JP2006137100A - Original plate of lithographic printing plate - Google Patents

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Yoshinori Hotta
吉則 堀田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an original plate of a lithographic printing plate which has an excellent on-press developability enabling development with dampening water and/or ink and excels in plate wear resistance and also in deinking ability after leaving to stand. <P>SOLUTION: The original plate of the lithographic printing plate has an organic compound layer, which is treated with an aqueous solution containing an organic acid or alkaline metal ions, and an image recording layer developable with the dampening water and/or the ink as an upper layer of the organic compound layer, on a substrate for the lithographic printing plate obtained by anodizing an aluminum plate. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は平版印刷版原版に関し、特に、湿し水および/またはインキで現像可能で、かつ耐刷性、機上現像性、放置払い性に優れた平版印刷版原版に関する。   The present invention relates to a lithographic printing plate precursor, and more particularly to a lithographic printing plate precursor that can be developed with dampening water and / or ink and has excellent printing durability, on-press development property, and neglectability.

一般に、平版印刷版は、印刷過程でインキを受容する親油性の画像部と、湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷は、水と油性インキが互いに反発する性質を利用して、平版印刷版の親油性の画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部(インキ非受容部)として、平版印刷版の表面にインキの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインキを着肉させた後、紙などの被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。
この平版印刷版を作製するため、従来、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層(画像記録層)を設けてなる平版印刷版原版(PS版)が広く用いられている。通常は、平版印刷版原版を、リスフィルムなどの原画を通した露光を行った後、画像記録層の画像部となる部分を残存させ、それ以外の不要な画像記録層をアルカリ性現像液または有機溶剤によって溶解除去し、親水性の支持体表面を露出させて非画像部を形成する方法により製版を行って、平版印刷版を得ている。
In general, a lithographic printing plate comprises an oleophilic image area that receives ink in the printing process and a hydrophilic non-image area that receives dampening water. Lithographic printing utilizes the property that water and oil-based inks repel each other, so that the oleophilic image area of the lithographic printing plate is the ink receiving area, and the hydrophilic non-image area is dampened with the water receiving area (ink non-receiving area). As described above, a difference in ink adhesion is caused on the surface of a lithographic printing plate, and after ink is applied only to an image portion, the ink is transferred to a printing medium such as paper and printed.
In order to produce this lithographic printing plate, conventionally, a lithographic printing plate precursor (PS plate) in which an oleophilic photosensitive resin layer (image recording layer) is provided on a hydrophilic support has been widely used. Usually, the lithographic printing plate precursor is exposed through an original image such as a lithographic film, and then the image portion of the image recording layer is left, and the other unnecessary image recording layer is removed with an alkaline developer or organic A lithographic printing plate is obtained by dissolving and removing with a solvent and exposing the surface of the hydrophilic support to form a non-image area.

従来の平版印刷版原版の製版工程においては、露光の後、不要な画像記録層を現像液などによって溶解除去する工程が必要であるが、このような付加的に行われる湿式処理を不要化しまたは簡易化することが課題の一つとして挙げられている。特に、近年、地球環境への配慮から湿式処理に伴って排出される廃液の処分が産業界全体の大きな関心事となっているので、上記課題の解決の要請は一層強くなってきている。   In the conventional plate making process of a lithographic printing plate precursor, a step of dissolving and removing an unnecessary image recording layer with a developer or the like is necessary after exposure. However, such additional wet processing is made unnecessary or Simplification is cited as one of the issues. In particular, in recent years, disposal of waste liquids discharged with wet processing has become a major concern for the entire industry due to consideration for the global environment, and therefore, the demand for solving the above-mentioned problems has become stronger.

これに対して、簡易な製版方法の一つとして、画像記録層の不要部分の除去を通常の印刷工程の中で行えるような画像記録層を用い、露光後、印刷機上で画像記録層の不要部分を除去し、平版印刷版を得る、機上現像と呼ばれる方法が提案されている。
機上現像の具体的方法としては、例えば、湿し水、インキ溶剤または湿し水とインキとの乳化物に溶解しまたは分散することが可能な画像記録層を有する平版印刷版原版を用いる方法、印刷機のローラ類やブランケットとの接触により、画像記録層の力学的除去を行う方法、湿し水、インキ溶剤などの浸透によって画像記録層の凝集力または画像記録層と支持体との接着力を弱めた後、ローラ類やブランケットとの接触により、画像記録層の力学的除去を行う方法が挙げられる。
なお、本発明においては、特別な説明がない限り、「現像処理工程」とは、印刷機以外の装置(通常は自動現像機)を使用し、液体(通常はアルカリ性現像液)を接触させることにより、平版印刷版原版の未露光部分の画像記録層を除去し、親水性支持体表面を露出させる工程を指し、「機上現像」とは、印刷機を用いて、液体(通常は印刷インキおよび/または湿し水)を接触させることにより、平版印刷版原版の未露光部分の画像記録層を除去し、親水性支持体表面を露出させる方法および工程を指す。
On the other hand, as one simple plate making method, an image recording layer that can remove an unnecessary portion of the image recording layer in a normal printing process is used. A method called on-press development has been proposed in which unnecessary portions are removed to obtain a lithographic printing plate.
As a specific method of on-press development, for example, a method of using a lithographic printing plate precursor having an image recording layer that can be dissolved or dispersed in dampening water, an ink solvent, or an emulsion of dampening water and ink , A method of mechanically removing the image recording layer by contact with rollers or a blanket of a printing press, cohesion of the image recording layer or adhesion between the image recording layer and the support by penetration of dampening water, ink solvent, etc. There is a method in which after the force is weakened, the image recording layer is mechanically removed by contact with rollers or a blanket.
In the present invention, unless otherwise specified, the “development process step” refers to using a device other than a printing press (usually an automatic developing machine) and bringing a liquid (usually an alkaline developer) into contact therewith. Refers to the process of removing the image recording layer of the unexposed portion of the lithographic printing plate precursor and exposing the surface of the hydrophilic support, and “on-press development” refers to a liquid (usually printing ink) using a printing press. And / or a fountain solution) is a method and a process for removing the image recording layer of the unexposed portion of the lithographic printing plate precursor and exposing the hydrophilic support surface.

耐刷性向上効果を得るため、従来、感光性重合性組成層を用いる平版印刷版原版において、感光性重合性組成層と支持体界面に重合性化合物を含む下塗り層を設ける技術は、例えば特許文献1や特許文献2で公知である。しかし、これらの技術は、アルカリ現像による下塗り層の除去が前提であり、アルカリ現像を行わず印刷機上で油性インキと水性成分による機上現像を行う場合は、非画像部に下塗り層が残存して、本来インキが乗って欲しくない部分に汚れが発生して満足な印刷物が得られない。   In order to obtain the effect of improving printing durability, conventionally, in a lithographic printing plate precursor using a photosensitive polymerizable composition layer, a technique for providing an undercoat layer containing a polymerizable compound at the interface between a photosensitive polymerizable composition layer and a support is, for example, a patent It is known in Document 1 and Patent Document 2. However, these technologies are premised on the removal of the undercoat layer by alkali development, and when the on-press development with oil-based ink and aqueous component is performed on the printing machine without performing alkali development, the undercoat layer remains in the non-image area. As a result, a stain is generated in a portion where the ink is not desired to be carried, and a satisfactory printed matter cannot be obtained.

また、特許文献3では、印刷機上で油性インキと水性成分による画像形成方法において、下引き層として珪酸系ガラスの塗設技術が記載されているが、珪酸系ガラスの塗設は、支持体表面の親水性が向上して、画像形成性の向上は得られるものの感光層と支持体との密着が大きく低下するため印刷耐性の劣化傾向を示した。
更に、特許文献4には、機械的な結合(Mechanical Interlocking)可能な支持体上に、湿し水やインキに溶解または分散により脱離可能な中間層を有する平版印刷版が記載されている。しかし、中間層として、一般的に湿し水などの水性成分により脱離可能な親水性樹脂層を設けても、上記同様画像形成性の向上は得られるものの感光層と支持体との密着が大きく低下するため耐刷性の劣化傾向を示す。さらに、例示されている樹脂では親水性の支持体との親和性が高く印刷中に残存して、好ましくない非画像部の汚れを引き起こしたり、印刷中過分の湿し水を与えないと印刷を維持するのが困難になったり、刷り物の品質を確認するため、印刷機を一旦停止した後、再始動した場合、インキ濃度が安定しないとか、非画像部のインキが払えない等の実用上重大な欠陥を有することが判明した。
特許第3475377号明細書 特開平10−260536号公報 特開2004−9482号公報 米国特許第6,014,929号明細書
Patent Document 3 describes a technique for applying silicate glass as an undercoat layer in an image forming method using oil-based ink and an aqueous component on a printing press. Although the hydrophilicity of the surface is improved and the image forming property is improved, the adhesion between the photosensitive layer and the support is greatly reduced, and the printing resistance tends to deteriorate.
Further, Patent Document 4 describes a lithographic printing plate having an intermediate layer which can be removed by dissolving or dispersing in dampening water or ink on a support capable of mechanical interlocking. However, even if a hydrophilic resin layer generally removable by an aqueous component such as fountain solution is provided as the intermediate layer, the improvement in image forming property can be obtained as described above, but the adhesion between the photosensitive layer and the support can be improved. Degradation of printing durability is shown because it is greatly reduced. Further, the exemplified resins have a high affinity with the hydrophilic support and remain during printing, causing undesired non-image areas to be smudged, or printing without applying excessive dampening water during printing. In order to check the quality of printed matter, it is difficult to maintain, and when the printer is stopped and then restarted, the ink density may not be stable or the ink in the non-image area cannot be removed. It was found to have serious defects.
Japanese Patent No. 3475377 Japanese Patent Laid-Open No. 10-260536 JP 2004-9482 A US Pat. No. 6,014,929

したがって、本発明は、上記従来技術における問題を解決し、優れた機上現像性を有し、かつ耐刷性、放置払い性に優れる平版印刷版原版を提供することを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor that solves the above-described problems in the prior art, has excellent on-press developability, and has excellent printing durability and neglectability.

本発明者は、上記課題を解決すべく、平版印刷版用支持体上に特定の有機化合物層を設け、この層を有機酸またはアルカリ金属イオンを含む水溶液で処理し、その上に特定の画像記録層を組み合わせた場合に、優れた機上現像性を有し、耐刷力、放置払い性に優れる平版印刷版原版が得られることを見出し、本発明を完成した。   In order to solve the above problems, the present inventor provided a specific organic compound layer on a lithographic printing plate support, treated this layer with an aqueous solution containing an organic acid or an alkali metal ion, and a specific image thereon. The present inventors have found that a lithographic printing plate precursor having excellent on-press developability and excellent printing durability and neglectability can be obtained when the recording layers are combined.

即ち、本発明は、以下の(1)〜(5)を提供する。
(1)アルミニウム板に陽極酸化処理を施して得られる平版印刷版用支持体と、
該支持体上に、有機化合物層を有し、
該有機化合物層を、有機酸またはアルカリ金属イオンを含む水溶液で処理し、
その上に、湿し水および/またはインキで現像可能な画像記録層を有する平版印刷版原版。
(2)陽極酸化処理表面上に塗布された後の前記有機化合物量が、表面炭素原子濃度(atm%)で、50%以上である(1)に記載の平版印刷版原版。
That is, the present invention provides the following (1) to (5).
(1) a lithographic printing plate support obtained by anodizing an aluminum plate;
An organic compound layer on the support;
Treating the organic compound layer with an aqueous solution containing an organic acid or alkali metal ion;
A lithographic printing plate precursor having an image recording layer developable with a fountain solution and / or ink thereon.
(2) The lithographic printing plate precursor as described in (1), wherein the amount of the organic compound after being applied on the anodized surface is 50% or more in terms of surface carbon atom concentration (atm%).

(3)画像記録層が波長250nm〜420nmの範囲の光を放射するレーザー光により画像様に記録可能である(1)または(2)に記載の平版印刷版原版。
(4)画像記録層が赤外線レーザー照射により画像様に記録可能である(1)または(2)に記載の平版印刷版原版。
(5)画像記録層が微粒子ポリマーおよび/またはマイクロカプセルを有する上記(1)ないし(4)のいずれかに記載の平版印刷版原版。
(3) The lithographic printing plate precursor as described in (1) or (2), wherein the image recording layer can be recorded in an image-like manner with a laser beam that emits light having a wavelength in the range of 250 nm to 420 nm.
(4) The lithographic printing plate precursor as described in (1) or (2), wherein the image recording layer can be image-wise recorded by infrared laser irradiation.
(5) The lithographic printing plate precursor as described in any one of (1) to (4) above, wherein the image recording layer has a fine particle polymer and / or microcapsule.

本発明によれば、湿し水および/またはインキで現像可能な優れた機上現像性を有し、耐刷性に優れ、また放置払い性にも優れる平版印刷版原版が得られる。また、現像後の残色、残膜による耐汚れ性がよくなり、払い性がさらに良くなるという効果も有する。   According to the present invention, a lithographic printing plate precursor having excellent on-press developability that can be developed with fountain solution and / or ink, excellent printing durability, and excellent neglectability is obtained. In addition, there is an effect that the stain resistance due to the residual color after development and the residual film is improved, and the chargeability is further improved.

以下、本発明について詳細に説明する。
[本発明の平版印刷版原版]
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
[Lithographic printing plate precursor of the present invention]

本発明の平版印刷版原版は、陽極酸化皮膜を有する支持体上に、以下の有機化合物からなる下塗り層を有し、この下塗り有機化合物層を、有機酸またはアルカリ金属を含む水溶液で処理し、その上に特定の画像記録層を有する。
<下塗り有機化合物層>
本発明の平版印刷版原版に用いられる下塗り有機化合物層は、有機化合物を塗布してなり、かつ、X線光電子分光法により求められる表面炭素原子濃度が好ましくは50%以上80%以下であり、より好ましくは50%以上65%以下である。画像記録層の下塗り層であり、また画像記録層と支持体との中間層であるこの層の表面炭素原子濃度は、支持体表面の被覆率の指標として用いられる。すなわちこの中間層の表面炭素濃度が高いほど支持体の画像記録層に対する被覆率が高い。
本発明において、「X線光電子分光法により求められる表面炭素原子濃度」とは、X線光電子分光法(XPS:X-ray Photoelectron Spectroscopy)(ESCA:Electron Spectroscopy for Chemical Analysisとも呼ばれる)により、この中間層の表面に存在する炭素原子、アルミニウム原子,ケイ素原子および酸素原子の濃度を測定した場合における、これらの原子数の合計に対する炭素原子の原子数の割合である。ESCAの条件は特に限定されないが、一例を以下に示す。
X線光電子分光分析装置:アルバック‐ファイ社製ESCA PHI Quantum 2000:X線源:Al−Kα(HP-mode,200μm,100W,20kV)パスエネルギー:58、70eV:分析面積:200μm×1400μm:測定スペクトル:C1s、O1s,Al2pおよびSi2p:中和条件:Ar(10eV)およびNeut(20μm)
この中間層の表面炭素原子濃度を上記範囲とする方法は、特に限定されないが、後述する特定の高分子化合物を用いる方法が挙げられる。
The planographic printing plate precursor of the present invention has an undercoat layer composed of the following organic compound on a support having an anodized film, and this undercoat organic compound layer is treated with an aqueous solution containing an organic acid or an alkali metal, A specific image recording layer is provided thereon.
<Undercoat organic compound layer>
The undercoat organic compound layer used in the lithographic printing plate precursor according to the present invention is formed by coating an organic compound, and the surface carbon atom concentration obtained by X-ray photoelectron spectroscopy is preferably 50% or more and 80% or less, More preferably, it is 50% or more and 65% or less. The surface carbon atom concentration of this layer, which is an undercoat layer of the image recording layer and an intermediate layer between the image recording layer and the support, is used as an index of the coverage of the support surface. That is, the higher the surface carbon concentration of the intermediate layer, the higher the coverage of the support on the image recording layer.
In the present invention, the “surface carbon atom concentration determined by X-ray photoelectron spectroscopy” refers to this intermediate value by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) (also called ESCA: Electron Spectroscopy for Chemical Analysis). This is the ratio of the number of carbon atoms to the total number of these atoms when the concentration of carbon, aluminum, silicon and oxygen atoms present on the surface of the layer is measured. ESCA conditions are not particularly limited, but an example is shown below.
X-ray photoelectron spectrometer: ESCA PHI Quantum 2000 manufactured by ULVAC-PHI, Inc .: X-ray source: Al-Kα (HP-mode, 200 μm, 100 W, 20 kV) Pass energy: 58, 70 eV: Analysis area: 200 μm × 1400 μm: Measurement Spectrum: C1s, O1s, Al2p and Si2p: Neutralization conditions: Ar (10 eV) and Neut (20 μm)
The method of setting the surface carbon atom concentration of the intermediate layer in the above range is not particularly limited, and examples thereof include a method using a specific polymer compound described later.

本発明は、下塗り有機化合物層とその後処理により、後述する特定の画像記録層と組み合わせて、機上現像性と耐刷性という相反する特性に優れるという特徴がある。   The present invention is characterized by being excellent in contradicting properties of on-press developability and printing durability in combination with a specific image recording layer described later by an undercoat organic compound layer and subsequent treatment.

本発明に用いる好ましい有機化合物は、支持体表面への吸着性基を有する有機化合物である。親水性支持体表面への吸着性の有無に関しては、例えば以下のような方法で判断できる。   A preferable organic compound used in the present invention is an organic compound having an adsorptive group on the support surface. The presence or absence of adsorptivity on the surface of the hydrophilic support can be determined by the following method, for example.

試験化合物を易溶性の溶媒に溶解させた塗布液を作成し、その塗布液を乾燥後の塗布量が30mg/m2となるように支持体上に塗布・乾燥させる。試験化合物を塗布した支持体を、易溶性溶媒を用いて十分に洗浄した後、洗浄除去されなかった試験化合物の残存量を測定して支持体吸着量を算出する。ここで残存量の測定は、残存化合物量を直接定量してもよいし、洗浄液中に溶解した試験化合物量を定量して算出してもよい。化合物の定量法としては、例えば蛍光X線測定、反射分光吸光度測定、液体クロマトグラフィー測定で実施できる。支持体吸着性がある化合物は、上記のような洗浄処理を行っても1mg/m2以上残存する化合物である。 A coating solution in which the test compound is dissolved in a readily soluble solvent is prepared, and the coating solution is coated and dried on the support so that the coating amount after drying is 30 mg / m 2 . The substrate coated with the test compound is sufficiently washed with a readily soluble solvent, and then the residual amount of the test compound that has not been removed by washing is measured to calculate the amount of adsorption of the substrate. Here, the measurement of the remaining amount may be performed by directly quantifying the amount of the remaining compound or by quantifying the amount of the test compound dissolved in the cleaning liquid. As a compound quantification method, for example, fluorescent X-ray measurement, reflection spectral absorbance measurement, and liquid chromatography measurement can be performed. The compound having support adsorptivity is a compound that remains at 1 mg / m 2 or more even after the above-described washing treatment.

親水性支持体表面への吸着性基は、親水性支持体表面に存在する物質(例、金属、金属酸化物)あるいは官能基(例、水酸基)と、化学結合(例、イオン結合、水素結合、配位結合、分子間力による結合)を引き起こすことができる官能基である。好ましい吸着性基としては、アミノ基等の塩基、アンモニウム基、ピリジニウム基等のオニウム塩基、リン酸基、ホスホン酸基、ホウ酸基、カルボン酸基、フェノール性水酸基等の酸基、アセチルアセトン基等のα、β−ジケトン基誘導体、カルバモイル基、カルボエステル基、またはリン酸エステル基であり、特に、酸基またはカチオン性基が好ましい。   The adsorptive group on the surface of the hydrophilic support is a substance (eg, metal, metal oxide) or a functional group (eg, hydroxyl group) existing on the surface of the hydrophilic support and a chemical bond (eg, ionic bond, hydrogen bond). , Coordination bond, bond by intermolecular force). Preferable adsorptive groups include amino groups and other bases, ammonium groups and pyridinium groups and other onium bases, phosphoric acid groups, phosphonic acid groups, boric acid groups, carboxylic acid groups, phenolic hydroxyl groups and other acid groups, acetylacetone groups, and the like. Are α, β-diketone group derivatives, carbamoyl groups, carboester groups, or phosphate ester groups, with acid groups or cationic groups being particularly preferred.

酸基の例としては、フェノール性水酸基、カルボキシル基、−SO3H、−OSO3H、−PO32、−OPO32、−CONHSO2−および−SO2NHSO2−が挙げられる。なかでも酸基としては、酸解離定数(pKa)が7以下であることがより好ましく、リン酸基(−OPO32、−PO32)が特に好ましい。またこれら酸基は、金属塩であっても構わない。 Examples of acid groups include phenolic hydroxyl groups, carboxyl groups, —SO 3 H, —OSO 3 H, —PO 3 H 2 , —OPO 3 H 2 , —CONHSO 2 — and —SO 2 NHSO 2 —. . Among these, the acid group preferably has an acid dissociation constant (pKa) of 7 or less, and particularly preferably a phosphate group (—OPO 3 H 2 , —PO 3 H 2 ). These acid groups may be metal salts.

カチオン性基は、オニウム基であることが好ましい。オニウム基の例は、アンモニウム基、ホスホニウム基、アルソニウム基、スチボニウム基、オキソニウム基、スルホニウム基、セレノニウム基、スタンノニウム基、ヨードニウム基を含む。なかでも、アンモニウム基、ホスホニウム基およびスルホニウム基が好ましく、アンモニウム基およびホスホニウム基がさらに好ましく、アンモニウム基が最も好ましい。   The cationic group is preferably an onium group. Examples of the onium group include an ammonium group, a phosphonium group, an arsonium group, a stibonium group, an oxonium group, a sulfonium group, a selenonium group, a stannonium group, and an iodonium group. Among these, an ammonium group, a phosphonium group, and a sulfonium group are preferable, an ammonium group and a phosphonium group are more preferable, and an ammonium group is most preferable.

上記の吸着性基の有機化合物への導入は、これらの吸着性基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物(重合性モノマー)を重合または共重合することにより行うことができる。かかる重合性モノマーとしては、上記吸着性基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物であれば特に限定されないが、好ましい例として、下記一般式(I)〜(III)で表される化合物を挙げることができる。特に好ましい例としては、下記(I)および(II)で表される化合物を挙げることができる。   The above-mentioned adsorptive group can be introduced into an organic compound by polymerizing or copolymerizing a compound (polymerizable monomer) having these adsorptive groups and an ethylenically unsaturated double bond. The polymerizable monomer is not particularly limited as long as it is a compound having the adsorptive group and the ethylenically unsaturated double bond. Preferred examples include compounds represented by the following general formulas (I) to (III). Can be mentioned. Particularly preferred examples include compounds represented by the following (I) and (II).

Figure 2006137100
Figure 2006137100

上記式(I)および(II)において、R1、R2およびR3は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子または炭素原子数が1〜6のアルキル基を表す。R1、R2およびR3は、より好ましくは水素原子または炭素原子数が1〜3のアルキル基であり、最も好ましくは、水素原子またはメチルである。R2およびR3は、水素原子であることが特に好ましい。Xは、酸素原子(−O−)またはイミノ(−NH−)である。Xは、酸素原子であることがさらに好ましい。 In the above formulas (I) and (II), R 1 , R 2 and R 3 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. R 1 , R 2 and R 3 are more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and most preferably a hydrogen atom or methyl. R 2 and R 3 are particularly preferably a hydrogen atom. X is an oxygen atom (—O—) or imino (—NH—). X is more preferably an oxygen atom.

Lは、単結合または2価の連結基である。2価の連結基としては、2価の脂肪族基(例えば、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、置換アルキニレン基)、2価の芳香族基(例えば、アリレン基、置換アリレン基)または2価の複素環基であるか、あるいはそれらと、酸素原子(−O−)、硫黄原子(−S−)、イミノ基(−NH−)、置換イミノ基(−NR−、Rは脂肪族基、芳香族基または複素環基)またはカルボニル基(−CO−)との組み合わせが挙げられる。
脂肪族基は、環状構造または分岐構造を有していてもよい。脂肪族基の炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜15がさらに好ましく、1〜10が最も好ましい。脂肪族基は、不飽和脂肪族基よりも飽和脂肪族基の方が好ましい。脂肪族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、芳香族基および複素環基を含む。
芳香族基の炭素原子数は、6〜20が好ましく、6〜15がさらに好ましく、6〜10が最も好ましい。芳香族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、脂肪族基、芳香族基および複素環基を含む。
複素環基は、複素環として5員環または6員環を有することが好ましい。複素環に他の複素環、脂肪族環または芳香族環が縮合していてもよい。複素環基は、置換基を有していてもよい。置換基の例は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、オキソ基(=O)、チオキソ基(=S)、イミノ基(=NH)、置換イミノ基(=N−R、Rは脂肪族基、芳香族基または複素環基)、脂肪族基、芳香族基および複素環基を含む。
L is a single bond or a divalent linking group. As the divalent linking group, a divalent aliphatic group (for example, alkylene group, substituted alkylene group, alkenylene group, substituted alkenylene group, alkynylene group, substituted alkynylene group), divalent aromatic group (for example, arylene group) , A substituted arylene group) or a divalent heterocyclic group, or an oxygen atom (—O—), a sulfur atom (—S—), an imino group (—NH—), a substituted imino group (—NR). -, R represents an aliphatic group, aromatic group or heterocyclic group) or a combination with a carbonyl group (-CO-).
The aliphatic group may have a cyclic structure or a branched structure. 1-20 are preferable, as for the carbon atom number of an aliphatic group, 1-15 are more preferable, and 1-10 are the most preferable. The aliphatic group is preferably a saturated aliphatic group rather than an unsaturated aliphatic group. The aliphatic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxyl group, an aromatic group, and a heterocyclic group.
6-20 are preferable, as for the carbon atom number of an aromatic group, 6-15 are more preferable, and 6-10 are the most preferable. The aromatic group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxyl group, an aliphatic group, an aromatic group, and a heterocyclic group.
The heterocyclic group preferably has a 5-membered or 6-membered ring as the heterocycle. The heterocycle may be condensed with another heterocycle, aliphatic ring or aromatic ring. The heterocyclic group may have a substituent. Examples of substituents include halogen atoms, hydroxyl groups, oxo groups (═O), thioxo groups (═S), imino groups (═NH), substituted imino groups (═N—R, R is an aliphatic group, aromatic Group or heterocyclic group), aliphatic group, aromatic group and heterocyclic group.

式(I)のLは、ポリオキシアルキレン構造を含む二価の連結基であることが好ましい。ポリオキシアルキレン構造は、ポリオキシエチレン構造であることがさらに好ましい。言い換えると、Lは、−(OCH2CH2)n−(nは、2以上の整数)を含むことが好ましい。
Zは、前記の親水性支持体表面に吸着する官能基である。又、Yは、炭素原子または窒素原子である。Yが窒素原子で、Yにアルキル基などが置換して四級ピリジニウム基になったものでもよい。その場合は、それ自体が吸着性を示すので、式(II)の−L−Zは必須ではない。
L in formula (I) is preferably a divalent linking group containing a polyoxyalkylene structure. The polyoxyalkylene structure is more preferably a polyoxyethylene structure. In other words, L preferably contains — (OCH 2 CH 2 ) n — (n is an integer of 2 or more).
Z is a functional group that adsorbs to the surface of the hydrophilic support. Y is a carbon atom or a nitrogen atom. Y may be a nitrogen atom, and an alkyl group or the like may be substituted for Y to form a quaternary pyridinium group. In that case, -LZ in the formula (II) is not essential because it exhibits adsorptivity itself.

式(III)において、R1、R2およびR3は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子または炭素原子数が1〜6のアルキル基、Zまたは−L−Zを表す。ここでLおよびZは、式(I)および(II)におけるものと同義である。 In the formula (III), R 1 , R 2 and R 3 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, Z or -LZ. Here, L and Z have the same meanings as in formulas (I) and (II).

以下に、式(I)および(II)で表される代表的な化合物の例を示す。   Examples of typical compounds represented by formulas (I) and (II) are shown below.

Figure 2006137100
Figure 2006137100

式(III)で表される吸着性モノマーの具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸などの不飽和カルボン酸、ビニルホスホン酸、ビニルスルホン酸などが挙げられる。   Specific examples of the adsorptive monomer represented by the formula (III) include unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid and itaconic acid, vinylphosphonic acid and vinylsulfonic acid.

本発明の有機化合物は、画像部との密着向上のため、さらに架橋性を有していることが好ましい。有機化合物に架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を化合物の側鎖中に導入したり、化合物の極性置換基と対荷電を有する置換基とエチレン性不飽和結合を有する化合物で塩構造を形成させて導入したりすることができる。   The organic compound of the present invention preferably further has crosslinkability in order to improve adhesion with the image area. In order to impart crosslinkability to an organic compound, a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond is introduced into the side chain of the compound, or a substituent having a counter charge with a polar substituent of the compound and an ethylenically unsaturated group. It can be introduced by forming a salt structure with a compound having a saturated bond.

分子の側鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、アクリル酸またはメタクリル酸のエステルまたはアミドのポリマーであって、エステルまたはアミドの残基(−COORまたは−CONHR)のRがエチレン性不飽和結合を有するポリマーを挙げることができる。   Examples of polymers having an ethylenically unsaturated bond in the side chain of the molecule are polymers of esters or amides of acrylic acid or methacrylic acid, where R of the ester or amide residue (—COOR or —CONHR) is R Mention may be made of polymers having an ethylenically unsaturated bond.

上記Rの例としては、−(CH2 )n CR1 =CR23 、−(CH2 O)n CH2 CR1 =CR23 、−(CH2 CH2 O)n CH2 CR1 =CR23 、−(CH2n NH−CO−O−CH2 CR1 =CR23 、−(CH2n −O−CO−CR1 =CR23 および−(CH2 CH2 O)2 −X(式中、R1 〜R3 はそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、アルコキシ基もしくはアリールオキシ基を表し、R1 とR2 またはR3 とは互いに結合して環を形成してもよい。nは、1〜10の整数を表す。Xは、ジシクロペンタジエニル残基を表す。)を挙げることができる。 Examples of the R, - (CH 2) n CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n NH-CO-O-CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n -O-CO-CR 1 = CR 2 R 3 and - ( CH 2 CH 2 O) in 2 -X (wherein, R 1 to R 3 each represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, an alkoxy group or aryloxy group, R 1 And R 2 or R 3 may be bonded to each other to form a ring, n represents an integer of 1 to 10. X represents a dicyclopentadienyl residue. .

エステル残基のRの具体例としては、−CH2 CH=CH2 (特公平7−21633号公報に記載されている。)、−CH2 CH2 O−CH2 CH=CH2 、−CH2 C(CH3 )=CH2 、−CH2 CH=CH−C65 、−CH2 CH2 OCOCH=CH−C65 、−CH2 CH2 −NHCOO−CH2 CH=CH2 および−CH2 CH2 O−X(式中、Xはジシクロペンタジエニル残基を表す。)が挙げられる。 Specific examples of R in the ester residue, -CH 2 CH = CH 2, ( described in JP Kokoku 7-21633.) - CH 2 CH 2 O-CH 2 CH = CH 2, -CH 2 C (CH 3) = CH 2, -CH 2 CH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 OCOCH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 -NHCOO-CH 2 CH = CH 2 And —CH 2 CH 2 O—X (wherein X represents a dicyclopentadienyl residue).

アミド残基のRの具体例としては、−CH2 CH=CH2 、−CH2 CH2 −Y(式中、Yはシクロヘキセン残基を表す。)、−CH2 CH2 −OCO−CH=CH2 が挙げられる。 Specific examples of R of the amide residue include —CH 2 CH═CH 2 , —CH 2 CH 2 —Y (wherein Y represents a cyclohexene residue), —CH 2 CH 2 —OCO—CH═. CH 2 may be mentioned.

有機化合物中の架橋性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、有機化合物1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、より好ましくは1.0〜7.0mmol、最も好ましくは2.0〜5.5mmolである。この範囲で、良好な感度と耐汚れ性の両立、および良好な保存安定性が得られる。   The content of the crosslinkable group in the organic compound (content of the unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.1 to 10.0 mmol, more preferably 1.0, per 1 g of the organic compound. -7.0 mmol, most preferably 2.0-5.5 mmol. Within this range, both good sensitivity and stain resistance can be achieved, and good storage stability can be obtained.

本発明の有機化合物には、親水性基を有するモノマーを共重合させることもできる。親水性基としては、例えば、ヒドロキシル基、ポリオキシエチレン基、ポリオキシプロピレン基等が挙げられる。   The organic compound of the present invention can be copolymerized with a monomer having a hydrophilic group. Examples of the hydrophilic group include a hydroxyl group, a polyoxyethylene group, a polyoxypropylene group, and the like.

親水性基を有するモノマーの例としては、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、ポリオキシエチレンモノアクリレート、ポリオキシエチレンモノメタクリレート、ポリオキシプロピレンモノアクリレート、ポリオキシプロピレンモノメタクリレート、などが挙げられる。   Examples of monomers having hydrophilic groups include hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate, hydroxypropyl acrylate, hydroxypropyl methacrylate, polyoxyethylene monoacrylate, polyoxyethylene monomethacrylate, polyoxypropylene monoacrylate, polyoxypropylene monomethacrylate , Etc.

本発明に用いることができる有機化合物の共重合置換基は、従来公知のものを制限なく使用できるが、親水的なバインダーポリマーとしては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、ポリオキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基、スルホン酸基、リン酸基等の親水性基を有するものが好適に挙げられる。
具体例として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、デンプン誘導体、カルボキシメチルセルロースおよびそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、等が挙げられる。
As the copolymerizable substituent of the organic compound that can be used in the present invention, conventionally known ones can be used without limitation. Examples of hydrophilic binder polymers include hydroxy groups, carboxyl groups, carboxylate groups, and hydroxyethyl groups. , Having a hydrophilic group such as polyoxyethyl group, hydroxypropyl group, polyoxypropyl group, amino group, aminoethyl group, aminopropyl group, ammonium group, amide group, carboxymethyl group, sulfonic acid group, phosphoric acid group A thing is mentioned suitably.
Specific examples include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethyl cellulose and its sodium salt, cellulose acetate, sodium alginate, and the like.

本発明で用いられる有機化合物の具体例としては、下記化合物が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。   Specific examples of the organic compound used in the present invention include the following compounds, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2006137100
Figure 2006137100

Figure 2006137100
Figure 2006137100

有機化合物は、質量平均分子量が1万以上であり、1万〜30万が好ましく、また、数平均分子量が2000〜25万であるのがより好ましい。多分散度(質量平均分子量/数平均分子量)は、1.1〜10であるのが好ましい。   The organic compound has a mass average molecular weight of 10,000 or more, preferably 10,000 to 300,000, and more preferably a number average molecular weight of 2000 to 250,000. The polydispersity (mass average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 10.

有機化合物は、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等のポリマーであることができるが、ランダムポリマーであるのが好ましい。   The organic compound can be a polymer such as a random polymer, block polymer, or graft polymer, but is preferably a random polymer.

有機化合物層は、水またはメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記有機化合物を溶解させた溶液を表面処理したアルミニウム支持体上に塗布、乾燥する方法、または、水またはメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記化合物を溶解させた溶液に、表面処理したアルミニウム支持体を浸漬して上記化合物を吸着させ、しかる後、水などによって洗浄、乾燥する方法によって設けることができる。前者の方法では、上記有機化合物の濃度0.005〜10質量%の溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布などいずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法では、溶液の濃度は0.01〜20質量%、好ましくは0.05〜5質量%であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは2秒〜1分である。有機化合物は単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。
下塗り有機化合物の付着量は、好ましくは0.1〜100mg/m2 、1〜50mg/m2であるのが望ましく、さらに1〜30mg/m2 であるのが望ましい。
The organic compound layer is formed by applying and drying water or an organic support such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone or the like, or a solution obtained by dissolving the above organic compound on a surface-treated aluminum support, or water or methanol. A method of immersing the surface-treated aluminum support in a solution obtained by dissolving the above compound in an organic solvent such as ethanol or methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof to adsorb the above compound, and then washing and drying with water or the like Can be provided. In the former method, a solution of the organic compound having a concentration of 0.005 to 10% by mass can be applied by various methods. For example, any method such as bar coater coating, spin coating, spray coating, or curtain coating may be used. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by mass, preferably 0.05 to 5% by mass, the immersion temperature is 20 to 90 ° C., preferably 25 to 50 ° C., and the immersion time. Is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute. An organic compound may be used independently or may be used in mixture of 2 or more types.
Deposition amount of the undercoat organic compound, preferably 0.1-100 mg / m 2, desirably in the range of 1 to 50 mg / m 2, more desirably at 1 to 30 mg / m 2.

