JP5234686B1 - Adjustment method per brake surface - Google Patents

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Abstract

【課題】ばねの付勢力により制動力を発生するディスクブレーキのブレーキトルクを向上させることのできるブレーキ面当りの調整方法を提供すること。
【解決手段】実施形態によれば、ブレーキ面当りの調整方法は、研磨ディスク30を回転軸5に取り付ける手順と、研磨ディスク30を回転させて圧着面21を研磨する手順と、ブレーキディスク25を回転軸5に取り付ける手順と、を含む。研磨ディスク30は、アーマチュア20の圧着面21に対向する面に研磨材31を設ける。研磨ディスク30を回転軸5に取り付ける手順は、回転軸5からブレーキディスク25を取り外した状態で行う。研磨ディスク30を回転させて圧着面21を研磨する手順は、ばね15の付勢力によってアーマチュア20を研磨ディスク30に圧着させながら行う。ブレーキディスク25を回転軸5に取り付ける手順は、圧着面21を研磨した後に、研磨ディスク30を回転軸5から取り外して行う。
【選択図】図6
A brake surface adjusting method capable of improving a brake torque of a disc brake that generates a braking force by an urging force of a spring is provided.
According to the embodiment, an adjustment method per brake surface includes a procedure for attaching a polishing disc 30 to a rotary shaft 5, a procedure for rotating the polishing disc 30 to polish a pressure-bonding surface 21, and a brake disc 25. Attaching to the rotary shaft 5. The abrasive disc 30 is provided with an abrasive 31 on the surface facing the crimping surface 21 of the armature 20. The procedure for attaching the polishing disc 30 to the rotating shaft 5 is performed with the brake disc 25 removed from the rotating shaft 5. The procedure of rotating the polishing disk 30 to polish the pressure-bonding surface 21 is performed while the armature 20 is pressure-bonded to the polishing disk 30 by the urging force of the spring 15. The procedure for attaching the brake disk 25 to the rotating shaft 5 is performed by removing the polishing disk 30 from the rotating shaft 5 after polishing the crimping surface 21.
[Selection] Figure 6

Description

本発明の実施形態は、ブレーキ面当りの調整方法に関する。   Embodiments described herein relate generally to an adjustment method per brake surface.

エレベータの巻上機は、昇降路の上部に配設されており、昇降路内を移動する乗りかごに接続されるロープが巻きかけられるシーブと、このシーブを回転させる動力を発生するモータと、を有している。乗りかごを昇降させる際には、モータで発生した動力によってシーブを回転させることにより、ロープにおけるシーブに巻きかけられる位置を移動させ、乗りかごを昇降させる。また、このような巻上機には、乗りかごを昇降させている場合における制動時に回転中のシーブを減速させたり、乗りかごを昇降路内における任意の位置に保持する際にシーブを停止状態で維持させたりするブレーキ装置が備えられている。   The elevator hoisting machine is disposed at the upper part of the hoistway, a sheave around which a rope connected to a car moving in the hoistway is wound, a motor that generates power for rotating the sheave, have. When raising and lowering the car, the sheave is rotated by the power generated by the motor, thereby moving the position of the rope wound around the sheave and raising and lowering the car. In addition, in such a hoisting machine, the sheave that is rotating is decelerated during braking when the car is raised or lowered, or the sheave is stopped when the car is held at an arbitrary position in the hoistway. A brake device that can be maintained at

例えば、特許文献1に記載されたエレベータ用ブレーキでは、乗りかごを乗降させるロープが巻き掛けられるシーブを、駆動装置で発生させる駆動力によって回転させ、このシーブに駆動力を伝達するシャフトに、ブレーキのディスクが固定されている。このディスクの両側にはライニングが配設されており、制動時にはばねの付勢力によってライニングをディスクに押し付け、制動の解除時にはマグネットによる吸引力によって、ライニングをディスクから離間させる。これにより、ディスクが固定されるディスクと同じシャフトに固定されるシーブに対して、制動力を付与することができる。   For example, in an elevator brake described in Patent Document 1, a sheave around which a rope for getting on and off a car is wound is rotated by a driving force generated by a driving device, and a shaft that transmits the driving force to the sheave is braked on a shaft. Disc is fixed. Lining is provided on both sides of the disk. When braking, the lining is pressed against the disk by a biasing force of a spring, and when releasing the braking, the lining is separated from the disk by a magnetic attraction force. Thereby, a braking force can be applied to the sheave fixed to the same shaft as the disk to which the disk is fixed.

特開2003−146564号公報JP 2003-146564 A

しかしながら、マグネットによる吸引力によって動作するアーマチュアにライニングを貼着し、制動時にはばねの付勢力によってアーマチュアをディスク側に押し付け、ライニングをディスクに押し付けた場合、付勢力はアーマチュアに対して局所的に付与されることになる。これにより、アーマチュアには撓みが発生する場合があり、この撓みに起因して制動時にディスクに対する面当りが悪くなり、ブレーキトルクが低下する場合があった。   However, if the lining is attached to an armature that operates by the magnet's attractive force, the armature is pressed against the disc by the spring's biasing force during braking, and the lining is pressed against the disc, the biasing force is locally applied to the armature. Will be. As a result, the armature may bend, and due to this bend, the surface contact with the disk may be deteriorated during braking, and the brake torque may be reduced.

本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、ばねの付勢力により制動力を発生するディスクブレーキのブレーキトルクを向上させることのできるブレーキ面当りの調整方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above, and it is an object of the present invention to provide an adjustment method per brake surface that can improve the brake torque of a disc brake that generates a braking force by a biasing force of a spring. .

