JP5263590B2 - Closed container lid opening and closing system and lid opening and closing method - Google Patents

Closed container lid opening and closing system and lid opening and closing method Download PDF

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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an FIMS system preventing dust or the like adhering to the lid or the like of a pod from being carried in a mini-environment, in an FIMS system. <P>SOLUTION: A gas nozzle for supplying a clean gas to a space region present between a pod and an opening is arranged adjacently to an opposite side to the pod side opening of this FIMS system. At least two nozzle openings formed in the gas nozzle are arranged in a plane orthogonal to the extension direction of the gas nozzle, and are continuously formed in the extension direction as well by keeping the positional relationship. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、半導体製造プロセス等において、ポッドと呼ばれる搬送容器に内部保持されたウエハを半導体処理装置間にて移送する際に用いられる、所謂FIMS(Front-Opening Interface Mechanical Standard)システムに関する。より詳細には、当該FIMSシステムにおいて用いられる、ウエハを収容する密閉容器たる所謂FOUP(Front-Opening Unified Pod)と呼ばれるポッド、及び当該ポッドの蓋を開閉して該ポッドに対するウエハの移載を行うFIMSシステムたる蓋開閉システムに関する。   The present invention relates to a so-called FIMS (Front-Opening Interface Mechanical Standard) system used when a wafer internally held in a transfer container called a pod is transferred between semiconductor processing apparatuses in a semiconductor manufacturing process or the like. More specifically, a so-called FOUP (Front-Opening Unified Pod) used in the FIMS system, which is a hermetically sealed container for accommodating a wafer, and a wafer is transferred to the pod by opening and closing the lid of the pod. The present invention relates to a lid opening / closing system as a FIMS system.

近年、半導体製造プロセスは、処理装置内部、ポッド(ウエハの密閉容器)、及び当該ポッドから処理装置への基板受け渡しを行う微小空間のみを高清浄状態に保持し、その他の空間の清浄度はある程度のレベルに維持して行われている。ポッドは、その内部に複数のウエハを平行且つ隔置した状態で保持可能な棚と、外面を構成する面の一つにウエハ出し入れに用いられる開口とを有する略立方体形状を有する本体と、その開口を閉鎖する蓋とから構成される。この開口が形成されている面がポッドの底面ではなく一側面(微小空間に対して正対する面)に位置するポッドを前述したFOUPと総称している。   In recent years, the semiconductor manufacturing process keeps the inside of a processing apparatus, a pod (wafer sealed container), and a very small space for transferring a substrate from the pod to the processing apparatus in a highly clean state, and the cleanliness of other spaces is to some extent. Has been done to maintain the level. The pod has a substantially cubic body having a shelf that can hold a plurality of wafers in parallel and spaced apart from each other, and an opening used for loading and unloading the wafer on one of the surfaces constituting the outer surface. And a lid that closes the opening. The pod where the opening is formed is not the bottom surface of the pod but on one side surface (the surface facing the minute space) and is collectively referred to as FOUP.

また、上述した微小空間は、ポッドの開口と向かい合う開口部と、開口部を閉鎖するドアと、半導体処理装置側に設けられた処理装置側の他の開口部と、開口部からポッド内部に侵入してウエハを保持すると共に該処理装置側の他の開口部を通過して処理装置側にウエハを搬送する移載ロボットとを有している。また、微小空間を形成する構成は、ドア正面にポッド開口が正対するようポッドを支持する載置台を有している。この載置台の上面には、ポッド下面に設けられた位置決め用の穴に嵌合されてポッドの載置位置を規定する位置決めピンと、ポッド下面に設けられた被クランプ部と係合してポッドを載置台に対して固定するクランプユニットとが配置されている。通常、載置台はドア方向に対して所定距離の前後移動が可能となっている。ポッド内のウエハを処理装置に移載する際には、ポッドが載置された状態でポッドの蓋がドアと接触するまでポッドを移動させ、接触後にドアによってポッド開口部からその蓋が取り除かれる。これら操作によって、ポッド内部と処理装置内部とが微小空間を介して連通することとなり、以降ウエハの移載操作が繰り返して行われる。この載置台、ドア、開口部、ドアの開閉機構、開口部が構成された微小空間の一部を構成する壁等を含めて、前述したFIMSシステムと総称される(特許文献1参照。   In addition, the above-described minute space enters the inside of the pod through the opening facing the opening of the pod, the door for closing the opening, the other opening on the side of the processing apparatus provided on the semiconductor processing apparatus side, and the opening. And a transfer robot that holds the wafer and passes the other opening on the processing apparatus side to convey the wafer to the processing apparatus side. Moreover, the structure which forms minute space has the mounting base which supports a pod so that a pod opening may face in front of a door. On the upper surface of the mounting table, a positioning pin that is fitted into a positioning hole provided on the lower surface of the pod and defines the mounting position of the pod, and a clamped portion provided on the lower surface of the pod are engaged with the pod. A clamp unit that is fixed to the mounting table is disposed. Usually, the mounting table can move back and forth a predetermined distance with respect to the door direction. When the wafer in the pod is transferred to the processing apparatus, the pod is moved with the pod being placed until the lid of the pod comes into contact with the door, and after the contact, the lid is removed from the pod opening by the door. . By these operations, the inside of the pod and the inside of the processing apparatus communicate with each other through a minute space, and the wafer transfer operation is repeated thereafter. The mounting table, the door, the opening, the opening / closing mechanism of the door, the wall forming a part of the minute space in which the opening is formed, and the like are collectively referred to as the FIMS system described above (see Patent Document 1).

特許第3581310号Patent No. 3581310

これらFMISシステムでは、ポッド等が搬送される外部空間より上述した微小空間への塵の拡散を防止する観点から、特許文献1に開示されるように該微小空間内部の圧力を外部空間の圧力よりも高く維持し、且つ当該微小空間から外部空間に至る気流を生成している。しかし通常清浄度の劣った空間を搬送されることから、ポッド本体の外周面及び蓋の表面には当該空間で付着した塵、或いは外気に含まれた例えばハイドロカーボン等が吸着している。これらに関しては、半導体製造工程上、微小空間内部への持込を極力防止するべきである。しかし、これら塵は蓋の表面とドアの表面との間の微小隙間から当該隙間の外部に拡散する以前に、ダウンフローが形成された微小空間内に移動される。このため、当該塵の微小空間或いはポッド内への拡散は問題視されるレベルには至らず、特に当該塵に対する対応は為されていなかった。また、例えば従来のポッドの蓋には蓋外周から外方方向に伸縮可能な爪が配され、当該爪の伸縮によってポッド本体−蓋の係合及び解除の各々の状態を得ることとしている。当該爪の伸縮は、当該爪と連結されて蓋の中央領域内の所定位置に配置された被操作部に対して、蓋表面の外部から所謂キー部材を嵌合させてこれを操作することで行われている。このような部材の接触、回動、その際に生じる摺動等によっても前述した塵が発生する。これらキー部材等から生じた塵についても、同様にダウンフローによる抑制効果が好適に機能していると考えられていた。   In these FMIS systems, from the viewpoint of preventing the diffusion of dust from the external space to which the pod or the like is conveyed to the above-described minute space, as disclosed in Patent Document 1, the pressure inside the minute space is changed from the pressure of the outer space. The air flow from the minute space to the external space is generated. However, since it is usually transported in a space with poor cleanliness, dust adhering in the space or, for example, hydrocarbon contained in the outside air is adsorbed on the outer peripheral surface of the pod body and the surface of the lid. These should be prevented as much as possible from being brought into the micro space in the semiconductor manufacturing process. However, these dusts are moved from the minute gap between the surface of the lid and the surface of the door into the minute space where the downflow is formed before diffusing outside the gap. For this reason, the diffusion of the dust into the minute space or the pod has not reached the level considered as a problem, and no countermeasure has been particularly taken against the dust. In addition, for example, a conventional pod lid is provided with a claw that can be expanded and contracted outward from the outer periphery of the lid, and each state of engagement and release of the pod body-lid is obtained by expansion and contraction of the claw. The expansion and contraction of the claw is performed by fitting a so-called key member from the outside of the lid surface to an operated part that is connected to the claw and disposed at a predetermined position in the central region of the lid. Has been done. The above-mentioned dust is also generated by such contact, rotation, sliding, and the like. The dust generated from these key members and the like was also considered to have a suitably functioning effect of downflow.

ここで、半導体デバイスは、素子の高機能化及び小型化が漸次進められている。このため素子に用いられる配線幅、デザインルール等がより狭められ、従来であれば問題とならなかったより小さな塵の存在にも留意する必要が生じてきている。このような極微小な塵は、従来対応策が練られてきた塵と異なり、所謂ブラウン運動や微小な静電気の影響等、従来とは異なる動作によって空間を移動する。具体的には、このような極微細な塵は、前述したダウンフローによって微小空間の下方に押し流し更に外部空間に排出しようとしても、単純に気流に流されずに微小空間内に漂い出してくる可能性がある。また、半導体製造工場での要望としてポッド等を搬送する空間の清浄度のレベルを現在よりも下げたいと要請も同時に存在している。従って、今後蓋等に付着してFIMSシステム内部に至る塵等の量は増大すると考えられる。このため、今後のポッド、或いはFIMSシステムは、蓋に付着した塵、更には増大し且つダウンフローのみでは対処が困難な塵への対応が求められる。   Here, semiconductor devices have been gradually improved in functionality and size. For this reason, the wiring width, design rule, etc. used for the element are narrowed, and it has become necessary to pay attention to the presence of smaller dust that was not a problem in the past. Unlike the dust for which countermeasures have been conventionally prepared, such extremely fine dust moves in the space by operations different from the conventional one, such as so-called Brownian motion and the influence of minute static electricity. Specifically, even if such extremely fine dust is pushed down the minute space by the downflow described above and further exhausted to the outside space, it is not simply flowed by the air current but drifts into the minute space. there is a possibility. There is also a request at the semiconductor manufacturing factory to lower the level of cleanliness of the space for transporting pods and the like from the present level. Therefore, the amount of dust that adheres to the lid and the like and reaches the inside of the FIMS system will increase in the future. For this reason, future pods or FIMS systems are required to deal with dust adhering to the lid, and dust that increases and is difficult to deal with only by downflow.