<下塗り有機化合物の後処理:有機酸、その塩またはアルカリ金属イオンを含む水溶液処理>
以下の水溶液処理は、表面に陽極酸化皮膜を有するアルミニウム板の支持体上に、本発明の有機化合物層を塗布し乾燥した後に、上記水溶液に浸漬する方法、水溶液をバーコートやブラシコートで塗布する方法、水溶液をスプレー等で散布する方法等が挙げられる。塗布された下塗り有機化合物層にダメージを与えない点で浸漬する方法が好ましい。水溶液の温度は、20〜40℃、処理時間は、1秒〜1分とすることができ、5秒〜20秒が好ましい。
有機酸は、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類およびその塩、フェニルホスホン酸、ポリビニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類およびその塩、ヘキサメタリン酸、およびその塩、エチレン系不飽和二重結合とリン酸基とを有する化合物、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類およびその塩が例示できる。好ましくは、クエン酸、ポリビニルホスホン酸、エチレン系不飽和二重結合とリン酸基とを有する化合物、ヘキサメタリン酸塩等が挙げられる。
アルカリ金属イオンは、Li+、Na+、K+等が例示できる。好ましくはLi+、Na+である。これらのアルカリ金属の水酸化物、リン酸塩、炭酸塩、硝酸塩、ホウ酸塩等が挙げられる。
用いる水溶液の濃度は、0.01〜100g/Lが好ましく、0.1〜10g/Lがより好ましい。
<Post-treatment of undercoat organic compound: treatment with aqueous solution containing organic acid, salt thereof or alkali metal ion>
The following aqueous solution treatment is a method in which the organic compound layer of the present invention is applied on a support of an aluminum plate having an anodized film on the surface, dried, and then immersed in the aqueous solution. The aqueous solution is applied by bar coating or brush coating. And a method of spraying an aqueous solution with a spray or the like. A method of immersing is preferred because it does not damage the applied undercoat organic compound layer. The temperature of the aqueous solution can be 20 to 40 ° C., and the treatment time can be 1 second to 1 minute, preferably 5 seconds to 20 seconds.
Organic acids include organic sulfonic acids such as toluenesulfonic acid and benzenesulfonic acid and salts thereof, organic phosphonic acids such as phenylphosphonic acid and polyvinylphosphonic acid and salts thereof, hexametaphosphoric acid and salts thereof, and ethylenically unsaturated double bonds And organic carboxylic acids such as tartaric acid, oxalic acid, citric acid, malic acid, lactic acid, gluconic acid, and amino acids, and salts thereof. Preferably, citric acid, polyvinyl phosphonic acid, a compound having an ethylenically unsaturated double bond and a phosphoric acid group, hexametaphosphate, and the like can be mentioned.
Examples of the alkali metal ion include Li + , Na + , K + and the like. Li + and Na + are preferred. These alkali metal hydroxides, phosphates, carbonates, nitrates, borates and the like can be mentioned.
The concentration of the aqueous solution used is preferably 0.01 to 100 g / L, more preferably 0.1 to 10 g / L.

本発明者は、上記有機化合物を陽極酸化皮膜を有する支持体上に塗布し乾燥した後に、吸着しない染料を用い下塗り有機化合物を塗布した後の表面を染色し、染色された結果から全表面が完全には被覆されていないことを見出した。またX線光電子分光法により最表面C量(atm%)を測定したところ50〜70%の数値が得られ上記同様に完全には被覆されていないことが確認できた。
この知見をもとに上記下塗り有機化合物で被覆できていない陽極酸化皮膜の露出部分を特定の処理液で覆う後処理をし、本発明で用いる特定の画像記録層と基板の陽極酸化皮膜との直接の接触を防ぐと、耐刷性に優れ、機上現像性に優れ、放置払い性にも優れる平版印刷版原版が得られることがわかり本発明に至った。また、現像後の残色、残膜による汚れが少なくなり、払い性がさらに良くなる。
下塗り有機化合物層により全面を被覆する方法として、下塗り有機化合物層を厚く塗る方法が考えられるが、有機化合物層が厚くなると、ブランケット汚れ、地汚れがおきるという問題がある。
別に下塗り有機化合物層の下層である陽極酸化被膜を処理や塗布により親水化する方法も考えられるが、特定の画像記録層との密着性が悪くなって耐刷性が悪くなるという問題点がある。
The present inventor applied the organic compound on a support having an anodized film and dried it, and then dyed the surface after applying the primer organic compound using a dye that does not adsorb, and the entire surface was determined from the dyed results. It was found that it was not completely coated. Further, when the amount of C on the outermost surface (atm%) was measured by X-ray photoelectron spectroscopy, a numerical value of 50 to 70% was obtained, and it was confirmed that the film was not completely coated as described above.
Based on this knowledge, post-treatment is performed to cover the exposed portion of the anodic oxide film that has not been coated with the undercoat organic compound with a specific treatment liquid, and the specific image recording layer used in the present invention and the anodic oxide film on the substrate When direct contact was prevented, it was found that a lithographic printing plate precursor having excellent printing durability, excellent on-press development property and excellent neglectability was obtained, and the present invention was achieved. In addition, the residual color after development and the stain due to the residual film are reduced, and the payability is further improved.
As a method of covering the entire surface with the undercoat organic compound layer, a method of thickly applying the undercoat organic compound layer can be considered. However, when the organic compound layer becomes thick, there is a problem that blanket stains and ground stains occur.
Another possible method is to hydrophilize the anodic oxide film, which is the lower layer of the undercoat organic compound layer, by treatment or coating, but there is a problem that the adhesion with a specific image recording layer is deteriorated and the printing durability is deteriorated. .

本発明では、陽極酸化皮膜上に下塗り有機化合物層と特定の画像記録層とが設けられるが、下塗り有機化合物層が全面を被覆できず画像記録層が陽極酸化皮膜に接していると、現像された非画像部の陽極酸化皮膜上に画像記録層中の有機物がわずかながら残る場合があり、印刷インクが付着して非画像部の汚れとなる。また、印刷を中断すると、印刷機上で版を放置することで、そのインキがさらにとれにくくなるという問題点がある。そこに大気中の汚れがつき易くさらに耐汚れ性が劣化するという問題もあり、これらは放置汚れとして観測される。印刷現場では印刷を中断した後の汚れを印刷再開後の損紙(汚れがなくなるまでの印刷枚数)の枚数として観測し、放置払い性と呼ばれる。本発明では下塗り有機化合物層を後処理することにより、耐放置汚れ性を格段に向上させることができた。   In the present invention, an undercoat organic compound layer and a specific image recording layer are provided on the anodized film. However, when the undercoat organic compound layer cannot cover the entire surface and the image recording layer is in contact with the anodized film, development is performed. In addition, a slight amount of organic matter in the image recording layer may remain on the anodic oxide film in the non-image area, and the printing ink adheres and stains the non-image area. In addition, when printing is interrupted, there is a problem that the ink is more difficult to be removed by leaving the plate on the printing press. There is also a problem that dirt in the atmosphere easily adheres to it and the dirt resistance deteriorates, and these are observed as untreated dirt. At the printing site, the stain after the printing is interrupted is observed as the number of damaged paper (the number of printed sheets until the stain is eliminated) after the resumption of printing, which is called neglectability. In the present invention, after-treatment of the undercoat organic compound layer can significantly improve the anti-stain resistance.

以下、上記発明が適用される支持体および画像記録層について説明する。   Hereinafter, the support and the image recording layer to which the above invention is applied will be described.

まず、本発明が適用される粗面化および陽極酸化されたアルミニウム支持体の製造方法について説明する。
[平版印刷版用支持体]
<アルミニウム板(圧延アルミ)>
本発明の平版印刷版用支持体を得るためには公知のアルミニウム板を用いることができる。本発明に用いられるアルミニウム板は、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とする金属であり、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる。純アルミニウム板のほか、アルミニウムを主成分とし微量の異元素を含む合金板を用いることもできる。
First, a method for producing a roughened and anodized aluminum support to which the present invention is applied will be described.
[Support for lithographic printing plate]
<Aluminum plate (rolled aluminum)>
In order to obtain the lithographic printing plate support of the present invention, a known aluminum plate can be used. The aluminum plate used in the present invention is a metal mainly composed of dimensionally stable aluminum, and is made of aluminum or an aluminum alloy. In addition to a pure aluminum plate, an alloy plate containing aluminum as a main component and a trace amount of foreign elements can also be used.

本明細書においては、上述したアルミニウムまたはアルミニウム合金からなる各種の基板をアルミニウム板と総称して用いる。前記アルミニウム合金に含まれてもよい異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等があり、合金中の異元素の含有量は10質量%以下である。   In the present specification, various substrates made of the above-described aluminum or aluminum alloy are generically used as an aluminum plate. The foreign elements that may be contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium, and the content of the foreign elements in the alloy is 10% by mass or less. It is.

このように本発明に用いられるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、例えば、アルミニウムハンドブック第4版(1990年、軽金属協会発行)に記載されている従来公知の素材、例えば、JIS A1050、JIS A1100、JIS A1070、Mnを含むJIS A3004、国際登録合金 3103A等のAl−Mn系アルミニウム板を適宜利用することができる。また、引張強度を増す目的で、これらのアルミニウム合金に0.1質量%以上のマグネシウムを添加したAl−Mg系合金、Al−Mn−Mg系合金(JIS A3005)を用いることもできる。更に、ZrやSiを含むAl−Zr系合金やAl−Si系合金を用いることもできる。更に、Al−Mg−Si系合金を用いることもできる。   Thus, the composition of the aluminum plate used in the present invention is not specified. For example, a conventionally known material described in the fourth edition of the Aluminum Handbook (1990, published by the Light Metal Association), for example, JIS Al-Mn aluminum plates such as A1050, JIS A1100, JIS A1070, JIS A3004 containing Mn, and internationally registered alloy 3103A can be appropriately used. For the purpose of increasing the tensile strength, an Al—Mg alloy or an Al—Mn—Mg alloy (JIS A3005) in which 0.1% by mass or more of magnesium is added to these aluminum alloys can also be used. Furthermore, an Al—Zr alloy or an Al—Si alloy containing Zr or Si can also be used. Furthermore, an Al—Mg—Si based alloy can also be used.

JIS1050材に関しては、本願出願人によって提案された技術が、特開昭59−153861号、特開昭61−51395号、特開昭62−146694号、特開昭60−215725号、特開昭60−215726号、特開昭60−215727号、特開昭60−216728号、特開昭61−272367号、特開昭58−11759号、特開昭58−42493号、特開昭58−221254号、特開昭62−148295号、特開平4−254545号、特開平4−165041号、特公平3−68939号、特開平3−234594号、特公平1−47545号および特開昭62−140894号の各公報に記載されている。また、特公平1−35910号公報、特公昭55−28874号公報等に記載された技術も知られている。   Regarding the JIS 1050 material, the techniques proposed by the applicant of the present application are disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 59-153861, 61-51395, 62-146694, 60-215725, and 60-215725. JP 60-215726, JP 60-215727, JP 60-216728, JP 61-272367, JP 58-11759, JP 58-42493, JP 58- 221254, JP-A-62-148295, JP-A-4-254545, JP-A-4-165541, JP-B-3-68939, JP-A-3-234594, JP-B-1-47545, and JP-A-62. It is described in each publication of -140894. In addition, techniques described in Japanese Patent Publication No. 1-35910 and Japanese Patent Publication No. 55-28874 are also known.

JIS1070材に関しては、本願出願人によって提案された技術が、特開平7−81264号、特開平7−305133号、特開平8−49034号、特開平8−73974号、特開平8−108659号および特開平8−92679号の各公報に記載されている。   Regarding the JIS1070 material, the techniques proposed by the applicant of the present application are disclosed in JP-A-7-81264, JP-A-7-305133, JP-A-8-49034, JP-A-8-73974, JP-A-8-108659 and It is described in JP-A-8-92679.

Al−Mg系合金に関しては、本願出願人によって提案された技術が、特公昭62−5080号、特公昭63−60823号、特公平3−61753号、特開昭60−203496号、特開昭60−203497号、特公平3−11635号、特開昭61−274993号、特開昭62−23794号、特開昭63−47347号、特開昭63−47348号、特開昭63−47349号、特開昭64−1293号、特開昭63−135294号、特開昭63−87288号、特公平4−73392号、特公平7−100844号、特開昭62−149856号、特公平4−73394号、特開昭62−181191号、特公平5−76530号、特開昭63−30294号および特公平6−37116号の各公報に記載されている。また、特開平2−215599号公報、特開昭61−201747号公報等にも記載されている。   Regarding Al-Mg alloys, the techniques proposed by the applicant of the present application are disclosed in Japanese Patent Publication Nos. Sho 62-5080, Sho 63-60823, Shoko 3-61753, JP Sho 60-20396, JP-A-60-203497, JP-B-3-11635, JP-A-61-274993, JP-A-62-23794, JP-A-63-47347, JP-A-63-47348, JP-A-63-47349. JP-A 64-1293, JP-A 63-135294, JP-A 63-87288, JP-B 4-73392, JP-B 7-100844, JP-A 62-149856, JP-B JP-A-4-73394, JP-A-62-181191, JP-B-5-76530, JP-A-63-30294, and JP-B-6-37116. Also described in JP-A-2-215599, JP-A-61-201747, and the like.

Al−Mn系合金に関しては、本願出願人によって提案された技術が、特開昭60−230951号、特開平1−306288号および特開平2−293189号の各公報に記載されている。また、特公昭54−42284号、特公平4−19290号、特公平4−19291号、特公平4−19292号、特開昭61−35995号、特開昭64−51992号、特開平4−226394号の各公報、米国特許第5,009,722号明細書、同第5,028,276号明細書等にも記載されている。   With regard to Al—Mn alloys, techniques proposed by the applicant of the present application are described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 60-230951, 1-306288, and 2-293189. In addition, JP-B-54-42284, JP-B-4-19290, JP-B-4-19291, JP-B-4-19292, JP-A-61-35995, JP-A-64-51992, JP-A-4-19592, No. 226394, US Pat. No. 5,009,722, US Pat. No. 5,028,276 and the like.

Al−Mn−Mg系合金に関しては、本願出願人によって提案された技術が、特開昭62−86143号公報および特開平3−222796号公報に記載されている。また、特公昭63−60824号、特開昭60−63346号、特開昭60−63347号、特開平1−293350号の各公報、欧州特許第223,737号、米国特許第4,818,300号、英国特許第1,222,777号の各明細書等にも記載されている。   With regard to the Al—Mn—Mg alloy, techniques proposed by the applicant of the present application are described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 62-86143 and 3-2222796. JP-B 63-60824, JP-A 60-63346, JP-A 60-63347, JP-A-1-293350, European Patent No. 223,737, US Pat. No. 4,818, No. 300, British Patent No. 1,222,777, etc.

Al−Zr系合金に関しては、本願出願人によって提案された技術が、特公昭63−15978号公報および特開昭61−51395号公報に記載されている。また、特開昭63−143234号、特開昭63−143235号の各公報等にも記載されている。   Regarding the Al—Zr alloy, the technique proposed by the applicant of the present application is described in Japanese Patent Publication No. 63-15978 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-51395. Also described in JP-A-63-143234 and JP-A-63-143235.

Al−Mg−Si系合金に関しては、英国特許第1,421,710号明細書等に記載されている。   The Al—Mg—Si alloy is described in British Patent 1,421,710.

アルミニウム合金を板材とするには、例えば、下記の方法を採用することができる。まず、所定の合金成分含有量に調整したアルミニウム合金溶湯に、常法に従い、清浄化処理を行い、鋳造する。清浄化処理には、溶湯中の水素等の不要ガスを除去するために、フラックス処理、アルゴンガス、塩素ガス等を用いる脱ガス処理、セラミックチューブフィルタ、セラミックフォームフィルタ等のいわゆるリジッドメディアフィルタや、アルミナフレーク、アルミナボール等をろ材とするフィルタや、グラスクロスフィルタ等を用いるフィルタリング処理、あるいは、脱ガス処理とフィルタリング処理を組み合わせた処理が行われる。   In order to use an aluminum alloy as a plate material, for example, the following method can be employed. First, a molten aluminum alloy adjusted to a predetermined alloy component content is subjected to a cleaning process and cast according to a conventional method. In the cleaning process, in order to remove unnecessary gas such as hydrogen in the molten metal, flux treatment, degassing process using argon gas, chlorine gas, etc., so-called rigid media filter such as ceramic tube filter, ceramic foam filter, A filtering process using a filter that uses alumina flakes, alumina balls or the like as a filter medium, a glass cloth filter, or a combination of a degassing process and a filtering process is performed.

これらの清浄化処理は、溶湯中の非金属介在物、酸化物等の異物による欠陥や、溶湯に溶け込んだガスによる欠陥を防ぐために実施されることが好ましい。溶湯のフィルタリングに関しては、特開平6−57432号、特開平3−162530号、特開平5−140659号、特開平4−231425号、特開平4−276031号、特開平5−311261号、特開平6−136466号の各公報等に記載されている。また、溶湯の脱ガスに関しては、特開平5−51659号公報、実開平5−49148号公報等に記載されている。本願出願人も、特開平7−40017号公報において、溶湯の脱ガスに関する技術を提案している。   These cleaning treatments are preferably performed in order to prevent defects caused by foreign matters such as non-metallic inclusions and oxides in the molten metal and defects caused by gas dissolved in the molten metal. Regarding filtering of the molten metal, JP-A-6-57432, JP-A-3-162530, JP-A-5-140659, JP-A-4-231425, JP-A-4-276031, JP-A-5-311261, JP-A-5-311261 6-136466 and the like. Further, the degassing of the molten metal is described in JP-A-5-51659, Japanese Utility Model Laid-Open No. 5-49148, and the like. The applicant of the present application has also proposed a technique relating to degassing of molten metal in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-40017.

ついで、上述したように清浄化処理を施された溶湯を用いて鋳造を行う。鋳造方法に関しては、DC鋳造法に代表される固体鋳型を用いる方法と、連続鋳造法に代表される駆動鋳型を用いる方法がある。
DC鋳造においては、冷却速度が0.5〜30℃/秒の範囲で凝固する。1℃未満であると粗大な金属間化合物が多数形成されることがある。DC鋳造を行った場合、板厚300〜800mmの鋳塊を製造することができる。その鋳塊を、常法に従い、必要に応じて面削を行い、通常、表層の1〜30mm、好ましくは1〜10mmを切削する。その前後において、必要に応じて、均熱化処理を行う。均熱化処理を行う場合、金属間化合物が粗大化しないように、450〜620℃で1〜48時間の熱処理を行う。熱処理が1時間より短い場合には、均熱化処理の効果が不十分となることがある。
Next, casting is performed using the molten metal that has been subjected to the cleaning treatment as described above. Regarding the casting method, there are a method using a solid mold typified by a DC casting method and a method using a driving mold typified by a continuous casting method.
In DC casting, solidification occurs at a cooling rate of 0.5 to 30 ° C./second. When the temperature is less than 1 ° C., many coarse intermetallic compounds may be formed. When DC casting is performed, an ingot having a thickness of 300 to 800 mm can be manufactured. The ingot is chamfered as necessary according to a conventional method, and usually 1 to 30 mm, preferably 1 to 10 mm, of the surface layer is cut. Before and after that, soaking treatment is performed as necessary. When performing the soaking process, heat treatment is performed at 450 to 620 ° C. for 1 to 48 hours so that the intermetallic compound does not become coarse. If the heat treatment is shorter than 1 hour, the effect of soaking may be insufficient.

その後、熱間圧延、冷間圧延を行ってアルミニウム板の圧延板とする。熱間圧延の開始温度は350〜500℃が適当である。熱間圧延の前もしくは後、またはその途中において、中間焼鈍処理を行ってもよい。中間焼鈍処理の条件は、バッチ式焼鈍炉を用いて280〜600℃で2〜20時間、好ましくは350〜500℃で2〜10時間加熱するか、連続焼鈍炉を用いて400〜600℃で6分以下、好ましくは450〜550℃で2分以下加熱するかである。連続焼鈍炉を用いて10〜200℃/秒の昇温速度で加熱して、結晶組織を細かくすることもできる。   Then, hot rolling and cold rolling are performed to obtain a rolled aluminum plate. An appropriate starting temperature for hot rolling is 350 to 500 ° C. An intermediate annealing treatment may be performed before or after hot rolling or in the middle thereof. The conditions for the intermediate annealing treatment are heating at 280 to 600 ° C. for 2 to 20 hours using a batch annealing furnace, preferably 350 to 500 ° C. for 2 to 10 hours, or using a continuous annealing furnace at 400 to 600 ° C. Heating is performed for 6 minutes or less, preferably 450 to 550 ° C. for 2 minutes or less. The crystal structure can be made finer by heating at a heating rate of 10 to 200 ° C./second using a continuous annealing furnace.

以上の工程によって、所定の厚さ、例えば、0.1〜0.5mmに仕上げられたアルミニウム板は、更にローラレベラ、テンションレベラ等の矯正装置によって平面性を改善してもよい。平面性の改善は、アルミニウム板をシート状にカットした後に行ってもよいが、生産性を向上させるためには、連続したコイルの状態で行うことが好ましい。また、所定の板幅に加工するため、スリッタラインを通してもよい。また、アルミニウム板同士の摩擦による傷の発生を防止するために、アルミニウム板の表面に薄い油膜を設けてもよい。油膜には、必要に応じて、揮発性のものや、不揮発性のものが適宜用いられる。   The flatness of the aluminum plate finished to a predetermined thickness, for example, 0.1 to 0.5 mm by the above steps may be further improved by a correction device such as a roller leveler or a tension leveler. The flatness may be improved after the aluminum plate is cut into a sheet shape, but in order to improve productivity, it is preferably performed in a continuous coil state. Further, a slitter line may be used for processing to a predetermined plate width. Moreover, in order to prevent generation | occurrence | production of the damage | wound by friction between aluminum plates, you may provide a thin oil film on the surface of an aluminum plate. As the oil film, a volatile or non-volatile film is appropriately used as necessary.

一方、連続鋳造法としては、双ロール法(ハンター法)、3C法に代表される冷却ロールを用いる方法、双ベルト法(ハズレー法)、アルスイスキャスターII型に代表される冷却ベルトや冷却ブロックを用いる方法が、工業的に行われている。連続鋳造法を用いる場合には、冷却速度が100〜1000℃/秒の範囲で凝固する。連続鋳造法は、一般的には、DC鋳造法に比べて冷却速度が速いため、アルミマトリックスに対する合金成分固溶度を高くすることができるという特徴を有する。連続鋳造法に関しては、本願出願人によって提案された技術が、特開平3−79798号、特開平5−201166号、特開平5−156414号、特開平6−262203号、特開平6−122949号、特開平6−210406号、特開平6−26308号の各公報等に記載されている。   On the other hand, as the continuous casting method, a twin roll method (hunter method), a method using a cooling roll typified by the 3C method, a double belt method (Hazley method), a cooling belt or a cooling block typified by Al-Swiss Caster II type The method using is industrially performed. When the continuous casting method is used, it solidifies at a cooling rate of 100 to 1000 ° C./second. Since the continuous casting method generally has a higher cooling rate than the DC casting method, it has a feature that the solid solubility of the alloy component in the aluminum matrix can be increased. Regarding the continuous casting method, the techniques proposed by the applicant of the present application are disclosed in JP-A-3-79798, JP-A-5-201166, JP-A-5-156414, JP-A-6-262203, and JP-A-6-122949. JP-A-6-210406 and JP-A-6-26308.

連続鋳造を行った場合において、例えば、ハンター法等の冷却ロールを用いる方法を用いると、板厚1〜10mmの鋳造板を直接、連続鋳造することができ、熱間圧延の工程を省略することができるというメリットが得られる。また、ハズレー法等の冷却ベルトを用いる方法を用いると、板厚10〜50mmの鋳造板を鋳造することができ、一般的に、鋳造直後に熱間圧延ロールを配置し連続的に圧延することで、板厚1〜10mmの連続鋳造圧延板が得られる。   When continuous casting is performed, for example, if a method using a cooling roll such as a Hunter method is used, a cast plate having a thickness of 1 to 10 mm can be directly cast continuously, and the hot rolling step is omitted. The advantage of being able to In addition, when a method using a cooling belt such as the Husley method is used, a cast plate having a thickness of 10 to 50 mm can be cast. Generally, a hot rolling roll is arranged immediately after casting and continuously rolled. Thus, a continuous cast and rolled plate having a thickness of 1 to 10 mm is obtained.

これらの連続鋳造圧延板は、DC鋳造について説明したのと同様に、冷間圧延、中間焼鈍、平面性の改善、スリット等の工程を経て、所定の厚さ、例えば、0.1〜0.5mmの板厚に仕上げられる。連続鋳造法を用いた場合の中間焼鈍条件および冷間圧延条件については、本願出願人によって提案された技術が、特開平6−220593号、特開平6−210308号、特開平7−54111号、特開平8−92709号の各公報等に記載されている。   These continuous cast and rolled plates are subjected to processes such as cold rolling, intermediate annealing, improvement of flatness, slits, and the like in the same manner as described for DC casting. Finished to a thickness of 5 mm. Regarding the intermediate annealing condition and the cold rolling condition when using the continuous casting method, the techniques proposed by the applicant of the present application are disclosed in JP-A-6-220593, JP-A-6-210308, JP-A-7-54111, It is described in JP-A-8-92709.

このようにして製造されるアルミニウム板には、以下に述べる種々の特性が望まれる。
アルミニウム板の強度は、平版印刷版用支持体として必要な腰の強さを得るため、0.2%耐力が140MPa以上であるのが好ましい。また、バーニング処理を行った場合にもある程度の腰の強さを得るためには、270℃で3〜10分間加熱処理した後の0.2%耐力が80MPa以上であるのが好ましく、100MPa以上であるのがより好ましい。特に、アルミニウム板に腰の強さを求める場合は、MgやMnを添加したアルミニウム材料を採用することができるが、腰を強くすると印刷機の版胴へのフィットしやすさが劣ってくるため、用途に応じて、材質および微量成分の添加量が適宜選択される。これらに関して、本願出願人によって提案された技術が、特開平7−126820号公報、特開昭62−140894号公報等に記載されている。
Various characteristics described below are desired for the aluminum plate thus manufactured.
As for the strength of the aluminum plate, it is preferable that the 0.2% proof stress is 140 MPa or more in order to obtain the stiffness required for a lithographic printing plate support. Further, in order to obtain a certain level of waist strength even when performing a burning treatment, the 0.2% yield strength after heat treatment at 270 ° C. for 3 to 10 minutes is preferably 80 MPa or more, and 100 MPa or more. It is more preferable that In particular, when the waist strength is required for an aluminum plate, an aluminum material added with Mg or Mn can be used, but if the waist is strengthened, the ease of fitting to the plate cylinder of a printing press becomes inferior. Depending on the application, the material and the amount of trace components added are appropriately selected. With regard to these, techniques proposed by the applicant of the present application are described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 7-126820 and 62-140894.

アルミニウム板の結晶組織は、化学的粗面化処理や電気化学的粗面化処理を行った場合、アルミニウム板の表面の結晶組織が面質不良の発生の原因となることがあるので、表面においてあまり粗大でないことが好ましい。アルミニウム板の表面の結晶組織は、幅が200μm以下であるのが好ましく、100μm以下であるのがより好ましく、50μm以下であるのが更に好ましく、また、結晶組織の長さが5000μm以下であるのが好ましく、1000μm以下であるのがより好ましく、500μm以下であるのが更に好ましい。これらに関して、本願出願人によって提案された技術が、特開平6−218495号、特開平7−39906号、特開平7−124609号の各公報等に記載されている。   The crystal structure of the aluminum plate may cause poor surface quality when the surface of the aluminum plate is subjected to chemical or electrochemical surface roughening. It is preferably not too coarse. The crystal structure on the surface of the aluminum plate preferably has a width of 200 μm or less, more preferably 100 μm or less, still more preferably 50 μm or less, and the length of the crystal structure is 5000 μm or less. Is preferably 1000 μm or less, and more preferably 500 μm or less. With regard to these, techniques proposed by the applicant of the present application are described in Japanese Patent Laid-Open Nos. 6-218495, 7-39906, and 7-124609.

アルミニウム板の合金成分分布は、化学的粗面化処理や電気化学的粗面化処理を行った場合、アルミニウム板の表面の合金成分の不均一な分布に起因して面質不良が発生することがあるので、表面においてあまり不均一でないことが好ましい。これらに関して、本願出願人によって提案された技術が、特開平6−48058号、特開平5−301478号、特開平7−132689号の各公報等に記載されている。   The alloy component distribution of the aluminum plate, when chemical surface roughening treatment or electrochemical surface roughening treatment is performed, poor surface quality occurs due to non-uniform distribution of the alloy component on the surface of the aluminum plate. Therefore, it is preferable that the surface is not very uneven. With regard to these, the techniques proposed by the applicant of the present application are described in Japanese Patent Laid-Open Nos. 6-48058, 5-301478, and 7-132689.

アルミニウム板の金属間化合物は、その金属間化合物のサイズや密度が、化学的粗面化処理や電気化学的粗面化処理に影響を与える場合がある。これらに関して、本願出願人によって提案された技術が、特開平7−138687号、特開平4−254545号の各公報等に記載されている。   In the intermetallic compound of the aluminum plate, the size and density of the intermetallic compound may affect the chemical roughening treatment or the electrochemical roughening treatment. With regard to these, techniques proposed by the applicant of the present application are described in Japanese Patent Laid-Open Nos. 7-138687 and 4-254545.

本発明においては、上記に示されるようなアルミニウム板をその最終圧延工程において、積層圧延、転写等により凹凸を付けて用いることもできる。   In the present invention, an aluminum plate as shown above can be used with unevenness by lamination rolling, transfer, or the like in the final rolling step.

本発明に用いられるアルミニウム板は、連続した帯状のシート材または板材である。即ち、アルミニウムウェブであってもよく、製品として出荷される平版印刷版原版に対応する大きさ等に裁断された枚葉状シートであってもよい。
アルミニウム板の表面のキズは平版印刷版用支持体に加工した場合に欠陥となる可能性があるため、平版印刷版用支持体とする表面処理工程の前の段階でのキズの発生は可能な限り抑制する必要がある。そのためには安定した形態で運搬時に傷付きにくい荷姿であることが好ましい。
アルミニウムウェブの場合、アルミニウムの荷姿としては、例えば、鉄製パレットにハードボードとフェルトとを敷き、製品両端に段ボールドーナツ板を当て、ポリチュ−ブで全体を包み、コイル内径部に木製ドーナツを挿入し、コイル外周部にフェルトを当て、帯鉄で絞め、その外周部に表示を行う。また、包装材としては、ポリエチレンフィルム、緩衝材としては、ニードルフェルト、ハードボードを用いることができる。この他にもいろいろな形態があるが、安定して、キズも付かず運送等が可能であればこの方法に限るものではない。
The aluminum plate used in the present invention is a continuous belt-like sheet material or plate material. That is, it may be an aluminum web, or a sheet-like sheet cut to a size corresponding to a planographic printing plate precursor shipped as a product.
Since scratches on the surface of the aluminum plate may become defects when processed into a lithographic printing plate support, it is possible to generate scratches at the stage prior to the surface treatment process for making a lithographic printing plate support It is necessary to suppress as much as possible. For that purpose, it is preferable that the package has a stable form and is hardly damaged during transportation.
In the case of an aluminum web, for example, the packaging of aluminum is, for example, laying a hardboard and felt on an iron pallet, applying cardboard donut plates to both ends of the product, wrapping the whole with a polytube, and inserting a wooden donut into the inner diameter of the coil Then, a felt is applied to the outer periphery of the coil, the band iron is used to squeeze it, and the display is performed on the outer periphery. Moreover, a polyethylene film can be used as the packaging material, and needle felt and hard board can be used as the cushioning material. There are various other forms, but the present invention is not limited to this method as long as it is stable and can be transported without being damaged.

本発明に用いられるアルミニウム板の厚みは、0.1mm〜0.6mm程度であり、0.15mm〜0.4mmであるのが好ましく、0.2mm〜0.3mmであるのがより好ましい。この厚みは、印刷機の大きさ、印刷版の大きさ、ユーザーの希望等により適宜変更することができる。   The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm to 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 mm, and more preferably 0.2 mm to 0.3 mm. This thickness can be appropriately changed according to the size of the printing press, the size of the printing plate, the user's desires, and the like.

<支持体の表面処理工程>
以下、表面処理の各工程について、詳細に説明する。
<Surface treatment process of support>
Hereinafter, each step of the surface treatment will be described in detail.

<機械的粗面化処理>
機械的粗面化処理は、電気化学的粗面化処理と比較してより安価に、平均波長5〜100μmの凹凸のある表面を形成することができるため、粗面化処理の手段として有効である。
機械的粗面化処理方法としては、例えば、アルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立てするボールグレイン法、特開平6−135175号公報および特公昭50−40047号公報に記載されているナイロンブラシと研磨剤で表面を砂目立てするブラシグレイン法を用いることができる。
また、凹凸面をアルミニウム板に圧接する転写方法を用いることもできる。即ち、特開昭55−74898号、特開昭60−36195号、特開昭60−203496号の各公報に記載されている方法のほか、転写を数回行うことを特徴とする特開平6−55871号公報、表面が弾性であることを特徴とした特願平4−204235号明細書(特開平6−024168号公報)に記載されている方法も適用可能である。
<Mechanical roughening>
The mechanical roughening treatment is effective as a roughening treatment means because it can form an uneven surface with an average wavelength of 5 to 100 μm at a lower cost than the electrochemical roughening treatment. is there.
Examples of the mechanical surface roughening treatment include, for example, a wire brush grain method in which the aluminum surface is scratched with a metal wire, a ball grain method in which the aluminum surface is grained with a polishing ball and an abrasive, JP-A-6-135175, and Japanese Patent Publication A brush grain method in which the surface is grained with a nylon brush and an abrasive described in Japanese Patent No. 50-40047 can be used.
A transfer method in which the uneven surface is pressed against the aluminum plate can also be used. That is, in addition to the methods described in JP-A-55-74898, JP-A-60-36195, and JP-A-60-20396, transfer is performed several times. The method described in Japanese Patent Application No. -55871 and Japanese Patent Application No. 4-204235 (Japanese Patent Laid-Open No. 6-024168) characterized in that the surface is elastic is also applicable.

また、放電加工、ショットブラスト、レーザー、プラズマエッチング等を用いて、微細な凹凸を食刻した転写ロールを用いて繰り返し転写を行う方法や、微細粒子を塗布した凹凸のある面を、アルミニウム板に接面させ、その上より複数回繰り返し圧力を加え、アルミニウム板に微細粒子の平均直径に相当する凹凸パターンを複数回繰り返し転写させる方法を用いることもできる。転写ロールへ微細な凹凸を付与する方法としては、特開平3−8635号、特開平3−66404号、特開昭63−65017号の各公報等に記載されている公知の方法を用いることができる。また、ロール表面にダイス、バイト、レーザー等を使って2方向から微細な溝を切り、表面に角形の凹凸をつけてもよい。このロール表面には、公知のエッチング処理等を行って、形成させた角形の凹凸が丸みを帯びるような処理を行ってもよい。
また、表面の硬度を上げるために、焼き入れ、ハードクロムメッキ等を行ってもよい。
そのほかにも、機械的粗面化処理としては、特開昭61−162351号公報、特開昭63−104889号公報等に記載されている方法を用いることもできる。
本発明においては、生産性等を考慮して上述したそれぞれの方法を併用することもできる。これらの機械的粗面化処理は、電気化学的粗面化処理の前に行うのが好ましい。
In addition, by using electric discharge machining, shot blasting, laser, plasma etching, etc., a method of repeatedly transferring using a transfer roll etched with fine irregularities, and an uneven surface coated with fine particles on an aluminum plate It is also possible to use a method in which an uneven pattern corresponding to the average diameter of the fine particles is repeatedly transferred to the aluminum plate a plurality of times by contacting the surface and applying a pressure a plurality of times from above. As a method for imparting fine irregularities to the transfer roll, known methods described in JP-A-3-8635, JP-A-3-66404, JP-A-63-65017, etc. may be used. it can. Further, a fine groove may be cut in two directions using a die, a cutting tool, a laser, or the like on the roll surface, and a square unevenness may be formed on the surface. The roll surface may be subjected to a known etching process or the like so that the formed square irregularities are rounded.
Further, in order to increase the surface hardness, quenching, hard chrome plating, or the like may be performed.
In addition, as the mechanical surface roughening treatment, methods described in JP-A Nos. 61-162351 and 63-104889 can be used.
In the present invention, the above-described methods can be used in combination in consideration of productivity and the like. These mechanical surface roughening treatments are preferably performed before the electrochemical surface roughening treatment.

以下、機械的粗面化処理として好適に用いられるブラシグレイン法について説明する。
ブラシグレイン法は、一般に、円柱状の胴の表面に、ナイロン(商標名)、プロピレン、塩化ビニル樹脂等の合成樹脂からなる合成樹脂毛等のブラシ毛を多数植設したローラ状ブラシを用い、回転するローラ状ブラシに研磨剤を含有するスラリー液を噴きかけながら、上記アルミニウム板の表面の一方または両方を擦ることにより行う。上記ローラ状ブラシおよびスラリー液の代わりに、表面に研磨層を設けたローラである研磨ローラを用いることもできる。
ローラ状ブラシを用いる場合、曲げ弾性率が好ましくは10,000〜40,000kg/cm2 、より好ましくは15,000〜35,000kg/cm2 であり、かつ、毛腰の強さが好ましくは500g以下、より好ましくは400g以下であるブラシ毛を用いる。ブラシ毛の直径は、一般的には、0.2〜0.9mmである。ブラシ毛の長さは、ローラ状ブラシの外径および胴の直径に応じて適宜決定することができるが、一般的には、10〜100mmである。
Hereinafter, the brush grain method used suitably as a mechanical roughening process is demonstrated.
The brush grain method generally uses a roller-shaped brush in which a large number of brush hairs such as synthetic resin hair made of synthetic resin such as nylon (trade name), propylene, and vinyl chloride resin are implanted on the surface of a cylindrical body. This is carried out by rubbing one or both of the surfaces of the aluminum plate while spraying a slurry liquid containing an abrasive on a rotating roller brush. Instead of the roller brush and the slurry liquid, a polishing roller which is a roller having a polishing layer on the surface can be used.
When a roller brush is used, the flexural modulus is preferably 10,000 to 40,000 kg / cm 2 , more preferably 15,000 to 35,000 kg / cm 2 , and the bristle strength is preferably Brush hair that is 500 g or less, more preferably 400 g or less is used. The diameter of the brush bristles is generally 0.2 to 0.9 mm. The length of the brush bristles can be appropriately determined according to the outer diameter of the roller brush and the diameter of the body, but is generally 10 to 100 mm.

