JP5265955B2 - Plane printing plate aluminum alloy plate, planographic printing plate support, planographic printing plate precursor, and method for producing planographic printing plate aluminum alloy plate - Google Patents

Plane printing plate aluminum alloy plate, planographic printing plate support, planographic printing plate precursor, and method for producing planographic printing plate aluminum alloy plate Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an aluminum alloy plate for planographic printing with excellent resistance to dot-like stain and a manufacturing process thereof, and also to provide a support body for planographic printing using it and an original plate for planographic printing plate, especially an original plate for planographic printing plate which can be developed on-press. <P>SOLUTION: The aluminum alloy plate for planographic printing plate includes 0.08 to 0.45 mass% of Fe and 0.05 to 0.20 mass% of Si, the remainder being an aluminum alloy plate comprised of an obligatory impurity and Al, wherein an Fe-Al intermetallic compound being contained at 0.05% or less. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、平版印刷版用アルミニウム合金板およびその製造方法ならびにそれを用いた平版印刷版用支持体および平版印刷版原版に関する。   The present invention relates to an aluminum alloy plate for a lithographic printing plate, a method for producing the same, a lithographic printing plate support using the same, and a lithographic printing plate precursor.

近年進展が目覚ましいコンピュータ・ツウ・プレート(CTP)システムについては、多数の研究がなされている。中でも、一層の工程合理化と廃液処理問題の解決を目指すものとして、露光後、現像処理することなしにそのまま印刷機に装着して印刷できる平版印刷版原版が研究され、種々の方法が提案されている。   Numerous studies have been conducted on computer-to-plate (CTP) systems that have made remarkable progress in recent years. Among them, as an aim to further streamline the process and solve the waste liquid treatment problem, lithographic printing plate precursors that can be mounted on a printing machine and printed without being developed after exposure have been studied, and various methods have been proposed. Yes.

処理工程をなくす方法の一つに、露光済みの平版印刷版原版を印刷機の版胴に装着し、版胴を回転しながら湿し水とインキを供給することによって、平版印刷版原版の非画像部を除去する機上現像と呼ばれる方法がある。即ち、平版印刷版原版を露光後、そのまま印刷機に装着し、通常の印刷過程の中で現像処理が完了する方式である。このような機上現像に適した平版印刷版原版は、湿し水やインキ溶剤に可溶な画像記録層を有し、しかも、明室に置かれた印刷機上で現像されるのに明室取り扱い性を有することが必要とされる。   One method of eliminating the processing step is to mount the exposed lithographic printing plate precursor on the plate cylinder of the printing press, and supply dampening water and ink while rotating the plate cylinder to remove the lithographic printing plate precursor. There is a method called on-machine development that removes the image area. That is, the lithographic printing plate precursor is exposed to light and mounted on a printing machine as it is, and development processing is completed in a normal printing process. A lithographic printing plate precursor suitable for on-press development has an image recording layer that is soluble in fountain solution or an ink solvent, and is bright when developed on a press in a bright room. It is required to have room handling properties.

例えば、特許文献1には、親水性バインダーポリマー中に熱可塑性疎水性重合体の微粒子を分散させた感光層を親水性支持体上に設けた平版印刷版原版が記載されている。この特許文献1には、平版印刷版原版をレーザー露光し、画像記録層中の熱可塑性疎水性重合体粒子を熱により合体させて画像形成した後、印刷機の版胴上に版を取付け、湿し水および/またはインキにより未露光部を除去する(機上現像)できることが記載されている。この平版印刷版原版は感光域が赤外線域であることにより、明室取り扱い適性も有している。   For example, Patent Document 1 describes a lithographic printing plate precursor in which a photosensitive layer in which fine particles of a thermoplastic hydrophobic polymer are dispersed in a hydrophilic binder polymer is provided on a hydrophilic support. In this Patent Document 1, a lithographic printing plate precursor is subjected to laser exposure, and the thermoplastic hydrophobic polymer particles in the image recording layer are coalesced by heat to form an image, and then the plate is mounted on a plate cylinder of a printing press, It is described that an unexposed portion can be removed (on-press development) with fountain solution and / or ink. This lithographic printing plate precursor also has suitability for handling a bright room because the photosensitive region is an infrared region.

また、特許文献2には、熱可塑性ポリマー微粒子、熱反応性基を有するポリマー微粒子および熱反応性基を有する化合物を内包するマイクロカプセルのうち少なくとも何れかを含有する画像記録層を有する平版印刷版原版が、機上現像性が良好であり、高感度かつ高耐印刷性を有することが記載されている。   Patent Document 2 discloses a lithographic printing plate having an image recording layer containing at least one of thermoplastic polymer fine particles, polymer fine particles having a thermoreactive group, and microcapsules encapsulating a compound having a thermoreactive group. It is described that the original plate has good on-press developability, high sensitivity and high printing resistance.

しかしながら、特許文献1および2に記載の平版印刷版原版は、長期間保存した場合に、非画像部表面の一部にインキが付着しやすい箇所が発生し、印刷された紙等に表れる点状または円環状の汚れ(以下、「ポツ状汚れ」ともいう。)が生じることがあった。   However, the lithographic printing plate precursors described in Patent Documents 1 and 2 have spots where ink tends to adhere to a part of the surface of the non-image area when stored for a long period of time, and appear on printed paper or the like. Alternatively, annular dirt (hereinafter also referred to as “pot-like dirt”) may occur.

特許第2938397号公報Japanese Patent No. 2938397 特開2001−293971号公報JP 2001-293971 A

本発明者は、このポツ状汚れが発生する原因について検討したところ、まず、特許文献1および2等に記載のいわゆる機上現像型の平版印刷版原版は、印刷インキおよび/または湿し水により除去可能な画像記録層を設けているため、画像記録層中に多くの親水性成分が存在しており、その結果、外気等の影響により画像記録層中に水分を包含しやすいものとなっていることに着目した。そして、特許文献1および2等に記載のいわゆる機上現像型の平版印刷版原版は、外気等の影響により画像記録層中に包含する水分や、その水分によりアニオン化した親水性成分(以下、単に「アニオン」という。)の存在により、アルミニウム合金板の腐食が生じ、それによりポツ状汚れが生じていることを明らかとした。
また、本発明者は、アニオンの中でも、ハロゲン化物イオンからなるアニオンおよび/またはPF6 の存在が、アルミニウム合金板の腐食を生じさせやすいことを明らかとした。
The present inventor examined the cause of the occurrence of this spot-like stain. First, the so-called on-press development type lithographic printing plate precursor described in Patent Documents 1 and 2, etc. is obtained by using printing ink and / or fountain solution. Since a removable image recording layer is provided, there are many hydrophilic components in the image recording layer. As a result, the image recording layer easily contains moisture due to the influence of outside air or the like. Focused on being. And so-called on-press development type lithographic printing plate precursors described in Patent Documents 1 and 2, etc., include moisture contained in the image recording layer due to the influence of outside air, etc., and hydrophilic components anionized by the moisture (hereinafter, It was clarified that the presence of the “anion”) caused corrosion of the aluminum alloy plate, thereby causing spot-like soiling.
Further, the present inventors, among anions, anions and / or PF 6 consisting halide ions - presence of, was revealed that tends to cause corrosion of the aluminum alloy plate.

一方、アルミニウム合金板の金属間化合物について、例えば、特開2005−330588号公報、特開2005−232596号公報、特開平11−151870号公報等には、平版印刷版用アルミニウム合金板に含まれる金属間化合物に関する内容が記載されている。
具体的には、Al−Fe系金属間化合物は、Al−Fe−Si系金属間化合物よりも電解粗面化の際のピットの起点となりやすいことや、Al−Fe系金属間化合物の中でも、準安定相のAl−Fe系金属間化合物がピットの起点となりやすいことが記載されている。また、特開2005−330588号公報には、Fe/Alの割合が0.6以下の準安定相粒子の数が、全金属間化合物粒子数に対して0.35以上であると均一な砂目が形成すると記載されている。更に、特開2005−232596号公報には、AlFe系晶析出物が平均で0.5〜2.0%含まれるアルミニウム合金板が記載されている。また、特開平11−151870号公報には、Al−Fe系金属間化合物粒子数/Al−Fe−Si系金属間化合物粒子数の比が0.7以上であることを特徴としている。
しかしながら、これらの特許文献には、画像記録層によるアルミニウム基板の腐食を抑制するための金属間化合物に関する記述はなされていない。
On the other hand, regarding the intermetallic compound of the aluminum alloy plate, for example, JP 2005-330588 A, JP 2005-232596 A, JP 11-151870 A and the like are included in an aluminum alloy plate for a lithographic printing plate. Contents related to intermetallic compounds are described.
Specifically, the Al-Fe intermetallic compound is likely to be a starting point of pits during electrolytic surface roughening than the Al-Fe-Si intermetallic compound, and among the Al-Fe intermetallic compounds, It is described that a metastable phase Al—Fe-based intermetallic compound tends to be a starting point of pits. JP-A-2005-330588 discloses that the number of metastable phase particles having a Fe / Al ratio of 0.6 or less is 0.35 or more with respect to the total number of intermetallic compound particles. It is described that eyes form. Furthermore, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-232596 describes an aluminum alloy plate containing 0.5 to 2.0% of an average AlFe-based crystal precipitate. Japanese Patent Laid-Open No. 11-151870 is characterized in that the ratio of the number of Al—Fe intermetallic compound particles / the number of Al—Fe—Si intermetallic compound particles is 0.7 or more.
However, these patent documents do not describe an intermetallic compound for suppressing corrosion of the aluminum substrate by the image recording layer.

そこで、本発明は、耐ポツ状汚れ性に優れる平版印刷版を得ることができる平版印刷版用アルミニウム合金板およびその製造方法、ならびに、それを用いた平版印刷版用支持体および平版印刷版原版、特に機上現像可能な平版印刷版原版を提供することを目的とする。   Accordingly, the present invention relates to an aluminum alloy plate for a lithographic printing plate capable of obtaining a lithographic printing plate excellent in pot-like stain resistance, a method for producing the same, and a lithographic printing plate support and a lithographic printing plate precursor using the same. In particular, an object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor which can be developed on-press.

本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究した結果、SiおよびFeを特定の含有量とし、Al−Fe系金属間化合物を特定の含有量とする平版印刷版用アルミニウム合金板を用いることにより、耐ポツ状汚れ性に優れる平版印刷版を得ることができることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、以下の(1)〜(11)を提供する。
As a result of earnest research to achieve the above object, the present inventor uses an aluminum alloy plate for a lithographic printing plate having a specific content of Si and Fe and a specific content of an Al—Fe intermetallic compound. Thus, it was found that a lithographic printing plate having excellent resistance to pot-like stains can be obtained, and the present invention has been completed.
That is, the present invention provides the following (1) to ( 11 ).

(1)Feを0.08〜0.45質量%含有し、Siを0.05〜0.20質量%含有し、残部が不可避不純物とAlとからなるアルミニウム合金板であって、
Al−Fe系金属間化合物の含有量が0.05質量%以下であ
上記アルミニウム合金板に存在する金属間化合物の主成分がα−AlFeSiである、平版印刷版用アルミニウム合金板。
(1) An aluminum alloy plate containing 0.08 to 0.45% by mass of Fe, 0.05 to 0.20% by mass of Si, and the balance consisting of inevitable impurities and Al,
Der content is more than 0.05 mass% of Al-Fe intermetallic compound is,
An aluminum alloy plate for a lithographic printing plate , wherein a main component of an intermetallic compound present in the aluminum alloy plate is α-AlFeSi .

)上記アルミニウム合金のFe含有量とSi含有量との比(Fe/Si)が、0.5〜2.2である上記(1)に記載の平版印刷版用アルミニウム合金板。 ( 2 ) The aluminum alloy plate for lithographic printing plates as described in said (1 ) whose ratio (Fe / Si) of Fe content and Si content of the said aluminum alloy is 0.5-2.2.

)Znの含有量が、0.01質量%以下である上記(1)または(2)に記載の平版印刷版用アルミニウム合金板。 ( 3 ) The aluminum alloy plate for lithographic printing plates as described in said (1) or (2) whose Zn content is 0.01 mass% or less.

)Mgの含有量が、0.20質量%以下である上記(1)〜()のいずれかに記載の平版印刷版用アルミニウム合金板。 ( 4 ) The aluminum alloy plate for a lithographic printing plate according to any one of (1) to ( 3 ), wherein the Mg content is 0.20% by mass or less.

)上記(1)〜()のいずれかに記載の平版印刷版用アルミニウム合金板を製造する平版印刷版用アルミニウム合金板の製造方法であって、
アルミニウム合金溶湯から鋳塊を形成する半連続鋳造工程と、
上記半連続鋳造工程で得られた上記鋳塊に面削を施す面削工程と、
上記面削工程の後に、500〜550℃の温度範囲で均熱処理を施す均熱処理工程とを具備する平版印刷版用アルミニウム合金板の製造方法。
( 5 ) A method for producing an aluminum alloy plate for a lithographic printing plate for producing an aluminum alloy plate for a lithographic printing plate according to any one of (1) to ( 4 ) above,
A semi-continuous casting process for forming an ingot from molten aluminum alloy;
A chamfering step for chamfering the ingot obtained in the semi-continuous casting step;
A method for producing an aluminum alloy plate for a lithographic printing plate, comprising: a soaking treatment in which a soaking treatment is performed in a temperature range of 500 to 550 ° C after the chamfering step.

)上記(1)〜()のいずれかに記載の平版印刷版用アルミニウム合金板を製造する平版印刷版用アルミニウム合金板の製造方法であって、
アルミニウム合金溶湯を凝固させつつ圧延を行ってアルミニウム合金板を形成する連続鋳造工程と、
上記連続鋳造工程で得られた上記アルミニウム合金板の厚さを減じさせる冷間圧延工程と、
上記冷間圧延工程の後に、500℃以下の温度で熱処理を行う中間焼鈍工程と、
上記中間焼鈍後の上記アルミニウム合金板の厚さを減じさせる仕上げ冷間圧延工程とを具備する平版印刷版用アルミニウム合金板の製造方法。
( 6 ) A method for producing an aluminum alloy plate for a lithographic printing plate for producing an aluminum alloy plate for a lithographic printing plate according to any one of (1) to ( 4 ) above,
A continuous casting step of forming an aluminum alloy sheet by rolling while solidifying the molten aluminum alloy;
A cold rolling step for reducing the thickness of the aluminum alloy plate obtained in the continuous casting step;
After the cold rolling step, an intermediate annealing step in which heat treatment is performed at a temperature of 500 ° C. or lower,
A method for producing an aluminum alloy plate for a lithographic printing plate, comprising: a finish cold rolling step for reducing the thickness of the aluminum alloy plate after the intermediate annealing.

)上記(1)〜()のいずれかに記載の平版印刷版用アルミニウム合金板の表面に、電気化学的粗面化処理を含む粗面化処理および陽極酸化処理をこの順で施して得られる平版印刷版用支持体。 ( 7 ) The surface of the aluminum alloy plate for lithographic printing plates according to any one of the above (1) to ( 4 ) is subjected to roughening treatment including electrochemical roughening treatment and anodizing treatment in this order. A support for a lithographic printing plate obtained.

)上記陽極酸化処理の後に、更に親水化処理を施して得られる平版印刷版用支持体であって、
上記親水化処理が、ケイ素の吸着量が1.0〜30mg/m2となるようにアルカリ金属ケイ酸塩を用いた処理である上記()に記載の平版印刷版用支持体。
( 8 ) A lithographic printing plate support obtained by further hydrophilizing after the anodizing treatment,
The support for a lithographic printing plate as described in ( 7 ) above, wherein the hydrophilization treatment is a treatment using an alkali metal silicate so that the adsorption amount of silicon is 1.0 to 30 mg / m 2 .

)上記()または()に記載の平版印刷版用支持体上に画像記録層を設けてなる平版印刷版原版。 ( 9 ) A lithographic printing plate precursor comprising an image recording layer provided on the lithographic printing plate support described in ( 7 ) or ( 8 ) above.

10)上記画像記録層が、ハロゲン化物イオンからなるアニオンおよび/またはPF6 を有する上記()に記載の平版印刷版原版。 (10) The image recording layer is anionic and / or PF 6 consisting halide ions - The lithographic printing plate precursor as described in (9) having a.

11)上記画像記録層が、露光により画像を形成し、非露光部が印刷インキおよび/または湿し水により除去可能となる画像記録層である上記()または(10)に記載の平版印刷版原版。 ( 11 ) The lithographic plate according to the above ( 9 ) or ( 10 ), wherein the image recording layer is an image recording layer that forms an image by exposure and the non-exposed portion can be removed by printing ink and / or fountain solution. A printing plate master.

以下に説明するように、本発明によれば、耐ポツ状汚れ性に優れる平版印刷版を得ることができる平版印刷版用アルミニウム合金板およびその製造方法、ならびに、それを用いた平版印刷版用支持体および平版印刷版原版、特に機上現像可能な平版印刷版原版を提供するこができる。
また、本発明によれば、画像記録層のアニオン濃度(ハロゲン化物イオン濃度、PF6 濃度)に左右されず、耐ポツ状汚れ性に優れる平版印刷版を得ることができるため、非常に有用である。
As will be described below, according to the present invention, an aluminum alloy plate for a lithographic printing plate capable of obtaining a lithographic printing plate excellent in pot-like stain resistance, a method for producing the same, and a lithographic printing plate using the same A support and a lithographic printing plate precursor, particularly a lithographic printing plate precursor capable of on-press development can be provided.
Further, according to the present invention, the anion concentration in the image recording layer (halide ion concentration, PF 6 - concentration) without being affected by, since it is possible to obtain a lithographic printing plate having excellent resistance to spotting, very useful It is.

以下、本発明について詳細に説明する。
[平版印刷版用支持体]
<アルミニウム合金板(圧延アルミ)>
本発明の平版印刷版用支持体には、以下で説明する本発明の平版印刷版用アルミニウム合金板(以下、「本発明のアルミニウム合金板」ともいう。)が用いられる。
本発明のアルミニウム合金板における必須の合金成分は、Al、FeおよびSiである。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
[Support for lithographic printing plate]
<Aluminum alloy plate (rolled aluminum)>
For the lithographic printing plate support of the present invention, the aluminum alloy plate for lithographic printing plates of the present invention described below (hereinafter also referred to as “the aluminum alloy plate of the present invention”) is used.
The essential alloy components in the aluminum alloy plate of the present invention are Al, Fe and Si.

Feは、アルミニウム合金の機械的強度を高める作用があり、平版印刷版用支持体の強度に大きな影響を与える。Feの含有量が少なすぎると、機械的強度が低すぎて、平版印刷版を印刷機の版胴に取り付ける際に、版切れを起こしやすくなる。また、高速で大部数の印刷を行う際にも、同様に版切れを起こしやすくなる。一方、Feの含有量が多すぎると、必要以上に高強度となり、平版印刷版を印刷機の版胴に取り付ける際に、フィットネス性に劣り、印刷中に版切れを起こしやすくなる。   Fe has an effect of increasing the mechanical strength of the aluminum alloy, and greatly affects the strength of the support for a lithographic printing plate. If the Fe content is too small, the mechanical strength is too low, and plate breakage is likely to occur when the lithographic printing plate is attached to the plate cylinder of a printing press. Further, when printing a large number of copies at high speed, the plate is likely to be cut out similarly. On the other hand, when the content of Fe is too large, the strength becomes higher than necessary, and when the lithographic printing plate is attached to the plate cylinder of a printing press, the fitness is inferior, and the plate is easily cut during printing.

本発明においては、Feの含有量は0.08〜0.45質量%であり、0.08〜0.35質量%であるのが好ましい。
Feの含有量がこの範囲であると、必要以上に高強度とならず、平版印刷版を印刷機の版胴に取り付ける際のフィットネス性に優れ、印刷中の版切れを防止できる。
In the present invention, the Fe content is 0.08 to 0.45 mass%, and preferably 0.08 to 0.35 mass%.
When the Fe content is within this range, the strength is not unnecessarily high, the fitness is excellent when a lithographic printing plate is attached to the plate cylinder of a printing press, and plate breakage during printing can be prevented.

また、Feは、Al−Fe系金属間化合物、Al−Fe−Si系金属間化合物を形成する。
ここで、Al−Fe系金属間化合物は、上述したように、Al−Fe−Si系金属間化合物よりも電気化学的溶解性が高く、ピットの起点としての作用が強い。また、Al−Fe系金属間化合物は、Al−Fe−Si系金属間化合物よりもピット起点となりやすく、Al−Fe系金属間化合物の中でも、安定層よりも準安定相のAl−Fe系金属間化合物がピット起点となりやすい。
Fe forms an Al—Fe based intermetallic compound and an Al—Fe—Si based intermetallic compound.
Here, as described above, the Al—Fe-based intermetallic compound has higher electrochemical solubility than the Al—Fe—Si-based intermetallic compound, and has a strong effect as a starting point of pits. In addition, the Al-Fe-based intermetallic compound is more likely to be a pit starting point than the Al-Fe-Si-based intermetallic compound, and among the Al-Fe-based intermetallic compounds, the Al-Fe-based metal is more metastable than the stable layer. Intermetallic compounds are likely to be pit starting points.

本発明においては、Al−Fe系金属間化合物の含有量は0.05質量%以下であり、0.02質量%以下であるのが好ましく、0.015質量%以下であるのがより好ましい。
Al−Fe系金属間化合物の含有量がこの範囲であると、得られる本発明のアルミニウム合金板を用いた平版印刷版の耐ポツ状汚れ性が優れる。これは、上述したように、画像記録層に多くの親水性成分が含有する場合において、Al−Fe系金属間化合物がアルミニウム合金板の腐食の起点になるという新たな知見に基づくものである。
また、本発明においては、Al−Fe系金属間化合物の含有量は、以下の式により算出している。
In the present invention, the content of the Al—Fe-based intermetallic compound is 0.05% by mass or less, preferably 0.02% by mass or less, and more preferably 0.015% by mass or less.
When the content of the Al—Fe-based intermetallic compound is within this range, the spot-like stain resistance of the lithographic printing plate using the aluminum alloy plate of the present invention obtained is excellent. As described above, this is based on the new finding that when the image recording layer contains many hydrophilic components, the Al—Fe-based intermetallic compound is a starting point for corrosion of the aluminum alloy plate.
In the present invention, the content of the Al—Fe-based intermetallic compound is calculated by the following formula.

Al−Fe系金属間化合物含有量(質量%)={Fe含有量(質量%)−Fe固溶量(質量%)}×{(XRDにより検出されたAl−Fe系金属間化合物相ピークの積分回折強度の合計)/(XRDにより検出されたFe系各相ピークの積分回折強度の合計)}   Al-Fe intermetallic compound content (% by mass) = {Fe content (% by mass) -Fe solid solution amount (% by mass)} × {(Al—Fe intermetallic compound phase peak detected by XRD Sum of integral diffraction intensities) / (total sum of integral diffraction intensities of Fe phase peaks detected by XRD)}

ここで、Al−Fe系金属間化合物とは、Al3FeおよびAl6Feを示し、Fe系各相とは、Al3Fe、Al6Feおよびα−AlFeSiを示す。 Here, the Al—Fe-based intermetallic compound indicates Al 3 Fe and Al 6 Fe, and the Fe-based phases indicate Al 3 Fe, Al 6 Fe, and α-AlFeSi.

また、XRDによる積分回折強度は、X線回折装置RAD−rR(12kW回転対陰極型、リガク社製)にアルミニウム合金板をセットし、以下の条件により測定し、検出されたFe系金属間化合物相(Al3Fe、Al6Fe、α−AlFeSi)を代表するピークの積分回折強度値(単位:Kcounts)を算出した値である。なお、ピークが現れない場合、積分回折強度は0.1として算出した。
・設定管電圧 50kV
・設定管電流 200mA
・サンプリング間隔 0.01°
・スキャン速度 1°/分
・2θ走査範囲 10°〜70°
・グラファイトモノクロメータ使用
The integrated diffraction intensity by XRD was measured under the following conditions by setting an aluminum alloy plate on an X-ray diffractometer RAD-rR (12 kW rotating counter-cathode type, manufactured by Rigaku Corporation), and detected Fe-based intermetallic compound. This is a value obtained by calculating an integrated diffraction intensity value (unit: Kcounts) of a peak representative of the phase (Al 3 Fe, Al 6 Fe, α-AlFeSi). When no peak appeared, the integrated diffraction intensity was calculated as 0.1.
・ Set tube voltage 50kV
・ Set tube current 200mA
・ Sampling interval 0.01 °
・ Scanning speed 1 ° / min ・ 2θ scanning range 10 ° ~ 70 °
・ Use of graphite monochromator

また、Fe固溶量は、アルミニウム合金板を熱フェノールによって溶解し、溶解されたマトリックスおよび溶解残残渣としての金属間化合物をろ過し、更にろ液中の微細な金属間化合物を10%クエン酸溶液を用いた抽出により分離し、その後のろ液中のFe量をICP発光分析装置によって測定した値である。   In addition, the Fe solid solution amount is obtained by dissolving the aluminum alloy plate with hot phenol, filtering the dissolved matrix and the intermetallic compound as a residual residue, and further adding 10% citric acid to the fine intermetallic compound in the filtrate. It is the value which isolate | separated by extraction using a solution and measured the amount of Fe in the subsequent filtrate with the ICP emission spectrometer.

Siは、アルミニウム中に固溶し、またはAl−Fe−Si系金属間化合物もしくはSi単独の析出物を形成して存在する。
アルミニウム中に固溶したSiは、電気化学的粗面を均一にする作用と電気化学的粗面化処理で生じるピットの主として深さを深くかつ均一にする作用とを有する。
Si exists as a solid solution in aluminum, or forms a precipitate of an Al—Fe—Si intermetallic compound or Si alone.
Si dissolved in aluminum has an action of making the electrochemical rough surface uniform and an action of making the depth of the pit generated by the electrochemical roughening treatment mainly deep and uniform.

ここで、Siは原材料であるAl地金に不可避不純物として含有されており、原材料差によるばらつきを防ぐため、意図的に微量添加されることが多い。その際、Si含有量が0.05質量%未満では、上記作用が現れず、また、高純度のAl地金が必要になり、高価となるため現実的でない。逆に、Si含有量が0.20質量%を超えると、印刷した際にポツ状汚れが悪くなるという不具合がある。一方、原材料によっては既に0.03質量%以上の含有量を持つ場合があるため、0.03質量%未満の数値は現実的でない。   Here, Si is contained as an inevitable impurity in the Al ingot, which is a raw material, and is often intentionally added in a small amount in order to prevent variations due to differences in raw materials. At that time, if the Si content is less than 0.05% by mass, the above effect does not appear, and a high-purity Al metal is necessary and expensive, which is not practical. Conversely, if the Si content exceeds 0.20% by mass, there is a problem that the spot-like stains are deteriorated when printing is performed. On the other hand, some raw materials may already have a content of 0.03% by mass or more, and therefore a numerical value less than 0.03% by mass is not realistic.

本発明においては、Siの含有量は0.0.5〜0.20質量%である。
Siの含有量がこの範囲であると、後述する電気化学的粗面化処理の均一性を損なわなず、また、得られる本発明のアルミニウム合金板を用いた平版印刷版の耐ポツ状汚れ性が優れる。
In the present invention, the content of Si is 0.05 to 0.20% by mass.
When the Si content is within this range, the uniformity of the electrochemical surface-roughening treatment described later is not impaired, and the lithographic printing plate using the obtained aluminum alloy plate of the present invention has a pot-like stain resistance. Is excellent.

本発明者は、上述したように、Al−Fe系金属間化合物がアルミニウム合金板の腐食の起点となることを知見すると同時に、Al−Fe−Si系金属間化合物およびSi単独析出物は、Al−Fe系金属間化合物と比較して、アルミニウム合金板の腐食の起点となり難いことを見出している。
そのため、本発明においては、アルミニウム合金板の金属間化合物の主成分が、Al−Fe−Si系金属間化合物であるα−AlFeSiである。ここで、主成分とは、金属間化合物のうち最も多く含有する成分をいい、50質量%超であるのが好ましい。
このようにAl−Fe−Si系金属間化合物の析出量を増やすには、後述する本発明のアルミニウム合金板の製造方法にも示すように、アルミニウム合金溶湯から形成した鋳塊に面削を施した後に、500〜550℃の温度範囲で均熱処理を施すのが好ましい。
As described above, the present inventor has found that the Al—Fe-based intermetallic compound is a starting point of corrosion of the aluminum alloy plate, and at the same time, the Al—Fe—Si intermetallic compound and the Si single precipitate are Al. It has been found that it is less likely to be a starting point for corrosion of an aluminum alloy sheet as compared to an Fe-based intermetallic compound.
Therefore, in the present invention, the main component of the intermetallic compounds of the aluminum alloy plate, an A l-Fe-Si-based intermetallic compound alpha-AlFeSi Ru der. Here, a main component means the component which contains most among intermetallic compounds, and it is preferable that it is more than 50 mass%.
In this way, in order to increase the precipitation amount of the Al—Fe—Si intermetallic compound, as shown in the method for producing an aluminum alloy plate of the present invention described later, the ingot formed from the molten aluminum alloy is subjected to face cutting. After that, it is preferable to perform soaking in a temperature range of 500 to 550 ° C.

また、本発明においては、Fe含有量とSi含有量の質量比(Fe/Si)が、0.5〜2.2であり、0.5〜1.4であるのが好ましく、1.0〜1.4であるのがより好ましい。
アルミニウム合金板におけるFe含有量とSi含有量との比(Fe/Si)が、この範囲にあると、Al−Fe−Si系金属間化合物が増加し、得られる本発明のアルミニウム合金板における腐食の起点が低減し、その結果、平版印刷版の耐ポツ状汚れ性がより向上する。
Moreover, in this invention, mass ratio (Fe / Si) of Fe content and Si content is 0.5-2.2, It is preferable that it is 0.5-1.4, 1.0 More preferably, it is -1.4.
When the ratio of Fe content to Si content (Fe / Si) in the aluminum alloy plate is within this range, the Al-Fe-Si intermetallic compound increases, and the resulting corrosion in the aluminum alloy plate of the present invention As a result, the spot-like stain resistance of the lithographic printing plate is further improved.

