結果が設定値と比較して小さな値となり、かつ、所要時間の計時結果から設定値を減じた値が許容範囲外となるため、タイミング判定部84cは、離脱状況が「不足」であると判断する。
Subsequently, the
続いて、ガントチャート作成部84eは、計時結果格納テーブル83cから取得された「開始時刻」および「終了時刻」の値と、所要時間の設定値および計時結果と、計時結果格納テーブル83cの判定結果として取得された離脱状況と、が所定位置に配置されるように、詳細情報表示領域93bを作成する。
Subsequently, the Gantt
そして、ガントチャート作成部84eにより作成された詳細情報表示領域93bは、詳細情報表示領域93aと同様に、表示処理部85の描画処理により表示部85aに表示される(図10参照)。
Then, the detailed
続いて、着目工程の実行パラメータの計測結果が警告範囲内となり、着目工程の所要時間の計時結果が設定値に対して不足している場合において、この着目工程に対応する詳細情報表示領域93a、93bの作成手順の一例を説明する。
Subsequently, when the measurement result of the execution parameter of the target process is within the warning range and the time measurement result of the required time of the target process is insufficient with respect to the set value, the detailed
図11に示すように、下段帯グラフ92eには、警告状態となっていることを告知する告知記号と、着目工程の所要時間が超過していることを示すハッチングと、が付加されている。この場合において、使用者が、操作部87を操作し、画面に表示されたポインタPで下段帯グラフ92eを指定すると(第1および第2指定動作)、制御ユニット80には、下段帯グラフ92eに対応する「子レシピNO」(=「2102」)が入力される。
As shown in FIG. 11, the
続いて、詳細情報抽出部84fは、入力された「子レシピNO」と同一となるレコードを、子レシピテーブル83b(図4参照)、計時結果格納テーブル83c(図5参照)、および実行パラメータ格納テーブル83d(図6参照)から抽出する。これにより、子レシピテーブル83bからは「子レシピNO」=「2102」となるレコードが、計時結果格納テーブル83cからは「実行タイミング格納ID」=「1101107」となるレコードが、実行パラメータ格納テーブル83dからは「実行パラメータ格納ID」=「2101102」となるレコードが、それぞれ抽出される。
Subsequently, the detailed
続いて、ガントチャート作成部84eは、計時結果格納テーブル83cより抽出されたレコードから「開始時刻」および「終了時刻」の各値を、子レシピテーブル83bより抽出されたレコードから「開始時刻」および「終了時刻」の各値を、取得する。
Subsequently, the Gantt
また、ガントチャート作成部84eは、子レシピテーブル83bより抽出された「終了時刻」から「開始時刻」を減算して、所要時間の設定値を求める。同様に、ガントチャート作成部84eは、計時結果格納テーブル83cより抽出された「終了時刻」から「開始時刻」を減算して、所要時間の計時結果を求める。
Further, the Gantt
さらに、ガントチャート作成部84eは、実行パラメータ格納テーブル83dより抽出されたレコードから「時刻」、「パラメータ名」、および「パラメータ値」の各値を、子レシピテーブル83bより抽出されたレコードから「許容下限値」、「許容上限値」、「警告下限値」、および「警告上限値」の各値を、取得する。
Furthermore, the Gantt
続いて、タイミング判定部84cは、演算された所要時間の設定値および計時結果に基づいて、離脱状況を判定する。この場合において、所要時間の計時結果が設定値と比較して大きな値となり、所要時間の計時結果から設定値を減じた値が許容範囲外となるため、タイミング判定部84cは、離脱状況が「超過」であると判断する。
Subsequently, the
続いて、パラメータ判定部84dは、取得された各値に基づいて、告知レベルを判定する。この場合において、取得された「パラメータ値」が警告範囲内となるため、パラメータ判定部84dは、告知レベルが「警告状態」であると判断する。
Subsequently, the
続いて、ガントチャート作成部84eは、子レシピテーブル83bおよび実行パラメータ格納テーブル83dから取得された値と、パラメータ判定部84dの判定結果として取得された告知レベルと、が所定位置に配置されるように、詳細情報表示領域93aを作成する。
Subsequently, the Gantt
また、ガントチャート作成部84eは、計時結果格納テーブル83cから取得された「開始時刻」および「終了時刻」の値と、所要時間の設定値および計時結果と、計時結果格納テーブル83cの判定結果として取得された離脱状況と、が所定位置に配置されるように、詳細情報表示領域93bを作成する。
In addition, the Gantt
そして、ガントチャート作成部84eにより作成された詳細情報表示領域93a、93bは、表示処理部85の描画処理により表示部85aに表示される(図11参照)。
Then, the detailed
このように、操作部87からの指定動作(第1指定動作)により、ハッチングが付加された下段帯グラフ92が指定されると、大容量記憶部83に記憶されている子レシピテーブル83bおよび計時結果格納テーブル83cからは、指定された工程に対応する詳細な情報が抽出される。そして、ガントチャート作成部84eは、この指定動作に応じ、詳細な情報(第1関連情報)を表示した詳細情報表示領域93aを作成する。