研磨剤は公知の物を用いることができる。例えば、パミストン、ケイ砂、水酸化アルミニウム、アルミナ粉、炭化ケイ素、窒化ケイ素、火山灰、カーボランダム、金剛砂等の研磨剤;これらの混合物を用いることができる。中でも、パミストン、ケイ砂が好ましい。特に、ケイ砂は、パミストンに比べて硬く、壊れにくいので粗面化効率に優れる点で好ましい。
研磨剤の平均粒径は、粗面化効率に優れ、かつ、砂目立てピッチを狭くすることができる点で、3〜50μmであるのが好ましく、6〜45μmであるのがより好ましい。
研磨剤は、例えば、水中に懸濁させて、スラリー液として用いる。スラリー液には、研磨剤のほかに、増粘剤、分散剤(例えば、界面活性剤)、防腐剤等を含有させることができる。スラリー液の比重は0.5〜2であるのが好ましい。
A well-known thing can be used for an abrasive | polishing agent. For example, abrasives such as pumicestone, silica sand, aluminum hydroxide, alumina powder, silicon carbide, silicon nitride, volcanic ash, carborundum, and gold sand; a mixture thereof can be used. Of these, pumiston and silica sand are preferable. In particular, silica sand is preferable in terms of excellent surface roughening efficiency because it is harder and less likely to break than Pamiston.
The average particle diameter of the abrasive is preferably 3 to 50 μm, and more preferably 6 to 45 μm in terms of excellent surface roughening efficiency and a narrow graining pitch.
For example, the abrasive is suspended in water and used as a slurry. In addition to the abrasive, the slurry liquid may contain a thickener, a dispersant (for example, a surfactant), a preservative, and the like. The specific gravity of the slurry liquid is preferably 0.5-2.

機械的粗面化処理に適した装置としては、例えば、特公昭50−40047号公報に記載された装置を挙げることができる。   As an apparatus suitable for the mechanical surface roughening treatment, for example, an apparatus described in Japanese Patent Publication No. 50-40047 can be given.

<電気化学的粗面化処理>
電気化学的粗面化処理には、通常の交流を用いた電気化学的粗面化処理に用いられる電解液を用いることができる。中でも、塩酸または硝酸を主体とする電解液を用いることで、本発明に特徴的な凹凸構造を表面に形成させることができる。
本発明における電解粗面化処理としては、陰極電解処理の前後に酸性溶液中での交番波形電流による第1および第2の電解処理を行うことが好ましい。陰極電解処理により、アルミニウム板の表面で水素ガスが発生してスマットが生成することにより表面状態が均一化され、その後の交番波形電流による電解処理の際に均一な電解粗面化が可能となる。
この電解粗面化処理は、例えば、特公昭48−28123号公報および英国特許第896,563号明細書に記載されている電気化学的グレイン法(電解グレイン法)に従うことができる。この電解グレイン法は、正弦波形の交流電流を用いるものであるが、特開昭52−58602号公報に記載されているような特殊な波形を用いて行ってもよい。また、特開平3−79799号公報に記載されている波形を用いることもできる。また、特開昭55−158298号、特開昭56−28898号、特開昭52−58602号、特開昭52−152302号、特開昭54−85802号、特開昭60−190392号、特開昭58−120531号、特開昭63−176187号、特開平1−5889号、特開平1−280590号、特開平1−118489号、特開平1−148592号、特開平1−178496号、特開平1−188315号、特開平1−154797号、特開平2−235794号、特開平3−260100号、特開平3−253600号、特開平4−72079号、特開平4−72098号、特開平3−267400号、特開平1−141094の各公報に記載されている方法も適用できる。また、前述のほかに、電解コンデンサーの製造方法として提案されている特殊な周波数の交番電流を用いて電解することも可能である。例えば、米国特許第4,276,129号明細書および同第4,676,879号明細書に記載されている。
<Electrochemical roughening treatment>
In the electrochemical surface roughening treatment, an electrolytic solution used for the electrochemical surface roughening treatment using a normal alternating current can be used. Among them, the concavo-convex structure characteristic of the present invention can be formed on the surface by using an electrolytic solution mainly composed of hydrochloric acid or nitric acid.
As the electrolytic surface roughening treatment in the present invention, it is preferable to perform the first and second electrolytic treatments with an alternating waveform current in an acidic solution before and after the cathodic electrolytic treatment. By cathodic electrolysis, hydrogen gas is generated on the surface of the aluminum plate and smut is generated to make the surface state uniform, and it is possible to obtain a uniform electrolytic surface during the subsequent electrolysis with an alternating waveform current. .
This electrolytic surface roughening treatment can be performed according to, for example, an electrochemical grain method (electrolytic grain method) described in Japanese Patent Publication No. 48-28123 and British Patent No. 896,563. This electrolytic grain method uses a sinusoidal alternating current, but it may be performed using a special waveform as described in JP-A-52-58602. Further, the waveform described in JP-A-3-79799 can also be used. JP-A-55-158298, JP-A-56-28898, JP-A-52-58602, JP-A-52-152302, JP-A-54-85802, JP-A-60-190392, JP-A-58-120531, JP-A-63-176187, JP-A-1-5889, JP-A-1-280590, JP-A-1-118489, JP-A-1-148592, and JP-A-1-17896. JP-A-1-188315, JP-A-1-1549797, JP-A-2-235794, JP-A-3-260100, JP-A-3-253600, JP-A-4-72079, JP-A-4-72098, The methods described in JP-A-3-267400 and JP-A-1-141094 can also be applied. In addition to the above, it is also possible to perform electrolysis using an alternating current having a special frequency that has been proposed as a method of manufacturing an electrolytic capacitor. For example, it is described in US Pat. Nos. 4,276,129 and 4,676,879.

電解槽および電源については、種々提案されているが、米国特許第4203637号明細書、特開昭56−123400号、特開昭57−59770号、特開昭53−12738号、特開昭53−32821号、特開昭53−32822号、特開昭53−32823号、特開昭55−122896号、特開昭55−132884号、特開昭62−127500号、特開平1−52100号、特開平1−52098号、特開昭60−67700号、特開平1−230800号、特開平3−257199号の各公報等に記載されているものを用いることができる。
また、特開昭52−58602号、特開昭52−152302号、特開昭53−12738号、特開昭53−12739号、特開昭53−32821号、特開昭53−32822号、特開昭53−32833号、特開昭53−32824号、特開昭53−32825号、特開昭54−85802号、特開昭55−122896号、特開昭55−132884号、特公昭48−28123号、特公昭51−7081号、特開昭52−133838号、特開昭52−133840号号、特開昭52−133844号、特開昭52−133845号、特開昭53−149135号、特開昭54−146234号の各公報等に記載されているもの等も用いることができる。
Various electrolyzers and power sources have been proposed. U.S. Pat. No. 4,023,637, JP-A-56-123400, JP-A-57-59770, JP-A-53-12738, JP-A-53. -32821, JP-A 53-32822, JP-A 53-32823, JP-A 55-122896, JP-A 55-13284, JP-A 62-127500, JP-A-1-52100 JP-A-1-52098, JP-A-60-67700, JP-A-1-230800, JP-A-3-257199 and the like can be used.
Also, JP-A-52-58602, JP-A-52-152302, JP-A-53-12738, JP-A-53-12739, JP-A-53-32821, JP-A-53-32822, JP 53-32833, JP 53-32824, JP 53-32825, JP 54-85802, JP 55-122896, JP 55-13284, JP 48-28123, JP-B-51-7081, JP-A-52-13338, JP-A-52-133840, JP-A-52-133844, JP-A-52-133845, JP-A-53- Nos. 149135 and 54-146234 can be used.

電解液である酸性溶液としては、硝酸、塩酸のほかに、米国特許第4,671,859号、同第4,661,219号、同第4,618,405号、同第4,600,482号、同第4,566,960号、同第4,566,958号、同第4,566,959号、同第4,416,972号、同第4,374,710号、同第4,336,113号、同第4,184,932号の各明細書等に記載されている電解液を用いることもできる。   As an acidic solution which is an electrolytic solution, in addition to nitric acid and hydrochloric acid, U.S. Pat. Nos. 4,671,859, 4,661,219, 4,618,405, 4,600, 482, 4,566,960, 4,566,958, 4,566,959, 4,416,972, 4,374,710, The electrolyte solution described in each specification of 4,336,113 and 4,184,932 can also be used.

酸性溶液の濃度は0.5〜2.5質量%であるのが好ましいが、上記のスマット除去処理での使用を考慮すると、0.7〜2.0質量%であるのが特に好ましい。また、液温は20〜80℃であるのが好ましく、30〜60℃であるのがより好ましい。   The concentration of the acidic solution is preferably 0.5 to 2.5% by mass, but it is particularly preferably 0.7 to 2.0% by mass in consideration of use in the smut removal treatment. Moreover, it is preferable that liquid temperature is 20-80 degreeC, and it is more preferable that it is 30-60 degreeC.

塩酸または硝酸を主体とする水溶液は、濃度1〜100g/Lの塩酸または硝酸の水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム等の硝酸イオンを有する硝酸化合物または塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、塩化アンモニウム等の塩酸イオンを有する塩酸化合物の少なくとも一つを1g/Lから飽和するまでの範囲で添加して使用することができる。また、塩酸または硝酸を主体とする水溶液には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、シリカ等のアルミニウム合金中に含まれる金属が溶解していてもよい。好ましくは、塩酸または硝酸の濃度0.5〜2質量%の水溶液にアルミニウムイオンが3〜50g/Lとなるように、塩化アルミニウム、硝酸アルミニウム等を添加した液を用いることが好ましい。   An aqueous solution mainly composed of hydrochloric acid or nitric acid is an aqueous solution of hydrochloric acid or nitric acid having a concentration of 1 to 100 g / L, such as nitric acid compounds having nitrate ions such as aluminum nitrate, sodium nitrate, ammonium nitrate, or aluminum chloride, sodium chloride, ammonium chloride, etc. At least one of the hydrochloric acid compounds having hydrochloric acid ions can be used by adding in a range from 1 g / L to saturation. Moreover, the metal contained in aluminum alloys, such as iron, copper, manganese, nickel, titanium, magnesium, a silica, may melt | dissolve in the aqueous solution which has hydrochloric acid or nitric acid as a main component. Preferably, a solution obtained by adding aluminum chloride, aluminum nitrate or the like to an aqueous solution of hydrochloric acid or nitric acid having a concentration of 0.5 to 2% by mass so that aluminum ions are 3 to 50 g / L is preferably used.

更に、Cuと錯体を形成しうる化合物を添加して使用することによりCuを多く含有するアルミニウム板に対しても均一な砂目立てが可能になる。Cuと錯体を形成しうる化合物としては、例えば、アンモニア;メチルアミン、エチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、トリメチルアミン、シクロヘキシルアミン、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、EDTA(エチレンジアミン四酢酸)等のアンモニアの水素原子を炭化水素基(脂肪族、芳香族等)等で置換して得られるアミン類;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸塩類が挙げられる。また、硝酸アンモニウム、塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、リン酸アンモニウム、炭酸アンモニウム等のアンモニウム塩も挙げられる。
温度は10〜60℃が好ましく、20〜50℃がより好ましい。
Further, by adding and using a compound capable of forming a complex with Cu, uniform graining is possible even for an aluminum plate containing a large amount of Cu. Examples of the compound capable of forming a complex with Cu include ammonia; hydrogen atom of ammonia such as methylamine, ethylamine, dimethylamine, diethylamine, trimethylamine, cyclohexylamine, triethanolamine, triisopropanolamine, EDTA (ethylenediaminetetraacetic acid), etc. And amines obtained by substituting with a hydrocarbon group (aliphatic, aromatic, etc.); metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate, potassium hydrogen carbonate and the like. In addition, ammonium salts such as ammonium nitrate, ammonium chloride, ammonium sulfate, ammonium phosphate, and ammonium carbonate are also included.
The temperature is preferably 10-60 ° C, more preferably 20-50 ° C.

電気化学的粗面化処理に用いられる交流電源波は、特に限定されず、サイン波、矩形波、台形波、三角波等が用いられるが、矩形波または台形波が好ましく、台形波が特に好ましい。台形波とは、図2に示したものをいう。この台形波において電流がゼロからピークに達するまでの時間(TP)は1〜3msecであるのが好ましい。1msec未満であると、アルミニウム板の進行方向と垂直に発生するチャタマークという処理ムラが発生しやすい。TPが3msecを超えると、特に硝酸電解液を用いる場合、電解処理で自然発生的に増加するアンモニウムイオン等に代表される電解液中の微量成分の影響を受けやすくなり、均一な砂目立てが行われにくくなる。その結果、平版印刷版としたときの耐汚れ性が低下する傾向にある。   The AC power supply wave used for the electrochemical surface roughening treatment is not particularly limited, and a sine wave, a rectangular wave, a trapezoidal wave, a triangular wave or the like is used, but a rectangular wave or a trapezoidal wave is preferable, and a trapezoidal wave is particularly preferable. A trapezoidal wave means what was shown in FIG. In this trapezoidal wave, the time (TP) until the current reaches a peak from zero is preferably 1 to 3 msec. If it is less than 1 msec, processing irregularities such as chatter marks that occur perpendicular to the traveling direction of the aluminum plate are likely to occur. When TP exceeds 3 msec, especially when a nitric acid electrolyte is used, it is easily affected by trace components in the electrolyte typified by ammonium ions and the like that spontaneously increase by electrolytic treatment, and uniform graining is performed. It becomes hard to be broken. As a result, the stain resistance tends to decrease when a lithographic printing plate is obtained.

台形波交流のduty比は1:2〜2:1のものが使用可能であるが、特開平5−195300公報に記載されているように、アルミニウムにコンダクタロールを用いない間接給電方式においてはduty比が1:1のものが好ましい。
台形波交流の周波数は0.1〜120Hzのものを用いることが可能であるが、50〜70Hzが設備上好ましい。50Hzよりも低いと、主極のカーボン電極が溶解しやすくなり、また、70Hzよりも高いと、電源回路上のインダクタンス成分の影響を受けやすくなり、電源コストが高くなる。
A duty ratio of trapezoidal wave alternating current of 1: 2 to 2: 1 can be used. However, as described in Japanese Patent Laid-Open No. 5-195300, in an indirect power feeding method in which no conductor roll is used for aluminum, a duty is used. A ratio of 1: 1 is preferred.
A trapezoidal AC frequency of 0.1 to 120 Hz can be used, but 50 to 70 Hz is preferable in terms of equipment. If it is lower than 50 Hz, the carbon electrode of the main electrode is likely to be dissolved, and if it is higher than 70 Hz, it is likely to be affected by the inductance component on the power supply circuit and the power supply cost is increased.

電解槽には1個以上の交流電源を接続することができる。主極に対向するアルミニウム板に加わる交流の陽極と陰極との電流比をコントロールし、均一な砂目立てを行うことと、主極のカーボンを溶解することとを目的として、図3に示したように、補助陽極を設置し、交流電流の一部を分流させることが好ましい。図3において、311はアルミニウム板であり、312はラジアルドラムローラであり、313aおよび313bは主極であり、314は電解処理液であり、315は電解液供給口であり、316はスリットであり、317は電解液通路であり、318は補助陽極であり、319aおよび319bはサイリスタであり、320は交流電源であり、340は主電解槽であり、350は補助陽極槽である。整流素子またはスイッチング素子を介して電流値の一部を二つの主電極とは別の槽に設けた補助陽極に直流電流として分流させることにより、主極に対向するアルミニウム板上で作用するアノード反応にあずかる電流値と、カソード反応にあずかる電流値との比を制御することができる。主極に対向するアルミニウム板上で、陽極反応と陰極反応とにあずかる電気量の比(陰極時電気量/陽極時電気量)は、0.3〜0.95であるのが好ましい。   One or more AC power supplies can be connected to the electrolytic cell. As shown in FIG. 3, the current ratio between the AC anode and cathode applied to the aluminum plate facing the main electrode is controlled to achieve uniform graining and to dissolve the carbon of the main electrode. In addition, it is preferable to install an auxiliary anode and divert part of the alternating current. In FIG. 3, 311 is an aluminum plate, 312 is a radial drum roller, 313a and 313b are main poles, 314 is an electrolytic treatment solution, 315 is an electrolyte supply port, and 316 is a slit. 317 is an electrolyte passage, 318 is an auxiliary anode, 319a and 319b are thyristors, 320 is an AC power source, 340 is a main electrolytic cell, and 350 is an auxiliary anode cell. An anodic reaction that acts on the aluminum plate facing the main electrode by diverting a part of the current value as a direct current to an auxiliary anode provided in a tank separate from the two main electrodes via a rectifier or switching element It is possible to control the ratio between the current value for the current and the current value for the cathode reaction. On the aluminum plate facing the main electrode, the ratio of the amount of electricity involved in the anodic reaction and the cathodic reaction (the amount of electricity at the time of cathode / the amount of electricity at the time of anode) is preferably 0.3 to 0.95.

電解槽は、縦型、フラット型、ラジアル型等の公知の表面処理に用いる電解槽が使用可能であるが、特開平5−195300号公報に記載されているようなラジアル型電解槽が特に好ましい。電解槽内を通過する電解液は、アルミニウムウェブの進行方向に対してパラレルであってもカウンターであってもよい。   As the electrolytic cell, electrolytic cells used for known surface treatments such as a vertical type, a flat type, and a radial type can be used, but a radial type electrolytic cell as described in JP-A-5-195300 is particularly preferable. . The electrolytic solution passing through the electrolytic cell may be parallel to the traveling direction of the aluminum web or may be a counter.

(硝酸電解)
硝酸を主体とする電解液を用いた電気化学的粗面化処理により、平均開口径0.5〜5μmのピットを形成することができる。ただし、電気量を比較的多くしたときは、電解反応が集中し、5μmを超えるハニカムピットも生成する。
このような砂目を得るためには、電解反応が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和が、1〜1000C/dm2 であるのが好ましく、50〜300C/dm2 であるのがより好ましい。この際の電流密度は20〜100A/dm2 であるのが好ましい。
また、高濃度または高温の硝酸電解液を用いると、平均開口径0.2μm以下の小波構造を形成させることもできる。
(Nitric acid electrolysis)
Pits having an average opening diameter of 0.5 to 5 μm can be formed by electrochemical surface roughening using an electrolytic solution mainly composed of nitric acid. However, when the amount of electricity is relatively large, the electrolytic reaction is concentrated, and honeycomb pits exceeding 5 μm are also generated.
To obtain such a grain, the total amount of electricity furnished to anode reaction on the aluminum plate up until the electrolysis reaction is completed is preferably from 1~1000C / dm 2, 50~300C / dm 2 It is more preferable that The current density at this time is preferably 20 to 100 A / dm 2 .
Further, when a high concentration or high temperature nitric acid electrolytic solution is used, a small wave structure having an average opening diameter of 0.2 μm or less can be formed.

(塩酸電解)
塩酸はそれ自身のアルミニウム溶解力が強いため、わずかな電解を加えるだけで表面に微細な凹凸を形成させることが可能である。この微細な凹凸は、平均開口径が0.01〜0.2μmであり、アルミニウム板の表面の全面に均一に生成する。このような砂目を得るためには電解反応が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和が、1〜100C/dm2 であるのが好ましく、20〜70C/dm2 であるのがより好ましい。この際の電流密度は20〜50A/dm2 であるのが好ましい。
(Hydrochloric acid electrolysis)
Since hydrochloric acid itself has a strong ability to dissolve aluminum, it is possible to form fine irregularities on the surface with only slight electrolysis. These fine irregularities have an average opening diameter of 0.01 to 0.2 μm and are uniformly generated on the entire surface of the aluminum plate. Such grained total amount of electricity furnished to anode reaction on the aluminum plate up until the electrolysis reaction is completed in order to obtain the, is preferably from 1~100C / dm 2, in 20~70C / dm 2 More preferably. The current density at this time is preferably 20 to 50 A / dm 2 .

このような塩酸を主体とする電解液での電気化学的粗面化処理では、アノード反応にあずかる電気量の総和を400〜1000C/dm2 と大きくすることでクレーター状の大きなうねりを同時に形成することも可能であるが、この場合は平均開口径10〜30μmのクレーター状のうねりに重畳して平均開口径0.01〜0.4μmの微細な凹凸が全面に生成する。 In such an electrochemical surface roughening treatment with an electrolyte mainly composed of hydrochloric acid, a large crater-like swell is simultaneously formed by increasing the total amount of electricity involved in the anode reaction to 400 to 1000 C / dm 2. In this case, fine irregularities having an average opening diameter of 0.01 to 0.4 μm are formed on the entire surface by being superimposed on a crater-like wave having an average opening diameter of 10 to 30 μm.

本発明においては、第1の電解粗面化処理として、上述した硝酸を主体とする電解液を用いた電解粗面化処理(硝酸電解)を行い、第2の電解粗面化処理として、上述した塩酸を主体とする電解液を用いた電解粗面化処理(塩酸電解)を行うのが好ましい。   In the present invention, as the first electrolytic surface roughening treatment, the above-described electrolytic surface roughening treatment (nitric acid electrolysis) using the electrolytic solution mainly composed of nitric acid is performed, and the second electrolytic surface roughening treatment is performed as described above. It is preferable to perform an electrolytic surface roughening treatment (hydrochloric acid electrolysis) using an electrolytic solution mainly composed of hydrochloric acid.

上記の硝酸、塩酸等の電解液中で行われる第1および第2の電解粗面化処理の間に、アルミニウム板は陰極電解処理を行うことが好ましい。この陰極電解処理により、アルミニウム板表面にスマットが生成するとともに、水素ガスが発生してより均一な電解粗面化処理が可能となる。この陰極電解処理は、酸性溶液中で陰極電気量が好ましくは3〜80C/dm2 、より好ましくは5〜30C/dm2 で行われる。陰極電気量が3C/dm2 未満であると、スマット付着量が不足する場合があり、また、80C/dm2 を超えると、スマット付着量が過剰となる場合があり、いずれも好ましくない。また、電解液は上記第1および第2の電解粗面化処理で使用する溶液と同一であっても異なっていてもよい。 The aluminum plate is preferably subjected to cathodic electrolysis treatment during the first and second electrolytic surface-roughening treatments performed in the electrolytic solution such as nitric acid and hydrochloric acid. By this cathodic electrolysis treatment, smut is generated on the surface of the aluminum plate, and hydrogen gas is generated to enable more uniform electrolytic surface roughening treatment. This cathodic electrolysis treatment is carried out in an acidic solution at a cathode electric quantity of preferably 3 to 80 C / dm 2 , more preferably 5 to 30 C / dm 2 . If the amount of cathodic electricity is less than 3 C / dm 2 , the amount of smut adhesion may be insufficient, and if it exceeds 80 C / dm 2 , the amount of smut adhesion may be excessive. Further, the electrolytic solution may be the same as or different from the solution used in the first and second electrolytic surface roughening processes.

<アルカリエッチング処理>
アルカリエッチング処理は、上記アルミニウム板をアルカリ溶液に接触させることにより、表層を溶解する処理である。
<Alkaline etching treatment>
The alkali etching treatment is a treatment for dissolving the surface layer by bringing the aluminum plate into contact with an alkali solution.

電解粗面化処理より前に行われるアルカリエッチング処理は、機械的粗面化処理を行っていない場合には、前記アルミニウム板(圧延アルミ)の表面の圧延油、汚れ、自然酸化皮膜等を除去することを目的として、また、既に機械的粗面化処理を行っている場合には、機械的粗面化処理によって生成した凹凸のエッジ部分を溶解させ、急峻な凹凸を滑らかなうねりを持つ表面に変えることを目的として行われる。   Alkaline etching performed before the electrolytic surface roughening treatment removes rolling oil, dirt, natural oxide film, etc. on the surface of the aluminum plate (rolled aluminum) if mechanical surface roughening treatment is not performed. If the surface of the unevenness generated by the mechanical surface roughening treatment is dissolved, the surface with sharp undulations is smoothed. It is done for the purpose of changing.

アルカリエッチング処理の前に機械的粗面化処理を行わない場合、エッチング量は、0.1〜10g/m2 であるのが好ましく、1〜5g/m2 であるのがより好ましい。エッチング量が0.1g/m2 未満であると、表面の圧延油、汚れ、自然酸化皮膜等が残存する場合があるため、後段の電解粗面化処理において均一なピット生成ができずムラが発生してしまう場合がある。一方、エッチング量が1〜10g/m2 であると、表面の圧延油、汚れ、自然酸化皮膜等の除去が十分に行われる。上記範囲を超えるエッチング量とするのは、経済的に不利となる。 If you do not mechanical surface-roughening treatment before the alkali etching treatment, the etching amount is preferably from 0.1 to 10 g / m 2, and more preferably 1 to 5 g / m 2. If the etching amount is less than 0.1 g / m 2 , rolling oil, dirt, natural oxide film, etc. may remain on the surface, so that uneven pits cannot be generated in the subsequent electrolytic surface roughening treatment. May occur. On the other hand, when the etching amount is 1 to 10 g / m 2 , the surface rolling oil, dirt, natural oxide film and the like are sufficiently removed. An etching amount exceeding the above range is economically disadvantageous.

アルカリエッチング処理の前に機械的粗面化処理を行う場合、エッチング量は、3〜20g/m2 であるのが好ましく、5〜15g/m2 であるのがより好ましい。エッチング量が3g/m2 未満であると、機械的粗面化処理等によって形成された凹凸を平滑化できない場合があり、後段の電解処理において均一なピット形成ができない場合がある。また、印刷時に汚れが劣化する場合がある。一方、エッチング量が20g/m2 を超えると、凹凸構造が消滅してしまう場合がある。 When performing mechanical surface-roughening treatment before the alkali etching treatment, the etching amount is preferably from 3 to 20 g / m 2, and more preferably 5 to 15 g / m 2. If the etching amount is less than 3 g / m 2 , the unevenness formed by mechanical surface roughening may not be smoothed, and uniform pit formation may not be possible in subsequent electrolytic treatment. In addition, the stain may deteriorate during printing. On the other hand, when the etching amount exceeds 20 g / m 2 , the concavo-convex structure may disappear.

電解粗面化処理の直後に行うアルカリエッチング処理は、酸性電解液中で生成したスマットを溶解させることと、電解粗面化処理により形成されたピットのエッジ部分を溶解させることを目的として行われる。
電解粗面化処理で形成されるピットは電解液の種類によって異なるためにその最適なエッチング量も異なるが、電解粗面化処理後に行うアルカリエッチング処理のエッチング量は、0.1〜5g/m2 であるのが好ましい。硝酸電解液を用いた場合、塩酸電解液を用いた場合よりもエッチング量は多めに設定する必要がある。
電解粗面化処理が複数回行われる場合には、それぞれの処理後に、必要に応じてアルカリエッチング処理を行うことができる。
The alkali etching treatment performed immediately after the electrolytic surface roughening treatment is performed for the purpose of dissolving the smut generated in the acidic electrolytic solution and dissolving the edge portion of the pit formed by the electrolytic surface roughening treatment. .
Since the pits formed by the electrolytic surface roughening treatment are different depending on the type of the electrolytic solution, the optimum etching amount is different, but the etching amount of the alkali etching treatment performed after the electrolytic surface roughening treatment is 0.1 to 5 g / m. 2 is preferred. When a nitric acid electrolyte is used, the etching amount needs to be set larger than when a hydrochloric acid electrolyte is used.
When the electrolytic surface roughening treatment is performed a plurality of times, an alkali etching treatment can be performed as necessary after each treatment.

アルカリ溶液に用いられるアルカリとしては、例えば、カセイアルカリ、アルカリ金属塩が挙げられる。具体的には、カセイアルカリとしては、例えば、カセイソーダ、カセイカリが挙げられる。また、アルカリ金属塩としては、例えば、メタケイ酸ソーダ、ケイ酸ソーダ、メタケイ酸カリ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩;炭酸ソーダ、炭酸カリ等のアルカリ金属炭酸塩;アルミン酸ソーダ、アルミン酸カリ等のアルカリ金属アルミン酸塩;グルコン酸ソーダ、グルコン酸カリ等のアルカリ金属アルドン酸塩;第二リン酸ソーダ、第二リン酸カリ、第三リン酸ソーダ、第三リン酸カリ等のアルカリ金属リン酸水素塩が挙げられる。中でも、エッチング速度が速い点および安価である点から、カセイアルカリの溶液、および、カセイアルカリとアルカリ金属アルミン酸塩との両者を含有する溶液が好ましい。特に、カセイソーダの水溶液が好ましい。   Examples of the alkali used in the alkaline solution include caustic alkali and alkali metal salts. Specifically, examples of caustic alkali include caustic soda and caustic potash. Examples of the alkali metal salt include alkali metal silicates such as sodium metasilicate, sodium silicate, potassium metasilicate, and potassium silicate; alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; sodium aluminate and alumina. Alkali metal aluminates such as potassium acid; alkali metal aldones such as sodium gluconate and potassium gluconate; dibasic sodium phosphate, dibasic potassium phosphate, tribasic sodium phosphate, tertiary potassium phosphate, etc. An alkali metal hydrogen phosphate is mentioned. Among these, a caustic alkali solution and a solution containing both a caustic alkali and an alkali metal aluminate are preferable from the viewpoint of high etching rate and low cost. In particular, an aqueous solution of caustic soda is preferable.

アルカリ溶液の濃度は、エッチング量に応じて決定することができるが、1〜50質量%であるのが好ましく、10〜35質量%であるのがより好ましい。アルカリ溶液中にアルミニウムイオンが溶解している場合には、アルミニウムイオンの濃度は、0.01〜10質量%であるのが好ましく、3〜8質量%であるのがより好ましい。アルカリ溶液の温度は20〜90℃であるのが好ましい。処理時間は1〜120秒であるのが好ましい。   Although the density | concentration of an alkaline solution can be determined according to the etching amount, it is preferable that it is 1-50 mass%, and it is more preferable that it is 10-35 mass%. When aluminum ions are dissolved in the alkaline solution, the concentration of aluminum ions is preferably 0.01 to 10% by mass, and more preferably 3 to 8% by mass. The temperature of the alkaline solution is preferably 20 to 90 ° C. The treatment time is preferably 1 to 120 seconds.

アルミニウム板をアルカリ溶液に接触させる方法としては、例えば、アルミニウム板をアルカリ溶液を入れた槽の中を通過させる方法、アルミニウム板をアルカリ溶液を入れた槽の中に浸せきさせる方法、アルカリ溶液をアルミニウム板の表面に噴きかける方法が挙げられる。   Examples of the method of bringing the aluminum plate into contact with the alkaline solution include, for example, a method in which the aluminum plate is passed through a tank containing the alkaline solution, a method in which the aluminum plate is immersed in a tank containing the alkaline solution, The method of spraying on the surface of a board is mentioned.

<デスマット処理>
電解粗面化処理またはアルカリエッチング処理を行った後、表面に残留する汚れ(スマット)を除去するために酸洗い(デスマット処理)が行われる。用いられる酸としては、例えば、硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ化水素酸、ホウフッ化水素酸が挙げられる。
上記デスマット処理は、例えば、上記アルミニウム板を塩酸、硝酸、硫酸等の濃度0.5〜30質量%の酸性溶液(アルミニウムイオン0.01〜5質量%を含有する。)に接触させることにより行う。アルミニウム板を酸性溶液に接触させる方法としては、例えば、アルミニウム板を酸性溶液を入れた槽の中を通過させる方法、アルミニウム板を酸性溶液を入れた槽の中に浸せきさせる方法、酸性溶液をアルミニウム板の表面に噴きかける方法が挙げられる。
デスマット処理においては、酸性溶液として、上述した電解粗面化処理において排出される硝酸を主体とする水溶液もしくは塩酸を主体とする水溶液の廃液、または、後述する陽極酸化処理において排出される硫酸を主体とする水溶液の廃液を用いることができる。
デスマット処理の液温は、25〜90℃であるのが好ましい。また、処理時間は、1〜180秒であるのが好ましい。デスマット処理に用いられる酸性溶液には、アルミニウムおよびアルミニウム合金成分が溶け込んでいてもよい。
<Desmut treatment>
After the electrolytic surface roughening treatment or the alkali etching treatment, pickling (desmut treatment) is performed to remove dirt (smut) remaining on the surface. Examples of the acid used include nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, and borohydrofluoric acid.
The desmutting treatment is performed, for example, by bringing the aluminum plate into contact with an acidic solution having a concentration of 0.5 to 30% by mass (containing 0.01 to 5% by mass of aluminum ions) such as hydrochloric acid, nitric acid, and sulfuric acid. . Examples of the method of bringing the aluminum plate into contact with the acidic solution include a method in which the aluminum plate is passed through a tank containing the acidic solution, a method in which the aluminum plate is immersed in a tank containing the acidic solution, and the acidic solution being aluminum. The method of spraying on the surface of a board is mentioned.
In the desmutting treatment, the acidic solution is mainly composed of an aqueous solution mainly composed of nitric acid or an aqueous solution mainly composed of hydrochloric acid discharged in the above-described electrolytic surface-roughening treatment, or sulfuric acid discharged in an anodic oxidation process described later. It is possible to use a waste solution of an aqueous solution.
It is preferable that the liquid temperature of a desmut process is 25-90 degreeC. Moreover, it is preferable that processing time is 1-180 second. Aluminum and aluminum alloy components may be dissolved in the acidic solution used for the desmut treatment.

<陽極酸化処理>
以上のように処理されたアルミニウム板には、更に、陽極酸化処理が施される。陽極酸化処理はこの分野で従来行われている方法で行うことができる。この場合、例えば、硫酸濃度50〜300g/Lで、アルミニウム濃度5質量%以下の溶液中で、アルミニウム板を陽極として通電して陽極酸化皮膜を形成させることができる。陽極酸化処理に用いられる溶液としては、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸、アミドスルホン酸等を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。
<Anodizing treatment>
The aluminum plate treated as described above is further subjected to anodizing treatment. The anodizing treatment can be performed by a method conventionally used in this field. In this case, for example, in a solution having a sulfuric acid concentration of 50 to 300 g / L and an aluminum concentration of 5% by mass or less, an aluminum plate can be energized as an anode to form an anodized film. As a solution used for the anodizing treatment, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, oxalic acid, sulfamic acid, benzenesulfonic acid, amidosulfonic acid and the like can be used alone or in combination of two or more.

この際、少なくともアルミニウム板、電極、水道水、地下水等に通常含まれる成分が電解液中に含まれていても構わない。更には、第2、第3の成分が添加されていても構わない。ここでいう第2、第3の成分としては、例えば、Na、K、Mg、Li、Ca、Ti、Al、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn等の金属のイオン;アンモニウムイオン等の陽イオン;硝酸イオン、炭酸イオン、塩化物イオン、リン酸イオン、フッ化物イオン、亜硫酸イオン、チタン酸イオン、ケイ酸イオン、ホウ酸イオン等の陰イオンが挙げられ、0〜10000ppm程度の濃度で含まれていてもよい。   Under the present circumstances, the component normally contained at least in an aluminum plate, an electrode, tap water, groundwater, etc. may be contained in electrolyte solution. Furthermore, the 2nd, 3rd component may be added. Examples of the second and third components herein include metal ions such as Na, K, Mg, Li, Ca, Ti, Al, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, and Zn; Cation such as ammonium ion; anion such as nitrate ion, carbonate ion, chloride ion, phosphate ion, fluoride ion, sulfite ion, titanate ion, silicate ion, borate ion, etc., 0 to 10,000 ppm It may be contained at a concentration of about.

陽極酸化処理の条件は、使用される電解液によって種々変化するので一概に決定され得ないが、一般的には電解液濃度1〜80質量%、液温5〜70℃、電流密度0.5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解時間15秒〜50分であるのが適当であり、所望の陽極酸化皮膜量となるように調整される。 The conditions for anodizing treatment vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be determined unconditionally. In general, however, the electrolyte concentration is 1 to 80% by mass, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 0.5. ˜60 A / dm 2 , voltage 1 to 100 V, and electrolysis time 15 seconds to 50 minutes are appropriate and adjusted so as to obtain a desired anodic oxide film amount.

また、特開昭54−81133号、特開昭57−47894号、特開昭57−51289号、特開昭57−51290号、特開昭57−54300号、特開昭57−136596号、特開昭58−107498号、特開昭60−200256号、特開昭62−136596号、特開昭63−176494号、特開平4−176897号、特開平4−280997号、特開平6−207299号、特開平5−24377号、特開平5−32083号、特開平5−125597号、特開平5−195291号の各公報等に記載されている方法を使用することもできる。   Further, JP-A-54-81133, JP-A-57-47894, JP-A-57-51289, JP-A-57-51290, JP-A-57-54300, JP-A-57-136596, JP-A-58-107498, JP-A-60-200366, JP-A-62-136696, JP-A-63-176494, JP-A-4-17697, JP-A-4-280997, JP-A-6-280997 The methods described in JP-A-207299, JP-A-5-24377, JP-A-5-32083, JP-A-5-125597, JP-A-5-195291 and the like can also be used.