本発明は以上の状況に鑑みて為されたものであり、ポッド開口を閉鎖する蓋の表面に付着する極微小な塵の影響を抑制し、且つ蓋開閉時において当該開閉操作に伴う塵の発生、及び発生した塵の微小空間或いはポッド内部への拡散を抑制する密閉容器たるポッド及び当該密閉容器に対応する蓋開閉システム及び蓋開閉方法の提供を目的としている。   The present invention has been made in view of the above situation, suppresses the influence of extremely fine dust adhering to the surface of the lid that closes the pod opening, and generates dust when the lid is opened and closed. And a lid opening / closing system and a lid opening / closing method corresponding to the sealed container. The pod is a sealed container that suppresses the diffusion of generated dust into the minute space or inside the pod.

上記課題を解決するために、本発明に係る蓋開閉システムは、被収容物を内部に収容可能であって一面に開口を有する略箱状の本体と、本体から分離可能であって開口を塞いで本体と共に密閉空間を形成する蓋と、を備える密閉容器から蓋を取り外すことによって開口を開放して被収容物の挿脱を可能とする、蓋の開閉システムであって、密閉容器が載置される載置台と、載置台と隣接して配置され、塵が管理されて被収容物を搬送する機構が収容される微小空間と、載置台に隣接して微小空間の一部を確定する壁に形成されて、載置台に載置された密閉容器における開口と正対可能な配置に設けられた略矩形状の開口部と、蓋を保持可能であると共に開口部を略閉止可能であり、蓋を保持して開口部を開放することにより開口と開口部とを連通させるドアと、壁の載置台側の面上であって、開口部の少なくとも対辺に隣接して配置されるガスノズルと、を有し、ガスノズルは、密閉容器における開口形成面と開口部を対面とする空間領域内に対して各々拡散する方向に清浄気体を噴出し可能なノズル開口を有することを特徴としている。   In order to solve the above-described problems, a lid opening / closing system according to the present invention includes a substantially box-shaped main body that can accommodate an object to be accommodated therein and has an opening on one side, and can be separated from the main body to close the opening. And a lid that forms a sealed space with the main body. And a micro space that is disposed adjacent to the mounting table and accommodates a mechanism for transporting the object to be stored by managing dust, and a wall that defines a part of the micro space adjacent to the mounting table Formed in a substantially rectangular opening provided in an arrangement capable of facing the opening in the sealed container placed on the mounting table, and capable of holding the lid and substantially closing the opening, Open the opening by holding the lid and opening the opening. A gas nozzle disposed on the surface of the wall on the side of the mounting table and adjacent to at least the opposite side of the opening, the gas nozzle facing the opening forming surface and the opening in the sealed container It has the nozzle opening which can eject a clean gas in the direction which spread | diffuses with respect to each inside the space area | region made into.

なお、上述した蓋開閉システムにおいて、ノズル開口は、ガスノズルの延在方向に垂直な平面内において清浄気体の流出範囲がガスノズル近傍から遠方に至るに伴って拡大する扇形状の流出様式を有するように形成されることが好ましい。或いは、ノズル開口は、ガスノズルの延在方向に垂直な平面内において、空間領域内部の異なる点に向かように複数形成されることが好ましい。更に、前述した対辺は開口部の左辺及び右辺であることがより好ましい。また、ガスノズルは対辺とは異なる対辺の内の一方の辺に対しても配置されることがより好ましい。   In the lid opening / closing system described above, the nozzle opening has a fan-shaped outflow pattern in which the outflow range of the clean gas extends from the vicinity of the gas nozzle to the far side in a plane perpendicular to the extending direction of the gas nozzle. Preferably it is formed. Alternatively, it is preferable that a plurality of nozzle openings are formed so as to face different points inside the space region in a plane perpendicular to the extending direction of the gas nozzle. Furthermore, the opposite sides described above are more preferably the left side and the right side of the opening. Further, it is more preferable that the gas nozzle is disposed also on one side of the opposite side different from the opposite side.

また、上記課題を解決するために、本発明に係る蓋開閉方法は、被収容物を内部に収容可能であって一面に開口を有する略箱状の本体と、本体から分離可能であって開口を塞いで本体と共に密閉空間を形成する蓋と、を備える密閉容器から蓋を取り外すことによって開口を開放して被収容物の挿脱を可能とする、蓋の開閉方法であって、密閉容器が載置されて、密閉容器を蓋の開閉位置まで移動可能な載置台と、載置台と隣接して配置され、塵が管理されて被収容物を搬送する機構が収容される微小空間と、載置台に隣接して微小空間の一部を確定する壁に形成されて、載置台に載置された密閉容器における開口と正対可能な配置に設けられた略矩形状の開口部と、蓋を保持可能であると共に開口部を略閉止可能であり、蓋を保持して開口部を開放することにより開口と開口部とを連通させるドアと、壁の載置台側の面上であって、開口部の少なくとも対辺に隣接して配置されるガスノズルと、を有し、ガスノズルは、密閉容器における開口形成面と開口部を対面とする空間領域内に対して各々拡散する方向に清浄気体を噴出し可能なノズル開口を有する蓋開閉装置において、密閉容器を載置台上に載置し、載置台が密閉容器を蓋の開閉位置まで移動させ、蓋の開閉位置においてドアが蓋を保持し、ドアが蓋を密閉容器から取り外すことにより密閉容器開口を開放して密閉容器と微小空間とを連通させる方法であって、密閉容器が載置台により移動されて蓋の開閉位置至る際に、ガスノズルから密閉容器に対する清浄気体の噴き付けが為されることを特徴としている。   In order to solve the above-mentioned problem, the lid opening / closing method according to the present invention includes a substantially box-shaped main body having an opening on one side and capable of accommodating an object to be contained therein, and being separable from the main body. A lid that forms a sealed space together with the main body, and a lid opening / closing method that allows the object to be inserted and removed by opening the opening by removing the lid from the sealed container. A mounting table that is mounted and capable of moving the sealed container to the open / close position of the lid; a micro space that is disposed adjacent to the mounting table and that accommodates a mechanism for managing the dust and transporting the object; and A substantially rectangular opening formed on a wall that defines a part of the minute space adjacent to the mounting table and arranged in a position that can face the opening in the sealed container mounted on the mounting table, and a lid It can be held and the opening can be substantially closed, and the opening can be held by holding the lid. A door that allows the opening and the opening to communicate with each other by being opened, and a gas nozzle that is disposed on at least the opposite side of the opening on the surface of the wall on the mounting table side, and the gas nozzle is hermetically sealed In the lid opening and closing device having a nozzle opening capable of injecting clean gas in the direction of diffusing in the space region facing the opening forming surface and the opening in the container, the sealed container is placed on the mounting table, The mounting table moves the sealed container to the open / close position of the lid, the door holds the lid at the open / close position of the lid, and the door removes the lid from the closed container, thereby opening the closed container opening and closing the closed container and the minute space. This is a communication method, characterized in that a clean gas is sprayed from the gas nozzle to the sealed container when the sealed container is moved by the mounting table to reach the lid open / close position.

本発明によれば、ポッドを蓋開閉位置に移動させる際に蓋表面に対して清浄なガスの噴き付けが行われることから、蓋開閉の操作以前に蓋表面に付着した塵等の除去が為される。これにより、今後問題視為されるであろう蓋に付着した塵等の総量の抑制、或いは非清浄空間を搬送されたことで従来ありえなかったレベルで蓋に付着している塵等の大幅な抑制が為される。従って、微小空間内部への蓋の持込が為された場合であっても、蓋自身が保持する塵等が低減されていることから持ち込まれる塵等の総量を抑制することが可能となる。また、本発明によれば、ドアと蓋との間の空間に対しては清浄な気体の供給が為され、蓋-ドアの当接時においてこれらの挟持空間内は周囲の所謂外気ではなく清浄気体によって満たされた状態で微小空間内部への蓋の持込が為される。従って、仮に当該挟持空間内に保持された気体が微小空間中に拡散した場合であっても、該微小空間が外気によって汚染される可能性は従来構成による場合と比較して格段に低減される。   According to the present invention, when the pod is moved to the lid opening / closing position, clean gas is sprayed onto the lid surface, so that dust or the like adhering to the lid surface before the lid opening / closing operation is removed. Is done. As a result, the total amount of dust attached to the lid, which will be considered as a problem in the future, is reduced, or the amount of dust attached to the lid at a level that could not have been previously achieved by being transported through the unclean space Suppression is done. Accordingly, even when the lid is brought into the minute space, the total amount of dust and the like brought in can be suppressed because the dust and the like held by the lid itself is reduced. Further, according to the present invention, a clean gas is supplied to the space between the door and the lid, and when the lid and the door are brought into contact with each other, the inside of these sandwiching spaces is not the ambient so-called outside air but is clean. The lid is brought into the minute space in a state filled with gas. Therefore, even if the gas held in the holding space diffuses into the minute space, the possibility that the minute space is contaminated by the outside air is significantly reduced compared to the case of the conventional configuration. .

また、本発明によれば、ポッド蓋に対する清浄気体の噴き付けをFIMS開口部に対してポッドが進退する方向に対して異なる方向から行うこととし、ポッドの開口端面が進退する領域を清浄気体によって略覆われた空間としている。従って、ポッドの進退領域を清浄として、ポッドの載置位置から蓋開閉位置への移動に際してポッド開口端面周囲に対する塵等の付着を効果的に抑制することが可能となる。また、当該清浄気体の噴き付けを少なくとも異なる二方向から行って、FIMS開口部とポッドとに挟持される空間領域にてこれら噴き付け気体を衝突させる構成も採用可能である。当該構成とすることにより、ポッド蓋の表面中央から当該空間領域の外方に向かう拡散気流を生じさせることとなり、当該空間領域からの塵等の排除を効果的且つ迅速に行うことが可能となる。また、清浄気体の流れによってFIMS開口部に対する塵等の拡散の可能性を低減し、且つ開口部の下辺方向からの清浄気体の供給を無くして当該下辺領域より微小空間内部からの清浄気体及び当該清浄気体に載せられた塵等の流出を為す構成も採用可能である。当該構成によれば、開口部の上辺、左辺及び右辺の領域に対しては清浄気体によるカーテン効果を得、且つ下辺領域では外部空間に対して所謂陽圧微小空間内部からの気体の流出を為すこととなる。これにより、微小空間内部からの過剰清浄気体の流出を妨げること無く、開口部外気側を効果的に清浄気体に満たされた領域とすることが可能となる。   Further, according to the present invention, the clean gas is sprayed onto the pod lid from a different direction with respect to the direction in which the pod advances and retreats with respect to the FIMS opening, and the region in which the opening end surface of the pod advances and retreats with the clean gas. The space is almost covered. Accordingly, it is possible to clean the pod advance / retreat region and effectively suppress the adhesion of dust or the like to the periphery of the end surface of the pod opening when the pod is moved from the placement position to the lid opening / closing position. It is also possible to employ a configuration in which the clean gas is sprayed from at least two different directions and the spray gas collides in a space region sandwiched between the FIMS opening and the pod. By adopting such a configuration, a diffused airflow is generated from the center of the surface of the pod lid toward the outside of the space region, and dust and the like can be effectively and quickly removed from the space region. . In addition, the flow of clean gas reduces the possibility of diffusion of dust and the like to the FIMS opening, and eliminates the supply of clean gas from the lower side of the opening, so that the clean gas from the inside of the minute space and the It is also possible to adopt a configuration that causes dust or the like placed on clean gas to flow out. According to this configuration, a curtain effect by clean gas is obtained for the upper side, left side, and right side regions of the opening, and gas flows out from the inside of the so-called positive pressure microspace to the outer space in the lower side region. It will be. Thereby, it becomes possible to make the opening part external air side into the area | region filled with the clean gas effectively, without preventing the outflow of the excessive clean gas from the inside of micro space.