Znは、電気化学的粗面化処理で生成するピットの径を小さくする作用を有するので、所望のピット形状を設計するために添加することができる。多く添加すると、ピット径を小さくすることができる。
本発明においては、Zn含有量は、0.01質量%以下であるのが好ましい。
Zn has the effect of reducing the diameter of the pits generated by the electrochemical surface roughening treatment, and can be added to design a desired pit shape. If a large amount is added, the pit diameter can be reduced.
In the present invention, the Zn content is preferably 0.01% by mass or less.

Mgは、Alの再結晶組織を微細にする作用や、引張強度、耐力、疲労強度、折り曲げ強度、耐熱軟化性等の機械的強度を向上させる作用を有する。
また、Mgは、適当量添加することで電解粗面化時のピットの分散を均一にする作用も有する。
本発明においては、Mg含有量は、0.20質量%以下であるのが好ましい。
Mg has the effect of refining the recrystallized structure of Al, and the effect of improving mechanical strength such as tensile strength, yield strength, fatigue strength, bending strength, and heat softening resistance.
Moreover, Mg has the effect | action which makes the dispersion | distribution of the pit at the time of an electrolytic roughening uniform by adding a suitable quantity.
In the present invention, the Mg content is preferably 0.20% by mass or less.

Cuは、比較的アルミニウム中に固溶しやすく、平版印刷版用支持体の電気化学的粗面化性に大きく影響を及ぼす元素である。
本発明においては、Cuは、0.001〜0.040質量%の範囲で適宜含有させてもよい。
Cu is an element that is relatively easily dissolved in aluminum and has a great influence on the electrochemical surface roughening properties of the lithographic printing plate support.
In the present invention, Cu may be appropriately contained in the range of 0.001 to 0.040% by mass.

アルミニウム合金板の残部は、Alと不可避不純物からなる。
この不可避不純物としては、例えば、Mn、Cr、Zr,V,Be等が挙げられ、これらはそれぞれ0.05質量%以下含まれていてもよい。
また、不可避不純物の大部分は、Al地金中に含有される。不可避不純物は、例えば、Al純度99.5%の地金に含有されるものであれば、本発明の効果を損なわない。
不可避不純物については、例えば、L.F.Mondolfo著「Aluminum Alloys:Structure and properties」(1976年)等に記載されている量の不純物が含有されていてもよい。
The balance of the aluminum alloy plate is made of Al and inevitable impurities.
Examples of the inevitable impurities include Mn, Cr, Zr, V, and Be, and these may be contained in an amount of 0.05% by mass or less.
Moreover, most of inevitable impurities are contained in the Al ingot. For example, if the inevitable impurities are contained in a metal having an Al purity of 99.5%, the effects of the present invention are not impaired.
For inevitable impurities, see, for example, L.A. F. The amount of impurities described in Mondolfo's “Aluminum Alloys: Structure and properties” (1976) and the like may be contained.

<アルミニウム合金板の製造方法>
上述した本発明のアルミニウム合金板は、例えば、以下に示す各処理を施すことにより製造することができる。
<Method for producing aluminum alloy plate>
The above-described aluminum alloy plate of the present invention can be produced, for example, by performing the following treatments.

(清浄化処理)
まず、所定の合金成分含有量に調整したアルミニウム合金溶湯に、常法に従い、必要に応じて清浄化処理を施すことができる。
清浄化処理としては、例えば、溶湯中の水素等の不要ガスを除去するための脱ガス処理(例えば、アルゴンガス、塩素ガス等を用いたフラックス処理等);セラミックチューブフィルタ、セラミックフォームフィルタなどのいわゆるリジッドメディアフィルタや、アルミナフレーク、アルミナボールなどをろ材とするフィルタや、グラスクロスフィルタなどを用いるフィルタリング処理;このような脱ガス処理とフィルタリング処理とを組み合わせた処理;等が挙げられる。
(Cleaning treatment)
First, a molten aluminum alloy adjusted to a predetermined alloy component content can be subjected to a cleaning treatment as necessary according to a conventional method.
Examples of the cleaning treatment include degassing treatment for removing unnecessary gases such as hydrogen in the molten metal (eg flux treatment using argon gas, chlorine gas, etc.); ceramic tube filter, ceramic foam filter, etc. A filtering process using a so-called rigid media filter, a filter using alumina flakes, alumina balls, or the like as a filter medium, a glass cloth filter, or the like; a process in which such a degassing process and a filtering process are combined;

(鋳造処理)
次いで、必要に応じて清浄化処理を施したアルミニウム合金溶湯を用いて、鋳造を施す。
鋳造方法としては、例えば、半連続鋳造法に代表される固定鋳型を用いる鋳造法、連続鋳造法に代表される駆動鋳型を用いる鋳造法等が挙げられる。
(Casting process)
Next, casting is performed using a molten aluminum alloy that has been subjected to a cleaning treatment as necessary.
Examples of the casting method include a casting method using a fixed mold represented by a semi-continuous casting method, a casting method using a driving mold represented by a continuous casting method, and the like.

半連続鋳造法においては、例えば、固定鋳型を用いて、所望の板厚(例えば、300〜800mm)の鋳塊を製造する。その後、得られた鋳塊に対して、常法に従い、面削を行い、表層の1〜30mm、好ましくは1〜10mmを切削することにより、所望の板厚のアルミニウム合金の板状体を得ることができる。
一方、連続鋳造法においては、例えば、アルミニウム合金溶湯を一対の双ベルト間に挿通させることにより、所望の板厚のアルミニウム合金の板状体を得ることができる。
In the semi-continuous casting method, for example, an ingot having a desired plate thickness (for example, 300 to 800 mm) is manufactured using a fixed mold. Thereafter, the obtained ingot is chamfered according to a conventional method, and a surface layer of 1 to 30 mm, preferably 1 to 10 mm, is cut to obtain an aluminum alloy plate having a desired plate thickness. be able to.
On the other hand, in the continuous casting method, for example, an aluminum alloy molten metal having a desired thickness can be obtained by inserting a molten aluminum alloy between a pair of twin belts.

(加熱処理)
本発明においては、鋳造処理により得られたアルミニウム合金の板状体は、熱間圧延に供するために、加熱処理により熱間圧延の温度まで加熱されるのが好ましい。
(Heat treatment)
In the present invention, the aluminum alloy plate obtained by casting is preferably heated to the temperature of hot rolling by heat treatment in order to be subjected to hot rolling.

(均熱処理)
また、本発明においては、半連続鋳造法により鋳造処理を施した場合、加熱処理と熱間圧延処理との間に、更に、所定温度で所定時間保持する均熱処理が行なわれるのが好ましい。
(Soaking)
Further, in the present invention, when the casting process is performed by the semi-continuous casting method, it is preferable that a soaking process is performed between the heat treatment and the hot rolling process, which is held at a predetermined temperature for a predetermined time.

上記均熱処理は、金属間化合物を粗大化しないこと、Al−Fe−Si系金属間化合物を析出させる観点から、500〜550℃の温度範囲に保持するのが好ましく、500〜540℃の温度範囲がより好ましく、510〜540℃の温度範囲が更に好ましい。上記均熱処理の温度範囲がこの範囲であると、Al3Fe等のAl−Fe系金属間化合物の析出が抑制される。
また、上記均熱処理は、上記温度範囲で1〜48時間保持することにより行うのが好ましい。
なお、連続鋳造法により鋳造処理を施した場合、鋳造での凝固速度が速く、Al−Fe−Si系金属間化合物の析出が多いため、上記均熱処理を施す必要はない。
The soaking process is preferably maintained in a temperature range of 500 to 550 ° C. from the viewpoint of not coarsening the intermetallic compound and depositing an Al—Fe—Si intermetallic compound, and a temperature range of 500 to 540 ° C. Is more preferable, and the temperature range of 510-540 degreeC is still more preferable. When the temperature range of the soaking is within this range, precipitation of Al—Fe-based intermetallic compounds such as Al 3 Fe is suppressed.
Moreover, it is preferable to perform the said soaking process by hold | maintaining for 1 to 48 hours in the said temperature range.
Note that when the casting process is performed by the continuous casting method, the solidification rate in casting is high and the precipitation of the Al—Fe—Si intermetallic compound is large, so that it is not necessary to perform the soaking process.

(圧延処理)
鋳造処理後または所望により均熱処理を施した場合は均熱処理後のアルミニウム合金の板状体は、必要に応じて熱間圧延や冷間圧延を施して、最終的に、所定の厚さ、例えば、0.1〜0.5mmの板厚に仕上げられる。
板状体の圧延は、一対のロール間に板状体を挿通させることにより行うことができる。熱間圧延の開始温度は350〜500℃であるのが好ましい。
また、連続鋳造法による場合は、連続鋳造後、冷間圧延および500℃以下による中間焼鈍を施すのが好ましい。中間焼鈍の温度を500℃以下とすることにより、Al3Fe等のAl−Fe系金属間化合物の析出が抑制される。
(Rolling treatment)
If the soaking process is performed after the casting process or if desired, the aluminum alloy plate-like body after the soaking process is subjected to hot rolling or cold rolling as necessary, and finally a predetermined thickness, for example, To a thickness of 0.1 to 0.5 mm.
The rolling of the plate-like body can be performed by inserting the plate-like body between a pair of rolls. The starting temperature of hot rolling is preferably 350 to 500 ° C.
In the case of the continuous casting method, it is preferable to perform cold rolling and intermediate annealing at 500 ° C. or lower after continuous casting. By setting the temperature of the intermediate annealing to 500 ° C. or less, precipitation of Al—Fe-based intermetallic compounds such as Al 3 Fe is suppressed.

以上の処理によって、所定の厚さ(例えば、0.1〜0.5mm)に仕上げられたアルミニウム合金板は、更に、ローラレベラ、テンションレベラ等の矯正装置によって平面性を改善してもよい。
平面性の改善は、アルミニウム合金板をシート状にカットした後に行ってもよいが、生産性を向上させるためには、連続したコイルの状態で行うのが好ましい。
また、所定の板幅に加工するため、スリッタラインを通してもよい。
更に、アルミニウム合金板同士の摩擦による傷の発生を防止するために、アルミニウム合金板の表面に薄い油膜を設けてもよい。油膜には、必要に応じて、揮発性のものや、不揮発性のものが適宜用いられる。
The flatness of the aluminum alloy plate finished to a predetermined thickness (for example, 0.1 to 0.5 mm) by the above processing may be further improved by a correction device such as a roller leveler or a tension leveler.
The flatness may be improved after the aluminum alloy plate is cut into a sheet shape, but it is preferably performed in a continuous coil state in order to improve productivity.
Further, a slitter line may be used for processing into a predetermined plate width.
Furthermore, in order to prevent generation | occurrence | production of the damage | wound by friction between aluminum alloy plates, you may provide a thin oil film on the surface of an aluminum alloy plate. As the oil film, a volatile or non-volatile film is appropriately used as necessary.

本発明のアルミニウム合金板を製造する本発明の平版印刷版用アルミニウム合金板の製造方法(以下、「本発明のアルミニウム合金板の製造方法」ともいう。)は、上述した各処理のうちでも、
アルミニウム合金溶湯から鋳塊を形成する半連続鋳造工程と、
上記半連続鋳造工程で得られた上記鋳塊に面削を施す面削工程と、
上記面削工程の後に、500〜550℃の温度範囲で均熱処理を施す均熱処理工程とを具備する方法であるのが好ましい。
The method for producing an aluminum alloy plate for a lithographic printing plate of the present invention for producing the aluminum alloy plate of the present invention (hereinafter also referred to as “the method for producing an aluminum alloy plate of the present invention”) includes the above-mentioned treatments,
A semi-continuous casting process for forming an ingot from molten aluminum alloy;
A chamfering step for chamfering the ingot obtained in the semi-continuous casting step;
It is preferable that after the chamfering step, a soaking treatment step of soaking in a temperature range of 500 to 550 ° C.

一方、本発明のアルミニウム合金板の製造方法は、上述した各処理のうちでも、
アルミニウム合金溶湯を凝固させつつ圧延を行ってアルミニウム合金板を形成する連続鋳造工程と、
上記連続鋳造工程で得られた上記アルミニウム合金板の厚さを減じさせる冷間圧延工程と、
上記冷間圧延工程の後に、500℃以下の温度で熱処理を行う中間焼鈍工程と、
上記中間焼鈍後の上記アルミニウム合金板の厚さを減じさせる仕上げ冷間圧延工程とを具備する方法であるのが好ましい。
On the other hand, the manufacturing method of the aluminum alloy plate of the present invention includes the above-described processes.
A continuous casting step of forming an aluminum alloy sheet by rolling while solidifying the molten aluminum alloy;
A cold rolling step for reducing the thickness of the aluminum alloy plate obtained in the continuous casting step;
After the cold rolling step, an intermediate annealing step in which heat treatment is performed at a temperature of 500 ° C. or lower,
It is preferable that the method comprises a finish cold rolling step for reducing the thickness of the aluminum alloy sheet after the intermediate annealing.

<粗面化処理>
本発明の平版印刷版用支持体は、上述したアルミニウム合金板の表面に、電気化学的粗面化処理を含む粗面化処理を施して得られるものである。
<Roughening treatment>
The lithographic printing plate support of the present invention is obtained by subjecting the surface of the aluminum alloy plate described above to a roughening treatment including an electrochemical roughening treatment.

粗面化処理は、電気化学的粗面化処理のみを施してもよいが、電気化学的粗面化処理と機械的粗面化処理および/または化学的粗面化処理とを組み合わせて施してもよい。
機械的粗面化処理と電気化学的粗面化処理とを組み合わせる場合には、機械的粗面化処理の後に、電気化学的粗面化処理を施すのが好ましい。
The surface roughening treatment may be performed only by electrochemical surface roughening treatment, but may be performed by combining electrochemical surface roughening treatment with mechanical surface roughening treatment and / or chemical surface roughening treatment. Also good.
When the mechanical surface roughening treatment and the electrochemical surface roughening treatment are combined, it is preferable to perform the electrochemical surface roughening treatment after the mechanical surface roughening treatment.

本発明においては、電気化学的粗面化処理は、硝酸や塩酸の水溶液中で施すのが好ましい。   In the present invention, the electrochemical surface roughening treatment is preferably performed in an aqueous solution of nitric acid or hydrochloric acid.

機械的粗面化処理は、所望により、アルミニウム合金板の表面を一般的には表面粗さRa0.35〜1.0μmとする目的で施される。
本発明においては、機械的粗面化処理の諸条件は特に限定されないが、特公昭50−40047号公報に記載されている方法に従って施すことができる。機械的粗面化処理は、パミストン懸濁液を使用したブラシグレイン処理により施したり、転写方式で施したりすることができる。
また、化学的粗面化処理も特に限定されず、公知の方法に従って施すことができる。
The mechanical surface roughening treatment is performed for the purpose of making the surface of the aluminum alloy plate generally have a surface roughness Ra of 0.35 to 1.0 μm, if desired.
In the present invention, the conditions for the mechanical surface roughening treatment are not particularly limited, but can be applied according to the method described in Japanese Patent Publication No. 50-40047. The mechanical surface roughening treatment can be performed by brush grain processing using a pumiston suspension or can be performed by a transfer method.
Further, the chemical surface roughening treatment is not particularly limited, and can be performed according to a known method.

機械的粗面化処理の後には、以下の化学エッチング処理を施すのが好ましい。
機械的粗面化処理の後に施される化学エッチング処理は、アルミニウム合金板の表面の凹凸形状のエッジ部分をなだらかにし、印刷時のインキの引っかかりを防止し、平版印刷版の耐汚れ性を向上させるとともに、表面に残った研磨材粒子等の不要物を除去するために行われる。
化学エッチング処理としては、酸によるエッチングやアルカリによるエッチングが知られているが、エッチング効率の点で特に優れている方法として、アルカリ溶液を用いる化学エッチング処理(以下、「アルカリエッチング処理」ともいう。)が挙げられる。
After the mechanical surface roughening treatment, the following chemical etching treatment is preferably performed.
The chemical etching process that is performed after the mechanical roughening process smooths the uneven edges on the surface of the aluminum alloy plate, prevents ink from being caught during printing, and improves the stain resistance of the lithographic printing plate And removing unnecessary substances such as abrasive particles remaining on the surface.
As the chemical etching treatment, acid etching or alkali etching is known, but as a method that is particularly excellent in terms of etching efficiency, chemical etching treatment using an alkaline solution (hereinafter also referred to as “alkali etching treatment”). ).

アルカリ溶液に用いられるアルカリ剤は、特に限定されないが、例えば、カセイソーダ、カセイカリ、メタケイ酸ソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、グルコン酸ソーダ等が好適に挙げられる。
また、各アルカリ剤は、アルミニウムイオンを含有してもよい。アルカリ溶液の濃度は、0.01質量%以上であるのが好ましく、3質量%以上であるのがより好ましく、また、30質量%以下であるのが好ましく、25質量%以下であるのがより好ましい。
更に、アルカリ溶液の温度は室温以上であるのが好ましく、30℃以上であるのがより好ましく、80℃以下であるのが好ましく、75℃以下であるのがより好ましい。
The alkaline agent used in the alkaline solution is not particularly limited, and preferred examples include caustic soda, caustic potash, sodium metasilicate, sodium carbonate, sodium aluminate, and sodium gluconate.
Each alkaline agent may contain aluminum ions. The concentration of the alkaline solution is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and preferably 30% by mass or less, more preferably 25% by mass or less. preferable.
Furthermore, the temperature of the alkaline solution is preferably room temperature or higher, more preferably 30 ° C. or higher, preferably 80 ° C. or lower, and more preferably 75 ° C. or lower.

エッチング量は、0.1g/m2以上であるのが好ましく、1g/m2以上であるのがより好ましく、また、20g/m2以下であるのが好ましく、10g/m2以下であるのがより好ましい。
また、処理時間は、エッチング量に対応して2秒〜5分であるのが好ましく、生産性向上の点から2〜10秒であるのがより好ましい。
The etching amount is preferably 0.1 g / m 2 or more, more preferably 1 g / m 2 or more, more preferably 20 g / m 2 or less, and 10 g / m 2 or less. Is more preferable.
The treatment time is preferably 2 seconds to 5 minutes corresponding to the etching amount, and more preferably 2 to 10 seconds from the viewpoint of improving productivity.

本発明においては、機械的粗面化処理後にアルカリエッチング処理を施した場合、アルカリエッチング処理により生じる生成物を除去するために、低温の酸性溶液を用いて化学エッチング処理(以下、「デスマット処理」ともいう。)を施すのが好ましい。
酸性溶液に用いられる酸は、特に限定されないが、例えば、硫酸、硝酸、塩酸が挙げられる。酸性溶液の濃度は、1〜50質量%であるのが好ましい。また、酸性溶液の温度は、20〜80℃であるのが好ましい。酸性溶液の濃度および温度がこの範囲であると、得られる本発明の平版印刷版用支持体を用いた平版印刷版の耐ポツ状汚れ性がより向上する。
In the present invention, when an alkali etching treatment is performed after the mechanical surface roughening treatment, a chemical etching treatment (hereinafter referred to as “desmut treatment”) is performed using a low-temperature acidic solution in order to remove products generated by the alkali etching treatment. It is also preferable to apply.
Although the acid used for an acidic solution is not specifically limited, For example, a sulfuric acid, nitric acid, and hydrochloric acid are mentioned. The concentration of the acidic solution is preferably 1 to 50% by mass. Moreover, it is preferable that the temperature of an acidic solution is 20-80 degreeC. When the concentration and temperature of the acidic solution are within this range, the spot-like stain resistance of the lithographic printing plate using the obtained lithographic printing plate support of the present invention is further improved.

本発明においては、上記粗面化処理は、所望により機械的粗面化処理および化学エッチング処理を施した後に、電気化学的粗面化処理を施す処理であるが、機械的粗面化処理を行わずに電気化学的粗面化処理を施す場合にも、電気化学的粗面化処理の前に、カセイソーダ等のアルカリ水溶液を用いて化学エッチング処理を施すことができる。これにより、アルミニウム合金板の表面近傍に存在する不純物等を除去することができる。   In the present invention, the roughening process is a process of applying an electrochemical roughening process after performing a mechanical roughening process and a chemical etching process as desired. Even when the electrochemical surface roughening treatment is performed without performing the chemical surface roughening treatment, the chemical etching treatment can be performed using an alkaline aqueous solution such as caustic soda before the electrochemical surface roughening treatment. Thereby, impurities etc. existing in the vicinity of the surface of the aluminum alloy plate can be removed.

電気化学的粗面化処理は、アルミニウム合金板の表面に微細な凹凸(ピット)を付与することが容易であるため、印刷性の優れた平版印刷版を作るのに適している。
電気化学的粗面化処理は、硝酸または塩酸を主体とする水溶液中で、直流または交流を用いて行われる。
The electrochemical roughening treatment is suitable for making a lithographic printing plate having excellent printability because it is easy to impart fine irregularities (pits) to the surface of the aluminum alloy plate.
The electrochemical surface roughening treatment is performed using direct current or alternating current in an aqueous solution mainly composed of nitric acid or hydrochloric acid.

電気化学的粗面化処理により、アルミニウム合金板の表面に、平均直径約0.5〜20μmのクレーター状またはハニカム状のピットを30〜100%の面積率で生成することができる。適当な性状のピットは、平版印刷版の耐苛酷汚れと耐刷性を向上させる作用がある。本発明の平版印刷版用支持体においては、この電気化学的粗面化処理の諸条件は、特に限定されず、一般的な条件で行うことができる。   By the electrochemical surface roughening treatment, crater-like or honeycomb-like pits having an average diameter of about 0.5 to 20 μm can be generated at an area ratio of 30 to 100% on the surface of the aluminum alloy plate. The pits having an appropriate property have the effect of improving the severe stain resistance and printing durability of the lithographic printing plate. In the lithographic printing plate support of the present invention, the conditions for this electrochemical surface roughening treatment are not particularly limited and can be performed under general conditions.

また、電気化学的粗面化処理の後には、以下の化学エッチング処理を行うのが好ましい。電気化学的粗面化処理後のアルミニウム合金板の表面には、スマットや金属間化合物が存在する。電気化学的粗面化処理の後に行われる化学エッチング処理においては、特にスマットを効率よく除去するため、まず、アルカリ溶液を用いて化学エッチング処理(アルカリエッチング処理)をするのが好ましい。アルカリ溶液を用いた化学エッチング処理の諸条件は、処理温度は20〜80℃であるのが好ましく、また、処理時間は1〜60秒であるのが好ましい。また、アルカリ溶液中にアルミニウムイオンを含有するのが好ましい。   Moreover, it is preferable to perform the following chemical etching process after an electrochemical roughening process. Smut and intermetallic compounds exist on the surface of the aluminum alloy plate after the electrochemical surface roughening treatment. In the chemical etching process performed after the electrochemical surface roughening process, it is preferable to first perform a chemical etching process (alkali etching process) using an alkaline solution in order to efficiently remove smut. Regarding various conditions of the chemical etching treatment using an alkaline solution, the treatment temperature is preferably 20 to 80 ° C., and the treatment time is preferably 1 to 60 seconds. Moreover, it is preferable to contain aluminum ion in an alkaline solution.

更に、電気化学的粗面化処理後にアルカリ溶液を用いる化学エッチング処理を行った後、それにより生じる生成物を除去するために、低温の酸性溶液を用いて化学エッチング処理(デスマット処理)を行うのが好ましい。
デスマット処理の諸条件は、処理温度は20〜80℃であるのが好ましく、また、処理時間は1〜60秒であるのが好ましい。酸性溶液としては、硝酸、塩酸、硫酸等を主体とする液が用いられる。
Furthermore, after the electrochemical surface roughening treatment, a chemical etching treatment using an alkaline solution is performed, and then a chemical etching treatment (desmut treatment) is performed using a low-temperature acidic solution in order to remove the resulting products. Is preferred.
Regarding various conditions of the desmut treatment, the treatment temperature is preferably 20 to 80 ° C., and the treatment time is preferably 1 to 60 seconds. As the acidic solution, a liquid mainly composed of nitric acid, hydrochloric acid, sulfuric acid or the like is used.

また、電気化学的粗面化処理後にアルカリエッチング処理を行わない場合においても、スマットを効率よく除去するため、デスマット処理を行うのが好ましい。
デスマット処理の諸条件は、処理温度は20〜80℃であるのが好ましく、また、処理時間は1〜60秒であるのが好ましい。酸性溶液としては、硝酸、塩酸、硫酸等を主体とする液が用いられ、中でも塩酸を主体とする液が好ましい。
Even when the alkali etching treatment is not performed after the electrochemical surface roughening treatment, it is preferable to perform a desmut treatment in order to efficiently remove the smut.
Regarding various conditions of the desmut treatment, the treatment temperature is preferably 20 to 80 ° C., and the treatment time is preferably 1 to 60 seconds. As the acidic solution, a liquid mainly composed of nitric acid, hydrochloric acid, sulfuric acid or the like is used, and among them, a liquid mainly composed of hydrochloric acid is preferable.

本発明においては、上述した化学エッチング処理は、いずれも浸せき法、シャワー法、塗布法等により行うことができ、特に限定されない。   In the present invention, any of the above-described chemical etching treatments can be performed by a dipping method, a shower method, a coating method, or the like, and is not particularly limited.

<陽極酸化処理>
本発明の平版印刷版用支持体は、粗面化処理を施した後に、陽極酸化処理を施して得られるものである。
陽極酸化処理に使用される電解質は、多孔質酸化皮膜を形成することができるものであれば特に限定されず、一般には、硫酸、リン酸、シュウ酸、クロム酸、またはこれらの混合物が用いられる。
また、電解質の濃度は、電解質の種類等によって適宜決められる。
更に、陽極酸化処理の条件は、電解質によってかなり変動するので特に限定されないが、一般的には電解質の濃度が1〜80質量%、液温5〜70℃、電流密度1〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間10〜300秒であればよい。
<Anodizing treatment>
The lithographic printing plate support of the present invention is obtained by subjecting it to a roughening treatment and then an anodic oxidation treatment.
The electrolyte used for the anodizing treatment is not particularly limited as long as it can form a porous oxide film, and generally sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixture thereof is used. .
The concentration of the electrolyte is appropriately determined depending on the type of electrolyte.
Furthermore, the conditions for the anodizing treatment are not particularly limited because they vary considerably depending on the electrolyte. In general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by mass, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., the current density is 1 to 60 A / dm 2 , The voltage may be 1 to 100 V and the electrolysis time may be 10 to 300 seconds.

<親水化処理>
本発明の平版印刷版用支持体は、陽極酸化処理を施した後に、親水化処理を施して得られるものであるのが好ましい。
親水化処理としては、例えば、米国特許第2,946,638号明細書に記載されているフッ化ジルコニウム酸カリウム処理、米国特許第3,201,247号明細書に記載されているホスホモリブデート処理、英国特許第1,108,559号に記載されているアルキルチタネート処理、独国特許第1,091,433号明細書に記載されているポリアクリル酸処理、独国特許第1,134,093号明細書および英国特許第1,230,447号明細書に記載されているポリビニルホスホン酸処理、特公昭44−6409号公報に記載されているホスホン酸処理、米国特許第3,307,951号明細書に記載されているフィチン酸処理、特開昭58−16893号公報および特開昭58−18291号公報に記載されている親油性有機高分子化合物と2価の金属との塩による処理、米国特許第3,860,426号明細書に記載されているように、水溶性金属塩(例えば、酢酸亜鉛)を含む親水性セルロース(例えば、カルボキシメチルセルロース)の下塗層を設ける処理、特開昭59−101651号公報に記載されているスルホ基を有する水溶性重合体を下塗りする処理が挙げられる。
<Hydrophilic treatment>
The lithographic printing plate support of the present invention is preferably obtained by subjecting it to a hydrophilization treatment after anodizing treatment.
Examples of the hydrophilization treatment include treatment with potassium fluorinated zirconate described in US Pat. No. 2,946,638 and phosphomolybdate described in US Pat. No. 3,201,247. Treatment, alkyl titanate treatment described in British Patent 1,108,559, polyacrylic acid treatment described in German Patent 1,091,433, German Patent 1,134, No. 093 and British Patent No. 1,230,447, polyvinylphosphonic acid treatment, Japanese Patent Publication No. 44-6409, phosphonic acid treatment, US Pat. No. 3,307,951 Phytic acid treatment described in the specification of JP, No. 58-16893 and JP-A No. 58-18291 Treatment with a salt of a molecular compound and a divalent metal, as described in US Pat. No. 3,860,426, hydrophilic cellulose (eg, zinc acetate) containing a water-soluble metal salt (eg, zinc acetate) Carboxymethyl cellulose) is provided with a subbing layer, and a water-soluble polymer having a sulfo group described in JP-A-59-101651.

また、特開昭62−019494号公報に記載されているリン酸塩、特開昭62−033692号公報に記載されている水溶性エポキシ化合物、特開昭62−097892号公報に記載されているリン酸変性デンプン、特開昭63−056498号公報に記載されているジアミン化合物、特開昭63−130391号公報に記載されているアミノ酸の無機または有機酸、特開昭63−145092号公報に記載されているカルボキシ基またはヒドロキシ基を含む有機ホスホン酸、特開昭63−165183号公報に記載されているアミノ基とホスホン酸基を有する化合物、特開平2−316290号公報に記載されている特定のカルボン酸誘導体、特開平3−215095号公報に記載されているリン酸エステル、特開平3−261592号公報に記載されている1個のアミノ基とリンの酸素酸基1個を持つ化合物、特開平3−215095号公報に記載されているリン酸エステル、特開平5−246171号公報に記載されているフェニルホスホン酸等の脂肪族または芳香族ホスホン酸、特開平1−307745号公報に記載されているチオサリチル酸のようなS原子を含む化合物、特開平4−282637号公報に記載されているリンの酸素酸のグループを持つ化合物等を用いた下塗りによる処理も挙げられる。
更に、特開昭60−64352号公報に記載されている酸性染料による着色を行うこともできる。
Further, phosphates described in JP-A No. 62-019494, water-soluble epoxy compounds described in JP-A No. 62-033692, and JP-A No. 62-097892 Phosphate-modified starch, diamine compounds described in JP-A-63-056498, amino acid inorganic or organic acids described in JP-A-63-130391, JP-A-63-145092 Organic phosphonic acids containing carboxy group or hydroxy group, compounds having amino group and phosphonic acid group described in JP-A-63-165183, and JP-A-2-316290 Specific carboxylic acid derivatives, phosphate esters described in JP-A-3-215095, JP-A-3-261592 Compounds having one amino group and one oxygen acid group of phosphorus described in the publication, phosphoric esters described in JP-A-3-215095, and JP-A-5-246171 Aliphatic or aromatic phosphonic acids such as phenylphosphonic acid, compounds containing S atoms such as thiosalicylic acid described in JP-A-1-307745, and phosphorus described in JP-A-4-282737 Examples of the treatment include undercoating using a compound having a group of oxygen acids.
Further, coloring with an acid dye described in JP-A-60-64352 can also be performed.