中でも、特開昭54−12853号公報および特開昭48−45303号公報に記載されているように、電解液として硫酸溶液を用いるのが好ましい。電解液中の硫酸濃度は、10〜300g/L(1〜30質量%)であるのが好ましく、また、アルミニウムイオン濃度は、1〜25g/L(0.1〜2.5質量%)であるのが好ましく、2〜10g/L(0.2〜1質量%)であるのがより好ましい。このような電解液は、例えば、硫酸濃度が50〜200g/Lである希硫酸に硫酸アルミニウム等を添加することにより調製することができる。   Of these, as described in JP-A-54-12853 and JP-A-48-45303, it is preferable to use a sulfuric acid solution as the electrolytic solution. The sulfuric acid concentration in the electrolytic solution is preferably 10 to 300 g / L (1 to 30% by mass), and the aluminum ion concentration is 1 to 25 g / L (0.1 to 2.5% by mass). It is preferable that it is 2 to 10 g / L (0.2 to 1% by mass). Such an electrolytic solution can be prepared, for example, by adding aluminum sulfate or the like to dilute sulfuric acid having a sulfuric acid concentration of 50 to 200 g / L.

硫酸を含有する電解液中で陽極酸化処理を行う場合には、アルミニウム板と対極との間に直流を印加してもよく、交流を印加してもよい。
アルミニウム板に直流を印加する場合においては、電流密度は、1〜60A/dm2 であるのが好ましく、5〜40A/dm2 であるのがより好ましい。
連続的に陽極酸化処理を行う場合には、アルミニウム板の一部に電流が集中していわゆる「焼け」が生じないように、陽極酸化処理の開始当初は、5〜10A/m2 の低電流密度で電流を流し、陽極酸化処理が進行するにつれ、30〜50A/dm2 またはそれ以上に電流密度を増加させるのが好ましい。
連続的に陽極酸化処理を行う場合には、アルミニウム板に、電解液を介して給電する液給電方式により行うのが好ましい。
このような条件で陽極酸化処理を行うことによりポア(マイクロポア)と呼ばれる孔を多数有する多孔質皮膜が得られるが、通常、その平均ポア径は5〜50nm程度であり、平均ポア密度は300〜800個/μm2 程度である。
When anodizing is performed in an electrolytic solution containing sulfuric acid, direct current may be applied between the aluminum plate and the counter electrode, or alternating current may be applied.
When a direct current is applied to the aluminum plate, the current density is preferably from 1 to 60 A / dm 2, and more preferably 5 to 40 A / dm 2.
In the case where continuous anodizing treatment is performed, a low current of 5 to 10 A / m 2 is initially introduced so that current is concentrated on a part of the aluminum plate and so-called “burning” does not occur. It is preferable to increase the current density to 30 to 50 A / dm 2 or more as the current is passed at the density and the anodization process proceeds.
When the anodizing process is continuously performed, it is preferable to perform the liquid feeding method in which the aluminum plate is fed with an electrolyte.
By performing anodizing treatment under such conditions, a porous film having many pores called micropores can be obtained. Usually, the average pore diameter is about 5 to 50 nm, and the average pore density is 300. ˜800 / μm 2 or so.

陽極酸化皮膜の量は1〜5g/m2 であるのが好ましい。1g/m2 未満であると版に傷が入りやすくなり、一方、5g/m2 を超えると製造に多大な電力が必要となり、経済的に不利となる。陽極酸化皮膜の量は、1.5〜4g/m2 であるのがより好ましい。また、アルミニウム板の中央部と縁部近傍との間の陽極酸化皮膜量の差が1g/m2 以下になるように行うのが好ましい。 The amount of the anodized film is preferably 1 to 5 g / m 2 . If it is less than 1 g / m 2 , the plate is likely to be scratched. On the other hand, if it exceeds 5 g / m 2 , a large amount of electric power is required for production, which is economically disadvantageous. The amount of the anodized film is more preferably 1.5 to 4 g / m 2 . Moreover, it is preferable to carry out so that the difference in the amount of the anodized film between the center portion of the aluminum plate and the vicinity of the edge portion is 1 g / m 2 or less.

陽極酸化処理に用いられる電解装置としては、特開昭48−26638号、特開昭47−18739号、特公昭58−24517号の各公報等に記載されているものを用いることができる。
中でも、図4に示す装置が好適に用いられる。図4は、アルミニウム板の表面を陽極酸化処理する装置の一例を示す概略図である。陽極酸化処理装置410において、アルミニウム板416は、図4中矢印で示すように搬送される。電解液418が貯溜された給電槽412にてアルミニウム板416は給電電極420によって(+)に荷電される。そして、アルミニウム板416は、給電槽412においてローラ422によって上方に搬送され、ニップローラ424によって下方に方向変換された後、電解液426が貯溜された電解処理槽414に向けて搬送され、ローラ428によって水平方向に方向転換される。ついで、アルミニウム板416は、電解電極430によって(−)に荷電されることにより、その表面に陽極酸化皮膜が形成され、電解処理槽414を出たアルミニウム板416は後工程に搬送される。前記陽極酸化処理装置410において、ローラ422、ニップローラ424およびローラ428によって方向転換手段が構成され、アルミニウム板416は、給電槽412と電解処理槽414との槽間部において、前記ローラ422、424および428により、山型および逆U字型に搬送される。給電電極420と電解電極430とは、直流電源434に接続されている。
As the electrolysis apparatus used for the anodizing treatment, those described in JP-A-48-26638, JP-A-47-18739, JP-B-58-24517, and the like can be used.
Among these, the apparatus shown in FIG. 4 is preferably used. FIG. 4 is a schematic view showing an example of an apparatus for anodizing the surface of an aluminum plate. In the anodizing apparatus 410, the aluminum plate 416 is transported as indicated by arrows in FIG. In the power supply tank 412 in which the electrolytic solution 418 is stored, the aluminum plate 416 is charged to (+) by the power supply electrode 420. The aluminum plate 416 is transported upward by the roller 422 in the power supply tank 412, and the direction is changed downward by the nip roller 424, and then transported toward the electrolytic treatment tank 414 in which the electrolytic solution 426 is stored. The direction is changed horizontally. Next, the aluminum plate 416 is charged to (−) by the electrolytic electrode 430 to form an anodized film on the surface thereof, and the aluminum plate 416 exiting the electrolytic treatment tank 414 is conveyed to a subsequent process. In the anodizing apparatus 410, the roller 422, the nip roller 424, and the roller 428 constitute a direction changing means, and the aluminum plate 416 is disposed between the power supply tank 412 and the electrolytic treatment tank 414 in the inter-tank section. By 428, it is conveyed into a mountain shape and an inverted U shape. The feeding electrode 420 and the electrolytic electrode 430 are connected to a DC power source 434.

図4の陽極酸化処理装置410の特徴は、給電槽412と電解処理槽414とを1枚の槽壁432で仕切り、アルミニウム板416を槽間部において山型および逆U字型に搬送したことにある。これによって、槽間部におけるアルミニウム板416の長さを最短にすることができる。よって、陽極酸化処理装置410の全体長を短くできるので、設備費を低減することができる。また、アルミニウム板416を山型および逆U字型に搬送することによって、各槽412および414の槽壁にアルミニウム板416を通過させるための開口部を形成する必要がなくなる。よって、各槽412および414内の液面高さを必要レベルに維持するのに要する送液量を抑えることができるので、稼働費を低減することができる。   A feature of the anodizing apparatus 410 in FIG. 4 is that the feeding tank 412 and the electrolytic treatment tank 414 are partitioned by a single tank wall 432, and the aluminum plate 416 is conveyed in a mountain shape and an inverted U shape between the tanks. It is in. As a result, the length of the aluminum plate 416 in the inter-tank portion can be minimized. Therefore, the overall length of the anodizing apparatus 410 can be shortened, so that the equipment cost can be reduced. In addition, by conveying the aluminum plate 416 in a mountain shape and an inverted U shape, it is not necessary to form an opening for allowing the aluminum plate 416 to pass through the tank walls of the tanks 412 and 414. Therefore, since the liquid feeding amount required to maintain the liquid level height in each tank 412 and 414 at a required level can be suppressed, the operating cost can be reduced.

<封孔処理>
本発明においては、必要に応じて陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアを封じる封孔処理を行ってもよい。封孔処理は、沸騰水処理、熱水処理、蒸気処理、ケイ酸ソーダ処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム処理等の公知の方法に従って行うことができる。例えば、特公昭56−12518号公報、特開平4−4194号公報、特願平4−33952号明細書(特開平5−202496号公報)、特願平4−33951号明細書(特開平5−179482号公報)等に記載されている装置および方法で封孔処理を行ってもよい。
<Sealing treatment>
In this invention, you may perform the sealing process which seals the micropore which exists in an anodic oxide film as needed. The sealing treatment can be performed according to a known method such as boiling water treatment, hot water treatment, steam treatment, sodium silicate treatment, nitrite treatment, ammonium acetate treatment and the like. For example, Japanese Patent Publication No. 56-12518, Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-4194, Japanese Patent Application No. 4-33952 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-202496), Japanese Patent Application No. 4-33951 (Japanese Patent Application Laid-Open No. -179482) etc. may be used for sealing treatment.

上記従来公知の方法を用いることができるが、そのほかに無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理を用いることが好ましい。以下に説明する。   Although the said conventionally well-known method can be used, it is preferable to use the sealing process by the aqueous solution containing an inorganic fluorine compound other than that. This will be described below.

(無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理)
無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理に用いられる無機フッ素化合物としては、例えば、金属フッ化物が好適に挙げられる。
具体的には、例えば、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ジルコン酸ナトリウム、フッ化ジルコン酸カリウム、フッ化チタン酸ナトリウム、フッ化チタン酸カリウム、フッ化ジルコン酸アンモニウム、フッ化チタン酸アンモニウム、フッ化チタン酸カリウム、フッ化ジルコン酸、フッ化チタン酸、ヘキサフルオロケイ酸、フッ化ニッケル、フッ化鉄、フッ化リン酸、フッ化リン酸アンモニウムが挙げられ、これらを単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。中でも、フッ化ジルコン酸ナトリウム、フッ化チタン酸ナトリウム、フッ化ジルコン酸、フッ化チタン酸が好ましい。
(Sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound)
As the inorganic fluorine compound used for the sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound, for example, a metal fluoride is preferably exemplified.
Specifically, for example, sodium fluoride, potassium fluoride, calcium fluoride, magnesium fluoride, sodium fluoride zirconate, potassium fluoride zirconate, sodium fluoride titanate, potassium fluoride titanate, zircon fluoride Ammonium acid, ammonium fluoride titanate, potassium fluoride titanate, fluorinated zirconate, fluorinated titanate, hexafluorosilicic acid, nickel fluoride, iron fluoride, phosphor fluoride, ammonium fluoride phosphate These can be used alone or in combination of two or more. Among these, sodium fluorinated zirconate, sodium fluorinated titanate, fluorinated zirconic acid, and fluorinated titanic acid are preferable.

無機フッ素化合物を含有する水溶液中の無機フッ素化合物の濃度は、陽極酸化皮膜のマイクロポアの封孔を十分に行う点で、0.01質量%以上であるのが好ましく、0.05質量%以上であるのがより好ましく、また、耐汚れ性の点で、1質量%以下であるのが好ましく、0.5質量%以下であるのがより好ましい。   The concentration of the inorganic fluorine compound in the aqueous solution containing the inorganic fluorine compound is preferably 0.01% by mass or more, and 0.05% by mass or more in terms of sufficiently sealing the micropores of the anodized film. More preferably, it is preferably 1% by mass or less, and more preferably 0.5% by mass or less from the viewpoint of stain resistance.

また、無機フッ素化合物を含有する水溶液は、リン酸塩化合物を含有させてもよい。リン酸塩化合物を含有すると、より低温で封孔処理が可能になり、陽極酸化皮膜の表面の親水性が向上するため、現像性および耐汚れ性を向上させることができる。   Moreover, the aqueous solution containing an inorganic fluorine compound may contain a phosphate compound. When the phosphate compound is contained, the sealing treatment can be performed at a lower temperature, and the hydrophilicity of the surface of the anodized film is improved, so that the developability and stain resistance can be improved.

このようなリン酸塩化合物としては、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属等の金属のリン酸塩が好適に挙げられる。
具体的には、例えば、リン酸亜鉛、リン酸アルミニウム、リン酸アンモニウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸一アンモニウム、リン酸一カリウム、リン酸一ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸カルシウム、リン酸水素アンモニウムナトリウム、リン酸水素マグネシウム、リン酸マグネシウム、リン酸第一鉄、リン酸第二鉄、リン酸二水素ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸鉛、リン酸二アンモニウム、リン酸二水素カルシウム、リン酸リチウム、リンタングステン酸、リンタングステン酸アンモニウム、リンタングステン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、リンモリブデン酸ナトリウム、亜リン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸ナトリウム等が挙げられ、これらを単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。中でも、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウムが好ましい。
Suitable examples of such phosphate compounds include phosphates of metals such as alkali metals and alkaline earth metals.
Specifically, for example, zinc phosphate, aluminum phosphate, ammonium phosphate, diammonium hydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, monoammonium phosphate, monopotassium phosphate, monosodium phosphate, dihydrogen phosphate Potassium, dipotassium hydrogen phosphate, calcium phosphate, sodium ammonium hydrogen phosphate, magnesium hydrogen phosphate, magnesium phosphate, ferrous phosphate, ferric phosphate, sodium dihydrogen phosphate, sodium phosphate, hydrogen phosphate Disodium, lead phosphate, diammonium phosphate, calcium dihydrogen phosphate, lithium phosphate, phosphotungstic acid, ammonium phosphotungstate, sodium phosphotungstate, ammonium phosphomolybdate, sodium phosphomolybdate, sodium phosphite , Tripolyphosphate Potassium, sodium pyrophosphate, and the like, may be used in combination alone, or two or more kinds. Among these, sodium dihydrogen phosphate, disodium hydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, and dipotassium hydrogen phosphate are preferable.

無機フッ素化合物を含有する水溶液中のリン酸塩化合物の濃度は、現像性および耐汚れ性の向上の点で、0.01質量%以上であるのが好ましく、0.1質量%以上であるのがより好ましく、また、溶解性の点で、20質量%以下であるのが好ましく、5質量%以下であるのがより好ましい。   The concentration of the phosphate compound in the aqueous solution containing the inorganic fluorine compound is preferably 0.01% by mass or more and 0.1% by mass or more in terms of improving developability and stain resistance. In view of solubility, it is preferably 20% by mass or less, and more preferably 5% by mass or less.

本発明において、無機フッ素化合物とリン酸塩化合物の組み合わせは、特に限定されないが、無機フッ素化合物を含有する水溶液が、無機フッ素化合物として、少なくともフッ化ジルコン酸ナトリウムを含有し、リン酸塩化合物として、少なくともリン酸二水素ナトリウムを含有しているのが好ましい。   In the present invention, the combination of the inorganic fluorine compound and the phosphate compound is not particularly limited, but the aqueous solution containing the inorganic fluorine compound contains at least sodium zirconate fluoride as the inorganic fluorine compound, It is preferable that at least sodium dihydrogen phosphate is contained.

無機フッ素化合物を含有する水溶液中の各化合物の割合は、特に限定されないが、無機フッ素化合物とリン酸塩化合物の質量比は、1/200〜10/1であるのが好ましく、1/30〜2/1であるのがより好ましい。   The ratio of each compound in the aqueous solution containing the inorganic fluorine compound is not particularly limited, but the mass ratio of the inorganic fluorine compound and the phosphate compound is preferably 1/200 to 10/1, and preferably 1/30 to More preferably, it is 2/1.

また、無機フッ素化合物を含有する水溶液の温度は、20℃以上であるのが好ましく、40℃以上であるのがより好ましく、また、100℃以下であるのが好ましく、80℃以下であるのがより好ましい。更に、無機フッ素化合物を含有する水溶液は、pH1以上であるのが好ましく、pH2以上であるのがより好ましく、また、pH11以下であるのが好ましく、pH5以下であるのがより好ましい。   The temperature of the aqueous solution containing the inorganic fluorine compound is preferably 20 ° C. or higher, more preferably 40 ° C. or higher, preferably 100 ° C. or lower, and 80 ° C. or lower. More preferred. Furthermore, the aqueous solution containing the inorganic fluorine compound preferably has a pH of 1 or more, more preferably has a pH of 2 or more, preferably has a pH of 11 or less, and more preferably has a pH of 5 or less.

本発明において、無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理の方法は、特に限定されず、例えば、無機フッ素化合物を含有する水溶液を用いた浸せき法、スプレー法を用いることができる。これらは単独で1回または複数回用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
中でも、浸せき法が好ましい。浸せき法を用いて処理する場合、処理時間は、1秒以上であるのが好ましく、3秒以上であるのがより好ましく、また、100秒以下であるのが好ましく、20秒以下であるのがより好ましい。
In the present invention, the method of sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound is not particularly limited, and for example, a dipping method or a spray method using an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound can be used. These may be used alone or in combination, or may be used in combination of two or more.
Of these, the dipping method is preferred. When processing using the immersion method, the processing time is preferably 1 second or longer, more preferably 3 seconds or longer, and preferably 100 seconds or shorter, and 20 seconds or shorter. More preferred.

均一な封孔層を得ることができ現像性に非常に優れる点で、無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理であるのが好ましい。これは、水蒸気または熱水による封孔処理においては、陽極酸化皮膜表面にベーマイト等の針状結晶が形成されやすく、それにより表面積が増大することで現像性が若干低下する傾向があるが、無機フッ素化合物を含有する水溶液による封孔処理においては、そのような針状結晶が形成されることがないためである。   The sealing treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound is preferred because a uniform sealing layer can be obtained and the developability is very excellent. This is because, in the sealing treatment with water vapor or hot water, acicular crystals such as boehmite are likely to be formed on the surface of the anodized film, and the surface area tends to increase. This is because such needle-like crystals are not formed in the sealing treatment with an aqueous solution containing a fluorine compound.

<親水化処理>
陽極酸化処理後または封孔処理後、親水化処理を行ってもよい。親水化処理としては、例えば、米国特許第2,946,638号明細書に記載されているフッ化ジルコニウム酸カリウム処理、米国特許第3,201,247号明細書に記載されているホスホモリブデート処理、英国特許第1,108,559号に記載されているアルキルチタネート処理、独国特許第1,091,433号明細書に記載されているポリアクリル酸処理、独国特許第1,134,093号明細書および英国特許第1,230,447号明細書に記載されているポリビニルホスホン酸処理、特公昭44−6409号公報に記載されているホスホン酸処理、米国特許第3,307,951号明細書に記載されているフィチン酸処理、特開昭58−16893号公報および特開昭58−18291号公報に記載されている親油性有機高分子化合物と2価の金属との塩による処理、米国特許第3,860,426号明細書に記載されているように、水溶性金属塩(例えば、酢酸亜鉛)を含む親水性セルロース(例えば、カルボキシメチルセルロース)の下塗層を設ける処理、特開昭59−101651号公報に記載されているスルホ基を有する水溶性重合体を下塗りする処理が挙げられる。
<Hydrophilic treatment>
A hydrophilization treatment may be performed after the anodizing treatment or the sealing treatment. Examples of the hydrophilization treatment include treatment with potassium fluorozirconate described in US Pat. No. 2,946,638 and phosphomolybdate described in US Pat. No. 3,201,247. Treatment, alkyl titanate treatment described in British Patent 1,108,559, polyacrylic acid treatment described in German Patent 1,091,433, German Patent 1,134, No. 093 and British Patent No. 1,230,447, polyvinylphosphonic acid treatment, Japanese Patent Publication No. 44-6409, phosphonic acid treatment, US Pat. No. 3,307,951 Phytic acid treatment described in the specification of JP, No. 58-16893 and JP-A No. 58-18291 Treatment with a salt of a molecular compound and a divalent metal, as described in US Pat. No. 3,860,426, hydrophilic cellulose (eg, zinc acetate) containing a water-soluble metal salt (eg, zinc acetate) Carboxymethyl cellulose) is provided with a primer layer, and a water-soluble polymer having a sulfo group described in JP-A-59-101651.

また、特開昭62−019494号公報に記載されているリン酸塩、特開昭62−033692号公報に記載されている水溶性エポキシ化合物、特開昭62−097892号公報に記載されているリン酸変性デンプン、特開昭63−056498号公報に記載されているジアミン化合物、特開昭63−130391号公報に記載されているアミノ酸の無機または有機酸、特開昭63−145092号公報に記載されているカルボキシ基またはヒドロキシ基を含む有機ホスホン酸、特開昭63−165183号公報に記載されているアミノ基とホスホン酸基を有する化合物、特開平2−316290号公報に記載されている特定のカルボン酸誘導体、特開平3−215095号公報に記載されているリン酸エステル、特開平3−261592号公報に記載されている1個のアミノ基とリンの酸素酸基1個を持つ化合物、特開平3−215095号公報に記載されているリン酸エステル、特開平5−246171号公報に記載されているフェニルホスホン酸等の脂肪族または芳香族ホスホン酸、特開平1−307745号公報に記載されているチオサリチル酸のようなS原子を含む化合物、特開平4−282637号公報に記載されているリンの酸素酸のグループを持つ化合物等を用いた下塗りによる処理も挙げられる。
更に、特開昭60−64352号公報に記載されている酸性染料による着色を行うこともできる。
Further, phosphates described in JP-A No. 62-019494, water-soluble epoxy compounds described in JP-A No. 62-033692, and JP-A No. 62-097892 Phosphoric acid modified starch, diamine compounds described in JP-A-63-056498, inorganic or organic acids of amino acids described in JP-A-63-130391, JP-A-63-145092 Organic phosphonic acids containing a carboxy group or hydroxy group, compounds having an amino group and a phosphonic acid group described in JP-A-63-165183, and JP-A-2-316290 Specific carboxylic acid derivatives, phosphate esters described in JP-A-3-215095, JP-A-3-261592 Compounds having one amino group and one oxygen acid group of phosphorus described in the publication, phosphoric esters described in JP-A-3-215095, and JP-A-5-246171 Aliphatic or aromatic phosphonic acids such as phenylphosphonic acid, compounds containing S atoms such as thiosalicylic acid described in JP-A-1-307745, phosphorus described in JP-A-4-282737 Examples of the treatment include undercoating using a compound having a group of oxygen acids.
Further, coloring with an acid dye described in JP-A-60-64352 can also be performed.

また、ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液に浸せきさせる方法、親水性ビニルポリマーまたは親水性化合物を塗布して親水性の下塗層を形成させる方法等により、親水化処理を行うのが好ましい。   Hydrophilicity can also be achieved by soaking in an aqueous solution of an alkali metal silicate such as sodium silicate or potassium silicate, or by applying a hydrophilic vinyl polymer or hydrophilic compound to form a hydrophilic primer layer. It is preferable to carry out the treatment.

ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液による親水化処理は、米国特許第2,714,066号明細書および米国特許第3,181,461号明細書に記載されている方法および手順に従って行うことができる。
アルカリ金属ケイ酸塩としては、例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムが挙げられる。アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等を適当量含有してもよい。
また、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液は、アルカリ土類金属塩または4族(第IVA族)金属塩を含有してもよい。アルカリ土類金属塩としては、例えば、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウム等の硝酸塩;硫酸塩;塩酸塩;リン酸塩;酢酸塩;シュウ酸塩;ホウ酸塩が挙げられる。4族(第IVA族)金属塩としては、例えば、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムが挙げられる。これらのアルカリ土類金属塩および4族(第IVA族)金属塩は、単独でまたは2種以上組み合わせて用いられる。
Hydrophilization treatment with an aqueous solution of an alkali metal silicate such as sodium silicate and potassium silicate is described in US Pat. No. 2,714,066 and US Pat. No. 3,181,461. It can be performed according to methods and procedures.
Examples of the alkali metal silicate include sodium silicate, potassium silicate, and lithium silicate. The aqueous solution of alkali metal silicate may contain an appropriate amount of sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide or the like.
The aqueous solution of alkali metal silicate may contain an alkaline earth metal salt or a Group 4 (Group IVA) metal salt. Examples of the alkaline earth metal salt include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate, and barium nitrate; sulfates; hydrochlorides; phosphates; acetates; oxalates; Examples of the Group 4 (Group IVA) metal salt include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium fluoride titanium, potassium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, zirconium dioxide, zirconium oxychloride. And zirconium tetrachloride. These alkaline earth metal salts and Group 4 (Group IVA) metal salts are used alone or in combination of two or more.

アルカリ金属ケイ酸塩処理によって吸着するSi量は蛍光X線分析装置により測定することができ、その吸着量は約1.0〜15.0mg/m2 であるのが好ましい。
このアルカリ金属ケイ酸塩処理により、平版印刷版用支持体の表面のアルカリ現像液に対する耐溶解性向上の効果が得られ、アルミニウム成分の現像液中への溶出が抑制されて、現像液の疲労に起因する現像カスの発生を低減することができる。
The amount of Si adsorbed by the alkali metal silicate treatment can be measured with a fluorescent X-ray analyzer, and the amount of adsorption is preferably about 1.0 to 15.0 mg / m 2 .
By this alkali metal silicate treatment, the effect of improving the dissolution resistance to the alkaline developer on the surface of the lithographic printing plate support is obtained, the dissolution of the aluminum component into the developer is suppressed, and the developer fatigue It is possible to reduce the occurrence of development residue due to the above.

また、親水性の下塗層の形成による親水化処理は、特開昭59−101651号公報および特開昭60−149491号公報に記載されている条件および手順に従って行うこともできる。
この方法に用いられる親水性ビニルポリマーとしては、例えば、ポリビニルスルホン酸、スルホ基を有するp−スチレンスルホン酸等のスルホ基含有ビニル重合性化合物と(メタ)アクリル酸アルキルエステル等の通常のビニル重合性化合物との共重合体が挙げられる。また、この方法に用いられる親水性化合物としては、例えば、−NH2 基、−COOH基およびスルホ基からなる群から選ばれる少なくとも一つを有する化合物が挙げられる。
The hydrophilization treatment by forming a hydrophilic undercoat layer can also be performed according to the conditions and procedures described in JP-A Nos. 59-101651 and 60-149491.
Examples of the hydrophilic vinyl polymer used in this method include polyvinyl sulfonic acid, sulfo group-containing vinyl polymerizable compounds such as p-styrene sulfonic acid having a sulfo group, and ordinary vinyl polymerization such as (meth) acrylic acid alkyl ester. And a copolymer with a functional compound. Moreover, as a hydrophilic compound used for this method, the compound which has at least one chosen from the group which consists of -NH2 group, -COOH group, and a sulfo group, for example is mentioned.

<水洗処理>
上述した各処理の工程終了後には水洗を行うのが好ましい。水洗には、純水、井水、水道水等を用いることができる。処理液の次工程への持ち込みを防ぐためにニップ装置を用いてもよい。
<Washing treatment>
It is preferable to perform water washing after the completion of the above-described processes. For washing, pure water, well water, tap water, or the like can be used. A nip device may be used to prevent the processing liquid from being brought into the next process.

[画像記録層]
本発明の画像記録層は、湿し水および/またはインキにより現像可能な(除去可能な)画像記録層である。本発明の画像記録層としては、波長250nm〜420nmの範囲の光を放射するレーザー光により画像様に記録可能である画像記録層または赤外線レーザーによって画像記録可能な画像記録層であることが好ましい。好ましくは本発明の画像記録層は、(A)光吸収剤、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物および(D)バインダーを含有する画像記録層である。
[Image recording layer]
The image recording layer of the present invention is an image recording layer that can be developed (removable) with dampening water and / or ink. The image recording layer of the present invention is preferably an image recording layer capable of image-like recording with a laser beam emitting light having a wavelength in the range of 250 nm to 420 nm or an image recording layer capable of image recording with an infrared laser. Preferably, the image recording layer of the present invention is an image recording layer containing (A) a light absorber, (B) a polymerization initiator, (C) a polymerizable compound and (D) a binder.

機上現像型の画像記録層は、具体的には、加熱または輻射線の熱エネルギー照射により、加熱部分または照射部分が疎水性または親水性への変化を生じ、その後、湿し水および/またはインキにより非画像部が除去可能となり、印刷機上で湿し水および/またはインキにより現像されて印刷版とすることができる感熱層である。例えば、加熱または輻射線の照射により、加熱部分または照射部分が特定の酸性基(例えば、ホスホ基、スルホ基、カルボキシ基)を発生して可溶化するポリマーを含有する感熱層、加熱または輻射線の照射により、加熱部分または照射部分が疎水性領域を形成する疎水性化前駆体を含有する感熱層が挙げられる。   In the on-press development type image recording layer, specifically, the heated portion or irradiated portion is changed to hydrophobic or hydrophilic by heating or irradiation with thermal energy of radiation, and thereafter, dampening water and / or The non-image area can be removed by ink, and it is a heat-sensitive layer that can be developed with dampening water and / or ink on a printing machine to form a printing plate. For example, a heat-sensitive layer containing a polymer in which the heated part or irradiated part generates a specific acidic group (for example, phospho group, sulfo group, carboxy group) and is solubilized by heating or radiation irradiation, heating or radiation The heat-sensitive layer containing the hydrophobized precursor in which the heated portion or the irradiated portion forms a hydrophobic region by irradiation of the above.

特定の酸性基を発生して可溶化するポリマーとしては、スルホン酸発生系のものが好ましく、例えば、特開平10−282672号公報に記載されているスルホン酸エステル基、ジスルホン基またはsec−もしくはtert−スルホンアミド基を側鎖に有するポリマー等を挙げることができる。   The polymer that generates and solubilizes a specific acidic group is preferably a sulfonic acid-generating polymer. For example, a sulfonic acid ester group, a disulfone group, or sec- or tert described in JP-A-10-282672. -The polymer etc. which have a sulfonamide group in a side chain can be mentioned.

疎水性化前駆体としては、例えば、
(a)疎水性微粒子ポリマー
(b)疎水性物質を内包するマイクロカプセル
が挙げられる。これらは、加熱により、互いに融着したり、マイクロカプセルが内包する疎水性物質が熱により化学反応を起こしたりして、画像部領域、即ち、疎水性領域(親インキ領域)を形成しうる。そして、これらの疎水性化前駆体は、好ましくは親水性のバインダー中に分散されているので、画像記録(露光)後、湿し水および/またはインキを供給することで、特段の現像処理を行うことなく、機上現像することができる。
以下、本発明の画像記録層の主な構成成分について説明する。
Examples of hydrophobizing precursors include:
(A) Hydrophobic fine particle polymer (b) The microcapsule which encloses a hydrophobic substance is mentioned. These can be fused to each other by heating, or a hydrophobic substance contained in the microcapsule can cause a chemical reaction by heat to form an image area, that is, a hydrophobic area (parent ink area). Since these hydrophobized precursors are preferably dispersed in a hydrophilic binder, after image recording (exposure), a fountain solution and / or ink is supplied to perform special development processing. On-press development can be carried out without this.
Hereinafter, main components of the image recording layer of the present invention will be described.

(A)光吸収剤
本発明の平版印刷版原版を、波長250nm〜420nmの範囲の光を放射するレーザー光により画像様に記録可能する場合は、画像記録層に波長250nm〜420nmの範囲の光の吸収剤を含有することが好ましい。これらの具体例は、後述のチタノセン化合物と組み合わせる色素が例示できるが限定されるものではなく、公知の化合物から適切に選択されることができる。
(A) Light Absorber When the planographic printing plate precursor of the present invention can be recorded in an image-like manner by laser light that emits light having a wavelength in the range of 250 nm to 420 nm, light having a wavelength in the range of 250 nm to 420 nm is applied to the image recording layer. It is preferable to contain the absorber. Specific examples of these include, but are not limited to, dyes to be combined with a titanocene compound described later, and can be appropriately selected from known compounds.

本発明の平版印刷版原版を700〜1200nmの赤外線を放射するレーザー光源により画像形成する場合は、画像記録層に赤外線吸収剤を含有することが好ましい。赤外線吸収剤は、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有しており、この際発生した熱により、重合開始剤が熱分解し、ラジカルを発生したり、熱または光反応により発生したラジカルの移動を容易にする。本発明において使用される赤外線吸収剤は、波長760〜1200nmに吸収極大を有する染料または顔料である。   When forming an image of the lithographic printing plate precursor according to the invention with a laser light source that emits infrared rays of 700 to 1200 nm, the image recording layer preferably contains an infrared absorber. The infrared absorber has a function of converting absorbed infrared rays into heat, and the heat generated at this time causes the polymerization initiator to thermally decompose to generate radicals, or to generate radicals generated by heat or photoreaction. Make it easy to move. The infrared absorber used in the present invention is a dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 760 to 1200 nm.

染料としては、市販の染料および例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)などの文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体などの染料が挙げられる。   As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes Is mentioned.

好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭60−78787号などの公報に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号などの公報に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号などの公報に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号などの公報に記載されているスクワリリウム色素、英国特許第434,875号明細書記載のシアニン染料などを挙げることができる。   Preferred dyes include, for example, cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-60-78787, JP-A-58-173696, The methine dyes described in Japanese Laid-Open Patent Publication Nos. 58-181690 and 58-194595, JP-A 58-112793, JP-A 58-224793, JP-A 59-48187, Naphthoquinone dyes described in Japanese Laid-Open Patent Publication Nos. 59-73996, 60-52940 and 60-63744, and squarylium dyes described in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 58-112792. And cyanine dyes described in British Patent 434,875.

また、米国特許第5,156,938号明細書記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号明細書記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号公報(米国特許第4,327,169号明細書)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号の公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号公報記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩などや特公平5−13514号、同5−19702号公報に記載されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料として好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。   In addition, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) described in US Pat. No. 3,881,924 is also suitable. ) Pyrylium salt, trimethine thiapyrylium salt described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59- No. 41363, 59-84248, 59-84249, 59-146063, 59-146061, pyranyl compounds described in JP-A-59-216146, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, Patented in US Pat. No. 4,283,475, such as pentamethine thiopyrylium salt, and Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702 Pyrylium compounds are also preferably used. Another example of a preferable dye is a near-infrared absorbing dye described in US Pat. No. 4,756,993 as formulas (I) and (II).

これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。さらに、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい一つの例として下記一般式(IV)で示されるシアニン色素が挙げられる。   Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferred, and one particularly preferred example is a cyanine dye represented by the following general formula (IV).

Figure 2006137100
Figure 2006137100

一般式(IV)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−NPh2、X2−L1または以下に示す基を表す。ここで、X2は酸素原子、窒素原子、または硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。Xa-は後述するZa-と同様に定義され、Raは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。 In the general formula (IV), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -NPh 2 , X 2 -L 1 or a group shown below. Here, X 2 represents an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or 1 to 1 carbon atom containing a hetero atom. 12 hydrocarbon groups are shown. In addition, a hetero atom here shows N, S, O, a halogen atom, and Se. Xa - the Za described later - is defined as for, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom.

Figure 2006137100
Figure 2006137100

1およびR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。記録層塗布液の保存安定性から、R1およびR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、更に、R1とR2とは互いに結合し、5員環または6員環を形成していることが特に好ましい。 R 1 and R 2 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the recording layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環およびナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子または炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7およびR8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子または炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Za-は、対アニオンを示す。ただし、一般式(IV)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZa-は必要ない。好ましいZa-は、記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、およびスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、およびアリールスルホン酸イオンである。 Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Za represents a counter anion. However, Za is not necessary when the cyanine dye represented by formula (IV) has an anionic substituent in its structure and neutralization of charge is not necessary. Preferred Za is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, a hexagonal salt, in view of the storage stability of the recording layer coating solution. Fluorophosphate ions and aryl sulfonate ions.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(IV)で示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001−133969号公報の段落番号[0017]から[0019]に記載されたものを挙げることができる。
また、特に好ましい他の例としてさらに、特開2002−278057号公報に記載の特定インドレニンシアニン色素が挙げることができる。
Specific examples of the cyanine dye represented by formula (IV) that can be suitably used in the present invention include those described in paragraphs [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969. be able to.
Further, other particularly preferable examples include specific indolenine cyanine dyes described in JP-A-2002-278057.

本発明において使用される顔料としては、市販の顔料およびカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。   Examples of the pigment used in the present invention include commercially available pigments and color index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986), “Printing Ink Technology”, CMC Publishing, 1984) can be used.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラックなどが使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments , Quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like. Among these pigments, carbon black is preferable.

これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネートなど)を顔料表面に結合させる方法などが考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)および「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Application of Metal Soap” (Shobobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は0.01〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05〜1μmの範囲にあることがさらに好ましく、特に0.1〜1μmの範囲にあることが好ましい。この範囲で、顔料分散物の画像記録層塗布液中での良好な安定性と画像記録層の良好な均一性が得られる。   The particle diameter of the pigment is preferably in the range of 0.01 to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 to 1 μm. Within this range, good stability of the pigment dispersion in the image recording layer coating solution and good uniformity of the image recording layer can be obtained.

顔料を分散する方法としては、インキ製造やトナー製造などに用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダーなどが挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used for ink production or toner production can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

これらの赤外線吸収剤の画像記録層への添加は、重合反応を阻害する副作用を抑制するため、必要最小量とすることが好ましい。   The addition of these infrared absorbers to the image recording layer is preferably made the minimum necessary amount in order to suppress side effects that inhibit the polymerization reaction.