次に、本発明の一実施形態について、以下に図面を参照して説明する。図1A及び1Bは、本発明の一実施形態に係る密閉容器の蓋開閉システムたるFIMSの主要部構成及び密閉容器たるポッドを断面図により模式的に示しており、図1Aはポッドが所謂ロード位置に載置された状態を示し、1Bはポッドが蓋開閉位置に搬送されてドアによる蓋の除去が為された状態を示している。図1Aに示されるポッド1は、ポッド本体2と蓋3とから構成される。ポッド本体2は略立方体形状であって内部にウエハ等を収容する収容空間2bを有し、且つ該立方体形状における一側面に当該収容空間2bに連通する開口2aを有している。当該一側面には、更に当該開口2aの周囲を囲むように、フランジ部2cが形成されている。フランジ部2cは当該一側面と平行な側端面を有し、当該側端面は後述する蓋開閉システムたるロードポートの開口部周囲壁と対向する。   Next, an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1A and 1B schematically show a main part configuration of a FIMS that is a lid opening / closing system of a closed container and a pod that is a closed container according to an embodiment of the present invention in a cross-sectional view, and FIG. 1A is a so-called load position. 1B shows a state where the pod is conveyed to the lid opening / closing position and the lid is removed by the door. A pod 1 shown in FIG. 1A includes a pod body 2 and a lid 3. The pod body 2 has a substantially cubic shape, and has an accommodation space 2b for accommodating a wafer and the like, and an opening 2a communicating with the accommodation space 2b on one side surface of the cube shape. A flange portion 2c is further formed on the one side surface so as to surround the periphery of the opening 2a. The flange portion 2c has a side end surface parallel to the one side surface, and the side end surface opposes a peripheral wall of the opening portion of the load port which is a lid opening / closing system described later.

FIMSシステム101は、微小空間103を構成する筐体105及び筐体105に隣接して配置されるポッド載置部121を有する。筐体105は、更にファン107、第一の開口部111、及びドアシステム115を有する。ファン107は筐体105によって微小空間103の上部に配置され、筐体105の外部空間に存在する気体を微小空間内部に導入し、微小空間103内部に上方から下方に向かう気体の流である所謂ダウンフロー107aを生成する。なお、ファン107に対しては、外部空間の清浄度に応じて、当該空間から導入される気体より塵埃等の汚染物質を除去するフィルタが付随している。筐体105の下部にはダウンフロー107aが流出可能となるような構造が配置されており、微小空間103内部で発生する粉塵等は当該ダウンフロー107aに運ばれて筐体105の下部から外部空間に排出される。第一の開口部111はドアシステム115におけるドア115aにより一見閉鎖状態とされるが、ドア115aの外周と第一の開口部111の内周面との間には隙間が形成されることから、当該ドア115aは第一の開口部111を略閉鎖可能となっていると述べる。ドア115aの表面(ポッド1の蓋3との対向面)には蓋3の内部に配置されて蓋3をポッド本体2に固定する不図示のラッチ機構を操作するラッチキー駆動機構115fが配置される。また、ドア115aには後述する吸着パッド115kが配置され、当該吸着パッド115kにより蓋3はドア115aにより吸着保持される。   The FIMS system 101 includes a housing 105 that forms a minute space 103 and a pod placement unit 121 that is disposed adjacent to the housing 105. The housing 105 further includes a fan 107, a first opening 111, and a door system 115. The fan 107 is arranged at the upper part of the minute space 103 by the casing 105, introduces a gas existing in the outer space of the casing 105 into the minute space, and is a so-called gas flow that flows from the upper side to the lower side inside the minute space 103. A downflow 107a is generated. The fan 107 is accompanied by a filter that removes contaminants such as dust from the gas introduced from the space according to the cleanliness of the external space. A structure that allows the downflow 107a to flow out is disposed at the lower part of the housing 105, and dust generated in the minute space 103 is carried to the downflow 107a and is transferred from the lower part of the housing 105 to the external space. To be discharged. Although the first opening 111 is seemingly closed by the door 115a in the door system 115, a gap is formed between the outer periphery of the door 115a and the inner peripheral surface of the first opening 111. The door 115a is described as being capable of substantially closing the first opening 111. On the surface of the door 115a (the surface facing the lid 3 of the pod 1), a latch key drive mechanism 115f that is disposed inside the lid 3 and operates a latch mechanism (not shown) that fixes the lid 3 to the pod body 2 is disposed. . A suction pad 115k, which will be described later, is disposed on the door 115a, and the lid 3 is sucked and held by the door 115a by the suction pad 115k.

ポッド載置部121は、ドッキングプレート123、ポッド固定システム125、及びドッキングプレート駆動システム127を有する。ドッキングプレート123の上面は略平面とされており、該上面にはポッド固定システム125の一部が配置される。本発明に係るポッド1は、ドッキングプレート123の上面に載置され、ポッド固定システム125の当該一部、具体的にはピンがポッド1の下面に配置された被係合部と係合することによりドッキングプレート123上の所定位置に固定される。なお、ドッキングプレート123は、ポッド1を上面に載置した際に、ポッド1における本体開口2aが前述した第一の開口部111と正対するよう配置されている。ドッキングプレート駆動システム127は、ドッキングプレート123上の所定位置に固定されたポッド1を、該ドッキングプレート123と共に該第一の開口部111に向かう方向及び離間する方向に駆動する。   The pod placement unit 121 includes a docking plate 123, a pod fixing system 125, and a docking plate drive system 127. The upper surface of the docking plate 123 is substantially flat, and a part of the pod fixing system 125 is disposed on the upper surface. The pod 1 according to the present invention is placed on the upper surface of the docking plate 123, and engages with a part of the pod fixing system 125, specifically, an engaged portion arranged on the lower surface of the pod 1. Is fixed at a predetermined position on the docking plate 123. The docking plate 123 is arranged so that the main body opening 2a of the pod 1 faces the first opening 111 described above when the pod 1 is placed on the upper surface. The docking plate drive system 127 drives the pod 1 fixed at a predetermined position on the docking plate 123 in the direction toward and away from the first opening 111 together with the docking plate 123.

本実施形態では、第一の開口部111が形成される筐体105の第一の外壁面105aにおける該第一の開口部111の上辺及び下辺に対し、乾燥窒素、乾燥空気等、塵、含有水分量等が管理された清浄気体を外部空間に対して噴出し可能なガスノズル10が配置される。ガスノズル10は、第一の開口部111の上辺及び下辺、或いは後述するように左辺及び右辺の何れかに対して平行に延在する略パイプ状の本体部と、該本体部に設けられて本体部内部に供給された清浄気体を外部空間に噴出させるための噴出し口(ノズル開口)とを有する。当該ガスノズル10に対しては、初期位置にあるドッキングプレート123上に載置されたポッド1と、該ポッド1と対向する第一の開口部111との間に存在する空間の全域に対して清浄気体を供給可能となるように清浄気体の噴出し口が形成される。即ち、ガスノズルは、初期位置にあるポッド本体2における開口2aの形成面と第一の開口部111を対面とする略直方体形状の空間領域内に対して各々拡散する方向に清浄気体を噴出し可能なノズル開口を有する。該ノズル開口から噴出される清浄気体の流れ方向は、ガスノズル10の本体部の延在方向に垂直な平面内において、その全ての流れ方向をベクトルとして示した場合当該ベクトルの集合体が所謂扇形形状を形成するように当該ノズル開口は形成されている。より詳細には、ポッド載置時の所謂初期位置にある蓋3の中央を通る水平線と第一の開口部111の中央を通る水平線とを結んで得られる水平面内と、前述した扇形形状を含む平面と、の交線上の任意の点を前述したベクトルの一部が指すように当該扇形形状が形成される。最も第一の開口部111よりの点に向かうベクトルの先端は、この交線上においてドア115a表面により近く、換言すれば当該ドア115aと平行となる方向に向かうことがより好ましい。また、該ベクトルにおいて第一の開口部111より最も離れた位置に向かうものは、初期位置に存在するポッド1のフランジ部2cを向かうことが好ましい。   In the present embodiment, the upper and lower sides of the first opening 111 on the first outer wall surface 105a of the housing 105 in which the first opening 111 is formed, dry nitrogen, dry air, etc., dust, inclusion A gas nozzle 10 capable of ejecting a clean gas whose water content and the like are controlled to the external space is disposed. The gas nozzle 10 includes a substantially pipe-shaped main body extending in parallel to the upper and lower sides of the first opening 111, or the left and right sides as will be described later, and a main body provided on the main body. And an ejection port (nozzle opening) for ejecting the clean gas supplied to the inside of the unit to the external space. With respect to the gas nozzle 10, the entire area of the space existing between the pod 1 placed on the docking plate 123 in the initial position and the first opening 111 facing the pod 1 is cleaned. A clean gas ejection port is formed so that the gas can be supplied. That is, the gas nozzle can eject clean gas in the direction of diffusion into the substantially rectangular parallelepiped space region facing the formation surface of the opening 2a and the first opening 111 in the pod body 2 at the initial position. Nozzle opening. The flow direction of the clean gas ejected from the nozzle opening is a so-called fan-shaped aggregate of the vectors when all the flow directions are shown as vectors in a plane perpendicular to the extending direction of the main body of the gas nozzle 10. The nozzle openings are formed so as to form More specifically, it includes a horizontal plane obtained by connecting a horizontal line passing through the center of the lid 3 at the so-called initial position when the pod is placed and a horizontal line passing through the center of the first opening 111, and the above-described fan shape. The sector shape is formed so that a part of the vector described above points to an arbitrary point on the intersection line with the plane. It is more preferable that the tip of the vector toward the point from the first opening 111 is closer to the surface of the door 115a on this intersection line, in other words, in a direction parallel to the door 115a. Moreover, it is preferable that what goes to the position farthest from the 1st opening part 111 in this vector goes to the flange part 2c of the pod 1 which exists in an initial position.

