JP2019161117A - Efem, and gas replacement method in efem - Google Patents

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Abstract

To suppress emission of particles into a transfer chamber while suppressing increase of cost in an EFEM of a type that circulates an inert gas inside of a housing.SOLUTION: An EFEM 1 comprises: a transfer chamber 41 in which nitrogen purified by an FFU 44 for removing particles flows in a predetermined direction; and a feedback path 43 for returning nitrogen from a downstream side of the transfer chamber 41 to the FFU 44, and is configured to circulate nitrogen. The EFEM 1 also comprises a transfer robot 3 which is disposed inside of the transfer chamber 41 and performs predetermined operation in a state where a wafer is held. The transfer robot 3 includes: a case member 61 in which an opening is formed; an arm mechanism 70 which is disposed outside of the case member 61 and holds the wafer; a support which supports the arm mechanism 70 and is inserted into the opening; and a drive mechanism which is accommodated in the case member 61 and drives the support. A connection path 82a is provided for connecting the case member 61 with the feedback path 43.SELECTED DRAWING: Figure 7

Description

本発明は、不活性ガスを循環させることが可能なＥＦＥＭ（Equipment Front End Module）に関する。   The present invention relates to an EFEM (Equipment Front End Module) capable of circulating an inert gas.

特許文献１には、半導体基板（ウェハ）に所定の処理を施す処理装置と、ウェハが収容されるＦＯＵＰ（Front-Opening Unified Pod）との間でウェハの受渡しを行う、ＥＦＥＭが開示されている。ＥＦＥＭは、ウェハの搬送が行われる搬送室が形成された筐体と、筐体の外側に並べて配置され、ＦＯＵＰがそれぞれ載置される複数のロードポートと、搬送室内に延びたレール上を走行してウェハの搬送を行う搬送装置と、を備える。   Patent Document 1 discloses an EFEM that delivers a wafer between a processing apparatus that performs predetermined processing on a semiconductor substrate (wafer) and a FOUP (Front-Opening Unified Pod) in which the wafer is accommodated. . The EFEM travels on a rail in which a transfer chamber in which a wafer is transferred is formed, a plurality of load ports arranged side by side on the outside of the case and on which FOUPs are respectively mounted, and a rail extending into the transfer chamber. And a transfer device for transferring the wafer.

従来、ウェハ上で製造される半導体回路に対する搬送室内の酸素や水分等の影響は少なかったが、近年、半導体回路のさらなる微細化に伴い、それらの影響が顕在化してきている。そこで、特許文献１に記載のＥＦＥＭは、不活性ガスである窒素で搬送室内が満たされるように構成されている。具体的には、ＥＦＥＭは、筐体の内部で窒素を循環させる、搬送室を含む循環流路と、循環流路に窒素を供給するガス供給手段と、循環流路から窒素を排出するガス排出手段とを備える。窒素は、循環流路内の酸素濃度等の変動に応じて適宜供給及び排出される。これにより、窒素を常時供給及び排出する構成と比べて窒素の供給量の増大を抑えつつ、搬送室内を窒素雰囲気に保つことが可能となる。   Conventionally, the influence of oxygen, moisture, and the like in the transfer chamber on the semiconductor circuit manufactured on the wafer has been small, but in recent years, the influence has become obvious as the semiconductor circuit is further miniaturized. Therefore, the EFEM described in Patent Document 1 is configured so that the transfer chamber is filled with nitrogen, which is an inert gas. Specifically, the EFEM is configured to circulate nitrogen inside the casing, a circulation flow path including a transfer chamber, a gas supply unit that supplies nitrogen to the circulation flow path, and a gas discharge that discharges nitrogen from the circulation flow path. Means. Nitrogen is appropriately supplied and discharged according to fluctuations in the oxygen concentration and the like in the circulation channel. This makes it possible to keep the inside of the transfer chamber in a nitrogen atmosphere while suppressing an increase in the amount of nitrogen supplied compared to a configuration in which nitrogen is constantly supplied and discharged.

ところで、窒素の供給量の増大を抑制しつつ搬送室内を適切な雰囲気に保つためには、酸素濃度や湿度等を監視するセンサ機器等の設置が必要となる。しかし、単純にセンサ機器等を搬送室内に設置すると、走行する搬送装置と干渉するおそれがある。そこで、本願発明者は、レール上を走行する搬送装置の代わりに、特許文献２に記載されているような、位置が固定された搬送装置（搬送ロボット）の適用を検討している。詳細には、搬送ロボットは、搬送室内に固定された中空の胴体と、胴体から上方に突出するように配置された支柱と、支柱を上下駆動する駆動機構と、支柱に取り付けられて水平駆動され、ウェハを保持して搬送する多関節アームとを備える。このような搬送ロボットは、多関節アームが水平駆動されることで、複数のロードポートに載置されたＦＯＵＰにアクセス可能である。つまり、搬送室内にレールがなく、胴体が走行しないので、その分、搬送室内にセンサ機器等の設置スペースを確保することが可能となる。   By the way, in order to maintain an appropriate atmosphere in the transfer chamber while suppressing an increase in the supply amount of nitrogen, it is necessary to install a sensor device or the like for monitoring the oxygen concentration, humidity, and the like. However, if a sensor device or the like is simply installed in the transfer chamber, there is a risk of interference with the traveling transfer device. Therefore, the inventor of the present application is considering the application of a transfer device (transfer robot) whose position is fixed as described in Patent Document 2, instead of the transfer device that travels on the rail. Specifically, the transfer robot is a hollow body fixed in the transfer chamber, a column arranged to protrude upward from the body, a drive mechanism for driving the column up and down, and attached to the column to be driven horizontally. And an articulated arm that holds and conveys the wafer. Such a transfer robot can access FOUPs placed on a plurality of load ports by horizontally driving the articulated arm. That is, since there is no rail in the transfer chamber and the body does not travel, it is possible to secure an installation space for sensor devices or the like in the transfer chamber.

特開２０１５−１４６３４９号公報JP-A-2015-146349 特開２０１２−１６９６９１号公報JP2012-169691A

特許文献２に記載の搬送ロボットにおいては、多関節アームを支持する支柱が上下駆動されることで、ウェハが上下方向にも搬送される。このような搬送ロボットを特許文献１に記載のＥＦＥＭに適用する場合、以下のような問題が生じる。すなわち、駆動機構の動作時に胴体内に発生しうるパーティクルを除去するために、胴体内の気体（不活性ガス）をＥＦＥＭ筐体外である外部空間に排出するように構成すると、胴体と支柱との間に空いた隙間を介して、搬送室内に供給した窒素が胴体内に吸引され、そして外部空間に排出されてしまう。このため、その分窒素を補充する必要が生じ、窒素の供給コストが増大するおそれがある。かといって、胴体から外部へ窒素を排出しないように構成すると、今度は、支柱が下方へ引っ込むように駆動される（胴体の内部容積が小さくなる）際に、胴体内の気体（不活性ガス）が支柱の移動に伴って周辺に押し出される。このため、パーティクルを含んだ気体（不活性ガス）が、上記隙間を介して搬送室内に放出されるおそれがある。   In the transfer robot described in Patent Literature 2, the wafer is also transferred in the vertical direction by vertically driving the column supporting the articulated arm. When such a transfer robot is applied to the EFEM described in Patent Document 1, the following problems occur. In other words, in order to remove particles that may be generated in the fuselage during the operation of the drive mechanism, if the gas (inert gas) in the fuselage is discharged to an external space outside the EFEM housing, Nitrogen supplied into the transfer chamber is sucked into the fuselage through a gap formed between them and discharged to the external space. For this reason, it is necessary to replenish nitrogen accordingly, and the supply cost of nitrogen may increase. However, if it is configured not to discharge nitrogen from the fuselage to the outside, the gas in the fuselage (inert gas) is now driven when the column is driven to retract downward (the volume of the fuselage is reduced). ) Is pushed out to the periphery as the column moves. For this reason, there is a possibility that gas containing particles (inert gas) may be discharged into the transfer chamber through the gap.

本発明の目的は、筐体内の不活性ガスを循環させるタイプのＥＦＥＭにおいて、コストの増大を抑えつつ、搬送室内にパーティクルが放出されることを抑制することである。   An object of the present invention is to suppress release of particles into a transfer chamber while suppressing an increase in cost in an EFEM of a type that circulates an inert gas in a housing.

第１の発明のＥＦＥＭは、パーティクルを除去するファンフィルタユニットによって清浄化された不活性ガスが所定方向に流れる搬送室と、前記搬送室の前記所定方向における下流側から前記ファンフィルタユニットへ前記不活性ガスを戻す帰還路と、を有し、前記不活性ガスが循環するように構成されたＥＦＥＭであって、前記搬送室内に配置され、基板を保持した状態で所定の動作を行う自動装置を備え、前記自動装置は、開口が形成されたケース部材と、前記ケース部材の外側に配置され、前記基板を保持する保持部と、前記保持部を支持し、前記開口に挿通された支持部と、前記ケース部材に収容され、前記支持部を駆動する駆動機構と、を有し、前記ケース部材と前記帰還路とを接続する接続路が設けられていることを特徴とするものである。   The EFEM of the first invention includes a transfer chamber in which an inert gas cleaned by a fan filter unit that removes particles flows in a predetermined direction, and the downstream from the downstream side of the transfer chamber in the predetermined direction to the fan filter unit. An EFEM configured to circulate the inert gas, and is arranged in the transfer chamber and performs a predetermined operation while holding the substrate. The automatic device includes a case member having an opening formed therein, a holding unit that is disposed outside the case member and holds the substrate, a support unit that supports the holding unit and is inserted through the opening, And a drive mechanism that is housed in the case member and drives the support portion, and a connection path that connects the case member and the return path is provided. Than is.

自動装置が有する駆動機構によって支持部が駆動されることで、ケース部材の内部空間においてパーティクルが発生しうる。このパーティクルを含んだ不活性ガスが、ケース部材の開口と支持部との間の隙間から漏れると、搬送室内がパーティクルによって汚染されるおそれがある。本発明では、ケース部材と帰還路とを接続する接続路が設けられているので、仮にケース部材の内部空間でパーティクルが発生しても、このパーティクルは接続路を介して帰還路に排出されるため、搬送室内にパーティクルが漏れることを抑制できる。さらに、帰還路に排出されたパーティクルは、帰還路の下流側に配置されたファンフィルタユニットによって除去される。したがって、ケース部材の内部空間で発生したパーティクルによって搬送室が汚染されることを抑制できる。また、このような構成では、ケース部材内の不活性ガスがそのまま外部に排出されないので、ケース部材内から排出された分の不活性ガスを補充する必要がなく、不活性ガスの供給量の増大を抑制できるため、コストの増大を抑制できる。したがって、筐体内の不活性ガスを循環させるタイプのＥＦＥＭにおいて、コストの増大を抑えつつ、搬送室内にパーティクルが放出されることを抑制することができる。   Particles can be generated in the internal space of the case member by driving the support portion by the drive mechanism of the automatic device. If the inert gas containing particles leaks from the gap between the opening of the case member and the support portion, the transfer chamber may be contaminated by the particles. In the present invention, since the connection path that connects the case member and the return path is provided, even if particles are generated in the internal space of the case member, the particles are discharged to the return path via the connection path. Therefore, it is possible to prevent particles from leaking into the transfer chamber. Further, the particles discharged to the return path are removed by a fan filter unit arranged on the downstream side of the return path. Therefore, it is possible to prevent the transfer chamber from being contaminated by particles generated in the internal space of the case member. Further, in such a configuration, since the inert gas in the case member is not directly discharged to the outside, it is not necessary to replenish the inert gas discharged from the case member, and the supply amount of the inert gas is increased. Therefore, an increase in cost can be suppressed. Therefore, in the EFEM of the type that circulates the inert gas in the casing, it is possible to suppress the release of particles into the transfer chamber while suppressing an increase in cost.