これらの赤外線吸収剤は、画像記録層の全固形分に対し0.001〜50質量%、好ましくは0.005〜30質量%、特に好ましくは0.01〜10質量%の割合で添加することができる。この範囲内で、画像記録層の均一性や膜強度に好ましくない影響を与えることなく、高感度が得られる。   These infrared absorbers are added in a proportion of 0.001 to 50% by mass, preferably 0.005 to 30% by mass, particularly preferably 0.01 to 10% by mass, based on the total solid content of the image recording layer. Can do. Within this range, high sensitivity can be obtained without adversely affecting the uniformity and film strength of the image recording layer.

(B)重合開始剤
本発明に用いることができる重合開始剤は、光、熱あるいはその両方のエネルギーによりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を開始、促進する化合物である。本発明に使用できる重合開始剤としては、公知の熱重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などが挙げられる。
(B) Polymerization initiator The polymerization initiator that can be used in the present invention is a compound that initiates and accelerates the polymerization of a compound having a polymerizable unsaturated group by generating radicals by the energy of light, heat, or both. is there. Examples of the polymerization initiator that can be used in the present invention include known thermal polymerization initiators, compounds having a bond with small bond dissociation energy, and photopolymerization initiators.

上記のような重合開始剤としては、例えば、有機ハロゲン化合物、カルボニル化合物、有機過酸化物、アゾ系重合開始剤、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ素化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物、が挙げられる。   Examples of the polymerization initiator as described above include organic halogen compounds, carbonyl compounds, organic peroxides, azo polymerization initiators, azide compounds, metallocene compounds, hexaarylbiimidazole compounds, organic boron compounds, disulfone compounds, and oximes. Examples thereof include ester compounds and onium salt compounds.

波長250〜420nmの範囲に感光性を有する感光層とすべく、本発明において感光性平版印刷版の感光層に含有させる光重合開始剤としては、使用する光源の波長により、特許、文献等で公知である種々の光重合開始剤、あるいは2種以上の光重合開始剤の併用系(光開始系)を適宜選択して用いることができる。   The photopolymerization initiator contained in the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate in the present invention in order to obtain a photosensitive layer having a photosensitivity in the wavelength range of 250 to 420 nm, according to the wavelength of the light source used, in patents, documents, etc. Various known photopolymerization initiators or a combination system (photoinitiation system) of two or more photopolymerization initiators can be appropriately selected and used.

以下、このような光重合開始剤(系)について説明する。
400nm以上の可視光線、Arレーザー、半導体レーザーの第2高調波、SHG−YAGレーザーを光源とする場合に種々の光開始系が提案されている、例えば、米国特許第2,850,445号に記載のある種の光還元性染料、ローズベンガル、エオシン、エリスロジン、あるいは、染料と開始剤との組み合わせによる系、例えば、染料とアミンの複合開始系(特公昭44−20189号公報)、ヘキサアリールビイミダゾールとラジカル発生剤と染料との併用系(特公昭45−37377号公報)、ヘキサアリールビイミダゾールとp−ジアルキルアミノベンジリデンケトンの系(特公昭47−2528号、特開昭54−155292号)、環状シス−α−ジカルボニル化合物と染料の系(特開昭48−84183号各公報)、環状トリアジンとメロシアニン色素の系(特開昭54−151024号公報)、3−ケトクマリンと活性剤の系(特開昭52−112681号、特開昭58−15503号各公報)、ビイミダゾール、スチレン誘導体、チオールの系(特開昭59−140203号公報)、有機過酸化物と色素の系(特開昭59−1504号、特開昭59−140203号、特開昭59−189340号、特開昭62−174203号、特公昭62−1641号各公報、米国特許第4766055号)、染料と活性ハロゲン化合物の系(特開昭63−258903号、特開平2−63054号等各公報)、染料とボレート化合物の系(特開昭62−143044号、特開昭62−150242号、特開昭64−13140号、特開昭64−13141号、特開昭64−13142号、特開昭64−13143号、特開昭64−13144号、特開昭64−17048号、特開平1−229003号、特開平1−298348号、特開平1−138204号等各公報)、チタノセンと3−ケトクマリン色素の系(特開昭63−221110号公報)、チタノセンとキサンテン色素さらにアミノ基あるいはウレタン基を含む付加重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物を組み合わせた系(特開平4−221958号、特開平4−219756号各公報)、チタノセンと特定のメロシアニン色素の系(特開平6−295061号公報)、チタノセンとベンゾピラン環を有する色素の系(特開平8−334897号公報)等を挙げることができる。
また、ローダニン環を有する色素とラジカル発生剤の系(特開平2−179643号、特開平2−244050号各公報)など光エネルギーによりラジカルを発生し、重合性不飽和基を有する化合物の重合を開始、促進する系などを用いることも出来る。
Hereinafter, such a photopolymerization initiator (system) will be described.
Various photoinitiating systems have been proposed in the case of using a visible light of 400 nm or more, an Ar laser, a second harmonic of a semiconductor laser, or a SHG-YAG laser as a light source, for example, in US Pat. No. 2,850,445 Certain photoreducible dyes described, rose bengal, eosin, erythrodin, or a combination of a dye and an initiator, such as a combined initiator system of a dye and an amine (Japanese Patent Publication No. 44-20189), hexaary Combination system of rubiimidazole, radical generator and dye (Japanese Patent Publication No. 45-37377), system of hexaarylbiimidazole and p-dialkylaminobenzylidene ketone (Japanese Patent Publication No. 47-2528, Japanese Patent Application Laid-Open No. 54-155292) ), A system of a cyclic cis-α-dicarbonyl compound and a dye (JP-A-48-84183), cyclic to System of azine and merocyanine dye (Japanese Patent Laid-Open No. 54-151024), system of 3-ketocoumarin and activator (Japanese Patent Laid-Open No. 52-112681, Japanese Patent Laid-Open No. 58-15503), biimidazole, styrene derivatives Thiol system (JP 59-140203 A), organic peroxide and dye system (JP 59-1504, JP 59-140203, JP 59-189340, JP Sho 62-174203, JP-B 62-1641, U.S. Pat. No. 4,766,055), dyes and active halogen compounds (JP-A 63-258903, JP-A 2-63054, etc.), dyes And borate compounds (Japanese Patent Laid-Open Nos. 62-143044, 62-150242, 64-13140, 64-13141, 64-64 No. 13142, JP-A 64-13143, JP-A 64-13144, JP-A 64-17048, JP-A 1-222903, JP-A 1-298348, JP-A 1-138204, etc. ), Titanocene and 3-ketocoumarin dye systems (Japanese Patent Laid-Open No. 63-221110), titanocene and xanthene dyes, and a combination of addition-polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing compounds containing amino groups or urethane groups (special Kaihei 4-221958, JP-A-4-219756, titanocene and a specific merocyanine dye system (JP-A-6-295061), dye system having a titanocene and a benzopyran ring (JP-A-8-334897) Gazette) and the like.
In addition, a system of a dye having a rhodanine ring and a radical generator (JP-A-2-179634, JP-A-2-244050) generates radicals by light energy to polymerize a compound having a polymerizable unsaturated group. Initiating and promoting systems can also be used.

また400〜410nmの波長のレーザー(バイオレットレーザー)が開発され、それに感応する450nm以下の波長に高感度を示す光開始系が開発されており、例えば、カチオン色素/ボレート系(特開平11−84647号公報)、メロシアニン色素/チタノセン系(特開2000−147763号公報)、カルバゾール型色素/チタノセン系(特開2001−42524号公報)等の光開始系を挙げることができる。特にチタノセン化合物を用いた系が、感度の点で優れており好ましい。   In addition, a laser having a wavelength of 400 to 410 nm (violet laser) has been developed, and a photoinitiating system exhibiting high sensitivity at a wavelength of 450 nm or less, which is sensitive to the laser, has been developed, for example, a cationic dye / borate system (Japanese Patent Laid-Open No. 11-84647). And photoinitiating systems such as a merocyanine dye / titanocene system (JP 2000-147663 A) and a carbazole type dye / titanocene system (JP 2001-42524 A). In particular, a system using a titanocene compound is preferable because of its excellent sensitivity.

チタノセン化合物としては、種々のものを用いることができるが、例えば、特開昭59−152396号、特開昭61−151197号各公報に記載されている各種チタノセン化合物から適宜選んで用いることができる。さらに具体的には、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−フルオロフェニ−1−イル、ジメチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6′−ジフルオロ−3−(ピル−1−イル)フェニ−1−イル等を挙げることができる。   Various titanocene compounds can be used. For example, various titanocene compounds described in JP-A-59-152396 and JP-A-61-151197 can be appropriately selected and used. . More specifically, di-cyclopentadienyl-Ti-di-chloride, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5 , 6-pentafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2 , 4,6-trifluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-di-fluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2, 4-fluorophen-1-yl, dimethylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2 , 6-Di Ruorofeni-1-yl, di - cyclopentadienyl -Ti- bis-2,6'-difluoro-3 can be mentioned (pill-1-yl) 1-yl and the like.

更に上記光重合開始剤に必要に応じ、2−メルカプトベンズチアゾール、2−メルカプトベンズイミダゾール、2−メルカプトベンズオキサゾール等のチオール化合物、N−フェニルグリシン、N,N−ジアルキルアミノ芳香族アルキルエステル等のアミン化合物等の水素供与性化合物を加えることにより更に光開始能力が高められることが知られている。
これらの光重合開始剤(系)の添加量は、エチレン性不飽和結合含有化合物100質量部に対し、通常0.05〜100質量部、好ましくは0.1〜70質量部、更に好ましくは0.2〜50質量部の範囲で用いられる。
Furthermore, as required for the above photopolymerization initiator, thiol compounds such as 2-mercaptobenzthiazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, N-phenylglycine, N, N-dialkylamino aromatic alkyl ester, etc. It is known that the photoinitiating ability can be further enhanced by adding a hydrogen-donating compound such as an amine compound.
The addition amount of these photopolymerization initiators (systems) is usually 0.05 to 100 parts by mass, preferably 0.1 to 70 parts by mass, and more preferably 0 to 100 parts by mass of the ethylenically unsaturated bond-containing compound. Used in the range of 2 to 50 parts by mass.

一方、本発明に特に好ましい重合開始剤は、光エネルギーによりラジカルを発生し、重合性不飽和基を有する化合物の重合を開始、促進する化合物であり、特に、重合開始剤単独または重合開始剤と後述の増感剤との組み合わせで、250nm〜420nmの光を吸収してラジカルを発生する化合物である。このような光ラジカル発生剤としては、公知の重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物などを、適宜、選択して用いることができる。
なお、白灯の発光スペクトル強度は400nm超の可視領域で強く、その領域に十分な感光性を有する重合開始剤では、白灯下でかぶりを生じやすくなるため、開始剤および増感剤の吸収極大は400nm以下にすることが好ましい。
On the other hand, a particularly preferred polymerization initiator for the present invention is a compound that generates radicals by light energy and initiates and accelerates the polymerization of a compound having a polymerizable unsaturated group. In particular, the polymerization initiator alone or the polymerization initiator It is a compound that generates radicals by absorbing light of 250 nm to 420 nm in combination with a sensitizer described later. As such a photo radical generator, a known polymerization initiator, a compound having a bond having a small bond dissociation energy, or the like can be appropriately selected and used.
The emission spectrum intensity of white light is strong in the visible region exceeding 400 nm, and a polymerization initiator having sufficient photosensitivity in that region is likely to cause fogging under white light. Therefore, absorption of the initiator and the sensitizer is difficult. The maximum is preferably 400 nm or less.

上記のラジカルを発生する化合物としては、例えば、有機ハロゲン化合物、カルボニル化合物、有機過酸化物、アゾ系化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ素化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物、が挙げられる。   Examples of the compound that generates radicals include organic halogen compounds, carbonyl compounds, organic peroxides, azo compounds, azide compounds, metallocene compounds, hexaarylbiimidazole compounds, organic boron compounds, disulfone compounds, and oxime ester compounds. And onium salt compounds.

上記有機ハロゲン化合物としては、具体的には、若林等、「Bull Chem.Soc Japan」42、2924(1969)、米国特許第3,905,815号明細書、特公昭46−4605号、特開昭48−36281号、特開53−133428号、特開昭55−32070号、特開昭60−239736号、特開昭61−169835号、特開昭61−169837号、特開昭62−58241号、特開昭62−212401号、特開昭63−70243号、特開昭63−298339号の公報、M.P.Hutt、"Journal of Heterocyclic Chemistry" 1(No.3),(1970)」に記載の化合物が挙げられる。中でも、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物およびS−トリアジン化合物が好適である。   Specific examples of the organic halogen compound include Wakabayashi et al., “Bull Chem. Soc Japan” 42, 2924 (1969), US Pat. No. 3,905,815, Japanese Patent Publication No. 46-4605, JP 48-36281, JP 53-133428, JP 55-3070, JP 60-239736, JP 61-169835, JP 61-169837, JP 62- 58241, JP-A 62-212401, JP-A 63-70243, JP-A 63-298339, P. Hutt, “Journal of Heterocyclic Chemistry” 1 (No. 3), (1970) ”. Of these, oxazole compounds and S-triazine compounds substituted with a trihalomethyl group are preferred.

より好適には、すくなくとも一つのモノ、ジ、またはトリハロゲン置換メチル基が、s−トリアジン環に結合したs−トリアジン誘導体およびオキサジアゾール環に結合したオキサジアゾール誘導体が挙げられる。具体的には、例えば、2,4,6−トリス(モノクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ジクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2―n−プロピル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(α,α,β−トリクロロエチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3,4−エポキシフェニル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔1−(p−メトキシフェニル)−2,4−ブタジエニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−スチリル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−i−プロピルオキシスチリル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−トリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニルチオ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−ベンジルチオ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ジブロモメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メトキシ−4,6−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジンや下記化合物等が挙げられる。   More preferable examples include s-triazine derivatives in which at least one mono, di, or trihalogen-substituted methyl group is bonded to the s-triazine ring, and oxadiazole derivatives in which the oxadiazole ring is bonded. Specifically, for example, 2,4,6-tris (monochloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (dichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -S-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-n-propyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (α, α, β-trichloroethyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (3,4-epoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [1- (P-methoxyphenyl) -2,4-butadienyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-styryl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- ( -Methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (pi-propyloxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p- Tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-phenylthio-4,6-bis ( Trichloromethyl) -s-triazine, 2-benzylthio-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (dibromomethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris ( Tribromomethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (tribromomethyl) -s-triazine, 2-methoxy-4,6-bis (tribromomethyl) Etc. -s- triazine and the following compounds.

Figure 2006137100
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Figure 2006137100
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上記カルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、2−メチルベンゾフェノン、3−メチルベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4−ブロモベンゾフェノン、2−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドトキシ−2−メチルフェニルプロパノン、1−ヒドロキシ−1−メチルエチル−(p−イソプロピルフェニル)ケトン、1−ヒドロキシ−1−(p−ドデシルフェニル)ケトン、2−メチルー(4'
−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノ−1−プロパノン、1,1,1−トリクロロメチル−(p−ブチルフェニル)ケトン等のアセトフェノン誘導体、チオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体等を挙げることができる。
Examples of the carbonyl compound include benzophenone, Michler ketone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-bromobenzophenone, 2-carboxybenzophenone and other benzophenone derivatives, 2,2-dimethoxy- 2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, α-hydroxy-2-methylphenylpropanone, 1-hydroxy-1-methylethyl- (p-isopropylphenyl) ketone, 1- Hydroxy-1- (p-dodecylphenyl) ketone, 2-methyl- (4 ′
-(Methylthio) phenyl) -2-morpholino-1-propanone, acetophenone derivatives such as 1,1,1-trichloromethyl- (p-butylphenyl) ketone, thioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2- Thioxanthone derivatives such as chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, benzoic acid ester derivatives such as ethyl p-dimethylaminobenzoate, ethyl p-diethylaminobenzoate, etc. Can be mentioned.

上記アゾ系化合物としては例えば、特開平8−108621号公報に記載のアゾ化合物等を使用することができる。   As the azo compound, for example, an azo compound described in JP-A-8-108621 can be used.

上記有機過酸化物としては、例えば、トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、2,2−ビス(tert−ブチルパーオキシ)ブタン、tert−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、tert−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5−オキサノイルパーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)パーオキシジカーボネート、tert−ブチルパーオキシアセテート、tert−ブチルパーオキシピバレート、tert−ブチルパーオキシネオデカノエート、tert−ブチルパーオキシオクタノエート、tert−ブチルパーオキシラウレート、ターシルカーボネート、3,3',4,4'−テトラ−(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3',4,4'−テトラ−(t−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3',4,4'−テトラ−(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、カルボニルジ(t−ブチルパーオキシ二水素二フタレート)、カルボニルジ(t−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート)等が挙げられる。   Examples of the organic peroxide include trimethylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis (tert-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (tert-butyl). Peroxy) cyclohexane, 2,2-bis (tert-butylperoxy) butane, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydro Peroxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, tert-butylcumyl peroxide, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) hexane, 2, -Oxanoyl peroxide, succinic peroxide, benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, di-2-ethoxyethyl peroxydicarbonate , Dimethoxyisopropyl peroxycarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutyl) peroxydicarbonate, tert-butyl peroxyacetate, tert-butyl peroxypivalate, tert-butyl peroxyneodecanoate, tert- Butyl peroxyoctanoate, tert-butyl peroxylaurate, tersyl carbonate, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4 ′ − Tra- (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, carbonyldi (t-butylperoxydihydrogen diphthalate), carbonyl And di (t-hexylperoxydihydrogen diphthalate).

上記メタロセン化合物としては、特開昭59−152396号公報、特開昭61−151197号公報、特開昭63−41484号公報、特開平2−249号公報、特開平2−4705号公報、特開平5−83588号公報記載の種々のチタノセン化合物、例えば、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、特開平1−304453号公報、特開平1−152109号公報記載の鉄−アレーン錯体等が挙げられる。   Examples of the metallocene compound include JP-A-59-152396, JP-A-61-151197, JP-A-63-41484, JP-A-2-249, JP-A-2-4705, Various titanocene compounds described in JP-A-5-83588, such as di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, Di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-di-fluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluorophen-1-yl, di- -Cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-penta Fluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluoropheny -1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4 , 5,6-pentafluorophen-1-yl, iron-arene complexes described in JP-A-1-304453 and JP-A-1-152109, and the like.

上記ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特公平6−29285号公報、米国特許第3,479,185号、同第4,311,783号、同第4,622,286号の明細書等に記載の種々の化合物、具体的には、2,2'−ビス(o−クロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−ブロモフェニル))4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−クロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイジダゾール、2,2'−ビス(o,o'−ジクロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−メチルフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−トリフルオロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。   Examples of the hexaarylbiimidazole compound include the specifications of JP-B-6-29285, US Pat. Nos. 3,479,185, 4,311,783, and 4,622,286. And, specifically, 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-bromophenyl) )) 4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o, p-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2 ′ -Bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) biidazole, 2,2'-bis (o, o'-dichlorophenyl) -4,4', 5,5 '-Tetraphenylbiimidazole, 2, 2' Bis (o-nitrophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-methylphenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole 2,2′-bis (o-trifluorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole and the like.

上記有機ホウ素化合物としては、例えば、特開昭62−143044号、特開昭62−150242号、特開平9−188685号、特開平9−188686号、特開平9−188710号、特開2000−131837号、特開2002−107916号の公報、特許第2764769号明細書、特開2002−116539号公報、および、Kunz,Martin"Rad Tech'98.Proceeding April 19−22,1998,Chicago"等に記載される有機ホウ酸塩、特開平6−157623号公報、特開平6−175564号公報、特開平6−175561号公報に記載の有機ホウ素スルホニウム錯体あるいは有機ホウ素オキソスルホニウム錯体、特開平6−175554号公報、特開平6−175553号公報に記載の有機ホウ素ヨードニウム錯体、特開平9−188710号公報に記載の有機ホウ素ホスホニウム錯体、特開平6−348011号公報、特開平7−128785号公報、特開平7−140589号公報、特開平7−306527号公報、特開平7−292014号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が挙げられる。   Examples of the organoboron compound include JP-A-62-143044, JP-A-62-1050242, JP-A-9-188585, JP-A-9-188686, JP-A-9-188710, JP-A 2000-. No. 131837, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-107916, Japanese Patent No. 2764769, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-116539, and Kunz, Martin “Rad Tech '98. Proceeding April 19-22, 1998, Chicago”, etc. The organic borate described in JP-A-6-157623, JP-A-6-175564, JP-A-6-175561, or organic boron oxosulfonium complex, JP-A-6-175554 No. 6, JP-A-6-17555 Organoboron iodonium complex described in JP-A-9-188, organoboron phosphonium complex described in JP-A-9-188710, JP-A-6-34811, JP-A-7-128785, JP-A-7-140589, Examples thereof include organoboron transition metal coordination complexes such as Kaihei 7-306527 and JP-A-7-292014.

上記ジスルホン化合物としては、特開昭61−166544号公報、特開2003−328465号公報等記載される化合物が挙げられる。   Examples of the disulfone compound include compounds described in JP-A Nos. 61-166544 and 2003-328465.

上記オキシムエステル化合物としては、J.C.S. Perkin II (1979 )1653-1660)、J.C.S. Perkin II (1979)156-162、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995)202-232、特開2000−66385号公報記載の化合物、特開2000−80068号公報記載の化合物、具体的には、下記の構造式で示される化合物が挙げられる。   Examples of the oxime ester compound include JCS Perkin II (1979) 1653-1660), JCS Perkin II (1979) 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) 202-232, and JP-A 2000-66385. Compounds, compounds described in JP-A No. 2000-80068, specifically, compounds represented by the following structural formulas may be mentioned.

Figure 2006137100
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上記オニウム塩化合物としては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号明細書、特開平4−365049号公報等に記載のアンモニウム塩、米国特許第4,069,055号、同第4,069,056号の明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第104、143号、米国特許第339,049号、同第410,201号の明細書、特開平2−150848号、特開平2−296514号の公報に記載のヨードニウム塩、欧州特許第370,693号、同第390,214号、同第233,567号、同第297,443号、同第297,442号、米国特許第4,933,377号、同第161,811号、同第410,201号、同第339,049号、同第4,760,013号、同第4,734,444号、同第2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同第3,604,580号、同第3,604,581号の明細書に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromolecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩等が挙げられる。   Examples of the onium salt compound include S.I. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Diazonium salts described in Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), ammonium salts described in US Pat. No. 4,069,055, JP-A-4-365049, etc., US Pat. No. 4,069 , 055, 4,069,056, phosphonium salts described in European Patent Nos. 104,143, US Pat. Nos. 339,049, 410,201, JP -150848, JP-A-2-296514, iodonium salts, European Patent Nos. 370,693, 390,214, 233,567, 297,443, and 297 442, U.S. Pat. Nos. 4,933,377, 161,811, 410,201, 339,049, 4,760,013 No. 4,734,444, No. 2,833,827, German Patent No. 2,904,626, No. 3,604,580, No. 3,604,581 Or a sulfonium salt described in J. V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt described in C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), and onium salts such as arsonium salts.

本発明において、これらのオニウム塩は酸発生剤ではなく、イオン性のラジカル重合開始剤として機能する。 本発明において好適に用いられるオニウム塩は、下記一般式(RI−I)〜(RI−III)で表されるオニウム塩である。   In the present invention, these onium salts function not as acid generators but as ionic radical polymerization initiators. The onium salt suitably used in the present invention is an onium salt represented by the following general formulas (RI-I) to (RI-III).

Figure 2006137100
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式(RI−I)中、Ar11は置換基を1〜6個有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z11 -は1価の陰イオンを表し、具体的には、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられる。中でも安定性の面から、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオンおよびスルフィン酸イオンが好ましい。 In the formula (RI-I), Ar 11 represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and a carbon number. 1-12 alkenyl group, C1-C12 alkynyl group, C1-C12 aryl group, C1-C12 alkoxy group, C1-C12 aryloxy group, halogen atom, C1-C1 12 alkylamino groups, C1-C12 dialkylamino groups, C1-C12 alkylamide groups or arylamide groups, carbonyl groups, carboxyl groups, cyano groups, sulfonyl groups, C1-C12 thioalkyl groups And a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. Z 11 - represents a monovalent anion, specifically a halogen ion, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, thiosulfonate ion, a sulfate ion Can be mentioned. Among these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion and sulfinate ion are preferable from the viewpoint of stability.

式(RI−II)中、Ar21およびAr22は、各々独立に置換基を1〜6個有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z21 -は1価の陰イオンを表す。具体的には、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられる。中でも、安定性、反応性の面から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましい。 In the formula (RI-II), Ar 21 and Ar 22 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents include 1 to 1 carbon atoms. 12 alkyl groups, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms, Halogen atom, C1-C12 alkylamino group, C1-C12 dialkylamino group, C1-C12 alkylamide group or arylamide group, carbonyl group, carboxyl group, cyano group, sulfonyl group, carbon Examples thereof include a thioalkyl group having 1 to 12 carbon atoms and a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. Z 21 - represents a monovalent anion. Specific examples include halogen ions, perchlorate ions, hexafluorophosphate ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, thiosulfonate ions, and sulfate ions. Among these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, and carboxylate ion are preferable from the viewpoint of stability and reactivity.

式(RI−III)中、R31、R32およびR33は、各々独立に置換基を1〜6個有していてもよい炭素数20以下のアリール基、アルキル基、アルケニル基、またはアルキニル基を表す。中でも反応性、安定性の面から好ましいのは、アリール基である。置換基としては、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基またはアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z31 -は1価の陰イオンを表す
。具体例としては、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンが挙げられる。中でも安定性、反応性の面から、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましい。より好ましいものとして特開2001−343742号公報記載のカルボン酸イオン、特に好ましいものとして特開2002−148790号公報記載のカルボン酸イオンが挙げられる。
In the formula (RI-III), R 31 , R 32 and R 33 are each independently an aryl group, alkyl group, alkenyl group or alkynyl having 20 or less carbon atoms, which may have 1 to 6 substituents. Represents a group. Among them, an aryl group is preferable from the viewpoint of reactivity and stability. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, Aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms, halogen atom, alkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, dialkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, alkylamide group or arylamide group having 1 to 12 carbon atoms, carbonyl group, carboxyl Group, a cyano group, a sulfonyl group, a thioalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. Z 31 - represents a monovalent anion. Specific examples include halogen ions, perchlorate ions, hexafluorophosphate ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, thiosulfonate ions, and sulfate ions. Among these, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, and carboxylate ion are preferable from the viewpoints of stability and reactivity. More preferred are the carboxylate ions described in JP-A No. 2001-343742, and particularly preferred are the carboxylate ions described in JP-A No. 2002-148790.

以下に本発明に好適なオニウム塩化合物の具体例を挙げるが、これらに限定されない。   Although the specific example of the onium salt compound suitable for this invention is given to the following, it is not limited to these.

Figure 2006137100
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重合開始剤としては、上記に限定されないが、特に反応性、安定性の面から、トリアジン系開始剤、有機ハロゲン化合物、オキシムエステル化合物、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、およびスルホニウム塩が、短時間露光で大量にラジカルが発生する点でより好ましい。   The polymerization initiator is not limited to the above, but particularly from the viewpoint of reactivity and stability, triazine-based initiators, organic halogen compounds, oxime ester compounds, diazonium salts, iodonium salts, and sulfonium salts can be exposed in a short time. This is more preferable because a large amount of radicals are generated.

さらに、これらのトリアジン系開始剤、有機ハロゲン化合物、オキシムエステル化合物、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、およびスルホニウム塩系の重合開始剤は、増感剤と組み合わせて用いることが好ましい。増感剤と組み合わせて用いることにより、光重合速度を増大させることができる。   Furthermore, these triazine-based initiators, organic halogen compounds, oxime ester compounds, diazonium salts, iodonium salts, and sulfonium salt-based polymerization initiators are preferably used in combination with a sensitizer. By using in combination with a sensitizer, the photopolymerization rate can be increased.

このような増感剤の具体例として、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、9−フルオレノン、2−クロロ−9−フルオレノン、2−メチル−9−フルオレノン、9−アントロン、2−ブロモ−9−アントロン、2−エチル−9−アントロン、9,10−アントラキノン、2−エチル−9、10−アントラキノン、2−t−ブチル−9,10−アントラキノン、2,6−ジクロロ−9,10−アントラキノン、キサントン、2−メチルキサントン、2−メトキシキサントン、チオキサントン、ベンジル、ジベンザルアセトン、p−(ジメチルアミノ)フェニルスチリルケトン、p−(ジメチルアミノ)フェニルp−メチルスチリルケトン、ベンゾフェノン、p−(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン(またはミヒラーケトン)、p−(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、ベンズアントロンなどを挙げることができる。   Specific examples of such sensitizers include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, 9-fluorenone, 2-chloro-9-fluorenone, 2-methyl-9-fluorenone, 9-anthrone, and 2-bromo-9. -Anthrone, 2-ethyl-9-anthrone, 9,10-anthraquinone, 2-ethyl-9, 10-anthraquinone, 2-t-butyl-9,10-anthraquinone, 2,6-dichloro-9,10-anthraquinone , Xanthone, 2-methylxanthone, 2-methoxyxanthone, thioxanthone, benzyl, dibenzalacetone, p- (dimethylamino) phenyl styryl ketone, p- (dimethylamino) phenyl p-methylstyryl ketone, benzophenone, p- ( Dimethylamino) benzophenone (or mihi Keton), p- (diethylamino) benzophenone, and the like benzanthrone.

さらに、本発明における好ましい増感剤としては、特公昭51−48516号公報中に記載されている一般式(I)で表される化合物があげられる。   Furthermore, preferred sensitizers in the present invention include compounds represented by the general formula (I) described in JP-B 51-48516.

Figure 2006137100
Figure 2006137100

式中、R14はアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基など)、または置換アルキル基(例えば、2−ヒドロキシエチル基、2−メトキシエチル基、カルボキシメチル基、2−カルボキシエチル基など)を表す。R15はアルキル基(例えば、メチル基、エチル基など)、またはアリール基(例えば、フェニル基、p−ヒドロキシフェニル基、ナフチル基、チエニル基など)を表す。 In the formula, R 14 is an alkyl group (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, etc.) or a substituted alkyl group (for example, 2-hydroxyethyl group, 2-methoxyethyl group, carboxymethyl group, 2-carboxyethyl group) Etc.). R 15 represents an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, etc.) or an aryl group (eg, phenyl group, p-hydroxyphenyl group, naphthyl group, thienyl group, etc.).

2は通常シアニン色素で用いられる窒素を含む複素環核を形成するのに必要な非金属
原子群、例えばベンゾチアゾール類(ベンゾチアゾール、5−クロロベンゾチアゾール、6−クロロベンゾチアゾールなど)、ナフトチアゾール類(α−ナフトチアゾール、β−ナフトチアゾールなど)、ベンゾセレナゾール類(ベンゾセレナゾール、5−クロロベンゾセレナゾール、6−メトキシベンゾセレナゾールなど)、ナフトセレナゾール類(α−ナフトセレナゾール、β−ナフトセレナゾールなど)、ベンゾオキサゾール類(ベンゾオキサゾール、5−メチルベンゾオキサゾール、5−フェニルベンゾオキサゾールなど)、ナフトオキサゾール類(α−ナフトオキサゾール、β−ナフトオキサゾールなど)を表す。
Z 2 is a group of nonmetallic atoms necessary for forming a heterocyclic nucleus containing nitrogen, which is usually used in cyanine dyes, such as benzothiazoles (benzothiazole, 5-chlorobenzothiazole, 6-chlorobenzothiazole, etc.), naphtho Thiazoles (α-naphthothiazole, β-naphthothiazole, etc.), benzoselenazoles (benzoselenazole, 5-chlorobenzoselenazole, 6-methoxybenzoselenazole, etc.), naphthoselenazoles (α-naphthoselenazole) , Β-naphthselenazole, etc.), benzoxazoles (benzoxazole, 5-methylbenzoxazole, 5-phenylbenzoxazole, etc.) and naphthoxazoles (α-naphthoxazole, β-naphthoxazole, etc.).

一般式(I)で表される化合物の具体例としては、これらZ2、R14およびR15を組み合わせた化学構造を有するものであり、多くのものが公知物質として存在する。したがって、これらの公知のものから適宜選択して使用することができる。さらに、本発明における好ましい増感剤としては、特公平5−47095号公報に記載のメロシアニン色素、また下記一般式(II)で示されるケトクマリン系化合物も挙げることができる。 Specific examples of the compound represented by the general formula (I) are those having a chemical structure combining these Z 2 , R 14 and R 15 , and many exist as known substances. Therefore, it can be used by appropriately selecting from these known ones. Furthermore, preferable sensitizers in the present invention include merocyanine dyes described in JP-B-5-47095 and ketocoumarin compounds represented by the following general formula (II).

Figure 2006137100
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ここでR16はメチル基、エチル基等のアルキル基を表す。 Here, R 16 represents an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group.

増感剤としてはまた、特開2000−147763号公報に記載のメロシアニン系色素も使用できる。具体的には、下記化合物を挙げることができる。   As the sensitizer, merocyanine dyes described in JP-A No. 2000-147763 can also be used. Specifically, the following compounds can be mentioned.

Figure 2006137100
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これらの重合開始剤および増感剤は、各々、画像記録層を構成する全固形分に対し0.05〜100質量%、0.1〜50質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜30質量%、特に好ましくは0.8〜20質量%の割合で添加することができる。この範囲内で、良好な感度と印刷時の非画像部の良好な汚れ難さが得られる。これらの重合開始剤は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。また、これらの重合開始剤は他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこに添加してもよい。   These polymerization initiators and sensitizers are each preferably from 0.05 to 100% by mass, more preferably from 0.1 to 50% by mass, and more preferably from 0.5 to 30%, based on the total solid content constituting the image recording layer. It can be added at a ratio of mass%, particularly preferably 0.8 to 20 mass%. Within this range, good sensitivity and good stain resistance of the non-image area during printing can be obtained. These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. Moreover, these polymerization initiators may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto.

(C)重合性化合物
本発明に用いることができる重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。
これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物などの化学的形態をもつ。このような重合性化合物の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基などの求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能イソシアネート類あるいはエポキシ類との付加反応物、および単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物なども好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基などの親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基などの脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルあるいはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテルなどに置き換えた化合物群を使用することも可能である。
(C) Polymerizable Compound The polymerizable compound that can be used in the present invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and has at least one ethylenically unsaturated bond, preferably 2 It is selected from compounds having at least one. Such a compound group is widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention.
These have chemical forms such as monomers, prepolymers, ie dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof. Examples of such polymerizable compounds include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters and amides thereof. In this case, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound is used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, an amino group or a mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and a monofunctional or polyfunctional compound. A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group or In addition, a substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー、イソシアヌール酸EO変性トリアクリレートなどがある。   Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer, isocyanuric acid There are EO-modified triacrylate and the like.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタンなどがある。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis -, and the like [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネートなどがある。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネートなどがある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネートなどがある。マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレートなどがある。   Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate. Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate. Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate. Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭51−47334号、特開昭57−196231号の各公報記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240号、特開昭59−5241号、特開平2−226149号の公報記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613号公報記載のアミノ基を含有するものなども好適に用いられる。更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。   Examples of other esters include, for example, aliphatic alcohol esters described in JP-B-51-47334 and JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, and JP-A-59-5241. And those having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613. Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミドなどがある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。   Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like. Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式(a)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物などが挙げられる。   In addition, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable, and specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinyl urethane containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following general formula (a) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups. Compound etc. are mentioned.

CH2=C(R4)COOCH2CH(R5)OH (a)
(ただし、R4およびR5は、HまたはCH3を示す。)
CH 2 = C (R 4) COOCH 2 CH (R 5) OH (a)
(However, R 4 and R 5 represent H or CH 3. )

また、特開昭51−37193号、特公平2−32293号、特公平2−16765号の公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号、特公昭56−17654号、特公昭62−39417号、特公昭62−39418号の公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭63−277653号、特開昭63−260909号、特開平1−105238号の公報に記載される分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによって、非常に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。   Further, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654 Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable. Furthermore, by using addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, JP-A-1-105238, It is possible to obtain a photopolymerizable composition excellent in the photosensitive speed.

その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号の公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類などの多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号の公報に記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号公報記載のビニルホスホン酸系化合物なども挙げることができる。
また、ある場合には、特開昭61−22048号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。
Other examples include reacting polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191 and JP-B-52-30490. And polyfunctional acrylates and methacrylates such as epoxy acrylates. In addition, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, JP-B-1-40336, and vinylphosphonic acid-based compounds described in JP-A-2-25493 are also included. Can be mentioned.
In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

これらの付加重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量などの使用方法の詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。
感度の点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基(例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。
また、画像記録層中の他の成分(例えばバインダーポリマー、開始剤、着色剤など)との相溶性、分散性に対しても、付加重合化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、基板や後述の保護層などの密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。
About these addition polymerizable compounds, the details of the method of use such as the structure, single use or combination, addition amount, etc. can be arbitrarily set according to the performance design of the final lithographic printing plate precursor. For example, it is selected from the following viewpoints.
From the viewpoint of sensitivity, a structure having a large unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the image area, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable. Further, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrenic compound, vinyl ether type). A method of adjusting both sensitivity and strength by using a compound) is also effective.
Further, the selection and use method of the addition polymerization compound is also an important factor for the compatibility and dispersibility with other components (for example, binder polymer, initiator, colorant, etc.) in the image recording layer. In some cases, the compatibility can be improved by using a low-purity compound or by using two or more kinds in combination. In addition, a specific structure may be selected for the purpose of improving the adhesion of the substrate and the protective layer described later.