また、ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液に浸せきさせる方法、親水性ビニルポリマーまたは親水性化合物を塗布して親水性の下塗層を形成させる方法等により、親水化処理を行うのが好ましい。   Hydrophilicity can also be achieved by soaking in an aqueous solution of an alkali metal silicate such as sodium silicate or potassium silicate, or by applying a hydrophilic vinyl polymer or hydrophilic compound to form a hydrophilic primer layer. It is preferable to carry out the treatment.

ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液による親水化処理は、米国特許第2,714,066号明細書および米国特許第3,181,461号明細書に記
載されている方法および手順に従って行うことができる。
アルカリ金属ケイ酸塩としては、例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムが挙げられる。アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等を適当量含有してもよい。
また、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液は、アルカリ土類金属塩または4族(第IVA族)金属塩を含有してもよい。アルカリ土類金属塩としては、例えば、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウム等の硝酸塩;硫酸塩;塩酸塩;リン酸塩;酢酸塩;シュウ酸塩;ホウ酸塩が挙げられる。4族(第IVA族)金属塩としては、例えば、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムが挙げられる。これらのアルカリ土類金属塩および4族(第IVA族)金属塩は、単独でまたは2種以上組み合わせて用いられる。
Hydrophilization treatment with an aqueous solution of an alkali metal silicate such as sodium silicate and potassium silicate is described in US Pat. No. 2,714,066 and US Pat. No. 3,181,461. It can be performed according to methods and procedures.
Examples of the alkali metal silicate include sodium silicate, potassium silicate, and lithium silicate. The aqueous solution of alkali metal silicate may contain an appropriate amount of sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide or the like.
The aqueous solution of alkali metal silicate may contain an alkaline earth metal salt or a Group 4 (Group IVA) metal salt. Examples of the alkaline earth metal salt include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate, and barium nitrate; sulfates; hydrochlorides; phosphates; acetates; oxalates; Examples of Group 4 (Group IVA) metal salts include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium titanium fluoride, titanium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, zirconium dioxide, zirconium oxychloride. And zirconium tetrachloride. These alkaline earth metal salts and Group 4 (Group IVA) metal salts are used alone or in combination of two or more.

アルカリ金属ケイ酸塩処理によって吸着するSi量は蛍光X線分析装置により測定することができ、その吸着量は1.0〜30mg/m2であるのが好ましい。
このアルカリ金属ケイ酸塩処理により、平版印刷版用支持体の表面のアルカリ現像液に対する耐溶解性向上の効果が得られ、アルミニウム成分の現像液中への溶出が抑制されて、現像液の疲労に起因する現像カスの発生を低減することができる。
The amount of Si adsorbed by the alkali metal silicate treatment can be measured with a fluorescent X-ray analyzer, and the amount adsorbed is preferably 1.0 to 30 mg / m 2 .
By this alkali metal silicate treatment, the effect of improving the dissolution resistance to the alkaline developer on the surface of the lithographic printing plate support is obtained, the dissolution of the aluminum component into the developer is suppressed, and the developer fatigue It is possible to reduce the occurrence of development residue due to the above.

また、親水性の下塗層の形成による親水化処理は、特開昭59−101651号公報および特開昭60−149491号公報に記載されている条件および手順に従って行うこともできる。
この方法に用いられる親水性ビニルポリマーとしては、例えば、ポリビニルスルホン酸、スルホ基を有するp−スチレンスルホン酸等のスルホ基含有ビニル重合性化合物と(メタ)アクリル酸アルキルエステル等の通常のビニル重合性化合物との共重合体が挙げられる。また、この方法に用いられる親水性化合物としては、例えば、−NH2基、−COOH基およびスルホ基からなる群から選ばれる少なくとも一つを有する化合物が挙げられる。
The hydrophilization treatment by forming a hydrophilic undercoat layer can also be performed according to the conditions and procedures described in JP-A Nos. 59-101651 and 60-149491.
Examples of the hydrophilic vinyl polymer used in this method include polyvinyl sulfonic acid, sulfo group-containing vinyl polymerizable compounds such as p-styrene sulfonic acid having a sulfo group, and ordinary vinyl polymerization such as (meth) acrylic acid alkyl ester. And a copolymer with a functional compound. Examples of hydrophilic compounds that may be used in this method include, -NH 2 group, compounds having at least one selected from the group consisting of -COOH group and sulfo group.

一方、本発明においては、上述したアルミニウム合金板に対して、以下のA〜C態様に示す各処理を以下に示す順に施して得られる平版印刷版用支持体であるのが好ましい。なお、以下の各処理の間に水洗を行うことが望ましい。ただし、連続して行う2つの工程(処理)が同じ組成の液を使用する場合は水洗を省いてもよい。   On the other hand, in this invention, it is preferable that it is the support for lithographic printing plates obtained by giving each process shown to the following AC aspects to the aluminum alloy plate mentioned above in the order shown below. In addition, it is desirable to perform water washing between the following processes. However, when two steps (processes) to be performed in succession use a liquid having the same composition, washing with water may be omitted.

(A態様)
(1)機械的粗面化処理
(2)アルカリ水溶液中で化学エッチング処理(第1アルカリエッチング処理)
(3)酸性水溶液中で化学エッチング処理(第1デスマット処理)
(4)硝酸を主体とする水溶液中で電気化学的粗面化処理(第1電気化学的粗面化処理)
(5)アルカリ水溶液中で化学エッチング処理(第2アルカリエッチング処理)
(6)酸性水溶液中で化学エッチング処理(第2デスマット処理)
(7)塩酸を主体とする水溶液中で電気化学的粗面化処理(第2電気化学的粗面化処理)
(8)アルカリ水溶液中で化学エッチング処理(第3アルカリエッチング処理)
(9)酸性水溶液中で化学エッチング処理(第3デスマット処理)
(10)陽極酸化処理
(11)親水化処理
(A mode)
(1) Mechanical roughening treatment (2) Chemical etching treatment in alkaline aqueous solution (first alkali etching treatment)
(3) Chemical etching treatment in acidic aqueous solution (first desmutting treatment)
(4) Electrochemical roughening treatment in an aqueous solution mainly composed of nitric acid (first electrochemical roughening treatment)
(5) Chemical etching treatment in an aqueous alkali solution (second alkali etching treatment)
(6) Chemical etching treatment in acidic aqueous solution (second desmut treatment)
(7) Electrochemical roughening treatment in an aqueous solution mainly composed of hydrochloric acid (second electrochemical roughening treatment)
(8) Chemical etching treatment in an alkaline aqueous solution (third alkali etching treatment)
(9) Chemical etching treatment in acidic aqueous solution (third desmut treatment)
(10) Anodizing treatment (11) Hydrophilization treatment

(B態様)
(2)アルカリ水溶液中で化学エッチング処理(第1アルカリエッチング処理)
(3)酸性水溶液中で化学エッチング処理(第1デスマット処理)
(12)塩酸を主体とする水溶液中で電気化学的粗面化処理
(5)アルカリ水溶液中で化学エッチング処理(第2アルカリエッチング処理)
(6)酸性水溶液中で化学エッチング処理(第2デスマット処理)
(10)陽極酸化処理
(11)親水化処理
(B mode)
(2) Chemical etching treatment in alkaline aqueous solution (first alkali etching treatment)
(3) Chemical etching treatment in acidic aqueous solution (first desmutting treatment)
(12) Electrochemical roughening treatment in an aqueous solution mainly composed of hydrochloric acid (5) Chemical etching treatment in an aqueous alkali solution (second alkali etching treatment)
(6) Chemical etching treatment in acidic aqueous solution (second desmut treatment)
(10) Anodizing treatment (11) Hydrophilization treatment

(C態様)
(2)アルカリ水溶液中で化学エッチング処理(第1アルカリエッチング処理)
(3)酸性水溶液中で化学エッチング処理(第1デスマット処理)
(4)硝酸を主体とする水溶液中で電気化学的粗面化処理(第1電気化学的粗面化処理)
(5)アルカリ水溶液中で化学エッチング処理(第2アルカリエッチング処理)
(6)酸性水溶液中で化学エッチング処理(第2デスマット処理)
(7)塩酸を主体とする水溶液中で電気化学的粗面化処理(第2電気化学的粗面化処理)
(8)アルカリ水溶液中で化学エッチング処理(第3アルカリエッチング処理)
(9)酸性水溶液中で化学エッチング処理(第3デスマット処理)
(10)陽極酸化処理
(11)親水化処理
(C mode)
(2) Chemical etching treatment in alkaline aqueous solution (first alkali etching treatment)
(3) Chemical etching treatment in acidic aqueous solution (first desmutting treatment)
(4) Electrochemical roughening treatment in an aqueous solution mainly composed of nitric acid (first electrochemical roughening treatment)
(5) Chemical etching treatment in an aqueous alkali solution (second alkali etching treatment)
(6) Chemical etching treatment in acidic aqueous solution (second desmut treatment)
(7) Electrochemical roughening treatment in an aqueous solution mainly composed of hydrochloric acid (second electrochemical roughening treatment)
(8) Chemical etching treatment in an alkaline aqueous solution (third alkali etching treatment)
(9) Chemical etching treatment in acidic aqueous solution (third desmut treatment)
(10) Anodizing treatment (11) Hydrophilization treatment

ここで、上記(1)〜(12)における機械的粗面化処理、電気化学的粗面化処理、化学エッチング処理、陽極酸化処理および親水化処理は、上述した処理方法、条件と同様の方法で行うことができるが、以下に説明する処理方法、条件で施すのが好ましい。
また、本発明の平版印刷版用支持体に特有のピット形状を形成させるには、以下に説明する硝酸水溶液中で電気化学的粗面化処理を行った後、塩酸水溶液中で電気化学的粗面化処理を行う必要がある。
Here, the mechanical surface roughening treatment, electrochemical surface roughening treatment, chemical etching treatment, anodizing treatment and hydrophilization treatment in the above (1) to (12) are the same as the above-described treatment methods and conditions. However, the treatment is preferably performed under the treatment method and conditions described below.
In order to form a pit shape peculiar to the lithographic printing plate support of the present invention, an electrochemical roughening treatment is performed in an aqueous nitric acid solution described below, and then an electrochemical roughening in an aqueous hydrochloric acid solution. It is necessary to perform surface treatment.

機械的粗面化処理は、毛径が0.2〜1.61mmの回転するナイロンブラシロールと、アルミニウム板表面に供給されるスラリー液で機械的に粗面化処理するのが好ましい。
研磨剤としては公知の物が使用できるが、珪砂、石英、水酸化アルミニウムまたはこれらの混合物が好ましい。特開平6−135175、特公昭50−40047に詳しく記載されている。
スラリー液の比重は1.05〜1.3が好ましい。勿論、スラリー液を吹き付ける方式、ワイヤーブラシを用いる方式、凹凸を付けた圧延ロールの表面形状をアルミニウム板に転写する方式などを用いてもよい。その他の方式としては、特開昭55−074898、特開昭61ー162351、特開昭63−104889等に記載されている。
The mechanical roughening treatment is preferably mechanically roughened with a rotating nylon brush roll having a bristle diameter of 0.2 to 1.61 mm and a slurry liquid supplied to the aluminum plate surface.
Although a well-known thing can be used as an abrasive | polishing agent, quartz sand, quartz, aluminum hydroxide, or a mixture thereof is preferable. Details are described in JP-A-6-135175 and JP-B-50-40047.
The specific gravity of the slurry liquid is preferably 1.05 to 1.3. Of course, a method of spraying a slurry liquid, a method of using a wire brush, a method of transferring the surface shape of an uneven rolling roll to an aluminum plate, or the like may be used. Other methods are described in JP-A-55-074898, JP-A-61-162351, JP-A-63-104889, and the like.

アルカリ水溶液中での化学エッチング処理に用いるアルカリ水溶液の濃度は1〜30質量%が好ましく、アルミニウムはもちろんアルミニウム合金中に含有する合金成分が0〜10質量%含有していてよい。
アルカリ水溶液としては、特に苛性ソーダを主体とする水溶液が好ましい。液温は常温〜95℃で、1〜120秒間処理するのが好ましい。
エッチング処理が終了した後には、処理液を次工程に持ち込まないためにニップローラーによる液切りとスプレーによる水洗を行うのが好ましい。
The concentration of the alkaline aqueous solution used for the chemical etching treatment in the alkaline aqueous solution is preferably 1 to 30% by mass, and the alloy component contained in the aluminum alloy as well as aluminum may contain 0 to 10% by mass.
As the alkaline aqueous solution, an aqueous solution mainly composed of caustic soda is particularly preferable. The liquid temperature is preferably from room temperature to 95 ° C., and the treatment is preferably performed for 1 to 120 seconds.
After the etching process is completed, it is preferable to perform liquid draining with a nip roller and water washing with a spray so as not to bring the processing liquid into the next process.

第1アルカリエッチング処理におけるアルミニウム板の溶解量は、0.5〜30g/m2であるのが好ましく、1.0〜20g/m2であるのがより好ましく、3.0〜15g/m2であるのが更に好ましい。
第2アルカリエッチング処理においては、アルミニウム板の溶解量は0.001〜30g/m2であるのが好ましく、0.1〜4g/m2であるのがより好ましく、0.2〜1.5g/m2であるのが更に好ましい。
第3アルカリエッチング処理においては、アルミニウム板の溶解量は0.001〜30g/m2であるのが好ましく、0.01〜0.8g/m2であるのがより好ましく、0.02〜0.3g/m2であるのが更に好ましい。
Dissolution amount of the aluminum plate in the first alkali etching treatment is preferably from 0.5 to 30 g / m 2, more preferably from 1.0~20g / m 2, 3.0~15g / m 2 More preferably.
In the second alkali etching treatment, dissolved amount of the aluminum plate is preferably a 0.001~30g / m 2, more preferably from 0.1-4 g / m 2, 0.2 to 1.5 g More preferably, it is / m 2 .
In the third alkali etching treatment, dissolved amount of the aluminum plate is preferably a 0.001~30g / m 2, more preferably from 0.01~0.8g / m 2, 0.02~0 More preferably, it is 3 g / m 2 .

酸性水溶液中で化学エッチング処理(第1〜第3デスマット処理)では、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸、塩酸、またはこれらの2以上の酸を含む混酸が好適に用いられる。
酸性水溶液の濃度は0.5〜60質量%が好ましい。
また、酸性水溶液中にはアルミニウムはもちろんアルミニウム合金中に含有する合金成分が0〜5質量%が溶解していてもよい。
また、液温は常温から95℃で実施され、処理時間は1〜120秒が好ましい。デスマット処理が終了した後には、処理液を次工程に持ち込まないためにニップローラーによる液切りとスプレーによる水洗を行うのが好ましい。
In chemical etching treatment (first to third desmutting treatment) in an acidic aqueous solution, phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, hydrochloric acid, or a mixed acid containing two or more acids thereof is preferably used.
The concentration of the acidic aqueous solution is preferably 0.5 to 60% by mass.
Further, in the acidic aqueous solution, 0 to 5% by mass of the alloy component contained in the aluminum alloy as well as aluminum may be dissolved.
The liquid temperature is from room temperature to 95 ° C., and the treatment time is preferably 1 to 120 seconds. After the desmut treatment is completed, it is preferable to carry out liquid removal by a nip roller and water washing by spraying in order not to bring the treatment liquid into the next process.

電気化学的粗面化処理に用いられる水溶液について説明する。
第1電気化学的粗面化処理で用いる硝酸を主体とする水溶液は、通常の直流または交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いるものを使用でき、1〜100g/リットルの硝酸水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウムなどの硝酸イオン;塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、塩化アンモニウムなどの塩酸イオン;等を有する塩酸または硝酸化合物の1つ以上を1g/リットル〜飽和まで添加して使用することができる。
また、硝酸を主体とする水溶液中には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、シリカ等のアルミニウム合金中に含まれる金属が溶解していてもよい。
具体的には、硝酸0.5〜2質量%水溶液中にアルミニウムイオンが3〜50g/リットルとなるように塩化アルミニウム、硝酸アルミニウムを添加した液を用いるのが好ましい。
また、温度は10〜90℃が好ましく、40〜80℃がより好ましい。
The aqueous solution used for the electrochemical surface roughening treatment will be described.
The aqueous solution mainly composed of nitric acid used in the first electrochemical surface roughening treatment can be one used for an electrochemical surface roughening treatment using a normal direct current or alternating current, and an aqueous nitric acid solution of 1 to 100 g / liter. 1 to 1 g / liter to saturation of nitric acid ions such as aluminum nitrate, sodium nitrate and ammonium nitrate; hydrochloric acid ions such as aluminum chloride, sodium chloride and ammonium chloride; be able to.
Moreover, the metal contained in aluminum alloys, such as iron, copper, manganese, nickel, titanium, magnesium, and a silica, may melt | dissolve in the aqueous solution which has nitric acid as a main component.
Specifically, it is preferable to use a solution in which aluminum chloride and aluminum nitrate are added so that aluminum ions are 3 to 50 g / liter in a 0.5 to 2 mass% nitric acid aqueous solution.
The temperature is preferably 10 to 90 ° C, more preferably 40 to 80 ° C.

一方、第2電気化学的粗面化処理で用いる塩酸を主体とする水溶液は、通常の直流または交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いるものを使用でき、1〜100g/リットルの塩酸水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウムなどの硝酸イオン;塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、塩化アンモニウムなどの塩酸イオン;等を有する塩酸または硝酸化合物の1つ以上を1g/リットル〜飽和まで添加して使用することができる。
また、塩酸を主体とする水溶液中には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、シリカ等のアルミニウム合金中に含まれる金属が溶解していてもよい。
具体的には、硝酸0.5〜2質量%水溶液中にアルミニウムイオンが3〜50g/リットルとなるように塩化アルミニウム、硝酸アルミニウムを添加した液を用いるのが好ましい。
また、温度は10〜60℃が好ましく、20〜50℃がより好ましい。次亜塩素酸を添加してもよい。
On the other hand, the aqueous solution mainly composed of hydrochloric acid used in the second electrochemical surface roughening treatment can be one used for an electrochemical surface roughening treatment using a normal direct current or alternating current, and is 1 to 100 g / liter. Add one or more of hydrochloric acid or nitric acid compound containing nitric acid ions such as aluminum nitrate, sodium nitrate, ammonium nitrate; hydrochloric acid ions such as aluminum chloride, sodium chloride, ammonium chloride; Can be used.
Moreover, the metal contained in aluminum alloys, such as iron, copper, manganese, nickel, titanium, magnesium, and a silica, may melt | dissolve in the aqueous solution which has hydrochloric acid as a main component.
Specifically, it is preferable to use a solution in which aluminum chloride and aluminum nitrate are added so that aluminum ions are 3 to 50 g / liter in a 0.5 to 2 mass% nitric acid aqueous solution.
Moreover, 10-60 degreeC is preferable and 20-50 degreeC is more preferable. Hypochlorous acid may be added.

一方、塩酸水溶液中での電気化学的粗面化処理で用いる塩酸を主体とする水溶液は、通常の直流または交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いるものを使用でき、1〜100g/リットルの塩酸水溶液に、硫酸を0〜30g/リットル添加して使用することができる。また、この溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウムなどの硝酸イオン;塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、塩化アンモニウムなどの塩酸イオン;等を有する塩酸または硝酸化合物の1つ以上を1g/リットル〜飽和まで添加して使用することができる。
また、塩酸を主体とする水溶液中には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、シリカ等のアルミニウム合金中に含まれる金属が溶解していてもよい。
具体的には、硝酸0.5〜2質量%水溶液中に、アルミニウムイオンが3〜50g/リットルとなるように塩化アルミニウム、硝酸アルミニウム等を添加した液を用いるのが好ましい。
また、温度は10〜60℃が好ましく、20〜50℃がより好ましい。次亜塩素酸を添加してもよい。
On the other hand, the aqueous solution mainly composed of hydrochloric acid used in the electrochemical surface roughening treatment in an aqueous hydrochloric acid solution can be one used for the electrochemical surface roughening treatment using ordinary direct current or alternating current, and 1 to 100 g. 0 to 30 g / liter of sulfuric acid can be added to a / liter hydrochloric acid aqueous solution. In addition, one or more of hydrochloric acid or nitric acid compound having nitrate ions such as aluminum nitrate, sodium nitrate, ammonium nitrate; hydrochloric acid ions such as aluminum chloride, sodium chloride, ammonium chloride; Can be used.
Moreover, the metal contained in aluminum alloys, such as iron, copper, manganese, nickel, titanium, magnesium, and a silica, may melt | dissolve in the aqueous solution which has hydrochloric acid as a main component.
Specifically, it is preferable to use a solution obtained by adding aluminum chloride, aluminum nitrate, or the like in an aqueous solution of 0.5 to 2% by mass of nitric acid so that aluminum ions are 3 to 50 g / liter.
Moreover, 10-60 degreeC is preferable and 20-50 degreeC is more preferable. Hypochlorous acid may be added.

電気化学的粗面化処理の交流電源波形は、サイン波、矩形波、台形波、三角波などを用いることができる。周波数は0.1〜250Hzが好ましい。   A sine wave, a rectangular wave, a trapezoidal wave, a triangular wave, or the like can be used as the AC power supply waveform for the electrochemical roughening treatment. The frequency is preferably 0.1 to 250 Hz.

図1は、本発明の平版印刷版用支持体の製造方法における電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。
図1において、taはアノード反応時間、tcはカソード反応時間、tpは電流が0からピークに達するまでの時間、Iaはアノードサイクル側のピーク時の電流、Icはカソードサイクル側のピーク時の電流である。台形波において、電流が0からピークに達するまでの時間tpは1〜10msecが好ましい。電源回路のインピーダンスの影響のため、tpが1未満であると電流波形の立ち上がり時に大きな電源電圧が必要となり、電源の設備コストが高くなる。10msecより大きくなると、電解液中の微量成分の影響を受けやすくなり均一な粗面化が行われにくくなる。電気化学的な粗面化に用いる交流の1サイクルの条件が、アルミニウム板のアノード反応時間taとカソード反応時間tcの比tc/taが1〜20、アルミニウム板がアノード時の電気量Qcとアノード時の電気量Qaの比Qc/Qaが0.3〜20、アノード反応時間taが5〜1000msec、の範囲にあるのが好ましい。tc/taは2.5〜15であるのがより好ましい。Qc/Qaは2.5〜15であるのがより好ましい。電流密度は台形波のピーク値で電流のアノードサイクル側Ia、カソードサイクル側Icともに10〜200A/dm2が好ましい。Ic/Iaは0.3〜20の範囲にあるのが好ましい。電気化学的な粗面化が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和は25〜1000C/dm2が好ましい。
FIG. 1 is a graph showing an example of an alternating waveform current waveform diagram used for electrochemical roughening treatment in the method for producing a lithographic printing plate support of the present invention.
In FIG. 1, ta is the anode reaction time, tc is the cathode reaction time, tp is the time until the current reaches the peak from 0, Ia is the peak current on the anode cycle side, and Ic is the peak current on the cathode cycle side It is. In the trapezoidal wave, the time tp until the current reaches a peak from 0 is preferably 1 to 10 msec. Due to the influence of the impedance of the power supply circuit, if tp is less than 1, a large power supply voltage is required at the rise of the current waveform, and the equipment cost of the power supply increases. When it is longer than 10 msec, it is easily affected by a trace component in the electrolytic solution, and uniform surface roughening is difficult to be performed. The condition of one cycle of alternating current used for electrochemical surface roughening is that the ratio tc / ta of the anode reaction time ta to the cathode reaction time tc of the aluminum plate is 1 to 20, the quantity of electricity Qc when the aluminum plate is anode and the anode It is preferable that the ratio Qc / Qa of the amount of electricity Qa is 0.3 to 20 and the anode reaction time ta is 5 to 1000 msec. tc / ta is more preferably 2.5 to 15. Qc / Qa is more preferably 2.5 to 15. The current density is preferably a trapezoidal wave peak value of 10 to 200 A / dm 2 for both the anode cycle side Ia and the cathode cycle side Ic of the current. Ic / Ia is preferably in the range of 0.3-20. The total amount of electricity furnished to anode reaction of the aluminum plate at the time the electrochemical graining is finished preferably 25~1000C / dm 2.

本発明においては、交流を用いた電気化学的な粗面化に用いる電解槽は、縦型、フラット型、ラジアル型など公知の表面処理に用いる電解槽が使用可能であるが、特開平5−195300に記載されているようなラジアル型電解槽が特に好ましい。電解槽内を通過する電解液はアルミニウムウェブの進行とパラレルでもカウンターでもよい。ひとつの電解槽には1個以上の交流電源が接続することができる。電解槽は2個以上を用いることもできる。   In the present invention, as an electrolytic cell used for electrochemical surface roughening using alternating current, known electrolytic cells such as vertical, flat and radial types can be used. A radial electrolytic cell as described in 195300 is particularly preferred. The electrolyte passing through the electrolytic cell may be parallel to the progress of the aluminum web or may be a counter. One or more AC power sources can be connected to one electrolytic cell. Two or more electrolytic cells can be used.

交流を用いた電気化学的な粗面化には図2に示した装置を用いることができる。
図2は、本発明の平版印刷版用支持体の製造方法における交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。
図2において、50は主電解槽、51は交流電源、52はラジアルドラムローラ、53a,53bは主極、54は電解液供給口、55は電解液、56は補助陽極、60は補助陽極槽、Wはアルミニウム板である。電解槽を2つ以上用いるときには電解条件は同じでもよいし異なっていてもよい。
アルミニウム板Wは主電解槽50中に浸漬して配置されたラジアルドラムローラ52に巻装され、搬送過程で交流電源51に接続する主極53a、53bにより電解処理される。電解液55は電解液供給口54からスリット56を通じてラジアルドラムローラ52と主極53a、53bとの間の電解液通路57に供給される。主電解槽50で処理されたアルミニウム板Wは次いで補助陽極槽60で電解処理される。この補助陽極槽60には補助陽極58がアルミニウム板Wと対向配置されており、電解液55が補助陽極58とアルミニウム板Wとの間の空間を流れるように供給される。
The apparatus shown in FIG. 2 can be used for electrochemical surface roughening using alternating current.
FIG. 2 is a side view showing an example of a radial cell in an electrochemical surface roughening treatment using alternating current in the method for producing a lithographic printing plate support of the present invention.
In FIG. 2, 50 is a main electrolytic cell, 51 is an AC power source, 52 is a radial drum roller, 53a and 53b are main electrodes, 54 is an electrolyte supply port, 55 is an electrolyte, 56 is an auxiliary anode, and 60 is an auxiliary anode cell. , W is an aluminum plate. When two or more electrolytic cells are used, the electrolysis conditions may be the same or different.
The aluminum plate W is wound around a radial drum roller 52 disposed so as to be immersed in the main electrolytic cell 50, and is subjected to electrolytic treatment by main electrodes 53a and 53b connected to the AC power source 51 in the course of conveyance. The electrolytic solution 55 is supplied from the electrolytic solution supply port 54 to the electrolytic solution passage 57 between the radial drum roller 52 and the main poles 53a and 53b through the slit 56. The aluminum plate W treated in the main electrolytic cell 50 is then subjected to electrolytic treatment in the auxiliary anode cell 60. An auxiliary anode 58 is disposed opposite to the aluminum plate W in the auxiliary anode tank 60, and the electrolytic solution 55 is supplied so as to flow in the space between the auxiliary anode 58 and the aluminum plate W.

一方、電気化学的粗面化処理(第1および第2電気化学的粗面化処理)では、アルミニウム板とこれに対向する電極間に直流電流を加え、電気化学的に粗面化する方法であってもよい。
電解液は、公知の直流または交流を用いた電気化学的な粗面化処理に使用するものを用いることができる。温度は10〜80℃が好ましい。直流を用いた電気化学的な粗面化に用いる処理装置は公知の直流を用いたものを使用することができるが、特開平1ー141094に記載されているように一対以上の陽極と陰極を交互に並べた装置を用いるのが好ましい。公知の装置の一例としては特願平5−68204、特願平6−205657、特願平6−21050、特開昭61−19115、特公昭57−44760などに記載されている。また、アルミニウム板に接触するコンダクタロールと、これに対向する陰極との間に、直流電流を加え、アルミニウム板を陽極にして電気化学的な粗面化処理を行ってもよい。電解処理が終了した後には、処理液を次工程に持ち込まないためにニップローラーによる液切りとスプレーによる水洗を行うのが好ましい。電気化学的な粗面化に使用する直流はリップル率が20%以下の直流を用いるのが好ましい。電流密度は10〜200A/dm2が好ましく、アルミニウム板が陽極時の電気量は25〜1000C/dm2が好ましい。陽極はフェライト、酸化イリジウム、白金、白金をチタン、ニオブ、ジルコニウムなどのバルブ金属にクラッドまたはメッキしたものなど公知の酸素発生用電極から選定して用いることが出来る。陰極はカーボン、白金、チタン、ニオブ、ジルコニウム、ステンレスや燃料電池用陰極に用いる電極から選定して用いることができる。
On the other hand, in the electrochemical surface roughening process (first and second electrochemical surface roughening processes), a direct current is applied between the aluminum plate and the electrode facing the aluminum plate to electrochemically roughen the surface. There may be.
As the electrolytic solution, one used for electrochemical surface roughening treatment using a known direct current or alternating current can be used. The temperature is preferably 10 to 80 ° C. As a processing apparatus used for electrochemical surface roughening using direct current, one using a known direct current can be used. However, as described in JP-A-1-141094, a pair of anodes and cathodes are used. It is preferable to use an alternating arrangement. Examples of known devices are described in Japanese Patent Application No. 5-68204, Japanese Patent Application No. 6-205657, Japanese Patent Application No. 6-21050, Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-19115, Japanese Patent Application No. 57-44760, and the like. Further, an electrochemical surface roughening treatment may be performed by applying a direct current between the conductor roll contacting the aluminum plate and the cathode facing the conductor roll, and using the aluminum plate as the anode. After the electrolytic treatment is completed, it is preferable to perform liquid draining with a nip roller and water washing with a spray so as not to bring the treatment liquid into the next step. The direct current used for electrochemical roughening is preferably a direct current having a ripple rate of 20% or less. The current density is preferably 10 to 200 A / dm 2 , and the amount of electricity when the aluminum plate is an anode is preferably 25 to 1000 C / dm 2 . The anode can be selected from known oxygen-generating electrodes such as ferrite, iridium oxide, platinum, or platinum plated with a valve metal such as titanium, niobium or zirconium. The cathode can be selected from carbon, platinum, titanium, niobium, zirconium, stainless steel and electrodes used for fuel cell cathodes.