実施形態のブレーキ面当りの調整方法は、研磨ディスクを回転軸に取り付ける手順と、研磨ディスクを回転させて圧着面を研磨する手順と、ブレーキディスクを回転軸に取り付ける手順と、を含む。研磨ディスクは、制動力の発生時に、ブレーキディスクに対してばねの付勢力によって圧着させることによりブレーキディスクとの間で摩擦力を発生する制動部材の圧着面に対向する面に研磨材が設けられている。研磨ディスクを回転軸に取り付ける手順は、ブレーキ装置の回転軸からブレーキディスクを取り外した状態で行う。研磨ディスクを回転させて圧着面を研磨する手順は、ばねの付勢力によって制動部材を研磨ディスクに圧着させながら回転軸を回転させることにより行う。ブレーキディスクを回転軸に取り付ける手順は、圧着面を研磨した後に、研磨ディスクを回転軸から取り外して行う。   The adjustment method per brake surface according to the embodiment includes a procedure of attaching the polishing disc to the rotating shaft, a procedure of rotating the polishing disc to polish the pressure-bonding surface, and a procedure of attaching the brake disc to the rotating shaft. The abrasive disc is provided with a polishing material on a surface facing the pressure-bonding surface of the braking member that generates a frictional force with the brake disc by being pressed against the brake disc by the biasing force of the spring when the braking force is generated. ing. The procedure for attaching the polishing disc to the rotating shaft is performed with the brake disc removed from the rotating shaft of the brake device. The procedure of rotating the polishing disk to polish the pressure-bonding surface is performed by rotating the rotating shaft while pressing the braking member against the polishing disk by the biasing force of the spring. The procedure for attaching the brake disk to the rotating shaft is performed by removing the polishing disk from the rotating shaft after polishing the crimping surface.

図1は、実施形態に係るブレーキ面当りの調整方法を用いるブレーキ装置の概略図である。FIG. 1 is a schematic view of a brake device that uses an adjustment method per brake surface according to an embodiment. 図2は、図1のA−A矢視図である。FIG. 2 is an AA arrow view of FIG. 図3は、ブレーキ装置で制動力を発生させる際における説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram when the braking force is generated by the brake device. 図4は、図3のB−B矢視図である。4 is a view taken in the direction of arrows BB in FIG. 図5は、回転軸に研磨ディスクを取り付けた状態を示す説明図である。FIG. 5 is an explanatory view showing a state in which the polishing disk is attached to the rotating shaft. 図6は、図5のC−C矢視図である。FIG. 6 is a CC arrow view of FIG.

以下に、本発明に係るブレーキ面当りの調整方法の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、この実施形態によりこの発明が限定されるものではない。また、下記実施形態における構成要素には、当業者が置換可能かつ容易なもの、或いは実質的に同一のものが含まれる。   Hereinafter, an embodiment of an adjustment method per brake surface according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, this invention is not limited by this embodiment. In addition, constituent elements in the following embodiments include those that can be easily replaced by those skilled in the art or those that are substantially the same.

〔実施形態〕
図1は、実施形態に係るブレーキ面当りの調整方法を用いるブレーキ装置の概略図である。図2は、図1のA−A矢視図である。同図に示すブレーキ装置10は、エレベータの乗りかごを昇降させる巻上機1用のブレーキ装置10になっており、停止側の部材であるブレーキキャリパ12と、回転側の部材であるブレーキディスク25と、を有している。ブレーキ装置10は、このように回転側の部材にブレーキディスク25を用いる、いわゆるディスクブレーキとして構成されている。
Embodiment
FIG. 1 is a schematic view of a brake device that uses an adjustment method per brake surface according to an embodiment. FIG. 2 is an AA arrow view of FIG. The brake device 10 shown in the figure is a brake device 10 for the hoist 1 that raises and lowers an elevator car, and includes a brake caliper 12 that is a stop-side member and a brake disc 25 that is a rotation-side member. And have. The brake device 10 is configured as a so-called disc brake that uses the brake disc 25 as a member on the rotation side in this way.

ブレーキ装置10の構成部材のうち、ブレーキディスク25は、円板状の形状で形成され、巻上機1の駆動軸である回転軸5に取り付けられている。詳しくは、回転軸5は、外周面がいわゆるスプライン形状になっており、ブレーキディスク25には、円板の中心軸付近に、回転軸5のスプライン形状に嵌り合う形状で形成された挿通孔27が形成されている。ブレーキディスク25は、挿通孔27に回転軸5を通すことにより、周方向には回転軸5に対して相対回転が不可で、回転軸5の軸方向には移動可能に回転軸5に取り付けられている。即ち、ブレーキディスク25は、スプライン結合によって回転軸5に取り付けられることにより、回転軸5と一体となって回転可能に回転軸5に取り付けられている。このように、回転軸5に取り付けられた状態のブレーキディスク25は、軸方向における一方の面が、巻上機1に対向している。   Of the constituent members of the brake device 10, the brake disk 25 is formed in a disk shape and is attached to the rotary shaft 5 that is the drive shaft of the hoist 1. Specifically, the outer peripheral surface of the rotating shaft 5 has a so-called spline shape, and the brake disc 25 has an insertion hole 27 formed in a shape that fits the spline shape of the rotating shaft 5 near the center axis of the disc. Is formed. The brake disc 25 is attached to the rotary shaft 5 so as not to rotate relative to the rotary shaft 5 in the circumferential direction and to move in the axial direction of the rotary shaft 5 by passing the rotary shaft 5 through the insertion hole 27. ing. That is, the brake disc 25 is attached to the rotary shaft 5 so as to be rotatable integrally with the rotary shaft 5 by being attached to the rotary shaft 5 by spline coupling. As described above, the brake disc 25 attached to the rotating shaft 5 has one surface in the axial direction facing the hoisting machine 1.