上記重合性化合物は、画像記録層を構成する全固形分に対して、好ましくは5〜48質量%、更に好ましくは10〜45質量%の範囲で使用される。また、これらは単独で用いても2種以上併用してもよい。
そのほか、上記重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性などの観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、更に場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施しうる。
The polymerizable compound is preferably used in the range of 5 to 48% by mass, more preferably 10 to 45% by mass, based on the total solid content constituting the image recording layer. These may be used alone or in combination of two or more.
In addition, the use method of the above-mentioned polymerizable compound can be arbitrarily selected from the viewpoint of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging, refractive index change, surface adhesiveness, etc. Depending on the case, a layer configuration and coating method such as undercoating and overcoating can be performed.

(D)バインダーポリマー
本発明の画像記録層には、画像記録層の皮膜強度を向上させるため、バインダーポリマーを用いる。用いられるバインダーポリマーとしては、従来公知のものを制限なく使用でき、皮膜性を有するポリマーが好ましい。このようなバインダーポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、ノボラック型フェノール系樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴムが挙げられる。
バインダーポリマーは、画像部の皮膜強度を向上するために、架橋性を有していてもよい。バインダーポリマーに架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合などの架橋性官能基を高分子の主鎖中または側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により導入してもよい。
分子の主鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、ポリ−1,4−ブタジエン、ポリ−1,4−イソプレンなどが挙げられる。
分子の側鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、アクリル酸またはメタクリル酸のエステルまたはアミドのポリマーであって、エステルまたはアミドの残基(−COORまたは−CONHR)のRがエチレン性不飽和結合を有するポリマーを挙げることができる。
(D) Binder polymer In the image recording layer of the present invention, a binder polymer is used in order to improve the film strength of the image recording layer. As the binder polymer to be used, a conventionally known one can be used without limitation, and a polymer having a film property is preferable. Examples of such binder polymers include acrylic resins, polyvinyl acetal resins, polyurethane resins, polyurea resins, polyimide resins, polyamide resins, epoxy resins, methacrylic resins, polystyrene resins, novolac phenolic resins, polyester resins, and synthetic rubbers. And natural rubber.
The binder polymer may have crosslinkability in order to improve the film strength of the image area. In order to give the binder polymer crosslinkability, a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond may be introduced into the main chain or side chain of the polymer. The crosslinkable functional group may be introduced by copolymerization.
Examples of the polymer having an ethylenically unsaturated bond in the main chain of the molecule include poly-1,4-butadiene and poly-1,4-isoprene.
Examples of polymers having an ethylenically unsaturated bond in the side chain of the molecule are polymers of esters or amides of acrylic acid or methacrylic acid, where R of the ester or amide residue (—COOR or —CONHR) is R Mention may be made of polymers having an ethylenically unsaturated bond.

エチレン性不飽和結合を有する残基(上記R)の例としては、−(CH2n CR1 =CR23 、−(CH2 O)n CH2 CR1 =CR23 、−(CH2 CH2 O)n CH2 CR1 =CR23 、−(CH2n NH−CO−O−CH2 CR1 =CR23 、−(CH2n −O−CO−CR1 =CR23 および−(CH2 CH2 O)2 −X(式中、R1 〜R3 はそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、アルコキシ基もしくはアリールオキシ基を表し、R1 とR2 またはR3 とは互いに結合して環を形成してもよい。nは、1〜10の整数を表す。Xは、ジシクロペンタジエニル残基を表す。)を挙げることができる。
エステル残基のRの具体例としては、−CH2 CH=CH2 (特公平7−21633号公報に記載されている。)、−CH2 CH2 O−CH2 CH=CH2 、−CH2 C(CH3 )=CH2 、−CH2 CH=CH−C65 、−CH2 CH2 OCOCH=CH−C65 、−CH2 CH2 −NHCOO−CH2 CH=CH2 および−CH2 CH2 O−X(式中、Xはジシクロペンタジエニル残基を表す。)が挙げられる。
アミド残基のRの具体例としては、−CH2 CH=CH2 、−CH2 CH2 −Y(式中、Yはシクロヘキセン残基を表す。)、−CH2 CH2 −OCO−CH=CH2 が挙げられる。
Examples of the residue (the R) having an ethylenically unsaturated bond, - (CH 2) n CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n NH-CO-O-CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n -O-CO —CR 1 ═CR 2 R 3 and — (CH 2 CH 2 O) 2 —X (wherein R 1 to R 3 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, Represents an alkoxy group or an aryloxy group, and R 1 and R 2 or R 3 may combine with each other to form a ring, n represents an integer of 1 to 10. X represents dicyclopentadienyl. Represents a residue).
Specific examples of R in the ester residue, -CH 2 CH = CH 2, ( described in JP Kokoku 7-21633.) - CH 2 CH 2 O-CH 2 CH = CH 2, -CH 2 C (CH 3) = CH 2, -CH 2 CH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 OCOCH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 -NHCOO-CH 2 CH = CH 2 And —CH 2 CH 2 O—X (wherein X represents a dicyclopentadienyl residue).
Specific examples of R of the amide residue include —CH 2 CH═CH 2 , —CH 2 CH 2 —Y (wherein Y represents a cyclohexene residue), —CH 2 CH 2 —OCO—CH═. CH 2 may be mentioned.

架橋性を有するバインダーポリマーは、例えば、その架橋性官能基にフリーラジカル(重合開始ラジカルまたは重合性化合物の重合過程の生長ラジカル)が付加し、ポリマー間で直接にまたは重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。または、ポリマー中の原子(例えば、官能性架橋基に隣接する炭素原子上の水素原子)がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、それが互いに結合することによって、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。   In the case of a binder polymer having crosslinkability, for example, free radicals (polymerization initiation radicals or growth radicals in the polymerization process of a polymerizable compound) are added to the crosslinkable functional group, and a polymerization chain of a polymerizable compound is formed directly between polymers. Through addition polymerization, a cross-link is formed between the polymer molecules and cured. Alternatively, atoms in the polymer (eg, hydrogen atoms on carbon atoms adjacent to the functional bridging group) are abstracted by free radicals to form polymer radicals that are bonded to each other so that crosslinking between the polymer molecules occurs. Forms and cures.

バインダーポリマー中の架橋性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、バインダーポリマー1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、より好ましくは1.0〜7.0mmol、最も好ましくは2.0〜5.5mmolである。この範囲で、良好な感度と良好な保存安定性が得られる。   The content of the crosslinkable group in the binder polymer (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.1 to 10.0 mmol, more preferably 1.0, per 1 g of the binder polymer. -7.0 mmol, most preferably 2.0-5.5 mmol. Within this range, good sensitivity and good storage stability can be obtained.

本発明においては、上記のバインダーポリマーほか、下記の親水性バインダーポリマーを用することもできる。親水性バインダーポリマーは、画像記録層への湿し水の浸透性を高めて機上現像性を向上させるほか、後述の微粒子ポリマーおよび/またはマイクロカプセルの分散安定化などに有効である。   In the present invention, in addition to the above binder polymer, the following hydrophilic binder polymers can also be used. The hydrophilic binder polymer is effective for improving the on-press developability by increasing the permeability of the fountain solution into the image recording layer, and for stabilizing the dispersion of the fine particle polymer and / or microcapsules described below.

親水性バインダーポリマーとしては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、ポリオキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基、スルホン酸基、リン酸基などの親水性基を有するものが好適に挙げられる。   Examples of hydrophilic binder polymers include hydroxy groups, carboxyl groups, carboxylate groups, hydroxyethyl groups, polyoxyethyl groups, hydroxypropyl groups, polyoxypropyl groups, amino groups, aminoethyl groups, aminopropyl groups, ammonium groups. And those having a hydrophilic group such as an amide group, a carboxymethyl group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group.

具体例として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、デンプン誘導体、カルボキシメチルセルロースおよびそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類およびそれらの塩、ポリメタクリル酸類およびそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシピロピルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマーおよびコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、加水分解度が60モル%以上、好ましくは80モル%以上である加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマーおよびポリマー、N−メチロールアクリルアミドのホモポリマーおよびコポリマー、ポリビニルピロリドン、アルコール可溶性ナイロン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンとのポリエーテルなどが挙げられる。   Specific examples include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and its sodium salt, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids and their salts, Polymethacrylic acids and their salts, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxyethyl acrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl methacrylate, homopolymers and copolymers of hydroxypropyl acrylate, homopolymers of hydroxybutyl methacrylate Polymers and copolymers, homopolymers and copolymers of hydroxybutyl acrylate Polyethylene glycols, hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, acrylamide homopolymers and copolymers having a hydrolysis degree of 60 mol% or more, preferably 80 mol% or more Methacrylamide homopolymers and polymers, N-methylolacrylamide homopolymers and copolymers, polyvinylpyrrolidone, alcohol soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, etc. Is mentioned.

バインダーポリマーは、質量平均分子量が5000以上であるのが好ましく、1万〜30万であるのがより好ましく、また、数平均分子量が1000以上であるのが好ましく、2000〜25万であるのがより好ましい。多分散度(質量平均分子量/数平均分子量)は、1.1〜10であるのが好ましい。   The binder polymer preferably has a mass average molecular weight of 5,000 or more, more preferably 10,000 to 300,000, and a number average molecular weight of 1,000 or more, preferably 2000 to 250,000. More preferred. The polydispersity (mass average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 10.

バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全固形分に対して、5〜90質量%が好ましく、5〜80質量%であるのがより好ましく、10〜70質量%であるのがさらに好ましいい。この範囲で、良好な画像部の強度と画像形成性が得られる。
また、重合性化合物とバインダーポリマーは、質量比で0.5/1〜4/1となる量で用いるのが好ましい。
The content of the binder polymer is preferably 5 to 90% by mass, more preferably 5 to 80% by mass, and still more preferably 10 to 70% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer. Good. Within this range, good image area strength and image formability can be obtained.
Moreover, it is preferable to use a polymeric compound and a binder polymer in the quantity used as 0.5 / 1-4/1 by mass ratio.

(その他の画像記録層成分)
本発明の画像記録層には、さらに、必要に応じて種々の添加剤を含有させることができる。以下、それらについて説明する。
(Other image recording layer components)
The image recording layer of the present invention can further contain various additives as required. These will be described below.

(界面活性剤)
本発明において、画像記録層には、印刷開始時の機上現像性を促進させるため、および、塗布面状を向上させるために界面活性剤を用いるのが好ましい。界面活性剤としては、ノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、フッ素系界面活性剤等が挙げられる。界面活性剤は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(Surfactant)
In the present invention, it is preferable to use a surfactant in the image recording layer in order to promote on-press developability at the start of printing and to improve the coated surface state. Examples of the surfactant include nonionic surfactants, anionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, and fluorosurfactants. Surfactant may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

本発明に用いてもよいノニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、ショ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシド、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールの共重合体が挙げられる。   The nonionic surfactant that may be used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known nonionic surfactants can be used. For example, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan fatty acid partial esters, pentaerythritol Fatty acid partial esters, propylene glycol mono fatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters, Polyoxyethylenated castor oil, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides, N N- bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid ester, trialkylamine oxide, polyethylene glycol, copolymers of polyethylene glycol and polypropylene glycol.

本発明に用いてもよいアニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム塩、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類が挙げられる。   The anionic surfactant that may be used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known anionic surfactants can be used. For example, fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkane sulfonates, alkane sulfonates, dialkyl sulfosuccinate esters, linear alkyl benzene sulfonates, branched alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl phenoxy poly Oxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium salt, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated beef oil, fatty acid alkyl esters Sulfates, alkyl sulfates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alcohols Ruphenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphates, styrene / maleic anhydride Examples thereof include partial saponification products of polymers, partial saponification products of olefin / maleic anhydride copolymers, and naphthalene sulfonate formalin condensates.

本発明に用いてもよいカチオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。
本発明に用いてもよい両性界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミタゾリン類が挙げられる。
The cationic surfactant that may be used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known cationic surfactants can be used. Examples thereof include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives.
The amphoteric surfactant that may be used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known amphoteric surfactants can be used. Examples thereof include carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfuric esters, and imidazolines.

なお、上記界面活性剤の中で、「ポリオキシエチレン」とあるものは、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン等の「ポリオキシアルキレン」に読み替えることもでき、本発明においては、それらの界面活性剤も用いることができる。   Of the above surfactants, the term “polyoxyethylene” can be read as “polyoxyalkylene” such as polyoxymethylene, polyoxypropylene, polyoxybutylene, etc. These surfactants can also be used.

更に好ましい界面活性剤としては、分子内にパーフルオロアルキル基を含有するフッ素系界面活性剤が挙げられる。このようなフッ素系界面活性剤としては、例えば、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステル等のアニオン型;パーフルオロアルキルベタイン等の両性型;パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩等のカチオン型;パーフルオロアルキルアミンオキサイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基および親水性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基を含有するウレタン等のノニオン型が挙げられる。また、特開昭62−170950号、同62−226143号および同60−168144号の公報に記載されているフッ素系界面活性剤も好適に挙げられる。   More preferable surfactants include fluorine-based surfactants containing a perfluoroalkyl group in the molecule. Examples of such fluorosurfactants include anionic types such as perfluoroalkyl carboxylates, perfluoroalkyl sulfonates, and perfluoroalkyl phosphates; amphoteric types such as perfluoroalkyl betaines; Cation type such as trimethylammonium salt; perfluoroalkylamine oxide, perfluoroalkylethylene oxide adduct, oligomer containing perfluoroalkyl group and hydrophilic group, oligomer containing perfluoroalkyl group and lipophilic group, perfluoroalkyl Nonionic types such as an oligomer containing a group, a hydrophilic group and a lipophilic group, and a urethane containing a perfluoroalkyl group and a lipophilic group. Also preferred are the fluorosurfactants described in JP-A-62-170950, JP-A-62-226143 and JP-A-60-168144.

界面活性剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。
界面活性剤の含有量は、画像記録層の全固形分に対して、0.001〜10質量%が好ましい。
Surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types.
The content of the surfactant is preferably 0.001 to 10% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer.

(着色剤)
本発明では、更に必要に応じてこれら以外に種々の化合物を添加してもよい。例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することができる。具体的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)等、および特開昭62−293247号公報に記載されている染料を挙げることができる。また、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタン等の顔料も好適に用いることができる。
(Coloring agent)
In the present invention, various compounds other than these may be added as necessary. For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as an image colorant. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (orientated chemistry) Kogyo Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI522015), etc., and JP-A-62-2 And dyes described in Japanese Patent No. 293247. Also, pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, titanium oxide, etc. can be suitably used.

これらの着色剤は、画像形成後、画像部と非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好ましい。なお、添加量は、画像記録材料全固形分に対し、0.01〜10質量%の割合が好ましい。   These colorants are preferably added since it is easy to distinguish an image area from a non-image area after image formation. The amount added is preferably 0.01 to 10% by mass with respect to the total solid content of the image recording material.

(焼き出し剤)
本発明の画像記録層には、焼き出し画像生成のため、酸またはラジカルによって変色する化合物を添加することができる。このような化合物としては、例えばジフェニルメタン系、トリフェニルメタン系、チアジン系、オキサジン系、キサンテン系、アンスラキノン系、イミノキノン系、アゾ系、アゾメチン系等の各種色素が有効に用いられる。
(Bake-out agent)
In the image recording layer of the present invention, a compound that changes color by an acid or a radical can be added to produce a printout image. As such a compound, for example, various dyes such as diphenylmethane, triphenylmethane, thiazine, oxazine, xanthene, anthraquinone, iminoquinone, azo, and azomethine are effectively used.

具体例としては、ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシックフクシン、メチルバイオレット2B、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニルイエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、パラメチルレッド、コンゴーフレッド、ベンゾプルプリン4B、α−ナフチルレッド、ナイルブルー2B、ナイルブルーA、メチルバイオレット、マラカイトグリーン、パラフクシン、ビクトリアピュアブルーBOH[保土ケ谷化学(株)製]、オイルブルー#603[オリエント化学工業(株)製]、オイルピンク#312[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッド5B[オリエント化学工業(株)製]、オイルスカーレット#308[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッドOG[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッドRR[オリエント化学工業(株)製]、オイルグリーン#502[オリエント化学工業(株)製]、スピロンレッドBEHスペシャル[保土ケ谷化学工業(株)製]、m−クレゾールパープル、クレゾールレッド、ローダミンB、ローダミン6G、スルホローダミンB、オーラミン、4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、2−カルボキシアニリノ−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、2−カルボキシステアリルアミノ−4−p−N,N−ビス(ヒドロキシエチル)アミノ−フェニルイミノナフトキノン、1−フェニル−3−メチル−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン、1−β−ナフチル−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン等の染料やp,p',p"−ヘキサメチルトリアミノトリフェニルメタン(ロイコクリスタルバイオレット)、Pergascript Blue SRB(チバガイギー社製)等のロイコ染料が挙げられる。   Specific examples include brilliant green, ethyl violet, methyl green, crystal violet, basic fuchsin, methyl violet 2B, quinaldine red, rose bengal, methanyl yellow, thymol sulfophthalein, xylenol blue, methyl orange, paramethyl red, Congo Fred, Benzopurpurin 4B, α-Naphthyl Red, Nile Blue 2B, Nile Blue A, Methyl Violet, Malachite Green, Parafuchsin, Victoria Pure Blue BOH [manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.], Oil Blue # 603 [Orient Chemical Industry Co., Ltd.], Oil Pink # 312 [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Red 5B [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Scarlet # 308 [Orient Gaku Kogyo Co., Ltd.], Oil Red OG [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Red RR [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Green # 502 [Orient Chemical Co., Ltd.], Spiron Red BEH Special [made by Hodogaya Chemical Co., Ltd.], m-cresol purple, cresol red, rhodamine B, rhodamine 6G, sulforhodamine B, auramine, 4-p-diethylaminophenyliminonaphthoquinone, 2-carboxyanilino-4-p- Diethylaminophenyliminonaphthoquinone, 2-carboxystearylamino-4-pN, N-bis (hydroxyethyl) amino-phenyliminonaphthoquinone, 1-phenyl-3-methyl-4-p-diethylaminophenylimino-5-pyrazolone, 1-β-naphthyl-4- - dyes and p of diethylamino phenyl imino-5-pyrazolone, p ', p "- hexamethyl triamnotriphenylmethane (leuco crystal violet), and a leuco dye such as Pergascript Blue SRB (manufactured by Ciba-Geigy).

上記の他に、感熱紙や感圧紙用の素材として知られているロイコ染料も好適なものとして挙げられる。具体例としては、クリスタルバイオレットラクトン、マラカイトグリーンラクトン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、2−(N−フェニル−N−メチルアミノ)−6−(N−p−トリル−N−エチル)アミノ−フルオラン、2−アニリノ−3−メチル−6−(N−エチル−p−トルイジノ)フルオラン、3,6−ジメトキシフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−5−メチル−7−(N,N−ジベンジルアミノ)−フルオラン、3−(N−シクロヘキシル−N−メチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチル−7−キシリジノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチルー7−クロロフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メトキシ−7−アミノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−(4−クロロアニリノ)フルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−クロロフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−ベンジルアミノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7,8−ベンゾフルオラン、3−(N,N−ジブチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジブチルアミノ)−6−メチル−7−キシリジノフルオラン、3−ピペリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ピロリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3,3−ビス(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、3,3−ビス(1−n−ブチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、3,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−6−ジメチルアミノフタリド、3−(4−ジエチルアミノ−2−エトキシフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)−4−ザフタリド、3−(4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、などが挙げられる。   In addition to the above, a leuco dye known as a material for thermal paper or pressure-sensitive paper is also suitable. Specific examples include crystal violet lactone, malachite green lactone, benzoylleucomethylene blue, 2- (N-phenyl-N-methylamino) -6- (Np-tolyl-N-ethyl) amino-fluorane, 2-anilino. -3-methyl-6- (N-ethyl-p-toluidino) fluorane, 3,6-dimethoxyfluorane, 3- (N, N-diethylamino) -5-methyl-7- (N, N-dibenzylamino) ) -Fluorane, 3- (N-cyclohexyl-N-methylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3 -(N, N-diethylamino) -6-methyl-7-xylidinofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methyl-7-chloro Fluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methoxy-7-aminofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7- (4-chloroanilino) fluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7-chlorofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7-benzylaminofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7,8-benzofluorane, 3- (N, N-dibutyl) Amino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3- (N, N-dibutylamino) -6-methyl-7-xylidinofluorane, 3-piperidino-6-methyl-7-anilinofluorane 3-pyrrolidino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3,3-bis (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) phthalide, 3,3-bis (1-n-butyl- -Methylindol-3-yl) phthalide, 3,3-bis (p-dimethylaminophenyl) -6-dimethylaminophthalide, 3- (4-diethylamino-2-ethoxyphenyl) -3- (1-ethyl- 2-methylindol-3-yl) -4-zaphthalide, 3- (4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) phthalide, and the like.

酸またはラジカルによって変色する染料の好適な添加量は、それぞれ、画像記録層固形分に対して0.01〜15質量%の割合である。   A suitable addition amount of the dye that changes color by acid or radical is 0.01 to 15% by mass relative to the solid content of the image recording layer.

(重合禁止剤)
本発明の画像記録層には、画像記録層の製造中または保存中において、ラジカル重合性化合物の不要な熱重合を防止するために、少量の熱重合防止剤を添加するのが好ましい。
熱重合防止剤としては、例えば、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩が好適に挙げられる。
熱重合防止剤の添加量は、画像記録層の全固形分に対して、約0.01〜約5質量%であるのが好ましい。
(Polymerization inhibitor)
In the image recording layer of the present invention, it is preferable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the radical polymerizable compound during the production or storage of the image recording layer.
Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t- (Butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum salt are preferred.
The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01 to about 5% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer.

(高級脂肪酸誘導体等)
本発明の画像記録層には、酸素による重合阻害を防止するために、ベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で画像記録層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、画像記録層の全固形分に対して、約0.1〜約10質量%であるのが好ましい。
(Higher fatty acid derivatives, etc.)
In order to prevent polymerization inhibition by oxygen, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide is added to the image recording layer of the present invention, and the surface of the image recording layer is dried during the coating process. It may be unevenly distributed. The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably about 0.1 to about 10% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer.

(可塑剤)
本発明の画像記録層は、機上現像性を向上させるために、可塑剤を含有してもよい。
可塑剤としては、例えば、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジオクチルフタレート、オクチルカプリルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジアリルフタレート等のフタル酸エステル類;ジメチルグリコールフタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、トリエチレングリコールジカプリル酸エステル等のグリコールエステル類;トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類;ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレエート等の脂肪族二塩基酸エステル類;ポリグリシジルメタクリレート、クエン酸トリエチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチル等が好適に挙げられる。
可塑剤の含有量は、画像記録層の全固形分に対して、約30質量%以下であるのが好ましい。
(Plasticizer)
The image recording layer of the present invention may contain a plasticizer in order to improve the on-press developability.
Examples of the plasticizer include phthalates such as dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diisobutyl phthalate, dioctyl phthalate, octyl capryl phthalate, dicyclohexyl phthalate, ditridecyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diisodecyl phthalate, diallyl phthalate; Glycol esters such as glycol phthalate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalyl ethyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, triethylene glycol dicaprylate; Phosphate esters such as tricresyl phosphate and triphenyl phosphate Diisobutyl adipate, dioctyl adipate, dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, dioct Ruazereto, aliphatic dibasic acid esters such as dibutyl maleate; polyglycidyl methacrylate, triethyl citrate, glycerin triacetyl ester, butyl laurate in.
The plasticizer content is preferably about 30% by mass or less based on the total solid content of the image recording layer.

(無機微粒子)
本発明の画像記録層は、画像部の硬化皮膜強度向上および非画像部の機上現像性向上のために、無機微粒子を含有してもよい。
無機微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化チタン、炭酸マグネシウム、アルギン酸カルシウムまたはこれらの混合物が好適に挙げられる。これらは光熱変換性でなくても、皮膜の強化、表面粗面化による界面接着性の強化等に用いることができる。
無機微粒子は、平均粒径が5nm〜10μmであるのが好ましく、0.5〜3μmであるのがより好ましい。上記範囲内であると、画像記録層中に安定に分散して、画像記録層の膜強度を十分に保持し、印刷時の汚れを生じにくい親水性に優れる非画像部を形成することができる。
上述したような無機微粒子は、コロイダルシリカ分散物等の市販品として容易に入手することができる。
無機微粒子の含有量は、画像記録層の全固形分に対して、20質量%以下であるのが好ましく、10質量%以下であるのがより好ましい。
(Inorganic fine particles)
The image recording layer of the present invention may contain inorganic fine particles for the purpose of improving the strength of the cured film in the image area and improving the on-press developability of the non-image area.
As the inorganic fine particles, for example, silica, alumina, magnesium oxide, titanium oxide, magnesium carbonate, calcium alginate or a mixture thereof can be preferably mentioned. Even if they are not photothermally convertible, they can be used for strengthening the film, enhancing interfacial adhesion by surface roughening, and the like.
The inorganic fine particles preferably have an average particle size of 5 nm to 10 μm, and more preferably 0.5 to 3 μm. Within the above range, it is possible to form a non-image portion excellent in hydrophilicity that is stably dispersed in the image recording layer, sufficiently retains the film strength of the image recording layer, and hardly causes stains during printing. .
The inorganic fine particles as described above can be easily obtained as a commercial product such as a colloidal silica dispersion.
The content of the inorganic fine particles is preferably 20% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less, based on the total solid content of the image recording layer.

(低分子親水性化合物)
本発明の画像記録層は、機上現像性向上のため、親水性低分子化合物を含有してもよい。親水性低分子化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類およびそのエーテルまたはエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール等のポリヒドロキシ類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミンモノエタノールアミン等の有機アミン類およびその塩、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類およびその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類およびその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類およびその塩等が上げられる。
(Low molecular hydrophilic compound)
The image recording layer of the present invention may contain a hydrophilic low molecular weight compound for improving on-press developability. Examples of the hydrophilic low-molecular compound include water-soluble organic compounds such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol and the like, and ether or ester derivatives thereof, glycerin, Polyhydroxys such as pentaerythritol, organic amines such as triethanolamine and diethanolamine monoethanolamine and salts thereof, organic sulfonic acids such as toluenesulfonic acid and benzenesulfonic acid and salts thereof, organic phosphonic acids such as phenylphosphonic acid and the like Examples thereof include organic carboxylic acids such as salts thereof, tartaric acid, oxalic acid, citric acid, malic acid, lactic acid, gluconic acid and amino acids, and salts thereof.

(E)微粒子ポリマーおよび/またはマイクロカプセル
本発明では、上記の成分を画像記録層に含有させる場合、上記の成分を必要に応じて微粒子ポリマーとしてまたはマイクロカプセルに内包させて、好ましくは親水性のバインダー中に分散させることができる。内包される成分は任意の比率で、一部を微粒子としまたはマイクロカプセルに内包させ、残りの成分を外に含有させることもできる。マイクロカプセルに内包させるより好ましい成分としては、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、(A)光吸収剤、焼き出し剤などが挙げられる。マイクロカプセルの含有により、画像記録層は機上現像性が向上する。
(E) Fine particle polymer and / or microcapsule In the present invention, when the above component is contained in an image recording layer, the above component is preferably incorporated as a fine particle polymer or in a microcapsule, preferably hydrophilic. It can be dispersed in a binder. The components to be encapsulated can be in any proportion, partly in the form of fine particles or encapsulated in microcapsules, and the remaining components can be incorporated outside. More preferable components to be encapsulated in the microcapsule include (B) a polymerization initiator, (C) a polymerizable compound, (A) a light absorber, and a bake-out agent. By including the microcapsules, the on-press developability of the image recording layer is improved.

疎水性物質を内包するマイクロカプセルの製造方法としては、カプセル膜を作る界面重合法、in−situ法、コンプレックスコアセルベート法、有機溶媒系からの相分離法等の公知の方法を用いることができる。具体的には、例えば、特開2001−293971号公報の段落番号[0036]に記載されている方法等を用いることができる。
例えば上記成分をマイクロカプセル化するマイクロカプセルの製造方法としては、米国特許第2800457号、同第2800458号明細書にみられるコアセルベーションを利用した方法、米国特許第3287154号の各明細書、特公昭38−19574号、同42−446号の各公報にみられる界面重合法による方法、米国特許第3418250号、同第3660304号明細書にみられるポリマーの析出による方法、米国特許第3796669号明細書に見られるイソシアナートポリオール壁材料を用いる方法、米国特許第3914511号明細書に見られるイソシアナート壁材料を用いる方法、米国特許第4001140号、同第4087376号、同第4089802号の各明細書にみられる尿素―ホルムアルデヒド系または尿素ホルムアルデヒド−レゾルシノール系壁形成材料を用いる方法、米国特許第4025445号明細書にみられるメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ヒドロキシセルロース等の壁材を用いる方法、特公昭36−9163号、同51−9079号の各公報にみられるモノマー重合によるin situ法、英国特許第930422号、米国特許第3111407号明細書にみられるスプレードライング法、英国特許第952807号、同第967074号の各明細書にみられる電解分散冷却法などがあるが、これらに限定されるものではない。
As a method for producing a microcapsule encapsulating a hydrophobic substance, a known method such as an interfacial polymerization method for forming a capsule membrane, an in-situ method, a complex coacervate method, or a phase separation method from an organic solvent system can be used. Specifically, for example, the method described in paragraph [0036] of JP-A-2001-293971 can be used.
For example, as a method of producing a microcapsule for microencapsulating the above-described components, a method using coacervation as described in US Pat. Nos. 2,800,487 and 2,800,498, each specification of US Pat. No. 3,287,154, A method by an interfacial polymerization method as described in JP-B-38-19574 and 42-446, a method by precipitation of a polymer as described in US Pat. Nos. 3,418,250 and 3,660,304, US Pat. No. 3,796,669 US Patent No. 3,914,511, US Pat. No. 3,914,511, US Pat. No. 3,914,511, US Pat. No. 4,087,376, US Pat. No. 4,089,802. In urea-formaldehyde or urine A method using a formaldehyde-resorcinol-based wall forming material, a method using a wall material such as melamine-formaldehyde resin and hydroxycellulose found in US Pat. No. 4,025,445, Japanese Patent Publication Nos. 36-9163 and 51-9079 In-situ method by monomer polymerization found in the publication, spraying method found in British Patent No. 930422, US Pat. No. 3,111,407, electrolytic dispersion seen in British Patent Nos. 952807 and 967074 Although there is a cooling method, it is not limited to these.

本発明に用いられる好ましいマイクロカプセル壁は、3次元架橋を有し、溶剤によって膨潤する性質を有するものである。このような観点から、マイクロカプセルの壁材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、およびこれらの混合物が好ましく、特に、ポリウレアおよびポリウレタンが好ましい。また、マイクロカプセル壁に、上記のバインダーポリマーに導入可能なエチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を有する化合物を導入してもよい。   A preferable microcapsule wall used in the present invention has a three-dimensional cross-linking and has a property of swelling with a solvent. From such a viewpoint, the wall material of the microcapsule is preferably polyurea, polyurethane, polyester, polycarbonate, polyamide, and a mixture thereof, and particularly preferably polyurea and polyurethane. Moreover, you may introduce | transduce into the microcapsule wall the compound which has crosslinkable functional groups, such as an ethylenically unsaturated bond which can be introduce | transduced into said binder polymer.

上記のマイクロカプセルの平均粒径は、0.01〜20μmが好ましい。0.01〜5.0μmがさらに好ましく、0.10〜3.0μmが特に好ましい。この範囲内であると良好な解像度が得られ、画像記録層組成物の経時安定性が得られる。   The average particle size of the microcapsules is preferably 0.01 to 20 μm. 0.01-5.0 micrometers is further more preferable, and 0.10-3.0 micrometers is especially preferable. Within this range, good resolution can be obtained and the temporal stability of the image recording layer composition can be obtained.

疎水性化前駆体として、例えば、エポキシ基および/またはビニルオキシ基を含有する熱反応性官能基を含有する化合物(微粒子ポリマーを含む。)を用いる場合には、熱によりカチオンを発生する化合物(カチオン発生剤)のうち、下記式(I)〜(IV)で表される化合物を用いるのが好ましい。   In the case of using a compound (including fine particle polymer) containing a thermoreactive functional group containing an epoxy group and / or a vinyloxy group as the hydrophobizing precursor, for example, a compound that generates a cation by heat (cation Among the generators, it is preferable to use compounds represented by the following formulas (I) to (IV).

Figure 2006137100
Figure 2006137100

上記式(I)中、Wは、−C(−R2)=または−N=を表す。ここで、R2は、置換基を有していてもよい炭素数20以下の炭化水素基を表す。上記式(I)〜(IV)中、R1、R4およびR5は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数20以下の炭化水素基を表す。R3は、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数10以下の炭化水素基または炭素数10以下のアルコキシ基を表す。Ar1およびAr2は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表す。R6は、置換基を有していてもよい炭素数20以下の2価の炭化水素基を表す。nは、0〜4の整数を表す。R1、R2、R4およびR5は、それぞれ炭素数1〜14の炭化水素基であるのが好ましい。 In the above formula (I), W represents —C (—R 2 ) ═ or —N═. Wherein, R 2 represents a hydrocarbon group which may having 20 or less carbon atoms have a substituent. In the above formulas (I) to (IV), R 1 , R 4 and R 5 each independently represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. R 3 represents a halogen atom, an optionally substituted hydrocarbon group having 10 or less carbon atoms or an alkoxy group having 10 or less carbon atoms. Ar 1 and Ar 2 each independently represents an aryl group having 20 or less carbon atoms, which may have a substituent. R 6 represents a divalent hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. n represents an integer of 0 to 4. R 1 , R 2 , R 4 and R 5 are each preferably a hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms.

上記式(I)〜(IV)で表されるカチオン発生剤の好ましい具体的な態様としては、特開2001−142230号公報の段落番号[0197]〜[0222]に記載されている化合物と同様のものが挙げられる。   Preferred specific embodiments of the cation generator represented by the above formulas (I) to (IV) are the same as the compounds described in paragraph numbers [0197] to [0222] of JP-A No. 2001-142230. Can be mentioned.

また、組み合わされるカチオン発生剤の好ましい例として、下記式(V)〜(VII)で表されるヨードニウム塩、スルホニウム塩およびジアゾニウム塩のいずれかの構造式を有するものも好適に挙げることができる。   Moreover, what has any structural formula of the iodonium salt represented by following formula (V)-(VII), a sulfonium salt, and a diazonium salt as a preferable example of the cation generator combined can also be mentioned suitably.

Figure 2006137100
Figure 2006137100

上記式(V)〜(VII)中、X-は、ハロゲン化物イオン、ClO4 -、PF6 -、SbF6 -、BF4 -またはR7SO3 -を表す。ここで、R7は、置換基を有していてもよい炭素数20以下の炭化水素基を表す。Ar3およびAr4は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数20以下のアリール基を表す。R8、R9およびR10は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数18以下の炭化水素基を表す。このようなオニウム塩としては、例えば、特開平10−39509号公報の段落番号[0010]〜[0035]に記載されている化合物が挙げられる。 In the above formulas (V) to (VII), X represents a halide ion, ClO 4 , PF 6 , SbF 6 , BF 4 or R 7 SO 3 . Here, R 7 represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Ar 3 and Ar 4 each independently represents an aryl group having 20 or less carbon atoms, which may have a substituent. R 8 , R 9 and R 10 each independently represents a hydrocarbon group having 18 or less carbon atoms which may have a substituent. Examples of such onium salts include compounds described in paragraph numbers [0010] to [0035] of JP-A-10-39509.

また、トリハロゲンメチル基含有化合物を用いることもできる。好ましいトリハロゲンメチル基含有化合物としては、例えば、特開2002−36745号公報の段落番号[0080]に記載されている化合物例(A−1)〜(A−9)が挙げられる。   A trihalogenmethyl group-containing compound can also be used. Preferable trihalogenmethyl group-containing compounds include, for example, compound examples (A-1) to (A-9) described in paragraph [0080] of JP-A-2002-36745.

また、他の好ましい態様として、熱反応性官能基を有する微粒子ポリマーおよび/または熱反応性官能基を有する化合物を内包するマイクロカプセルが、熱反応性官能基として、エチレン性不飽和結合を含有する場合には、熱ラジカル発生剤として、オニウム塩と組み合わせる態様が挙げられる。オニウム塩としては、具体的には、カチオン発生剤として、上記で例示したオニウム塩と同様の化合物等が挙げられる。   In another preferred embodiment, the microcapsule encapsulating a fine particle polymer having a thermoreactive functional group and / or a compound having a thermoreactive functional group contains an ethylenically unsaturated bond as the thermoreactive functional group. In some cases, the thermal radical generator may be combined with an onium salt. Specific examples of the onium salt include compounds similar to the onium salts exemplified above as the cation generator.

これらの化合物の含有量は、感熱層の全固形分に対して、1〜20質量%であるのが好ましく、3〜10質量%であるのがより好ましい。上記範囲内であると、機上現像性を損なわず、良好な反応開始効果または反応促進効果が得られる。   The content of these compounds is preferably 1 to 20% by mass and more preferably 3 to 10% by mass with respect to the total solid content of the heat-sensitive layer. If it is within the above range, good onset reaction reaction effect or reaction promoting effect can be obtained without impairing on-press developability.