第２の発明のＥＦＥＭは、前記第１の発明において、前記ケース部材内の不活性ガスを、前記接続路を介して前記帰還路へ送り出すファンをさらに備えることを特徴とするものである。   The EFEM of the second invention is characterized in that in the first invention, the EFEM further includes a fan for sending the inert gas in the case member to the return path through the connection path.

本発明では、ファンにより生成される気流によって、ケース部材内の不活性ガスを確実に帰還路へ送ることができるので、ケース部材内の不活性ガスが開口と支持部との間の隙間から漏れることを抑制し、搬送室内にパーティクルが放出されることをより確実に抑制することができる。   In the present invention, since the inert gas in the case member can be reliably sent to the return path by the airflow generated by the fan, the inert gas in the case member leaks from the gap between the opening and the support portion. This can be suppressed, and the release of particles into the transfer chamber can be more reliably suppressed.

第３の発明のＥＦＥＭは、前記第２の発明において、前記ファンを回転駆動するファン駆動装置と、前記ファン駆動装置を制御する制御部と、をさらに備え、前記制御部は、 前記駆動機構が動作しているときに、前記駆動機構が動作していないときと比べて前記ファンの回転速度を速くすることを特徴とするものである。   According to a third aspect of the present invention, the EFEM according to the second aspect further includes a fan driving device that rotationally drives the fan, and a control unit that controls the fan driving device, wherein the control unit includes the driving mechanism. When operating, the rotational speed of the fan is increased compared to when the drive mechanism is not operating.

ケース部材内においては、駆動機構が動作して支持部を駆動しているときに、パーティクルが発生しやすいおそれがある。本発明では、駆動機構が動作しているときにファンの回転速度を速くして風速を速めることで、ケース部材内の不活性ガスを確実に帰還路へ送ることができる。また、駆動機構が動作していないときにはファンの回転速度を遅くすることで、ファンを駆動させるための消費電力を低減させることができる。   In the case member, there is a possibility that particles are likely to be generated when the drive mechanism operates to drive the support portion. In the present invention, the inert gas in the case member can be reliably sent to the return path by increasing the rotational speed of the fan and increasing the wind speed when the drive mechanism is operating. In addition, when the drive mechanism is not operating, the power consumption for driving the fan can be reduced by reducing the rotation speed of the fan.

第４の発明のＥＦＥＭは、前記第１〜第３のいずれかの発明において、前記自動装置として、前記基板を搬送する搬送ロボットが設けられ、前記ケース部材は、前記搬送室内に固定され、前記保持部として、前記基板を保持して水平方向に搬送するアーム機構が設けられ、前記支持部として、前記アーム機構を支持する支柱が設けられ、前記支柱は、前記駆動機構によって上下駆動されることを特徴とするものである。   In any one of the first to third inventions, the EFEM of a fourth invention is provided with a transfer robot for transferring the substrate as the automatic device, and the case member is fixed in the transfer chamber, An arm mechanism that holds the substrate and transports it horizontally is provided as a holding portion, and a support column that supports the arm mechanism is provided as the support portion, and the support column is driven up and down by the drive mechanism. It is characterized by.

本発明では、搬送ロボットのケース部材が搬送室内に固定されている。つまり、ケース部自体は搬送室内を移動しないので、その分、搬送室内に各種機器を設置するためのスペースを確保することができる。一方、アーム機構を支持する支柱が上下駆動される構成では、特に、支柱が下方へ引っ込むように駆動された際に、ケース部材内に発生したパーティクルを含んだ不活性ガスが支柱の移動に伴って上方へ押し出され、ケース部材と支柱との間の隙間を通り抜けて搬送室内に放出されるおそれがある。本発明では、このような構成においても、ケース部材が接続路によって帰還路と接続されているので、パーティクルは接続路を介して帰還路に排出される。したがって、パーティクルを含んだ不活性ガスが搬送室内に流れ込むことを効果的に抑制できる。   In the present invention, the case member of the transfer robot is fixed in the transfer chamber. That is, since the case portion itself does not move in the transfer chamber, it is possible to secure a space for installing various devices in the transfer chamber. On the other hand, in the configuration in which the support supporting the arm mechanism is driven up and down, the inert gas containing particles generated in the case member is generated along with the movement of the support, particularly when the support is driven to retract downward. Then, it may be pushed upward and pass through the gap between the case member and the support column and be discharged into the transfer chamber. In the present invention, even in such a configuration, since the case member is connected to the return path by the connection path, the particles are discharged to the return path via the connection path. Therefore, it is possible to effectively suppress the inert gas containing particles from flowing into the transfer chamber.

第５の発明のＥＦＥＭは、前記第４の発明において、前記アーム機構は、前記基板を保持するロボットハンドと、前記基板を保持する保持状態と、前記保持状態を解除する解除状態との間で前記ロボットハンドの状態を切り換える切換部と、を有し、前記切換部の動作時に発生するパーティクルを、パーティクル除去用の不活性ガス供給源から供給される前記不活性ガスの流れによって吸引し、さらに、供給された前記不活性ガスをパーティクルと共に前記帰還路に排出するエジェクタ、を備えることを特徴とするものである。   The EFEM of a fifth invention is the EFEM according to the fourth invention, wherein the arm mechanism is between a robot hand that holds the substrate, a holding state that holds the substrate, and a release state that releases the holding state. A switching unit that switches the state of the robot hand, and sucks particles generated during the operation of the switching unit by the flow of the inert gas supplied from an inert gas supply source for particle removal, And an ejector that discharges the supplied inert gas together with particles to the return path.

ロボットハンドが切換部によって保持状態と解除状態との間で切り換えられる際に、パーティクルが発生すると、基板にパーティクルが付着するおそれがある。ここで、パーティクルを除去するために、真空排気が行われる構成になっていると、搬送室内から不活性ガスが排出されてしまうため、その分不活性ガスを補充する必要が生じ、コストが増大するおそれがある。本発明では、エジェクタによってパーティクルが吸引され、不活性ガスの供給源から供給される不活性ガスがパーティクルと共に帰還路に排出されるため、当該不活性ガスはそのまま循環する。さらに、パーティクルは、ファンフィルタユニットによって除去される。したがって、真空排気を行う構成と比べて、不活性ガスの補充によるコストの増大を抑制することができる。   When particles are generated when the robot hand is switched between the holding state and the release state by the switching unit, the particles may adhere to the substrate. Here, if the structure is configured to be evacuated to remove particles, the inert gas is exhausted from the transfer chamber, so that it is necessary to replenish the inert gas accordingly, and the cost increases. There is a risk. In the present invention, since the particles are sucked by the ejector and the inert gas supplied from the inert gas supply source is discharged together with the particles to the return path, the inert gas circulates as it is. Further, the particles are removed by the fan filter unit. Therefore, an increase in cost due to replenishment of the inert gas can be suppressed as compared with a configuration in which evacuation is performed.

第６の発明のＥＦＥＭは、前記第４又は第５の発明において、前記アーム機構は、中空のアーム部材を有し、前記アーム部材には、パージ用の不活性ガス供給源から供給される前記不活性ガスを前記アーム部材の内部空間に流入させるための流入口と、前記アーム部材の前記内部空間から前記不活性ガスを流出させるための流出口とが形成されていることを特徴とするものである。   In the EFEM of the sixth invention, in the fourth or fifth invention, the arm mechanism has a hollow arm member, and the arm member is supplied from an inert gas supply source for purging. An inflow port for allowing an inert gas to flow into the internal space of the arm member and an outflow port for allowing the inert gas to flow out from the internal space of the arm member are formed. It is.

搬送ロボットのアーム部材は、一般に、駆動用の機構を内蔵するために中空構造を有している。アーム部材の内部空間が搬送室に対して完全に密閉されていれば良いが、そうでない構成では、例えばメンテナンス時に搬送室が大気解放された場合に、アーム部材の内部空間も大気解放され、内部空間に酸素や水分等が入り込むおそれがある。この場合、メンテナンス後の再稼働時にアーム部材内の不活性ガスの置換に時間がかかると、生産効率が低下するおそれがある。本発明では、アーム部材に流入口と流出口とが形成されているため、これらが形成されていない場合と比べて、アーム部材の内部空間のガス置換にかかる時間を短縮することができ、生産効率の低下を抑制できる。   The arm member of the transfer robot generally has a hollow structure in order to incorporate a drive mechanism. The internal space of the arm member only needs to be completely sealed with respect to the transfer chamber. However, in a configuration in which this is not the case, for example, when the transfer chamber is released to the atmosphere during maintenance, the internal space of the arm member is also released to the atmosphere. There is a risk of oxygen or moisture entering the space. In this case, if it takes time to replace the inert gas in the arm member during re-operation after maintenance, the production efficiency may be reduced. In the present invention, since the inflow port and the outflow port are formed in the arm member, the time required for gas replacement in the internal space of the arm member can be reduced as compared with the case where these are not formed, Reduction in efficiency can be suppressed.

第７の発明のＥＦＥＭにおけるガス置換方法は、パーティクルを除去するファンフィルタユニットによって清浄化された不活性ガスが所定方向に流れる搬送室と、前記搬送室の前記所定方向における下流側から前記ファンフィルタユニットへ前記不活性ガスを戻す帰還路と、を有し、前記不活性ガスが循環するように構成されたＥＦＥＭにおいて、ガスを置換するガス置換方法であって、前記ＥＦＥＭは、前記搬送室内に配置され、基板を保持した状態で所定の動作を行う自動装置を備えるものであり、前記自動装置は、開口が形成されたケース部材と、前記ケース部材に収容される駆動機構と、を有するものであり、前記不活性ガスの供給源から前記ケース部材の内部に前記不活性ガスを供給して、前記ケース部材の内部から前記帰還路へガスを送り出すことで前記ケース部材の内部のガスを置換するものである。   According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a gas replacement method in an EFEM, wherein a carrier chamber in which an inert gas purified by a fan filter unit for removing particles flows in a predetermined direction, and the fan filter from a downstream side in the predetermined direction of the carrier chamber And a return path for returning the inert gas to a unit, wherein the inert gas is circulated in the EFEM, wherein the EFEM is disposed in the transfer chamber. An automatic device that is arranged and performs a predetermined operation while holding a substrate, the automatic device having a case member in which an opening is formed and a drive mechanism that is accommodated in the case member The inert gas is supplied from the inert gas supply source to the inside of the case member, and the inside of the case member is supplied to the return path. It is intended to replace the gas inside the case member by sending a scan.

本発明では、例えばＥＦＥＭの立上げ時等に、供給源から不活性ガスを積極的に供給することで、速やかにケース部材内のガスを置換できる。また、ガスをケース部材の内部から帰還路へ送り出すため、ＥＦＥＭの立上げ時等に、搬送室内にケース部材内のパーティクルが放出されることを抑制できる。   In the present invention, for example, when the EFEM is started up, the gas in the case member can be quickly replaced by actively supplying the inert gas from the supply source. Further, since the gas is sent out from the inside of the case member to the return path, it is possible to suppress the particles in the case member from being released into the transfer chamber when the EFEM is started up.

第８の発明のＥＦＥＭにおけるガス置換方法は、前記第７の発明において、前記搬送室内の前記ガス雰囲気が所定の酸素濃度未満となった後、前記供給源からの前記不活性ガスの供給を停止し、その後、前記搬送室内のガスを前記ケース部材の内部に取り込んで前記帰還路へ送り出すことを特徴とするものである。   According to an eighth aspect of the present invention, there is provided the gas replacement method in the EFEM according to the seventh aspect, wherein the supply of the inert gas from the supply source is stopped after the gas atmosphere in the transfer chamber becomes less than a predetermined oxygen concentration. Thereafter, the gas in the transfer chamber is taken into the case member and sent out to the return path.