また、このブレーキディスク25は、円板の両面の外周付近に、摩擦材26が設けられている。ブレーキディスク25の両面に設けられるこの摩擦材26は、それぞれの面の外周の位置から、円板の中心に向う方向に所定の幅で、全周にかけて設けられている。   Further, the brake disk 25 is provided with a friction material 26 in the vicinity of the outer periphery of both surfaces of the disk. The friction material 26 provided on both surfaces of the brake disk 25 is provided from the position of the outer periphery of each surface to the center of the disk with a predetermined width over the entire periphery.

また、ブレーキキャリパ12は、ブレーキディスク25における巻上機1に対向する側の面の反対の面側に配設されており、換言すると、ブレーキディスク25は、ブレーキキャリパ12と巻上機1との間に配設されている。ブレーキキャリパ12は、巻上機1の通常の使用態様において、回転軸5よりも上方側と回転軸5よりも下方側との2箇所に配設されており、2箇所のブレーキキャリパ12は、共に略直方対の形状で形成され、同様の形態で構成されている。このブレーキキャリパ12は、制動力の発生時にブレーキディスク25に対して圧着させる制動部材であるアーマチュア20を保持しており、アーマチュア20に対して移動させる力を付与するコイル13とばね15とを有している。   The brake caliper 12 is disposed on the surface of the brake disc 25 opposite to the surface facing the hoisting machine 1. In other words, the brake disc 25 is connected to the brake caliper 12 and the hoisting machine 1. Between the two. The brake caliper 12 is disposed at two locations on the upper side of the rotary shaft 5 and on the lower side of the rotary shaft 5 in the normal usage mode of the hoisting machine 1, and the two brake calipers 12 are Both are formed in a substantially rectangular pair shape, and are configured in the same manner. The brake caliper 12 holds an armature 20 that is a braking member that is pressed against the brake disc 25 when a braking force is generated, and has a coil 13 and a spring 15 that apply a force to move the armature 20. doing.

このうち、アーマチュア20は、回転軸5の軸方向に見た形状がブレーキキャリパ12の形状と同様な矩形状になる板状の形状で形成されており、ブレーキキャリパ12におけるブレーキディスク25側に配設されている。このため、アーマチュア20は、ブレーキディスク25に対向しており、アーマチュア20におけるブレーキディスク25に対向している側の面は、ブレーキ装置10での制動力の発生時にブレーキディスク25に接触し、ブレーキディスク25に対して圧着する圧着面21になっている。このように構成されるアーマチュア20は、少なくともブレーキキャリパ12側の面が、鉄など強磁性を示す材料によって形成されている。   Among them, the armature 20 is formed in a plate shape in which the shape seen in the axial direction of the rotary shaft 5 is a rectangular shape similar to the shape of the brake caliper 12, and is arranged on the brake disc 25 side of the brake caliper 12. It is installed. Therefore, the armature 20 faces the brake disc 25, and the surface of the armature 20 on the side facing the brake disc 25 comes into contact with the brake disc 25 when the braking force is generated in the brake device 10, and the brake A crimping surface 21 for crimping the disc 25 is provided. In the armature 20 configured in this way, at least the surface on the brake caliper 12 side is formed of a material exhibiting ferromagnetism such as iron.

また、コイル13は、磁力の発生時における極性が、回転軸5の軸方向に沿った向きになるように構成されている。即ち、コイル13は、磁力の発生時における両極が、回転軸5の軸方向における両端に位置する向きになっている。また、このように構成されるコイル13は、アーマチュア20側の端部が、ブレーキキャリパ12の外面の近傍に位置するように、ブレーキキャリパ12に内設されている。   The coil 13 is configured such that the polarity when the magnetic force is generated is oriented along the axial direction of the rotating shaft 5. That is, the coil 13 is oriented such that both poles when the magnetic force is generated are located at both ends in the axial direction of the rotating shaft 5. In addition, the coil 13 configured as described above is provided in the brake caliper 12 so that the end on the armature 20 side is positioned in the vicinity of the outer surface of the brake caliper 12.

また、ばね15は、圧縮ばねによって設けられており、ブレーキキャリパ12におけるアーマチュア20が位置する側の面に配設されている。このばね15は、ばね15全体の中心軸が回転軸5の軸方向とほぼ一致する向きで複数が配設されている。この複数のばね15は、ブレーキキャリパ12を回転軸5の軸方向に見た場合におけるブレーキキャリパ12の形状である矩形の四隅のそれぞれの近傍に配設されている。このように、配設されるばね15は、それぞれの位置で、アーマチュア20がブレーキキャリパ12から離れる方向の付勢力をアーマチュア20に付与している。   The spring 15 is provided by a compression spring, and is disposed on the surface of the brake caliper 12 on the side where the armature 20 is located. A plurality of the springs 15 are arranged in such a direction that the central axis of the whole spring 15 substantially coincides with the axial direction of the rotary shaft 5. The plurality of springs 15 are disposed in the vicinity of each of the four corners of the rectangle that is the shape of the brake caliper 12 when the brake caliper 12 is viewed in the axial direction of the rotary shaft 5. As described above, the arranged spring 15 applies an urging force in a direction in which the armature 20 is separated from the brake caliper 12 to the armature 20 at each position.