清浄気体がこのような扇形形状を流れ方向を有するようにノズル開口を配置し、且つ第一の開口部111における対向する2辺にガスノズル10を配置することにより、ポッド1と第一の開口部111との間の空間領域を清浄気体の濃度が高められた状態に維持することが可能となる。また、ガスノズル10の配置を第一の開口部111により近づけて配置することにより、蓋3の表面に噴きつけられる清浄気体の単位面積当たりの流量を増大させることも可能となる。この場合、ポッド1を第一の開口部111に近づけるように移動させることによって、単位面積当たりに噴きつけられる清浄気体の流量を増加させることとなり、蓋3の表面に付着する塵等をより効果的に排除することが可能となる。また、本形態の如く、例えば第一の開口部111の左辺側及び右辺側へのガスノズルの配置を為さない、或いは何れか一方の辺側にのみガスノズルを配置することが好ましい。当該配置とすることにより、当該空間領域に対して供給された清浄気体の流出部分を確保することが可能となり、該流出部分を活用して蓋3の表面から除去された塵等をより効果的且つ迅速に外部空間に排出することも可能となる。即ち、ガスノズル10は、ポッド本体2がFIMSの該第一の外壁面105aに当接或いは最も近接することを妨げず、且つ該当接部分(或いは近接部分)に隣接して配置されることが好ましい。また、この場合、ガスノズル10から扇形形状に噴出される清浄気体の端部がポッド本体2の外面に沿った気体流を生成するようにガスノズル10が配置されることが好ましい。なお、ノズル開口における清浄気体の噴出し方向については、蓋3において第一の開口部111に正対する面の中心と第一の開口部111の中心とを通り、ガスノズル10が配置される対辺に挟まれ且つ当該対辺に平行な面に対して少なくとも2つの異なる方向であることが好ましい。また、ここで述べた2つの方向は当該方向をベクトルとして示した場合に、該ベクトルの終点がポッド1の進退範囲内であって進退方向に沿ってずれていることが好ましい。   The nozzle opening is arranged so that the clean gas has such a fan-shaped flow direction, and the gas nozzle 10 is arranged on two opposite sides of the first opening 111, whereby the pod 1 and the first opening are arranged. It becomes possible to maintain the space area between the two in a state where the concentration of the clean gas is increased. In addition, by disposing the gas nozzle 10 closer to the first opening 111, it is possible to increase the flow rate per unit area of the clean gas sprayed on the surface of the lid 3. In this case, by moving the pod 1 so as to approach the first opening 111, the flow rate of the clean gas sprayed per unit area is increased, and dust attached to the surface of the lid 3 is more effective. Can be eliminated. Further, as in the present embodiment, for example, it is preferable not to arrange the gas nozzles on the left side and the right side of the first opening 111, or to arrange the gas nozzles only on one side. By adopting this arrangement, it is possible to secure an outflow portion of the clean gas supplied to the space region, and it is possible to more effectively remove dust and the like removed from the surface of the lid 3 using the outflow portion. In addition, it can be quickly discharged into the external space. That is, the gas nozzle 10 is preferably disposed adjacent to the corresponding contact portion (or adjacent portion) without preventing the pod body 2 from coming into contact with or closest to the first outer wall surface 105a of the FIMS. . In this case, the gas nozzle 10 is preferably arranged so that the end of the clean gas ejected in a fan shape from the gas nozzle 10 generates a gas flow along the outer surface of the pod body 2. In addition, about the jet direction of the clean gas in a nozzle opening, it passes through the center of the surface which faces the 1st opening part 111 in the lid | cover 3, and the center of the 1st opening part 111, and is on the opposite side where the gas nozzle 10 is arrange | positioned. It is preferable that there are at least two different directions with respect to a plane sandwiched and parallel to the opposite side. Further, when the two directions described here are indicated as vectors, it is preferable that the end points of the vectors are within the advance / retreat range of the pod 1 and are shifted along the advance / retreat direction.

図1A〜1Bに示されるポッド1の移動に際しては、ポッド1のドッキングプレート123への載置が為された段階或いはそれ以前の段階よりガスノズル10からの清浄気体の供給が開始される。ポッド1の第一の開口部111への移動に伴って、ガスノズル10より蓋3の表面及びフランジ部2c表面に対して噴き付けられる清浄気体の密度は大きくなり、ガスノズル10に近づくことで流速自体も相対的に大きくなる。従って、より強固に蓋3の表面等に固着した塵等の排除も可能となる。また、ガスノズル10は、その配置の関係上、ポッド本体2の外面に沿っても清浄気体を供給する。これにより、ポッド本体2の外面の存在する塵等が回り込んで蓋3の表面に至る可能性も低減される。ポッド1が第一の開口部111に極接近した領域では、供給される清浄気体によってポッド1-ドア115a間で見かけ上圧力の高められた領域が形成される。しかし、上述したように気体の流出部分を配していることから、当該領域での清浄気体の滞留が防止され、当該滞留に伴って生じ得る塵等の再付着も防止される。その後、フランジ部2cは該第一の外壁面105aと当接或いは所定の間隔を保持した状態となり、ドア115aによるポッド本体2からの蓋3の除去操作が為される。蓋3の除去後、ドア115aは蓋3と共に微小空間103内部に移動し、ダウンフロー107aの流れに沿うように下方に移動する。これにより、図1Bに示すようにポッド開口2aと第一の開口部111とが連通した状態となる。   When moving the pod 1 shown in FIGS. 1A to 1B, the supply of the clean gas from the gas nozzle 10 is started from the stage where the pod 1 is placed on the docking plate 123 or the stage before that. As the pod 1 moves to the first opening 111, the density of the clean gas sprayed from the gas nozzle 10 to the surface of the lid 3 and the surface of the flange portion 2c increases, and the flow velocity itself approaches the gas nozzle 10. Is also relatively large. Accordingly, it is possible to remove dust and the like firmly fixed on the surface of the lid 3 and the like. Moreover, the gas nozzle 10 supplies clean gas also along the outer surface of the pod main body 2 on the relationship of the arrangement | positioning. As a result, the possibility that dust or the like existing on the outer surface of the pod body 2 wraps around and reaches the surface of the lid 3 is also reduced. In the region where the pod 1 is in close proximity to the first opening 111, a region in which the apparent pressure is increased between the pod 1 and the door 115a is formed by the supplied clean gas. However, since the gas outflow portion is provided as described above, the retention of the clean gas in the region is prevented, and the reattachment of dust and the like that can occur with the retention is also prevented. Thereafter, the flange portion 2c comes into contact with the first outer wall surface 105a or maintains a predetermined interval, and the operation of removing the lid 3 from the pod body 2 by the door 115a is performed. After removing the lid 3, the door 115a moves together with the lid 3 into the minute space 103, and moves downward along the flow of the downflow 107a. Thereby, as shown to FIG. 1B, the pod opening 2a and the 1st opening part 111 will be in the state connected.

例えば、清浄気体の噴出しをガスノズル10に設けられた単独のノズル開口から一の方向性のみを持たせて行うことも考えられる。蓋3の表面の特定位置についての塵の除去を目的とした場合、当該形態は効率的と考えられる。しかしながら、特定の方向性を付与してある程度の広さを有する空間に気体を噴出させた場合、生成される気流は周囲の気体の巻き込み、より流れ易い方向への所謂対流の生成、等が生じる恐れがある。このような巻き込み、対流等は、一旦蓋等から除去した塵を他の部位に再付着させる或いは塵の吹き溜まりのような場所を生成してしまう可能性を有している。本発明においては、扇形形状に気体流を生成するようにノズル開口を形成し、且つ当該ノズル開口をガスノズルの延在方向に連続的に形成することで、清浄気体をある程度の広がりを有する面として対象に噴き当てることとしている。更に噴き当てられた清浄気体に対して特定の流出先を提供している。これにより、前述した巻き込み、対流等の生成を抑制する、或いは仮に生成しても清浄度を維持したい空間領域に対してはこれら巻き込み等が影響を及ぼし得ない配置とすることを可能としている。従って、単一方向への清浄気体の供給を為した場合と異なり、塵等の再付着等を効果的に抑制しつつ塵等の廃除を為すことが可能となる。なお、上述した実施形態では、ガスノズルの延在方向に垂直な平面内において、当該ガスノズルに設けられたノズル開口から噴出される清浄気体は扇形形状を形成するとしている。しかし、本発明の態様は当該形態に限定されず、ポッド1と第一の開口部111との間に存在する空間領域に対して、ガスノズルの延在方向に対して垂直な平面内においてガスノズルを中心とした特定の範囲に広がるように清浄気体を噴出可能であれば良い。また当該範囲は、ポッド1の外周から当該空間領域内部を含む範囲であれば良い。また、ノズル開口はガスノズルの延在方向に連続的に設けられる(該延在方向に延在するスリット状でも良い。)ことが好ましい。   For example, it is conceivable that the clean gas is ejected from a single nozzle opening provided in the gas nozzle 10 with only one direction. When the purpose is to remove dust at a specific position on the surface of the lid 3, the form is considered to be efficient. However, when a specific directionality is given and gas is ejected into a space having a certain size, the generated airflow involves entrainment of surrounding gas, generation of so-called convection in a more easily flowing direction, etc. There is a fear. Such entrainment, convection, and the like have the possibility of causing dust once removed from the lid or the like to reattach to other parts or creating a place like dust accumulation. In the present invention, the nozzle opening is formed so as to generate a gas flow in a fan shape, and the nozzle opening is continuously formed in the extending direction of the gas nozzle, so that the clean gas has a certain extent. It is supposed to be sprayed on the subject. In addition, it provides a specific outlet for the sprayed clean gas. As a result, it is possible to suppress the generation of the above-described entrainment, convection, etc., or to arrange such that the entrainment or the like cannot affect the space area where it is desired to maintain the cleanliness even if it is generated. Therefore, unlike the case where clean gas is supplied in a single direction, it is possible to eliminate dust and the like while effectively suppressing reattachment of dust and the like. In the above-described embodiment, the clean gas ejected from the nozzle opening provided in the gas nozzle forms a fan shape in a plane perpendicular to the extending direction of the gas nozzle. However, the aspect of the present invention is not limited to this form, and the gas nozzle is disposed in a plane perpendicular to the extending direction of the gas nozzle with respect to the space region existing between the pod 1 and the first opening 111. It suffices if the clean gas can be ejected so as to spread over a specific range centered. Moreover, the said range should just be a range including the inside of the said space area | region from the outer periphery of the pod 1. FIG. The nozzle openings are preferably provided continuously in the extending direction of the gas nozzle (may be a slit extending in the extending direction).