本発明では、通常時には供給源からケース部材への不活性ガスの供給を行わず、ガスを搬送室からケース部材内に取り込んで帰還路へ送り出すことで、コストの増大を抑制できる。また、ケース部材から搬送室内へのガスの逆流を抑制できるので、搬送室内にケース部材内のパーティクルが放出されることを抑制できる。   In the present invention, an increase in cost can be suppressed by supplying the gas from the transfer chamber into the case member and sending it out to the return path without normally supplying the inert gas from the supply source to the case member. Further, since the backflow of gas from the case member into the transfer chamber can be suppressed, it is possible to suppress the release of particles in the case member into the transfer chamber.

本実施形態に係るＥＦＥＭ及びその周辺の概略的な平面図である。It is a schematic plan view of EFEM and its periphery which concern on this embodiment. ＥＦＥＭの電気的構成を示す図である。It is a figure which shows the electrical structure of EFEM. 筐体の正面図である。It is a front view of a housing | casing. 図３のIV-IV断面図である。FIG. 4 is a sectional view taken along line IV-IV in FIG. 3. 図３のV-V断面図である。FIG. 5 is a VV cross-sectional view of FIG. 3. 搬送ロボットの構造を示す図である。It is a figure which shows the structure of a conveyance robot. 循環路への窒素の供給経路及び排出経路を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the supply path | route and discharge path | route of nitrogen to a circulation path. 搬送ロボットにおける窒素の送出口を示す図である。It is a figure which shows the nitrogen outlet in a conveyance robot. 変形例に係る搬送ロボットを示す図である。It is a figure which shows the conveyance robot which concerns on a modification. 別の変形例に係るアライナを示す図である。It is a figure which shows the aligner which concerns on another modification.

次に、本発明の実施の形態について、図１〜図８を参照しながら説明する。なお、説明の便宜上、図１に示す方向を前後左右方向とする。すなわち、ＥＦＥＭ（Equipment Front End Module）１と基板処理装置６とが並べられている方向を前後方向とする。ＥＦＥＭ１側を前方、基板処理装置６側を後方とする。前後方向と直交する、複数のロードポート４が並べられている方向を左右方向とする。また、前後方向及び左右方向の両方と直交する方向を上下方向とする。   Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. For convenience of explanation, the direction shown in FIG. That is, the direction in which the EFEM (Equipment Front End Module) 1 and the substrate processing apparatus 6 are arranged is a front-rear direction. The EFEM1 side is the front and the substrate processing apparatus 6 side is the rear. The direction in which a plurality of load ports 4 are arranged orthogonal to the front-rear direction is defined as the left-right direction. Further, a direction perpendicular to both the front-rear direction and the left-right direction is defined as the up-down direction.

（ＥＦＥＭ及び周辺の概略構成）
まず、ＥＦＥＭ１及びその周辺の概略構成について、図１及び図２を用いて説明する。図１は、本実施形態に係るＥＦＥＭ１及びその周辺の概略的な平面図である。図２は、ＥＦＥＭ１の電気的構成を示す図である。図１に示すように、ＥＦＥＭ１は、筐体２と、搬送ロボット３と、複数のロードポート４と、制御装置５とを備える。ＥＦＥＭ１の後方には、ウェハＷ（本発明の基板）に所定の処理を施す基板処理装置６が配置されている。ＥＦＥＭ１は、筐体２内に配置された搬送ロボット３によって、ロードポート４に載置されているＦＯＵＰ（Front-Opening Unified Pod）１００と基板処理装置６との間でウェハＷの受渡しを行う。ＦＯＵＰ１００は、複数のウェハＷを上下方向に並べて収容可能な容器であり、後端部（前後方向における筐体２側の端部）に蓋１０１が取り付けられている。ＦＯＵＰ１００は、例えば、ロードポート４の上方に設けられた不図示のレールに吊り下げられて走行する、不図示のＯＨＴ（天井走行式無人搬送車）によって搬送される。ＯＨＴとロードポート４との間で、ＦＯＵＰ１００の受渡しが行われる。 (Schematic structure of EFEM and surroundings)
First, a schematic configuration of the EFEM 1 and its periphery will be described with reference to FIGS. 1 and 2. FIG. 1 is a schematic plan view of the EFEM 1 according to the present embodiment and its surroundings. FIG. 2 is a diagram illustrating an electrical configuration of the EFEM 1. As shown in FIG. 1, the EFEM 1 includes a housing 2, a transfer robot 3, a plurality of load ports 4, and a control device 5. A substrate processing apparatus 6 that performs a predetermined process on the wafer W (the substrate of the present invention) is disposed behind the EFEM 1. The EFEM 1 delivers a wafer W between a substrate processing apparatus 6 and a FOUP (Front-Opening Unified Pod) 100 mounted on the load port 4 by a transfer robot 3 disposed in the housing 2. The FOUP 100 is a container that can accommodate a plurality of wafers W arranged in the vertical direction, and a lid 101 is attached to the rear end portion (the end portion on the housing 2 side in the front-rear direction). The FOUP 100 is transported by, for example, an unillustrated OHT (ceiling traveling automatic guided vehicle) that travels while being suspended by a rail (not illustrated) provided above the load port 4. The FOUP 100 is delivered between the OHT and the load port 4.

筐体２は、複数のロードポート４と基板処理装置６とを接続するためのものである。筐体２の内部には、外部空間に対して略密閉された、ウェハＷが搬送される搬送室４１が形成されている。ＥＦＥＭ１が稼動しているとき、搬送室４１は、窒素（本発明の不活性ガス）で満たされている。筐体２は、搬送室４１を含む内部空間を窒素が循環するように構成されている（詳細については後述する）。また、筐体２の後端部にはドア２ａが取り付けられ、搬送室４１は、ドア２ａを隔てて基板処理装置６と接続されている。   The housing 2 is for connecting a plurality of load ports 4 and the substrate processing apparatus 6. Inside the housing 2 is formed a transfer chamber 41 in which the wafer W is transferred, which is substantially sealed with respect to the external space. When the EFEM 1 is operating, the transfer chamber 41 is filled with nitrogen (inert gas of the present invention). The casing 2 is configured so that nitrogen circulates in the internal space including the transfer chamber 41 (details will be described later). A door 2a is attached to the rear end portion of the housing 2, and the transfer chamber 41 is connected to the substrate processing apparatus 6 with the door 2a interposed therebetween.

搬送ロボット３は、搬送室４１内に配置され、ウェハＷの搬送を行う。搬送ロボット３は、位置が固定された基台部６０（図３参照）と、基台部６０の上方に配置され、ウェハＷを保持して搬送するアーム機構７０（図３参照）と、ロボット制御部１１（図２参照）とを有する。搬送ロボット３は、主に、ＦＯＵＰ１００内のウェハＷを取り出して基板処理装置６に渡す動作や、基板処理装置６によって処理されたウェハＷを受け取ってＦＯＵＰ１００に戻す動作を行う。   The transfer robot 3 is disposed in the transfer chamber 41 and transfers the wafer W. The transfer robot 3 includes a base unit 60 (see FIG. 3) whose position is fixed, an arm mechanism 70 (see FIG. 3) that is disposed above the base unit 60 and holds the wafer W, and a robot. And a control unit 11 (see FIG. 2). The transfer robot 3 mainly performs an operation of taking out the wafer W in the FOUP 100 and passing it to the substrate processing apparatus 6 and an operation of receiving the wafer W processed by the substrate processing apparatus 6 and returning it to the FOUP 100.

ロードポート４は、ＦＯＵＰ１００を載置する（図５参照）ためのものである。複数のロードポート４は、それぞれの後端部が筐体２の前側の隔壁に沿うように、左右方向に並べて配置されている。ロードポート４は、ＦＯＵＰ１００内の雰囲気を窒素等の不活性ガスに置換可能に構成されている。ロードポート４の後端部には、ドア４ａが設けられている。ドア４ａは、不図示のドア開閉機構によって開閉される。ドア４ａは、ＦＯＵＰ１００の蓋１０１のロックを解除可能、且つ、蓋１０１を保持可能に構成されている。ロックが解除された蓋１０１をドア４ａが保持している状態で、ドア移動機構がドア４ａを開けることで、蓋１０１が開けられる。これにより、ＦＯＵＰ１００内のウェハＷが、搬送ロボット３によって取出可能になる。   The load port 4 is for mounting the FOUP 100 (see FIG. 5). The plurality of load ports 4 are arranged side by side in the left-right direction so that the rear ends of the load ports 4 are along the front partition of the housing 2. The load port 4 is configured so that the atmosphere in the FOUP 100 can be replaced with an inert gas such as nitrogen. A door 4 a is provided at the rear end of the load port 4. The door 4a is opened and closed by a door opening / closing mechanism (not shown). The door 4a is configured to be able to unlock the lid 101 of the FOUP 100 and to hold the lid 101. When the door 4a holds the unlocked lid 101, the door moving mechanism opens the door 4a, whereby the lid 101 is opened. Thereby, the wafer W in the FOUP 100 can be taken out by the transfer robot 3.

図２に示すように、制御装置５は、搬送ロボット３のロボット制御部１１、ロードポート４の制御部（不図示）、基板処理装置６の制御部（不図示）と電気的に接続されており、これらの制御部との通信を行う。また、制御装置５は、筐体２内に設置された酸素濃度計５５、圧力計５６、湿度計５７等と電気的に接続されており、これらの計測機器の計測結果を受信して、筐体２内の雰囲気に関する情報を把握する。また、制御装置５は、供給バルブ１１２及び排出バルブ１１３（後述）と電気的に接続されており、これらのバルブの開度を調節することで、筐体２内の雰囲気を適宜調節する。   As shown in FIG. 2, the controller 5 is electrically connected to the robot controller 11 of the transfer robot 3, the controller (not shown) of the load port 4, and the controller (not shown) of the substrate processing apparatus 6. And communicate with these control units. The control device 5 is electrically connected to an oxygen concentration meter 55, a pressure gauge 56, a hygrometer 57 and the like installed in the housing 2, and receives the measurement results of these measuring devices, The information about the atmosphere in the body 2 is grasped. The control device 5 is electrically connected to a supply valve 112 and a discharge valve 113 (described later), and adjusts the atmosphere in the housing 2 by adjusting the opening of these valves.

図１に示すように、基板処理装置６は、例えば、ロードロック室６ａと、処理室６ｂとを有する。ロードロック室６ａは、筐体２のドア２ａを隔てて搬送室４１と接続された、ウェハＷを一時的に待機させるための部屋である。処理室６ｂは、ドア６ｃを隔ててロードロック室６ａと接続されている。処理室６ｂでは、不図示の処理機構によって、ウェハＷに対して所定の処理が施される。   As shown in FIG. 1, the substrate processing apparatus 6 includes, for example, a load lock chamber 6a and a processing chamber 6b. The load lock chamber 6a is a room for temporarily waiting for the wafer W, which is connected to the transfer chamber 41 through the door 2a of the housing 2. The processing chamber 6b is connected to the load lock chamber 6a through a door 6c. In the processing chamber 6b, a predetermined process is performed on the wafer W by a processing mechanism (not shown).

（筐体及びその内部の構成）
次に、筐体２及びその内部の構成について、図３〜図５を用いて説明する。図３は、筐体２の正面図である。図４は、図３のＩＶ−ＩＶ断面図である。図５は、図３のＶ−Ｖ断面図である。なお、図３においては、隔壁の図示を省略している。また、図５においては、搬送ロボット３等の図示を省略している。 (Case and internal configuration)
Next, the housing | casing 2 and its internal structure are demonstrated using FIGS. FIG. 3 is a front view of the housing 2. 4 is a cross-sectional view taken along the line IV-IV in FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line VV in FIG. In addition, in FIG. 3, illustration of the partition is abbreviate | omitted. In FIG. 5, illustration of the transfer robot 3 and the like is omitted.

筐体２は、全体として直方体状である。図３〜図５に示すように、筐体２は、柱２１〜２６と、隔壁３１〜３６とを有する。上下方向に延びる柱２１〜２６に隔壁３１〜３６が取り付けられており、筐体２の内部空間が外部空間に対して略密閉されている。   The housing | casing 2 is a rectangular parallelepiped shape as a whole. As shown in FIGS. 3 to 5, the housing 2 includes columns 21 to 26 and partition walls 31 to 36. Partitions 31 to 36 are attached to the columns 21 to 26 extending in the vertical direction, and the internal space of the housing 2 is substantially sealed with respect to the external space.