さらに、ブレーキキャリパ12には、アーマチュア20の移動時におけるガイドを行う複数のガイド16が設けられている。このガイド16は、ブレーキキャリパ12におけるアーマチュア20が位置する側の面に配設されており、丸棒状の形状で回転軸5に平行な向きで、アーマチュア20が位置する方向に向かって延在している。このように設けられるガイド16は、1つのブレーキキャリパ12に4つずつが設けられており、4つのガイド16は、ブレーキキャリパ12を回転軸5の軸方向に見た場合における四隅のそれぞれの近傍の位置で、ばね15よりもブレーキキャリパ12の端部寄りに配設されている。   Further, the brake caliper 12 is provided with a plurality of guides 16 for performing a guide when the armature 20 is moved. The guide 16 is disposed on the surface of the brake caliper 12 on the side where the armature 20 is located. The guide 16 has a round bar shape and extends in a direction parallel to the rotary shaft 5 and extends in the direction in which the armature 20 is located. ing. Four guides 16 are provided in each brake caliper 12, and the four guides 16 are near the four corners when the brake caliper 12 is viewed in the axial direction of the rotary shaft 5. In this position, the spring caliper 12 is disposed closer to the end than the spring 15.

アーマチュア20には、このガイド16に該当する位置に、ガイド16が入り込む孔(図示省略)が開けられており、アーマチュア20は、ガイド16がこの孔に入り込むことにより、ガイド16が延在している方向、即ち、回転軸5に平行な方向に移動することが可能になっている。   The armature 20 has a hole (not shown) into which the guide 16 enters at a position corresponding to the guide 16, and the armature 20 has the guide 16 extended by the guide 16 entering the hole. It is possible to move in a direction parallel to the rotation axis 5.

これらのように構成されるブレーキ装置10の動作について説明すると、エレベータの乗りかごを昇降させるために、ブレーキ装置10で制動力を発生させない場合は、コイル13で電磁力を発生し、アーマチュア20をコイル13の方向に引き付ける。つまり、コイル13は、ばね15がアーマチュア20に付与している付勢力に打ち勝つ吸引力を電磁力によって発生し、この吸引力により、アーマチュア20をコイル13の方向に引き寄せる。これにより、アーマチュア20は、ブレーキディスク25から離れる方向に移動する。アーマチュア20は、このように、コイル13で発生する電磁力により、ブレーキキャリパ12に吸着され、ブレーキキャリパ12に接触した状態になる。   The operation of the brake device 10 configured as described above will be described. When the brake device 10 does not generate a braking force to raise and lower the elevator car, an electromagnetic force is generated by the coil 13 and the armature 20 is Attract to the direction of the coil 13. That is, the coil 13 generates an attractive force that overcomes the biasing force applied by the spring 15 to the armature 20 by the electromagnetic force, and pulls the armature 20 toward the coil 13 by this attractive force. As a result, the armature 20 moves away from the brake disc 25. Thus, the armature 20 is attracted to the brake caliper 12 by the electromagnetic force generated by the coil 13 and comes into contact with the brake caliper 12.

ブレーキディスク25は、回転軸5の軸方向に移動することができるように配設されているため、アーマチュア20がブレーキキャリパ12の方向に移動し、ブレーキディスク25から離れた場合には、ブレーキディスク25はアーマチュア20と巻上機1との間で移動可能な状態になる。   Since the brake disc 25 is arranged so as to be movable in the axial direction of the rotary shaft 5, when the armature 20 moves in the direction of the brake caliper 12 and moves away from the brake disc 25, the brake disc 25 25 becomes movable between the armature 20 and the hoist 1.

これにより、ブレーキディスク25は、アーマチュア20と巻上機1との間に位置して、いずれに対してもあまり接触せず、大きな摩擦力が発生しない状態になるため、ブレーキディスク25は、この摩擦力に起因する回転抵抗が発生しない状態になる。このため、ブレーキディスク25とスプライン結合されている回転軸5にも、回転抵抗があまり発生せず、制動力が発生しない状態になるため、巻上機1を駆動させることにより、回転軸5を自在に回転させることができ、エレベータの乗りかごを昇降させることができる。   As a result, the brake disc 25 is located between the armature 20 and the hoisting machine 1 and does not make much contact with any of them, so that a large frictional force is not generated. The rotation resistance caused by the frictional force is not generated. For this reason, the rotational shaft 5 splined to the brake disk 25 does not generate much rotational resistance and does not generate braking force. Therefore, by driving the hoist 1, It can be freely rotated and the elevator car can be raised and lowered.

これに対し、乗りかごを昇降させるために駆動中の巻上機1の制動を行ったり、巻上機1の停止状態を保持したりする場合には、ブレーキ装置10で制動力を発生させる。図3は、ブレーキ装置で制動力を発生させる際における説明図である。ブレーキ装置10で制動力を発生させる場合には、コイル13で電磁力を発生させず、ばね15の付勢力により、アーマチュア20を、ブレーキディスク25に押し付ける。   On the other hand, when the hoisting machine 1 being driven is braked to raise or lower the car, or when the hoisting machine 1 is stopped, the braking device 10 generates a braking force. FIG. 3 is an explanatory diagram when the braking force is generated by the brake device. When the braking force is generated by the brake device 10, the armature 20 is pressed against the brake disc 25 by the biasing force of the spring 15 without generating the electromagnetic force by the coil 13.

