JP5253998B2 - 波面計測及び散乱光測定方法及び装置、ならびに関連装置及び製造方法 - Google Patents
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- 試験片上で空間的に解像された波面を計測する方法であって、
a)少なくとも二つの第1の周期方向をそれぞれ有する一つまたは複数の第1の回折構造を用いた複数の個別計測と、生成された干渉縞の空間的に解像された検出を含む第1の計測動作を実行するステップと、
b)少なくとも一つの前記第1の周期方向と平行でない、少なくとも一つの第2の周期方向をそれぞれ有する一つまたは複数の第2の回折構造を用いた少なくとも一つの個別計測と、生成された干渉縞の空間的に解像された検出を含む第2の計測動作を実行するステップと、
c)少なくとも所定の空間周波数について、波面情報の項目を得るために検出された干渉縞を評価するステップと、を含み、
これらステップにより、36次よりも高い1以上のゼルニケ係数を求めることを特徴とする方法。 - 前記a)からc)のステップにより求めるゼルニケ係数は、64次よりも高い1以上のゼルニケ係数である、請求項1に記載の方法。
- 前記第1の計測動作における複数の個別計測は、少なくとも二つの第1の周期方向に沿って光路内に置かれた一つまたは複数の第1の回折構造を移動し、かつ、前記第2の計測動作における複数の個別計測は、少なくとも二つの第2の周期方向に沿って光路内に置かれた一つまたは複数の第2の回折構造を移動することを含む、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記試験片の点応答は、検出された干渉縞から求められ、空間的に解像された散乱光の測定は、該点応答を用いて実行される、請求項1〜3の何れか一項に記載の方法。
- 前記第1の回折構造及び前記第2の回折構造について、共通の回折構造の向きを回転させて使用する、請求項3又は4に記載の方法。
- 試験片上で空間的に解像された散乱光を計測する方法であって、
a)少なくとも4方向の関連する方向を規定する回折構造の少なくとも4方向の周期方向に沿って、光路内に置かれた該回折構造の移動を伴う複数の個別計測と、生成された干渉縞の空間的に解像された検出とを含む計測動作を実行するステップと、
b)検出された干渉縞から前記試験片の点応答を求めるステップと、
c)求められた点応答から空間的に解像された散乱光を測定するステップと、
を含むことを特徴とする方法。 - 二つの互いに直交する第1の方向についての計測動作の二つの個別計測と、二つの互いに直交する第2の方向についての計測動作のさらに二つの個別計測とを含み、該第1の方向は、試験片の向きに関する該第2の方向に対して直角でない角度で回転される、請求項1〜6の何れか一項に記載の方法。
- 前記計測動作の第1の個別計測を実行するために使用するものと同一の回折構造を、前記試験片及び/又は前記回折構造を相対的に回転させる目的で、前記試験片に対して回転された向きで、前記計測動作の第2の個別計測を実行するために使用する、請求項1〜7の何れか一項に記載の方法。
- 非平行な周期方向を備えた少なくとも二つの回折構造(21〜24)が、共通の回折構造支持部材(20)において、互いに離れた該回折構造支持部材の部分領域に配置され、前記計測動作の異なる個別計測の間、前記回折構造支持部材を横にずらすことにより、該少なくとも二つの回折構造が互いに入れ換えられる、請求項1〜8の何れか一項に記載の方法。
- 少なくとも一つの前記回折構造(40)が、少なくとも一つの周期方向において少なくとも二つの異なる周期長を持つ、請求項1〜9の何れか一項に記載の方法。
- 前記計測動作の少なくとも一つの個別計測を実行するために、少なくとも一つの周期方向と少なくとも一つの関連する周期長を備えたコヒーレンス構造を、それぞれの前記回折構造の上流側の光路内に配置し、該コヒーレンス構造の周期方向は、対応する回折構造の周期方向に対応し、かつ、該コヒーレンス構造の周期長は、対応する回折構造の周期長に対応する、請求項1〜10の何れか一項に記載の方法。
- 前記計測動作の第1の個別計測を実行するために使用するものと同一のコヒーレンス構造を、前記試験片及び/又は前記コヒーレンス構造を相対的に回転させる目的で、前記試験片に対して回転された向きで、前記計測動作の第2の個別計測を実行するために使用する、請求項11に記載の方法。
- 非平行な周期方向を備えた少なくとも二つのコヒーレンス構造(11〜14)が、共通のコヒーレンス構造支持部材(10)において、互いに離れた該コヒーレンス構造支持部材の部分領域に配置され、前記計測動作の異なる個別計測の間、前記コヒーレンス構造支持部材を横にずらすことにより、該少なくとも二つのコヒーレンス構造が互いに入れ換えられる、請求項11又は12に記載の方法。
- 少なくとも一つの前記コヒーレンス構造が、少なくとも一つの周期方向において少なくとも二つの異なる周期長を持つ、請求項11〜13の何れか一項に記載の方法。
- 前記方法は、マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズ又はマイクロリソグラフィ投影露光装置の他の部品を前記試験片として実行される請求項1〜14の何れか一項に記載の方法。
- 3以上の波面傾斜が、実行された個別計測から求められ、それぞれの波面が何れか二つの当該波面傾斜から再構成されるか、または共通の波面が全ての当該波面傾斜から同時に再構成される、請求項1〜15の何れか一項に記載の方法。
- 前記波面計測が、シェアリング干渉計を用いてなされる、請求項1〜16の何れか一項に記載の方法。
- 所定の閾値以下若しくは以上の対応する空間周波数についての計測が前記試験片に対して行われる、請求項1〜17の何れか一項に記載の方法。
- 光学部品の製造方法であって、
前記光学部品を予め組み立てるステップと、
請求項1〜17の何れか一つに記載の方法による、空間的に解像された波面の計測及び/又は散乱光の計測により、前記予め組み立てられた光学部品をテストするステップと、
テスト結果に依存した方法で前記光学部品の製造を終了するステップと、
を含むことを特徴とする製造方法。 - 前記光学部品は対物レンズである、請求項19に記載の製造方法。
- 前記対物レンズはマイクロリソグラフィ投影対物レンズである、請求項20に記載の製造方法。
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