より具体的には、図４に示すように、筐体２の前端部において、柱２１〜２４が左方から右方にかけて順番に並べて立設配置されている。柱２１と柱２４との間に配置された柱２２、２３は、柱２１及び柱２４よりも短い。筐体２の後端部の左右両側に、柱２５、２６が立設配置されている。   More specifically, as shown in FIG. 4, at the front end portion of the housing 2, the columns 21 to 24 are arranged upright in order from the left to the right. The pillars 22 and 23 disposed between the pillar 21 and the pillar 24 are shorter than the pillar 21 and the pillar 24. Pillars 25 and 26 are erected on the left and right sides of the rear end of the housing 2.

図３に示すように、筐体２の底部に隔壁３１が、天井部に隔壁３２が配置されている。図４に示すように、前端部に隔壁３３が、後端部に隔壁３４が、左端部に隔壁３５が、右端部に隔壁３６が、それぞれ配置されている。筐体２の右端部には、後述するアライナ５４が載置される載置部５３（図３参照）が設けられている。アライナ５４及び載置部５３も、筐体２の内側に収容されている（図４参照）。   As shown in FIG. 3, a partition wall 31 is disposed at the bottom of the housing 2, and a partition wall 32 is disposed at the ceiling. As shown in FIG. 4, a partition wall 33 is disposed at the front end, a partition wall 34 is disposed at the rear end, a partition wall 35 is disposed at the left end, and a partition wall 36 is disposed at the right end. A mounting portion 53 (see FIG. 3) on which an aligner 54 to be described later is mounted is provided at the right end portion of the housing 2. The aligner 54 and the mounting portion 53 are also accommodated inside the housing 2 (see FIG. 4).

図３及び図５に示すように、筐体２内の上側部分（柱２２、２３の上方）には、水平方向に延びる支持板３７が配置されている。これにより、筐体２の内部は、下側に形成された前述の搬送室４１と、上側に形成されたＦＦＵ設置室４２とに分かれている。ＦＦＵ設置室４２内には、後述するＦＦＵ（ファンフィルタユニット）４４が配置されている。支持板３７の前後方向における中央部には、搬送室４１とＦＦＵ設置室４２とを連通させる開口３７ａが形成されている。なお、筐体２の隔壁３３〜３６は、搬送室４１用の下部壁とＦＦＵ設置室４２用の上部壁とに分けられている（例えば、図５における前端部の隔壁３３ａ、３３ｂ及び後端部の隔壁３４ａ、３４ｂを参照）。   As shown in FIGS. 3 and 5, a support plate 37 extending in the horizontal direction is disposed on the upper portion in the housing 2 (above the columns 22 and 23). Thereby, the inside of the housing | casing 2 is divided into the above-mentioned transfer chamber 41 formed in the lower side, and the FFU installation chamber 42 formed in the upper side. An FFU (fan filter unit) 44 to be described later is disposed in the FFU installation chamber 42. An opening 37 a that allows the transfer chamber 41 and the FFU installation chamber 42 to communicate with each other is formed at the center of the support plate 37 in the front-rear direction. In addition, the partition walls 33 to 36 of the housing 2 are divided into a lower wall for the transfer chamber 41 and an upper wall for the FFU installation chamber 42 (for example, the partition walls 33a and 33b and the rear end at the front end in FIG. 5). (See partition walls 34a, 34b).

次に、筐体２の内部の構成について説明する。具体的には、筐体２内で窒素を循環させるための構成及びその周辺構成、並びに、搬送室４１内に配置された機器等について説明する。   Next, the internal configuration of the housing 2 will be described. Specifically, a configuration for circulating nitrogen in the housing 2 and its peripheral configuration, and devices arranged in the transfer chamber 41 will be described.

筐体２内で窒素を循環させるための構成及びその周辺構成について、図３〜図５を用いて説明する。図５に示すように、筐体２の内部には、窒素を循環させるための循環路４０が形成されている。循環路４０は、搬送室４１と、ＦＦＵ設置室４２と、帰還路４３とによって構成されている。概要としては、循環路４０においては、ＦＦＵ設置室４２から清浄な窒素が下方へ送り出され、搬送室４１の下端部まで到達した後、帰還路４３を通って上昇し、ＦＦＵ設置室４２に戻るようになっている（図５の矢印参照）。以下、詳細に説明する。   A configuration for circulating nitrogen in the housing 2 and its peripheral configuration will be described with reference to FIGS. As shown in FIG. 5, a circulation path 40 for circulating nitrogen is formed inside the housing 2. The circulation path 40 includes a transfer chamber 41, an FFU installation chamber 42, and a return path 43. As an outline, in the circulation path 40, clean nitrogen is sent downward from the FFU installation chamber 42, reaches the lower end of the transfer chamber 41, rises through the return path 43, and returns to the FFU installation chamber 42. (See arrows in FIG. 5). Details will be described below.

ＦＦＵ設置室４２には、支持板３７上に配置されたＦＦＵ４４と、ＦＦＵ４４上に配置されたケミカルフィルタ４５とが設けられている。ＦＦＵ４４は、ファン４４ａとフィルタ４４ｂとを有する。ＦＦＵ４４は、ファン４４ａによってＦＦＵ設置室４２内の窒素を下方に送出しつつ、窒素に含まれるパーティクル（不図示）をフィルタ４４ｂによって除去する。ケミカルフィルタ４５は、例えば基板処理装置６から循環路４０内に持ち込まれた活性ガス等を除去するためのものである。ＦＦＵ４４及びケミカルフィルタ４５によって清浄化された窒素は、ＦＦＵ設置室４２から、支持板３７に形成された開口３７ａを介して搬送室４１に送り出される。搬送室４１に送り出された窒素は、層流を形成し、下方へ流れる。   In the FFU installation chamber 42, an FFU 44 disposed on the support plate 37 and a chemical filter 45 disposed on the FFU 44 are provided. The FFU 44 includes a fan 44a and a filter 44b. The FFU 44 removes particles (not shown) contained in the nitrogen by the filter 44b while sending the nitrogen in the FFU installation chamber 42 downward by the fan 44a. The chemical filter 45 is for removing, for example, the active gas brought into the circulation path 40 from the substrate processing apparatus 6. The nitrogen purified by the FFU 44 and the chemical filter 45 is sent out from the FFU installation chamber 42 to the transfer chamber 41 through an opening 37 a formed in the support plate 37. Nitrogen sent out to the transfer chamber 41 forms a laminar flow and flows downward.

帰還路４３は、筐体２の前端部に配置された柱２１〜２４（図５においては柱２３）及び支持板３７に形成されている。すなわち、柱２１〜２４は中空になっており、窒素が通れる空間２１ａ〜２４ａがそれぞれ形成されている（図４参照）。つまり、空間２１ａ〜２４ａが、それぞれ帰還路４３を構成している。帰還路４３は、支持板３７の前端部に形成された開口３７ｂによってＦＦＵ設置室４２と連通している（図５参照）。   The return path 43 is formed on the pillars 21 to 24 (the pillar 23 in FIG. 5) and the support plate 37 disposed at the front end of the housing 2. That is, the columns 21 to 24 are hollow, and spaces 21a to 24a through which nitrogen can pass are formed (see FIG. 4). That is, the spaces 21a to 24a constitute the return path 43, respectively. The return path 43 communicates with the FFU installation chamber 42 through an opening 37b formed at the front end of the support plate 37 (see FIG. 5).

帰還路４３について、図５を参照しつつ、より具体的に説明する。なお、図５には柱２３が示されているが、他の柱２１、２２、２４についても同様である。柱２３の下端部には、搬送室４１内の窒素を帰還路４３（空間２３ａ）に流入させやすくするための導入ダクト２７が取り付けられている。導入ダクト２７には開口２７ａが形成され、搬送室４１の下端部に到達した窒素が帰還路４３に流入可能となっている。導入ダクト２７の上部には、下方へ向かうほど後方に広がる拡大部２７ｂが形成されている。拡大部２７ｂの下方には、ファン４６が配置されている。ファン４６は、不図示のモータによって駆動され、搬送室４１の下端部に到達した窒素を帰還路４３（図５においては空間２３ａ）に吸い込んで上方に送り出し、窒素をＦＦＵ設置室４２に戻す。ＦＦＵ設置室４２に戻された窒素は、ＦＦＵ４４やケミカルフィルタ４５によって清浄化され、再び搬送室４１へ送り出される。以上のようにして、窒素が循環路４０内を循環可能になっている。   The return path 43 will be described more specifically with reference to FIG. 5 shows the pillar 23, the same applies to the other pillars 21, 22, and 24. FIG. An introduction duct 27 for facilitating the flow of nitrogen in the transfer chamber 41 into the return path 43 (space 23a) is attached to the lower end of the column 23. An opening 27 a is formed in the introduction duct 27, and nitrogen that has reached the lower end of the transfer chamber 41 can flow into the return path 43. In the upper portion of the introduction duct 27, an enlarged portion 27b is formed that extends rearward as it goes downward. A fan 46 is disposed below the enlarged portion 27b. The fan 46 is driven by a motor (not shown), sucks nitrogen that has reached the lower end of the transfer chamber 41 into the return path 43 (the space 23a in FIG. 5), sends it out upward, and returns the nitrogen to the FFU installation chamber 42. The nitrogen returned to the FFU installation chamber 42 is cleaned by the FFU 44 and the chemical filter 45 and sent out to the transfer chamber 41 again. As described above, nitrogen can be circulated in the circulation path 40.

また、図３に示すように、ＦＦＵ設置室４２の側部には、循環路４０内に窒素を供給するための供給管４７が接続されている。供給管４７は、窒素の供給源１１１に接続されている。供給管４７の途中部には、窒素の単位時間あたりの供給量を変更可能な供給バルブ１１２が設けられている。また、図５に示すように、搬送室４１の前端部には、循環路４０内の気体を排出するための排出管４８が接続されている。排出管４８は、外部空間につながっている。排出管４８の途中部には、循環路４０内の気体の単位時間あたりの排出量を変更可能な排出バルブ１１３が設けられている。供給バルブ１１２及び排出バルブ１１３は、制御装置５と電気的に接続されている（図２参照）。これにより、循環路４０に窒素を適宜供給及び排出することが可能となっている。例えば、循環路４０内の酸素濃度が上昇した場合に、供給源１１１から供給管４７を介して循環路４０に窒素を一時的に多く供給し、排出管４８を介して窒素と共に酸素を排出することで、酸素濃度を下げることができる。   As shown in FIG. 3, a supply pipe 47 for supplying nitrogen into the circulation path 40 is connected to the side of the FFU installation chamber 42. The supply pipe 47 is connected to a nitrogen supply source 111. A supply valve 112 capable of changing the supply amount of nitrogen per unit time is provided in the middle of the supply pipe 47. As shown in FIG. 5, a discharge pipe 48 for discharging the gas in the circulation path 40 is connected to the front end portion of the transfer chamber 41. The discharge pipe 48 is connected to the external space. A discharge valve 113 capable of changing the discharge amount of the gas in the circulation path 40 per unit time is provided in the middle of the discharge pipe 48. The supply valve 112 and the discharge valve 113 are electrically connected to the control device 5 (see FIG. 2). Thereby, nitrogen can be appropriately supplied to and discharged from the circulation path 40. For example, when the oxygen concentration in the circulation path 40 increases, a large amount of nitrogen is temporarily supplied from the supply source 111 to the circulation path 40 via the supply pipe 47, and oxygen is discharged together with nitrogen via the discharge pipe 48. As a result, the oxygen concentration can be lowered.