つまり、アーマチュア20には、ばね15によって、ブレーキキャリパ12から離れる方向の付勢力が付与されており、即ち、ブレーキディスク25に近付く方向の付勢力が付与されている。このため、コイル13で電磁力を発生しない場合、アーマチュア20は、ばね15の付勢力によってブレーキディスク25の方向に押し付けられ、圧着面21がブレーキディスク25に接触して、ブレーキディスク25に押し付けられる。   In other words, the urging force in the direction away from the brake caliper 12 is applied to the armature 20 by the spring 15, that is, the urging force in the direction approaching the brake disc 25 is applied. Therefore, when no electromagnetic force is generated by the coil 13, the armature 20 is pressed in the direction of the brake disk 25 by the urging force of the spring 15, and the crimping surface 21 contacts the brake disk 25 and is pressed against the brake disk 25. .

アーマチュア20がブレーキディスク25に押し付けられた場合、回転軸5の軸方向に移動可能なブレーキディスク25は、アーマチュア20からの押力によって、この押力の方向、即ち、巻上機1の方向に移動する。これにより、ブレーキディスク25は、巻上機1におけるブレーキディスク25に対向する面である巻上機側圧着面2に接触する。即ち、ブレーキディスク25は、ばね15がアーマチュア20に付与する付勢力により、アーマチュア20と巻上機1とに挟み込まれ、アーマチュア20とブレーキディスク25との間、及び巻上機1とブレーキディスク25との間に、それぞれ圧着力が発生する。   When the armature 20 is pressed against the brake disk 25, the brake disk 25 that can move in the axial direction of the rotary shaft 5 is moved in the direction of this pressing force, that is, the direction of the hoisting machine 1 by the pressing force from the armature 20. Moving. As a result, the brake disc 25 comes into contact with the hoisting machine side pressure-bonding surface 2 that is a surface facing the brake disc 25 in the hoisting machine 1. That is, the brake disc 25 is sandwiched between the armature 20 and the hoisting machine 1 by the urging force applied by the spring 15 to the armature 20, and between the armature 20 and the brake disc 25, and between the hoisting machine 1 and the brake disc 25. In between, a crimping force is generated.

さらに、ブレーキディスク25には、両面の外周付近に摩擦材26が設けられているため、ブレーキディスク25との間に発生する圧着力と、この摩擦材26とにより、ブレーキディスク25と、アーマチュア20の圧着面21との間、及び巻上機側圧着面2との間に、それぞれ大きな摩擦力が発生する。この摩擦力は、ブレーキディスク25が回転する際における回転抵抗になり、回転軸5が回転する際における回転抵抗になる。即ち、摩擦力によってブレーキトルクが発生する。これにより、回転軸5の回転時にブレーキ装置10で制動力を発生させた場合には、ブレーキトルクによって制動が行われ、回転軸5が停止している状態でブレーキ装置10によって制動力を発生させた場合には、ブレーキトルクにより停止状態が保持される。   Further, since the friction material 26 is provided in the vicinity of the outer periphery of both surfaces of the brake disk 25, the brake disk 25 and the armature 20 are caused by the pressing force generated between the brake disk 25 and the friction material 26. A large frictional force is generated between the crimping surface 21 and the hoisting machine side crimping surface 2. This frictional force becomes rotational resistance when the brake disk 25 rotates, and rotational resistance when the rotating shaft 5 rotates. That is, the brake torque is generated by the frictional force. As a result, when the braking device 10 generates a braking force when the rotating shaft 5 rotates, braking is performed by the brake torque, and the braking device 10 generates the braking force while the rotating shaft 5 is stopped. If this happens, the stop state is maintained by the brake torque.

図4は、図3のB−B矢視図である。ここで、ばね15の付勢力によってアーマチュア20がブレーキディスク25の方向に移動する際における状態について説明する。ばね15は、ブレーキキャリパ12を回転軸5の軸方向に見た場合における四隅のそれぞれ近傍に配設されているため、アーマチュア20に対する付勢力も、アーマチュア20における四隅のそれぞれ近傍に対して付与している。   4 is a view taken in the direction of arrows BB in FIG. Here, the state when the armature 20 moves in the direction of the brake disc 25 by the biasing force of the spring 15 will be described. Since the spring 15 is disposed in the vicinity of each of the four corners when the brake caliper 12 is viewed in the axial direction of the rotary shaft 5, the urging force to the armature 20 is also applied to each of the four corners in the armature 20. ing.

このため、制動力の発生時に、ばね15の付勢力の方向にアーマチュア20が移動する場合には、付勢力が付与されている部分の移動に伴って他の部分が追従して移動することにより、アーマチュア20全体が移動することになる。従って、アーマチュア20における付勢力が付与されている部分の移動量は、付勢力が付与されていない部分の移動量より多くなり、アーマチュア20が撓む場合がある。即ち、アーマチュア20は、付勢力が不均一に付与されていることに起因して、撓みが発生する場合がある。   For this reason, when the armature 20 moves in the direction of the urging force of the spring 15 when the braking force is generated, the other part follows and moves with the movement of the part to which the urging force is applied. The entire armature 20 moves. Therefore, the movement amount of the portion where the urging force is applied in the armature 20 is larger than the movement amount of the portion where the urging force is not applied, and the armature 20 may bend. That is, the armature 20 may bend due to the urging force applied non-uniformly.