疎水性化前駆体としては、その周囲が親水性であり、水に分散しうる自己水分散型微粒子を用いるのが特に好ましい。自己水分散型微粒子は、自己水分散性を有するので、感熱層を形成する際に用いられる感熱層用塗布物中で、容易に、かつ、均一に分散し、また、該塗布物を塗布し乾燥させた後の感熱層(乾膜)中でも、親水性樹脂マトリックス中で粒子同士が凝集することなく均一に分散して存在する。したがって、高精細な印刷が可能であり、かつ、乾膜の経時安定性に優れる。   As the hydrophobizing precursor, it is particularly preferable to use self-water-dispersed fine particles whose periphery is hydrophilic and can be dispersed in water. Since the self-water-dispersible fine particles have self-water dispersibility, they are easily and uniformly dispersed in the heat-sensitive layer coating used for forming the heat-sensitive layer. Even in the heat-sensitive layer (dry film) after being dried, the particles exist uniformly dispersed in the hydrophilic resin matrix without aggregation. Therefore, high-definition printing is possible and the dry film is stable over time.

自己水分散型微粒子としては、(1)分子内に親油性樹脂の構造部分と親水性基とを有する構造部分とを有する原料樹脂を、特開平3−221137号公報、特開平5−66600号公報等に記載されているような転相乳化法によって乳化剤や保護コロイドなしに水に分散させて得られる樹脂微粒子、(2)コア/シェル構造を有し、コア部は親油性樹脂、シェル部は親水性成分からなる樹脂で構成される微粒子、(3)疎水性物質を内包し、その表面を親水性の壁材料で保護して得られるマイクロカプセル微粒子が好適に挙げられる。これらの微粒子の周囲を親水性とする方法は、特に限定されないが、例えば、特開2001−315452号公報の段落番号[0052]〜[0056]に記載されているのと同様の方法が挙げられる。   As self-water-dispersible fine particles, (1) a raw material resin having a lipophilic resin structural portion and a structural portion having a hydrophilic group in the molecule is disclosed in JP-A-3-221137 and JP-A-5-66600. Resin fine particles obtained by dispersing in water without an emulsifier or protective colloid by a phase inversion emulsification method as described in publications, etc., (2) having a core / shell structure, the core part being a lipophilic resin, the shell part Suitable examples include fine particles composed of a resin composed of a hydrophilic component, and (3) microcapsule fine particles obtained by encapsulating a hydrophobic substance and protecting the surface with a hydrophilic wall material. A method for making the periphery of these fine particles hydrophilic is not particularly limited, and examples thereof include the same methods as described in paragraph numbers [0052] to [0056] of JP-A No. 2001-315552. .

上記微粒子ポリマーおよび/またはマイクロカプセルは、親水性樹脂からなるマトリックス中に分散させることで、機上現像性が良好となり、更に、感熱層自体の皮膜強度も向上する。また、機上現像性を阻害しない範囲で、親水性樹脂を架橋硬化させることもできる。
親水性樹脂としては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、ホスホノ基、アミノ基、カチオン性基、カルバモイル基、スルファモイル基等の親水基を有するものが好ましいが、乾燥塗膜としてフィルム性状を示すものであればいずれであってもよい。例えば、総合技術資料集「水溶性高分子・水分散型樹脂の最新加工・改質技術と用途開発」経営開発センター出版部(1981年刊)、長友新治編「新・水溶性ポリマーの応用と市場」(株)シーエムシー(1988年刊)等の成書に記載されている天然、半合成または合成のポリマーが挙げられる。
When the fine particle polymer and / or microcapsule is dispersed in a matrix made of a hydrophilic resin, the on-press developability is improved and the film strength of the heat-sensitive layer itself is also improved. In addition, the hydrophilic resin can be crosslinked and cured as long as the on-press developability is not impaired.
As the hydrophilic resin, for example, those having a hydrophilic group such as a hydroxy group, a carboxy group, a sulfo group, a phosphono group, an amino group, a cationic group, a carbamoyl group, and a sulfamoyl group are preferable. Any of those shown may be used. For example, the collection of comprehensive technical data “The latest processing and modification technology and application development of water-soluble polymer and water-dispersible resin”, Management Development Center Publishing Department (published in 1981), Shinji Nagatomo “New Water-soluble Polymer Application and Market” "Natural, semi-synthetic or synthetic polymers described in a book such as" CMC Co., Ltd. "(1988).

具体的には、例えば、デンプンおよびその誘導体、セルロースおよびその誘導体、アルギン酸塩、ペクチン、カラギーナン、アラビアゴム、プルラン、デキストラン、カゼイン、ゼラチン、マレイン酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、ポリアクリル酸およびその共重合体、ポリメタクリル酸およびその共重合体、ポリビニルベンゼンカルボン酸およびその共重合体、ポリビニルスルホン酸およびその共重合体、ポリビニルベンゼンスルホン酸およびその共重合体、2−スルホエチルメタクリレートのホモポリマーおよび共重合体、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸のホモポリマーおよび共重合体、ヒドロキシ基を有するモノマー(例えば、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールモノ(メタ)アクリレート、ポリオキシエチレン(メタ)アクリレート等)のホモポリマーおよび共重合体、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリビニルアルコール、加水分解度が少なくとも60質量%、好ましくは少なくとも80質量%の加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、アミド基を有するモノマー(例えば、(メタ)アクリルアミド、N−モノメチロール(メタ)アクリルアミド、2−(ユリア)−N−エチレンアクリレート、メトクロイルジシアンジアミド、ビニルピロリドン、ジアセトンアクリルアミド、ビニルスルホンアミド等)のホモポリマーおよび共重合体、アミノ基を有するモノマー(例えば、2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル(メタ)アクリレート、2−(N,N−ジエチルアミノ)エチル(メタ)アクリレート等)のホモポリマーおよび共重合体、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン、水溶性アルキド樹脂、ホルマリン系樹脂初期付加縮合物等が挙げられる。 Specifically, for example, starch and its derivatives, cellulose and its derivatives, alginate, pectin, carrageenan, gum arabic, pullulan, dextran, casein, gelatin, maleic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer Polymer, polyacrylic acid and its copolymer, polymethacrylic acid and its copolymer, polyvinylbenzenecarboxylic acid and its copolymer, polyvinylsulfonic acid and its copolymer, polyvinylbenzenesulfonic acid and its copolymer, Homopolymers and copolymers of 2-sulfoethyl methacrylate, homopolymers and copolymers of 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, monomers having a hydroxy group (for example, 2-hydroxyethyl vinyl ether, 2-hydroxyethyl (Meth) acrylate, trimethylolpropane mono (meth) acrylate, pentaerythritol mono (meth) acrylate, polyoxyethylene (meth) acrylate, etc.) homopolymers and copolymers, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyvinyl alcohol, hydrolysis Hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, monomers having an amide group (eg (meth) acrylamide, N-monomethylol (meth) acrylamide, 2- ( Urea) -N-ethylene acrylate, methacryloyl dicyandiamide, vinyl pyrrolidone, diacetone acrylamide, vinyl sulfonamide, etc.) homopolymer and copolymer , Homopolymers and copolymers of amino group-containing monomers (for example, 2- (N, N-dimethylamino) ethyl (meth) acrylate, 2- (N, N-diethylamino) ethyl (meth) acrylate, etc.), Polyethyleneimine, polyallylamine, water-soluble alkyd resin, formalin-based resin initial addition condensate and the like.

本発明に用いられる親水性樹脂において、分子中に含有されるカルボキシ基、スルホ基、ホスホ基等の酸性基は、塩(例えば、Li塩、Na塩、K塩等)を形成していてもよい。   In the hydrophilic resin used in the present invention, acidic groups such as carboxy group, sulfo group and phospho group contained in the molecule may form a salt (for example, Li salt, Na salt, K salt, etc.). Good.

親水性樹脂は、これらに限定されるものではなく、1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   A hydrophilic resin is not limited to these, It may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

親水性樹脂の含有量は、感熱層の全固形分に対して、2〜40質量%であるのが好ましく、5〜20質量%であるのがより好ましい。上記範囲内であると、良好な機上現像性が得られ、また、良好な皮膜強度が得られる。   The content of the hydrophilic resin is preferably 2 to 40% by mass and more preferably 5 to 20% by mass with respect to the total solid content of the heat-sensitive layer. Within the above range, good on-press developability can be obtained, and good film strength can be obtained.

また、上記親水性樹脂は、機上現像性を損なわない範囲で、架橋硬化させて用いてもよい。親水性樹脂を架橋硬化させる架橋剤としては、通常、架橋剤として用いられている化合物が挙げられる。具体的には、山下晋三、金子東助編「架橋剤ハンドブック」大成社刊(1981年)、高分子学会編「高分子データハンドブック、基礎縮」培風館(1986年)等に記載されている化合物を用いることができる。具体的には、例えば、特開2002−36745号公報の段落番号[0053]に記載されている化合物が挙げられる。
そのほかに、塩化アンモニウム、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤等の架橋触媒を併用することができる。
The hydrophilic resin may be used after being crosslinked and cured within a range that does not impair the on-press developability. Examples of the crosslinking agent that crosslinks and cures the hydrophilic resin include compounds that are usually used as crosslinking agents. Specifically, compounds described in Shinzo Yamashita, Tosuke Kaneko, “Cross-linking agent handbook” published by Taiseisha (1981), “Polymer Data Handbook, Basic Shrinkage” edited by Taiseisha (1986), etc. Can be used. Specific examples include the compounds described in paragraph No. [0053] of JP-A-2002-36745.
In addition, a crosslinking catalyst such as ammonium chloride, a silane coupling agent, a titanate coupling agent, or the like can be used in combination.

感熱層においては、親水性樹脂の中でも、ゾルゲル変換系結着樹脂を用いるのが好ましい。以下、詳細に説明する。感熱層に好適に用いられるゾルゲル変換系結着樹脂としては、多価元素から出ている結合基が酸素原子を介して網目状構造を形成し、かつ、多価元素が未結合のヒドロキシ基、アルコキシ基等も有していて、これらが混在した樹脂状構造となっている高分子体であって、ヒドロキシ基、アルコキシ基等が多い段階ではゾル状態であり、エーテル結合化が進行するのに伴って網目状の樹脂構造が強固となるような高分子体が挙げられる。   In the thermosensitive layer, it is preferable to use a sol-gel conversion binder resin among the hydrophilic resins. Details will be described below. As the sol-gel conversion binder resin suitably used for the heat-sensitive layer, a bonding group coming out of the polyvalent element forms a network structure through an oxygen atom, and the polyvalent element is an unbonded hydroxy group, It is a polymer that also has an alkoxy group, etc., and has a resinous structure in which these are mixed, and is in a sol state when there are many hydroxy groups, alkoxy groups, etc. Along with this, there is a polymer body in which the network-like resin structure becomes strong.

ゾルゲル変換系結着樹脂は、樹脂組織の親水性度が変化する性質に加えて、ヒドロキシ基等の一部が固体微粒子に結合することによって固体微粒子の表面を修飾し、親水性度を変化させる働きをも併せ持っている。ゾルゲル変換を行うヒドロキシ基、アルコキシ基等を有する多価元素は、アルミニウム、ケイ素、チタン、ジルコニウム等が挙げられる。中でも、ケイ素を用いるシロキサン結合によるゾルゲル変換系が好ましい。以下、シロキサン結合によるゾルゲル変換系について説明するが、アルミニウム、チタン、ジルコニウム等を用いるゾルゲル変換系は、下記の説明のケイ素をそれぞれの元素に置き換えて実施することができる。   In addition to the property that the degree of hydrophilicity of the resin structure changes, the sol-gel conversion binder resin modifies the surface of the solid fine particles by binding some of the hydroxy groups to the solid fine particles, thereby changing the hydrophilicity. It also has work. Examples of the polyvalent element having a hydroxy group, an alkoxy group and the like that perform sol-gel conversion include aluminum, silicon, titanium, and zirconium. Among these, a sol-gel conversion system using a siloxane bond using silicon is preferable. Hereinafter, a sol-gel conversion system using a siloxane bond will be described. A sol-gel conversion system using aluminum, titanium, zirconium, or the like can be implemented by replacing silicon described below with each element.

シロキサン結合によるゾルゲル変換系は、ゾルゲル変換が可能な、少なくとも1個のシラノール基を有するシラン化合物を含む系である。   A sol-gel conversion system based on a siloxane bond is a system including a silane compound having at least one silanol group capable of sol-gel conversion.

ゾルゲル変換によって形成される無機親水性結着樹脂は、好ましくはシロキサン結合およびシラノール基を有する樹脂である。感熱層は、少なくとも1個のシラノール基を有するシラン化合物を含むゾルの系である塗布液を支持体に塗布し、塗布後、シラノール基の加水分解縮合が進んでシロキサン骨格の構造が形成され、ゲル化が進行することによって形成される。また、このゾルゲル変換系によって形成される感熱層は、膜強度、柔軟性等の物理的性能の向上や、塗布性の改良等を目的として、上述した特開2001−293971号公報に記載されている有機親水性ポリマー、架橋剤等を含有することもできる。   The inorganic hydrophilic binder resin formed by sol-gel conversion is preferably a resin having a siloxane bond and a silanol group. The thermosensitive layer is a sol system containing a silane compound having at least one silanol group, applied to a support, and after coating, hydrolysis and condensation of the silanol groups proceeds to form a siloxane skeleton structure, It is formed by the progress of gelation. The heat-sensitive layer formed by this sol-gel conversion system is described in JP-A-2001-293971 described above for the purpose of improving physical properties such as film strength and flexibility, and improving coating properties. An organic hydrophilic polymer, a crosslinking agent and the like can also be contained.

ゲル構造を形成するシロキサン樹脂および少なくとも1個のシラノール基を有するシラン化合物の具体的の例としては、特開2002−6504号公報の段落番号[0054]〜[0057]に記載されている化合物が挙げられる。   Specific examples of the siloxane resin forming the gel structure and the silane compound having at least one silanol group include compounds described in paragraphs [0054] to [0057] of JP-A No. 2002-6504. Can be mentioned.

無機親水性結着樹脂の形成には、上記シラン化合物とともに、Ti、Zn、Sn、Zr、Al等のゾル−ゲル変換の際に樹脂に結合して成膜可能な金属化合物を併用することができる。このような金属化合物としては、例えば、Ti(OR′)4、TiCl4、Zn(OR′)2、Zn(CH3COCHCOCH32、Sn(OR′)4、Sn(CH3COCHCOCH34、Sn(OCOR′)4、SnCl4、Zr(OR′)4、Zr(CH3COCHCOCH34、Al(OR′)3、Al(CH3COCHCOCH33等が挙げられる。 For the formation of the inorganic hydrophilic binder resin, a metal compound capable of forming a film by bonding to the resin during sol-gel conversion such as Ti, Zn, Sn, Zr, Al, etc. is used together with the silane compound. it can. Examples of such a metal compound include Ti (OR ′) 4 , TiCl 4 , Zn (OR ′) 2 , Zn (CH 3 COCHCOCH 3 ) 2 , Sn (OR ′) 4 , Sn (CH 3 COCHCOCH 3 ). 4 , Sn (OCOR ′) 4 , SnCl 4 , Zr (OR ′) 4 , Zr (CH 3 COCHCOCH 3 ) 4 , Al (OR ′) 3 , Al (CH 3 COCHCOCH 3 ) 3 and the like.

更に、上記シラン化合物、および、それと併用することができる上記金属化合物の加水分解反応および重縮合反応を促進するために、従来公知の無機酸、炭酸、カルボン酸等の酸性触媒またはアンモニア、有機アミン類等の塩基性触媒を併用することが好ましい。触媒は、酸もしくは塩基性化合物をそのままで、または、水、アルコール等の溶媒に溶解させた状態として用いることができる(以下、酸を用いるものを「酸性触媒」、塩基性化合物を用いるものを「塩基性触媒」という。)。溶媒に溶解させる場合の濃度は、特に限定されないが、濃度が濃い方が加水分解反応および重縮合反応の速度が速くなる傾向がある。ただし、濃度の濃い塩基性触媒を用いると、ゾル溶液中で沈殿物が生成することがあるため、塩基性触媒の濃度(水溶液での濃度換算)は1N以下であるのが好ましい。   Furthermore, in order to promote the hydrolysis reaction and polycondensation reaction of the above silane compound and the above metal compound that can be used in combination therewith, conventionally known acidic catalysts such as inorganic acid, carbonic acid, carboxylic acid, etc., ammonia, organic amine It is preferable to use a basic catalyst such as a catalyst together. The catalyst can be used as it is or in a state in which the acid or basic compound is dissolved in a solvent such as water or alcohol (hereinafter referred to as an “acidic catalyst” using an acid, or using a basic compound). "Basic catalyst"). The concentration in the case of dissolving in a solvent is not particularly limited, but the higher the concentration, the faster the hydrolysis reaction and polycondensation reaction tend to be. However, when a basic catalyst having a high concentration is used, a precipitate may be generated in the sol solution. Therefore, the concentration of the basic catalyst (concentration in aqueous solution) is preferably 1 N or less.

上述したように、ゾル−ゲル法によって作成される感熱層(親水性樹脂としてゾルゲル変換系結着樹脂を含有させた感熱層)が好ましい。上記ゾル−ゲル法の詳細は、作花済夫「ゾル−ゲル法の科学」(株)アグネ承風社(刊)(1988年)、平島碩「最新ゾル−ゲル法による機能性薄膜作成技術」総合技術センター(刊)(1992年)等の成書等に詳細に記載されている。   As described above, a heat-sensitive layer prepared by a sol-gel method (a heat-sensitive layer containing a sol-gel conversion binder resin as a hydrophilic resin) is preferable. The details of the sol-gel method are as follows: Sakuo Sakuhana, "Science of Sol-Gel Method", Agne Jofusha (published) (1988), Satoshi Hirashima It is described in detail in books such as the General Technology Center (published) (1992).

親水性樹脂の含有量は、感熱層の全固形分に対して、2〜40質量%であるのが好ましく、5〜20質量%であるのがより好ましい。上記範囲内であると、良好な機上現像性および皮膜強度が得られる。   The content of the hydrophilic resin is preferably 2 to 40% by mass and more preferably 5 to 20% by mass with respect to the total solid content of the heat-sensitive layer. Within the above range, good on-press developability and film strength can be obtained.

<画像記録層の形成>
本発明の画像記録層は、必要な上記各成分を溶剤に分散または溶解して塗布液を調製し、塗布して形成される。ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。これらの溶剤は、単独または混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
本発明の画像記録層は、同一または異なる上記各成分を同一または異なる溶剤に分散、または溶かした塗布液を複数調製し、複数回の塗布、乾燥を繰り返して形成することも可能である。
<Formation of image recording layer>
The image recording layer of the present invention is formed by preparing or applying a coating solution by dispersing or dissolving the necessary components described above in a solvent. Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene, water, and the like. However, the present invention is not limited to this. These solvents are used alone or in combination. The solid content concentration of the coating solution is preferably 1 to 50% by mass.
The image recording layer of the present invention can also be formed by preparing a plurality of coating solutions in which the same or different components are dispersed or dissolved in the same or different solvents, and repeatedly applying and drying a plurality of times.

また塗布、乾燥後に得られる支持体上の画像記録層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般的に0.3〜5.0g/m2が好ましい、0.5〜5.0g/m2がより好ましい。この範囲内で、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性が得られる。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げられる。
The coating amount (solid content) of the image recording layer on the support obtained after coating and drying varies depending on the use, but is generally preferably 0.3 to 5.0 g / m 2 , 0.5 to 5.0 g. / M 2 is more preferable. Within this range, good sensitivity and good film properties of the image recording layer can be obtained.
Various methods can be used as a coating method. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

<オーバーコート層>
感熱層の上には、オーバーコート層を設けることができる。
本発明に用いられるオーバーコート層は水溶性層であり、現像処理時または印刷時に容易に除去されるものである。オーバーコート層は、版材を積み重ねて保存した場合におけるくっつきを防止するために、離型性を有する。
<Overcoat layer>
An overcoat layer can be provided on the heat-sensitive layer.
The overcoat layer used in the present invention is a water-soluble layer and can be easily removed during development or printing. The overcoat layer has releasability in order to prevent sticking when the plate materials are stacked and stored.

オーバーコート層の主成分は、水溶性の有機または無機の高分子化合物であり、その水溶液等を塗布し乾燥させることによって形成される皮膜がフィルム形成能を有するものである。具体的には、例えば、特開2001−162961号公報の段落番号[0011]に記載されている水溶性樹脂、特開2002−19315号公報に記載されているセルロース類等が挙げられる。   The main component of the overcoat layer is a water-soluble organic or inorganic polymer compound, and a film formed by applying and drying an aqueous solution thereof has film-forming ability. Specific examples include water-soluble resins described in paragraph [0011] of JP-A No. 2001-162961, and celluloses described in JP-A No. 2002-19315.

<バックコート層>
このようにして、上記支持体上に、各種の画像記録層を設けて得られた版材の裏面には、必要に応じて、画像記録層の傷付きを防止するために、有機高分子化合物からなる被覆層(以下「バックコート層」という。)を設けることができる。
バックコート層の主成分としては、ガラス転移点20℃以上の、飽和共重合ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂および塩化ビニリデン共重合樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種の樹脂が好適に用いられる。
飽和共重合ポリエステル樹脂は、ジカルボン酸ユニットとジオールユニットとからなる。ジカルボン酸ユニットとしては、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、テトラブロムフタル酸、テトラクロルフタル酸等の芳香族ジカルボン酸;アジピン酸、アゼライン酸、コハク酸、シュウ酸、スベリン酸、セバチン酸、マロン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸等の飽和脂肪族ジカルボン酸等が挙げられる。
<Back coat layer>
In this way, on the back surface of the plate material obtained by providing various image recording layers on the support, an organic polymer compound is used as necessary to prevent the image recording layer from being damaged. A coating layer (hereinafter referred to as “backcoat layer”) can be provided.
As the main component of the backcoat layer, at least one resin selected from the group consisting of a saturated copolymerized polyester resin, a phenoxy resin, a polyvinyl acetal resin, and a vinylidene chloride copolymer resin having a glass transition point of 20 ° C. or higher is preferably used. It is done.
The saturated copolyester resin is composed of a dicarboxylic acid unit and a diol unit. Dicarboxylic acid units include aromatic dicarboxylic acids such as phthalic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, tetrabromophthalic acid, tetrachlorophthalic acid; adipic acid, azelaic acid, succinic acid, oxalic acid, suberic acid, sebacic acid, malon Examples thereof include acids and saturated aliphatic dicarboxylic acids such as 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid.

バックコート層は、更に、着色のための染料、顔料等;支持体との密着性を向上させるためのシランカップリング剤、ジアゾニウム塩からなるジアゾ樹脂、有機ホスホン酸、有機リン酸、カチオン性ポリマー等;滑り剤として通常用いられる、ワックス、高級脂肪酸、高級脂肪酸アミド、ジメチルシロキサンよりなるシリコーン化合物、変性ジメチルシロキサン、ポリエチレン粉末等を適宜含有することができる。   The backcoat layer further comprises dyes, pigments, etc. for coloring; silane coupling agents for improving adhesion to the support, diazo resins comprising diazonium salts, organic phosphonic acids, organic phosphoric acids, cationic polymers And the like; wax, higher fatty acid, higher fatty acid amide, silicone compound composed of dimethylsiloxane, modified dimethylsiloxane, polyethylene powder and the like, which are usually used as slipping agents, can be appropriately contained.

[印刷装置による機上描画および機上現像]
次に、本発明の平版印刷方法の実施に用いることができる印刷装置の一例の全体構成について説明する。図1に、本発明の平版印刷方法の実施に用いることができる印刷装置の一例の概念図を示す。図1に示される印刷装置10は、CTCシステムを構成する、機上で印刷版を形成する機上描画・機上現像型の平版印刷装置であって、基本的に、圧胴12と、ブランケット胴(ゴム胴)14と、版胴16と、インキ着けローラ18と、インキローラ列20と、インキ計量供給部22と、画像記録手段24と、湿し水供給手段26と、ゴミ取り装置28と、主制御装置30とを有して構成される。
[On-machine drawing and on-machine development by printing equipment]
Next, an overall configuration of an example of a printing apparatus that can be used for carrying out the planographic printing method of the present invention will be described. FIG. 1 shows a conceptual diagram of an example of a printing apparatus that can be used to implement the planographic printing method of the present invention. A printing apparatus 10 shown in FIG. 1 is an on-machine drawing / on-machine development type lithographic printing apparatus that forms a printing plate on a machine, and constitutes a CTC system, and basically includes an impression cylinder 12 and a blanket. A cylinder (rubber cylinder) 14, a plate cylinder 16, an ink form roller 18, an ink roller array 20, an ink metering supply unit 22, an image recording unit 24, a dampening solution supply unit 26, and a dust removing device 28. And the main controller 30.

このような印刷装置10においては、初めに、版胴16上に機上現像型の版材Psが供給される。なお、版胴16上に使用済みの印刷版が保持されている場合には、版材Psの供給の前に、あらかじめ前記印刷版を排出する。   In such a printing apparatus 10, first, the on-press development type plate material Ps is supplied onto the plate cylinder 16. When a used printing plate is held on the plate cylinder 16, the printing plate is discharged in advance before supplying the plate material Ps.

ついで、画像記録手段24が、版胴16に保持された版材Psに、画像データに基づいて画像を記録させる。画像記録制御装置64と、画像記録装置66とを有して構成される。   Next, the image recording means 24 records an image on the plate material Ps held by the plate cylinder 16 based on the image data. An image recording control device 64 and an image recording device 66 are included.

画像記録制御手段64は、外部の画像データ供給源から供給された画像データ、および、主制御装置30から送られた運転情報に応じて、画像記録装置66を駆動する。   The image recording control means 64 drives the image recording device 66 according to the image data supplied from the external image data supply source and the operation information sent from the main control device 30.

画像記録装置66は、機上現像型の版材Psの画像記録層に応じた記録方法により、版材Psに画像を記録(機上描画)させるものである。この画像記録装置66は、版材Psが加熱によって画像を形成するものであれば、従来公知のものを適宜好適に用いることができる。例えば、熱記録ヘッド等を用いて直接像様に加熱を行う記録装置、記録画像に応じて変調した赤外線レーザ等の光ビーム走査で像様に露光を行い、光熱変換による加熱で画像を記録させる記録装置、キセノンランプ、赤外線ランプ等の露光光源と液晶シャッタアレイ等の空間変調素子による変調とを組み合わせて像様露光を行って、光熱変換による加熱で画像を記録させる記録装置等が挙げられる。
このような画像記録装置66による画像の記録は、未露光の版材Psを保持した版胴16を、画像記録に対応する所定速度で回転(即ち、走査)しつつ行う。これにより、版材Psに二次元的に画像を記録させることができる。この画像記録時には、インキ着けローラ18およびブランケット胴14は、版胴16から離間するようにしてもよい。この離間は、インキ着けローラ18等および版胴16のいずれを移動して行ってもよい。
The image recording device 66 records (on-machine drawing) an image on the plate material Ps by a recording method corresponding to the image recording layer of the on-press development type plate material Ps. As the image recording device 66, a conventionally known device can be suitably used as long as the plate material Ps forms an image by heating. For example, a recording apparatus that directly heats imagewise using a thermal recording head or the like, imagewise exposure by light beam scanning such as an infrared laser modulated according to the recorded image, and image recording by heating by photothermal conversion Examples thereof include a recording apparatus, a recording apparatus that performs imagewise exposure by combining an exposure light source such as a xenon lamp and an infrared lamp and modulation by a spatial modulation element such as a liquid crystal shutter array, and records an image by heating by photothermal conversion.
Such image recording by the image recording device 66 is performed while rotating (ie, scanning) the plate cylinder 16 holding the unexposed plate material Ps at a predetermined speed corresponding to image recording. Thereby, an image can be recorded two-dimensionally on the plate material Ps. At the time of image recording, the ink form roller 18 and the blanket cylinder 14 may be separated from the plate cylinder 16. This separation may be performed by moving either the ink form roller 18 or the like and the plate cylinder 16.

また、湿し水供給手段26が画像を記録した版材Psに湿し水を供給する。この状態で、版材Psの画像記録層の非画像部においては、成分の一部が湿し水に溶解および/または分散し、画像記録層が金属支持体から除去される。また、画像記録層の一部は、後述する水着けローラ60との摩擦によっても除去される。   Further, the dampening water supply means 26 supplies dampening water to the plate material Ps on which the image is recorded. In this state, in the non-image portion of the image recording layer of the plate material Ps, a part of the components is dissolved and / or dispersed in the fountain solution, and the image recording layer is removed from the metal support. A part of the image recording layer is also removed by friction with a swim roller 60 described later.

その後、版材Psにインキが供給される。版材Psへのインキの供給は、インキ計量供給部22がインキローラ列20にインキを移し、インキローラ列20がインキ着けローラ18にインキを移し、インキ着けローラ18が版胴16上に保持された版材Psにインキを移すことによって行われる。この状態で、版材Psの画像記録層の画像部にはインキが徐々に付着していく。一方、版材Psの非画像部においては、湿し水および/またはインキにより画像記録層が除去されていく。そして、画像記録層が除去されて金属支持体の表面が露出した部分は、親水性であるため、湿し水によって被覆されることとなり、その結果、インキが付着しなくなる。このため、版材Psの非画像部におけるインキの付着(汚れ)は時間の経過とともに少なくなっていく。
一方、通常、版材Psへのインキの供給とほぼ同時に、被印刷材M(例えば、印刷用紙)が供給され、被印刷材Mへのインキの転写が行われる。ここで、被印刷材Mへのインキの転写は、版材Ps上のインキがブランケット胴14に転写され、ブランケット胴14上のインキが、ブランケット胴14と圧胴12とによって挟持されつつ搬送される被印刷材Mに転写されることにより行われる。
Thereafter, ink is supplied to the plate material Ps. Ink is supplied to the printing plate Ps by the ink metering supply unit 22 that transfers the ink to the ink roller row 20, the ink roller row 20 transfers the ink to the ink form roller 18, and the ink form roller 18 is held on the plate cylinder 16. This is done by transferring ink to the finished plate Ps. In this state, ink gradually adheres to the image portion of the image recording layer of the plate material Ps. On the other hand, in the non-image portion of the plate material Ps, the image recording layer is removed by dampening water and / or ink. The portion where the image recording layer is removed and the surface of the metal support is exposed is hydrophilic and is therefore covered with the fountain solution. As a result, the ink does not adhere. For this reason, the adhesion (dirt) of ink in the non-image portion of the plate material Ps decreases with time.
On the other hand, generally, printing material M (for example, printing paper) is supplied almost simultaneously with the supply of ink to the plate material Ps, and the ink is transferred to the printing material M. Here, the ink on the printing material M is transferred by transferring the ink on the plate material Ps to the blanket cylinder 14, and the ink on the blanket cylinder 14 is conveyed while being sandwiched between the blanket cylinder 14 and the impression cylinder 12. This is performed by being transferred to the printing material M.

このようにして、画像を記録した版材Psに湿し水とインキとを供給する一方、被印刷材Mに版材Ps上のインキを転写させていくうちに、版材Psの画像記録層の非画像部が完全に除去されて、即ち、版材Psが現像されて印刷版となり、印刷版の画像部のみに付着したインキが被印刷材Mに転写されて、非画像部の汚れのない印刷物が得られるようになる。   In this way, while supplying dampening water and ink to the plate material Ps on which the image is recorded, the image recording layer of the plate material Ps is transferred while the ink on the plate material Ps is transferred to the printing material M. The non-image area is completely removed, that is, the plate material Ps is developed into a printing plate, and the ink attached only to the image area of the printing plate is transferred to the printing material M, and the non-image area is stained. No printed matter will be obtained.

なお、機上現像の方法として、版材Psに湿し水を先に供給した後にインキを供給する方法を挙げたが、機上現像の方法は、版材の画像記録層の種類に応じて行われる。例えば、湿し水とインキとを同時に供給する方法、インキを先に供給した後に湿し水を供給する方法、湿し水とインキとの乳化液を供給する方法も用いられる。本発明における版材の非画像部の親水性は極めて高いため、これらの方法を用いることにより、上述した湿し水を先に供給する方法と比べ、非画像部の汚れの除去性をそれほど悪化させることなく、インキの画像部への付着性を大きく向上させることができる。したがって、これらの方法は、特にインキ付着性の悪い画像記録層材料を用いる場合に有効である。   As the on-press development method, a method of supplying ink after first supplying dampening water to the plate material Ps was mentioned. However, the on-press development method depends on the type of the image recording layer of the plate material. Done. For example, a method of simultaneously supplying dampening water and ink, a method of supplying dampening water after first supplying ink, and a method of supplying an emulsified liquid of dampening water and ink are also used. Since the hydrophilicity of the non-image area of the plate material in the present invention is extremely high, the use of these methods makes the removal of dirt on the non-image area much worse than the above-described method of supplying the fountain solution first. Without making it possible, the adhesion of the ink to the image area can be greatly improved. Therefore, these methods are particularly effective when an image recording layer material having poor ink adhesion is used.

また、上記においては、画像を記録した版材Psに、湿し水および/またはインキを供給して現像を行い印刷版とする現像工程(機上現像工程)と、印刷版上のインキを被印刷材に転写する印刷工程とを並行して行うようにしたが、この現像工程と印刷工程とは並行に行わずに、別個独立して行っても構わない。   In the above, the plate Ps on which the image is recorded is supplied with dampening water and / or ink and developed to form a printing plate (on-press development step), and the ink on the printing plate is covered. Although the printing process for transferring to the printing material is performed in parallel, the developing process and the printing process may be performed independently without being performed in parallel.

なお、図1においては、装置の構成を明瞭にするために、単色の印刷装置10を例示しているが、本発明はこれに限定されず、4色のフルカラー画像の印刷装置に対応する構成を初めとして、各種の多色刷りの印刷装置によっても実施することができる。   In FIG. 1, a monochromatic printing device 10 is illustrated for the sake of clarity of the configuration of the device, but the present invention is not limited to this, and a configuration corresponding to a printing device for four full-color images. And various other multicolor printing apparatuses.

最近、波長760〜1200nmの赤外線を放射する半導体レーザー、YAGレーザーなどの高出力レーザーが安価に入手できるようになってきたことから、デジタル化技術に組み込みやすい走査露光による平版印刷版の製造方法として、これらの高出力レーザーを画像記録手段として用いる方法が有望視されるようになっている。   Recently, high-power lasers such as semiconductor lasers that emit infrared light with a wavelength of 760 to 1200 nm and YAG lasers have become available at low cost. Therefore, as a method for producing a lithographic printing plate by scanning exposure that can be easily incorporated into digitization technology Therefore, a method using these high-power lasers as an image recording means has been promising.

上述したヒートモード記録と呼ばれる高出力レーザーを用いて光エネルギーを熱エネルギーに変える光熱変換方法では、露光領域に極短時間に大量の光エネルギーを照射して、光エネルギーを効率的に熱エネルギーに変換させ、その熱により、画像記録層において化学変化、相変化、形態または構造の変化などの熱変化を起こさせ、その変化を画像記録に利用する。従って、画像情報はレーザー光などの光エネルギーによって入力されるが、画像記録は光エネルギーに加えて熱エネルギーによる反応も加味された状態で行われる。   In the photothermal conversion method that converts light energy into heat energy using a high-power laser called heat mode recording described above, light energy is efficiently converted into heat energy by irradiating a large amount of light energy to the exposure area in a very short time. The heat is converted to cause a thermal change such as a chemical change, a phase change, a change in form or structure in the image recording layer, and the change is used for image recording. Accordingly, image information is input by light energy such as laser light, but image recording is performed in a state in which a reaction by heat energy is added in addition to light energy.

ヒートモード記録を用いる製版方法の大きな長所は、室内照明のような通常の照度レベルの光では画像記録層が感光しないこと、および、高照度露光によって記録された画像の定着が必須ではないことにある。つまり、ヒートモード記録に用いられる平版印刷版原版は、露光前には室内光により感光してしまうおそれがなく、露光後には画像の定着が必須ではない。従って、例えば、高出力レーザーを用いた露光により不溶化しまたは可溶化する画像記録層を用いた機上現像可能な平版印刷版原版があれば、露光後、たとえ室内の環境光に暴露されても、画像が影響を受けないような印刷システムが可能となる。すなわち、ヒートモード記録を利用すれば、機上現像に好適に用いられる平版印刷版原版が得られる。   The major advantages of the plate making method using heat mode recording are that the image recording layer is not exposed to light at a normal illuminance level such as indoor lighting, and that fixing of images recorded by high illuminance exposure is not essential. is there. That is, the lithographic printing plate precursor used for heat mode recording is not likely to be exposed to room light before exposure, and image fixing is not essential after exposure. Therefore, for example, if there is an on-press developable lithographic printing plate precursor that uses an image recording layer that is insolubilized or solubilized by exposure using a high-power laser, even after exposure, it may be exposed to indoor ambient light. A printing system in which the image is not affected is possible. That is, if heat mode recording is used, a lithographic printing plate precursor suitably used for on-press development can be obtained.