次に、搬送室４１内に配置された機器等について、図３及び図４を用いて説明する。図３及び図４に示すように、搬送室４１内には、上述した搬送ロボット３と、制御部収容箱５１と、計測機器収容箱５２と、アライナ５４とが配置されている。搬送ロボット３の構造については後述する。制御部収容箱５１は、例えば搬送ロボット３の基台部６０（図３参照）の左方に設置され、アーム機構７０（図３参照）と干渉しないように配置されている。制御部収容箱５１には、上述したロボット制御部１１が収容されている。計測機器収容箱５２は、例えば基台部６０の右方に設置され、アーム機構７０と干渉しないように配置されている。計測機器収容箱５２には、上述した酸素濃度計５５、圧力計５６、湿度計５７等の計測機器（図２参照）が収容可能となっている。   Next, devices and the like arranged in the transfer chamber 41 will be described with reference to FIGS. As shown in FIGS. 3 and 4, the transfer robot 3, the control unit storage box 51, the measurement device storage box 52, and the aligner 54 are arranged in the transfer chamber 41. The structure of the transfer robot 3 will be described later. The control unit storage box 51 is installed, for example, on the left side of the base unit 60 (see FIG. 3) of the transfer robot 3 and is arranged so as not to interfere with the arm mechanism 70 (see FIG. 3). The control unit storage box 51 stores the robot control unit 11 described above. The measuring device storage box 52 is installed, for example, on the right side of the base portion 60 and is disposed so as not to interfere with the arm mechanism 70. The measuring device storage box 52 can store measuring devices (see FIG. 2) such as the oxygen concentration meter 55, the pressure gauge 56, and the hygrometer 57 described above.

アライナ５４は、搬送ロボット３のアーム機構７０（図３参照）に保持されているウェハＷの保持位置が、目標保持位置からどれだけずれているか検出するためのものである。例えば、上述したＯＨＴ（不図示）によって搬送されるＦＯＵＰ１００（図１参照）の内部では、ウェハＷが微妙に動くおそれがある。そこで、搬送ロボット３は、ＦＯＵＰ１００から取り出した処理前のウェハＷを、いったんアライナ５４に載置する。アライナ５４は、ウェハＷが搬送ロボット３によって目標保持位置からどれだけずれた位置で保持されていたか計測し、計測結果をロボット制御部１１に送信する。ロボット制御部１１は、上記計測結果に基づいて、アーム機構７０による保持位置を補正し、アーム機構７０を制御して目標保持位置でウェハＷを保持させ、基板処理装置６のロードロック室６ａまで搬送させる。これにより、基板処理装置６によるウェハＷの処理を正常に行うことができる。   The aligner 54 is for detecting how much the holding position of the wafer W held by the arm mechanism 70 (see FIG. 3) of the transfer robot 3 is deviated from the target holding position. For example, inside the FOUP 100 (see FIG. 1) transported by the above-described OHT (not shown), the wafer W may move slightly. Therefore, the transfer robot 3 once places the unprocessed wafer W taken out from the FOUP 100 on the aligner 54. The aligner 54 measures how far the wafer W is held by the transfer robot 3 from the target holding position, and transmits the measurement result to the robot controller 11. The robot controller 11 corrects the holding position by the arm mechanism 70 based on the measurement result, controls the arm mechanism 70 to hold the wafer W at the target holding position, and reaches the load lock chamber 6 a of the substrate processing apparatus 6. Transport. Thereby, the processing of the wafer W by the substrate processing apparatus 6 can be normally performed.

（搬送ロボットの構造）
次に、搬送ロボット３（本発明の自動装置）の構造について、図６を用いて説明する。図６（ａ）は、搬送ロボット３の内部構造を示す断面図である。図６（ｂ）は、後述するロボットハンド７４の平面図である。上述したように、搬送ロボット３は、基台部６０と、アーム機構７０（本発明の保持部）とを有する。 (Conveying robot structure)
Next, the structure of the transfer robot 3 (automatic apparatus of the present invention) will be described with reference to FIG. FIG. 6A is a cross-sectional view showing the internal structure of the transfer robot 3. FIG. 6B is a plan view of a robot hand 74 described later. As described above, the transfer robot 3 includes the base unit 60 and the arm mechanism 70 (the holding unit of the present invention).

図６（ａ）に示すように、基台部６０には、ケース部材６１と、支柱６２と、駆動機構６３とが設けられている。ケース部材６１内から上方に突出した支柱６２が、アーム機構７０を支持している。支柱６２は、駆動機構６３によって上下駆動される。   As shown in FIG. 6A, the base portion 60 is provided with a case member 61, a support column 62, and a drive mechanism 63. A support column 62 protruding upward from the inside of the case member 61 supports the arm mechanism 70. The support 62 is driven up and down by a drive mechanism 63.

ケース部材６１は、上下方向に延びた筒状の部材である。ケース部材６１は、搬送室４１内に固定されている。ケース部材６１の上面には、支柱６２を挿通させるための開口６１ａが形成されている。支柱６２は、ケース部材６１の内側から開口６１ａを通って上方に突出している柱状の部材である。支柱６２と開口６１ａとの間には、隙間が空いている。支柱６２の上端部には、アーム機構７０が取り付けられている。   The case member 61 is a cylindrical member extending in the vertical direction. The case member 61 is fixed in the transfer chamber 41. On the upper surface of the case member 61, an opening 61a for inserting the support column 62 is formed. The support column 62 is a columnar member protruding upward from the inside of the case member 61 through the opening 61a. There is a gap between the support column 62 and the opening 61a. An arm mechanism 70 is attached to the upper end portion of the column 62.

駆動機構６３は、一例として、モータ６４と、ベルト６５と、ボールネジ軸６６と、スライダ６７とを有する。モータ６４の動力がベルト６５を介してボールネジ軸６６に伝えられ、上下方向に延びたボールネジ軸６６が回転する。ボールネジ軸６６が回転すると、ボールネジ軸６６に螺合されたスライダ６７が上下移動し、支柱６２を上下移動させる。   As an example, the drive mechanism 63 includes a motor 64, a belt 65, a ball screw shaft 66, and a slider 67. The power of the motor 64 is transmitted to the ball screw shaft 66 through the belt 65, and the ball screw shaft 66 extending in the vertical direction rotates. When the ball screw shaft 66 rotates, the slider 67 screwed to the ball screw shaft 66 moves up and down and moves the support column 62 up and down.

モータ６４は、回転軸６４ａを有する一般的な交流モータである。モータ６４は、ロボット制御部１１（図２参照）によって制御される。回転軸６４ａの先端部にプーリ（不図示）が取り付けられ、ベルト６５が巻き掛けられている。ボールネジ軸６６は、上下方向に延びている。ボールネジ軸６６の下端部にはプーリ（不図示）が取り付けられ、ベルト６５が巻き掛けられている。ボールネジ軸６６には雄ねじ（不図示）が形成されている。スライダ６７は、支柱６２を支持する部材である。スライダ６７には、ボールネジ軸６６の雄ねじと螺合する雌ネジ（不図示）が形成されている。スライダ６７は、ボールネジ軸６６の回転に伴い、上下方向に延びるガイド（不図示）に沿って上下移動可能となっている。以上の構成を有する駆動機構６３によって、支柱６２が上下駆動される。これにより、ＦＯＵＰ１００内で上下方向における別々の位置に収容されたウェハＷを、アーム機構７０によって保持することが可能となっている。   The motor 64 is a general AC motor having a rotating shaft 64a. The motor 64 is controlled by the robot control unit 11 (see FIG. 2). A pulley (not shown) is attached to the tip of the rotating shaft 64a, and a belt 65 is wound around it. The ball screw shaft 66 extends in the vertical direction. A pulley (not shown) is attached to the lower end portion of the ball screw shaft 66, and a belt 65 is wound around the pulley. A male screw (not shown) is formed on the ball screw shaft 66. The slider 67 is a member that supports the column 62. The slider 67 is formed with a female screw (not shown) that engages with the male screw of the ball screw shaft 66. The slider 67 can move up and down along a guide (not shown) extending in the vertical direction as the ball screw shaft 66 rotates. The support 62 is driven up and down by the drive mechanism 63 having the above configuration. Thereby, the wafer mechanism W accommodated in the FOUP 100 at different positions in the vertical direction can be held by the arm mechanism 70.

図６（ａ）に示すように、アーム機構７０は、一例として、３つのアーム部材７１〜７３と、２つのロボットハンド７４とを有する。アーム機構７０は、支柱６２によって下方から支持されており、アーム部材７１〜７３が旋回することで、ウェハＷを保持するロボットハンド７４を水平移動させる。なお、ロボットハンド７４は、１つだけ設けられていても良い。   As illustrated in FIG. 6A, the arm mechanism 70 includes, for example, three arm members 71 to 73 and two robot hands 74. The arm mechanism 70 is supported from below by a support 62, and the robot members 74 that hold the wafer W are moved horizontally by turning the arm members 71 to 73. Note that only one robot hand 74 may be provided.

アーム部材７１〜７３は、所定方向に延びる中空の部材である。つまり、アーム部材７１、７２、７３には、それぞれ内部空間７１ａ、７２ａ、７３ａが形成されている。なお、内部空間７１ａ、７２ａ、７３ａは、隙間を介して連通している。アーム部材７１、７２、７３は、この順番で下方から配置されている。アーム部材７１の一端部は支柱６２に旋回可能に連結され、他端部にはアーム部材７２の一端部が旋回可能に連結されている。アーム部材７２の他端部には、アーム部材７３の一端部が旋回可能に連結されている。アーム部材７３の他端部には、ロボットハンド７４が旋回可能に連結されている。アーム部材７１〜７３及びロボットハンド７４は、それぞれ、不図示のモータによって水平方向に旋回駆動される。   The arm members 71 to 73 are hollow members extending in a predetermined direction. That is, the arm members 71, 72, 73 are formed with internal spaces 71a, 72a, 73a, respectively. The internal spaces 71a, 72a, 73a communicate with each other through a gap. The arm members 71, 72, 73 are arranged from below in this order. One end of the arm member 71 is pivotably connected to the support column 62, and one end of the arm member 72 is pivotally connected to the other end. One end of the arm member 73 is pivotably connected to the other end of the arm member 72. A robot hand 74 is pivotably connected to the other end of the arm member 73. The arm members 71 to 73 and the robot hand 74 are each turned in a horizontal direction by a motor (not shown).

図６（ｂ）に示すように、ロボットハンド７４は、載置部材７５と、突起７６ａ〜７６ｄと、可動部７７（本発明の切換部）とを有する。ロボットハンド７４の延在方向（図６（ｂ）参照）に延びた載置部材７５上に、ウェハＷが載置される。ウェハＷは、載置部材７５の先端側に配置された突起７６ａ、７６ｂと、載置部材７５の基端側に配置された突起７６ｃ、７６ｄと、可動部７７の先端部に設けられた押え部７８と、によって把持される。このようにして、ロボットハンド７４によってウェハＷが保持される。可動部７７は、ロボットハンド７４に内蔵されたシリンダ７９によって、ロボットハンド７４の延在方向に移動させられる。シリンダ７９のロッド（不図示）は、上述した供給源１１１（図３参照）とは別の供給源１１４からの窒素の供給によって、延在方向に伸縮可能に構成されている。シリンダ７９に窒素が供給されており、押え部７８が先端側に位置している状態（図６（ｂ）の実線参照）では、ウェハＷが押え部７８によって押さえられて保持されている（保持状態）。シリンダ７９に窒素が供給されておらず、押え部７８が基端側に位置している状態（図６（ｂ）の二点鎖線参照）では、保持状態が解除されている（解除状態）。   As shown in FIG. 6B, the robot hand 74 includes a placement member 75, protrusions 76a to 76d, and a movable portion 77 (a switching portion of the present invention). The wafer W is mounted on the mounting member 75 extending in the extending direction of the robot hand 74 (see FIG. 6B). The wafer W includes protrusions 76 a and 76 b disposed on the distal end side of the mounting member 75, protrusions 76 c and 76 d disposed on the proximal end side of the mounting member 75, and a presser provided on the distal end portion of the movable portion 77. Part 78. In this way, the wafer W is held by the robot hand 74. The movable portion 77 is moved in the extending direction of the robot hand 74 by a cylinder 79 built in the robot hand 74. The rod (not shown) of the cylinder 79 is configured to be extendable and contractable in the extending direction by supplying nitrogen from a supply source 114 different from the above-described supply source 111 (see FIG. 3). In a state where nitrogen is supplied to the cylinder 79 and the presser part 78 is positioned on the tip side (see the solid line in FIG. 6B), the wafer W is pressed and held by the presser part 78 (holding). Status). In a state where nitrogen is not supplied to the cylinder 79 and the presser portion 78 is located on the proximal end side (see the two-dot chain line in FIG. 6B), the holding state is released (released state).