次に、本発明の更なる実施形態について説明する。なお、以下の実施形態では、上述した実施形態とガスノズル10の配置において主に異なることから、当該配置の理解を容易とする視野に基づく以下の図面を参照する。図2は、図1A等に示す形態と異なり、第一の開口部111の左辺側及び右辺側にガスノズル10を配置した形態である。尚、同図では、ドア115a、ポッド1、及びガスノズル10を上方から見た所謂平面図での主たる構成を示している。本形態では、清浄気体の噴出し方向が複数存在し且つこれらの複数の噴出し方向が当該ガスノズル10を中心とする扇形形状を形成させするように、ガスノズル10の延在方向に垂直な平面内において複数のノズル開口を形成している。これにより、上述した実施形態と同様にポッド1-第一の開口部111間の空間領域からの塵等の除去及び当該空間の清浄気体での充満状態の確保が為される。図3は、図2と同様の様式により、更なるガスノズル10の実施形態を示している。図2に示す実施形態とは異なり、本実施形態では、ガスノズル10の内部空間からノズル開口の噴出し口近傍に至るまでの形状を微細穴から所定の平面に広げる扇形の形状とすることにより。ノズル開口から噴出される清浄気体の噴出し形状を扇形としている。図2に示す実施形態では、清浄気体に対する流れの方向性の賦与の点では優れる反面、気体流れが至らない領域が存在することから当該領域での塵等の除去効率が劣る恐れがある。これに対し、図3に示す実施形態では、清浄気体の流れの指向性で劣ることから所定部位での塵等の除去効率が劣ってしまう可能性がある反面、蓋3表面に対して常に均等に清浄気体の噴付けが為されるために全面均等な清浄化を実施することが可能となる。   Next, further embodiments of the present invention will be described. In the following embodiment, since the arrangement of the gas nozzle 10 is mainly different from the above-described embodiment, the following drawings based on the field of view that facilitates understanding of the arrangement are referred to. FIG. 2 is a form in which the gas nozzles 10 are arranged on the left side and the right side of the first opening 111, unlike the form shown in FIG. 1A and the like. In the figure, the main configuration in a so-called plan view of the door 115a, the pod 1, and the gas nozzle 10 as seen from above is shown. In this embodiment, a plurality of clean gas ejection directions exist and a plane perpendicular to the extending direction of the gas nozzle 10 is formed so that the plurality of ejection directions form a sector shape centered on the gas nozzle 10. A plurality of nozzle openings are formed. Thereby, similarly to the above-described embodiment, removal of dust and the like from the space region between the pod 1 and the first opening 111 and the filling of the space with the clean gas are ensured. FIG. 3 shows a further gas nozzle 10 embodiment in a manner similar to FIG. Unlike the embodiment shown in FIG. 2, in the present embodiment, the shape from the internal space of the gas nozzle 10 to the vicinity of the ejection opening of the nozzle opening is formed into a fan shape that widens from a fine hole to a predetermined plane. The shape of the clean gas ejected from the nozzle opening is a fan shape. In the embodiment shown in FIG. 2, the flow direction with respect to the clean gas is excellent, but there is a region where the gas flow does not reach, so there is a risk that the dust removal efficiency in the region is poor. On the other hand, in the embodiment shown in FIG. 3, the directivity of the flow of the clean gas is inferior, so that the removal efficiency of dust and the like at a predetermined site may be inferior, but it is always equal to the surface of the lid 3. Since the cleaning gas is sprayed on the entire surface, it is possible to perform uniform cleaning over the entire surface.

次に、図2に示したガスノズル10の実施形態について、より詳細且つ具体的な形態に関して図面を参照して説明する。図4は、ドア115aにより略閉鎖されている第一の開口部111及びその近傍の構成をポッド1が載置される位置より見た状態の概略構成を示している。同図において、ガスノズル10は、第一の外壁面105aにおける第一の開口部111の周囲を囲むように配置されている。該ガスノズル10は、金属板に対して貫通穴10bを形成してなる所謂パンチングメタルを管状に変形させることによって形成されている。該貫通穴は前述したノズル開口として作用し、貫通穴10bの形成領域を管の凸面に配置することによって清浄気体の複数方向への噴出しを可能としている。図5は、図4とは異なり、管状のガスノズル10に対して該ガスノズル10が延在する方向に延在するスリット10cを配置している。当該スリット10cを、管の内部から外部に近づくにつれて該スリット10cの幅(短手方向の幅)が拡大するように形成すると共に、当該スリット10cについてもこれらを管の凸面に配している。これにより、清浄気体の扇状の噴出しを得ている。なお、これら図4及び図5に示す形態では、ガスノズル10は第一の開口部111を全周取り巻く形状としている。このように、当該ガスノズル10から供給される清浄ガスによってポッド−第一の開口部間の空間領域を隔離する所謂ガスカーテンを構成することによって、外気側から当該空間領域に対する塵等の拡散を防止する効果も得られる。   Next, an embodiment of the gas nozzle 10 shown in FIG. 2 will be described with reference to the drawings with regard to a more detailed and specific form. FIG. 4 shows a schematic configuration in which the first opening 111 substantially closed by the door 115a and the configuration in the vicinity thereof are viewed from the position where the pod 1 is placed. In the same figure, the gas nozzle 10 is arrange | positioned so that the circumference | surroundings of the 1st opening part 111 in the 1st outer wall surface 105a may be enclosed. The gas nozzle 10 is formed by deforming a so-called punching metal formed by forming a through hole 10b in a metal plate into a tubular shape. The through hole acts as the nozzle opening described above, and the clean gas can be ejected in a plurality of directions by arranging the formation region of the through hole 10b on the convex surface of the pipe. Unlike FIG. 4, FIG. 5 arrange | positions the slit 10c extended in the direction which this gas nozzle 10 extends with respect to the tubular gas nozzle 10. In FIG. The slit 10c is formed so that the width (width in the short direction) of the slit 10c increases as it approaches the outside from the inside of the tube, and the slit 10c is also arranged on the convex surface of the tube. Thereby, the fan-shaped ejection of clean gas is obtained. 4 and 5, the gas nozzle 10 has a shape that surrounds the entire first opening 111. In this way, by forming a so-called gas curtain that isolates the space region between the pod and the first opening by the clean gas supplied from the gas nozzle 10, diffusion of dust and the like from the outside air to the space region is prevented. Effect is also obtained.

しかしながら、具体的構成においては、例えば第一の開口部111の下辺側のガスノズル10を取り除く、或いは口状に配置されるガスノズル10の各角部分を無くし、当該領域に対応する部分で供給される清浄ガルの流出経路を確保することとしても良い。当該構成とすれば、ガスカーテンの形成と当該カーテンによって覆われる空間領域内において清浄気体の噴き付けによって蓋等から除去された塵等の該空間領域内からの迅速な排除も可能となる。即ち、本発明におけるガスノズル10は、第一の開口部111の周囲を取り巻くように配置され且つ所定部分を削除することによって当該削除部分に対応する領域にて噴出清浄気体の流出経路を得ることとすることが好ましい。当該構成によれば、第一の開口部111の上辺、左辺及び右辺の領域に対しては清浄気体によるカーテン効果を得、且つ下辺領域では外部空間に対して所謂陽圧に保持された微小空間内部からの気体の流出を為すこととなる。これにより、微小空間内部からの過剰清浄気体の流出を妨げること無く、第一の開口部の外気側近傍を効果的に清浄気体に満たされた領域とすることが可能となる。
また、対向する二辺、具体的には第一の開口部111における上辺側と下辺側、或いは左辺側と右辺側にガスノズル10を配置することにより、個々のガスノズルから噴出された清浄気体が一旦ぶつかり、更に互いに離れる方向に流れる効果が期待できる。これにより、ポッド1−第一の開口部111間の空間領域内において当該領域より外部空間に向かう気流を容易に生成できる。当該気流の生成によって、該空間領域内に浮遊する塵等を効果的に外部空間に放出することが可能となる。
However, in a specific configuration, for example, the gas nozzle 10 on the lower side of the first opening 111 is removed, or each corner portion of the gas nozzle 10 arranged in a mouth shape is eliminated, and the gas is supplied at a portion corresponding to the region. It is good also as securing the outflow route of clean gal. With this configuration, it is possible to quickly remove dust and the like removed from the lid and the like by the formation of the gas curtain and the spray of clean gas in the space area covered by the curtain. That is, the gas nozzle 10 according to the present invention is arranged so as to surround the first opening 111, and by removing a predetermined portion, an ejection clean gas outflow path is obtained in a region corresponding to the deleted portion. It is preferable to do. According to this configuration, the upper opening, the left opening, and the right opening of the first opening 111 have a curtain effect with clean gas, and the lower opening holds a so-called positive pressure with respect to the external space. The gas will flow out from the inside. Accordingly, it is possible to effectively make the vicinity of the outside side of the first opening a region filled with clean gas without hindering the flow of excess clean gas from the inside of the minute space.
Further, by arranging the gas nozzles 10 on the two opposite sides, specifically, the upper side and the lower side or the left side and the right side in the first opening 111, the clean gas ejected from the individual gas nozzles once. It can be expected to have an effect of flowing further away from each other. Thereby, the airflow which goes to the external space from the said area | region can be easily produced | generated within the space area | region between the pod 1-1st opening part 111. FIG. Generation of the airflow makes it possible to effectively release dust and the like floating in the space area to the external space.