As described above, when the hatched
また、操作部87からの指定動作(第2指定動作)により、告知記号が付加された下段帯グラフ92が指定されると、大容量記憶部83に記憶されている子レシピテーブル83bおよび実行パラメータ格納テーブル83dからは、指定された工程に対応する詳細な情が抽出される。そして、ガントチャート作成部84eは、この指定動作に応じ、詳細な情報(第2関連情報)を表示した詳細情報表示領域93bを作成する。
When the
さらに、告知記号およびハッチングが付加された下段帯グラフ92が指定されると、ガントチャート作成部84eは、詳細情報表示領域93a、93bを作成する。
Furthermore, when the
これにより、表示部85aには、図9ないし図11に示すように、指定動作(第1、および/または、第2指定動作)に応じ、ガントチャート85cの上に重ねて、詳細情報表示領域93が表示される。そのため、使用者は、他の画面に切り替えることなく、計時結果が許容範囲外となった工程や、実行パラメータの計測結果が警告範囲内または異常範囲内となった工程の詳細な情報を、容易に確認できる。
As a result, as shown in FIGS. 9 to 11, a detailed information display area is superimposed on the
<8.本実施の形態の基板処理装置の利点>
以上のように、本実施の形態の基板処理装置1の使用者は、表示部85aに表示されている複数の帯グラフ90の中から、同一ロットが処理対象となっている帯グラフ90を見出すことができる。また、使用者は、表示部85aに表示されている各帯グラフ90から、各薬液処理ユニット10(10a、10b)、100で実行される工程の実行状況を容易に把握できる。そのため、使用者は、各ロットに対して実行される基板処理の流れと、各処理ユニット10(10a、10b)、100で実行される工程のスケジュールと、を画面切替することなく、同一の画面から把握できる。
<8. Advantages of the substrate processing apparatus of the present embodiment>
As described above, the user of the
<9.変形例>
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく様々な変形が可能である。
<9. Modification>
Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made.
(1)本実施の形態において、各処理ユニット10(10a、10b)、100は、いわゆるバッチ式の基板処理ユニットであり、各ロット(複数の基板から構成される基板群)に対して一括して基板処理するものとして説明したが、これに限定されるものでない。例えば、処理ユニットとしては、いわゆる枚葉式(基板を1枚ずつ処理する方式)の基板処理ユニットが使用されてもよい。この場合、上段帯グラフ91(図7ないし図11参照)には、各ロットの識別情報でなく、各基板の識別情報が表示される。すなわち、上段帯グラフ91に表示される識別情報は、単一の基板を識別する情報であっても良いし、複数の基板から構成される基板群を識別する情報であっても良い。
(1) In the present embodiment, each processing unit 10 (10a, 10b), 100 is a so-called batch type substrate processing unit, and is collectively applied to each lot (a substrate group composed of a plurality of substrates). However, the present invention is not limited to this. For example, as the processing unit, a so-called single-wafer type (a method of processing substrates one by one) may be used. In this case, the upper band graph 91 (see FIGS. 7 to 11) displays not the identification information of each lot but the identification information of each substrate. In other words, the identification information displayed on the
(2)また、本実施の形態において、実行タイミングが離脱状態、または実行パラメータの計測結果が許容範囲外(警告範囲内または以上範囲内)となる場合、対応する上段帯グラフ91(第1図形要素)および下段帯グラフ92(第2図形要素)のそれぞれに告知要素を付加するものとして説明したが、告知要素が付加される対象は、これに限定されるものでない。少なくとも、下段帯グラフ92に告知要素が付加されていれば、使用者は、各工程の実行状況を把握できる。