以上の構成を有する搬送ロボット３をＥＦＥＭ１に適用するにあたり、以下のような課題が発生する。まず、基台部６０において支柱６２が駆動機構６３によって上下駆動されることで、ケース部材６１の内部にパーティクルが発生する。発生したパーティクルは、開口６１ａと支柱６２との間の隙間を通り抜けて搬送室４１に漏れ出てくるおそれがある。特に、図６（ａ）の矢印に示すように、駆動機構６３によって支柱６２が下方へ引っ込むように駆動された際に、ケース部材６１内の窒素が上方へ押し出されることで、パーティクルを含んだ窒素が、上記隙間を介して搬送室４１に撒き散らされるおそれがある。   When the transfer robot 3 having the above configuration is applied to the EFEM 1, the following problems occur. First, particles are generated inside the case member 61 when the support 62 is vertically driven by the drive mechanism 63 in the base portion 60. The generated particles may leak through the transfer chamber 41 through the gap between the opening 61 a and the support column 62. In particular, as shown by the arrow in FIG. 6A, when the support 62 is driven to retract downward by the drive mechanism 63, nitrogen in the case member 61 is pushed upward to include particles. Nitrogen may be scattered in the transfer chamber 41 through the gap.

また、ロボットハンド７４の可動部７７がシリンダ７９によって駆動される際に、搬送室４１内にパーティクルが発生するおそれがある。このパーティクルを除去するために、排気が行われる構成になっていると、搬送室４１内から窒素が排出されてしまうため、その分、供給源１１１から窒素を補充する必要が生じ、コストが増大するおそれがある。   Further, when the movable part 77 of the robot hand 74 is driven by the cylinder 79, particles may be generated in the transfer chamber 41. If exhaust is performed to remove the particles, nitrogen is exhausted from the transfer chamber 41, so that it is necessary to replenish nitrogen from the supply source 111, and the cost increases. There is a risk.

また、アーム部材７１〜７３の内部空間７１ａ〜７３ａが搬送室４１に対して完全に密閉されていない構成では、例えばメンテナンス時に搬送室４１が大気解放された場合に、内部空間７１ａ〜７３ａも大気解放され、酸素や水分等が入り込むおそれがある。この場合、メンテナンス後の再稼働時に内部空間７１ａ〜７３ａの窒素置換に時間がかかると、生産効率が低下するおそれがある。そこで、ＥＦＥＭ１は、これらの問題を解決するために、以下のような構成を有する。   In the configuration in which the internal spaces 71a to 73a of the arm members 71 to 73 are not completely sealed with respect to the transfer chamber 41, for example, when the transfer chamber 41 is released to the atmosphere during maintenance, the internal spaces 71a to 73a are also set to the atmosphere. There is a risk of oxygen and moisture entering. In this case, if it takes time to replace the internal spaces 71a to 73a with nitrogen during re-operation after maintenance, production efficiency may be reduced. Therefore, the EFEM 1 has the following configuration in order to solve these problems.

（搬送ロボットにおける窒素の排出経路等）
搬送ロボット３における窒素の排出経路等について、図７及び図８を用いて説明する。図７は、循環路４０への窒素の供給経路及び排出経路を示す模式図である。図８は、搬送ロボット３における窒素の排出口を示す図である。 (Nitrogen discharge route in transfer robot)
A nitrogen discharge path and the like in the transfer robot 3 will be described with reference to FIGS. FIG. 7 is a schematic diagram illustrating a nitrogen supply path and a discharge path to the circulation path 40. FIG. 8 is a view showing a nitrogen discharge port in the transfer robot 3.

まず、搬送ロボット３のケース部材６１内から、パーティクルが含まれている窒素を排出するための構成について説明する。図７、８に示すように、ケース部材６１の側部には、循環路４０へ窒素を送り出すための送出口６１ｂが形成されている。さらに、筐体２内には、ケース部材６１内から循環路４０へ窒素を送り出すための送出部８１が設けられている。送出部８１は、接続管８２により形成された接続路８２ａと、ファン８３（本発明のファン）と、モータ８４（本発明のファン駆動装置）とを有する。接続路８２ａは、ケース部材６１と帰還路４３とを接続している。接続路８２ａは、ケース部材６１の送出口６１ｂから延び、窒素の流動方向における帰還路４３の上流側端部（より具体的には、ファン４６よりも上流側）に接続されている。言い換えると、ケース部材６１と帰還路４３は、搬送室４１を介さずに直接接続されている。ファン８３は、送出口６１ｂの近傍に配置されており、モータ８４により一定の回転速度で回転駆動される。   First, a configuration for discharging nitrogen containing particles from the case member 61 of the transfer robot 3 will be described. As shown in FIGS. 7 and 8, a delivery port 61 b for sending nitrogen to the circulation path 40 is formed on the side portion of the case member 61. Further, in the housing 2, a delivery part 81 for delivering nitrogen from the case member 61 to the circulation path 40 is provided. The delivery unit 81 includes a connection path 82a formed by a connection pipe 82, a fan 83 (a fan of the present invention), and a motor 84 (a fan driving device of the present invention). The connection path 82 a connects the case member 61 and the return path 43. The connecting path 82a extends from the outlet 61b of the case member 61 and is connected to the upstream end of the return path 43 (more specifically, upstream of the fan 46) in the flow direction of nitrogen. In other words, the case member 61 and the return path 43 are directly connected without passing through the transfer chamber 41. The fan 83 is disposed in the vicinity of the delivery port 61b and is driven to rotate at a constant rotational speed by the motor 84.

以上のような構成により、送出口６１ｂを介して、ケース部材６１の内部の窒素が帰還路４２に送り出される（図８の矢印２０１、２０２参照）。これにより、ケース部材６１内で発生したパーティクルによって搬送室４１が汚染されることが抑制される。また、ケース部材６１内の窒素はそのまま筐体２の外部には排出されないので、ケース部材６１から出た分の窒素を即座に補充する必要がなく、窒素の供給量の増大が抑制される。また、ファン８３により生成される気流によって、ケース部材６１内の窒素が確実に帰還路へ送られるので、ケース部材６１内の窒素が開口６１ａ（図６（ａ）参照）と支柱６２（図６（ａ）参照）との間の隙間から漏れることが抑制される。   With the configuration as described above, nitrogen inside the case member 61 is sent out to the return path 42 via the delivery port 61b (see arrows 201 and 202 in FIG. 8). Thereby, it is suppressed that the conveyance chamber 41 is contaminated by the particles generated in the case member 61. Further, since the nitrogen in the case member 61 is not directly discharged to the outside of the housing 2, it is not necessary to immediately replenish the nitrogen that has come out of the case member 61, and an increase in the supply amount of nitrogen is suppressed. Further, since the nitrogen in the case member 61 is surely sent to the return path by the air flow generated by the fan 83, the nitrogen in the case member 61 has the opening 61a (see FIG. 6A) and the support 62 (FIG. 6). Leakage from the gap between (see (a)) is suppressed.

次に、ロボットハンド７４の可動部７７がシリンダ７９によって駆動される際に発生するパーティクルを除去するための構成について説明する。図７に示すように、ＥＦＥＭ１は、シリンダ７９の動作によって発生するパーティクルを吸引除去する吸引部８６を備える。吸引部８６は、上述した供給源１１１、１１４（図６（ｂ）参照）とは別の供給源１１５（本発明の、パーティクル除去用の不活性ガス供給源）から供給される窒素によってパーティクルを吸引除去する、エジェクタ８７を有する。エジェクタ８７は、ノズル８７ａと、ディフューザ８７ｂと、吸引口８７ｃとを有する。エジェクタ８７は、ノズル８７ａからディフューザ８７ｂに向けて噴出される窒素の流れによって、吸引口８７ｃに負圧を生じさせる。ノズル８７ａは、供給源１１５から供給される窒素が流れる供給路８８ａと接続されている。ディフューザ８７ｂは、窒素を循環路４０に送り出すための送出路８８ｂと接続されている。送出路８８ｂの下流側端部は、接続路８２ａの途中部に接続されており、送出部８１と合流している。吸引口８７ｃは、シリンダ７９の近傍から延びる吸引路８８ｃと接続されている。   Next, a configuration for removing particles generated when the movable portion 77 of the robot hand 74 is driven by the cylinder 79 will be described. As shown in FIG. 7, the EFEM 1 includes a suction unit 86 that sucks and removes particles generated by the operation of the cylinder 79. The suction unit 86 generates particles by nitrogen supplied from a supply source 115 (inert gas supply source for particle removal according to the present invention) different from the above-described supply sources 111 and 114 (see FIG. 6B). It has an ejector 87 for sucking and removing. The ejector 87 has a nozzle 87a, a diffuser 87b, and a suction port 87c. The ejector 87 generates a negative pressure at the suction port 87c by the flow of nitrogen ejected from the nozzle 87a toward the diffuser 87b. The nozzle 87a is connected to a supply path 88a through which nitrogen supplied from the supply source 115 flows. The diffuser 87 b is connected to a delivery path 88 b for sending nitrogen to the circulation path 40. The downstream end portion of the delivery path 88 b is connected to the middle part of the connection path 82 a and joins the delivery section 81. The suction port 87 c is connected to a suction path 88 c extending from the vicinity of the cylinder 79.

以上の構成を有する吸引部８６において、供給源１１５からエジェクタ８７に窒素が供給されることで、シリンダ７９の動作によって発生するパーティクルが吸引路８８ｃを介して吸引される。さらに、供給された窒素は、吸引されたパーティクルと共に送出路８８ｂを介して接続路８２ａに流れ込み、帰還路４３に送り出される。つまり、窒素は、そのまま筐体２の外部空間に排出されるのではなく、いったん循環路４０内に流れ込む。   In the suction part 86 having the above configuration, when nitrogen is supplied from the supply source 115 to the ejector 87, particles generated by the operation of the cylinder 79 are sucked through the suction path 88c. Furthermore, the supplied nitrogen flows into the connection path 82 a through the delivery path 88 b together with the sucked particles and is sent out to the return path 43. That is, nitrogen is not discharged into the external space of the housing 2 as it is, but once flows into the circulation path 40.

次に、搬送ロボット３のアーム部材７１〜７３の内部空間７１ａ〜７３ａ（図８参照）を窒素置換するための構成について説明する。図７及び図８に示すように、搬送ロボット３には、アーム部材７１〜７３の内部を通る置換路９１が設けられている。置換路９１は、供給路９１ａと、内部通路９１ｂ（図８参照）とを有する。供給路９１ａは、上述した供給源１１１、１１４、１１５とは別の供給源１１６（本発明の、パージ用の不活性ガス供給源）から延びており、供給源１１６から供給される窒素が流れる。供給路９１ａは、例えば可撓性を有するチューブ等によって形成されており、ケース部材６１の内部及びアーム部材７１〜７３の内部を通っている。供給路９１ａの先端部は、最も上方のアーム部材７３の内部空間７３ａ内に配置されている。つまり、窒素は、供給路９１ａを通って、まずアーム部材７３の内部空間７３ａ内に供給される。内部通路９１ｂは、窒素の流動方向における供給路９１ａの下流側に配置された、内部空間７１ａ〜７３ａを含む窒素の通路となっている。   Next, a configuration for replacing nitrogen in the internal spaces 71a to 73a (see FIG. 8) of the arm members 71 to 73 of the transfer robot 3 will be described. As shown in FIGS. 7 and 8, the transfer robot 3 is provided with a replacement path 91 that passes through the inside of the arm members 71 to 73. The replacement path 91 has a supply path 91a and an internal passage 91b (see FIG. 8). The supply path 91a extends from a supply source 116 (an inert gas supply source for purging of the present invention) different from the above-described supply sources 111, 114, and 115, and nitrogen supplied from the supply source 116 flows. . The supply path 91a is formed by, for example, a flexible tube or the like, and passes through the inside of the case member 61 and the inside of the arm members 71 to 73. The distal end portion of the supply path 91 a is disposed in the internal space 73 a of the uppermost arm member 73. That is, nitrogen is first supplied into the internal space 73a of the arm member 73 through the supply path 91a. The internal passage 91b is a nitrogen passage including the internal spaces 71a to 73a arranged on the downstream side of the supply passage 91a in the flow direction of nitrogen.