[平版印刷版原版]
本発明の平版印刷版用支持体は、画像記録層を設けることにより本発明の平版印刷版原版とすることができる。
[Lithographic printing plate precursor]
The lithographic printing plate support of the present invention can be used as the lithographic printing plate precursor of the present invention by providing an image recording layer.

<画像記録層>
本発明の平版印刷版原版に用いることができる画像記録層は、印刷インキおよび/または湿し水により除去可能なものであり、具体的には、赤外線吸収剤と、重合開始剤と、重合性化合物を有し、赤外線の照射により記録可能な画像記録層であるのが好ましい。
本発明の平版印刷版原版においては、赤外線の照射により画像記録層の露光部が硬化して疎水性(親油性)領域を形成し、かつ、印刷開始時に未露光部が湿し水、インキまたは湿し水とインキとの乳化物によって支持体上から速やかに除去される。
以下、画像記録層の各構成成分について説明する。
<Image recording layer>
The image recording layer that can be used in the lithographic printing plate precursor according to the invention can be removed by printing ink and / or fountain solution. Specifically, the infrared ray absorbent, the polymerization initiator, and the polymerizable property are used. The image recording layer preferably has a compound and can be recorded by infrared irradiation.
In the lithographic printing plate precursor of the present invention, the exposed portion of the image recording layer is cured by infrared irradiation to form a hydrophobic (lipophilic) region, and the unexposed portion is dampened with water, ink or ink at the start of printing. It is quickly removed from the support by an emulsion of fountain solution and ink.
Hereinafter, each component of the image recording layer will be described.

(赤外線吸収剤)
本発明の平版印刷版原版を、760〜1200nmの赤外線を発するレーザーを光源として画像形成する場合には、通常、赤外線吸収剤を用いる。
赤外線吸収剤は、吸収した赤外線を熱に変換する機能と赤外線により励起して後述する重合開始剤(ラジカル発生剤)に電子移動/エネルギー移動する機能を有する。
本発明において使用することができる赤外線吸収剤は、波長760〜1200nmに吸収極大を有する染料または顔料である。
(Infrared absorber)
When forming an image of the lithographic printing plate precursor according to the present invention using a laser emitting infrared rays of 760 to 1200 nm as a light source, an infrared absorber is usually used.
The infrared absorber has a function of converting the absorbed infrared ray into heat and a function of being excited by the infrared ray and transferring electrons / energy to a polymerization initiator (radical generator) described later.
The infrared absorbent that can be used in the present invention is a dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 760 to 1200 nm.

染料としては、市販の染料や、例えば、「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。
具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭60−78787号等の公報に記載されているシアニン染料;特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等の公報に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等の各公報に記載されているナフトキノン染料;特開昭58−112792号公報等に記載されているスクワリリウム色素;英国特許第434,875号明細書に記載されているシアニン染料;等を挙げることができる。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used.
Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, etc. Is mentioned.
Preferred dyes include, for example, cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-60-78787, and the like; JP-A-58-173696; The methine dyes described in JP-A-58-181690 and JP-A-58-194595, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, Naphthoquinone dyes described in JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, and the like; squarylium dyes described in JP-A-58-112792, etc. And cyanine dyes described in British Patent No. 434,875.

また、染料として好ましい別の例として、米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)および(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。   Moreover, as another example preferable as a dye, the near-infrared absorptive dye described as the formula (I) and (II) in US Patent 4,756,993 can be mentioned.

一方、染料として好ましい別の例として、米国特許第5,156,938号明細書に記載されている近赤外吸収増感剤も好適に用いることができ、具体的には、米国特許第3,881,924号明細書に記載されている置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩;特開昭57−142645号公報(米国特許第4,327,169号明細書)に記載されているトリメチンチアピリリウム塩;特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号の各公報に記載されているピリリウム系化合物;特開昭59−216146号公報に記載されているシアニン色素;米国特許第4,283,475号明細書に記載されているペンタメチンチオピリリウム塩;特公平5−13514号、同5−19702号の各公報に記載されているピリリウム化合物;等も好適に用いることができる。   On the other hand, as another preferred example of the dye, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 can also be suitably used. Specifically, US Pat. Substituted arylbenzo (thio) pyrylium salts described in U.S. Pat. No. 4,881,924; trimes described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169). Chinthiapyrylium salt: JP-A Nos. 58-181051, 58-220143, 59-41363, 59-84248, 59-84249, 59-146063, and 59-146061 Pyryllium compounds described in Japanese Patent Publication; cyanine dyes described in JP-A-59-216146; described in US Pat. No. 4,283,475 It is to have pentamethine thio pyrylium salt; Kokoku 5-13514 Patent, pyrylium compounds described in JP Nos. 5-19702; and the like can also be suitably used.

また、染料として好ましい別の例として、赤外線吸収色素も好適に用いることができ、その具体例としては、以下に例示するような特開2002−278057号公報に記載されている特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。   Further, as another example preferable as a dye, an infrared absorbing dye can also be suitably used. Specific examples thereof include a specific indolenine cyanine dye described in JP-A-2002-278057 as exemplified below. Is mentioned.

Figure 0005265955
Figure 0005265955

上記で例示した染料のうち、特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。さらに、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい一つの例として下記一般式(i)で示されるシアニン色素が挙げられる。   Among the dyes exemplified above, particularly preferred are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferable, and one particularly preferable example is a cyanine dye represented by the following general formula (i).

Figure 0005265955
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一般式(i)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−NPh2、X2−L1または以下に示す基を表す。
ここで、X2は酸素原子、窒素原子、または硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、窒素原子、硫黄原子、酸素原子、ハロゲン原子、セレン原子を示す。また、X -は、後述するZ -と同様に定義され、Raは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。
In formula (i), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -NPh 2, X 2 -L 1 or a group shown below.
Here, X 2 represents an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or 1 to 1 carbon atom containing a hetero atom. 12 hydrocarbon groups are shown. Here, the hetero atom means a nitrogen atom, a sulfur atom, an oxygen atom, a halogen atom, or a selenium atom. Further, X a - is, Z a to be described later - has the same definition as, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom.

Figure 0005265955
Figure 0005265955

1およびR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。記録層塗布液の保存安定性から、R1およびR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、さらに、R1とR2とは互いに結合し、5員環または6員環を形成していることが特に好ましい。 R 1 and R 2 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the recording layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

Ar1およびAr2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環およびナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられ、炭素原子数12個以下の炭化水素基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が最も好ましい。
また、Y1およびY2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子または炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。
また、R3およびR4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられ、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が最も好ましい。
また、R5、R6、R7およびR8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子または炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。
また、Za -は、対アニオンを示す。ただし、一般式(i)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZa -は必要ない。好ましいZa -は、記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲン化物イオン(例えば、Cl、Br等)、過塩素酸イオン(ClO4 )、テトラフルオロボレートイオン(BF4 )、ヘキサフルオロフォスフェートイオン(PF6 )、およびスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、およびアリールスルホン酸イオンである。
Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Preferred substituents include a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms, a halogen atom, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms, and 12 carbon atoms. Most preferred are not more than alkoxy groups.
Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms.
R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferable substituents include an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, a carboxyl group, and a sulfo group, and an alkoxy group having 12 or less carbon atoms is most preferable.
R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred.
Z a - represents a counter anion. However, when the cyanine dye represented by formula (i) has an anionic substituent in the structure thereof, Z a is does not require charge neutralization - is not necessary. Preferred Z a is halide ion (eg, Cl , Br etc.), perchlorate ion (ClO 4 ), tetrafluoroborate ion (BF 4 ), in view of storage stability of the recording layer coating solution. Hexafluorophosphate ions (PF 6 ) and sulfonate ions, particularly preferably perchlorate ions, tetrafluoroborate ions, hexafluorophosphate ions, and aryl sulfonate ions.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(i)で示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001−133969公報の段落番号[0017]から[0019]に記載されたものを挙げることができる。
また、特に好ましい他の例としてさらに、上述した特開2002−278057号公報に記載されている特定インドレニンシアニン色素が挙げられる。
Specific examples of cyanine dyes represented by formula (i) that can be suitably used in the present invention include those described in paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969. Can do.
Further, other particularly preferable examples include specific indolenine cyanine dyes described in JP-A-2002-278057 described above.

一方、顔料としては、例えば、市販の顔料およびカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。   On the other hand, as pigments, for example, commercially available pigment and color index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by the Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Applied Technology” (published by CMC, published in 1986) ), "Printing ink technology" CMC publication, published in 1984) can be used.

顔料の種類としては、例えば、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。
具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
これらの顔料のうち、好ましいものはカーボンブラックである。
Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes.
Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used.
Of these pigments, carbon black is preferred.

これらの顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。
表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。
上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)および「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。
These pigments may be used without surface treatment or may be used after surface treatment.
The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered.
The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Application of Metal Soap” (Shobobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μmの範囲にあることが好ましい。この範囲で、顔料分散物の画像記録層塗布液中での良好な安定性と画像記録層の良好な均一性が得られる。   The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm. Within this range, good stability of the pigment dispersion in the image recording layer coating solution and good uniformity of the image recording layer can be obtained.

顔料を分散する方法としては、インキ製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used for ink production, toner production or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

これらの赤外線吸収剤は、他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよいが、ネガ型平版印刷版原版を作製した際に、画像記録層の波長760nm〜1200nmの範囲における極大吸収波長での吸光度が、反射測定法で0.3〜1.2の範囲にあるように添加する。好ましくは、0.4〜1.1の範囲である。この範囲で、画像記録層の深さ方向での均一な重合反応が進行し、良好な画像部の膜強度と平版印刷版用支持体に対する密着性が得られる。
画像記録層の吸光度は、画像記録層に添加する赤外線吸収剤の量と画像記録層の厚みにより調整することができる。吸光度の測定は常法により行うことができる。測定方法としては、例えば、アルミニウム等の反射性の支持体上に、乾燥後の塗布量が平版印刷版として必要な範囲において適宜決定された厚みの画像記録層を形成し、反射濃度を光学濃度計で測定する方法、積分球を用いた反射法により分光光度計で測定する方法等が挙げられる。
These infrared absorbers may be added to the same layer as the other components, or may be added to another layer provided, but when a negative lithographic printing plate precursor is produced, image recording The layer is added so that the absorbance at the maximum absorption wavelength in the wavelength range of 760 nm to 1200 nm is in the range of 0.3 to 1.2 by the reflection measurement method. Preferably, it is the range of 0.4-1.1. Within this range, a uniform polymerization reaction proceeds in the depth direction of the image recording layer, and good film strength of the image area and adhesion to the lithographic printing plate support can be obtained.
The absorbance of the image recording layer can be adjusted by the amount of infrared absorber added to the image recording layer and the thickness of the image recording layer. Absorbance can be measured by a conventional method. As a measuring method, for example, on a reflective support such as aluminum, an image recording layer having a thickness appropriately determined in a range in which the coating amount after drying is necessary as a lithographic printing plate is formed, and the reflection density is set to the optical density. And a method of measuring with a spectrophotometer by a reflection method using an integrating sphere.

(重合開始剤)
上記重合開始剤は、光、熱あるいはその両方のエネルギーによりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を開始、促進する化合物であり、本発明においては、熱によりラジカルを発生する化合物(熱ラジカル発生剤)を使用するのが好ましい。
上記重合開始剤としては、公知の熱重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを使用することができる。
(Polymerization initiator)
The polymerization initiator is a compound that generates radicals by energy of light, heat, or both, and initiates and accelerates polymerization of a compound having a polymerizable unsaturated group. In the present invention, it generates radicals by heat. It is preferable to use a compound (thermal radical generator).
As the polymerization initiator, a known thermal polymerization initiator, a compound having a bond with a small bond dissociation energy, a photopolymerization initiator, or the like can be used.

ラジカルを発生する化合物としては、具体的には、例えば、有機ハロゲン化物、カルボニル化合物、有機過酸化物、アゾ系重合開始剤、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ酸塩化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物等が挙げられる。   Specific examples of compounds that generate radicals include, for example, organic halides, carbonyl compounds, organic peroxides, azo polymerization initiators, azide compounds, metallocene compounds, hexaarylbiimidazole compounds, and organic borate compounds. , Disulfone compounds, oxime ester compounds, onium salt compounds, and the like.

上記有機ハロゲン化物としては、具体的には、若林等、「Bull Chem.SocJapan」42、2924(1969)、米国特許第3,905,815号明細書、特公昭46−4605号、特開昭48−36281号、特開昭55−32070号、特開昭60−239736号、特開昭61−169835号、特開昭61−169837号、特開昭62−58241号、特開昭62−212401号、特開昭63−70243号、特開昭63−298339号の各公報、M.P.Hutt“Jurnal of Heterocyclic Chemistry”1(No3),(1970)」等に記載されている化合物等が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物およびS−トリアジン化合物が好適に挙げられる。   Specific examples of the organic halide include Wakabayashi et al., “Bull Chem. SocJapan” 42, 2924 (1969), US Pat. No. 3,905,815, Japanese Examined Patent Publication No. 46-4605, 48-36281, JP-A 55-32070, JP-A 60-239736, JP-A 61-169835, JP-A 61-169837, JP-A 62-58241, JP-A 62- No. 212401, JP-A 63-70243, JP-A 63-298339, P. Examples thereof include compounds described in Hutt “Journal of Heterocyclic Chemistry” 1 (No 3), (1970) ”, and particularly preferred are oxazole compounds substituted with a trihalomethyl group and S-triazine compounds.

より好適には、すくなくとも一つのモノ、ジ、またはトリハロゲン置換メチル基がs−トリアジン環に結合したs−トリアジン誘導体、具体的には、例えば、2,4,6−トリス(モノクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ジクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2―n−プロピル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(α,α,β−トリクロロエチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3,4−エポキシフェニル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−クロロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔1−(p−メトキシフェニル)−2,4−ブタジエニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−スチリル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−i−プロピルオキシスチリル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−トリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−ナトキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニルチオ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−ベンジルチオ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ジブロモメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メトキシ−4,6−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジン等が挙げられる。   More preferably, an s-triazine derivative having at least one mono, di, or trihalogen-substituted methyl group bonded to the s-triazine ring, specifically, for example, 2,4,6-tris (monochloromethyl)- s-triazine, 2,4,6-tris (dichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl)- s-triazine, 2-n-propyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (α, α, β-trichloroethyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine 2- (3,4-epoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-chlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [ 1- (p-methoxyphenyl) -2,4-butadienyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-styryl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (P-methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (pi-propyloxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- ( p-tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-natoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-Fe Ruthio-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-benzylthio-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (dibromomethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (tribromomethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (tribromomethyl) -s-triazine, 2-methoxy-4,6-bis (tribromomethyl) -S-triazine and the like.

上記カルボニル化合物としては、具体的には、例えば、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、2−メチルベンゾフェノン、3−メチルベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4−ブロモベンゾフェノン、2−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体;2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドトキシ−2−メチルフェニルプロパノン、1−ヒドロキシ−1−メチルエチル−(p−イソプロピルフェニル)ケトン、1−ヒドロキシ−1−(p−ドデシルフェニル)ケトン、2−メチル(4′−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノ−1−プロパノン、1,1,1−トリクロロメチル−(p−ブチルフェニル)ケトン等のアセトフェノン誘導体;チオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体;p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体;等を挙げることができる。   Specific examples of the carbonyl compound include benzophenone, Michler ketone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-bromobenzophenone, 2-carboxybenzophenone, and other benzophenone derivatives. 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, α-hydroxy-2-methylphenylpropanone, 1-hydroxy-1-methylethyl- (p- Isopropylphenyl) ketone, 1-hydroxy-1- (p-dodecylphenyl) ketone, 2-methyl (4 ′-(methylthio) phenyl) -2-morpholino-1-propanone, 1,1,1-trichloromethyl- acetophenone derivatives such as p-butylphenyl) ketone; thioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, etc. Thioxanthone derivatives; benzoic acid ester derivatives such as ethyl p-dimethylaminobenzoate and ethyl p-diethylaminobenzoate; and the like.

上記アゾ系重合開始剤としては、例えば、特開平8−108621号公報に記載されているアゾ化合物等を使用することができる。   As the azo polymerization initiator, for example, azo compounds described in JP-A-8-108621 can be used.

上記有機過酸化物としては、具体的には、例えば、トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、2,2−ビス(tert−ブチルパーオキシ)ブタン、tert−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、tert−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5−オキサノイルパーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)パーオキシジカーボネート、tert−ブチルパーオキシアセテート、tert−ブチルパーオキシピバレート、tert−ブチルパーオキシネオデカノエート、tert−ブチルパーオキシオクタノエート、tert−ブチルパーオキシラウレート、ターシルカーボネート、3,3′,4,4′−テトラ−(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ−(t−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ−(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、カルボニルジ(t−ブチルパーオキシ二水素二フタレート)、カルボニルジ(t−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート)等が挙げられる。   Specific examples of the organic peroxide include trimethylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis (tert-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1- Bis (tert-butylperoxy) cyclohexane, 2,2-bis (tert-butylperoxy) butane, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-2 , 5-Dihydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, tert-butylcumyl peroxide, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butyl) Peroxy) Sun, 2,5-oxanoyl peroxide, succinic peroxide, benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, di-2-ethoxy Ethyl peroxydicarbonate, dimethoxyisopropyl peroxycarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutyl) peroxydicarbonate, tert-butyl peroxyacetate, tert-butyl peroxypivalate, tert-butyl peroxyneodeca Noate, tert-butyl peroxyoctanoate, tert-butyl peroxylaurate, tersyl carbonate, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3 3 ', 4,4'-tetra- (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4'-tetra- (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, carbonyldi (t-butylperoxy) Oxydihydrogen diphthalate), carbonyldi (t-hexylperoxydihydrogen diphthalate), and the like.

上記メタロセン化合物としては、例えば、特開昭59−152396号公報、特開昭61−151197号公報、特開昭63−41484号公報、特開平2−249号公報、特開平2−4705号公報、特開平5−83588号公報に記載されている種々のチタノセン化合物、具体的には、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル;特開平1−304453号公報、特開平1−152109号公報に記載されている鉄−アレーン錯体;等が挙げられる。   Examples of the metallocene compound include, for example, JP-A-59-152396, JP-A-61-151197, JP-A-63-41484, JP-A-2-249, and JP-A-2-4705. Various titanocene compounds described in JP-A-5-83588, specifically, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6 -Difluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-di-fluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-tri Fluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2, , 4,5,6-pentafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis- 2,4,6-trifluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl- Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophen-1-yl; iron-arene complexes described in JP-A-1-304453 and JP-A-1-152109; It is done.

上記ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特公平6−29285号公報、米国特許第3,479,185号、同第4,311,783号、同第4,622,286号等の各明細書に記載されている種々の化合物、具体的には、2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ブロモフェニル))4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイジダゾール、2,2′−ビス(o,o′−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−メチルフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−トリフルオロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。   Examples of the hexaarylbiimidazole compound include JP-B-6-29285, U.S. Pat. Nos. 3,479,185, 4,311,783, and 4,622,286. Various compounds described in the literature, specifically 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o -Bromophenyl)) 4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o, p-dichlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2 , 2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) biidazole, 2,2'-bis (o, o'-dichlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra Phenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-nitrophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-methylphenyl) -4,4', Examples include 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-trifluorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, and the like.

上記有機ホウ酸塩化合物としては、具体的には、例えば、特開昭62−143044号、特開昭62−150242号、特開平9−188685号、特開平9−188686号、特開平9−188710号、特開2000−131837号、特開2002−107916号の各公報、特許第2764769号明細書、特開2002−116539号公報、および、Kunz,Martin”Rad Tech’98.Proceeding April 19−22,1998,Chicago”等に記載される有機ホウ酸塩;特開平6−157623号公報、特開平6−175564号公報、特開平6−175561号公報に記載されている有機ホウ素スルホニウム錯体あるいは有機ホウ素オキソスルホニウム錯体;特開平6−175554号公報、特開平6−175553号公報に記載されている有機ホウ素ヨードニウム錯体;特開平9−188710号公報に記載されている有機ホウ素ホスホニウム錯体;特開平6−348011号公報、特開平7−128785号公報、特開平7−140589号公報、特開平7−306527号公報、特開平7−292014号公報等に記載されている有機ホウ素遷移金属配位錯体;等が挙げられる。   Specific examples of the organic borate compound include, for example, JP-A-62-143044, JP-A-62-1050242, JP-A-9-188865, JP-A-9-188686, and JP-A-9-9-1. 188710, JP-A-2000-131837, JP-A-2002-107916, JP-A-2766769, JP-A-2002-116539, and Kunz, Martin “Rad Tech'98. Proceeding April 19- 22, 1998, Chicago ”, etc .; organic boron sulfonium complexes or organic compounds described in JP-A-6-157623, JP-A-6-175564, JP-A-6-175561 Boron oxosulfonium complex; JP-A-6-175554 The organic boron iodonium complex described in JP-A-6-175553; the organic boron phosphonium complex described in JP-A-9-188710; JP-A-6-348011, JP-A-7-128785 And organic boron transition metal coordination complexes described in JP-A-7-140589, JP-A-7-306527, JP-A-7-292014, and the like.

上記ジスルホン化合物としては、例えば、特開昭61−166544号公報、特開2003−328465号公報等に記載されている化合物が挙げられる。   As said disulfone compound, the compound described in Unexamined-Japanese-Patent No. 61-166544, Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-328465 etc. is mentioned, for example.

上記オキシムエステル化合物としては、例えば、J.C.S. Perkin II (1979 )1653-1660)J.C.S.Perkin II (1979)156-162、Journal of Photopolymer Science andTechnology(1995)202-232、特開2000−66385号公報に記載されている化合物、特開2000−80068号公報に記載されている化合物、具体的には下記の構造式で示される化合物が挙げられる。   Examples of the oxime ester compound described in JCS Perkin II (1979) 1653-1660) JCSPerkin II (1979) 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) 202-232, JP 2000-66385 A And compounds described in JP-A No. 2000-80068, specifically, compounds represented by the following structural formulas.

Figure 0005265955
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上記オニウム塩化合物としては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)に記載されているジアゾニウム塩;米国特許第4,069,055号明細書、特開平4−365049号公報等に記載されているアンモニウム塩;米国特許第4,069,055号、同4,069,056号の各明細書に記載されているホスホニウム塩;欧州特許第104、143号、米国特許第339,049号、同第410,201号の各明細書、特開平2−150848号、特開平2−296514号の各公報に記載されているヨードニウム塩;欧州特許第370,693号、同390,214号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同161,811号、同410,201号、同339,049号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号の各明細書に記載されているスルホニウム塩;J.V.Crivello et al,Macromolecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載されているセレノニウム塩;C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載されているアルソニウム塩;等のオニウム塩等が挙げられる。   Examples of the onium salt compound include S.I. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Diazonium salts described in Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980); ammonium salts described in US Pat. No. 4,069,055, JP-A-4-365049, etc .; US patents Phosphonium salts described in the specifications of US Pat. Nos. 4,069,055 and 4,069,056; European Patent Nos. 104 and 143, US Pat. Nos. 339,049 and 410,201 Iodonium salts described in each specification, JP-A-2-150848 and JP-A-2-296514; European Patents 370,693, 390,214, 233,567, and 297 No. 4,443, No. 297,442, US Pat. Nos. 4,933,377, 161,811, 410,201, 339,049, , 760,013, 4,734,444, 2,833,827, German Patents 2,904,626, 3,604,580, 3,604,581 The sulfonium salts described in the specification; V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979); C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curium ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988); onium salts such as;

これらのオニウム塩のうち、反応性、安定性の面から上記オキシムエステル化合物あるいはジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩が好適なものとして挙げられる。
本発明においては、これらのオニウム塩は酸発生剤ではなく、イオン性のラジカル重合開始剤として機能する。
また、こられのオニウム塩は、下記一般式(RI−I)〜(RI−III)で表されるオニウム塩が好適に用いられる。
Among these onium salts, the above oxime ester compounds, diazonium salts, iodonium salts, and sulfonium salts are preferable in terms of reactivity and stability.
In the present invention, these onium salts function not as acid generators but as ionic radical polymerization initiators.
Further, as these onium salts, onium salts represented by the following general formulas (RI-I) to (RI-III) are preferably used.

Figure 0005265955
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式(RI−I)中、Ar11は置換基を1〜6有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表す。好ましい置換基としては、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。
一方、Z11-は1価のアニオン(陰イオン)を表し、その具体例としては、ハロゲン化物イオン(例えば、Cl、Br等)、過塩素酸イオン(ClO4 )、ヘキサフルオロフォスフェートイオン(PF6 )、テトラフルオロボレートイオン(BF4 )、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオン等が挙げられる。中でも、安定性の観点から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオンであるのが好ましい。
In the formula (RI-I), Ar 11 represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents. Preferred substituents include alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, alkenyl groups having 1 to 12 carbon atoms, alkynyl groups having 1 to 12 carbon atoms, aryl groups having 1 to 12 carbon atoms, and alkoxy groups having 1 to 12 carbon atoms. An aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms, a halogen atom, an alkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, a dialkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, an alkylamide group or arylamide group having 1 to 12 carbon atoms, a carbonyl group, Examples thereof include a carboxyl group, a cyano group, a sulfonyl group, a thioalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms.
On the other hand, Z 11- represents a monovalent anion (anion), and specific examples thereof include halide ions (for example, Cl , Br −, etc.), perchlorate ions (ClO 4 ), hexafluorophos. Fate ions (PF 6 ), tetrafluoroborate ions (BF 4 ), sulfonate ions, sulfinate ions, thiosulfonate ions, sulfate ions and the like can be mentioned. Among these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, and sulfinate ion are preferable from the viewpoint of stability.

式(RI−II)中、Ar21およびAr22は各々独立に置換基を1〜6有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表す。好ましい置換基としては、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。
一方、Z21-は1価のアニオン(陰イオン)を表し、その具体例としては、ハロゲン化物イオン(例えば、Cl、Br等)、過塩素酸イオン(ClO4 )、ヘキサフルオロフォスフェートイオン(PF6 )、テトラフルオロボレートイオン(BF4 )、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオン等が挙げられる。中でも、安定性、反応性の観点から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンであるのが好ましい。
In the formula (RI-II), Ar 21 and Ar 22 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents. Preferred substituents include alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, alkenyl groups having 1 to 12 carbon atoms, alkynyl groups having 1 to 12 carbon atoms, aryl groups having 1 to 12 carbon atoms, and alkoxy groups having 1 to 12 carbon atoms. An aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms, a halogen atom, an alkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, a dialkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, an alkylamide group or arylamide group having 1 to 12 carbon atoms, a carbonyl group, Examples thereof include a carboxyl group, a cyano group, a sulfonyl group, a thioalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms.
On the other hand, Z 21− represents a monovalent anion (anion), and specific examples thereof include halide ions (eg, Cl , Br etc.), perchlorate ions (ClO 4 ), hexafluorophos. Fate ions (PF 6 ), tetrafluoroborate ions (BF 4 ), sulfonate ions, sulfinate ions, thiosulfonate ions, sulfate ions and the like can be mentioned. Of these, perchlorate ions, hexafluorophosphate ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, and carboxylate ions are preferable from the viewpoints of stability and reactivity.

式(RI−III)中、R31、R32およびR33は各々独立に置換基を1〜6有していてもよい炭素数20以下のアリール基またはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基を表し、好ましくは反応性、安定性の面から、アリール基であることが望ましい。好ましい置換基としては、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。
一方、Z31-は1価のアニオン(陰イオン)を表し、その具体例としては、ハロゲン化物イオン(例えば、Cl、Br等)、過塩素酸イオン(ClO4 )、ヘキサフルオロフォスフェートイオン(PF6 )、テトラフルオロボレートイオン(BF4 )、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオン等が挙げられる。中でも、安定性、反応性の観点から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンであるのが好ましい。より好ましいものとして、特開2001−343742号公報に記載されているカルボン酸イオン、特に好ましいものとして特開2002−148790号公報に記載されているカルボン酸イオンが挙げられる。
以下に、重合開始剤として好適に用いられるオニウム塩の例を挙げるが、本発明はこれら制限されるものではない。
In formula (RI-III), R 31 , R 32 and R 33 each independently represents an aryl group having 20 or less carbon atoms, an alkyl group, an alkenyl group or an alkynyl group which may have 1 to 6 substituents. In view of reactivity and stability, an aryl group is desirable. Preferred substituents include alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, alkenyl groups having 1 to 12 carbon atoms, alkynyl groups having 1 to 12 carbon atoms, aryl groups having 1 to 12 carbon atoms, and alkoxy groups having 1 to 12 carbon atoms. An aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms, a halogen atom, an alkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, a dialkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, an alkylamide group or arylamide group having 1 to 12 carbon atoms, a carbonyl group, Examples thereof include a carboxyl group, a cyano group, a sulfonyl group, a thioalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms.
On the other hand, Z 31- represents a monovalent anion (anion), and specific examples thereof include halide ions (eg, Cl , Br etc.), perchlorate ions (ClO 4 ), hexafluorophos. Fate ions (PF 6 ), tetrafluoroborate ions (BF 4 ), sulfonate ions, sulfinate ions, thiosulfonate ions, sulfate ions and the like can be mentioned. Of these, perchlorate ions, hexafluorophosphate ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, and carboxylate ions are preferable from the viewpoints of stability and reactivity. More preferred are the carboxylate ions described in JP-A No. 2001-343742, and particularly preferred are the carboxylate ions described in JP-A No. 2002-148790.
Although the example of the onium salt used suitably as a polymerization initiator below is given, this invention is not these restrictions.