以下に実施例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限られるものではない。
1.支持体Aの作製
<アルミニウム板>
Si:0.06質量%、Fe:0.30質量%、Cu:0.025質量%、Mn:0.001質量%、Mg:0.001質量%、Zn:0.001質量%、Ti:0.03質量%を含有し、残部はAlと不可避不純物のアルミニウム合金を用いて溶湯を調製し、溶湯処理およびろ過を行った上で、厚さ500mm、幅1200mmの鋳塊をDC鋳造法で作成した。表面を平均10mmの厚さで面削機により削り取った後、550℃で、約5時間均熱保持し、温度400℃に下がったところで、熱間圧延機を用いて厚さ2.7mmの圧延板とした。更に、連続焼鈍機を用いて熱処理を500℃で行った後、冷間圧延で、厚さ0.24mmに仕上げ、このアルミニウム板を幅1030mmにした後、以下に示す表面処理に供した。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
1. Production of support A <aluminum plate>
Si: 0.06 mass%, Fe: 0.30 mass%, Cu: 0.025 mass%, Mn: 0.001 mass%, Mg: 0.001 mass%, Zn: 0.001 mass%, Ti: Containing 0.03% by mass, the balance is prepared using Al and an inevitable impurity aluminum alloy, and after performing the molten metal treatment and filtration, an ingot having a thickness of 500 mm and a width of 1200 mm is obtained by a DC casting method. Created. After the surface was shaved with a chamfering machine with an average thickness of 10 mm, the temperature was kept constant at 550 ° C. for about 5 hours, and when the temperature dropped to 400 ° C., rolling with a thickness of 2.7 mm using a hot rolling mill A board was used. Furthermore, after performing heat processing at 500 degreeC using a continuous annealing machine, after finishing by cold rolling to thickness 0.24mm and making this aluminum plate width 1030mm, it used for the surface treatment shown below.

(1)アルミニウム支持体の製造
上記アルミニウム板を用い、表面処理として、以下の(a)、(b)、(c)、(d)、(e)、(f)、(g)、(h)、(i)および(j)の各種処理を連続的に行った。なお、各処理および水洗の後にはニップローラで液切りを行った。
(1) Production of Aluminum Support Using the above aluminum plate, the following (a), (b), (c), (d), (e), (f), (g), (h) ), (I) and (j) were continuously performed. After each treatment and washing with water, the liquid was removed with a nip roller.

(a)機械的粗面化処理
図5に示したような装置を使って、比重1.12の研磨剤(ケイ砂)と水との懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的粗面化処理を行った。図5において、1はアルミニウム板、2および4はローラ状ブラシ、3は研磨スラリー液、5、6、7および8は支持ローラである。研磨剤の平均粒径は25μm、最大粒径は100μmであった。ナイロンブラシの材質は6・10ナイロン、毛長は50mm、毛の直径は0.3mmであった。ナイロンブラシはφ300mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。回転ブラシは3本使用した。ブラシ下部の2本の支持ローラ(φ200mm)の距離は300mmであった。ブラシローラはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して7kWプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。ブラシの回転数は200rpmであった。
(A) Mechanical roughening treatment Using an apparatus as shown in FIG. 5, a suspension of abrasive (silica sand) having a specific gravity of 1.12 and water is supplied to the surface of the aluminum plate as a polishing slurry. However, a mechanical surface roughening treatment was performed with a rotating roller-like nylon brush. In FIG. 5, 1 is an aluminum plate, 2 and 4 are roller brushes, 3 is a polishing slurry, and 5, 6, 7 and 8 are support rollers. The average particle size of the abrasive was 25 μm, and the maximum particle size was 100 μm. The material of the nylon brush was 6 · 10 nylon, the hair length was 50 mm, and the hair diameter was 0.3 mm. The nylon brush was planted so as to be dense by making a hole in a stainless steel tube having a diameter of 300 mm. Three rotating brushes were used. The distance between the two support rollers (φ200 mm) at the bottom of the brush was 300 mm. The brush roller was pressed until the load of the drive motor for rotating the brush became 7 kW plus with respect to the load before the brush roller was pressed against the aluminum plate. The rotating direction of the brush was the same as the moving direction of the aluminum plate. The rotation speed of the brush was 200 rpm.

(b)アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板をカセイソーダ濃度2.6質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%、温度70℃の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を行い、アルミニウム板を10g/m2 溶解した。その後、スプレーによる水洗を行った。
(B) Alkali etching treatment The aluminum plate obtained above was subjected to an etching treatment by spraying using an aqueous solution having a caustic soda concentration of 2.6 mass%, an aluminum ion concentration of 6.5 mass%, and a temperature of 70 ° C. / M 2 dissolved. Then, water washing by spraying was performed.

(c)デスマット処理
温度30℃の硝酸濃度1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。デスマット処理に用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的粗面化処理を行う工程の廃液を用いた。
(C) Desmut treatment temperature 30 ° C. A nitric acid concentration 1% by mass aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) was subjected to a desmut treatment by spraying, and then washed with water by spraying. The nitric acid aqueous solution used for the desmut treatment was a waste liquid from a step of performing an electrochemical surface roughening treatment using alternating current in a nitric acid aqueous solution.

(d)電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸9g/L水溶液(アルミニウムイオンを5g/L、アンモニウムイオンを0.007質量%含む。)、温度50℃であった。交流電源波形は図2に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、DUTY比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解層は図3に示すものを使用した。 電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で185C/dm2であった。補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。
その後、スプレーによる水洗を行った。
(e)アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%でスプレーによるエッチング処理を60℃で行い、アルミニウム板を0.3g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、スプレーによる水洗を行った。
(f)デスマット処理
温度30℃の硫酸濃度15質量%水溶液(アルミニウムイオンを4.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。
(D) Electrochemical surface roughening treatment An electrochemical surface roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a nitric acid 9 g / L aqueous solution (containing 5 g / L aluminum ions and 0.007 mass% ammonium ions) at a temperature of 50 ° C. The AC power supply waveform is the waveform shown in FIG. 2, the time TP until the current value reaches the peak from zero is 0.8 msec, the duty ratio is 1: 1, the trapezoidal rectangular wave AC is used, with the carbon electrode as the counter electrode An electrochemical roughening treatment was performed. Ferrite was used for the auxiliary anode. The electrolytic layer shown in FIG. 3 was used. The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 185 C / dm 2 as the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode.
Then, water washing by spraying was performed.
(E) Alkaline etching treatment An aluminum plate was sprayed at a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass at 60 ° C. to dissolve the aluminum plate by 0.3 g / m 2 , The smut component mainly composed of aluminum hydroxide generated when electrochemical surface roughening was used was removed, and the edge portion of the generated pit was melted to smooth the edge portion. Then, water washing by spraying was performed.
(F) Desmutting treatment A 30% by weight sulfuric acid concentration aqueous solution (containing 4.5% by weight of aluminum ions) was subjected to a desmutting treatment by spraying, and then washed with water by spraying. The nitric acid aqueous solution used for the desmut was the waste liquid from the step of electrochemical surface roughening using alternating current in nitric acid aqueous solution.

(g)電気化学的粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、塩酸7.5g/L水溶液(アルミニウムイオンを5g/L含む。)、温度35℃であった。交流電源波形は矩形であり、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。使用した電解槽は図3に示すものを1つ使用した。
電流密度は電流のピーク値で25A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で30C/dm2であった。
その後、スプレーによる水洗を行った。
(G) Electrochemical roughening treatment An electrochemical roughening treatment was carried out continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a hydrochloric acid 7.5 g / L aqueous solution (containing 5 g / L of aluminum ions) at a temperature of 35 ° C. The AC power supply waveform was rectangular, and an electrochemical roughening treatment was performed using a carbon electrode as a counter electrode. Ferrite was used for the auxiliary anode. One electrolytic cell shown in FIG. 3 was used.
The current density was 25 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 30 C / dm 2 as the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode.
Then, water washing by spraying was performed.

(h)アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.1g/m2 溶解し、交流を用いて電気化学的粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、スプレーによる水洗を行った。
(H) Alkaline etching treatment An aluminum plate was spray-etched at 32 ° C. using an aqueous solution having a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass to dissolve the aluminum plate by 0.1 g / m 2 . The smut component mainly composed of aluminum hydroxide generated when the electrochemical surface roughening treatment was performed using alternating current was removed, and the edge portion of the generated pit was melted to smooth the edge portion. Then, water washing by spraying was performed.

(i)デスマット処理
温度60℃の硫酸濃度25質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。
(I) A desmut treatment was performed by spraying with a 25% by weight aqueous solution of sulfuric acid having a desaturation temperature of 60 ° C. (containing 0.5% by weight of aluminum ions), followed by washing with water by spraying.

(j)陽極酸化処理
図4に示す構造の二段給電電解処理法の陽極酸化装置(第一及び第二電解部長各6m、第一及び第二給電部長各3m、第一及び第二給電電極長各2.4m)を用いて陽極酸化処理を行った。第一及び第二電解部に供給した電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも、硫酸濃度50g/L(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、温度20℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
第一給電部に給電される電気量と、第二給電部に給電される電気量とは等しく、また、第一電解部及び第二電解部における電流密度はともに約30A/dm2であった。第二給電部では、第一電解部で生成した1.35g/m2の酸化皮膜面を通じて給電したことになる。最終的な酸化皮膜量は2.7g/m2であった。
(J) Anodizing treatment Anodizing device (first and second electrolysis section length 6 m each, first and second feeding section length 3 m each, first and second feeding electrodes) having a structure shown in FIG. Anodization treatment was carried out using each 2.4 m long. Sulfuric acid was used as the electrolytic solution supplied to the first and second electrolysis units. All electrolytes had a sulfuric acid concentration of 50 g / L (containing 0.5 mass% of aluminum ions) and a temperature of 20 ° C. Then, water washing by spraying was performed.
The amount of electricity fed to the first feeding unit and the amount of electricity fed to the second feeding unit were equal, and the current densities in the first electrolysis unit and the second electrolysis unit were both about 30 A / dm 2 . . In the 2nd electric power feeding part, it electrically fed through the oxide film surface of 1.35 g / m < 2 > produced | generated in the 1st electrolysis part. The final oxide film amount was 2.7 g / m 2 .

下記表1に示す比較例1〜4実施例1〜3では、陽極酸化処理の後に、温度30℃の3号ケイ酸ソーダの1質量%水溶液の処理槽の中に10秒間浸せきさせることで、アルカリ金属ケイ酸塩処理(シリケート処理)を行った。その後、井水を用いたスプレーによる水洗を行う親水化処理を行った後に表1に示す下塗り有機化合物塗布および後処理を行った。比較例5〜17、実施例4〜16は、親水化処理を行わずに表1に示す下塗り有機化合物塗布および後処理を行った。
2.支持体Bの作製
<アルミニウム板>
Si:0.06質量%、Fe:0.30質量%、Cu:0.005質量%、Mn:0.001質量%、Mg:0.001質量%、Zn:0.001質量%、Ti:0.03質量%を含有し、残部はAlと不可避不純物のアルミニウム合金を上記実施例1と同様に圧延、熱処理し、冷間圧延で、厚さ0.24mmに仕上げ、このアルミニウム板を幅1030mmにした後、上記表面処理のうち(b)、(c)、(g)、(h)、(i)および(j)の各処理をこの順で行った。なお、各処理および水洗の後にはニップローラで液切りを行った。ただし、(g)においては電解波形を正弦波とし、図3に示した電解槽を4つ用いて1槽当たり200C/dm2で電気量の総和が800C/dm2なるようにして電解をおこなった。
In Comparative Examples 1 to 4 Examples 1 to 3 shown in Table 1 below, after anodic oxidation treatment, it was immersed in a treatment tank of 1 mass% aqueous solution of sodium silicate No. 3 at a temperature of 30 ° C. for 10 seconds. An alkali metal silicate treatment (silicate treatment) was performed. Then, after performing the hydrophilic treatment which performs the water washing by the spray using well water, the undercoat organic compound application | coating shown in Table 1 and post-processing were performed. In Comparative Examples 5 to 17 and Examples 4 to 16, the undercoat organic compound application and post-treatment shown in Table 1 were performed without performing the hydrophilization treatment.
2. Production of support B <Aluminum plate>
Si: 0.06 mass%, Fe: 0.30 mass%, Cu: 0.005 mass%, Mn: 0.001 mass%, Mg: 0.001 mass%, Zn: 0.001 mass%, Ti: It contains 0.03% by mass, and the balance is Al and an inevitable impurity aluminum alloy, which is rolled and heat-treated in the same manner as in Example 1 above, and is finished by cold rolling to a thickness of 0.24 mm. This aluminum plate has a width of 1030 mm. Then, each of the surface treatments (b), (c), (g), (h), (i) and (j) was performed in this order. After each treatment and washing with water, the liquid was removed with a nip roller. However, the electrolysis waveform is a sine wave, subjected to electrolysis as the total amount of electricity in one vessel per 200C / dm 2 using four of the electrolytic cell shown in FIG. 3 is 800C / dm 2 in (g) It was.

3.支持体C−1およびC−2の作製
上記支持体Bと同様のアルミニウム板に、ただし、表面処理として、(b)、(c)、(d)、(e)、(f)、(g)、(h)、(i)および(j)を支持体Aの表面処理条件で行って支持体C−1を得た。別に、上記支持体Bと同様のアルミニウム板に、ただし、表面処理として支持体Aの表面処理条件で、(b)、(c)、(d)、(e)、(f)、(g)、(h)、(i)、(j)
および、以下の(k)封孔処理
1g/Lのフッ化ジルコン酸ナトリウム(Na2ZrF6)および3g/Lのリン酸二水素ナトリウム二水和物(NaH2PO4・2H2O)を含有する水溶液(液温75±1℃)を封孔処理液として用い、この封孔処理液をアルミニウム板に10秒間スプレーで吹き付けて支持体C−2を得た。支持体C−1,C−2で、各処理および水洗の後にはニップローラで液切りを行った。
3. Production of Supports C-1 and C-2 On the same aluminum plate as the above support B, except that (b), (c), (d), (e), (f), (g ), (H), (i) and (j) were carried out under the surface treatment conditions of the support A to obtain a support C-1. Separately, on the same aluminum plate as the above-mentioned support B, but (b), (c), (d), (e), (f), (g) under the surface treatment conditions of the support A as the surface treatment , (H), (i), (j)
(K) Sealing treatment 1 g / L of sodium zirconate fluoride (Na 2 ZrF 6 ) and 3 g / L of sodium dihydrogen phosphate dihydrate (NaH 2 PO 4 .2H 2 O) The containing aqueous solution (liquid temperature 75 ± 1 ° C.) was used as a sealing treatment liquid, and this sealing treatment liquid was sprayed onto an aluminum plate for 10 seconds to obtain a support C-2. With each of the supports C-1 and C-2, the liquid was removed with a nip roller after each treatment and water washing.

4.支持体Aを用いた平版印刷版原版の作製
4−1.下塗層の塗布
上記で得られた支持体に、下記有機化合物塗布液(1)を調整し、塗布して、表1に示す下塗有機化合物層を設けた。用いた有機化合物は、化合物C(質量平均分子量Mw=10,000)または化合物E(Mw=50000)であった。X線光電子分光法による表面炭素原子濃度は、
下塗りなしの場合以外は実施例、比較例とも、以下に示す測定条件で50〜65%の範囲とした。
4). Production of planographic printing plate precursor using support A 4-1. Application of Undercoat Layer The following organic compound coating solution (1) was prepared and applied to the support obtained above to provide an undercoat organic compound layer shown in Table 1. The organic compound used was Compound C (mass average molecular weight Mw = 10,000) or Compound E (Mw = 50000). The surface carbon atom concentration by X-ray photoelectron spectroscopy is
Except for the case of no undercoating, both the examples and comparative examples were in the range of 50 to 65% under the measurement conditions shown below.

有機化合物層塗布液(1)
・有機化合物CまたはE 0.017g
・メタノール 9.00g
・水 1.00g
Organic compound layer coating solution (1)
・ Organic compound C or E 0.017 g
・ Methanol 9.00 g
・ Water 1.00g

Figure 2006137100
Figure 2006137100

X線光電子分光分析装置:アルバック‐ファイ社製ESCA PHI Quantum 2000:X線源:Al−Kα(HP-mode,200μm,100W,20kV)パスエネルギー:58、70eV:分析面積:200μm×1400μm:測定スペクトル:C1s、O1s,Al2pおよびSi2p:中和条件:Ar(10eV)およびNeut(20μm)   X-ray photoelectron spectrometer: ESCA PHI Quantum 2000 manufactured by ULVAC-PHI, Inc .: X-ray source: Al-Kα (HP-mode, 200 μm, 100 W, 20 kV) Pass energy: 58, 70 eV: Analysis area: 200 μm × 1400 μm: Measurement Spectrum: C1s, O1s, Al2p and Si2p: Neutralization conditions: Ar (10 eV) and Neut (20 μm)

4−2.後処理
表1に示す後処理液は、下記に示す組成で溶媒に溶解し、有機化合物層を塗布後乾燥したアルミニウム板を、10秒間、後処理液に浸漬した後、水洗した。
4-2. Post-treatment The post-treatment liquid shown in Table 1 was dissolved in a solvent with the composition shown below, and an aluminum plate coated with an organic compound layer and dried was immersed in the post-treatment liquid for 10 seconds and then washed with water.

後処理液は下記に示す処方にて調整した。
・表1に示す化合物 0.1g
・水 99.9g
The post-treatment liquid was adjusted according to the formulation shown below.
・ 0.1 g of compounds shown in Table 1
・ Water 99.9g

なお、表1のAM540は、下記化合物C−1で、リン酸エステルモノマー(商品名:ホスマーPE、ユニケミカル株式会社製)で分子量305〜349である。

Figure 2006137100
In addition, AM540 of Table 1 is the following compound C-1, and is a phosphate ester monomer (Brand name: Phosmer PE, Unichemical Corporation make), and is molecular weight 305-349.
Figure 2006137100

4−3.平版印刷版原版(1)[マイクロカプセル型版材IR]の作製
下記記録層液(1)にマイクロカプセル液(1)を塗布直前に混合し攪拌することにより得た画像記録層(1)塗布液を、下塗り有機化合物塗布とその後処理をした支持体上にバー塗布し、100℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2のマイクロカプセル型画像記録層を形成し比較例1〜12および実施例1〜11の平版印刷版原版(1)を得た。乾燥塗布量の調整はバーを変更して行った。
4-3. Preparation of lithographic printing plate precursor (1) [microcapsule type plate material IR] Application of image recording layer (1) obtained by mixing microcapsule liquid (1) with the following recording layer liquid (1) immediately before application and stirring. The solution is bar-coated on a base material coated with an undercoat organic compound and then treated, and oven-dried at 100 ° C. for 60 seconds to form a microcapsule type image recording layer having a dry coating amount of 1.0 g / m 2 for comparison. The planographic printing plate precursors (1) of Examples 1 to 12 and Examples 1 to 11 were obtained. The dry coating amount was adjusted by changing the bar.

記録層液(1)
・下記バインダーポリマー(1) 0.162g
・下記重合開始剤(1) 0.100g
・下記赤外線吸収剤(1) 0.020g
・重合性化合物、アロニックスM-215(東亞合成(株)製) 0.385g
・下記フッ素系界面活性剤(1) 0.044g
・メチルエチルケトン 1.091g
・1−メトキシー2−プロパノール 8.609g
Recording layer liquid (1)
・ The following binder polymer (1) 0.162 g
・ The following polymerization initiator (1) 0.100 g
・ The following infrared absorber (1) 0.020 g
・ Polymerizable compound, Aronix M-215 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 0.385 g
-0.044 g of the following fluorosurfactant (1)
・ Methyl ethyl ketone 1.091g
・ 1-methoxy-2-propanol 8.609g

マイクロカプセル液(1)
・下記の通り合成したマイクロカプセル(1) 2.640g
・水 2.425g
Microcapsule liquid (1)
・ Microcapsule synthesized as follows (1) 2.640 g
・ Water 2.425g

Figure 2006137100
Figure 2006137100

マイクロカプセル(1)の合成
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体(三井武田ケミカル(株)製、タケネートD−110N、75%酢酸エチル溶液)10g、アロニックスM−215(東亞合成(株)製)6.00g、およびパイオニンA−41C(竹本油脂(株)製)0.1gを酢酸エチル16.67gに溶解した。水相成分としてPVA−205の4質量%水溶液37.5gを調製した。油相成分および水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水25gに添加し、室温で30分攪拌後、40℃で3時間攪拌した。このようにして得られたマイクロカプセル液の固形分濃度を、15質量%になるように蒸留水を用いて希釈した。平均粒径は0.2μmであった。
Synthesis of Microcapsule (1) As oil phase components, trimethylolpropane and xylene diisocyanate adduct (Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd., Takenate D-110N, 75% ethyl acetate solution) 10 g, Aronix M-215 (Toho) Synthesis Co., Ltd. (6.00 g) and Pionein A-41C (Takemoto Yushi Co., Ltd.) 0.1 g were dissolved in ethyl acetate 16.67 g. As an aqueous phase component, 37.5 g of a 4 mass% aqueous solution of PVA-205 was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were mixed and emulsified for 10 minutes at 12000 rpm using a homogenizer. The obtained emulsion was added to 25 g of distilled water, stirred at room temperature for 30 minutes, and then stirred at 40 ° C. for 3 hours. The microcapsule solution thus obtained was diluted with distilled water so that the solid content concentration was 15% by mass. The average particle size was 0.2 μm.

4−4.平版印刷版原版(2)[版材VR]の作製
上記と同様に、支持体Aに表1に示す下塗り有機化合物層を塗布し、後処理した。これらの上層に下記組成の画像記録層(2)塗布液をバー塗布した後、70℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の画像記録層(2)を形成し、この上に下記組成よりなる保護層塗布液(1)を、乾燥塗布質量が0.5g/m2となるように塗布し、120℃で1分間乾燥して実施例12〜16、比較例13〜17の平版印刷版用原板(2)を得た。
4-4. Preparation of lithographic printing plate precursor (2) [plate material VR] In the same manner as described above, an undercoat organic compound layer shown in Table 1 was applied to support A and subjected to post-treatment. An image recording layer (2) coating solution having the following composition was bar-coated on these upper layers, followed by oven drying at 70 ° C. for 60 seconds to form an image recording layer (2) having a dry coating amount of 1.0 g / m 2. Then, a protective layer coating solution (1) having the following composition was coated thereon so that the dry coating mass was 0.5 g / m 2, and dried at 120 ° C. for 1 minute. Examples 12 to 16 and Comparative Examples 13 to 17 lithographic printing plate precursors (2) were obtained.

<画像記録層(2)塗布液>
・下記重合開始剤(2) 0.2g
・下記バインダーポリマー(2)(平均分子量8万) 6.0g
・重合性化合物 12.4g
イソシアヌール酸EO変性トリアクリレート(東亞合成(株)製M−315)
・ロイコクリスタルバイオレット 3.0g
・熱重合禁止剤 0.1g
N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩
・テトラエチルアンモニウムクロリド 0.1g
・下記のフッ素系界面活性剤(1) 0.1g
・メチルエチルケトン 70.0g
<Image recording layer (2) coating solution>
・ The following polymerization initiator (2) 0.2 g
・ The following binder polymer (2) (average molecular weight 80,000) 6.0 g
・ Polymerizable compound 12.4g
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate (M-315 manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
・ Royco Crystal Violet 3.0g
・ Thermal polymerization inhibitor 0.1g
N-nitrosophenylhydroxylamine aluminum salt 0.1 g of tetraethylammonium chloride
・ 0.1 g of the following fluorosurfactant (1)
・ Methyl ethyl ketone 70.0g

Figure 2006137100
Figure 2006137100

Figure 2006137100
Figure 2006137100

Figure 2006137100
Figure 2006137100

<保護層塗布液(1)>
・ポリアクリル酸 2.2g
・ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル 0.04g
・ポリエーテル変性シリコーンオイル(X−22−812、信越シリコーン社製) 0.04g
・水 42g
<Protective layer coating solution (1)>
・ Polyacrylic acid 2.2g
・ Polyoxyethylene nonylphenyl ether 0.04g
-Polyether-modified silicone oil (X-22-812, manufactured by Shin-Etsu Silicone) 0.04g
・ Water 42g

表1に示す比較例1〜12は、本発明の条件を欠く以外は、実施例1〜11と同様に平版印刷版原版とした。   Comparative Examples 1 to 12 shown in Table 1 were lithographic printing plate precursors as in Examples 1 to 11 except that the conditions of the present invention were not used.

6.平版印刷版原版の露光および印刷
得られた平版印刷版原版を水冷式40W赤外線半導体レーザー搭載のCreo社製Trendsetter3244VXにて、出力9W、外面ドラム回転数210rpm、解像度2400dpiの条件で露光した。露光画像には細線チャートを含むようにした。次いで、以下の方法で、機上現像性、耐刷性および耐放置汚れ性について評価した。
6). Exposure and Printing of Lithographic Printing Plate Precursor The obtained lithographic printing plate precursor was exposed under the conditions of an output of 9 W, an outer drum rotating speed of 210 rpm, and a resolution of 2400 dpi using a Creo Trendsetter 3244VX equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser. The exposure image includes a thin line chart. Next, on-press developability, printing durability and neglectable stain resistance were evaluated by the following methods.

(A)機上現像性
表1に示す実施例および比較例の平版印刷原版を上記の条件で露光し、露光済み原版を現像処理することなく、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mのシリンダーに取り付けた。湿し水(IF102(富士写真フイルム(株)製エッチ液)/水=4/96(容量比))とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業社製)とを用い、湿し水とインキを供給した。その後、毎時6000枚の印刷速度で印刷を100枚行った。画像記録層の未露光部の印刷機上での機上現像が完了し、印刷用紙にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数と非画像部に汚れがかすかに見られるか否か、画像部の網点が鮮明に見えるか否かを目視により観察し、これらを総合評価して、1〜10段階の点数評価とし機上現像性として表1に示した。
評価:1:印刷用紙の枚数が最大で非画像部の汚れが認められ、画像部の網点が不鮮明である。
5:印刷用紙の枚数が中ぐらいで非画像部の汚れがかすかに認められ、画像部の網点が多少鮮明性である。
10:印刷用紙の枚数が最小で非画像部の汚れが全くなく、画像部の網点が鮮明に見える。
(B)耐刷性
表1に示す実施例および比較例の平版印刷原版を上記の条件で露光し、上記の通り機上現像し、更に印刷枚数を増やしていくと徐々に画像記録層が磨耗しインキ受容性が低下するため、印刷用紙におけるインキ濃度が低下した。実施例4の画像記録層でインキ濃度(反射濃度)が印刷開始時よりも0.1低下したときの印刷枚数を100%として相対値で評価した。%が高いほど印刷枚数が多い。結果を表1に示す。
(A) On-press developability The planographic printing original plates of Examples and Comparative Examples shown in Table 1 were exposed under the above conditions, and the exposed original plate was attached to the cylinder of a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg without developing the exposed original plate. It was. Using dampening water (IF102 (etch solution manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) / Water = 4/96 (volume ratio)) and TRANS-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) Water and ink were supplied. Thereafter, 100 sheets were printed at a printing speed of 6000 sheets per hour. The on-press development of the unexposed part of the image recording layer is completed on the printing machine, and the number of printing papers required until the ink is not transferred to the printing paper and whether the non-image part is slightly stained can be seen. No., whether or not the halftone dots in the image area looked clear was visually observed, and these were comprehensively evaluated to give a score evaluation of 1 to 10 levels and shown in Table 1 as on-press developability.
Evaluation: 1: The number of printing sheets is maximum, the stain on the non-image area is recognized, and the halftone dot of the image area is unclear.
5: The number of printing sheets is medium, the non-image area is slightly stained, and the halftone dot of the image area is somewhat clear.
10: The number of printing paper sheets is minimum, the non-image area is not stained at all, and the halftone dots of the image area are clearly visible.
(B) Printing durability The lithographic printing plate precursors of Examples and Comparative Examples shown in Table 1 were exposed under the above conditions, developed on the machine as described above, and gradually the image recording layer was worn as the number of printed sheets was increased. However, since the ink acceptability was lowered, the ink density in the printing paper was lowered. In the image recording layer of Example 4, when the ink density (reflection density) was reduced by 0.1 from the start of printing, the number of printed sheets was taken as 100%, and the relative value was evaluated. The higher the percentage, the greater the number of printed sheets. The results are shown in Table 1.

(C)耐放置汚れ性
別に、1万枚印刷した後印刷機を停止し、印刷版を版胴に付けたまま室温で1時間放置した後、印刷を再開した時に、汚れのない良好な印刷物が得られるまでに要した印刷用紙の枚数を、放置払い枚数として計測した。同時に印刷用紙の非画像部のインク転写量を目視で評価し、汚れの程度を観察し汚れの少ないものを10とし、汚れが激しいものを1として10段階で評価した。点数が高いものほど印刷版が汚れ難く、耐放置汚れ性に優れる。
(C) Unstained stain resistance Separately, after printing 10,000 sheets, the printing machine is stopped, the printing plate is left on the plate cylinder for 1 hour at room temperature, and when printing is resumed, good printed matter without stains. The number of printing papers required until the value was obtained was measured as the number of neglected sheets. At the same time, the amount of ink transferred to the non-image area of the printing paper was visually evaluated, and the degree of stain was observed. The higher the score, the harder the printing plate becomes and the better the stain resistance.

比較例1では、下塗り有機化合物層も後処理層も有しないので、得られた平版印刷版原版は、機上現像性、耐放置汚れ性、および耐刷に劣る。比較例2では下塗り有機化合物層が後処理されていないため、耐刷は高いが、機上現像性、耐放置汚れ性に劣る。比較例3、4では、下塗り有機化合物層を有するが、後処理が特定の化合物を含む水溶液でないため、耐刷は高いが、機上現像性、耐放置汚れ性に劣る。比較例5では親水化処理、下塗り有機化合物層、後処理層がいずれもないので、機上現像性、耐放置汚れ性、および耐刷が劣る。比較例6では下塗り有機化合物層があるが,その他の条件が本発明の範囲外なので、耐刷性に優れるが、機上現像性、耐放置汚れ性に劣る。比較例7,8,9では、後処理が本発明の範囲外で耐刷性に優れるが、機上現像性、耐放置汚れ性に劣る。
本発明の実施例1〜16の平版印刷版原版では、優れた機上現像性を有し、耐刷力に優れ、また耐放置汚れ性にも優れる。
In Comparative Example 1, since there is neither an undercoat organic compound layer nor a post-treatment layer, the obtained lithographic printing plate precursor is inferior in on-press developability, neglectable stain resistance, and printing durability. In Comparative Example 2, since the undercoat organic compound layer is not post-treated, the printing durability is high, but it is inferior in on-press development property and neglectable stain resistance. Comparative Examples 3 and 4 have an undercoat organic compound layer. However, since the post-treatment is not an aqueous solution containing a specific compound, the printing durability is high, but the on-press development property and the neglectable stain resistance are poor. In Comparative Example 5, since there are no hydrophilization treatment, undercoat organic compound layer, and post-treatment layer, the on-press development property, the stain resistance, and the printing durability are inferior. In Comparative Example 6, there is an undercoat organic compound layer, but the other conditions are outside the scope of the present invention, so that the printing durability is excellent, but the on-press development property and the neglectable stain resistance are poor. In Comparative Examples 7, 8, and 9, the post-treatment is outside the scope of the present invention and excellent in printing durability, but is inferior in on-press development property and neglected stain resistance.
The lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 16 of the present invention have excellent on-press developability, excellent printing durability, and excellent stain resistance.

Figure 2006137100
Figure 2006137100

7.支持体B、C−1、C−2を用いた平版印刷版原版の作製および評価
支持体B、C−1、C−2についても支持体Aと同様に本発明の条件で、下塗り有機化合物を塗布し、後処理を行って画像記録層を形成し平版印刷版原版を作製した。いずれの平版印刷版原版でも本発明の範囲の場合は優れた機上現像性を有し、耐刷力に優れ、また耐放置汚れ性にも優れていた。
7). Preparation and Evaluation of Lithographic Printing Plate Precursor Using Supports B, C-1, and C-2 As for Supports B, C-1, and C-2, undercoat organic compounds under the same conditions as in Support A Was applied and post-processing was performed to form an image recording layer to prepare a lithographic printing plate precursor. Any of the lithographic printing plate precursors had excellent on-press developability within the scope of the present invention, excellent printing durability, and excellent stain resistance.

本発明の平版印刷方法の実施に用いることができる印刷装置の一例の概念図である。It is a conceptual diagram of an example of the printing apparatus which can be used for implementation of the planographic printing method of this invention. 本発明に用いられる版材の金属支持体の作成における電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the alternating waveform current waveform figure used for the electrochemical roughening process in preparation of the metal support body of the plate material used for this invention. 本発明に用いられる版材の金属支持体の作成における交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。It is a side view which shows an example of the radial type cell in the electrochemical roughening process using alternating current in preparation of the metal support body of the plate material used for this invention. 本発明に用いられる版材の金属支持体の作成における陽極酸化処理に用いられる陽極酸化処理装置の概略図である。It is the schematic of the anodizing apparatus used for the anodizing process in preparation of the metal support body of the plate material used for this invention. 本発明に用いられる版材の金属支持体の作成における機械粗面化処理に用いられるブラシグレイニングの工程の概念を示す側面図である。It is a side view which shows the concept of the process of the brush graining used for the mechanical roughening process in preparation of the metal support body of the plate material used for this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 アルミニウム板
2、4 ローラ状ブラシ
3 研磨スラリー液
5、6、7、8 支持ローラ
10 印刷装置
12 圧胴
14 ブランケット胴
16 版胴
18 インキ着けローラ
20 インキローラ列
22 インキ計量供給部
24 画像記録手段
26 湿し水供給手段
28 ゴミ取り装置
30 主制御装置
60 水着けローラ
64 画像記録制御装置
66 画像記録装置
311 アルミニウム板
312 ラジアルドラムローラ
313a、313b 主極
314 電解処理液
315 電解液供給口
316 スリット
317 電解液通路
318 補助陽極
319a、319b サイリスタ
320 交流電源
340 主電解槽
350 補助陽極槽
410 陽極酸化処理装置
412 給電槽
414 電解処理槽
416 アルミニウム板
418、426 電解液
420 給電電極
422、428 ローラ
424 ニップローラ
430 電解電極
432 槽壁
434 直流電源

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Aluminum plate 2, 4 Roller-like brush 3 Polishing slurry liquid 5, 6, 7, 8 Support roller 10 Printing apparatus 12 Impression cylinder 14 Blanket cylinder 16 Plate cylinder 18 Ink roller 20 Ink roller row 22 Ink metering supply part 24 Image recording Means 26 Dampening water supply means 28 Dust removal device 30 Main controller 60 Swim-on roller 64 Image recording controller 66 Image recording device 311 Aluminum plate 312 Radial drum rollers 313a and 313b Main electrode 314 Electrolytic treatment liquid 315 Electrolyte supply port 316 Slit 317 Electrolyte passage 318 Auxiliary anode 319 a, 319 b Thyristor 320 AC power source 340 Main electrolytic cell 350 Auxiliary anode tank 410 Anodizing device 412 Power supply tank 414 Electrolytic treatment tank 416 Aluminum plate 418, 426 Electrolyte 420 Power supply electrode 422, 428 Roller 42 4 Nip roller 430 Electrolytic electrode 432 Tank wall 434 DC power supply

Claims (5)

アルミニウム板に陽極酸化処理を施して得られる平版印刷版用支持体上に、
有機化合物層を有し、
該有機化合物層を、有機酸またはアルカリ金属イオンを含む水溶液で処理し、
その上に、湿し水および/またはインキで現像可能な画像記録層を有する平版印刷版原版。
On a lithographic printing plate support obtained by anodizing an aluminum plate,
Having an organic compound layer,
Treating the organic compound layer with an aqueous solution containing an organic acid or alkali metal ion;
A lithographic printing plate precursor having an image recording layer developable with a fountain solution and / or ink thereon.
前記陽極酸化処理表面上に塗布された後の前記有機化合物量が、表面炭素原子濃度(atm%)で、50%以上である請求項1に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the amount of the organic compound after being coated on the anodized surface is 50% or more in terms of surface carbon atom concentration (atm%). 前記画像記録層が波長250nm〜420nmの範囲の光を放射するレーザー光により画像様に記録可能である請求項1または2に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor according to claim 1 or 2, wherein the image recording layer is recordable in an image-like manner by a laser beam that emits light having a wavelength in the range of 250 nm to 420 nm. 前記画像記録層が赤外線レーザー照射により画像様に記録可能である請求項1または2に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor according to claim 1 or 2, wherein the image recording layer is recordable in an image-like manner by irradiation with an infrared laser. 前記画像記録層が微粒子ポリマーおよび/またはマイクロカプセルを有する請求項1〜4のいずれかに記載の平版印刷版原版。

The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of Claims 1 to 4, wherein the image recording layer has a fine particle polymer and / or a microcapsule.

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008077078A (en) * 2006-08-25 2008-04-03 Fujifilm Corp Lithographic printing plate precursor and method for preparation of the same
JP2010243517A (en) * 2009-03-31 2010-10-28 Fujifilm Corp Lithographic printing plate precursor and method for manufacturing lithographic printing plate
CN113557144A (en) * 2019-03-29 2021-10-26 东丽株式会社 Method for manufacturing printed matter

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008077078A (en) * 2006-08-25 2008-04-03 Fujifilm Corp Lithographic printing plate precursor and method for preparation of the same
JP2010243517A (en) * 2009-03-31 2010-10-28 Fujifilm Corp Lithographic printing plate precursor and method for manufacturing lithographic printing plate
CN113557144A (en) * 2019-03-29 2021-10-26 东丽株式会社 Method for manufacturing printed matter
CN113557144B (en) * 2019-03-29 2022-11-01 东丽株式会社 Method for manufacturing printed matter

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