次に、本発明の一実施形態に係る密閉容器の蓋開閉システムの具体的構成について以下に述べる。図6は概略構成を示す該システムの側断面図であり、図7は該システム101におけるポッド載置部、ドア、ポッド、及び蓋等を同様の様式にて拡大して示した図である。また、図7はポッドの開口を蓋が閉鎖した状態での、ポッド載置部、ドア等を模式的に示す図である。FIMSシステム101は、微小空間103を構成する筐体105及び筐体105に隣接して配置されるポッド載置部121を有する。筐体105は、更にファン107、ロボット109、第一の開口部111、第二の開口部113、ドアシステム115を有する。なお、個々の構成であって先に詳細を述べたものについてはここでの説明は省略する。ロボット109におけるロボットアーム109aは、第一の開口部111及び第二の開口部113を介して微小空間の外部に突出可能となっている。第一の開口部111はドアシステム115におけるドア115aにより一見閉鎖状態とされるが、ドア115aの外周と第一の開口部111の内周面との間には隙間が形成されることから、当該ドア115aは第一の開口部111を略閉鎖可能となっていると述べる。第二の開口部113は、ウエハ処理装置117の内部と接続されているが、当該ウエハ処理装置117の詳細に関しては本発明と直接の関係を有さないために本明細書における説明は省略する。   Next, a specific configuration of the closed container lid opening / closing system according to an embodiment of the present invention will be described below. FIG. 6 is a side sectional view of the system showing a schematic configuration, and FIG. 7 is an enlarged view of the pod placement portion, door, pod, lid, and the like in the system 101 in a similar manner. FIG. 7 is a diagram schematically showing the pod placement portion, the door, and the like in a state where the opening of the pod is closed by the lid. The FIMS system 101 includes a housing 105 that forms a minute space 103 and a pod placement unit 121 that is disposed adjacent to the housing 105. The housing 105 further includes a fan 107, a robot 109, a first opening 111, a second opening 113, and a door system 115. In addition, description here is abbreviate | omitted about the thing which was individual structure and described the detail previously. The robot arm 109a in the robot 109 can project outside the minute space through the first opening 111 and the second opening 113. Although the first opening 111 is seemingly closed by the door 115a in the door system 115, a gap is formed between the outer periphery of the door 115a and the inner peripheral surface of the first opening 111. The door 115a is described as being capable of substantially closing the first opening 111. Although the second opening 113 is connected to the inside of the wafer processing apparatus 117, the details of the wafer processing apparatus 117 are not directly related to the present invention, and thus the description in this specification is omitted. .

ドッキングプレート駆動システム127は、ガイドレール127a及び駆動シリンダ127bを用いて、ドッキングプレート123と共に該所定位置に固定されたポッド1を該第一の開口部111に向かう方向及び離間する方向に駆動する。駆動用シリンダ127bは載置台本体121aに一端部が固定されており、他端部となる伸縮するシリンダ端部がドッキングプレート123に固定されている。ドッキングプレート123はガイドレール127aに対して摺動可能に支持されており、駆動シリンダ127bのシリンダ端部の伸縮に応じてガイドレール127a上を摺動する。ここで、ドッキングプレート123は、ポッド1を当該ドッキングプレート123上に外部から搭載する(ロードする)或いは取り除く(アンロードする)位置が微小空間103から最も離れた位置に存在することとなり、ポッドの蓋3を取り外す位置が微小空間103に対して最も接近する位置となる。   The docking plate drive system 127 uses the guide rail 127a and the drive cylinder 127b to drive the pod 1 fixed at the predetermined position together with the docking plate 123 in a direction toward the first opening 111 and a direction away from the first opening 111. One end of the driving cylinder 127b is fixed to the mounting table main body 121a, and the extending and contracting cylinder end serving as the other end is fixed to the docking plate 123. The docking plate 123 is slidably supported with respect to the guide rail 127a, and slides on the guide rail 127a according to the expansion and contraction of the cylinder end portion of the drive cylinder 127b. Here, the docking plate 123 has a position where the pod 1 is mounted (loaded) or removed (unloaded) from the outside on the docking plate 123 at a position farthest from the micro space 103. The position where the lid 3 is removed is the position closest to the minute space 103.

吸着パッド115kは該蓋3と当接した状態で不図示の配管を通じて負圧供給源108(図8参照)より負圧を供給することにより該蓋3を吸着し、当該蓋3をドア115aによって保持することを可能とする。ドアシステム115は、ドアアーム115b、ドア開閉アクチュエータ115c及びドア上下機構115dを有する。ドアアーム115bは棒状の部材からなり、一端においてドア115aを支持し、他端においてドア開閉アクチュエータ115cと連結されており、中間部の適当な位置において当該位置を中心に回転可能に軸支されている。ドア開閉アクチュエータ115cによって該回転中心を軸としてドアアーム115bは回転し、該ドアアーム115bの一端及びここに支持されるドア115aは第一の開口部111に対して接近或いは離間の動作を行う。ドア上下機構115dは、ドア開閉アクチュエータ115cと前述したドアアーム115bの回転軸とを支持し、上下動用アクチュエータによって上下方向に延在するガイドに沿って当該アクチュエータ及びこれに支持されるドアアーム115b及びドア115aを上下方向に駆動する。   The suction pad 115k is in contact with the lid 3 and sucks the lid 3 by supplying negative pressure from a negative pressure supply source 108 (see FIG. 8) through a pipe (not shown), and the lid 3 is attached by the door 115a. It is possible to hold. The door system 115 includes a door arm 115b, a door opening / closing actuator 115c, and a door up / down mechanism 115d. The door arm 115b is made of a rod-shaped member, supports the door 115a at one end, and is connected to the door opening / closing actuator 115c at the other end, and is pivotally supported around the position at an appropriate position in the intermediate portion. . The door arm 115b is rotated about the rotation center by the door opening / closing actuator 115c, and one end of the door arm 115b and the door 115a supported by the door arm 115b move toward or away from the first opening 111. The door up-and-down mechanism 115d supports the door opening / closing actuator 115c and the rotating shaft of the door arm 115b described above, and the actuator and the door arm 115b and the door 115a supported by the actuator along a guide extending in the vertical direction by the vertical movement actuator. Is driven vertically.

なお、図8に当該FIMSシステム101の構成をブロック図として示す。上述したファン107、ロボット109、ドアシステム115、ポッド固定システム125、及びドッキングプレート駆動システム127は、制御装置102によって各々制御される。ドアシステム115は、ラッチキー駆動機構115f、ドア開閉用アクチュエータ115c、及びドア上下機構115dを各々独立して制御可能であるが、実際上はこれら各々の構成が一連のタイムチャートに応じて動作するようにこれら構成を制御する。なお、吸着パッド115kに対する負圧供給源108からの負圧の供給及び供給停止(負圧の破壊)の動作は、制御装置102によって行われる。ドッキングプレート駆動システム127は、駆動シリンダ127bの駆動のオンオフを行うが、当該駆動シリンダ127の動作によってドッキングプレート123が確実に所定の二位置、即ちポッド1のロード位置に存在する場合とポッド1がウエハ挿脱可能な位置であるドック位置に存在する場合とを検知する必要がある。このため、ポッド1がドッキングプレート123上の載置されたこと、及びドッキングプレート123に対してポッド1をロード・アンロードすべき位置、即ち前述した初期位置に該ドッキングプレート123が存在することを検知するロードセンサ127dが、ドッキングプレート駆動システム127に接続されている。また、ドッキングプレート123が上述したドック位置に存在するか否かを検知するドックセンサ127cも該ドッキングプレート駆動システム127に接続されている。制御装置102は更にガスノズル10に対して清浄気体を供給する清浄気体供給源126に接続されており、当該制御装置102によってガスノズル10からの清浄気体の噴出しの有無、噴出し量等を制御する。   FIG. 8 shows a configuration of the FIMS system 101 as a block diagram. The above-described fan 107, robot 109, door system 115, pod fixing system 125, and docking plate drive system 127 are controlled by the control device 102, respectively. The door system 115 can independently control the latch key driving mechanism 115f, the door opening / closing actuator 115c, and the door up-and-down mechanism 115d. In practice, however, each of these components operates according to a series of time charts. Control these configurations. Note that the control device 102 performs operations of supplying negative pressure from the negative pressure supply source 108 to the suction pad 115k and stopping supply (breaking of negative pressure). The docking plate drive system 127 turns on and off the drive of the drive cylinder 127b. The operation of the drive cylinder 127 ensures that the docking plate 123 exists at two predetermined positions, that is, when the pod 1 is loaded. It is necessary to detect the case where the wafer exists at the dock position where the wafer can be inserted and removed. For this reason, it is confirmed that the pod 1 is placed on the docking plate 123 and that the docking plate 123 exists at the position where the pod 1 should be loaded / unloaded with respect to the docking plate 123, that is, at the initial position described above. A load sensor 127d to be detected is connected to the docking plate drive system 127. In addition, a dock sensor 127 c that detects whether or not the docking plate 123 is present at the dock position described above is also connected to the docking plate drive system 127. The control device 102 is further connected to a clean gas supply source 126 that supplies clean gas to the gas nozzle 10, and the control device 102 controls whether or not the clean gas is ejected from the gas nozzle 10, the amount of ejection, and the like. .