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これらの重合開始剤は、画像記録層を構成する全固形分に対し0.1〜50質量%、好ましくは0.5〜30質量%、特に好ましくは1〜20質量%の割合で添加することができる。
この範囲で、良好な感度と印刷時の非画像部の良好な汚れ難さが得られる。これらの重合開始剤は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。また、これらの重合開始剤は他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。
These polymerization initiators are added in a proportion of 0.1 to 50% by mass, preferably 0.5 to 30% by mass, particularly preferably 1 to 20% by mass, based on the total solid content constituting the image recording layer. Can do.
Within this range, good sensitivity and good stain resistance of the non-image area during printing can be obtained. These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. Moreover, these polymerization initiators may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto.

(重合性化合物)
上記重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選択される。
本発明においては、このような化合物は本発明の技術分野において広く知られるものを特に限定無く用いることができる。また、このような化合物は、例えば、モノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。
モノマーおよびその共重合体としては、例えば、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類等が挙げられ、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が好適に用いられる。
また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類あるいはエポキシ類との付加反応物、および単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に用いられる。
また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、さらにハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。
また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
(Polymerizable compound)
The polymerizable compound is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and is selected from compounds having at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably two or more.
In the present invention, those compounds widely known in the technical field of the present invention can be used without any particular limitation. In addition, such compounds have chemical forms such as monomers, prepolymers, that is, dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof.
Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters thereof, amides, and the like. An ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound and an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound are preferably used.
In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, amino group or mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and a monofunctional or polyfunctional compound. A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used.
Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group or Also suitable are substitution reaction products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having a leaving substituent such as a tosyloxy group with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines or thiols.
As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーとしては、具体的には、例えば、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー、イソシアヌール酸EO変性トリアクリレート等が挙げられる。   Specific examples of an ester monomer of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include, for example, acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, and 1,3-butanediol diacrylate. , Tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4- Cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol Acrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer, isocyanur Examples include acid EO-modified triacrylate.

メタクリル酸エステルとしては、具体的には、例えば、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等が挙げられる。   Specific examples of the methacrylic acid ester include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1, 3-butanediol dimethacrylate, hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p -(3-Methacryloxy 2-hydroxypropoxy) phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane, and the like.

イタコン酸エステルとしては、具体的には、例えば、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等が挙げられる。
クロトン酸エステルとしては、具体的には、例えば、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等が挙げられる。
イソクロトン酸エステルとしては、具体的には、例えば、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等が挙げられる。
マレイン酸エステルとしては、具体的には、例えば、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等が挙げられる。
Specific examples of the itaconic acid ester include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, and tetramethylene glycol diitaconate. Nate, pentaerythritol diitaconate, sorbitol tetritaconate and the like.
Specific examples of the crotonic acid ester include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate.
Specific examples of the isocrotonic acid ester include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.
Specific examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルとしては、例えば、特公昭51−47334号、特開昭57−196231号の各公報に記載されている脂肪族アルコール系エステル類;特開昭59−5240号、特開昭59−5241号、特開平2−226149号の各公報に記載されている芳香族系骨格を有するもの;特開平1−165613号公報に記載されているアミノ基を含有するもの;等も好適に用いられる。さらに、上述したエステルモノマーは混合物としても使用することができる。   Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-51-47334 and JP-A-57-196231; JP-A-59-5240, JP-A-59- Those having an aromatic skeleton described in each publication of JP 5241 and JP-A-2-226149; those containing an amino group described in JP-A-1-165613; etc. are also preferably used. . Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーとしては、具体的には、例えば、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等が挙げられる。
その他の好ましいアミド系モノマーとしては、例えば、特公昭54−21726号公報に記載されているシクロへキシレン構造を有すもの等を挙げることができる。
Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, and 1,6. -Hexamethylene bis-methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like.
Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B No. 54-21726.

また、イソシアネートとヒドロキシル基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、その具体例としては、特公昭48−41708号公報に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式(A)で示されるヒドロキシル基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。   Also suitable are urethane-based addition polymerizable compounds produced using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl groups. Specific examples thereof include two or more per molecule described in JP-B-48-41708. A vinylurethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following general formula (A) to a polyisocyanate compound having an isocyanate group of Can be mentioned.

CH2=C(R4)COOCH2CH(R5)OH (A)
(ただし、R4およびR5は、HまたはCH3を示す。)
CH 2 = C (R 4) COOCH 2 CH (R 5) OH (A)
(However, R 4 and R 5 represent H or CH 3. )

また、特開昭51−37193号、特公平2−32293号、特公平2−16765号の各公報に記載されているウレタンアクリレート類;特公昭58−49860号、特公昭56−17654号、特公昭62−39417号、特公昭62−39418号の各公報に記載されているエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類;等も好適に挙げられる。
さらに、特開昭63−277653号、特開昭63−260909号、特開平1−105238号の各公報に記載されている、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。
Further, urethane acrylates described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, and JP-B-2-16765; JP-B-58-49860, JP-B-56-17654, JP-B Preferable examples include urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418.
Furthermore, addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 are used. Depending on the situation, a photopolymerizable composition having an extremely excellent photosensitive speed can be obtained.

その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号等の各公報に記載されているポリエステルアクリレート類;エポキシ樹脂とアクリル酸もしくはメタクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類;等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。
また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号の各公報に記載されている特定の不飽和化合物;特開平2−25493号公報に記載されているビニルホスホン酸系化合物;等も挙げることができる。
また、ある場合には、特開昭61−22048号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。
さらに、日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。
Other examples include polyester acrylates described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, etc .; reaction of epoxy resin with acrylic acid or methacrylic acid And polyfunctional acrylates and methacrylates such as epoxy acrylates;
Specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, and JP-B-1-40336; vinylphosphones described in JP-A-2-25493 An acid compound; etc. can also be mentioned.
In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used.
Furthermore, the Japan Adhesion Association magazine vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

これらの付加重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。
感度の点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、さらに、異なる官能数・異なる重合性基(例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。
また、画像記録層中の他の成分(例えばバインダーポリマー、開始剤、着色剤等)との相溶性、分散性に対しても、付加重合化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。
付加重合性化合物は、画像記録層中の不揮発性成分に対して、好ましくは5〜80質量%、さらに好ましくは25〜75質量%の範囲で使用される。また、これらは単独で用いても2種以上併用してもよい。そのほか、付加重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、さらに場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施しうる。
About these addition polymerizable compounds, the details of usage, such as the structure, single use or combination, addition amount, etc. can be arbitrarily set according to the performance design of the final lithographic printing plate precursor. For example, it is selected from the following viewpoints.
From the viewpoint of sensitivity, a structure having a large unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the image area, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable, and furthermore, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrene compound, vinyl ether type A method of adjusting both sensitivity and strength by using a compound) is also effective.
Further, the selection and use method of the addition polymerization compound is also an important factor for the compatibility and dispersibility with other components (for example, binder polymer, initiator, colorant, etc.) in the image recording layer. In some cases, the compatibility can be improved by using a low-purity compound or by using two or more kinds in combination.
The addition polymerizable compound is preferably used in the range of 5 to 80% by mass, more preferably 25 to 75% by mass, with respect to the non-volatile component in the image recording layer. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, the use method of the addition polymerizable compound can be arbitrarily selected from the viewpoint of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging, refractive index change, surface adhesiveness, etc. Depending on the case, a layer configuration and coating method such as undercoating and overcoating can be performed.

(重合性反応基を有すポリマー微粒子)
本発明においては、画像記録層は、上述した赤外線吸収剤、重合開始剤および重合性化合物の他に、重合性反応基を有すポリマー微粒子を含有することが好ましい。
重合性反応基を有するポリマー微粒子としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基またはアリル基を有するモノマーをポリマー鎖中に導入させたものを挙げることができる。これらの官能基のポリマー微粒子への導入は、重合時に行ってもよいし、重合後に高分子反応を利用して行ってもよい。
(Polymer fine particles with polymerizable reactive groups)
In the present invention, the image recording layer preferably contains fine polymer particles having a polymerizable reactive group, in addition to the above-described infrared absorber, polymerization initiator, and polymerizable compound.
Examples of the polymer fine particles having a polymerizable reactive group include those obtained by introducing a monomer having an acryloyl group, a methacryloyl group, a vinyl group or an allyl group into a polymer chain. The introduction of these functional groups into the polymer fine particles may be performed at the time of polymerization, or may be performed using a polymer reaction after the polymerization.

重合時に導入する場合は、これらの重合性反応基を有するモノマーを乳化重合、懸濁重合、あるいはウレタン化などの重縮合反応させることが好ましい。必要に応じて、重合性反応基をもたないモノマーを共重合成分として加えてもかまわない。   When introduced at the time of polymerization, it is preferable to subject these monomers having a polymerizable reactive group to a polycondensation reaction such as emulsion polymerization, suspension polymerization, or urethanization. If necessary, a monomer having no polymerizable reactive group may be added as a copolymerization component.

そのような官能基を有するモノマーとしては、具体的には、例えば、アリルメタクリレート、アリルアクリレート、ビニルメタクリレート、ビニルアクリレート、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、2−イソシアネートエチルメタクリレート、2−イソシアネートエチルアクリレート、2−アミノエチルメタクリレート、2−アミノエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、2官能アクリレート、2官能メタクリレート等を挙げることができるが、これらに限定されない。   Specific examples of the monomer having such a functional group include, for example, allyl methacrylate, allyl acrylate, vinyl methacrylate, vinyl acrylate, glycidyl methacrylate, glycidyl acrylate, 2-isocyanate ethyl methacrylate, 2-isocyanate ethyl acrylate, 2- Examples include aminoethyl methacrylate, 2-aminoethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, bifunctional acrylate, bifunctional methacrylate, and the like. Not.

重合反応性官能基の導入を重合後に行う場合に用いる高分子反応としては、例えば、国際公開第96−034316号パンフレットに記載されている高分子反応を挙げることができる。   Examples of the polymer reaction used when the polymerization-reactive functional group is introduced after the polymerization include a polymer reaction described in WO 96-034316.

上記の重合性反応基を有するポリマー微粒子は、ポリマー微粒子同士が熱により合体してもよい。
また、このポリマー微粒子の表面は親水性で、水に分散するものが特に好ましい。ポリマー微粒子表面を親水性にするには、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコールなどの親水性ポリマーあるいはオリゴマー、または親水性低分子化合物をポリマー微粒子表面に吸着させてやればよいが、その方法はこれらに限定されるものではない。
更に、このポリマー微粒子の平均粒径は、0.01〜10μmが好ましいが、その中でも0.05〜2μmがさらに好ましく、特に0.1〜1μmが最適である。平均粒径が大き過ぎると解像度が悪く、また小さ過ぎると経時安定性が悪くなってしまう。
The polymer fine particles having a polymerizable reactive group may be combined with each other by heat.
Further, it is particularly preferable that the surface of the polymer fine particles is hydrophilic and is dispersed in water. In order to make the surface of the polymer fine particles hydrophilic, a hydrophilic polymer or oligomer such as polyvinyl alcohol or polyethylene glycol, or a hydrophilic low molecular weight compound may be adsorbed on the surface of the polymer fine particles, but the method is limited to these. It is not something.
Further, the average particle size of the polymer fine particles is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.05 to 2 μm, and most preferably 0.1 to 1 μm. If the average particle size is too large, the resolution will be poor, and if it is too small, the stability over time will be poor.

また、重合性反応基を有するポリマー微粒子の形態として、重合性反応基を有する化合物との共有結合を形成せずとも、重合性反応基を有する化合物を内包したマイクロカプセルやミクロゲルであってもよい。   Further, the form of the polymer fine particle having a polymerizable reactive group may be a microcapsule or a microgel encapsulating a compound having a polymerizable reactive group without forming a covalent bond with the compound having a polymerizable reactive group. .

すなわち、本発明においては、上述した画像記録層構成成分を画像記録層に含有させる方法として、いくつかの態様を用いることができる。
一つは、例えば、特開2002−287334号公報に記載のごとく、該構成成分を適当な溶媒に溶解して塗布する分子分散型画像記録層である。
もう一つの態様は、例えば、特開2001−277740号公報、特開2001−277742号公報に記載のごとく、該構成成分の全てまたは一部をマイクロカプセルに内包させて画像記録層に含有させるマイクロカプセル型画像記録層である。さらに、マイクロカプセル型画像記録層において、該構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。ここで、マイクロカプセル型画像記録層は、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性構成成分をマイクロカプセル外に含有することが好ましい態様である。より良好な機上現像性を得るためには、画像記録層は、マイクロカプセル型画像記録層であることが好ましい。
That is, in the present invention, several modes can be used as a method for incorporating the above-described image recording layer constituents into the image recording layer.
One is a molecular dispersion type image recording layer in which the constituent components are dissolved and applied in an appropriate solvent as described in, for example, JP-A-2002-287334.
In another embodiment, as described in, for example, JP-A-2001-277740 and JP-A-2001-277742, all or part of the constituent components are encapsulated in microcapsules and contained in the image recording layer. It is a capsule type image recording layer. Further, in the microcapsule type image recording layer, the constituent component can be contained outside the microcapsule. Here, it is preferable that the microcapsule-type image recording layer includes a hydrophobic constituent component in the microcapsule and a hydrophilic constituent component outside the microcapsule. In order to obtain better on-press developability, the image recording layer is preferably a microcapsule type image recording layer.

本発明に用いられる重合性反応基を有するポリマー微粒子の形態としてのマイクロカプセルまたはミクロゲルは、重合性反応基を有する化合物を内包する。この重合性反応基を有する化合物としては、上述した重合性化合物を限定なく使用することができる。   The microcapsule or microgel in the form of polymer fine particles having a polymerizable reactive group used in the present invention contains a compound having a polymerizable reactive group. As the compound having a polymerizable reactive group, the above-described polymerizable compound can be used without limitation.

画像記録層構成成分をマイクロカプセル化する方法としては、公知の方法が適用できる。例えば、マイクロカプセルの製造方法としては、米国特許第2800457号、同第2800458号明細書に記載されているコアセルベーションを利用した方法;米国特許第3287154号の各明細書、特公昭38−19574号、同42−446号の各公報に記載されている界面重合法による方法;米国特許第3418250号、同第3660304号明細書に記載されているポリマーの析出による方法;米国特許第3796669号明細書に記載されているイソシアナートポリオール壁材料を用いる方法;米国特許第3914511号明細書に記載されているイソシアナート壁材料を用いる方法;米国特許第4001140号、同第4087376号、同第4089802号の各明細書に記載されている尿素―ホルムアルデヒド系または尿素ホルムアルデヒド−レゾルシノール系壁形成材料を用いる方法;米国特許第4025445号明細書に記載されているメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ヒドロキシセルロース等の壁材を用いる方法;特公昭36−9163号、同51−9079号の各公報に記載されているモノマー重合によるin situ法;英国特許第930422号、米国特許第3111407号明細書に記載されているスプレードライング法;英国特許第952807号、同第967074号の各明細書に記載されている電解分散冷却法;等があるが、これらに限定されるものではない。   A known method can be applied as a method for microencapsulating the constituent components of the image recording layer. For example, as a method for producing microcapsules, a method using coacervation described in US Pat. Nos. 2,800,547 and 2,800,498; each specification of US Pat. No. 3,287,154, Japanese Patent Publication No. 38-19574 No. 42-446, a method based on an interfacial polymerization method; U.S. Pat. Nos. 3,418,250 and 3,660,304; a method based on precipitation of a polymer; U.S. Pat. No. 3,796,669. US Pat. No. 3,914,511, US Pat. No. 4,087,376, US Pat. No. 4,089,802; US Pat. No. 3,914,511; US Pat. No. 3,914,511; US Pat. The urea-formaldehyde system described in each specification of Is a method using a urea formaldehyde-resorcinol-based wall forming material; a method using a wall material such as melamine-formaldehyde resin and hydroxycellulose described in US Pat. No. 4,025,445; In situ method by monomer polymerization described in each publication of No. 9079; spray drying method described in British Patent No. 930422 and US Pat. No. 3111407; British Patent Nos. 952807 and 967074 However, it is not limited to the electrolytic dispersion cooling method described in each specification.

本発明に用いられる好ましいマイクロカプセル壁は、3次元架橋を有し、溶剤によって膨潤する性質を有するものである。このような観点から、マイクロカプセルの壁材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、およびこれらの混合物が好ましく、特に、ポリウレアおよびポリウレタンが好ましい。また、マイクロカプセル壁に、上記重合性反応基を有する化合物を導入してもよい。   A preferable microcapsule wall used in the present invention has a three-dimensional cross-linking and has a property of swelling with a solvent. From such a viewpoint, the wall material of the microcapsule is preferably polyurea, polyurethane, polyester, polycarbonate, polyamide, and a mixture thereof, and particularly preferably polyurea and polyurethane. Further, the compound having a polymerizable reactive group may be introduced into the microcapsule wall.

上記のマイクロカプセルの平均粒径は、0.01〜10μmが好ましいが、0.05〜2μmがさらに好ましく、0.1〜1μmが特に好ましい。平均粒径が大き過ぎると解像度が悪く、また小さ過ぎると経時安定性が悪くなってしまう。
このようなマイクロカプセルは、カプセル同志が熱により合体してもよいし、合体しなくともよい。
The average particle diameter of the microcapsules is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.05 to 2 μm, and particularly preferably 0.1 to 1 μm. If the average particle size is too large, the resolution will be poor, and if it is too small, the stability over time will be poor.
Such microcapsules may be combined with each other by heat or may not be combined.

(バインダーポリマー)
本発明においては、画像記録層には、画像記録層の皮膜形成性を向上させるためバインダーポリマーを用いることができる。
バインダーポリマーは従来公知のものを制限なく使用でき、皮膜性を有するポリマーが好ましい。このようなバインダーポリマーとしては、具体的には、例えば、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、ノボラック型フェノール系樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴム等が挙げられる。
バインダーポリマーは、画像部の皮膜強度を向上するために、架橋性を有していてもよい。バインダーポリマーに架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を高分子の主鎖中または側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により導入してもよい。
分子の主鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーとしては、例えば、ポリ−1,4−ブタジエン、ポリ−1,4−イソプレン等等が挙げられる。
分子の側鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーとしては、例えば、アクリル酸またはメタクリル酸のエステルまたはアミドのポリマーであって、エステルまたはアミドの残基(−COORまたはCONHRのR)がエチレン性不飽和結合を有するポリマーを挙げることができる。
(Binder polymer)
In the present invention, a binder polymer can be used for the image recording layer in order to improve the film forming property of the image recording layer.
Conventionally known binder polymers can be used without limitation, and polymers having film properties are preferred. Specifically, as such a binder polymer, for example, acrylic resin, polyvinyl acetal resin, polyurethane resin, polyurea resin, polyimide resin, polyamide resin, epoxy resin, methacrylic resin, polystyrene resin, novolac phenolic resin, Polyester resin, synthetic rubber, natural rubber and the like can be mentioned.
The binder polymer may have crosslinkability in order to improve the film strength of the image area. In order to impart crosslinkability to the binder polymer, a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond may be introduced into the main chain or side chain of the polymer. The crosslinkable functional group may be introduced by copolymerization.
Examples of the polymer having an ethylenically unsaturated bond in the main chain of the molecule include poly-1,4-butadiene, poly-1,4-isoprene and the like.
Examples of the polymer having an ethylenically unsaturated bond in the side chain of the molecule include an ester or amide polymer of acrylic acid or methacrylic acid, and an ester or amide residue (R of —COOR or CONHR) is ethylene. Examples thereof include polymers having a polymerizable unsaturated bond.

エチレン性不飽和結合を有する残基(上記R)としては、具体的には、例えば、−(CH2nCR1=CR23、−(CH2O)nCH2CR1=CR23、−(CH2CH2O)nCH2CR1=CR23、−(CH2nNH−CO−O−CH2CR1=CR23、−(CH2n−O−CO−CR1=CR23および(CH2CH2O)2−X(式中、R1〜R3はそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、アルコキシ基もしくはアリールオキシ基を表し、R1とR2またはR3とは互いに結合して環を形成してもよい。nは、1〜10の整数を表す。Xは、ジシクロペンタジエニル残基を表す。)を挙げることができる。
エステル残基としては、具体的には、例えば、−CH2CH=CH2(特公平7−21633号公報に記載されている。)、−CH2CH2O−CH2CH=CH2、−CH2C(CH3)=CH2、−CH2CH=CH−C65、−CH2CH2OCOCH=CH−C65、−CH2CH2−NHCOO−CH2CH=CH2およびCH2CH2O−X(式中、Xはジシクロペンタジエニル残基を表す。)が挙げられる。
アミド残基としては、具体的には、例えば、−CH2CH=CH2、−CH2CH2−Y(式中、Yはシクロヘキセン残基を表す。)、−CH2CH2−OCO−CH=CH2が挙げられる。
The residue having an ethylenically unsaturated bond (the above R), specifically, for example, - (CH 2) n CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n NH-CO-O-CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n— O—CO—CR 1 ═CR 2 R 3 and (CH 2 CH 2 O) 2 —X (wherein R 1 to R 3 are each a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms) Represents an aryl group, an alkoxy group or an aryloxy group, and R 1 and R 2 or R 3 may combine with each other to form a ring, n represents an integer of 1 to 10. X represents a di Represents a cyclopentadienyl residue.).
The ester residue, specifically, for example, -CH 2 CH = CH 2, ( described in JP Kokoku 7-21633.) - CH 2 CH 2 O-CH 2 CH = CH 2, -CH 2 C (CH 3) = CH 2, -CH 2 CH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 OCOCH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 -NHCOO-CH 2 CH = CH 2 and CH 2 CH 2 O—X (wherein X represents a dicyclopentadienyl residue).
Specific examples of the amide residue include, for example, —CH 2 CH═CH 2 , —CH 2 CH 2 —Y (wherein Y represents a cyclohexene residue), —CH 2 CH 2 —OCO—. CH = CH 2 is mentioned.

架橋性を有するバインダーポリマーは、例えば、その架橋性官能基にフリーラジカル(重合開始ラジカルまたは重合性化合物の重合過程の生長ラジカル)が付加し、ポリマー間で直接にまたは重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。または、ポリマー中の原子(例えば、官能性架橋基に隣接する炭素原子上の水素原子)がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、それが互いに結合することによって、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。   In the case of a binder polymer having crosslinkability, for example, free radicals (polymerization initiation radicals or growth radicals in the polymerization process of a polymerizable compound) are added to the crosslinkable functional group, and a polymerization chain of a polymerizable compound is formed directly between polymers. Through addition polymerization, a cross-link is formed between the polymer molecules and cured. Alternatively, atoms in the polymer (eg, hydrogen atoms on carbon atoms adjacent to the functional bridging group) are abstracted by free radicals to form polymer radicals that are bonded to each other so that crosslinking between the polymer molecules occurs. Forms and cures.

バインダーポリマー中の架橋性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、バインダーポリマー1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、より好ましくは1.0〜7.0mmol、最も好ましくは2.0〜5.5mmolである。この範囲で、良好な感度と良好な保存安定性が得られる。   The content of the crosslinkable group in the binder polymer (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.1 to 10.0 mmol, more preferably 1.0, per 1 g of the binder polymer. -7.0 mmol, most preferably 2.0-5.5 mmol. Within this range, good sensitivity and good storage stability can be obtained.

また、画像記録層未露光部の機上現像性向上の観点から、バインダーポリマーは、インキおよび/または湿し水に対する溶解性または分散性が高いことが好ましい。インキに対する溶解性または分散性を向上させるためには、バインダーポリマーは、親油的な方が好ましく、湿し水に対する溶解性または分散性を向上させるためには、バインダーポリマーは、親水的な方が好ましい。このため、本発明においては、親油的なバインダーポリマーと親水的なバインダーポリマーを併用することも有効である。   Further, from the viewpoint of improving the on-press developability of the image recording layer unexposed portion, the binder polymer preferably has high solubility or dispersibility in ink and / or fountain solution. In order to improve the solubility or dispersibility in ink, the binder polymer is preferably lipophilic, and in order to improve the solubility or dispersibility in dampening water, the binder polymer is hydrophilic. Is preferred. For this reason, in the present invention, it is also effective to use a lipophilic binder polymer and a hydrophilic binder polymer in combination.

親水的なバインダーポリマーとしては、例えば、ヒドロキシル基、カルボキシル基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、ポリオキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基、スルホン酸基、リン酸基等の親水性基を有するものが好適に挙げられる。   Examples of the hydrophilic binder polymer include hydroxyl group, carboxyl group, carboxylate group, hydroxyethyl group, polyoxyethyl group, hydroxypropyl group, polyoxypropyl group, amino group, aminoethyl group, aminopropyl group, and ammonium. Preferred are those having a hydrophilic group such as a group, an amide group, a carboxymethyl group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group.

具体的には、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、デンプン誘導体、カルボキシメチルセルロースおよびそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸類およびそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシピロピルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、加水分解度が60モル%以上、好ましくは80モル%以上である加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマーおよびポリマー、N−メチロールアクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、ポリビニルピロリドン、アルコール可溶性ナイロン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンとのポリエーテル等が挙げられる。   Specifically, gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and its sodium salt, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids and their salts Polymethacrylic acids and their salts, hydroxyethyl methacrylate homopolymers and copolymers, hydroxyethyl acrylate homopolymers and copolymers, hydroxypyrrole methacrylate homopolymers and copolymers, hydroxypropyl acrylate homopolymers and copolymers, hydroxybutyl methacrylate Homopolymers and copolymers, homopolymers and copolymers of hydroxybutyl acrylate, Reethylene glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, acrylamide homopolymers and copolymers having a degree of hydrolysis of 60 mol% or more, preferably 80 mol% or more , Homopolymers and polymers of methacrylamide, homopolymers and copolymers of N-methylolacrylamide, polyvinylpyrrolidone, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, etc. Is mentioned.

バインダーポリマーは、質量平均分子量が5000以上であるのが好ましく、1万〜30万であるのがより好ましく、また、数平均分子量が1000以上であるのが好ましく、2000〜25万であるのがより好ましい。多分散度(質量平均分子量/数平均分子量)は、1.1〜10であるのが好ましい。   The binder polymer preferably has a mass average molecular weight of 5,000 or more, more preferably 10,000 to 300,000, and a number average molecular weight of 1,000 or more, preferably 2000 to 250,000. More preferred. The polydispersity (mass average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 10.

バインダーポリマーは、従来公知の方法により合成することができる。合成する際に用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、水が挙げられる。これらは単独でまたは2種以上混合して用いられる。
バインダーポリマーを合成する際に用いられるラジカル重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物開始剤等の公知の化合物を用いることができる。
The binder polymer can be synthesized by a conventionally known method. Solvents used in the synthesis include, for example, tetrahydrofuran, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy. Examples include 2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, dimethyl sulfoxide, and water. These may be used alone or in combination of two or more.
As the radical polymerization initiator used for synthesizing the binder polymer, known compounds such as an azo initiator and a peroxide initiator can be used.

バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全固形分に対して、5〜90質量%であり、5〜80質量%であるのが好ましく、10〜70質量%であるのがより好ましい。この範囲で、良好な画像部の強度と画像形成性が得られる。
また、重合性化合物とバインダーポリマーは、質量比で0.5/1〜4/1となる量で用いるのが好ましい。
The content of the binder polymer is 5 to 90% by mass, preferably 5 to 80% by mass, and more preferably 10 to 70% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer. Within this range, good image area strength and image formability can be obtained.
Moreover, it is preferable to use a polymeric compound and a binder polymer in the quantity used as mass ratio 0.5 / 1-4/1.

(界面活性剤)
本発明においては、画像記録層には、印刷開始時の機上現像性を促進させるため、および、塗布面状を向上させるために界面活性剤を用いるのが好ましい。
界面活性剤としては、ノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、フッ素系界面活性剤等が挙げられる。界面活性剤は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(Surfactant)
In the present invention, it is preferable to use a surfactant in the image recording layer in order to promote on-press developability at the start of printing and to improve the coated surface state.
Examples of the surfactant include nonionic surfactants, anionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, and fluorosurfactants. Surfactant may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

ノニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、ショ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシド、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールの共重合体等が挙げられる。   A nonionic surfactant is not specifically limited, A conventionally well-known thing can be used. For example, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan fatty acid partial esters, pentaerythritol Fatty acid partial esters, propylene glycol mono fatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters, Polyoxyethylenated castor oil, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides, N N- bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid ester, trialkylamine oxide, polyethylene glycol, copolymers of polyethylene glycol and polypropylene glycol.

アニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム塩、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類等が挙げられる。   An anionic surfactant is not specifically limited, A conventionally well-known thing can be used. For example, fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkane sulfonates, alkane sulfonates, dialkyl sulfosuccinate esters, linear alkyl benzene sulfonates, branched alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl phenoxy poly Oxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium salt, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated beef oil, fatty acid alkyl esters Sulfates, alkyl sulfates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alcohol Ruphenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphates, styrene / maleic anhydride Examples thereof include partial saponification products of polymers, partial saponification products of olefin / maleic anhydride copolymers, and naphthalene sulfonate formalin condensates.

カチオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体等が挙げられる。
両性界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミタゾリン類等が挙げられる。
A cationic surfactant is not specifically limited, A conventionally well-known thing can be used. For example, alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, polyethylene polyamine derivatives and the like can be mentioned.
An amphoteric surfactant is not specifically limited, A conventionally well-known thing can be used. Examples thereof include carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfuric esters, imidazolines and the like.

なお、上記界面活性剤の中で、「ポリオキシエチレン」とあるものは、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン等の「ポリオキシアルキレン」に読み替えることもでき、本発明においては、それらの界面活性剤も用いることができる。   Of the above surfactants, the term “polyoxyethylene” can be read as “polyoxyalkylene” such as polyoxymethylene, polyoxypropylene, polyoxybutylene, etc. These surfactants can also be used.

さらに好ましい界面活性剤としては、分子内にパーフルオロアルキル基を含有するフッ素系界面活性剤が挙げられる。
このようなフッ素系界面活性剤としては、例えば、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステル等のアニオン型;パーフルオロアルキルベタイン等の両性型;パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩等のカチオン型;パーフルオロアルキルアミンオキサイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基および親水性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基を含有するウレタン等のノニオン型;が挙げられる。また、特開昭62−170950号、同62−226143号および同60−168144号の各公報に記載されているフッ素系界面活性剤も好適に挙げられる。
More preferable surfactants include fluorine-based surfactants containing a perfluoroalkyl group in the molecule.
Examples of such fluorosurfactants include anionic types such as perfluoroalkyl carboxylates, perfluoroalkyl sulfonates, and perfluoroalkyl phosphates; amphoteric types such as perfluoroalkyl betaines; Cation type such as trimethylammonium salt; perfluoroalkylamine oxide, perfluoroalkylethylene oxide adduct, oligomer containing perfluoroalkyl group and hydrophilic group, oligomer containing perfluoroalkyl group and lipophilic group, perfluoroalkyl Nonionic types such as an oligomer containing a group, a hydrophilic group and a lipophilic group, and a urethane containing a perfluoroalkyl group and a lipophilic group. Moreover, the fluorine-type surfactant described in each gazette of Unexamined-Japanese-Patent No. 62-170950, 62-226143, and 60-168144 is also mentioned suitably.