このように、アーマチュア20が撓んだ場合、アーマチュア20の圧着面21とブレーキディスク25との接触部分の面圧が均等にならなかったり、圧着面21において本来はブレーキディスク25と接触する部分が接触しなかったりする場合がある。この場合、アーマチュア20とブレーキディスク25との間の摩擦力が小さくなり、回転抵抗が小さくなるため、ブレーキトルクが小さくなる。従って、本実施形態に係るブレーキ面当りの調整方法では、アーマチュア20におけるブレーキディスク25と接触する接触面の調整を行う。   As described above, when the armature 20 is bent, the contact pressure between the pressure contact surface 21 of the armature 20 and the brake disk 25 is not uniform, or the portion of the pressure contact surface 21 that originally contacts the brake disk 25 is not. There may be no contact. In this case, the frictional force between the armature 20 and the brake disk 25 is reduced and the rotational resistance is reduced, so that the brake torque is reduced. Therefore, in the adjustment method per brake surface according to the present embodiment, the contact surface of the armature 20 that contacts the brake disc 25 is adjusted.

図5は、回転軸に研磨ディスクを取り付けた状態を示す説明図である。図6は、図5のC−C矢視図である。本実施形態に係るブレーキ面当りの調整方法では、ブレーキディスク25と同じ形状の円板状の形状で形成され、表面に研磨材31が設けられた研磨ディスク30を用いる。つまり、研磨ディスク30は、ブレーキディスク25と同じ径で同じ厚さになって形成されている。研磨ディスク30の研磨材31は、研磨ディスク30の両面に設けられており、それぞれの面の外周の位置から、研磨ディスク30の形状である円板の中心に向う方向に所定の幅で、全周にかけて設けられている。また、この研磨材31は、摩擦材26よりも摩擦係数が高く、且つ、強度が高いものが用いられている。また、研磨ディスク30には、ブレーキディスク25と同様に円板の中心軸付近に、回転軸5のスプライン形状に嵌り合う形状で形成された挿通孔32が形成されている。   FIG. 5 is an explanatory view showing a state in which the polishing disk is attached to the rotating shaft. FIG. 6 is a CC arrow view of FIG. In the adjustment method per brake surface according to the present embodiment, a polishing disk 30 that is formed in a disk shape that is the same shape as the brake disk 25 and that has an abrasive 31 on its surface is used. That is, the polishing disk 30 is formed with the same diameter and the same thickness as the brake disk 25. The polishing material 31 of the polishing disk 30 is provided on both surfaces of the polishing disk 30 and has a predetermined width in a direction from the outer peripheral position of each surface toward the center of the disk that is the shape of the polishing disk 30. It is provided over the lap. In addition, the abrasive 31 has a higher coefficient of friction and higher strength than the friction material 26. In addition, the polishing disc 30 is formed with an insertion hole 32 formed in a shape that fits the spline shape of the rotary shaft 5 in the vicinity of the central axis of the disc as in the brake disc 25.

アーマチュア20におけるブレーキディスク25と接触する接触面の調整を行う場合には、ブレーキ装置10の回転軸5からブレーキディスク25を取り外した状態で、研磨ディスク30を回転軸5に取り付ける。つまり、研磨ディスク30は、挿通孔32に回転軸5を通すことにより、スプライン結合によって回転軸5に取り付ける。   When adjusting the contact surface of the armature 20 that contacts the brake disc 25, the polishing disc 30 is attached to the rotary shaft 5 with the brake disc 25 removed from the rotary shaft 5 of the brake device 10. That is, the polishing disk 30 is attached to the rotating shaft 5 by spline coupling by passing the rotating shaft 5 through the insertion hole 32.

このように、回転軸5に研磨ディスク30を取り付けたら、コイル13で電磁力を発生させない状態で、回転軸5を回転させる。即ち、アーマチュア20をコイル13によって吸引せず、ばね15の付勢力によって研磨ディスク30に圧着させた状態で、回転軸5を回転させる。   As described above, when the polishing disk 30 is attached to the rotating shaft 5, the rotating shaft 5 is rotated in a state where no electromagnetic force is generated by the coil 13. That is, the rotating shaft 5 is rotated in a state where the armature 20 is not attracted by the coil 13 and is pressed against the polishing disk 30 by the biasing force of the spring 15.

これにより、研磨ディスク30におけるアーマチュア20に対向する面には、研磨材31が設けられているため、アーマチュア20を研磨ディスク30に圧着させながら回転軸5を回転させた場合、研磨材31はアーマチュア20の圧着面21に接触しながら相対的に移動することになる。研磨材31は、ブレーキディスク25の摩擦材26よりも摩擦係数が高く、且つ、強度が高いため、研磨材31を圧着面21に接触させながら相対的に移動させることにより、アーマチュア20の圧着面21を、この研磨材31によって研磨する。これにより、圧着面21における研磨材31との接触部分を、平坦な面にする。   Thus, since the abrasive 31 is provided on the surface of the polishing disk 30 facing the armature 20, when the rotary shaft 5 is rotated while the armature 20 is pressed against the polishing disk 30, the abrasive 31 is removed from the armature 20. It moves relatively while contacting the pressure bonding surface 21 of 20. Since the abrasive 31 has a higher coefficient of friction and higher strength than the friction material 26 of the brake disc 25, the abrasive 31 is moved relative to the crimping surface 21 while being in contact with the crimping surface 21. 21 is polished by this abrasive 31. Thereby, the contact part with the abrasive 31 in the crimping surface 21 is made flat.