ここで、実際にウエハ処理作業を行う際の当該FIMSシステム101の動作について説明する。ウエハ処理作業において、所定枚数のウエハを収容し内部が清浄気体によって満たされたポッド1がドッキングプレート123上に載置される。ドッキングプレート123を載置する際に、ポッド固定システム125が動作してドッキングプレート123に対するポッド1の載置位置を所定のものとする。その際、制御装置102は清浄気体の使用量削減の観点からガスノズル10からの気体噴出を停止させていても良く、該載置位置の清浄化を図る観点から微少量の気体噴出を行わせていても良い。このような清浄気体の噴出の実施によって、ドア115a及び第一の開口部111の前面領域における塵等の存在確率を低減し、予めポッド1の載置空間の環境の適正化を図ることも可能である。続いてドッキングプレート駆動システム127が動作し、ポッド1を第一の開口部111に向けて駆動する。具体的には、ポッド固定システム125によってドッキングプレート123と一体化されたポッド1を、ドッキングプレート123を介する様式にて駆動シリンダ127bが移動させる。その際、ドア115aは第一の開口部111を略閉鎖する位置で停止している。当該動作時において、制御装置102は清浄気体供給源126に対してガスノズル10に対する気体の供給を行わせ、所定流量の清浄気体の噴出を行わせる。当該駆動動作は、ポッド1の蓋3がドア115aの当接面と当接し、ドッキングプレート123と第一の開口部111と所定の位置関係となった段階にて終了する。なお、清浄気体の供給は、この段階で停止しても良いが、ポッド1の外周からの塵等の除去或いは拡散防止の観点から、微小空間113からの気体の流出を妨げない流量の供給を実施することとしても良い。この時、ラッチキー駆動機構115fが動作して蓋3のポッド本体2に対する固定を解除する。同時に、吸着パッド115kが蓋3を吸着し、蓋3がドア115aによって保持された状態となる。   Here, the operation of the FIMS system 101 when actually performing the wafer processing operation will be described. In the wafer processing operation, the pod 1 containing a predetermined number of wafers and filled with a clean gas is placed on the docking plate 123. When placing the docking plate 123, the pod fixing system 125 operates to set the placement position of the pod 1 relative to the docking plate 123 to a predetermined one. At that time, the control device 102 may stop the gas ejection from the gas nozzle 10 from the viewpoint of reducing the amount of clean gas used, and a small amount of gas is ejected from the viewpoint of cleaning the mounting position. May be. By carrying out such a jet of clean gas, it is possible to reduce the existence probability of dust and the like in the front area of the door 115a and the first opening 111, and to optimize the environment of the placement space of the pod 1 in advance. It is. Subsequently, the docking plate drive system 127 is operated to drive the pod 1 toward the first opening 111. Specifically, the drive cylinder 127 b moves the pod 1 integrated with the docking plate 123 by the pod fixing system 125 in a manner through the docking plate 123. At that time, the door 115a stops at a position where the first opening 111 is substantially closed. At the time of the operation, the control device 102 causes the clean gas supply source 126 to supply gas to the gas nozzle 10 and to eject clean gas at a predetermined flow rate. The driving operation ends when the lid 3 of the pod 1 comes into contact with the contact surface of the door 115a and the docking plate 123 and the first opening 111 are in a predetermined positional relationship. The supply of clean gas may be stopped at this stage, but from the viewpoint of removing dust or the like from the outer periphery of the pod 1 or preventing diffusion, supply a flow rate that does not hinder the outflow of gas from the micro space 113. It may be implemented. At this time, the latch key drive mechanism 115f operates to release the fixation of the lid 3 to the pod body 2. At the same time, the suction pad 115k sucks the lid 3, and the lid 3 is held by the door 115a.

当該状態からドア開閉アクチュエータ115cが動作を開始し、ドアアーム115bが回動して蓋3を保持するドア115aを第一の開口部111から微小空間103の内部方向に運ぶ。ドアアーム115bが所定角度で回動を停止した後、ドア上下機構115dが動作を開始し、ドア開閉アクチュエータ115cと共にドア115aを下方に移動させる。当該動作によって第一の開口部111は全開状態となり、微小空間103は第一の開口部111を介してポッド本体2の内部と連通した状態となる。この状態においてロボット109が動作を開始し、ロボットアーム109aによってウエハ4をポッド1の内部から第二の開口部113を介してウエハ処理装置117に搬送する。また、この状態を維持して、当該ロボット109は、更にウエハ処理装置117内部において所定の処理が施されたウエハをポッド1内部へも搬送する。蓋3をポッド1に取り付け、ポッド1をFIMSシステム101より取り外し可能とする場合には、基本的にはこれら動作が逆に行われる。   From this state, the door opening / closing actuator 115 c starts operating, and the door arm 115 b rotates to carry the door 115 a holding the lid 3 from the first opening 111 toward the inside of the minute space 103. After the door arm 115b stops rotating at a predetermined angle, the door up-and-down mechanism 115d starts operating, and moves the door 115a together with the door opening / closing actuator 115c. By this operation, the first opening 111 is fully opened, and the minute space 103 is in communication with the inside of the pod main body 2 through the first opening 111. In this state, the robot 109 starts operating, and the wafer 4 is transferred from the inside of the pod 1 to the wafer processing apparatus 117 through the second opening 113 by the robot arm 109a. Further, while maintaining this state, the robot 109 transports the wafer that has been subjected to the predetermined processing in the wafer processing apparatus 117 to the pod 1. When the lid 3 is attached to the pod 1 and the pod 1 can be removed from the FIMS system 101, these operations are basically performed in reverse.

以上に述べた蓋開閉システムたるFIMSシステムを用いることにより、ポッドの開口を閉鎖する蓋がドアに保持される前段階において該蓋の表面に付着した極微小な塵等を低減し、これら塵等のポッド内部への持ち込みを抑制することが可能となる。より具体的には、ポッドのローディング位置たる初期位置に存在するポッドと第一の開口部との間の空間領域に対して、当該空間に対して第一の開口部と平行な面状に気体の供給を行っている。これにより、当該空間領域を覆う所謂ガスカーテンを生成し、外部空間からの塵等の侵入を防止している。また、当該面内においては、当該空間領域から外部空間側に向かう流れも生成されている。以上の清浄気体の流れの生成によって、当該空間領域内部の構成に付着して存在する塵等の被付着物からの除去と、除去済みの塵等の該空間領域からの効果的且つ迅速的な除去が可能となる。なお、上述した実施形態においてガスノズル10の配置について述べているが、詳述した形態はあくまで例示であり、当該ガスノズルは求められる清浄気体の供給量、流速等に応じて適宜増減、配置の変更等為されることが好ましい。また、各辺に応じて配置されるガスノズルを個々に分離し且つ延在方向を軸として回動可能となるように駆動系を配置しても良い。この場合、制御装置102はポッド1の駆動に伴ってガスノズル10を回動させ、清浄気体の噴出し方向をポッド−第一の開口部間の空間領域内、或いはポッドの蓋表面に対してより効率良く清浄気体の供給を行うことが可能となる。   By using the FIMS system, which is the lid opening / closing system described above, the dust that adheres to the surface of the lid before the lid that closes the pod opening is held by the door is reduced. Can be prevented from being brought into the pod. More specifically, the gas in a plane parallel to the first opening with respect to the space with respect to the space region between the pod and the first opening existing at the initial position as the loading position of the pod. Supply. As a result, a so-called gas curtain covering the space area is generated to prevent entry of dust and the like from the external space. In addition, in the plane, a flow from the space area toward the external space is also generated. By generating the flow of the clean gas as described above, it is possible to remove dust and the like attached to the internal structure of the space region from the adherend, and to effectively and quickly remove the removed dust and the like from the space region. Removal is possible. In addition, although arrangement | positioning of the gas nozzle 10 is described in embodiment mentioned above, the form explained in full detail is an illustration to the last, The said gas nozzle increases / decreases suitably according to the supply amount, flow velocity, etc. of the clean gas calculated | required, change of arrangement | positioning, etc. Preferably it is done. Further, the drive system may be arranged so that the gas nozzles arranged according to the respective sides are individually separated and can be rotated about the extending direction. In this case, the control device 102 rotates the gas nozzle 10 as the pod 1 is driven, so that the clean gas is ejected in the space region between the pod and the first opening or the lid surface of the pod. It becomes possible to supply clean gas efficiently.

以上述べた実施形態では、本発明はウエハを対象とするFIMSシステムに関して主として述べている。しかしながら、本発明の適用対象は該システムに限定されず、例えばディスプレイ用のパネル、光ディスク等を収容する密閉容器等に対しても適用可能である。また、上述したガスノズルは蓋開閉システムを構成する場合の特徴的一要素として記載しているが、当該ガスノズル、及び必要であれば当該ガスノズルを駆動或いは動作させる制御装置を含めた構成は、FIMSシステム用の外部空間パージ用ユニットとして独立した装置としての発明と捕らえることも可能である。   In the embodiments described above, the present invention is mainly described with respect to the FIMS system for wafers. However, the application target of the present invention is not limited to the system, and can be applied to, for example, a sealed container that accommodates a display panel, an optical disk, or the like. In addition, the gas nozzle described above is described as a characteristic element for configuring a lid opening / closing system. However, the configuration including the gas nozzle and a control device that drives or operates the gas nozzle if necessary includes a FIMS system. It can also be regarded as an invention as an independent device as an external space purge unit.

本発明の一実施形態に係る蓋開閉システムの概略構成を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically schematic structure of the lid | cover opening / closing system which concerns on one Embodiment of this invention. 図1Aに示す蓋開閉システムの模式図であって、ポッドが開口部に接続されて蓋がポッドより除去された状態を示す図である。FIG. 1B is a schematic diagram of the lid opening / closing system shown in FIG. 1A, showing a state where the pod is connected to the opening and the lid is removed from the pod. ガスノズルの一実施形態について、ポッド、ガスノズル等を上面から見た状態の主たる構成を示す図である。It is a figure which shows the main structures of the state which looked at the pod, the gas nozzle, etc. from the upper surface about one Embodiment of a gas nozzle. 図2と同様の様式にてガスノズルの更なる形態を示す図である。FIG. 3 shows a further configuration of the gas nozzle in the same manner as in FIG. ガスノズルの更なる形態について、第一の開口部、ガスノズル等をポッドの載置位置より見た状態の主たる構成を示す図である。It is a figure which shows the main structures of the state which looked at the 1st opening part, the gas nozzle, etc. from the mounting position of the pod about the further form of a gas nozzle. 図4と同様の様式にてガスノズルの他の形態を示す図である。It is a figure which shows the other form of a gas nozzle in the same manner as FIG. 本発明の一実施形態に係るロードポート装置の概略構成を示す側断面図である。It is a sectional side view showing the schematic structure of the load port device concerning one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係るロードポート装置の主要部概略構成を図6と同様の様式にて示す拡大側断面図である。It is an expanded sectional side view which shows the principal part schematic structure of the load port apparatus which concerns on one Embodiment of this invention in the style similar to FIG. 本発明の一実施形態に係るFIMSシステムの概略構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows schematic structure of the FIMS system which concerns on one Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1:ポッド、 2:ポッド本体、 3:蓋、 4:ウエハ、 10:ガスノズル、 101:ロードポート装置、 102:制御装置、 103:微小空間、 105:筐体、 107:ファン、 108:負圧供給源 109:ロボット、 111:第一の開口部、 113:第二の開口部、 115:ドアシステム、 117:ウエハ処理装置、 121:ポッド載置部、 123:ドッキングプレート、 125:ポッド固定システム、 126:清浄気体供給源、 127:ドッキングプレート駆動システム、 1: Pod, 2: Pod body, 3: Cover, 4: Wafer, 10: Gas nozzle, 101: Load port device, 102: Control device, 103: Micro space, 105: Housing, 107: Fan, 108: Negative pressure Supply source 109: Robot, 111: First opening, 113: Second opening, 115: Door system, 117: Wafer processing apparatus, 121: Pod placement unit, 123: Docking plate, 125: Pod fixing system 126: Clean gas supply source, 127: Docking plate drive system,