界面活性剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。
界面活性剤の含有量は、画像記録層の全固形分に対して、0.001〜10質量%であるのが好ましく、0.01〜5質量%であるのがより好ましい。
Surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types.
The content of the surfactant is preferably 0.001 to 10% by mass and more preferably 0.01 to 5% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer.

(着色剤)
本発明においては、画像記録層には、さらに必要に応じてこれら以外に種々の化合物を添加してもよい。例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することができる。具体的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)、特開昭62−293247号に記載されている染料等を挙げることができる。また、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタン等の顔料も好適に用いることができる。
これらの着色剤は、画像形成後、画像部と非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好ましい。なお、添加量は、画像記録材料全固形分に対し、0.01〜10質量%の割合である。
(Coloring agent)
In the present invention, various compounds other than these may be added to the image recording layer as necessary. For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as an image colorant. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (orientated chemistry) Manufactured by Kogyo Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI52015), Japanese Patent Laid-Open No. 62-293247 Can be mentioned. Also, pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, titanium oxide, etc. can be suitably used.
These colorants are preferably added since it is easy to distinguish an image area from a non-image area after image formation. The addition amount is 0.01 to 10% by mass with respect to the total solid content of the image recording material.

(焼き出し剤)
本発明においては、画像記録層には、焼き出し画像生成のため、酸またはラジカルによって変色する化合物を添加することができる。
このような化合物としては、例えばジフェニルメタン系、トリフェニルメタン系、チアジン系、オキサジン系、キサンテン系、アンスラキノン系、イミノキノン系、アゾ系、アゾメチン系等の各種色素が有効に用いられる。
(Bake-out agent)
In the present invention, a compound that changes color by an acid or a radical can be added to the image recording layer to produce a printout image.
As such a compound, for example, various dyes such as diphenylmethane, triphenylmethane, thiazine, oxazine, xanthene, anthraquinone, iminoquinone, azo, and azomethine are effectively used.

具体的には、ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシックフクシン、メチルバイオレット2B、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニルイエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、パラメチルレッド、コンゴーフレッド、ベンゾプルプリン4B、α−ナフチルレッド、ナイルブルー2B、ナイルブルーA、メチルバイオレット、マラカイドグリーン、パラフクシン、ビクトリアピュアブルーBOH[保土ケ谷化学(株)製]、オイルブルー#603[オリエント化学工業(株)製]、オイルピンク#312[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッド5B[オリエント化学工業(株)製]、オイルスカーレット#308[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッドOG[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッドRR[オリエント化学工業(株)製]、オイルグリーン#502[オリエント化学工業(株)製]、スピロンレッドBEHスペシャル[保土ケ谷化学工業(株)製]、m−クレゾールパープル、クレゾールレッド、ローダミンB、ローダミン6G、スルホローダミンB、オーラミン、4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、2−カルボキシアニリノ−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、2−カルボキシステアリルアミノ−4−p−N,N−ビス(ヒドロキシエチル)アミノ−フェニルイミノナフトキノン、1−フェニル−3−メチル−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン、1−β−ナフチル−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン等の染料やp,p',p"−ヘキサメチルトリアミノトリフェニルメタン(ロイコクリスタルバイオレット)、Pergascript Blue SRB(チバガイギー社製)等のロイコ染料等が挙げられる。   Specifically, brilliant green, ethyl violet, methyl green, crystal violet, basic fuchsin, methyl violet 2B, quinalgin red, rose bengal, metanil yellow, thymol sulfophthalein, xylenol blue, methyl orange, paramethyl red, Congo Fred, Benzopurpurin 4B, α-Naphthyl Red, Nile Blue 2B, Nile Blue A, Methyl Violet, Malachide Green, Parafuchsin, Victoria Pure Blue BOH [manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.], Oil Blue # 603 [Orient Chemical Kogyo Co., Ltd.], Oil Pink # 312 [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Red 5B [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Scarlet # 308 [Orient Chemistry] Made by Co., Ltd.], Oil Red OG [produced by Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Red RR [produced by Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Green # 502 [produced by Orient Chemical Co., Ltd.], Spiron Red BEH Special [Hodogaya Chemical Co., Ltd.], m-cresol purple, cresol red, rhodamine B, rhodamine 6G, sulforhodamine B, auramine, 4-p-diethylaminophenyliminonaphthoquinone, 2-carboxyanilino-4-p-diethylamino Phenyliminonaphthoquinone, 2-carboxystearylamino-4-pN, N-bis (hydroxyethyl) amino-phenyliminonaphthoquinone, 1-phenyl-3-methyl-4-p-diethylaminophenylimino-5-pyrazolone, 1 -Β-naphthyl-4-p- Dyes and p and ethyl aminophenyl imino-5-pyrazolone, p ', p "- hexamethyl triamnotriphenylmethane (leuco crystal violet), Pergascript Blue SRB (manufactured by Ciba-Geigy) a leuco dye or the like, and the like.

上記の他に、感熱紙や感圧紙用の素材として知られているロイコ染料も好適なものとして挙げられる。具体的には、クリスタルバイオレットラクトン、マラカイトグリーンラクトン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、2−(N−フェニル−N−メチルアミノ)−6−(N−p−トリル−N−エチル)アミノ−フルオラン、2−アニリノ−3−メチル−6−(N−エチル−p−トルイジノ)フルオラン、3,6−ジメトキシフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−5−メチル−7−(N,N−ジベンジルアミノ)−フルオラン、3−(N−シクロヘキシル−N−メチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチル−7−キシリジノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチルー7−クロロフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メトキシ−7−アミノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−(4−クロロアニリノ)フルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−クロロフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−ベンジルアミノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7,8−ベンゾフロオラン、3−(N,N−ジブチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジブチルアミノ)−6−メチル−7−キシリジノフルオラン、3−ピペリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ピロリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3,3−ビス(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、3,3−ビス(1−n−ブチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、3,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−6−ジメチルアミノフタリド、3−(4−ジエチルアミノ−2−エトキシフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)−4−ザフタリド、3−(4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド等が挙げられる。   In addition to the above, a leuco dye known as a material for thermal paper or pressure-sensitive paper is also suitable. Specifically, crystal violet lactone, malachite green lactone, benzoyl leucomethylene blue, 2- (N-phenyl-N-methylamino) -6- (Np-tolyl-N-ethyl) amino-fluorane, 2-anilino -3-methyl-6- (N-ethyl-p-toluidino) fluorane, 3,6-dimethoxyfluorane, 3- (N, N-diethylamino) -5-methyl-7- (N, N-dibenzylamino) ) -Fluorane, 3- (N-cyclohexyl-N-methylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3 -(N, N-diethylamino) -6-methyl-7-xylidinofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methyl-7-chloroph Oran, 3- (N, N-diethylamino) -6-methoxy-7-aminofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7- (4-chloroanilino) fluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7-chlorofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7-benzylaminofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7,8-benzofluorane, 3- (N, N-dibutyl) Amino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3- (N, N-dibutylamino) -6-methyl-7-xylidinofluorane, 3-piperidino-6-methyl-7-anilinofluorane 3-pyrrolidino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3,3-bis (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) phthalide, 3,3-bis (1-n-butyl-2) − Tilindole-3-yl) phthalide, 3,3-bis (p-dimethylaminophenyl) -6-dimethylaminophthalide, 3- (4-diethylamino-2-ethoxyphenyl) -3- (1-ethyl-2) -Methylindol-3-yl) -4-zaphthalide, 3- (4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) phthalide and the like.

酸またはラジカルによって変色する染料の好適な添加量は、それぞれ、画像記録層固形分に対して0.01〜10質量%の割合である。   A suitable addition amount of the dye that changes color by an acid or a radical is 0.01 to 10% by mass with respect to the solid content of the image recording layer.

(重合禁止剤)
本発明においては、画像記録層には、画像記録層の製造中または保存中においてラジカル重合性化合物の不要な熱重合を防止するために、少量の熱重合防止剤を重合禁止剤として添加するのが好ましい。
熱重合防止剤としては、具体的には、例えば、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が好適に挙げられる。熱重合防止剤の添加量は、画像記録層の全固形分に対して、約0.01〜約5質量%であるのが好ましい。
(Polymerization inhibitor)
In the present invention, a small amount of a thermal polymerization inhibitor is added to the image recording layer as a polymerization inhibitor in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the radical polymerizable compound during the production or storage of the image recording layer. Is preferred.
Specific examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4′-thiobis (3-methyl). -6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum salt and the like are preferable. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01 to about 5% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer.

(高級脂肪酸誘導体等)
本発明においては、画像記録層には、酸素による重合阻害を防止するために、ベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で画像記録層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、画像記録層の全固形分に対して、約0.1〜約10質量%であるのが好ましい。
(Higher fatty acid derivatives, etc.)
In the present invention, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide or the like is added to the image recording layer in order to prevent polymerization inhibition due to oxygen, and the image recording layer is dried during the coating process. It may be unevenly distributed on the surface. The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably about 0.1 to about 10% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer.

(可塑剤)
本発明においては、画像記録層には、機上現像性を向上させるために、可塑剤を含有してもよい。
可塑剤としては、例えば、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジオクチルフタレート、オクチルカプリルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジアリルフタレート等のフタル酸エステル類;ジメチルグリコールフタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、トリエチレングリコールジカプリル酸エステル等のグリコールエステル類;トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類;ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレエート等の脂肪族二塩基酸エステル類;ポリグリシジルメタクリレート、クエン酸トリエチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチル等が好適に挙げられる。
可塑剤の含有量は、画像記録層の全固形分に対して、約30質量%以下であるのが好ましい。
(Plasticizer)
In the present invention, the image recording layer may contain a plasticizer in order to improve on-press developability.
Examples of the plasticizer include phthalates such as dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diisobutyl phthalate, dioctyl phthalate, octyl capryl phthalate, dicyclohexyl phthalate, ditridecyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diisodecyl phthalate, diallyl phthalate; Glycol esters such as glycol phthalate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalyl ethyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, triethylene glycol dicaprylate; Phosphate esters such as tricresyl phosphate and triphenyl phosphate Diisobutyl adipate, dioctyl adipate, dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, dioct Ruazereto, aliphatic dibasic acid esters such as dibutyl maleate; polyglycidyl methacrylate, triethyl citrate, glycerin triacetyl ester, butyl laurate in.
The plasticizer content is preferably about 30% by mass or less based on the total solid content of the image recording layer.

(無機微粒子)
本発明においては、画像記録層には、画像部の硬化皮膜強度向上および非画像部の機上現像性向上のために、無機微粒子を含有してもよい。
無機微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化チタン、炭酸マグネシウム、アルギン酸カルシウムまたはこれらの混合物が好適に挙げられる。これらは光熱変換性でなくても、皮膜の強化、表面粗面化による界面接着性の強化等に用いることができる。
無機微粒子は、平均粒径が5nm〜10μmであるのが好ましく、0.5μm〜3μmであるのがより好ましい。上記範囲であると、画像記録層中に安定に分散して、画像記録層の膜強度を十分に保持し、印刷時の汚れを生じにくい親水性に優れる非画像部を形成することができる。
上述したような無機微粒子は、コロイダルシリカ分散物等の市販品として容易に入手することができる。
無機微粒子の含有量は、画像記録層の全固形分に対して、40質量%以下であるのが好ましく、30質量%以下であるのがより好ましい。
(Inorganic fine particles)
In the present invention, the image recording layer may contain inorganic fine particles in order to improve the cured film strength of the image area and the on-press developability of the non-image area.
As the inorganic fine particles, for example, silica, alumina, magnesium oxide, titanium oxide, magnesium carbonate, calcium alginate or a mixture thereof can be preferably mentioned. Even if they are not photothermally convertible, they can be used for strengthening the film, enhancing interfacial adhesion by surface roughening, and the like.
The inorganic fine particles preferably have an average particle size of 5 nm to 10 μm, and more preferably 0.5 μm to 3 μm. Within the above range, it is possible to form a non-image portion having excellent hydrophilicity, which is stably dispersed in the image recording layer, sufficiently retains the film strength of the image recording layer, and hardly causes stains during printing.
The inorganic fine particles as described above can be easily obtained as a commercial product such as a colloidal silica dispersion.
The content of the inorganic fine particles is preferably 40% by mass or less, and more preferably 30% by mass or less, based on the total solid content of the image recording layer.

(低分子親水性化合物)
本発明においては、画像記録層には、機上現像性向上のため、親水性低分子化合物を含有してもよい。
親水性低分子化合物としては、例えば、水溶性有機化合物として、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類およびそのエーテルまたはエステル誘導体類;グリセリン、ペンタエリスリトール等のポリヒドロキシ類;トリエタノールアミン、ジエタノールアミンモノエタノールアミン等の有機アミン類およびその塩;トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類およびその塩;フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類およびその塩;酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類およびその塩;等が挙げられる。
(Low molecular hydrophilic compound)
In the present invention, the image recording layer may contain a hydrophilic low molecular weight compound in order to improve the on-press developability.
Examples of the hydrophilic low molecular weight compound include, as water-soluble organic compounds, glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, and ether or ester derivatives thereof; glycerin, penta Polyhydroxys such as erythritol; Organic amines such as triethanolamine and diethanolamine monoethanolamine and salts thereof; Organic sulfonic acids such as toluenesulfonic acid and benzenesulfonic acid and salts thereof; Organic phosphonic acids such as phenylphosphonic acid and their salts Salt; organic carboxylic acids such as tartaric acid, oxalic acid, citric acid, malic acid, lactic acid, gluconic acid, amino acids and salts thereof; and the like.

<画像記録層の形成>
画像記録層は、必要な上記各成分を溶剤に分散、または溶かして塗布液を調製し、塗布される。ここで、使用する溶剤としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。
これらの溶剤は、単独または混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
画像記録層は、同一または異なる上記各成分を同一または異なる溶剤に分散、または溶かした塗布液を複数調製し、複数回の塗布、乾燥を繰り返して形成することも可能である。
<Formation of image recording layer>
The image recording layer is coated by preparing a coating solution by dispersing or dissolving the necessary components in a solvent. Here, as a solvent to be used, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, Examples include dimethoxyethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene, water and the like. Yes, but not limited to this.
These solvents are used alone or in combination. The solid content concentration of the coating solution is preferably 1 to 50% by mass.
The image recording layer can be formed by preparing a plurality of coating solutions in which the same or different components are dispersed or dissolved in the same or different solvents, and repeating a plurality of coatings and dryings.

また、塗布、乾燥後に得られる平版印刷版用支持体上の画像記録層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般的に0.3〜3.0g/m2が好ましい。この範囲で、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性が得られる。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げられる。
Further, the coating amount (solid content) of the image recording layer on the lithographic printing plate support obtained after coating and drying varies depending on the use, but is generally preferably 0.3 to 3.0 g / m 2 . Within this range, good sensitivity and good film characteristics of the image recording layer can be obtained.
Various methods can be used as a coating method. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

<下塗り層>
本発明の平版印刷版原版においては、画像記録層と平版印刷版用支持体との間に下塗り層を設けてることが望ましい。
<Undercoat layer>
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, it is desirable to provide an undercoat layer between the image recording layer and the lithographic printing plate support.

(基板吸着性基、重合性基および親水性基を有するポリマー)
本発明においては、下塗り層は、基板吸着性基、重合性基および親水性基を有するポリマーを含有することが好ましい。
基板吸着性基、重合性基および親水性基を有するポリマーとしては、吸着性基を有するモノマー、親水性基を有するモノマー、および、重合性反応基(架橋性基)を有するモノマーを共重合した下塗り用高分子樹脂を挙げることができる。
(Polymer having substrate adsorptive group, polymerizable group and hydrophilic group)
In the present invention, the undercoat layer preferably contains a polymer having a substrate adsorptive group, a polymerizable group, and a hydrophilic group.
As the polymer having a substrate adsorptive group, a polymerizable group and a hydrophilic group, a monomer having an adsorptive group, a monomer having a hydrophilic group, and a monomer having a polymerizable reactive group (crosslinkable group) were copolymerized. Mention may be made of polymer resins for undercoating.

上記高分子樹脂の必須成分の一つは、基板(親水性支持体表面)への吸着性基である。親水性支持体表面への吸着性の有無に関しては、例えば以下のような方法で判断できる。
試験化合物を易溶性の溶媒に溶解させた塗布夜を作製し、その塗布夜を乾燥後の塗布量が30mg/m2となるように支持体上に塗布・乾燥させる。次に試験化合物を塗布した支持体を、易溶性溶媒を用いて十分に洗浄した後、洗浄除去されなかった試験化合物の残存量を測定して支持体吸着量を算出する。ここで、残存量の測定は、残存化合物量を直接定量してもよいし、洗浄液中に溶解した試験化合物量を定量して算出してもよい。化合物の定量は、例えば蛍光X線測定、反射分光吸光度測定、液体クロマトグラフィー測定などで実施できる。支持体吸着性がある化合物は、上記のような洗浄処理を行っても1mg/m2以上残存する化合物である。
One of the essential components of the polymer resin is an adsorptive group to the substrate (hydrophilic support surface). The presence or absence of adsorptivity on the surface of the hydrophilic support can be determined by the following method, for example.
A coating night is prepared by dissolving the test compound in a readily soluble solvent, and the coating night is coated and dried on the support so that the coating amount after drying is 30 mg / m 2 . Next, the support coated with the test compound is sufficiently washed with a readily soluble solvent, and then the residual amount of the test compound that has not been removed by washing is measured to calculate the adsorbed amount of the support. Here, the measurement of the remaining amount may be performed by directly quantifying the amount of the remaining compound or by quantifying the amount of the test compound dissolved in the cleaning liquid. The compound can be quantified by, for example, fluorescent X-ray measurement, reflection spectral absorbance measurement, liquid chromatography measurement and the like. The compound having support adsorptivity is a compound that remains at 1 mg / m 2 or more even after the above-described washing treatment.

親水性支持体表面への吸着性基は、親水性支持体表面に存在する物質(例えば、金属、金属酸化物)あるいは官能基(例えば、ヒドロキシル基)と、化学結合(例えば、イオン結
合、水素結合、配位結合、分子間力による結合)を引き起こすことができる官能基である。吸着性基は、酸基またはカチオン性基が好ましい。
酸基およびカチオン性基の具体例は、キレート剤の金属吸着性基の項で述べた酸基およびカチオン性基の具体例と同じものが挙げられる。
The adsorptive group on the surface of the hydrophilic support is a substance (for example, metal, metal oxide) or a functional group (for example, hydroxyl group) existing on the surface of the hydrophilic support and a chemical bond (for example, ionic bond, hydrogen). Bond, coordination bond, bond by intermolecular force). The adsorptive group is preferably an acid group or a cationic group.
Specific examples of the acid group and the cationic group are the same as the specific examples of the acid group and the cationic group described in the section of the metal adsorbing group of the chelating agent.

吸着性基を有するモノマーの特に好ましい例としては、下記式(III)または(IV)で表される化合物が挙げられる。   Particularly preferred examples of the monomer having an adsorptive group include compounds represented by the following formula (III) or (IV).

Figure 0005265955
Figure 0005265955

上式において、R1、R2およびR3は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子または炭素原子数が1〜6のアルキル基である。R1、R2およびR3は、それぞれ独立に、水素原子または炭素原子数が1〜6のアルキル基であることが好ましく、水素原子または炭素原子数が1〜3のアルキル基であることがさらに好ましく、水素原子またはメチルであることが最も好ましい。R2およびR3は、水素原子であることが特に好ましい。Zは、親水性支持体表面に吸着する官能基である。 In the above formula, R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. R 1 , R 2 and R 3 are each independently preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. More preferred is a hydrogen atom or methyl. R 2 and R 3 are particularly preferably a hydrogen atom. Z is a functional group that adsorbs to the surface of the hydrophilic support.

式(III)において、Xは、酸素原子(−O−)またはイミノ(−NH−)である。Xは、酸素原子であることがさらに好ましい。
式(III)において、Lは、2価の連結基である。Lは、2価の脂肪族基(アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、置換アルキニレン基)、2価の芳香族基(アリレン基、置換アリレン基)または2価の複素環基であるか、あるいはそれらと、酸素原子(−O−)、硫黄原子(−S−)、イミノ(−NH−)、置換イミノ(−NR−、Rは脂肪族基、芳香族基または複素環基)またはカルボニル(−CO−)との組み合わせであることが好ましい。
In the formula (III), X is an oxygen atom (—O—) or imino (—NH—). X is more preferably an oxygen atom.
In the formula (III), L is a divalent linking group. L is a divalent aliphatic group (alkylene group, substituted alkylene group, alkenylene group, substituted alkenylene group, alkynylene group, substituted alkynylene group), divalent aromatic group (arylene group, substituted arylene group) or divalent Or an oxygen atom (—O—), a sulfur atom (—S—), an imino (—NH—), a substituted imino (—NR—, R is an aliphatic group, an aromatic group Or a combination with a heterocyclic group) or carbonyl (—CO—).

脂肪族基は、環状構造または分岐構造を有していてもよい。脂肪族基の炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜15がさらに好ましく、1〜10が最も好ましい。脂肪族基は、不飽和脂肪族基よりも飽和脂肪族基の方が好ましい。脂肪族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、芳香族基および複素環基を含む。   The aliphatic group may have a cyclic structure or a branched structure. 1-20 are preferable, as for the carbon atom number of an aliphatic group, 1-15 are more preferable, and 1-10 are the most preferable. The aliphatic group is preferably a saturated aliphatic group rather than an unsaturated aliphatic group. The aliphatic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxyl group, an aromatic group, and a heterocyclic group.

芳香族基の炭素原子数は、6〜20が好ましく、6〜15がさらに好ましく、6〜10が最も好ましい。芳香族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、脂肪族基、芳香族基および複素環基を含む。
複素環基は、複素環として5員環または6員環を有することが好ましい。複素環に他の複素環、脂肪族環または芳香族環が縮合していてもよい。複素環基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、オキソ(=O)、チオ(=S)、イミノ(=NH)、置換イミノ基(=N−R、Rは脂肪族基、芳香族基または複素環基)、脂肪族基、芳香族基および複素環基を含む。
6-20 are preferable, as for the carbon atom number of an aromatic group, 6-15 are more preferable, and 6-10 are the most preferable. The aromatic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxyl group, an aliphatic group, an aromatic group, and a heterocyclic group.
The heterocyclic group preferably has a 5-membered or 6-membered ring as the heterocycle. The heterocycle may be condensed with another heterocycle, aliphatic ring or aromatic ring. The heterocyclic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, hydroxyl group, oxo (═O), thio (═S), imino (═NH), substituted imino group (═N—R, R is an aliphatic group, aromatic group or Ring group), aliphatic group, aromatic group and heterocyclic group.

Lは、複数のポリオキシアルキレン構造を含む二価の連結基であることが好ましい。ポリオキシアルキレン構造は、ポリオキシエチレン構造であることがさらに好ましい。言い換えると、Lは、−(OCH2CH2)n−(nは、2以上の整数)を含むことが好ましい。
式(IV)において、Yは炭素原子または窒素原子である。Y=窒素原子でY上にLが連結し四級ピリジニウム基になった場合、それ自体が吸着性を示す事からZは必須ではなく、Z=Hでもよい。Lは式(III)の場合と同じ2価の連結基または単結合を表す。
L is preferably a divalent linking group containing a plurality of polyoxyalkylene structures. The polyoxyalkylene structure is more preferably a polyoxyethylene structure. In other words, L preferably contains — (OCH 2 CH 2 ) n— (n is an integer of 2 or more).
In the formula (IV), Y is a carbon atom or a nitrogen atom. When Y = nitrogen atom and L is linked to Y to form a quaternary pyridinium group, Z itself is adsorbable and Z is not essential, and Z = H may be used. L represents the same divalent linking group or single bond as in formula (III).

吸着性の官能基については、前述した通りである。
以下に、式(III)または(IV)で表される代表的な化合物の例を示す。
The adsorptive functional group is as described above.
Examples of typical compounds represented by formula (III) or (IV) are shown below.

Figure 0005265955
Figure 0005265955

下塗り用高分子樹脂の親水性基としては、例えば、ヒドロキシル基、カルボキシル基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、ポリオキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基、スルホン酸基、リン酸基等が好適に挙げられる。なかでも高親水性を示すスルホン酸基が好ましい。
スルホン酸基を有するモノマーとしては、具体的には、例えば、メタリルオキシベンゼンスルホン酸、アリルオキシベンゼンスルホン酸、アリールスルホン酸、ビニルスルホン酸、p-スチレンスルホン酸、メタリルスルホン酸、アクリルアミドt-ブチルスルホン酸、2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸、(3−アクリロイルオキシプロピル)ブチルスルホン酸のナトリウム塩、アミン塩等が挙げられる。なかでも親水性能および合成の取り扱いから2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸ナトリウム塩が好ましい。
Examples of the hydrophilic group of the polymer resin for undercoat include, for example, hydroxyl group, carboxyl group, carboxylate group, hydroxyethyl group, polyoxyethyl group, hydroxypropyl group, polyoxypropyl group, amino group, aminoethyl group, amino group Preferred examples include a propyl group, an ammonium group, an amide group, a carboxymethyl group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group. Of these, sulfonic acid groups exhibiting high hydrophilicity are preferred.
Specific examples of the monomer having a sulfonic acid group include methallyloxybenzene sulfonic acid, allyloxybenzene sulfonic acid, aryl sulfonic acid, vinyl sulfonic acid, p-styrene sulfonic acid, methallyl sulfonic acid, and acrylamide t. -Butylsulfonic acid, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, sodium salt of (3-acryloyloxypropyl) butylsulfonic acid, amine salt and the like. Of these, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid sodium salt is preferred in view of hydrophilic performance and handling of synthesis.

下塗り用高分子樹脂は、重合性反応基を有すことが好ましい。重合性反応基によって画像部との密着の向上が得られる。下塗り層用の高分子樹脂に架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を高分子の側鎖中に導入したり、高分子樹脂の極性置換基と対荷電を有する置換基とエチレン性不飽和結合を有する化合物で塩構造を形成させたりして導入することができる。   The undercoat polymer resin preferably has a polymerizable reactive group. Improvement of adhesion with the image area is obtained by the polymerizable reactive group. In order to make the polymer resin for the undercoat layer crosslinkable, a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond is introduced into the side chain of the polymer, or the polar substituent of the polymer resin is countercharged. Or a compound having an ethylenically unsaturated bond may be introduced by forming a salt structure.

分子の側鎖中にエチレン性不飽和結合を導入するためのモノマーとしては、例えば、アクリル酸またはメタクリル酸のエステルまたはアミドのモノマーであって、エステルまたはアミドの残基(−COORまたはCONHRのR)がエチレン性不飽和結合を有するモノマーを挙げることができる。   Examples of the monomer for introducing an ethylenically unsaturated bond into the side chain of the molecule include an ester or amide monomer of acrylic acid or methacrylic acid, and an ester or amide residue (R of -COOR or CONHR ) May have a monomer having an ethylenically unsaturated bond.

エチレン性不飽和結合を有する残基(上記R)としては、具体的には、例えば、−(CH2)nCR1=CR23、−(CH2O)nCH2CR1=CR23、−(CH2CH2O)nCH2CR1=CR23、−(CH2)nNH−CO−O−CH2CR1=CR23、−(CH2)n−O−CO−CR1=CR23、および(CH2CH2O)2−X(式中、R1〜R3はそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、アルコキシ基もしくはアリールオキシ基を表し、R1とR2またはR3とは互いに結合して環を形成してもよい。nは、1〜10の整数を表す。Xは、ジシクロペンタジエニル残基を表す。)を挙げることができる。
エステル残基としては、具体的には、例えば、−CH2CH=CH2(特公平7−21633号公報に記載されている。)、−CH2CHO−CH2CH=CH2、−CH2C(CH3)=CH2、−CH2CH=CH−C65、−CH2CH2OCOCH=CH−C65、−CH2CH2NHCOO−CH2CH=CH2、およびCH2CH2O−X(式中、Xはジシクロペンタジエニル残基を表す。)が挙げられる。
アミド残基としては、具体的には、例えば、−CH2CH=CH2、−CH2CH2O−Y(式中、Yはシクロヘキセン残基を表す。)、−CH2CH2OCO−CH=CH2が挙げられる。
Specific examples of the residue having the ethylenically unsaturated bond (the above R) include, for example, — (CH 2 ) n CR 1 ═CR 2 R 3 , — (CH 2 O) n CH 2 CR 1 ═CR 2 R 3, - (CH 2 CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n NH-CO-O-CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n— O—CO—CR 1 ═CR 2 R 3 and (CH 2 CH 2 O) 2 —X (wherein R 1 to R 3 are each a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl having 1 to 20 carbon atoms) Represents a group, an aryl group, an alkoxy group or an aryloxy group, and R 1 and R 2 or R 3 may combine with each other to form a ring, n represents an integer of 1 to 10. X represents Represents a dicyclopentadienyl residue).
The ester residue, specifically, for example, -CH 2 CH = CH 2, ( described in JP Kokoku 7-21633.) - CH 2 CH 2 O-CH 2 CH = CH 2, -CH 2 C (CH 3) = CH 2, -CH 2 CH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 OCOCH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 NHCOO-CH 2 CH = CH 2 and CH 2 CH 2 O—X (wherein X represents a dicyclopentadienyl residue).
Specific examples of the amide residue include, for example, —CH 2 CH═CH 2 , —CH 2 CH 2 O—Y (wherein Y represents a cyclohexene residue), —CH 2 CH 2 OCO—. CH = CH 2 is mentioned.