このように、圧着面21を研磨材31によって研磨する範囲は、研磨ディスク30における研磨材31が設けられている範囲になっており、この範囲は、ブレーキディスク25における摩擦材26が設けられている範囲と同じ範囲になっている。このため、研磨材31によって研磨する範囲は、ブレーキ装置10で制動力を発生する際に、アーマチュア20の圧着面21がブレーキディスク25の摩擦材26に接触する範囲と同じ範囲になっている。従って、研磨ディスク30でアーマチュア20の圧着面21を研磨することにより、ばね15の付勢力が不均一に付与されることに起因するアーマチュア20の撓みの発生状態に関わらず、圧着面21における、摩擦材26との接触部分を平坦な面にする。   Thus, the range where the pressure-bonding surface 21 is polished by the abrasive 31 is the range where the abrasive 31 in the abrasive disc 30 is provided, and this range is where the friction material 26 in the brake disc 25 is provided. The range is the same as the existing range. Therefore, the range to be polished by the abrasive 31 is the same as the range in which the crimping surface 21 of the armature 20 contacts the friction material 26 of the brake disk 25 when the braking force is generated by the brake device 10. Therefore, by polishing the pressure-bonding surface 21 of the armature 20 with the polishing disk 30, regardless of the state of occurrence of the bending of the armature 20 caused by the non-uniform application of the biasing force of the spring 15, The contact portion with the friction material 26 is made flat.

このように、圧着面21の研磨を行ったら、その後は、研磨ディスク30を回転軸5から取り外し、ブレーキディスク25を回転軸5に取り付ける。これにより、ブレーキ装置10での制動力を発生させる際に、アーマチュア20が撓んだ場合でも、アーマチュア20の圧着面21とブレーキディスク25との接触部分は、均等に接触し、面圧が均等になる。これにより、圧着面21とブレーキディスク25の摩擦材26との間で、適切に大きな摩擦力を発生することができ、大きなブレーキトルクを発生させることができるため、ブレーキ装置10によって、大きな制動力を発生することができるようになる。   Thus, after grinding | polishing of the crimping | compression-bonding surface 21, the grinding | polishing disk 30 is removed from the rotating shaft 5, and the brake disk 25 is attached to the rotating shaft 5. Accordingly, even when the armature 20 is bent when the braking force is generated in the brake device 10, the contact portion between the pressure-bonding surface 21 of the armature 20 and the brake disk 25 is evenly contacted and the surface pressure is equal. become. As a result, an appropriate large frictional force can be generated between the crimping surface 21 and the friction material 26 of the brake disc 25, and a large brake torque can be generated. Will be able to generate.

以上のブレーキ面当りの調整方法では、研磨ディスク30を、ブレーキディスク25を取り外した状態の回転軸5に取り付け、アーマチュア20を研磨ディスク30に圧着させながら研磨ディスク30を回転させて圧着面21を研磨するため、アーマチュア20の撓み状態に関わらず、圧着面21を平坦な面にすることができる。さらに、このように圧着面21を研磨した後に、研磨ディスク30を回転軸5から取り外してブレーキディスク25を回転軸5に取り付けることにより、制動力の発生時には、平面の状態でブレーキディスク25に接触する圧着面21と、ブレーキディスク25との間で、摩擦力を発生させることができる。これにより、ばね15の付勢力によってブレーキディスク25に対する圧着力をアーマチュア20で発生させる場合でも、撓みの有無に関わらず、アーマチュア20の圧着面21とブレーキディスク25との間に、大きな摩擦力を発生させることができる。この結果、ばね15の付勢力により制動力を発生するディスクブレーキ25のブレーキトルクを向上させることができる。   In the above adjustment method per brake surface, the abrasive disc 30 is attached to the rotary shaft 5 with the brake disc 25 removed, and the abrasive disc 30 is rotated while the armature 20 is being crimped to the abrasive disc 30 so that the crimping surface 21 is formed. Since the polishing is performed, the crimping surface 21 can be made flat regardless of the bending state of the armature 20. Further, after the pressure-bonding surface 21 is polished in this way, the polishing disk 30 is detached from the rotating shaft 5 and the brake disk 25 is attached to the rotating shaft 5, so that when the braking force is generated, the brake disk 25 is brought into contact with the brake disk 25 in a flat state. A frictional force can be generated between the pressure-bonding surface 21 and the brake disk 25. As a result, even when the armature 20 generates a pressing force against the brake disk 25 by the biasing force of the spring 15, a large frictional force is generated between the pressing surface 21 of the armature 20 and the brake disk 25 regardless of the presence or absence of bending. Can be generated. As a result, the brake torque of the disc brake 25 that generates a braking force by the biasing force of the spring 15 can be improved.

また、研磨ディスク30の研磨材31には、ブレーキディスク25に設けられる摩擦材26よりも摩擦係数が高く、且つ、強度が高いものを用いるため、アーマチュア20の圧着面21を、研磨ディスク30によってより確実に研磨することができる。この結果、アーマチュア20の撓みの有無に関わらず、より確実にアーマチュア20の圧着面21とブレーキディスク25との間に大きな摩擦力を発生させることができ、より確実にブレーキトルクを向上させることができる。   In addition, since the abrasive 31 of the polishing disk 30 has a higher friction coefficient and higher strength than the friction material 26 provided on the brake disk 25, the pressure-bonding surface 21 of the armature 20 is formed by the polishing disk 30. It can polish more reliably. As a result, regardless of whether the armature 20 is bent or not, a large frictional force can be generated between the crimping surface 21 of the armature 20 and the brake disk 25 more reliably, and the brake torque can be improved more reliably. it can.