(2) Also, in the present embodiment, when the execution timing is in the disconnected state or the execution parameter measurement result is outside the allowable range (within the warning range or above), the corresponding upper band graph 91 (first graphic) In the above description, the notification element is added to each of the element) and the lower band graph 92 (second graphic element), but the object to which the notification element is added is not limited to this. If at least a notification element is added to the
(3)また、本実施の形態において、ガントチャート作成部84eは、斜線が付された下段帯グラフ92、または、告知記号が付加された下段帯グラフ92が指定された場合に、詳細情報表示領域93を作成するものとして説明したが、これに限定されるものでない。告知記号およびハッチングのいずれも付加されている下段帯グラフ92が指定された場合にも、詳細情報表示領域93が表示されるようにしてもよい。この場合、詳細情報表示領域93aの告知レベルや詳細情報表示領域93bの離脱状況等の不要な項目は、表示対象から除外する。
(3) In the present embodiment, the Gantt
(4)また、本実施の形態において、レシピテーブル83a、子レシピテーブル83b、計時結果格納テーブル83c、および実行パラメータ格納テーブル83dは、大容量記憶部83に記憶されるものとして説明したが、各テーブル83a〜83dが記憶される場所はこれに限定されるものでない。
(4) In the present embodiment, the recipe table 83a, the child recipe table 83b, the time measurement result storage table 83c, and the execution parameter storage table 83d have been described as being stored in the large-
例えば、十分な記憶容量を確保できる場合には、基板処理装置1の起動時に各テーブル83a〜83dが大容量記憶部83からRAM81にコピーされ、以後のデータアクセスが大容量記憶部83でなくRAM81に対して行われるようにしてもよい。また、ROM82として読み書き自在の不揮発性メモリが使用され、かつ、十分な記憶容量を確保できる場合には、各テーブル83a〜83dがROM82に記憶されてもよい。
For example, when a sufficient storage capacity can be ensured, each table 83 a to 83 d is copied from the large
(5)また、本実施の形態において、各テーブル83a〜83dは同一の記憶部(大容量記憶部83)に記憶されており、同一の記憶部(大容量記憶部83)に対してデータアクセスするものとして説明したが、これに限定されるものでない。例えば、レシピテーブル83a、子レシピテーブル83bの読み書きを行う場合には大容量記憶部83に、計時結果格納テーブル83cの読み書きを行う場合にはRAM81に、実行パラメータ格納テーブル83dの読み書きを行う場合にはROM82に、それぞれアクセスするようにしてもよい。
(5) In the present embodiment, the tables 83a to 83d are stored in the same storage unit (large-capacity storage unit 83), and data access to the same storage unit (large-capacity storage unit 83) is performed. However, the present invention is not limited to this. For example, when reading / writing the recipe table 83a and the child recipe table 83b, when reading / writing the execution parameter storage table 83d in the large-
(6)また、本実施の形態において、実行パラメータ格納テーブル83dの「時刻」フィールドには、実行パラメータの計測結果が警告範囲内または異常範囲内となった時刻が格納されるものとして説明したが、これに限定されるものでない。例えば、実行パラメータ格納テーブル83dにレコードが登録される時刻が格納されてもよい。 (6) In the present embodiment, the “time” field of the execution parameter storage table 83d has been described as storing the time when the measurement result of the execution parameter is within the warning range or the abnormal range. However, the present invention is not limited to this. For example, the time when the record is registered may be stored in the execution parameter storage table 83d.