下塗り層用高分子樹脂中の重合性反応基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、高分子樹脂1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、より好ましくは1.0〜7.0mmol、最も好ましくは2.0〜5.5mmolである。この範囲で、良好な感度と汚れ性の両立、および良好な保存安定性が得られる。   The content of the polymerizable reactive group in the polymer resin for the undercoat layer (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.1 to 10.0 mmol per 1 g of the polymer resin. More preferably, it is 1.0-7.0 mmol, Most preferably, it is 2.0-5.5 mmol. Within this range, both good sensitivity and dirtiness and good storage stability can be obtained.

下塗り層用の高分子樹脂は、質量平均分子量が5000以上であるのが好ましく、1万〜30万であるのがより好ましく、また、数平均分子量が1000以上であるのが好ましく、2000〜25万であるのがより好ましい。多分散度(質量平均分子量/数平均分子量)は、1.1〜10であるのが好ましい。
下塗り層用の高分子樹脂は、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等のいずれでもよいが、ランダムポリマーであるのが好ましい。
The polymer resin for the undercoat layer preferably has a mass average molecular weight of 5000 or more, more preferably 10,000 to 300,000, and a number average molecular weight of 1000 or more, preferably 2000 to 25 More preferably, it is 10,000. The polydispersity (mass average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 10.
The polymer resin for the undercoat layer may be any of a random polymer, a block polymer, a graft polymer, and the like, but is preferably a random polymer.

下塗り用高分子樹脂は単独で用いても2種以上を混合して用いてもよく、キレート剤も単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。下塗り層用塗布液は、上記下塗り用の高分子樹脂とキレート剤を有機溶媒(例えばメタノール、エタノール、アセトン、メチルエチルケトンなど)および/または水に溶解して得られる。下塗り層用塗布液には、赤外線吸収剤を含有させることもできる。
下塗り層塗布液を支持体に塗布する方法としては、公知の種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。
下塗り層の塗布量(固形分)は、0.1〜100mg/m2であるのが好ましく、1〜50mg/m2であるのがより好ましい。
The undercoat polymer resin may be used alone or in combination of two or more, and the chelating agent may be used alone or in combination of two or more. The undercoat layer coating solution is obtained by dissolving the above-described undercoat polymer resin and a chelating agent in an organic solvent (for example, methanol, ethanol, acetone, methyl ethyl ketone, etc.) and / or water. The undercoat layer coating solution may contain an infrared absorber.
Various known methods can be used as a method of applying the undercoat layer coating solution to the support. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.
The coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably from 0.1-100 mg / m 2, and more preferably 1 to 50 mg / m 2.

<保護層>
本発明の平版印刷版原版においては、画像記録層における傷等の発生防止、酸素遮断、高照度レーザー露光時のアブレーション防止のため、必要に応じて、画像記録層の上に保護層を設けることができる。
本発明においては、通常、露光を大気中で行うが、保護層は、画像記録層中で露光により生ずる画像形成反応を阻害する大気中に存在する酸素、塩基性物質等の低分子化合物の画像記録層への混入を防止し、大気中での露光による画像形成反応の阻害を防止する。したがって、保護層に望まれる特性は、酸素等の低分子化合物の透過性が低いことであり、さらに、露光に用いられる光の透過性が良好で、画像記録層との密着性に優れ、かつ、露光後の機上現像処理工程で容易に除去することができるものであるのが好ましい。
このような特性を有する保護層については、以前より種々検討がなされており、例えば、米国特許第3、458、311号明細書および特公昭55−49729号公報に詳細に記載されている。
<Protective layer>
In the lithographic printing plate precursor according to the present invention, a protective layer is provided on the image recording layer as necessary in order to prevent the occurrence of scratches in the image recording layer, to block oxygen, and to prevent ablation during high-illuminance laser exposure. Can do.
In the present invention, exposure is usually carried out in the atmosphere, but the protective layer is an image of low molecular weight compounds such as oxygen and basic substances present in the atmosphere that inhibit the image forming reaction caused by exposure in the image recording layer. This prevents the recording layer from being mixed, and prevents the image formation reaction from being hindered by exposure in the air. Therefore, the properties desired for the protective layer are low permeability of low-molecular compounds such as oxygen, furthermore, good transparency of light used for exposure, excellent adhesion with the image recording layer, and It is preferable that it can be easily removed in an on-press development process after exposure.
Various studies have been made on the protective layer having such characteristics, and are described in detail, for example, in US Pat. No. 3,458,311 and JP-B-55-49729.

保護層に用いられる材料としては、例えば、比較的、結晶性に優れる水溶性高分子化合物が挙げられる。具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸等の水溶性ポリマーが挙げられる。なかでも、ポリビニルアルコール(PVA)を主成分として用いると、酸素遮断性、現像除去性等の基本的な特性に対して最も良好な結果を与える。ポリビニルアルコールは、保護層に必要な酸素遮断性と水溶性を与えるための未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテルまたはアセタールで置換されていてもよく、一部が他の共重合成分を有していてもよい。   Examples of the material used for the protective layer include water-soluble polymer compounds that are relatively excellent in crystallinity. Specific examples include water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, and polyacrylic acid. Among these, when polyvinyl alcohol (PVA) is used as a main component, the best results are obtained for basic characteristics such as oxygen barrier properties and development removability. The polyvinyl alcohol may be partially substituted with an ester, ether or acetal as long as it contains an unsubstituted vinyl alcohol unit for providing the oxygen barrier property and water solubility necessary for the protective layer, and a part of the other You may have a copolymerization component.

ポリビニルアルコールとしては、例えば、71〜100モル%加水分解された重合度300〜2400の範囲のものが好適に挙げられる。具体的には、例えば、(株)クラレ製のPVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−117H、PVA−120、PVA−124、PVA−124H、PVA−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−203、PVA−204、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−217EE、PVA−217E、PVA−220E、PVA−224E、PVA−405、PVA−420、PVA−613、L−8等が挙げられる。   As a polyvinyl alcohol, the thing of the range of the polymerization degree 300-2400 hydrolyzed 71-100 mol% is mentioned suitably, for example. Specifically, for example, PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA manufactured by Kuraray Co., Ltd. -HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405 , PVA-420, PVA-613, L-8 and the like.

保護層の成分(PVAの選択、添加剤の使用等)、塗布量等は、酸素遮断性および現像除去性のほか、カブリ性、密着性、耐傷性等を考慮して適宜選択される。一般には、PVAの加水分解率が高いほど(すなわち、保護層中の未置換ビニルアルコール単位含有率が高いほど)、また、膜厚が厚いほど、酸素遮断性が高くなり、感度の点で好ましい。また、製造時および保存時に不要な重合反応、画像露光時の不要なカブリおよび画線の太り等を防止するためには、酸素遮断性が高くなりすぎないことが好ましい。従って、25℃、1気圧下における酸素透過性Aが0.2≦A≦20(ml/m2・day)であることが
好ましい。
The components of the protective layer (selection of PVA, use of additives, etc.), coating amount, etc. are appropriately selected in consideration of fogging properties, adhesion, scratch resistance, etc. in addition to oxygen barrier properties and development removability. Generally, the higher the hydrolysis rate of PVA (that is, the higher the content of the unsubstituted vinyl alcohol unit in the protective layer), and the thicker the film thickness, the higher the oxygen barrier property, which is preferable in terms of sensitivity. . Further, in order to prevent unnecessary polymerization reaction during production and storage, unnecessary fogging during image exposure, image line thickening, and the like, it is preferable that the oxygen barrier property is not too high. Accordingly, the oxygen permeability A at 25 ° C. and 1 atm is preferably 0.2 ≦ A ≦ 20 (ml / m 2 · day).

保護層の好ましい態様として、特開平11−38633号公報等に記載の無機質の層状化合物を含有させた保護層を挙げることができる。無機質の層状化合物と上記バインダーと組み合わせによって良好な酸素遮断性を得ることができる。本発明において用いられる無機質層状化合物とは、薄い平版状の形状を有する粒子であり、例えば、   As a preferred embodiment of the protective layer, there can be mentioned a protective layer containing an inorganic layered compound described in JP-A No. 11-38633. Good oxygen barrier properties can be obtained by combining the inorganic layered compound and the binder. The inorganic layered compound used in the present invention is a particle having a thin planographic shape, for example,

一般式 A(B,C)2-5410(OH,F,O)2 General formula A (B, C) 2-5 D 4 O 10 (OH, F, O) 2

〔ただし、AはK,Na,Caの何れか、BおよびCはFe(II),Fe(III),Mn
,Al,Mg,Vの何れかであり、DはSiまたはAlである。〕で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群、式3MgO・4SiO・H2Oで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、リン酸ジルコニウムなどが挙げられる。
[However, A is any of K, Na and Ca, and B and C are Fe (II), Fe (III), Mn
, Al, Mg, or V, and D is Si or Al. And mica groups such as natural mica and synthetic mica, talc, teniolite, montmorillonite, saponite, hectorite, zirconium phosphate and the like represented by the formula 3MgO.4SiO.H 2 O.

上記天然雲母としては、具体的には、例えば、白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母および鱗雲母が挙げられる。
また、合成雲母としては、具体的には、例えば、フッ素金雲母KMg3(AlSi310)F2、カリ四ケイ素雲母KMg2.5Si410)F2等の非膨潤性雲母;NaテトラシリリックマイカNaMg2.5(Si410)F2、NaまたはLiテニオライト(Na,Li)Mg2Li(Si410)F2、モンモリロナイト系のNaまたはLiヘクトライト(Na,Li)1/8Mg2/5Li1/8(Si410)F2等の膨潤性雲母;等が挙げられる。さらに合成スメクタイトも有用である。
Specific examples of the natural mica include muscovite, soda mica, phlogopite, biotite, and sericite.
Specific examples of synthetic mica include non-swellable mica such as fluorine phlogopite mica 3 (AlSi 3 O 10 ) F 2 , potassium tetrasilicon mica KMg 2.5 Si 4 O 10 ) F 2 ; Silic mica NaMg 2.5 (Si 4 O 10 ) F 2 , Na or Li teniolite (Na, Li) Mg 2 Li (Si 4 O 10 ) F 2 , Montmorillonite Na or Li hectorite (Na, Li) 1 / 8 Swellable mica such as Mg 2/5 Li 1/8 (Si 4 O 10 ) F 2 ; Synthetic smectites are also useful.

本発明においては、上記の無機質の層状化合物の中でも、合成の無機質の層状化合物であるフッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。   In the present invention, among the inorganic layered compounds, fluorine-based swellable mica, which is a synthetic inorganic layered compound, is particularly useful.

本発明で使用する無機質の層状化合物の形状としては、拡散制御の観点からは、厚さは薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限りにおいて大きいほどよい。従って、アスペクト比は20以上であり、好ましくは100以上、特に好ましくは200以上である。なお、アスペクト比は粒子の長径に対する厚さの比であり、たとえば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。   As the shape of the inorganic layered compound used in the present invention, from the viewpoint of diffusion control, the smaller the thickness, the better. The plane size is as long as it does not hinder the smoothness of the coated surface or the transmittance of actinic rays. Larger is better. Accordingly, the aspect ratio is 20 or more, preferably 100 or more, particularly preferably 200 or more. The aspect ratio is the ratio of the thickness to the major axis of the particle, and can be measured, for example, from a projected view of the particle by a micrograph. The larger the aspect ratio, the greater the effect that can be obtained.

本発明で使用する無機質の層状化合物の粒子径は、その平均長径が0.3〜20μm、好ましくは0.5〜10μm、特に好ましくは1〜5μmである。また、該粒子の平均の厚さは、0.1μm以下、好ましくは、0.05μm以下、特に好ましくは、0.01μm以下である。例えば、無機質の層状化合物のうち、代表的化合物である膨潤性合成雲母のサイズは厚さが1〜50nm、面サイズが1〜20μm程度である。   As for the particle diameter of the inorganic stratiform compound used in the present invention, the average major axis is 0.3 to 20 μm, preferably 0.5 to 10 μm, particularly preferably 1 to 5 μm. The average thickness of the particles is 0.1 μm or less, preferably 0.05 μm or less, particularly preferably 0.01 μm or less. For example, among inorganic layered compounds, the size of the swellable synthetic mica that is a representative compound is about 1 to 50 nm in thickness and about 1 to 20 μm in surface size.

このようにアスペクト比が大きい無機質の層状化合物の粒子を保護層に含有させると、塗膜強度が向上し、また、酸素や水分の透過を効果的に防止しうるため、変形などによる保護層の劣化を防止する。   When the inorganic layered compound particles having such a large aspect ratio are contained in the protective layer, the coating film strength is improved, and the permeation of oxygen and moisture can be effectively prevented. Prevent deterioration.

無機質の層状化合物の保護層に含有される量は、保護層の全固形分量に対し、好ましくは5質量%〜55質量%、より好ましくは10質量%〜40質量%である。5質量%以上とすることで、耐接着性に対して効果が認められ、55質量%以下であれば塗膜形成性が良好で十分な感度が得られる。複数種の無機質の層状化合物を併用した場合でも、これらの無機質層状化合物の合計量が上記の質量%であることが好ましい。   The amount contained in the protective layer of the inorganic stratiform compound is preferably 5% by mass to 55% by mass, more preferably 10% by mass to 40% by mass with respect to the total solid content of the protective layer. When the content is 5% by mass or more, an effect on the adhesion resistance is recognized. Even when a plurality of types of inorganic layered compounds are used in combination, the total amount of these inorganic layered compounds is preferably the above-described mass%.

保護層に用いる無機質層状化合物の分散は、例えば、下記のようにして行われる。まず、水100質量部に先に無機質層状化合物の好ましいものとして挙げた膨潤性の層状化合物を5〜10質量部添加し、充分水になじませ、膨潤させた後、分散機にかけて分散する。
ここで用いる分散機としては、機械的に直接力を加えて分散する各種ミル、大きな剪断力を有する高速攪拌型分散機、高強度の超音波エネルギーを与える分散機等が挙げられる。具体的には、ボールミル、サンドグラインダーミル、ビスコミル、コロイドミル、ホモジナイザー、ティゾルバー、ポリトロン、ホモミキサー、ホモブレンダー、ケディミル、ジェットアジター、毛細管式乳化装置、液体サイレン、電磁歪式超音波発生機、ポールマン笛を有する乳化装置等が挙げられる。上記の方法で分散した無機質層状化合物の5〜10質量%の分散物は高粘度あるいはゲル状であり、保存安定性は極めて良好である。この分散物を用いて保護層塗布液を調製する際には、水で希釈し、充分攪拌した後、バインダー溶液と配合して調製するのが好ましい。
The inorganic stratiform compound used in the protective layer is dispersed, for example, as follows. First, 5 to 10 parts by mass of the swellable layered compound mentioned above as a preferred inorganic layered compound is added to 100 parts by mass of water, and the mixture is thoroughly swelled and swollen, and then dispersed by a disperser.
Examples of the disperser used here include various mills that disperse mechanically by applying a direct force, a high-speed stirring disperser having a large shearing force, and a disperser that provides high-intensity ultrasonic energy. Specifically, ball mill, sand grinder mill, visco mill, colloid mill, homogenizer, tisol bar, polytron, homomixer, homo blender, ketdy mill, jet agitator, capillary emulsifier, liquid siren, electrostrictive ultrasonic generator, An emulsifying device having a Paulman whistle can be used. A dispersion of 5 to 10% by mass of the inorganic stratiform compound dispersed by the above method is highly viscous or gelled and has very good storage stability. When preparing a protective layer coating solution using this dispersion, it is preferably prepared by diluting with water and stirring sufficiently, and then blending with a binder solution.

保護層の他の組成物として、グリセリン、ジプロピレングリコール等を水溶性高分子化合物に対して数質量%相当量添加して可撓性を付与することができ、また、アルキル硫酸ナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウム等のアニオン界面活性剤;アルキルアミノカルボン酸塩、アルキルアミノジカルボン酸塩等の両性界面活性剤;ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等の非イオン界面活性剤を(共)重合体に対して数質量%添加することができる。保護層の膜厚は、0.1〜5μmが適当であり、特に0.2〜2μmが好適である。   As another composition of the protective layer, glycerin, dipropylene glycol and the like can be added in an amount corresponding to several mass% with respect to the water-soluble polymer compound, and flexibility can be imparted. Anionic surfactants such as sodium acid salts; amphoteric surfactants such as alkylaminocarboxylates and alkylaminodicarboxylates; nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkylphenyl ethers to the (co) polymer Mass% can be added. The thickness of the protective layer is suitably from 0.1 to 5 μm, particularly preferably from 0.2 to 2 μm.

また、画像部との密着性、耐傷性等も平版印刷版原版の取り扱い上、極めて重要である。すなわち、水溶性高分子化合物を含有するため親水性である保護層を、画像記録層が親油性である場合に、画像記録層に積層すると、接着力不足による保護層のはく離が生じやすく、はく離部分において、酸素による重合阻害に起因する膜硬化不良等の欠陥を引き起こすことがある。   In addition, adhesion to the image area, scratch resistance, and the like are extremely important in handling the lithographic printing plate precursor. That is, when a protective layer that is hydrophilic because it contains a water-soluble polymer compound is laminated on the image recording layer when the image recording layer is oleophilic, the protective layer is liable to peel off due to insufficient adhesion, and the peeling occurs. In some parts, defects such as poor film hardening due to inhibition of polymerization by oxygen may occur.

これに対して、画像記録層と保護層との間の接着性を改良すべく、種々の提案がなされている。例えば、特開昭49−70702号公報には、主にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルション、水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体等を20〜60質量%混合させ、画像記録層上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。   On the other hand, various proposals have been made to improve the adhesion between the image recording layer and the protective layer. For example, in JP-A-49-70702, a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol is mixed with 20 to 60% by mass of an acrylic emulsion, a water-insoluble vinylpyrrolidone-vinyl acetate copolymer, etc. It is described that sufficient adhesion can be obtained by laminating on a recording layer.

このように調製された保護層塗布液を、支持体上に備えられた画像記録層の上に塗布し、乾燥して保護層を形成する。塗布溶剤はバインダーとの関連において適宜選択することができるが、水溶性ポリマーを用いる場合には、蒸留水、精製水を用いることが好ましい。保護層の塗布方法は、特に制限されるものではなく、米国特許第3,458,311号明細書または特公昭55−49729号公報に記載されている方法など公知の方法を適用することができる。具体的には、例えば、ブレード塗布法、エアナイフ塗布法、グラビア塗布法、ロールコーティング塗布法、スプレー塗布法、ディップ塗布法、バー塗布法等が挙げられる。   The protective layer coating solution thus prepared is applied onto the image recording layer provided on the support and dried to form a protective layer. The coating solvent can be appropriately selected in relation to the binder, but when a water-soluble polymer is used, it is preferable to use distilled water or purified water. The method for applying the protective layer is not particularly limited, and a known method such as the method described in US Pat. No. 3,458,311 or Japanese Patent Publication No. 55-49729 can be applied. . Specific examples include a blade coating method, an air knife coating method, a gravure coating method, a roll coating coating method, a spray coating method, a dip coating method, and a bar coating method.

保護層の塗布量としては、乾燥後の塗布量で、0.01〜10g/m2の範囲であることが好ましく、0.02〜3g/m2の範囲がより好ましく、最も好ましくは0.02〜1g/m2の範囲である。 The coating amount of the protective layer, the coating amount after drying is preferably in the range of 0.01 to 10 g / m 2, more preferably in the range of 0.02 to 3 g / m 2, and most preferably 0. It is in the range of 02 to 1 g / m 2 .

さらに、保護層には、他の機能を付与することもできる。例えば、露光に用いられる赤外線の透過性に優れ、かつ、それ以外の波長の光を効率よく吸収しうる、着色剤(例えば、水溶性染料)の添加により、感度低下を引き起こすことなく、セーフライト適性を向上させることができる。   Furthermore, other functions can be imparted to the protective layer. For example, by adding a colorant (for example, a water-soluble dye) that is excellent in the transparency of infrared rays used for exposure and that can efficiently absorb light of other wavelengths, safe light is not caused. Suitability can be improved.

このような画像記録層を設ける本発明の平版印刷版原版は、本発明のアルミニウム合金板および平版印刷版用支持体を用いているため、現像処理を施すことにより、耐ポツ状汚れ性に優れる平版印刷版となる。   Since the lithographic printing plate precursor of the present invention provided with such an image recording layer uses the aluminum alloy plate of the present invention and the lithographic printing plate support, it is excellent in resistance to spot-like stains by performing development treatment. It becomes a lithographic printing plate.

(実施例1〜8、比較例1〜5)
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
(Examples 1-8, Comparative Examples 1-5)
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these.

1.アルミニウム合金板の製造
第1表に示す組成のアルミニウム合金を半連続鋳造(DC)または連続鋳造(CC)を施した。
半連続鋳造では、形成した鋳塊を面削した後、加熱処理、均熱処理、熱間圧延、冷間圧延、中間焼鈍、冷間圧延および矯正を順次行って、アルミニウム合金板を得た。均熱処理の温度を第1表に示す。
一方、連続鋳造では、熱間圧延、冷間圧延、中間焼鈍、冷間圧延および矯正を順次行って、アルミニウム合金板を得た。中間焼鈍の温度を第1表に示す。
1. Production of Aluminum Alloy Plate An aluminum alloy having the composition shown in Table 1 was subjected to semi-continuous casting (DC) or continuous casting (CC).
In semi-continuous casting, the formed ingot was chamfered, and then heat treatment, soaking, hot rolling, cold rolling, intermediate annealing, cold rolling and straightening were sequentially performed to obtain an aluminum alloy sheet. Table 1 shows the soaking temperature.
On the other hand, in continuous casting, hot rolling, cold rolling, intermediate annealing, cold rolling and straightening were sequentially performed to obtain an aluminum alloy sheet. The temperature of the intermediate annealing is shown in Table 1.

得られたアルミニウム合金板のFe固溶量(質量%)、ならびに、金属間化合物およびAl−Fe系金属間化合物の含有量を以下に示す方法により測定した。その結果を第1表に示す。   The amount of Fe solid solution (mass%) of the obtained aluminum alloy plate and the contents of intermetallic compounds and Al—Fe-based intermetallic compounds were measured by the following methods. The results are shown in Table 1.

<Fe固溶量>
Fe固溶量は、得られたアルミニウム合金板を熱フェノールによって溶解し、溶解されたマトリックスおよび溶解残残渣としての金属間化合物をろ過し、更にろ液中の微細な金属間化合物を10%クエン酸溶液を用いた抽出により分離し、その後のろ液中のFe量をICP発光分析装置によって測定した。
<Fe solid solution amount>
The amount of solid solution of Fe was obtained by dissolving the obtained aluminum alloy plate with hot phenol, filtering the dissolved matrix and the intermetallic compound as a residual residue, and further filtering the fine intermetallic compound in the filtrate with 10% quenching. It isolate | separated by extraction using an acid solution, and measured the amount of Fe in a subsequent filtrate with the ICP emission spectrometer.

<金属間化合物およびAl−Fe系金属間化合物の含有量>
上記アルミニウム合金中の含有金属間化合物をXRDにより測定した。
具体的には、X線回折装置RAD−rR(リガク社製)を用い、以下に示す測定条件により検出されたFe系金属間化合物相(Al3Fe、Al6Fe、α−AlFeSi)の積分回折強度値(単位:Kcounts)を算出した。
・設定管電圧 50kV
・設定管電流 200mA
・サンプリング間隔 0.01°
・スキャン速度 1°/分
・2θ走査範囲 10°〜70°
・グラファイトモノクロメータ使用
<Contents of intermetallic compound and Al—Fe intermetallic compound>
The intermetallic compound contained in the aluminum alloy was measured by XRD.
Specifically, using an X-ray diffractometer RAD-rR (manufactured by Rigaku Corporation), the integration of Fe-based intermetallic compound phases (Al 3 Fe, Al 6 Fe, α-AlFeSi) detected under the following measurement conditions The diffraction intensity value (unit: Kcounts) was calculated.
・ Set tube voltage 50kV
・ Set tube current 200mA
・ Sampling interval 0.01 °
・ Scanning speed 1 ° / min ・ 2θ scanning range 10 ° ~ 70 °
・ Use of graphite monochromator

測定にて得られたX線チャートから、Al3Fe:24.0°、Al6Fe:18.0°、α−AlFeSi:42.0°の積分回折強度値を用いた。
続いて、以下の式により、Al−Fe系金属間化合物の含有量を算出した。
From the X-ray chart obtained by the measurement, integrated diffraction intensity values of Al 3 Fe: 24.0 °, Al 6 Fe: 18.0 °, α-AlFeSi: 42.0 ° were used.
Subsequently, the content of the Al—Fe-based intermetallic compound was calculated by the following formula.

Al−Fe系金属間化合物含有量(質量%)={Fe含有量(質量%)−Fe固溶量(質量%)}×{(XRDにより検出されたAl−Fe系金属間化合物相ピークの積分回折強度の合計)/(XRDにより検出されたFe系各相ピークの積分回折強度の合計)}   Al-Fe intermetallic compound content (% by mass) = {Fe content (% by mass) -Fe solid solution amount (% by mass)} × {(Al—Fe intermetallic compound phase peak detected by XRD Sum of integral diffraction intensities) / (total sum of integral diffraction intensities of Fe phase peaks detected by XRD)}

ここで、Al−Fe系金属間化合物とは、Al3FeおよびAl6Feを示し、Fe系各相とは、Al3Fe、Al6Feおよびα−AlFeSiを示す。また、ピークが現れない場合、積分回折強度は0.1として算出した。 Here, the Al—Fe-based intermetallic compound indicates Al 3 Fe and Al 6 Fe, and the Fe-based phases indicate Al 3 Fe, Al 6 Fe, and α-AlFeSi. When no peak appeared, the integrated diffraction intensity was calculated as 0.1.

Figure 0005265955
Figure 0005265955

Figure 0005265955
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2.平版印刷版用支持体の製造
上記で製造した各アルミニウム合金板に対し、下記(A)〜(C)のうち下記第2表に示す処理を施し、平版印刷版用支持体を製造した。なお、全ての処理工程の間には水洗処理を施し、水洗処理の後にはニップローラで液切りを行った。
2. Production of Support for Lithographic Printing Plate Each aluminum alloy plate produced above was subjected to the treatment shown in Table 2 below among the following (A) to (C) to produce a lithographic printing plate support. In addition, the water washing process was performed between all the process steps, and the liquid draining was performed with the nip roller after the water washing process.

<処理(A)>
(A−a)機械的粗面化処理(ブラシグレイン法)
図3に示したような装置を使って、パミスの懸濁液(比重1.1g/cm3)を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転する束植ブラシにより機械的粗面化処理を行った。図3において、1はアルミニウム板、2および4はローラ状ブラシ(本実施例において、束植ブラシ)、3は研磨スラリー液、5、6、7および8は支持ローラである。
機械的粗面化処理は、研磨材のメジアン径(μm)を30μm、ブラシ本数を4本、ブラシの回転数(rpm)を250rpmとした。束植ブラシの材質は6・10ナイロンで、ブラシ毛の直径0.3mm、毛長50mmであった。ブラシは、φ300mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。束植ブラシ下部の2本の支持ローラ(φ200mm)の距離は300mmであった。束植ブラシはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、束植ブラシをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して10kWプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。
<Process (A)>
(Aa) Mechanical roughening treatment (brush grain method)
Using a device as shown in FIG. 3, a mechanical rough surface by a rotating bundle-planting brush while supplying a suspension of pumice (specific gravity 1.1 g / cm 3 ) as a polishing slurry to the surface of an aluminum plate. The treatment was performed. In FIG. 3, 1 is an aluminum plate, 2 and 4 are roller-like brushes (bundling brushes in this embodiment), 3 is an abrasive slurry, and 5, 6, 7 and 8 are support rollers.
In the mechanical surface roughening treatment, the median diameter (μm) of the abrasive was 30 μm, the number of brushes was 4, and the number of rotations (rpm) of the brushes was 250 rpm. The material of the bunch planting brush was 6 · 10 nylon, with a bristle diameter of 0.3 mm and a bristle length of 50 mm. The brush was planted so as to be dense by making a hole in a stainless steel tube having a diameter of 300 mm. The distance between the two support rollers (φ200 mm) at the bottom of the bundle-planting brush was 300 mm. The bundle brush was pressed until the load of the drive motor for rotating the brush became 10 kW plus with respect to the load before the bundle brush was pressed against the aluminum plate. The rotating direction of the brush was the same as the moving direction of the aluminum plate.

(A−b)アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度70℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、10g/m2であった。
(Ab) Alkaline etching treatment The aluminum plate obtained above was etched by spraying a caustic soda aqueous solution having a caustic soda concentration of 26 mass% and an aluminum ion concentration of 6.5 mass% with a spray tube at a temperature of 70 ° C. . Then, water washing by spraying was performed. The amount of aluminum dissolved was 10 g / m 2 .

(A−c)酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、硝酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硝酸水溶液は、次工程の電気化学的な粗面化に用いた硝酸の廃液を用いた。その液温は35℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて3秒間デスマット処理を行った。
(Ac) Desmutting treatment in acidic aqueous solution Next, desmutting treatment was performed in an aqueous nitric acid solution. The nitric acid aqueous solution used for the desmut treatment was a nitric acid waste solution used for electrochemical roughening in the next step. The liquid temperature was 35 ° C. The desmutting liquid was sprayed and sprayed for 3 seconds.

(A−d)電気化学的粗面化処理
硝酸電解60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、温度35℃、硝酸10.4g/Lの水溶液に硝酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を4.5g/Lに調整した電解液を用いた。交流電源波形は図1に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽は図2に示すものを使用した。電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。電気量(C/dm2)はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で185C/dm2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
(Ad) Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was carried out continuously using an alternating voltage of nitric acid electrolysis 60 Hz. As the electrolytic solution at this time, an electrolytic solution in which aluminum nitrate was adjusted to 4.5 g / L by adding aluminum nitrate to an aqueous solution having a temperature of 35 ° C. and nitric acid of 10.4 g / L was used. The AC power supply waveform is the waveform shown in FIG. 1. The time TP until the current value reaches the peak from zero is 0.8 msec, the duty ratio is 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave AC is used with the carbon electrode as the counter electrode. An electrochemical roughening treatment was performed. Ferrite was used for the auxiliary anode. The electrolytic cell shown in FIG. 2 was used. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. Amount of electricity (C / dm 2) the aluminum plate was 185C / dm 2 as the total quantity of electricity when the anode. Then, water washing by spraying was performed.

