JP5233598B2 - 有機elディスプレイパネル及びその製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の実施の形態に係るアクティブマトリクス駆動型有機ELディスプレイパネル10に用いる基板(バックプレーン)11は、薄膜トランジスタと有機ELディスプレイパネル10の画素電極12とが設けられており、かつ、薄膜トランジスタと画素電極12とが電気に接続している。
次に、隔壁付き薄膜トランジスタ20が形成された有機ELディスプレイパネル10について説明する。基板11上に画素電極12を成膜し、必要に応じてパターニングをおこなう。本発明の実施の形態において、画素電極12は隔壁30によって区画され、各画素に対応した画素電極12となる。画素電極12の材料としては、ITO(インジウムスズ複合酸化物)やインジウム亜鉛複合酸化物、亜鉛アルミニウム複合酸化物などの金属複合酸化物や、金、白金などの金属材料や、これら金属酸化物や金属材料の微粒子をエポキシ樹脂やアクリル樹脂などに分散した微粒子分散膜を、単層もしくは積層したものをいずれも使用することができる。画素電極12を陽極とする場合にはITOなど仕事関数の高い材料を選択することが好ましい。下方から光を取り出す、いわゆるボトムエミッション構造の場合は透光性のある材料を選択する必要がある。必要に応じて、画素電極12の配線抵抗を低くするために、銅やアルミニウムなどの金属材料を補助電極として併設してもよい。
図2に示すように、本発明の実施の形態に係る隔壁30は画素に対応した発光領域を区画するように形成する。画素電極12の端部を覆うように形成するのが好ましい。一般的にアクティブマトリクス駆動型の表示装置は各画素に対して画素電極12が形成され、それぞれの画素ができるだけ広い面積を占有しようとするため、画素電極12の端部を覆うように形成される隔壁30の最も好ましい形状は各画素電極12を最短距離で区切る格子状を基本とする。
隔壁30を形成後、正孔輸送層16を形成する。正孔輸送層16を形成する正孔輸送材料としてはポリアニリン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリビニルカルバゾール(PVK)誘導体、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)(PEDOT)などが挙げられる。これらの材料は溶媒に溶解または分散させ、スピンコート法等を用いた各種塗布方法や凸版印刷方法を用いて形成される。また正孔輸送材料として無機材料を用いる場合、無機材料としては、Cu2O,Cr2O3,Mn2O3,FeOx(x〜0.1),NiO,CoO,Pr2O3,Ag2O,MoO2,Bi2O3,ZnO,TiO2,SnO2,ThO2,V2O5,Nb2O5,Ta2O5,MoO3,WO3,MnO2などが形成される。ただし材料はこれらに限定されるものではない。
次に、有機発光層17を形成後、有機発光層17に電子を注入する電子注入層18と対向電極13とを形成する。電子注入層18によって、電子注入効率と安定性を両立させることができる。電子注入層18を形成する材料としては、Ca,Ba,Liや酸化Li,LiF等の化合物を1nm程度積層して用いることができる。または仕事関数が低いLi,Mg,Ca,Sr,La,Ce,Er,Eu,Sc,Y,Yb等の金属1種以上と、安定なAg,Al,Cu等の金属元素との合金系を用いてもよい。具体的にはMgAg,AlLi,CuLi等の合金が使用できる。
次に、電子注入層18上に対向電極13を形成する。対向電極13にはMg,Al,Yb,Ag等の金属単体を用いることができる。
次に、対向電極13と取出し電極14とを接続するコンタクト電極15を形成する。コンタクト電極15は、対向電極13と取出し電極14との一部(側面)を覆うように形成される。図4乃至図6は、本発明の実施の形態に係る有機ELディスプレイパネル10を示す概略上面図である。図4に示すように、本発明の実施の形態に係る有機ELディスプレイパネル10のコンタクト電極15は、電子注入層18及び対向電極13の縁辺を全て覆うように形成することにより、電子注入層18及び対向電極13の側面を覆うことができ、電子注入層18への酸素や水分などのガスの浸入を防ぎ経時的に安定した有機ELディスプレイパネルとすることができる。コンタクト電極15を形成する材料としては、一般的に取出し電極14及び対向電極13に用いられる材料を用いることができ、具体的にはMg,Al,Yb,Ag等の金属単体を用いることができる。形成方法についても対向電極と同様に抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等の真空蒸着法を用いることができる。なお、外気にさらさず電子注入層の酸化を防ぐことができることから、真空内で電子注入層、対向電極、コンタクト電極を連続して成膜することが好ましい。
本発明の実施の形態に係る有機ELディスプレイパネル10は、画素電極12と対向電極13との間に発光材料を挟み、電流を流すことで発光させることができるが、有機発光材料は大気中の水分や酸素によって容易に劣化してしまうため通常は外部と遮断するための封止体を設ける。封止体は例えば封止材上に樹脂層を設けて作製することができる。
実施例1と同様に隔壁付き薄膜トランジスタ20を備えた基板11を用いた。まず、画素電極12上に正孔輸送層16を形成した。正孔輸送層16として、導電性高分子であるPEDOTを用いて、PEDOTをスピンコート法で形成した。その後、正孔輸送層16上にインターレイヤ層(図示せず)を形成した。インターレイヤ層として、ポリビニルカルバゾール誘導体を濃度0.5%になるようにトルエンに溶解させたインキを用いた。
Claims (6)
- ゲート電極、ソース電極及びドレイン電極を備える薄膜トランジスタ付き基板を形成し、
前記ソース電極又は前記ドレイン電極に延在して接続する画素電極を形成し、
前記画素電極上に正孔輸送層及び有機発光層を形成し、
前記有機発光層上に前記電子注入層と前記対向電極とを第1のシャドウマスクを用いて形成し、
前記基板側にレイアウトされた取出し電極と前記対向電極とが電気的に接続するコンタクト電極を第2のシャドウマスクを用いて、前記電子注入層及び前記対向電極の側面を覆い、かつ、前記対向電極の上面の辺縁のみを覆うように形成することを特徴とする有機ELディスプレイパネルの製造方法。 - 前記コンタクト電極と前記対向電極とが同じ材料で形成されることを特徴とする請求項1に記載の有機ELディスプレイパネルの製造方法。
- 前記電子注入層と前記対向電極との形成及び前記コンタクト電極の形成は、真空蒸着法により行うことを特徴とする請求項1に記載の有機ELディスプレイパネルの製造方法。
- 前記正孔輸送層または前記有機発光層は湿式成膜法を用いて形成することを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の有機ELディスプレイパネルの製造方法。
- 基板上に形成された取出し電極と、前記取出し電極に隔離して形成された画素電極と、前記画素電極上に形成された有機発光層及び電子注入層を含む発光媒体層と、前記電子注入層上に形成された対向電極と、を有する有機ELディスプレイパネルにおいて、
前記電子注入層及び前記対向電極は同一のパターンで形成され、前記取出し電極と前記対向電極とを跨いで形成され、前記電子注入層及び前記対向電極の側面を覆い、かつ、前記対向電極の上面の辺縁のみを覆うコンタクト電極を有することを特徴とする有機ELディスプレイパネル。 - 前記コンタクト電極と前記対向電極とが同じ材料で形成されたことを特徴とする請求項5に記載の有機ELディスプレイパネル。
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