(7)さらに、本実施の形態において、計時結果格納処理部84aおよび実行パラメータ格納処理部84bにより計時結果格納テーブル83cおよび実行パラメータ格納テーブル83dにデータを格納する機能、スケジュール判定部84cおよびパラメータ判定部84dによる判定機能、ガントチャート作成部84eにより図形要素を作成する機能、および詳細情報抽出部84fによりデータを抽出する機能は、いずれもCPU84によりソフトウェア的に実現されるものとして説明したが、これに限定されるものでない。例えば、これらの機能は、電子回路等のハードウェアによって実現されてもよい。
(7) Further, in the present embodiment, the function of storing data in the time measurement result storage table 83c and the execution parameter storage table 83d by the time measurement result
1 基板処理装置
10(10a、10b) 薬液処理ユニット
80 制御ユニット
83 大容量記憶部
83a レシピテーブル
83b 子レシピテーブル
83c 計時結果格納テーブル
83d 実行パラメータ格納テーブル
84 CPU
84a 計時結果格納処理部
84b 実行パラメータ格納処理部
84c タイミング判定部(第1判定部)
84d パラメータ判定部(第2判定部)
84e ガントチャート作成部(作成部)
84f 詳細情報抽出部(第1および第2抽出部)
85a 表示部
87 操作部
90 帯グラフ
91(91a〜91e) 上段帯グラフ
92(92a〜92h) 下段帯グラフ
93(93a、93b) 詳細情報表示領域
100 純水処理ユニット
W 基板
DESCRIPTION OF
84a Time measurement result
84d Parameter determination unit (second determination unit)
84e Gantt chart creation part (creation part)
84f Detailed information extraction unit (first and second extraction units)
Claims (8)
基板に対して処理を実行する複数の処理ユニットと、
各処理ユニットにおいて基板に実行される処理のスケジュールを、時間軸方向に延びる図形要素として作成する作成部と、
基板に実行される処理を構成する工程の計時結果が許容範囲内となるか否かを判定する第1判定部と、
前記工程の実行にともなって動作する機器の実行パラメータについて、該実行パラメータの計測結果が、警告範囲内となるか否かを判定する第2判定部と、
前記作成部により作成された図形要素を画面に表示する表示部と、
記憶部と、
を備え、
前記図形要素が対応する処理ユニット毎に前記時間方向に沿って配置されるように、各図形要素の配置を決定し、
(a)前記作成部は、
基板の識別情報を示す第1図形要素と、
前記工程のスケジュールを、各工程毎に示す第2図形要素と、
を有する前記図形要素を、作成するとともに、
前記第1判定部により前記計時結果が許容範囲外となると判定される場合、対応する前記図形要素に第1告知要素を付加し、
前記第2判定部により前記計測結果が前記警告範囲内となると判定される場合、対応する前記図形要素に第2告知要素を付加し、
(b)前記表示部は、
前記作成部において前記告知要素が付加された前記図形要素については、当該告知要素が付加された状態で前記図形要素を表示し、
前記作成部において前記告知要素が付加されていない前記図形要素については、単に前記図形要素を表示することを特徴とする基板処理装置。 In substrate processing equipment,
A plurality of processing units for performing processing on a substrate;
A creation unit that creates a schedule of processing performed on a substrate in each processing unit as a graphic element extending in the time axis direction;
A first determination unit for determining whether or not a time measurement result of a process constituting a process executed on the substrate is within an allowable range;
A second determination unit that determines whether or not the measurement result of the execution parameter is within a warning range for the execution parameter of the device that operates along with the execution of the step;
A display unit for displaying the graphic element created by the creation unit on a screen;
A storage unit;
Equipped with a,
As before Symbol graphic elements are arranged along the time for each corresponding processing unit direction, determine the placement of each graphic element,
(A) The creation unit
A first graphic element indicating identification information of the substrate;
A second graphic element indicating the schedule of the process for each process;
And creating the graphic element having
When it is determined by the first determination unit that the time measurement result is outside the allowable range, a first notification element is added to the corresponding graphic element,
When the second determination unit determines that the measurement result falls within the warning range, a second notification element is added to the corresponding graphic element,
(B) The display unit
For the graphic element to which the notification element is added in the creation unit, the graphic element is displayed in a state in which the notification element is added,
The substrate processing apparatus , wherein the graphic element is simply displayed for the graphic element to which the notification element is not added in the creation unit .
基板に対して処理を実行する複数の処理ユニットと、A plurality of processing units for performing processing on a substrate;
各処理ユニットにおいて基板に実行される処理のスケジュールを、時間軸方向に延びる図形要素として作成する作成部と、A creation unit that creates a schedule of processing performed on a substrate in each processing unit as a graphic element extending in the time axis direction;
基板に実行される処理を構成する工程の計時結果が許容範囲内となるか否かを判定する第1判定部と、A first determination unit for determining whether or not a time measurement result of a process constituting a process executed on the substrate is within an allowable range;
前記工程の実行にともなって動作する機器の実行パラメータについて、該実行パラメータの計測結果が、異常範囲内となるか否かを判定する第2判定部と、A second determination unit that determines whether or not the measurement result of the execution parameter is within an abnormal range for the execution parameter of the device that operates along with the execution of the step;
前記作成部により作成された図形要素を画面に表示する表示部と、A display unit for displaying the graphic element created by the creation unit on a screen;
記憶部と、A storage unit;
を備え、With
前記図形要素が対応する処理ユニット毎に前記時間方向に沿って配置されるように、各図形要素の配置を決定し、Determining the arrangement of each graphic element so that the graphic element is arranged along the time direction for each corresponding processing unit;
(a)前記作成部は、(A) The creation unit
基板の識別情報を示す第1図形要素と、A first graphic element indicating identification information of the substrate;
前記工程のスケジュールを、各工程毎に示す第2図形要素と、A second graphic element indicating the schedule of the process for each process;
を有する前記図形要素を、作成するとともに、And creating the graphic element having
前記第1判定部により前記計時結果が許容範囲外となると判定される場合、対応する前記図形要素に第1告知要素を付加し、When it is determined by the first determination unit that the time measurement result is outside the allowable range, a first notification element is added to the corresponding graphic element,
前記第2判定部により前記計測結果が前記異常範囲内となると判定される場合、対応する前記図形要素に第2告知要素を付加し、When the second determination unit determines that the measurement result falls within the abnormal range, a second notification element is added to the corresponding graphic element,
(b)前記表示部は、(B) The display unit
前記作成部において前記告知要素が付加された前記図形要素については、当該告知要素が付加された状態で前記図形要素を表示し、For the graphic element to which the notification element is added in the creation unit, the graphic element is displayed in a state in which the notification element is added,
前記作成部において前記告知要素が付加されていない前記図形要素については、単に前記図形要素を表示することを特徴とする基板処理装置。The substrate processing apparatus, wherein the graphic element is simply displayed for the graphic element to which the notification element is not added in the creation unit.