内部通路９１ｂの一例について、図８を参照しつつ説明する。アーム部材７１〜７３には、窒素を流入させるための流入口７１ｂ〜７３ｂと、ガスを流出させるための流出口７１ｃ〜７３ｃとがそれぞれ形成されている。より具体的には、以下のとおりである。すなわち、アーム部材７３の下部に形成された流入口７３ｂの近傍に供給路９１ａの先端部が取り付けられている。アーム部材７３の内部空間７３ａは、供給路９１ａと連通している。アーム部材７２の内部空間７２ａは、流出口７３ｃ及び流入口７２ｂを介して内部空間７３ａと連通している。アーム部材７１の内部空間７１ａは、流出口７２ｃ及び流入口７１ｂを介して、内部空間７２ａと連通している。内部空間７１ａとケース部材６１の内部とが、流出口７１ｃを介して連通している。これにより、供給源１１６から供給路９１ａを通って内部空間７３ａに供給された窒素は、内部空間７３ａ、７２ａ、７１ａの順に通ってケース部材６１の内部に流れ込み、送出口６１ｂを通って帰還路４２へ送られる。   An example of the internal passage 91b will be described with reference to FIG. The arm members 71 to 73 are formed with inflow ports 71b to 73b for introducing nitrogen and outflow ports 71c to 73c for allowing gas to flow out, respectively. More specifically, it is as follows. That is, the distal end portion of the supply path 91a is attached in the vicinity of the inflow port 73b formed in the lower part of the arm member 73. The internal space 73a of the arm member 73 communicates with the supply path 91a. The internal space 72a of the arm member 72 communicates with the internal space 73a via the outflow port 73c and the inflow port 72b. The internal space 71a of the arm member 71 communicates with the internal space 72a via the outflow port 72c and the inflow port 71b. The internal space 71a and the inside of the case member 61 communicate with each other via the outflow port 71c. Thus, nitrogen supplied from the supply source 116 to the internal space 73a through the supply path 91a flows into the case member 61 through the internal spaces 73a, 72a, 71a in this order, and returns to the return path through the outlet 61b. 42.

次に、搬送ロボット３の内部の気体を置換する方法について説明する。まず、例えばＥＦＥＭ１の立上げ時に、供給源１１６（図７参照。本発明の供給源）から供給路９１ａを介してアーム部材７３の内部空間７３ａに窒素を送り、内部空間７２ａ、７１ａを介してケース部材６１の内部に窒素を供給する（図８参照）。さらに、送出口６１ｂを介して、ケース部材６１内の気体を帰還路４３へ送り出す。これにより、ケース部材６１内の気体が速やかに窒素に置換される。そして、搬送室４１内の酸素濃度が所定値未満（例えば１００ｐｐｍ未満）となった後、供給源１１６からの窒素の供給を停止する。通常時は、ファン８３を回転駆動することで、開口６１ａ等を介して、搬送室４１からケース部材６１内に気体を取り込む。そして、ケース部材６１内の気体を帰還路４３へ送り出す。これにより、搬送室４１内にパーティクルが放出されることが抑制される。   Next, a method for replacing the gas inside the transfer robot 3 will be described. First, for example, at the time of starting up the EFEM 1, nitrogen is sent from the supply source 116 (see FIG. 7) to the internal space 73a of the arm member 73 through the supply path 91a and then through the internal spaces 72a and 71a. Nitrogen is supplied into the case member 61 (see FIG. 8). Further, the gas in the case member 61 is sent out to the return path 43 through the delivery port 61b. Thereby, the gas in the case member 61 is quickly replaced with nitrogen. Then, after the oxygen concentration in the transfer chamber 41 becomes less than a predetermined value (for example, less than 100 ppm), the supply of nitrogen from the supply source 116 is stopped. In normal times, the fan 83 is rotationally driven to take gas from the transfer chamber 41 into the case member 61 through the opening 61a and the like. Then, the gas in the case member 61 is sent out to the return path 43. As a result, the release of particles into the transfer chamber 41 is suppressed.

以上のように、搬送ロボット３のケース部材６１と帰還路４３とを接続する接続路８２ａが設けられている。このため、仮にケース部材６１の内部空間でパーティクルが発生しても、このパーティクルは接続路８２ａを介して帰還路４３に排出されるため、搬送室４１内にパーティクルが漏れることを抑制できる。さらに、帰還路４３に排出されたパーティクルは、帰還路４３の下流側に配置されたＦＦＵ４４によって除去される。したがって、ケース部材６１の内部空間で発生したパーティクルによって搬送室４１が汚染されることを抑制できる。また、このような構成では、ケース部材６１内の窒素がそのまま外部に排出されないので、ケース部材６１内から排出された分の窒素を補充する必要がなく、窒素の供給量の増大を抑制できるため、コストの増大を抑制できる。したがって、筐体２内の窒素を循環させるタイプのＥＦＥＭ１において、コストの増大を抑えつつ、搬送室４１内にパーティクルが放出されることを抑制することができる。また、例えばＥＦＥＭ１の立上げ時等に、供給源１１６から不活性ガスを積極的に供給することで、速やかにケース部材６１内のガスを置換できる。また、搬送室４１内の酸素濃度が所定値未満となった後に供給源１１６からの窒素の供給を停止することで、コストの増大を抑制できる。   As described above, the connection path 82 a that connects the case member 61 of the transfer robot 3 and the return path 43 is provided. For this reason, even if particles are generated in the internal space of the case member 61, the particles are discharged to the return path 43 through the connection path 82 a, so that it is possible to prevent the particles from leaking into the transfer chamber 41. Further, the particles discharged to the return path 43 are removed by the FFU 44 disposed on the downstream side of the return path 43. Therefore, it is possible to prevent the transfer chamber 41 from being contaminated by particles generated in the internal space of the case member 61. Further, in such a configuration, since the nitrogen in the case member 61 is not directly discharged to the outside, it is not necessary to replenish the amount of nitrogen discharged from the case member 61, and an increase in the supply amount of nitrogen can be suppressed. The increase in cost can be suppressed. Therefore, in the EFEM 1 of the type that circulates the nitrogen in the housing 2, it is possible to suppress the release of particles into the transfer chamber 41 while suppressing an increase in cost. Further, for example, when the EFEM 1 is started up, the gas in the case member 61 can be quickly replaced by actively supplying the inert gas from the supply source 116. Moreover, the increase in cost can be suppressed by stopping the supply of nitrogen from the supply source 116 after the oxygen concentration in the transfer chamber 41 becomes less than a predetermined value.

また、ファン８３により生成される気流によって、ケース部材６１内の窒素を確実に帰還路４３へ送ることができるので、ケース部材６１内の窒素が開口６１ａと支柱６２との間の隙間から漏れることを抑制し、搬送室４１内にパーティクルが放出されることをより確実に抑制することができる。   Moreover, since the nitrogen in the case member 61 can be reliably sent to the return path 43 by the air flow generated by the fan 83, the nitrogen in the case member 61 leaks from the gap between the opening 61a and the support column 62. And the release of particles into the transfer chamber 41 can be more reliably suppressed.

また、エジェクタ８７によってシリンダ７９の近傍に発生するパーティクルが吸引され、供給源１１５から供給される窒素がパーティクルと共に帰還路４３に排出されるため、当該窒素はそのまま循環する。さらに、パーティクルは、ＦＦＵ４４によって除去される。したがって、真空排気を行う構成と比べて、窒素の補充によるコストの増大を抑制することができる。   Further, particles generated in the vicinity of the cylinder 79 are sucked by the ejector 87, and nitrogen supplied from the supply source 115 is discharged together with the particles to the return path 43, so that the nitrogen circulates as it is. Further, the particles are removed by the FFU 44. Therefore, an increase in cost due to replenishment of nitrogen can be suppressed as compared with a configuration in which evacuation is performed.

また、アーム部材７１〜７３に流入口７１ｂ〜７３ｂと流出口７１ｃ〜７３ｃとがそれぞれ形成されているため、これらが形成されていない場合と比べて、アーム部材７１〜７３の内部空間７１ａ〜７３ａのガス置換にかかる時間を短縮することができ、生産効率の低下を抑制できる。   Moreover, since the inflow ports 71b-73b and the outflow ports 71c-73c are each formed in the arm members 71-73, compared with the case where these are not formed, internal space 71a-73a of the arm members 71-73. The time required for gas replacement can be shortened, and a reduction in production efficiency can be suppressed.

次に、前記実施形態に変更を加えた変形例について説明する。但し、前記実施形態と同様の構成を有するものについては、同じ符号を付して適宜その説明を省略する。   Next, a modified example in which the above embodiment is modified will be described. However, components having the same configuration as in the above embodiment are given the same reference numerals and description thereof is omitted as appropriate.

（１）前記実施形態において、ファン８３は、モータ８４により一定の回転速度で回転駆動されるものとしたが、これには限られない。ケース部材６１内においては、駆動機構６３が支柱６２を上下駆動しているときに、パーティクルが発生しやすいおそれがある。そこで、図９に示すように、搬送ロボット３ａが、モータ８４を制御するファン制御部１２（本発明の制御部）を有していても良い。さらに、ファン制御部１２は、駆動機構６３が動作しているときに、駆動機構６３が動作していないときと比べて、ファン８３の回転速度を速くしても良い。これにより、駆動機構６３が動作しているときにファン８３の回転速度を速くして風速を速めることで、ケース部材６１内の窒素を確実に帰還路４３へ送ることができる。また、駆動機構６３が動作していないときにはファン８３の回転速度を遅くすることで、モータ８４の消費電力を低減させることができる。なお、制御装置５（図１等参照）或いはロボット制御部１１（図２等参照）が、ファン８３の回転速度を制御するように構成されていても良い。 (1) In the above embodiment, the fan 83 is rotationally driven by the motor 84 at a constant rotational speed. However, the present invention is not limited to this. In the case member 61, there is a possibility that particles are likely to be generated when the drive mechanism 63 drives the support 62 up and down. Therefore, as shown in FIG. 9, the transfer robot 3 a may include a fan control unit 12 (control unit of the present invention) that controls the motor 84. Further, the fan control unit 12 may increase the rotation speed of the fan 83 when the drive mechanism 63 is operating as compared to when the drive mechanism 63 is not operating. As a result, the nitrogen in the case member 61 can be reliably sent to the return path 43 by increasing the rotational speed of the fan 83 and increasing the wind speed when the drive mechanism 63 is operating. Further, when the drive mechanism 63 is not operating, the power consumption of the motor 84 can be reduced by reducing the rotational speed of the fan 83. Note that the control device 5 (see FIG. 1 and the like) or the robot control unit 11 (see FIG. 2 and the like) may be configured to control the rotation speed of the fan 83.