また、研磨ディスク30は、ブレーキディスク25と同じ形状で形成されているため、圧着面21の研磨時に、ばね15の付勢力によってアーマチュア20を研磨ディスク30に圧着させる際に、アーマチュア20をブレーキディスク25に圧着させる場合における撓み量と同じ撓み量で撓ませることができる。これにより、圧着面21を研磨する際に、より確実に、圧着面21がブレーキディスク25に均等に接触するように研磨することができる。この結果、より確実にブレーキトルクを向上させることができる。   Further, since the polishing disk 30 is formed in the same shape as the brake disk 25, when the armature 20 is pressed against the polishing disk 30 by the biasing force of the spring 15 when the pressure-bonding surface 21 is polished, the armature 20 is braked. It can be bent with the same amount of bending as the amount of bending in the case of crimping to 25. As a result, when the crimping surface 21 is polished, the crimping surface 21 can be more reliably polished so as to contact the brake disc 25 evenly. As a result, the brake torque can be improved more reliably.

また、研磨ディスク30は、両面に研磨材31が設けられているため、巻上機側圧着面2の表面仕上げが粗い場合でも、研磨ディスク30によって巻上機側圧着面2の研磨を行うことができ、巻上機側圧着面2を滑らかな平面にすることができる。この結果、巻上機側圧着面2とブレーキディスク25との間に大きな摩擦力を発生させることができ、より確実にブレーキトルクを向上させることができる。   Further, since the abrasive disc 30 is provided with the abrasive 31 on both sides, the hoisting machine side crimping surface 2 can be polished by the polishing disc 30 even when the surface finish of the hoisting machine side crimping surface 2 is rough. The hoisting machine side pressure-bonding surface 2 can be made a smooth flat surface. As a result, a large frictional force can be generated between the hoisting machine side crimping surface 2 and the brake disc 25, and the brake torque can be improved more reliably.

〔変形例〕
なお、上述したブレーキ面当りの調整方法では、研磨ディスク30は、両面に研磨材31を設けるが、研磨材31は研磨ディスク30の片面にのみ設けてもよい。例えば、巻上機側圧着面2の研磨を行う必要がない場合には、研磨材31は研磨ディスク30の片面にのみ設け、アーマチュア20の圧着面21のみを研磨するようにしてもよい。これにより、回転軸5に研磨ディスク30を取り付けて研磨する際における回転トルクを小さくすることができるため、圧着面21の研磨を行う際における巻上機1の負荷を小さくすることができる。
[Modification]
In the adjustment method per brake surface described above, the abrasive disc 30 is provided with the abrasive 31 on both sides, but the abrasive 31 may be provided only on one side of the abrasive disc 30. For example, when it is not necessary to polish the hoisting machine side pressure-bonding surface 2, the abrasive 31 may be provided only on one surface of the polishing disk 30 and only the pressure-bonding surface 21 of the armature 20 may be polished. Thereby, since the rotational torque at the time of grinding | polishing by attaching the grinding | polishing disk 30 to the rotating shaft 5 can be made small, the load of the winding machine 1 at the time of grind | polishing the crimping | compression-bonding surface 21 can be made small.

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。   Although several embodiments of the present invention have been described, these embodiments are presented by way of example and are not intended to limit the scope of the invention. These embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, replacements, and changes can be made without departing from the spirit of the invention. These embodiments and their modifications are included in the scope and gist of the invention, and are also included in the invention described in the claims and the equivalents thereof.

1 巻上機
2 巻上機側圧着面
5 回転軸
10 ブレーキ装置
12 ブレーキキャリパ
13 コイル
15 ばね
20 アーマチュア(制動部材)
21 圧着面
25 ブレーキディスク
26 摩擦材
30 研磨ディスク
31 研磨材
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Hoisting machine 2 Hoisting machine side crimping surface 5 Rotating shaft 10 Brake device 12 Brake caliper 13 Coil 15 Spring 20 Armature (braking member)
21 Crimp surface 25 Brake disc 26 Friction material 30 Abrasive disc 31 Abrasive material

Claims (2)

制動力の発生時に、ブレーキディスクに対してばねの付勢力によって圧着させることにより前記ブレーキディスクとの間で摩擦力を発生する制動部材の圧着面に対向する面に研磨材が設けられた研磨ディスクを、ブレーキ装置の回転軸から前記ブレーキディスクを取り外した状態で前記回転軸に取り付ける手順と、
前記ばねの付勢力によって前記制動部材を前記研磨ディスクに圧着させながら前記回転軸を回転させることにより前記研磨ディスクを回転させて前記圧着面を研磨する手順と、
前記圧着面を研磨した後に、前記研磨ディスクを前記回転軸から取り外し、前記ブレーキディスクを前記回転軸に取り付ける手順と、
を含むことを特徴とするブレーキ面当りの調整方法。
A polishing disk in which an abrasive is provided on a surface opposite to a pressure-bonding surface of a braking member that generates a frictional force with the brake disk by pressing the brake disk with a biasing force of a spring when a braking force is generated. Attaching to the rotary shaft in a state where the brake disc is removed from the rotary shaft of the brake device;
A procedure for polishing the pressure-bonding surface by rotating the polishing disk by rotating the rotating shaft while pressing the braking member against the polishing disk by the biasing force of the spring;
After polishing the pressure-bonding surface, removing the polishing disc from the rotating shaft and attaching the brake disc to the rotating shaft;
The adjustment method per brake surface characterized by including.
前記研磨材は、前記ブレーキディスクにおける前記圧着面に対向する面に設けられる摩擦材よりも摩擦係数が高く、且つ、強度が高いものを用いることを特徴とする請求項1に記載のブレーキ面当りの調整方法。   2. The brake surface according to claim 1, wherein the abrasive has a higher friction coefficient and higher strength than a friction material provided on a surface of the brake disk that faces the pressure-bonding surface. Adjustment method.
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