前記作成部は、前記図形要素のうち、少なくとも前記第2図形要素に前記第1告知要素を付加することを特徴とする基板処理装置。 In the substrate processing apparatus of Claim 1 or Claim 2,
The creating unit adds the first notification element to at least the second graphic element of the graphic elements.
前記作成部は、前記第1および第2図形要素のそれぞれに前記第1告知要素を付加することを特徴とする基板処理装置。 In the substrate processing apparatus of Claim 1 or Claim 2,
The said processing part adds the said 1st notification element to each of the said 1st and 2nd figure element, The substrate processing apparatus characterized by the above-mentioned.
前記第1告知要素が付加されている前記第2図形要素が、操作部からの第1指定動作により指定された場合、前記記憶部に記憶されている複数の実行タイミング関連情報から、指定された前記第2図形要素に対応する第1関連情報を抽出する第1抽出部、
をさらに備え、
前記作成部は、前記第1抽出部により抽出された前記第1関連情報を配置するための第1表示領域を、さらに作成し、
前記表示部は、前記第1指定動作に応じて、前記作成部により作成された前記第1表示領域をさらに表示することを特徴とする基板処理装置。 In the substrate processing apparatus of Claim 3 or Claim 4,
When the second graphic element to which the first notification element is added is designated by the first designation operation from the operation unit, it is designated from a plurality of execution timing related information stored in the storage unit. A first extraction unit for extracting first related information corresponding to the second graphic element;
Further comprising
The creation unit further creates a first display area for arranging the first related information extracted by the first extraction unit,
The substrate processing apparatus, wherein the display unit further displays the first display area created by the creation unit in accordance with the first designation operation.
前記作成部は、前記図形要素のうち、少なくとも、対応する前記第2図形要素に前記第2告知要素を付加することを特徴とする基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 1 , wherein:
The said preparation part adds the said 2nd notification element to the said 2nd graphical element corresponding at least among the said graphic elements, The substrate processing apparatus characterized by the above-mentioned.
前記作成部は、前記第1および第2図形要素に前記第2告知要素を付加することを特徴とする基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 1 , wherein:
The said processing part adds the said 2nd notification element to the said 1st and 2nd graphic element, The substrate processing apparatus characterized by the above-mentioned.
前記第2告知要素が付加されている前記第2図形要素が操作部からの第2指定動作により指定された場合、前記記憶部に記憶されている複数の実行パラメータ関連情報から、指定された前記第2図形要素に対応する第2関連情報を抽出する第2抽出部、
をさらに備え、
前記作成部は、前記第2抽出部により抽出された前記第2関連情報を配置するための第2表示領域を、さらに作成し、
前記表示部は、前記第2指定動作に応じて、前記作成部により作成された前記第2表示領域をさらに表示することを特徴とする基板処理装置。 In the substrate processing apparatus of Claim 6 or Claim 7 ,
When the second graphic element to which the second notification element is added is designated by the second designation operation from the operation unit, the designated one is specified from a plurality of execution parameter related information stored in the storage unit. A second extraction unit for extracting second related information corresponding to the second graphic element;
Further comprising
The creating unit further creates a second display area for arranging the second related information extracted by the second extracting unit;
The substrate processing apparatus, wherein the display unit further displays the second display area created by the creation unit in accordance with the second designation operation.
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