Claims (8)

被収容物を内部に収容可能であって一面に開口を有する箱状の本体と、前記本体から分離可能であって前記開口を塞いで前記本体と共に密閉空間を形成する蓋と、を備える密閉容器から前記蓋を取り外すことによって前記開口を開放して前記被収容物の挿脱を可能とする、前記蓋の開閉システムであって、
前記密閉容器が載置される載置台と、
前記載置台と隣接して配置され、塵が管理されて前記被収容物を搬送する機構が収容される微小空間と、
前記載置台に隣接して前記微小空間の一部を確定する壁に形成されて、前記載置台に載置された前記密閉容器における前記開口と正対可能な配置に設けられた矩形状の開口部と、
前記蓋を保持可能であると共に前記開口部を閉止可能であり、前記蓋を保持して前記開口部を開放することにより前記開口と前記開口部とを連通させるドアと、
前記壁の前記載置台側の面上であって、前記開口部の辺に沿って各々延在し、前記開口部の少なくとも対辺に隣接して配置される複数のガスノズルと、を有し、
前記ガスノズルは、前記辺に沿って配置され、前記密閉容器における開口形成面と前記開口部を対面とする空間領域内に対して各々拡散する方向に清浄気体を噴出し可能なノズル開口を有し、
前記開口部の四辺の内の少なくとも一辺を、前記ガスノズルから供給される前記清浄気体が流出するための前記ガスノズルを除いた領域とすることを特徴とする密閉容器の蓋開閉システム。
An airtight container comprising: a box-shaped main body capable of accommodating an object to be contained therein and having an opening on one side; and a lid which is separable from the main body and closes the opening to form a sealed space together with the main body. The lid opening and closing system that enables the insertion and removal of the object to be stored by removing the lid from the opening,
A mounting table on which the sealed container is mounted;
A minute space disposed adjacent to the mounting table, in which dust is controlled and a mechanism for transporting the object to be stored is stored;
A rectangular opening that is formed on a wall that defines a part of the micro space adjacent to the mounting table, and that can be directly opposed to the opening in the sealed container mounted on the mounting table. And
A door capable of holding the lid and closing the opening, and holding the lid and opening the opening to communicate the opening and the opening;
A plurality of gas nozzles on the surface of the mounting table side of the wall, each extending along a side of the opening, and arranged adjacent to at least the opposite side of the opening;
The gas nozzle is disposed along the side and has a nozzle opening capable of ejecting a clean gas in a direction in which the gas nozzle diffuses into a space region facing the opening forming surface and the opening in the sealed container. ,
A lid opening / closing system for a sealed container, wherein at least one side of the four sides of the opening is an area excluding the gas nozzle from which the clean gas supplied from the gas nozzle flows out.
前記載置台は前記密閉容器の蓋の開閉位置まで前記密閉容器を移動可能であって、
前記載置台上への前記密閉容器の載置或いは前記載置台による前記密閉容器の移動の開始に応じて前記ガスノズルによる前記清浄気体の所定流量の供給を開始し、前記蓋の前記ドアへの当接による前記載置台の停止に応じて前記清浄気体の供給を停止する或いは前記所定流量を減少させる制御装置を更に有することを特徴とする請求項1に記載の蓋開閉システム。
The mounting table is capable of moving the sealed container to the open / close position of the lid of the sealed container,
In response to the placement of the sealed container on the mounting table or the movement of the sealed container by the mounting table, supply of a predetermined flow rate of the clean gas by the gas nozzle is started, and the lid is applied to the door. The lid opening / closing system according to claim 1, further comprising a control device that stops the supply of the clean gas or reduces the predetermined flow rate in response to the stop of the mounting table due to contact.
前記ノズル開口は、前記ガスノズルの延在方向に垂直な平面内において前記清浄気体の流出範囲が前記ガスノズル近傍から遠方に至るに伴って拡大する扇形状の流出様式を有するように形成されることを特徴とする請求項1又は2に記載の蓋開閉システム。   The nozzle opening is formed to have a fan-shaped outflow pattern in which the outflow range of the clean gas expands from the vicinity of the gas nozzle to the far side in a plane perpendicular to the extending direction of the gas nozzle. The lid opening / closing system according to claim 1 or 2, characterized in that 前記清浄気体の流出範囲において、前記扇形状の外側の流れの向きは前記密閉容器において前記ガスノズルと対向する外周部であって前記対辺のガスノズルから供給される清浄気体の外側の流れの向きと平行であり、前記扇形状の内側は前記密閉容器が前記ドアに近接した状態における前記蓋の中心に流れの向きとなることを特徴とする請求項3に記載の蓋開閉システム。   In the clean gas outflow range, the fan-shaped outer flow direction is an outer peripheral portion facing the gas nozzle in the sealed container and parallel to the outer flow direction of the clean gas supplied from the gas nozzle on the opposite side. The lid opening / closing system according to claim 3, wherein the inside of the fan shape has a flow direction in the center of the lid in a state where the sealed container is close to the door. 前記ノズル開口は、前記ガスノズルの延在方向に垂直な平面内において、前記空間領域内部の異なる点に向かように複数形成されることを特徴とする請求項1乃至4の何れかに記載の蓋開閉システムThe said nozzle opening is formed in multiple numbers so that it may face in the different point inside the said space area | region in the plane perpendicular | vertical to the extension direction of the said gas nozzle. Lid opening / closing system . 前記対辺は前記開口部の左辺及び右辺であることを特徴とする請求項1乃至5の何れかに記載の蓋開閉システム。   The lid opening / closing system according to claim 1, wherein the opposite sides are a left side and a right side of the opening. 前記ガスノズルは前記対辺とは異なる対辺の内の一方の辺に対しても配置されることを特徴とする請求項1乃至6の何れかに記載の蓋開閉システム。   The lid opening / closing system according to any one of claims 1 to 6, wherein the gas nozzle is disposed also on one side of an opposite side different from the opposite side. 被収容物を内部に収容可能であって一面に開口を有する箱状の本体と、前記本体から分離可能であって前記開口を塞いで前記本体と共に密閉空間を形成する蓋と、を備える密閉容器から前記蓋を取り外すことによって前記開口を開放して前記被収容物の挿脱を可能とする、前記蓋の開閉方法であって、
前記密閉容器が載置されて、前記密閉容器を蓋の開閉位置まで移動可能な載置台と、
前記載置台と隣接して配置され、塵が管理されて前記被収容物を搬送する機構が収容される微小空間と、
前記載置台に隣接して前記微小空間の一部を確定する壁に形成されて、前記載置台に載置された前記密閉容器における前記開口と正対可能な配置に設けられた矩形状の開口部と、
前記蓋を保持可能であると共に前記開口部を閉止可能であり、前記蓋を保持して前記開口部を開放することにより前記開口と前記開口部とを連通させるドアと、
前記壁の前記載置台側の面上であって、前記開口部の辺に沿って各々延在し、前記開口部の少なくとも対辺に隣接して配置される複数のガスノズルと、を有し、
前記ガスノズルは、前記辺に沿って配置され、前記密閉容器における開口形成面と前記開口部を対面とする空間領域内に対して各々拡散する方向に清浄気体を噴出し可能なノズル開口を有し、
前記開口部の四辺の内の少なくとも一辺を、前記ガスノズルから供給される前記清浄気体が流出するための前記ガスノズルを除いた領域とする蓋開閉装置において、
前記密閉容器を前記載置台上に載置し、
前記載置台が前記密閉容器を前記蓋の開閉位置まで移動させ、
前記蓋の開閉位置において前記ドアが前記蓋を保持し、
前記ドアが前記蓋を前記密閉容器から取り外すことにより前記密閉容器開口を開放して前記密閉容器と前記微小空間とを連通させる方法であって、
前記密閉容器が前記載置台に載置されて前記載置台により移動されて前記蓋の開閉位置至る際に、前記密閉容器の載置或いは前記密閉容器の移動の開始に応じて前記ガスノズルから前記密閉容器に対する所定流量での清浄気体の噴き付けが開始され、前記蓋の前記ドアへの当接により前記移動が停止されることに応じて前記清浄気体の供給を停止する或いは前記所定流量を減少させることを特徴とする密閉容器の蓋開閉方法。
An airtight container comprising: a box-shaped main body capable of accommodating an object to be contained therein and having an opening on one side; and a lid which is separable from the main body and closes the opening to form a sealed space together with the main body. The opening and closing method of the lid, wherein the opening is opened by detaching the lid from and the insertion and removal of the object to be accommodated is possible.
A mounting table on which the closed container is mounted and the closed container is movable to an open / close position of a lid;
A minute space disposed adjacent to the mounting table, in which dust is controlled and a mechanism for transporting the object to be stored is stored;
A rectangular opening that is formed on a wall that defines a part of the micro space adjacent to the mounting table, and that can be directly opposed to the opening in the sealed container mounted on the mounting table. And
A door capable of holding the lid and closing the opening, and holding the lid and opening the opening to communicate the opening and the opening;
A plurality of gas nozzles on the surface of the mounting table side of the wall, each extending along a side of the opening, and arranged adjacent to at least the opposite side of the opening;
The gas nozzle is disposed along the side and has a nozzle opening capable of ejecting a clean gas in a direction in which the gas nozzle diffuses into a space region facing the opening forming surface and the opening in the sealed container. ,
In the lid opening and closing device, wherein at least one side of the four sides of the opening is a region excluding the gas nozzle for the clean gas supplied from the gas nozzle to flow out,
Place the sealed container on the mounting table,
The mounting table moves the sealed container to the open / close position of the lid,
The door holds the lid at the open / close position of the lid,
The door opens the sealed container opening by removing the lid from the sealed container to allow the sealed container and the minute space to communicate with each other.
When the sealed container is placed on the mounting table and moved by the mounting table to reach the open / close position of the lid, the sealed nozzle is sealed from the gas nozzle in response to the placement of the sealed container or the start of movement of the sealed container. The supply of the clean gas is stopped or the predetermined flow rate is decreased in response to the start of spraying of the clean gas at a predetermined flow rate on the container and the movement being stopped by the contact of the lid with the door. A method for opening and closing the lid of a sealed container.
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