（２）前記までの実施形態においては、搬送ロボット３のケース部材６１と帰還路４３とが接続路８２ａによって接続されている（すなわち、搬送ロボット３が本発明の自動装置に相当する）ものとしたが、これには限られない。例えば、上述したアライナ５４に本発明を適用しても良い。この場合、アライナ５４も、本発明の自動装置に相当する。以下、図１０を用いて具体的に説明する。図１０（ａ）は、アライナ５４の構造を示す部分断面図である。図１０（ｂ）は、アライナ５４及びその周辺の平面図である。 (2) In the above embodiments, the case member 61 of the transfer robot 3 and the return path 43 are connected by the connection path 82a (that is, the transfer robot 3 corresponds to the automatic device of the present invention). However, it is not limited to this. For example, the present invention may be applied to the aligner 54 described above. In this case, the aligner 54 also corresponds to the automatic device of the present invention. Hereinafter, this will be specifically described with reference to FIG. FIG. 10A is a partial cross-sectional view showing the structure of the aligner 54. FIG. 10B is a plan view of the aligner 54 and its periphery.

アライナ５４の構成について簡単に説明する。図１０（ａ）に示すように、アライナ５４は、ケース部材９２と、保持部９３と、支持部９４と、モータ９５（本発明の駆動機構）と、カメラ９６とを有する。ケース部材９２には、開口９２ａが形成されている。ケース部材９２の外側に、ウェハＷを保持する保持部９３が配置されている。支持部９４は、保持部９３を下方から支持する。モータ９５は、支持部９４を回転駆動する。カメラ９６は、保持部９３に保持された状態で回転しているウェハＷの外縁部を撮影する。これにより、アライナ５４は、ウェハＷが搬送ロボット３によって目標保持位置からどれだけずれた位置で保持されていたか計測し、計測結果をロボット制御部１１に送信する。   The configuration of the aligner 54 will be briefly described. As shown in FIG. 10A, the aligner 54 includes a case member 92, a holding portion 93, a support portion 94, a motor 95 (driving mechanism of the present invention), and a camera 96. An opening 92 a is formed in the case member 92. A holding portion 93 that holds the wafer W is disposed outside the case member 92. The support part 94 supports the holding part 93 from below. The motor 95 rotates the support portion 94. The camera 96 images the outer edge portion of the wafer W that is rotating while being held by the holding portion 93. Accordingly, the aligner 54 measures how far the wafer W is held by the transfer robot 3 from the target holding position, and transmits the measurement result to the robot controller 11.

モータ９５によって支持部９４が回転駆動されることで、ケース部材９２内にパーティクルが発生しうる。そこで、図１０（ａ）に示すように、ケース部材９２には窒素の排出口９７が形成されている。排出口９７は、接続管９８によって形成された接続路９８ａが接続されている。図１０（ｂ）に示すように、接続路９８ａは、ケース部材９２と帰還路４３とを接続している。さらに、接続路９８ａにファン９９が配置されていても良い。   Particles can be generated in the case member 92 as the support portion 94 is rotationally driven by the motor 95. Therefore, as shown in FIG. 10A, the case member 92 has a nitrogen exhaust port 97 formed therein. The discharge port 97 is connected to a connection path 98 a formed by a connection pipe 98. As shown in FIG. 10B, the connection path 98 a connects the case member 92 and the return path 43. Further, a fan 99 may be disposed in the connection path 98a.

（３）前記までの実施形態においては、柱２１〜２４の内部に形成された空間２１ａ〜２４ａが帰還路４３であるものとしたが、これには限られない。すなわち、帰還路４３は他の部材によって形成されていても良い。 (3) In the above embodiments, the spaces 21a to 24a formed in the pillars 21 to 24 are the return path 43, but the present invention is not limited to this. That is, the return path 43 may be formed by other members.

（４）前記までの実施形態においては、不活性ガスとして窒素を用いるものとしたが、これには限られない。例えば、不活性ガスとしてアルゴン等を用いても良い。 (4) In the embodiments described above, nitrogen is used as the inert gas, but the present invention is not limited to this. For example, argon or the like may be used as the inert gas.

１ ＥＦＥＭ
３ 搬送ロボット（自動装置）
１２ ファン制御部（制御部）
４３ 帰還路
４４ ＦＦＵ（ファンフィルタユニット）
５４ アライナ（自動装置）
６１ ケース部材
６１ａ 開口
６２ 支柱（支持部）
６３ 駆動機構
７０ アーム機構（保持部）
７１、７２、７３ アーム部材
７１ａ、７２ａ、７３ａ 内部空間
７１ｂ、７２ｂ、７３ｂ 流入口
７１ｃ、７２ｃ、７３ｃ 流出口
７４ ロボットハンド
７７ 可動部（切換部）
８２ａ 接続路
８３ ファン
８７ エジェクタ
９２ ケース部材
９３ 保持部
９４ 支持部
９５ モータ（駆動機構）
９８ａ 接続路
Ｗ ウェハ（基板） 1 EFEM
3 Transport robot (automatic device)
12 Fan control unit (control unit)
43 Return path 44 FFU (fan filter unit)
54 Aligner (automatic device)
61 Case member 61a Opening 62 Post (support part)
63 Drive mechanism 70 Arm mechanism (holding part)
71, 72, 73 Arm member 71a, 72a, 73a Internal space 71b, 72b, 73b Inlet 71c, 72c, 73c Outlet 74 Robot hand 77 Movable part (switching part)
82a Connection path 83 Fan 87 Ejector 92 Case member 93 Holding part 94 Supporting part 95 Motor (drive mechanism)
98a Connection path W Wafer (substrate)

Claims (8)

パーティクルを除去するファンフィルタユニットによって清浄化された不活性ガスが所定方向に流れる搬送室と、前記搬送室の前記所定方向における下流側から前記ファンフィルタユニットへ前記不活性ガスを戻す帰還路と、を有し、前記不活性ガスが循環するように構成されたＥＦＥＭであって、
前記搬送室内に配置され、基板を保持した状態で所定の動作を行う自動装置を備え、
前記自動装置は、
開口が形成されたケース部材と、
前記ケース部材の外側に配置され、前記基板を保持する保持部と、
前記保持部を支持し、前記開口に挿通された支持部と、
前記ケース部材に収容され、前記支持部を駆動する駆動機構と、を有し、
前記ケース部材と前記帰還路とを接続する接続路が設けられていることを特徴とするＥＦＥＭ。 A transfer chamber in which the inert gas purified by the fan filter unit for removing particles flows in a predetermined direction, and a return path for returning the inert gas from the downstream side in the predetermined direction of the transfer chamber to the fan filter unit; An EFEM configured to circulate the inert gas,
An automatic device disposed in the transfer chamber and performing a predetermined operation while holding the substrate;
The automatic device is
A case member in which an opening is formed;
A holding part disposed outside the case member and holding the substrate;
A support part that supports the holding part and is inserted through the opening;
A drive mechanism housed in the case member and driving the support portion;
An EFEM characterized in that a connection path for connecting the case member and the return path is provided. 前記ケース部材内の不活性ガスを、前記接続路を介して前記帰還路へ送り出すファンをさらに備えることを特徴とする請求項１に記載のＥＦＥＭ。   2. The EFEM according to claim 1, further comprising a fan that sends the inert gas in the case member to the return path through the connection path. 前記ファンを回転駆動するファン駆動装置と、
前記ファン駆動装置を制御する制御部と、をさらに備え、
前記制御部は、
前記駆動機構が動作しているときに、前記駆動機構が動作していないときと比べて前記ファンの回転速度を速くすることを特徴とする請求項２に記載のＥＦＥＭ。 A fan driving device for rotationally driving the fan;
A control unit for controlling the fan driving device,
The controller is
The EFEM according to claim 2, wherein when the drive mechanism is operating, the rotational speed of the fan is increased compared to when the drive mechanism is not operating. 前記自動装置として、前記基板を搬送する搬送ロボットが設けられ、
前記ケース部材は、前記搬送室内に固定され、
前記保持部として、前記基板を保持して水平方向に搬送するアーム機構が設けられ、
前記支持部として、前記アーム機構を支持する支柱が設けられ、
前記支柱は、前記駆動機構によって上下駆動されることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のＥＦＥＭ。 As the automatic device, a transfer robot for transferring the substrate is provided,
The case member is fixed in the transfer chamber,
As the holding unit, an arm mechanism for holding the substrate and transporting it in the horizontal direction is provided,
As the support portion, a support column that supports the arm mechanism is provided,
The EFEM according to claim 1, wherein the support column is driven up and down by the drive mechanism. 前記アーム機構は、
前記基板を保持するロボットハンドと、
前記基板を保持する保持状態と、前記保持状態を解除する解除状態との間で前記ロボットハンドの状態を切り換える切換部と、を有し、
前記切換部の動作時に発生するパーティクルを、パーティクル除去用の不活性ガス供給源から供給される前記不活性ガスの流れによって吸引し、さらに、供給された前記不活性ガスをパーティクルと共に前記帰還路に排出するエジェクタ、を備えることを特徴とする請求項４に記載のＥＦＥＭ。 The arm mechanism is
A robot hand holding the substrate;
A switching unit that switches the state of the robot hand between a holding state that holds the substrate and a release state that releases the holding state;
Particles generated during the operation of the switching unit are sucked by the flow of the inert gas supplied from an inert gas supply source for particle removal, and the supplied inert gas is supplied to the return path together with the particles. The EFEM according to claim 4, further comprising an ejector that discharges the ejector. 前記アーム機構は、中空のアーム部材を有し、
前記アーム部材には、パージ用の不活性ガス供給源から供給される前記不活性ガスを前記アーム部材の内部空間に流入させるための流入口と、前記アーム部材の前記内部空間からガスを流出させるための流出口とが形成されていることを特徴とする請求項４又は５に記載のＥＦＥＭ。 The arm mechanism has a hollow arm member,
The arm member has an inlet for allowing the inert gas supplied from the purge inert gas supply source to flow into the internal space of the arm member, and allows the gas to flow out of the internal space of the arm member. The EFEM according to claim 4, wherein an outlet for the EFEM is formed. パーティクルを除去するファンフィルタユニットによって清浄化された不活性ガスが所定方向に流れる搬送室と、前記搬送室の前記所定方向における下流側から前記ファンフィルタユニットへ前記不活性ガスを戻す帰還路と、を有し、前記不活性ガスが循環するように構成されたＥＦＥＭにおいて、ガスを置換するガス置換方法であって、
前記ＥＦＥＭは、前記搬送室内に配置され、基板を保持した状態で所定の動作を行う自動装置を備えるものであり、
前記自動装置は、開口が形成されたケース部材と、前記ケース部材に収容される駆動機構と、を有するものであり、
前記不活性ガスの供給源から前記ケース部材の内部に前記不活性ガスを供給して、前記ケース部材の内部から前記帰還路へガスを送り出すことで前記ケース部材の内部のガスを置換することを特徴とするＥＦＥＭにおけるガス置換方法。 A transfer chamber in which the inert gas purified by the fan filter unit for removing particles flows in a predetermined direction, and a return path for returning the inert gas from the downstream side in the predetermined direction of the transfer chamber to the fan filter unit; In the EFEM configured to circulate the inert gas, the gas replacement method replaces the gas,
The EFEM is disposed in the transfer chamber and includes an automatic device that performs a predetermined operation while holding a substrate.
The automatic device has a case member in which an opening is formed, and a drive mechanism accommodated in the case member.
Replacing the gas inside the case member by supplying the inert gas from the inert gas supply source to the inside of the case member and sending the gas from the inside of the case member to the return path. A gas replacement method in EFEM which is characterized. 前記搬送室内の前記ガス雰囲気が所定の酸素濃度未満となった後、前記供給源からの前記不活性ガスの供給を停止し、前記搬送室内のガスを前記ケース部材の内部に取り込んで前記帰還路へ送り出すことを特徴とする請求項７に記載のＥＦＥＭにおけるガス置換方法。   After the gas atmosphere in the transfer chamber becomes less than a predetermined oxygen concentration, the supply of the inert gas from the supply source is stopped, the gas in the transfer chamber is taken into the case member, and the return path The gas replacement method in EFEM according to claim 7, wherein the gas replacement method is sent to the EFEM.
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