(A−e)アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度5質量%、アルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度50℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、0.5g/m2であった。
(Ae) Alkaline etching treatment The aluminum plate obtained above was etched by spraying a caustic soda aqueous solution having a caustic soda concentration of 5 mass% and an aluminum ion concentration of 0.5 mass% with a spray tube at a temperature of 50C. . Then, water washing by spraying was performed. The amount of dissolved aluminum was 0.5 g / m 2 .

(A−f)酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる硫酸水溶液は、硫酸濃度300g/L、アルミニウムイオン濃度5g/Lの液を用いた。その液温は、60℃であった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて3秒間デスマット処理を行った。
(Af) Desmutting treatment in acidic aqueous solution Next, desmutting treatment was performed in an aqueous sulfuric acid solution. The sulfuric acid aqueous solution used for the desmut treatment was a solution having a sulfuric acid concentration of 300 g / L and an aluminum ion concentration of 5 g / L. The liquid temperature was 60 ° C. The desmutting liquid was sprayed and sprayed for 3 seconds.

(A−g)電気化学的粗面化処理
塩酸電解60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。電解液は、液温35℃、塩酸6.2g/Lの水溶液に塩化アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を4.5g/Lに調整した電解液を用いた。交流電源波形は図2に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽は図2に示すものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で25A/dm2であり、塩酸電解における電気量(C/dm2)はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で63C/dm2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
(Ag) Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was continuously performed using an alternating voltage of hydrochloric acid electrolysis 60 Hz. As the electrolytic solution, an electrolytic solution in which aluminum chloride was adjusted to 4.5 g / L by adding aluminum chloride to an aqueous solution having a liquid temperature of 35 ° C. and hydrochloric acid of 6.2 g / L was used. The AC power supply waveform is the waveform shown in FIG. 2, the time TP until the current value reaches the peak from zero is 0.8 msec, the duty ratio is 1: 1, a trapezoidal rectangular wave AC is used with the carbon electrode as the counter electrode An electrochemical roughening treatment was performed. Ferrite was used for the auxiliary anode. The electrolytic cell shown in FIG. 2 was used.
The current density was 25A / dm 2 at the peak of electric current amount of hydrochloric acid electrolysis (C / dm 2) the aluminum plate was 63C / dm 2 as the total quantity of electricity when the anode. Then, water washing by spraying was performed.

(A−h)アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板に、カセイソーダ濃度5質量%、アルミニウムイオン濃度0.5質量%のカセイソーダ水溶液を、温度50℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。アルミニウム溶解量は、0.1g/m2であった。
(Ah) Alkaline etching treatment The aluminum plate obtained above was etched by spraying a caustic soda aqueous solution having a caustic soda concentration of 5 mass% and an aluminum ion concentration of 0.5 mass% with a spray tube at a temperature of 50C. . Then, water washing by spraying was performed. The amount of aluminum dissolved was 0.1 g / m 2 .

(A−i)酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、陽極酸化処理工程で発生した廃液(硫酸170g/L水溶液中にアルミニウムイオン5g/Lを溶解)を用い、液温35℃で4秒間デスマット処理を行った。硫酸水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット液はスプレーにて吹き付けて3秒間デスマット処理を行った。
(Ai) Desmutting treatment in acidic aqueous solution Next, using the waste liquid generated in the anodizing treatment step (dissolving 5 g / L of aluminum ions in sulfuric acid 170 g / L aqueous solution), desmutting at a liquid temperature of 35 ° C. for 4 seconds. Processed. The desmut treatment was performed in an aqueous sulfuric acid solution. The desmutting liquid was sprayed and sprayed for 3 seconds.

(A−j)陽極酸化処理
図4に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて陽極酸化処理を行い、平版印刷版用支持体を得た。第一および第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度170g/L、アルミニウムイオン5g/Lであった。平均電流密度20A/dm2で直流電解を行い、陽極酸化被膜が2.7g/m2できるように陽極酸化処理を行った。液温は40℃、電圧は5〜30V、時間は10秒であった。
(Aj) Anodizing treatment Anodizing treatment was performed using an anodizing apparatus using direct current electrolysis having the structure shown in FIG. 4 to obtain a lithographic printing plate support. Sulfuric acid was used as the electrolytic solution supplied to the first and second electrolysis units. All electrolytes had a sulfuric acid concentration of 170 g / L and aluminum ions of 5 g / L. Direct current electrolysis was performed at an average current density of 20 A / dm 2 , and anodization was performed so that an anodic oxide coating was 2.7 g / m 2 . The liquid temperature was 40 ° C., the voltage was 5 to 30 V, and the time was 10 seconds.

(A−k)シリケート処理
非画像部の親水性を確保するため、2.5質量%3号ケイ酸ソーダ水溶液を用いて70℃で7秒間ディップしてシリケート処理を施した。Siの付着量は10mg/m2であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
(Ak) Silicate treatment In order to ensure the hydrophilicity of the non-image part, a silicate treatment was performed by dipping at 70 ° C. for 7 seconds using a 2.5 mass% No. 3 sodium silicate aqueous solution. The adhesion amount of Si was 10 mg / m 2 . Then, water washing by spraying was performed.

<処理(B)>
(B−a)アルカリ水溶液中でのエッチング処理(第1エッチング処理)
アルミニウム板に、水酸化ナトリウム濃度27質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%、温度70℃の水溶液中で浸せきによるエッチング処理を行った。アルミニウムイオン濃度はアルミン酸ソーダを用いて調整した。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、1g/m2であった。
その後、スプレーによる水洗を行った。
<Process (B)>
(Ba) Etching treatment in an alkaline aqueous solution (first etching treatment)
The aluminum plate was etched by immersion in an aqueous solution having a sodium hydroxide concentration of 27 mass%, an aluminum ion concentration of 6.5 mass%, and a temperature of 70 ° C. The aluminum ion concentration was adjusted using sodium aluminate. The amount of aluminum dissolved on the surface that was later subjected to electrochemical graining was 1 g / m 2 .
Then, water washing by spraying was performed.

(B−b)酸性水溶液中でのデスマット処理(第1デスマット処理)
次に、酸性水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸150g/Lの水溶液(液温35℃)であり、浸せきによるデスマット時間は5秒間であった。
その後、水洗処理を行った。
(Bb) Desmutting treatment in acidic aqueous solution (first desmutting treatment)
Next, desmut treatment was performed in an acidic aqueous solution. The acidic aqueous solution used for the desmutting treatment was an aqueous solution of 150 g / L sulfuric acid (liquid temperature 35 ° C.), and the desmutting time due to immersion was 5 seconds.
Then, the water washing process was performed.

(B−c)塩酸水溶液中での電気化学的粗面化処理
次に、塩酸濃度14g/L、アルミニウムイオン濃度13g/L、硫酸濃度3g/Lの電解液を用い、交流電流を用いて電解粗面化処理を行った。電解液の液温は30℃であった。アルミニウムイオン濃度は塩化アルミニウムを添加して調整した。
交流電流の波形は正と負の波形が対称な正弦波であり、周波数は50Hz、交流電流1周期におけるアノード反応時間とカソード反応時間は1:1、電流密度は交流電流波形のピーク電流値で75A/dm2であった。また、電気量はアルミニウム板がアノード反応に預かる電気量の総和で450C/dm2であり、電解処理は125C/dm2ずつ4秒間の通電間隔を開けて4回に分けて行なった。アルミニウム板の対極にはカーボン電極を用いた。
その後、水洗処理を行った。
(Bc) Electrochemical surface roughening treatment in aqueous hydrochloric acid solution Next, an electrolytic solution having a hydrochloric acid concentration of 14 g / L, an aluminum ion concentration of 13 g / L, and a sulfuric acid concentration of 3 g / L is used and electrolysis is performed using an alternating current. A roughening treatment was performed. The liquid temperature of the electrolytic solution was 30 ° C. The aluminum ion concentration was adjusted by adding aluminum chloride.
The waveform of the alternating current is a sine wave in which positive and negative waveforms are symmetrical, the frequency is 50 Hz, the anode reaction time and the cathode reaction time in one cycle of the alternating current are 1: 1, and the current density is the peak current value of the alternating current waveform. It was 75 A / dm 2 . The amount of electricity is 450 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity left by the aluminum plate for the anodic reaction, and the electrolytic treatment was performed four times at intervals of 125 C / dm 2 for 4 seconds. A carbon electrode was used as the counter electrode of the aluminum plate.
Then, the water washing process was performed.

(B−d)アルカリ水溶液中でのエッチング処理(第2エッチング処理)
電気化学的粗面化処理後のアルミニウム板を、水酸化ナトリウム5質量%、アルミニウムイオン0.5質量%、温度35℃の水溶液を用い、電気化学的粗面化処理が施された面のアルミニウムの溶解量が0.1g/m2となるように、浸せきによるエッチング処理をおこなった。アルミニウムイオン濃度はアルミン酸ソーダを用いて調整した。
その後、水洗処理を行った。
(Bd) Etching treatment in alkaline aqueous solution (second etching treatment)
Aluminum on the surface subjected to electrochemical roughening treatment using an aqueous solution of 5% by weight of sodium hydroxide, 0.5% by weight of aluminum ions and a temperature of 35 ° C. Etching treatment by dipping was performed so that the dissolution amount of was 0.1 g / m 2 . The aluminum ion concentration was adjusted using sodium aluminate.
Then, the water washing process was performed.

(B−e)酸性水溶液中でのデスマット処理(第2デスマット処理)
次に、酸性水溶液中でのデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、陽極酸化処理工程で発生した廃液(硫酸170g/L水溶液中にアルミニウムイオン5.0g/L溶解)を用い、液温30℃に5秒間浸せきして行なった。
(Be) Desmutting treatment in acidic aqueous solution (second desmutting treatment)
Next, a desmut treatment in an acidic aqueous solution was performed. The acidic aqueous solution used for the desmutting treatment was performed by using the waste liquid generated in the anodizing treatment step (dissolving 5.0 g / L of aluminum ions in a 170 g / L aqueous solution of sulfuric acid) and immersing it at a liquid temperature of 30 ° C. for 5 seconds.

(B−f)陽極酸化処理
次に、陽極酸化処理装置を用いて陽極酸化処理を行った。
電解液としては、170g/L硫酸水溶液に硫酸アルミニウムを溶解させてアルミニウムイオン濃度を5g/Lとした電解液(温度45℃)を用いた。電流密度30A/dm2で、陽極酸化皮膜量が2.7g/m2となるように陽極酸化処理した。アルミニウム板の対極にはカーボン電極を用いた。
その後、水洗処理した。
(Bf) Anodizing treatment Next, anodizing treatment was performed using an anodizing apparatus.
As an electrolytic solution, an electrolytic solution (temperature 45 ° C.) in which aluminum sulfate was dissolved in a 170 g / L sulfuric acid aqueous solution to make an aluminum ion concentration 5 g / L was used. Anodization was carried out at a current density of 30 A / dm 2 so that the amount of the anodized film was 2.7 g / m 2 . A carbon electrode was used as the counter electrode of the aluminum plate.
Then, it washed with water.

(B−g)親水化処理
陽極酸化処理後のアルミニウム板を3号ケイ酸ソーダ1.0質量%水溶液(液温22℃)に8秒間浸せきさせた。蛍光X線分析装置で測定したアルミニウム板表面のSi量は、3.5mg/m2であった。
その後、水洗し、ニップローラにて液切りし、更に90℃の風を10秒間吹き付けて乾燥させて平版印刷版用支持体を得た。
(Bg) Hydrophilization treatment The aluminum plate after the anodizing treatment was immersed in a 1.0 mass% aqueous solution of sodium silicate No. 3 (liquid temperature 22 ° C.) for 8 seconds. The amount of Si on the surface of the aluminum plate measured with a fluorescent X-ray analyzer was 3.5 mg / m 2 .
Thereafter, the plate was washed with water, drained with a nip roller, and further dried by blowing air at 90 ° C. for 10 seconds to obtain a lithographic printing plate support.

<処理(C)>
上記(A−a)機械的粗面化処理を行なわず、上記(A−d)電気化学的粗面化処理における電気量の総和を220C/dm2に変更した以外は上記処理(A)と同様の方法により、平版印刷版用支持体を得た。
<Process (C)>
(Aa) The treatment (A) is the same as the treatment (A) except that the mechanical roughening treatment is not performed and the total amount of electricity in the (Ad) electrochemical roughening treatment is changed to 220 C / dm 2. A lithographic printing plate support was obtained in the same manner.

3.平版印刷版原版の製造
上記で製造した各平版印刷版用支持体に対し、下記下塗り液を乾燥塗布量が28mg/m2になるよう塗布して、下塗り層を設けた。
3. Production of lithographic printing plate precursor The following undercoating liquid was applied to each lithographic printing plate support produced as described above so that the dry coating amount was 28 mg / m 2 to provide an undercoating layer.

<下塗り層用塗布液>
・下記構造の下塗り層用化合物(1) 0.18g
・ヒドロキシエチルイミノ二酢酸 0.10g
・メタノール 55.24g
・水 6.15g
<Coating liquid for undercoat layer>
-Undercoat layer compound (1) having the following structure: 0.18 g
・ Hydroxyethyliminodiacetic acid 0.10g
・ Methanol 55.24g
・ Water 6.15g

Figure 0005265955
Figure 0005265955

次いで、上記のようにして形成された下塗り層上に、画像記録層塗布液をバー塗布した後、100℃60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.3g/m2の画像記録層を形成した。
全ての画像記録層塗布液は、各感光液およびミクロゲル液を塗布直前に混合し攪拌することにより得た。
Next, the image recording layer coating solution is bar-coated on the undercoat layer formed as described above, and then oven-dried at 100 ° C. for 60 seconds to form an image recording layer having a dry coating amount of 1.3 g / m 2. did.
All the image recording layer coating solutions were obtained by mixing and stirring the respective photosensitive solutions and microgel solutions immediately before coating.

<感光液>
・バインダーポリマー(1)〔下記構造:(E)成分〕 0.24g
・赤外線吸収剤(1)〔下記構造:(A)成分〕 0.030g
・ラジカル重合開始剤(1)〔下記構造:(B)成分〕 0.162g
・重合性化合物〔(C)成分〕トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート(NKエステルA−9300、新中村化学社製) 0.192g
・低分子親水性化合物トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート
0.062g
・低分子親水性化合物(1)〔下記構造〕 0.052g
・感脂化剤
ホスホニウム化合物(1)〔下記構造〕 0.055g
・感脂化剤
ベンジル−ジメチル−オクチルアンモニウム・PF6塩 0.018g
・ベタイン誘導体(C−1) 0.010g
・フッ素系界面活性剤(1)〔下記構造〕 0.008g
・メチルエチルケトン 1.091g
・1−メトキシ−2−プロパノール 8.609g
<Photosensitive solution>
-Binder polymer (1) [The following structure: (E) component] 0.24g
Infrared absorber (1) [the following structure: component (A)] 0.030 g
-Radical polymerization initiator (1) [the following structure: component (B)] 0.162 g
Polymerizable compound [component (C)] tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate (NK ester A-9300, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 0.192 g
・ Low molecular weight hydrophilic compound tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate
0.062g
・ Low molecular weight hydrophilic compound (1) [the following structure] 0.052 g
-Sensitizing agent Phosphonium compound (1) [the following structure] 0.055 g
・ Sensitizer Benzyl-dimethyl-octylammonium ・ PF 6 salt 0.018g
-Betaine derivative (C-1) 0.010 g
・ Fluorosurfactant (1) [The following structure] 0.008g
・ Methyl ethyl ketone 1.091g
・ 1-methoxy-2-propanol 8.609g

<ミクロゲル液>
・ミクロゲル(1) 2.640g
・蒸留水 2.425g
<Microgel solution>
・ Microgel (1) 2.640 g
・ Distilled water 2.425g

上記のバインダーポリマー(1)、赤外線吸収剤(1)、ラジカル重合開始剤(1)、ホスホニウム化合物(1)、低分子親水性化合物(1)およびフッ素系界面活性剤(1)の構造は、以下に示す通りである。   The structures of the binder polymer (1), the infrared absorber (1), the radical polymerization initiator (1), the phosphonium compound (1), the low molecular weight hydrophilic compound (1) and the fluorine-based surfactant (1) are as follows: It is as shown below.

Figure 0005265955
Figure 0005265955

Figure 0005265955
Figure 0005265955

上記に記載のミクロゲル(1)は、以下のようにして合成されたものである。   The microgel (1) described above is synthesized as follows.

<ミクロゲル(1)の合成>
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体(タケネートD−110N、三井武田ケミカル社製)10g、ペンタエリスリトールトリアクリレート〔(C)成分〕(SR444、日本化薬社製)3.15g、およびパイオニンA−41C(竹本油脂社製)0.1gを酢酸エチル17gに溶解した。水相成分としてPVA−205の4質量%水溶液40gを調製した。油相成分および水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12,000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水25gに添加し、室温で30分攪拌後、50℃で3時間攪拌した。このようにして得られたミクロゲル液の固形分濃度を、15質量%になるように蒸留水を用いて希釈し、これを前記ミクロゲル(1)とした。ミクロゲルの平均粒径を光散乱法により測定したところ、平均粒径は0.2μmであった。
<Synthesis of Microgel (1)>
2. As oil phase components, trimethylolpropane and xylene diisocyanate adduct (Takenate D-110N, manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.) 10 g, pentaerythritol triacrylate [(C) component] (SR444, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 15 g and 0.1 g of Piionin A-41C (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.) were dissolved in 17 g of ethyl acetate. As an aqueous phase component, 40 g of a 4% by mass aqueous solution of PVA-205 was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were mixed and emulsified for 10 minutes at 12,000 rpm using a homogenizer. The obtained emulsion was added to 25 g of distilled water, stirred at room temperature for 30 minutes, and then stirred at 50 ° C. for 3 hours. The microgel solution thus obtained was diluted with distilled water to a solid content concentration of 15% by mass, and this was designated as the microgel (1). When the average particle size of the microgel was measured by a light scattering method, the average particle size was 0.2 μm.

次いで、上記のようにして形成された画像記録層上に、さらに下記組成の保護層塗布液をバー塗布した後、120℃60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.15g/m2の保護層を形成し、平版印刷版原版を得た。 Then, a protective layer coating solution having the following composition was further bar-coated on the image recording layer formed as described above, and then oven-dried at 120 ° C. for 60 seconds to provide a dry coating amount of 0.15 g / m 2 . A layer was formed to obtain a lithographic printing plate precursor.

<保護層用塗布液>
・無機質層状化合物分散液(1) 1.5g
・ポリビニルアルコール(CKS50、スルホン酸変性、けん化度99モル%以上、重合度300、日本合成化学工業社製)6質量%水溶液 0.55g
・ポリビニルアルコール(PVA−405、けん化度81.5モル%重合度500、クラレ社製)6質量%水溶液 0.03g
・界面活性剤(エマレックス710、日本エマルジョン社製)1質量%水溶液
8.60g
・イオン交換水 6.0g
<Coating liquid for protective layer>
・ Inorganic layered compound dispersion (1) 1.5 g
-Polyvinyl alcohol (CKS50, sulfonic acid modification, saponification degree 99 mol% or more, polymerization degree 300, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) 6% by mass aqueous solution 0.55 g
-Polyvinyl alcohol (PVA-405, saponification degree 81.5 mol% polymerization degree 500, Kuraray Co., Ltd.) 6 mass% aqueous solution 0.03g
-1% by weight aqueous solution of surfactant (Emalex 710, manufactured by Nippon Emulsion)
8.60g
・ Ion-exchanged water 6.0g

上記に記載の無機質層状化合物分散液(1)は、以下のようにして調製されたものである。   The inorganic layered compound dispersion (1) described above is prepared as follows.

(無機質層状化合物分散液(1)の調製)
イオン交換水193.6gに合成雲母ソマシフME−100(コープケミカル(株)製)6.4gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)が3μmになるまで分散した。得られた分散粒子のアスペクト比は100以上であった。
(Preparation of inorganic layered compound dispersion (1))
6.4 g of synthetic mica Somasif ME-100 (manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.) was added to 193.6 g of ion-exchanged water, and dispersed using an homogenizer until the average particle size (laser scattering method) became 3 μm. The aspect ratio of the obtained dispersed particles was 100 or more.

4.ポツ状汚れの評価
得られた平版印刷版原版を、25℃、70%RHの環境下で1時間、合紙と共に調湿し、アルミクラフト紙で包装した後、60℃に設定したオーブンで5日間加熱を行った。
その後、室温まで温度を下げてから、現像処理することなく、印刷機LITHRONE26(小森コーポレーション社製)の版胴に取り付けた。
Ecolity−2(富士フイルム社製)/水道水=2/98(容量比)の湿し水とValues−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業社製)とを用い、LITHRONE26の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像した後、特菱アート(76.5kg)紙に印刷を500枚行った。
4). Evaluation of Potty Stain The obtained lithographic printing plate precursor was conditioned with interleaf for 1 hour in an environment of 25 ° C. and 70% RH, packaged with aluminum kraft paper, and then heated in an oven set at 60 ° C. Heating was performed for days.
Thereafter, the temperature was lowered to room temperature, and then the plate was attached to the plate cylinder of the printing machine LITHRONE 26 (manufactured by Komori Corporation) without developing.
Standard automatic of LITHRONE26 using dampening water of Equality-2 (manufactured by Fujifilm) / tap water = 2/98 (volume ratio) and Values-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) After supplying dampening water and ink by the printing start method and developing on the machine, 500 sheets were printed on Tokishi Art (76.5 kg) paper.

500枚目の印刷物を目視により確認し、100cm2当たりの、20μm以上の印刷汚れの個数を算出した。その結果を第2表に示す。
汚れ個数が100cm2当たり200個以下であれば、耐苛酷汚れに優れるものとして評価できる。
The 500th printed matter was visually confirmed, and the number of print stains of 20 μm or more per 100 cm 2 was calculated. The results are shown in Table 2.
If the number of stains is 200 or less per 100 cm 2 , it can be evaluated as having excellent resistance to severe stains.

Figure 0005265955
Figure 0005265955

第1表および第2表に示すように、Al−Fe系金属間化合物の含有量の減少とともに、耐ポツ状汚れ性が改善されていることが分かる。これは、上述したように、Al−Fe系金属間化合物がアルミニウム合金板の腐食の起点になるという新たな知見を裏付けるの根拠となるものである。   As shown in Tables 1 and 2, it can be seen that as the content of the Al—Fe-based intermetallic compound decreases, the anti-spot resistance is improved. As described above, this is the basis for supporting the new finding that Al—Fe-based intermetallic compounds are the starting point of corrosion of aluminum alloy sheets.

本発明の平版印刷版用支持体の製造方法における電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the alternating waveform current waveform figure used for the electrochemical roughening process in the manufacturing method of the support body for lithographic printing plates of this invention. 本発明の平版印刷版用支持体の製造方法における交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。It is a side view which shows an example of the radial type cell in the electrochemical roughening process using alternating current in the manufacturing method of the support body for lithographic printing plates of this invention. 本発明の平版印刷版用支持体の作製における機械粗面化処理に用いられるブラシグレイニングの工程の概念を示す側面図である。It is a side view which shows the concept of the process of the brush graining used for the mechanical roughening process in preparation of the support body for lithographic printing plates of this invention. 本発明の平版印刷版用支持体の作製における陽極酸化処理に用いられる陽極酸化処理装置の概略図である。It is the schematic of the anodizing apparatus used for the anodizing process in preparation of the support body for lithographic printing plates of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 アルミニウム板
2、4 ローラ状ブラシ
3 研磨スラリー液
5、6、7、8 支持ローラ
ta アノード反応時間
tc カソード反応時間
tp 電流が0からピークに達するまでの時間
Ia アノードサイクル側のピーク時の電流
Ic カソードサイクル側のピーク時の電流
50 主電解槽
51 交流電源
52 ラジアルドラムローラ
53a,53b 主極
54 電解液供給口
55 電解液
56 補助陽極
60 補助陽極槽
W アルミニウム板
610 陽極酸化処理装置
612 給電槽
614 電解処理槽
616 アルミニウム板
618、626 電解液
620 給電電極
622、628 ローラ
624 ニップローラ
630 電解電極
632 槽壁
634 直流電源
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Aluminum plate 2, 4 Roller-like brush 3 Polishing slurry liquid 5, 6, 7, 8 Support roller ta Anode reaction time tc Cathode reaction time tp Time until electric current reaches a peak from 0 Ia Current at peak on anode cycle side Ic Current at peak on the cathode cycle side 50 Main electrolytic cell 51 AC power supply 52 Radial drum rollers 53a, 53b Main electrode 54 Electrolyte supply port 55 Electrolytic solution 56 Auxiliary anode 60 Auxiliary anode tank W Aluminum plate 610 Anodizing apparatus 612 Power supply Tank 614 Electrolytic treatment tank 616 Aluminum plate 618, 626 Electrolyte 620 Feed electrode 622, 628 Roller 624 Nip roller 630 Electrode electrode 632 Tank wall 634 DC power source

Claims (11)

Feを0.08〜0.45質量%含有し、Siを0.05〜0.20質量%含有し、残部が不可避不純物とAlとからなるアルミニウム合金板であって、
Al−Fe系金属間化合物の含有量が0.05質量%以下であ
前記アルミニウム合金板に存在する金属間化合物の主成分がα−AlFeSiである、平版印刷版用アルミニウム合金板。
An aluminum alloy plate containing 0.08 to 0.45 mass% Fe, 0.05 to 0.20 mass% Si, and the balance consisting of inevitable impurities and Al,
Der content is more than 0.05 mass% of Al-Fe intermetallic compound is,
An aluminum alloy plate for a lithographic printing plate, wherein a main component of an intermetallic compound present in the aluminum alloy plate is α-AlFeSi .
前記アルミニウム合金のFe含有量とSi含有量との比(Fe/Si)が、0.5〜2.2である請求項1に記載の平版印刷版用アルミニウム合金板。 2. The aluminum alloy plate for a lithographic printing plate according to claim 1, wherein a ratio (Fe / Si) of Fe content and Si content of the aluminum alloy is 0.5 to 2.2. Znの含有量が、0.01質量%以下である請求項1または2に記載の平版印刷版用アルミニウム合金板。 The aluminum alloy plate for lithographic printing plates according to claim 1 or 2 , wherein the Zn content is 0.01 mass% or less. Mgの含有量が、0.20質量%以下である請求項1〜のいずれかに記載の平版印刷版用アルミニウム合金板。 The aluminum alloy plate for lithographic printing plates according to any one of claims 1 to 3 , wherein the Mg content is 0.20 mass% or less. 請求項1〜のいずれかに記載の平版印刷版用アルミニウム合金板を製造する平版印刷版用アルミニウム合金板の製造方法であって、
アルミニウム合金溶湯から鋳塊を形成する半連続鋳造工程と、
前記半連続鋳造工程で得られた前記鋳塊に面削を施す面削工程と、
前記面削工程の後に、500〜550℃の温度範囲で均熱処理を施す均熱処理工程とを具備する平版印刷版用アルミニウム合金板の製造方法。
It is a manufacturing method of the aluminum alloy plate for lithographic printing plates which manufactures the aluminum alloy plate for lithographic printing plates in any one of Claims 1-4 ,
A semi-continuous casting process for forming an ingot from molten aluminum alloy;
A chamfering process for chamfering the ingot obtained in the semi-continuous casting process;
A method for producing an aluminum alloy plate for a lithographic printing plate, comprising: a soaking treatment in which a soaking treatment is performed in a temperature range of 500 to 550 ° C after the chamfering step.
請求項1〜のいずれかに記載の平版印刷版用アルミニウム合金板を製造する平版印刷版用アルミニウム合金板の製造方法であって、
アルミニウム合金溶湯を凝固させつつ圧延を行ってアルミニウム合金板を形成する連続鋳造工程と、
前記連続鋳造工程で得られた前記アルミニウム合金板の厚さを減じさせる冷間圧延工程と、
前記冷間圧延工程の後に、500℃以下の温度で熱処理を行う中間焼鈍工程と、
前記中間焼鈍後の前記アルミニウム合金板の厚さを減じさせる仕上げ冷間圧延工程とを具備する平版印刷版用アルミニウム合金板の製造方法。
It is a manufacturing method of the aluminum alloy plate for lithographic printing plates which manufactures the aluminum alloy plate for lithographic printing plates in any one of Claims 1-4 ,
A continuous casting step of forming an aluminum alloy sheet by rolling while solidifying the molten aluminum alloy;
A cold rolling step for reducing the thickness of the aluminum alloy plate obtained in the continuous casting step;
After the cold rolling step, an intermediate annealing step in which heat treatment is performed at a temperature of 500 ° C. or lower,
A method for producing an aluminum alloy plate for a lithographic printing plate, comprising: a finish cold rolling step for reducing the thickness of the aluminum alloy plate after the intermediate annealing.
請求項1〜のいずれかに記載の平版印刷版用アルミニウム合金板の表面に、電気化学的粗面化処理を含む粗面化処理および陽極酸化処理をこの順で施して得られる平版印刷版用支持体。 A lithographic printing plate obtained by subjecting the surface of an aluminum alloy plate for a lithographic printing plate according to any one of claims 1 to 4 to roughening treatment including electrochemical roughening treatment and anodizing treatment in this order. Support. 前記陽極酸化処理の後に、更に親水化処理を施して得られる平版印刷版用支持体であって、
前記親水化処理が、ケイ素の吸着量が1.0〜30mg/m2となるようにアルカリ金属ケイ酸塩を用いた処理である請求項に記載の平版印刷版用支持体。
A lithographic printing plate support obtained by further hydrophilizing after the anodizing treatment,
The hydrophilic treatment, a lithographic printing plate support according to claim 7 adsorbed amount of silicon is treated using an alkali metal silicate such that the 1.0~30mg / m 2.
請求項またはに記載の平版印刷版用支持体上に画像記録層を設けてなる平版印刷版原版。 A lithographic printing plate precursor comprising an image recording layer provided on the lithographic printing plate support according to claim 7 or 8 . 前記画像記録層が、ハロゲン化物イオンからなるアニオンおよび/またはPF6 を有する請求項に記載の平版印刷版原版。 Wherein the image recording layer, anionic and / or PF 6 consisting halide ions - The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 9 having a. 前記画像記録層が、露光により画像を形成し、非露光部が印刷インキおよび/または湿し水により除去可能となる画像記録層である請求項または10に記載の平版印刷版原版。 The lithographic printing plate precursor according to claim 9 or 10 , wherein the image recording layer is an image recording layer which forms an image by exposure and the non-exposed portion can be removed by printing ink and / or fountain solution.
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